JPH10283629A

JPH10283629A - 透明磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10283629A
Application number: JP9091219A
Authority: JP
Inventors: Tadahiro Matsunaga; 直裕松永; Hiroshi Ogawa; 博小川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-04-09
Filing date: 1997-04-09
Publication date: 1998-10-23

Abstract

(57)【要約】【課題】確実な磁気入出力性能と透明性を兼ね備えた
透明磁気記録媒体を提供する。【解決手段】支持体上に少なくとも１層の磁性粒子を
含む磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該磁気
記録層側のいずれかの同一層内又は／及び異なる層内に
平均１次粒子径が異なる無機粒子又は／及び有機高分子
粒子を２種類以上含有し、且つ、該磁気記録層側全層の
ヘイズ度が９％未満である透明磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気入出力エラー
のない透明磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】オーディオテープ、ビデオテープ、フロ
ッピーディスクのような磁気記録媒体の磁気記録層は、
磁性体含有量（塗布量）が多いため、高い磁気出力が得
られるが光透過性がないので磁気カードの印刷面上や、
写真フイルム上に磁気記録層を設けることはできない。
米国特許第５，４９１，０５１号明細書にはくり返し使
用しうる磁気特性及び写真特性のすぐれた写真要素が記
載されている。しかし、この写真要素は各種の情報、例
えば撮影の日時、天候、照明条件、縮小／拡大比等の撮
影時の条件、再プリント枚数、ズームしたい箇所、メッ
セージ等を組み込んで、くり返し使用したとき、現像、
プリント時の条件等の磁気記録情報の入出力が必ずしも
確実ではないという難点があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】実際、例えば写真要素
（写真感材）としても使用する場合、一次粒径、使用量
等従来にあわせて研磨剤を用いても、現像処理液乾固物
等の汚れの磁気ヘッドへの転写防止・除去効果は充分で
はなく、また単に研磨剤使用量を増やしたり、研磨剤粒
径を大きくしたりすると、媒体そのものの透明性が極め
て低下する問題やスペースロスによる磁気出力低下とい
った問題あるいは磁気ヘッドの寿命を短かくするといっ
た問題等にぶつかり、実質的に透明でかつ、確実に磁気
入出力ができる磁気記録媒体の開発、そのための媒体の
最適な表面形状の設計が課題となっていた。従って、本
発明の目的は透明性確保の為、磁性体の塗布量を少なく
しても各種磁気情報を確実に磁気入出力できる磁気エラ
ーのない優れた透明磁気記録媒体を提供することにあ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に少
なくとも１層の磁性粒子を含む磁気記録層を有する磁気
記録媒体において、該磁気記録層側のいずれかの同一層
内又は／及び異なる層内に平均１次粒子径が異なる無機
粒子又は／及び有機高分子粒子を２種類以上含有し、且
つ該磁気記録層側全層のヘイズ度が９％未満であること
を特徴とする透明磁気記録媒体を提供するものである。
本発明で透明磁気記録媒体とは後述した透明磁気記録層
を有する記録媒体をいう。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明で用いられる無機粒子とし
ては、酸化アルミニウム（α−アルミナ、γ−アルミ
ナ、コランダム等）、酸化クロム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）、酸化
鉄（α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ）、シリカ、コロイダルシリカ、二
酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫等の酸化物、シリコンカ
ーバイト（ＳｉＣ）、炭化珪素、炭化チタン等の炭化
物、ダイヤモンド等の微粉末、炭酸カルシウム、水酸化
アルミニウム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウムバリ
ウム、マンガンコロイド等があげられる。有機高分子粒
子としては、ポリテトラフルオロエチレン、セルロース
アセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ）、ポリプロピルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、ポリエチレンカーボネートなどの樹脂
粒子やでんぷん等があり、またそれらの粉砕分級物もあ
げられる。

【０００６】また、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸エステ
ル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、スチ
レン誘導体、ビニルエステル類、アクリルアミド類、ビ
ニルエーテル類、アリル化合物、ビニルケトン類、ビニ
ル異節環化合物、アリル化合物、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、多官能モノマー類、等の単量体の１
種または２種以上の重合体である高分子化合物を種々の
手段例えば懸濁重合法、スプレードライ法、あるいは分
散法等によって粒子としたものであっても良い。他に、
シロキサン樹脂粒子やベンゾグアナミン樹脂粒子等があ
る。

【０００７】これら粒子の本発明の好ましい使用法につ
いて以下に述べる。平均１次粒子径が異なる無機又は／
及び有機高分子粒子を２種類以上、磁気記録層側の少な
くともいずれか１層に含有させることが必要である（同
一素材種で粒径が異なる場合も含む）。その際、少なく
とも一つの粒子の平均１次粒子径が０．２μｍ以上１．
０μｍ以下、好ましくは０．３〜０．９μｍであり、ま
た、少なくとも一つの粒子の平均１次粒子径が０．０１
μｍ以上０．２μｍ未満であり、好ましくは０．０１５
〜０．１５μｍにすることが好ましい。平均１次粒子径
が１．０μｍを越えると、ハロゲン化銀乳剤層付き透明
磁気記録媒体として使用する場合、表面突起が乳剤層表
面を傷つけたり、粒状性低下といった問題が生じる可能
性がある。さらに、表面形状の効果を効率良く発揮させ
る為に、最外層側に位置する磁気記録層又は／及び磁気
記録層に隣接する層にこれら粒子を含有させることが特
に好ましい。

【０００８】前記平均１次粒子径の異なる２種類以上の
無機又は／及び有機高分子粒子を含有した透明磁気記録
媒体では、平均１次粒子径が小さい粒子でできた微小突
起が、いわば目の細かい研磨フイルムとして機能するこ
とがわかり、さらに、現像処理を伴うハロゲン化銀乳剤
層を有する透明磁気記録媒体の場合、現像処理液の乾固
物（汚れ）が、磁気記録層側表面にも付着・残存する
が、微小突起を核としてその乾固物（汚れ）を微小かつ
均一に分散できることがわかった。これら微小粒子でで
きた微小突起は、大粒子でできる粗大突起間に存在する
為、粗大突起が磁気ヘッドと媒体とのスペースを確保す
ることで、微細分散した汚れを磁気ヘッドに非常に転写
させにくい、透明磁気記録媒体を実現することができ
る。また、目の粗い研磨フイルムとして、粗大突起は機
能することができ、目の粗い面と細かい面とを合わせも
つ、非常に磁気ヘッドクリーニング能の高い透明磁気記
録媒体としても成立することができる。使用する粒子の
粒度分布は、シャープであることが好ましく、平均１次
粒子径の大きな粒子としては、粒度分布がシャープなも
のを得るのが容易である、ＰＭＭＡ、α−アルミナ、シ
リカ、又は／及びシロキサン粒子が好ましく、平均１次
粒子径が小さな粒子としては、０．２μｍ未満の粒子を
得るのが容易である、α−アルミナ、γ−アルミナ、θ
−アルミナ、ＰＭＭＡ、シリカ、コロイダルシリカ、又
は／及び二酸化チタン粒子が好ましい。但しこの限りで
はない。上記の中で、モース硬度９のα−アルミナが少
なくとも含有されていることが磁気ヘッドそのものを鏡
面に研磨できる点では好ましい。

【０００９】平均１次粒子径が大きな粒子の具体的な例
としては、以下が挙げられるが、この限りではない。以
下、カギかっこで示したものはいずれも商品名である。（α−アルミナ）住友化学工業（株）製の「ＡＫＰ３
０」、「ＡＫＰ２０」、「ＡＫＰ１５」、「ＡＫＰ１
０」、「スミコランダム」、「ＨＩＴ５０」、レイノル
ズ（株）製の「ＥＲＣ−ＤＢＭ」、ノートン（株）製
「Ｎｏｒｔｏｎ−Ｅ６００」（シリカ）日本触媒（株）製の「シーホスタＫＥＰ３
０」、「シーホスタＫＥＰ５０」、「シーホスタＫＥＰ
７０」、「シーホスタＫＥＰ９０」、「シーホスタＫＥ
Ｐ１００」、「シーホスタＫＥＰ１５０」（シロキサン）東芝シリコーン（株）製の「トスパール
１０５」、「トスパール１０８」、「ＸＣ９９−Ａ８８
０８」（ＰＭＭＡ）、綜研化学（株）製の「ＭＸ−１０
０」、「ＭＸ−１５０」、日本ペイント（株）製の「Ｐ
−１４３０」、「Ｐ−５０００」また平均１次粒子径が小さな粒子の具体的な例としては
以下が挙げられる。（α−アルミナ）住友化学工業（株）製の「ＨＩＴ１０
０」、「ＨＩＴ８０」、「ＨＩＴ８０Ｇ」、「ＡＫＰ８
０」、「ＡＫＰ５０」（γ−アルミナ）住友化学工業（株）製の「ＡＫＰ−Ｇ
０１５」（θ−アルミナ）住友化学工業（株）製の「ＡＫＰ−Ｇ
００８」（シリカ）日本触媒（株）製の「シーホスタＫＥＰ１
０」（コロイダルシリカ）日産化学（株）製の「ＭＥＫ−Ｓ
Ｔ」、「ＭＩＢＫ−ＳＴ」、「メタノールシリカゾル」
「ＭＡ−ＳＴ−Ｍ」、「ＩＰＡ−ＳＴ」（ＰＭＭＡ）綜研化学（株）製の「ＭＳ−３００Ｋ」、
「ＭＳ−３００Ｓ」、日本ペイント（株）製の「Ｐ−８
０００」、「Ｓ−５００１」、「Ｓ−５００２」、「Ｐ
−５００１」、「Ｐ−５００２」

【００１０】これらの粒子の使用量について以下に述べ
る。平均１次粒子径の異なる二種類以上の粒子（微小〜
大粒子）の合計は、これらを含有する層の０．１ｗｔ％
以上５００ｗｔ％以下であることが望ましい。平均１次
粒子径の最も大きな粒子と最も小さな粒子の比は、重量
比で、大粒子：小粒子が通常１：０．１〜１：１００、
好ましくは１：０．２〜１：３０、さらに好ましくは
１：０．３〜１：１５である。また、最も平均１次粒子
径が小さい粒子（微小突起を形成する粒子）は、５ｍｇ
／ｍ² 以上５００ｍｇ／ｍ² 以下で含有されていること
が好ましい。５００ｍｇ／ｍ² を越えると、性能改良効
果は、すでに充分であるため、コストの面で好ましくな
い。一方５ｍｇ／ｍ² を下まわると磁気入出力性の改善
効果が減少する。さらに、平均１次粒子径が大きい粒子
（粗大突起を形成する粒子）は２５℃６０％ＲＨ、荷重
１６ｋｇｆ／ｃｍ² 下での該透明磁気記録媒体の波長
０．５μｍでの光学接触率が２０％以上８０％以下にな
る様に添加されていることが望ましい。（粒子径や使用
量が大きくなると光学接触率は減少し、ヘッドと媒体間
のスペーシングが大きくなったことに相当する。測定法
については後述する。）これが８０％より大きいと、汚
れを磁気ヘッドに転写させない効果が不足してくるし、
２０％より小さいと磁気入出力のスペースロス損失があ
る程度大きくなりどちらもあまり好ましくない。

【００１１】平均１次粒子径の異なる二種類以上の無機
又は／及び有機高分子粒子は、同一層に含有されても良
いし、異なる別々の層に含有されても構わない。また、
塗設した層内に存在する粒子（２次粒子を含む）の粒子
数で９０％以上が１．０μｍ以下であることが好まし
い。さらに好ましくは９５％以上が１．０μｍ以下であ
る。これは極めて均一に磁気ヘッドに接触できる上、カ
レンダリング（鏡面加工）の様な後工程が不要となる為
である。この様な粒子はそれぞれ単独で／又は複数で分
散スラリー化され、組み込む層の塗布液に添加・混合さ
れることが塗布液の経時安定性等の処方上の許容度が広
がり好ましい。該無機又は／及び有機高分子粒子を含有
する層の厚みは、その層内で最も平均１次粒子径が大き
い粒子の粒子径の９０％以下であることが突起を充分に
形成する上で好ましく、さらに好ましくは８０％以下で
ある。また該無機又は／及び有機高分子粒子を含有する
層の塗布液溶剤の一部又は全部を、該層の下層を溶解で
きる溶剤にすることで、該粒子含有層を塗布する際、下
層の一部を溶解し粒子を下層の一部に埋めることができ
る。特に該粒子含有層の層厚を極端に薄くする場合有効
で、その際１つ１つの粒子が体積で３０％以上埋まって
いることが粒子を充分に保持する上で好ましく５０％以
上がさらに好ましい。本発明に使用する粒子の屈折率に
特に制限はないが、粒子を含有する層の屈折率に対し
て、その差が０．０８以下、より好ましくは０．０４以
下、さらに好ましくは０．０２以下であることが、ヘイ
ズ等の媒体の透明性を良化できる点で望ましい。

【００１２】本発明に用いられる無機粒子及び有機高分
子粒子は、分散液中の粒子の分散性改良や凝集沈降の改
良や、耐久性（粒子の脱落防止など）の改良、走行性の
改良などの目的で、公知の表面処理をほどこすことが好
ましい。たとえばドイツ特許２６５３７２３号、特開平
４−２５１４２９号、特開平２−７３５１３号、特開昭
４９−５９６０８号、特開昭５９−１０７４２６号、特
開昭６２−２０２３２７号、特公平６−１８０７４６
号、特開昭６１−７７１３６号、米国特許４５８４２４
３号、特開平７−７３４４２号、特公平５−８５９２号
に記載のごときシランカップリング剤、チタンカップリ
ング剤、アルミカップリング剤、特開平１−１６２２２
３号、特開平６−８０４０６号等に記載のごときポリマ
ーによる被覆、特公平６−７３１７６号などに記載のご
とき固体酸による被覆等があげられる。また、本発明に
用いられる、無機粒子及び有機高分子粒子は、後述する
磁性体と同様な分散方法（分散機など）を選択すること
ができる。

【００１３】前記粒子を使用することにより、使用して
いない場合と比べ、透明性は若干低下するが、本発明の
磁気記録媒体を写真フイルム上に設けることを想定する
と、磁気記録層側全層のヘイズ度は９％未満にすること
が写真性能上必要で、さらには８％未満にすることが好
ましい。透明磁気記録層とは実質的に写真画質に影響を
与えない程度の透明性を有した磁気記録層を指し、ブル
ーフィルター透過濃度で０〜０．２、好ましくは０〜
０．１５、より好ましくは０〜０．１０のものである。
本発明で用いられる透明磁気記録層に含有される磁性粒
子は、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃などの強磁性酸化鉄（ＦｅＯｘ、
４／３＜ｘ≦３／２）、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ などの
Ｃｏ被着強磁性酸化鉄（ＦｅＯｘ、４／３＜ｘ≦３／
２）、Ｃｏ被着マグネタイト、その他Ｃｏ含有の強磁性
酸化鉄、Ｃｏ含有マグネタイト、強磁性二酸化クロム、
強磁性金属、強磁性合金、さらにその他のフェライト、
例えば六方晶系のＢａフェライト、Ｓｒフェライト、Ｐ
ｂフェライト、Ｃａフェライトあるいはこれらの固溶体
またはイオン置換体などを使用できる。

【００１４】強磁性体の形状としては針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換持性上好ましい。粒子の比表面積はＳBET で２０ｍ²
／ｇ以上が好ましく、３０ｍ² ／ｇ以上が特に好まし
い。粒子サイズは、針状の場合は長軸が０．０１〜０．
８μｍ、短軸は０．００５〜０．４μｍで長軸と短軸の
比は１００：１〜２：１が好ましく、更に長軸は０．０
４〜０．４μｍ、短軸は０．０１〜０．１μｍがより好
ましく長軸と短軸の比は１００：１〜３：１がより好ま
しい。磁性体の粒子サイズ分布はできるだけシャープな
方が好ましい。強磁性体の飽和磁化（σｓ）は５０ｅｍ
ｕ／ｇ以上、さらに好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上であ
る。また、強磁性体の角型比（σｒ／σｓ）は４０％以
上、さらには４５％以上が好ましい。保磁力（Ｈｃ）は
２００Ｏｅ以上３０００Ｏｅ以下、好ましくは５０
０Ｏｅ以上２０００Ｏｅ以下である。

【００１５】これらの強磁性体粒子を、例えば特開昭５
９−２３５０５や特開平４−０９６０５２記載のものな
どのような、シリカおよび／またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平４−１９５７２６、同４一１
９２１１６、同４−２５９９１１、同５−０８１６５２
記載のような無機および／または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。カップリング剤としては例え
ば、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３
−イソシアニルプロピルメチルジメトキシシラン、３
−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メトキシ（ポリ（重合度
６）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン、デシルトリメトキシシランなどが用いられる。こ
れらのシランカップリング剤及びチタンカップリング剤
の磁気粒子に対する添加量は１．０〜２００重量％であ
る。好ましくは１〜７５重量％であり、より好ましくは
２〜５０重量％である。又、これらのシランカップリン
グ剤及びチタンカップリング剤は磁気粒子への直接処理
方法やインテグラルブレンド法によって処理され、直接
法には乾式法、スラリー法、スプレー法がある。乾式法
では例えば、磁気粒子と少量の水、または有機溶剤、ま
たは水を含有する有機溶剤およびカップリング剤を混合
しオープンニーダーで撹拌して水、有機溶剤を除去した
後、更に微細分散するのが好ましい。

【００１６】上記磁性体を後述するバインダー中に分散
する方法は、ニーダー、ピン型ミル、アニュラー型ミル
などが好ましく、ニーダーとピン型ミル、もしくはニー
ダーとアニュラー型ミルの併用も好ましい。ニーダーと
しては、開放型（オープン）、密閉型、連続型などがあ
り、その他３本ロールミル、ラボプラストミル等の混練
機も用いられる。またマイクロフルイダイザーによる分
散も好ましい。

【００１７】磁気記録層の厚みは３μｍ以下、好ましく
は２μｍ以下、より好ましくはｌ．５μｍ以下である。
磁気粒子とバインダーの重量比は好ましくは０．５：１
００〜６０：１００からなり、より好ましくは１：１０
０〜３０：１００である。磁性体としての塗布量は０．
００５〜０．３ｇ／ｍ² 、好ましくは０．０１〜０．１
５ｇ／ｍ² 、さらに好ましくは０．０２〜０．１ｇ／ｍ
² である。磁気記録層を付与したフイルムとしての保磁
力は５００Ｏｅ以上３０００Ｏｅ以下、好ましくは８
００Ｏｅ以上１５００Ｏｅ以下である。

【００１８】磁気記録層は写真用支持体の全面またはス
トライプ状に設けることができる。支持体上に塗布され
た磁気記録層は必要により層中の磁性材料を直ちに乾燥
しながら配向させる処理を施したのち、形成した磁気記
録層を乾燥する。磁性体を配同させるには永久磁石やソ
レノイドコイルを用いる方法がある。永久磁石の強度は
２０００Ｏｅ以上が好ましく、３０００Ｏｅ以上が
特に好ましい。ソレノイドの場合は５００Ｏｅ以上で
もよい。また、乾燥時の配向のタイミングは磁気記録層
内の残留溶剤が５％〜７０％の地点が望ましい。

【００１９】磁気記録層には潤滑性向上、カール調節、
帯電防止、接着防止、ヘッド研磨、ゴミ付着防止などの
機能を合せ持たせてもよい。

【００２０】本発明に用いられる磁気記録層等のバイン
ダーは熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、
アルカリもしくは生分解性ポリマー、天然物重合体（セ
ルロース誘導体、糖誘導体など）およびこれらの混合物
を使用することができる。好ましい上記樹脂のＴｇは−
４０℃〜３００℃、重量平均分子量は０．２万〜１００
万、より好ましくは０．５万〜３０万である。

【００２１】上記熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニル
アルコール、マレイン酸および／またはアクリル酸との
共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル・アクリロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体などのビニル系共重合体、ニトロセルロー
ス、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセ
チルジブチルアセテート、トリプロピオニルアセテー
ト、ジドデシルアセテートなどのセルロース誘導体、ア
クリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテルポリウレタン、ポリカーボネート、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ブタジ
エンアクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン
系樹脂、フッ素系樹脂を挙げることができる。

【００２２】熱硬化性樹脂または反応型樹脂はたとえ
ば、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、
硬化型ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量
グリコール／高分子量ジオール／ポリイソシアネートの
混合物、ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物が挙げ
られる。

【００２３】また、磁気記録層を構成するバインダーの
中で置換度１．７〜２．９のセルロースエステルが、好
ましく用いられる。特に好ましいのはセルロースジアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネートである。

【００２４】以上列挙のバインダー中に、極性基（エポ
キシ基、ＣＯ₂ Ｍ、ＯＨ、ＮＲ₂ 、ＮＲ₃ Ｘ、ＳＯ₃
Ｍ、ＯＳＯ₃ Ｍ、ＰＯ₃ Ｍ₂ 、ＯＰＯ₃ Ｍ₂ 、ただしＭ
は水素、アルカリ金属またはアンモニウムであり、一つ
の基の中に複数のＭがあるときは互いに異なっていても
よい、Ｒは水素またはアルキル基である）を導入してあ
ってもよい。

【００２５】上記バインダーは単独または数種混合で使
用され、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系
の架橋剤を添加してあっても良い。架橋剤を使用するこ
とにより、層そのもの、あるいは層間の接着を強化でき
る。イソシアネート系架橋剤としてはイソシアネート基
を２個以上有するポリイソシアネート化合物で、たとえ
ばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメ
タンジイソシアネートなどのイソシアネート類、これら
のイソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物
（例えば、トルレンジイソシアナート３ｍｏｌとトリメ
チロールプロパン１ｍｏｌの反応生成物）、及びこれら
のイソシアネート類の縮合により生成したポリイソシア
ネートなどが挙げられる。上記架橋剤の中で特に好まし
いのは下記の一般式（１）であらわされるイソシアネー
ト系架橋剤である。一般式（１）：

【００２６】

【化１】

【００２７】ｎは１〜５０の範囲が好ましいが、より好
ましくは０〜３０、さらに好ましくは０〜１０である。
ｎ数は単一である必要はなく、分布を持っていても構わ
ない。ｍは１〜２の整数である。Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ は
Ｈ、アルキル基（Ｃ₁ 以上）、あるいはアリール基（Ｃ
₆ 以上）である。この様な架橋剤の好ましい粘度は５０
（ｃＰ／２５℃）〜１０００（ｃＰ／２５℃）である。
またこのような架橋剤の好ましいＮＣＯ含有率は２０〜
４０％である。より好ましくは２５〜３５％である。こ
の様な架橋剤の市販品としては、日本ポリウレタン
（株）製の「ミリオネートＭＴ」、「ミリオネートＭＲ
−１００」、「ミリオネートＭＲ−２００」、「ミリオ
ネートＭＲ−３００」、「ミリオネートＭＲ−４０
０」、住友バイエルウレタン（株）製の「スミジュール
４４Ｖ１０」（以上、いずれも商品名）等が挙げられ
る。上記架橋剤の塗布量は、３ｍｇ／ｍ² 以上１０００
ｍｇ／ｍ² 以下で含まれることが好ましいが、より好ま
しくは５ｍｇ／ｍ² 以上５００ｍｇ／ｍ² 以下であり、
さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ² 以上３００ｍｇ／ｍ²
以下である。このような架橋剤が充分に架橋を行うため
に、５０℃以上、好ましくは７０℃以上で、１分〜７２
時間の加熱乾燥を行うことが好ましい。

【００２８】上記の様な架橋剤を使用する際、３級アミ
ン系、金属塩系、ＤＢＵ（１，８−ジアザ−ビシクロ
［５，４，０］ウンデセン−７）系化合物の中から少な
くとも１種類以上を同時に使用することで、層そのも
の、あるいは層とこれに隣接する層との架橋反応速度を
促進させることができ、耐久性向上のための架橋反応時
間を短縮させることができる。３級アミン系では、例え
ば、Ｂｒｕｉｎｓらの”ＰｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅＴ
ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”Ｐ．２５，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎ
ｃｅ（１９６０）に記載されているような、テトラメチ
ルブタンジアミンや１，４−ジアザビシクロ［２，２，
２］オクタンやトリエチルアミンなどが挙げられる。ま
た金属塩系では、例えば、ジブチルすずジラウレート、
オクトエ酸すず、ナフテン酸コバルト、塩化第１すず、
テトラ−ｎ−ブチルすず、塩化第２すず、トリメチルす
ずヒドロキシド、ジメチル２塩化すずなどが挙げられ
る。このような化合物は、例えば、磁気記録層塗布液中
に上記架橋剤とともに添加した後、塗布するか、または
／さらに磁気記録層の下層または／さらに上層の塗布液
中に添加しておいて、磁気記録層への該化合物の拡散を
利用しても良い。

【００２９】本発明で使用されるフイルム支持体として
はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリアミド、ポ
リカーボネート及びポリエステル等があり、ポリエステ
ルが好ましい。これらのポリエステルの好ましい平均分
子量の範囲は約５０００ないし２０００００である。本
発明で用いられるポリエステルはそのＴｇが７０℃以上
２００℃以下であり、９０℃以上１８０℃以下が好まし
い。具体的には下記のような化合物例を示すことができ
る。

【００３０】Ｐ−１：［テレフタル酸（ＴＰＡ）／エチレングリコール（ＥＧ））（１００／１００）］（ＰＥＴ）Ｔｇ＝８０℃ Ｐ−２：［２，６−ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＣＡ）／エチレングリコール（ＥＧ）（１００／１００）］（ＰＥＮ）Ｔｇ＝１１９℃ Ｐ−３：２，６−ＮＤＣＡ／ＴＰＡ／ＥＧ（５０／５０／１００）Ｔｇ＝９２℃ Ｐ−４：ＰＥＮ／ＰＥＴ（６０／４０）Ｔｇ＝９５℃ Ｐ−５：ＰＥＮ／ＰＥＴ（８０／２０）Ｔｇ＝１０４℃

【００３１】ポリエステルの中で好ましいのは２，６−
ナフタレンジカルボン酸を含むポリエステルであり、全
ジカルボン酸中に２，６−ナフタレンジカルボン酸を１
０モル％以上含むポリエステルである。中でも特に好ま
しいのはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキ
シレートである。また、支持体の厚みは８０〜１１５μ
ｍが好ましく、特に好ましくは８５〜１０５μｍであ
る。更にポリエステル支持体は感光層を塗布する前に４
０℃以上ガラス転移温度以下の温度で、０．１〜１５０
０時間熱処理を施すと、ロール状の感光材料としたと
き、巻きぐせをつきにくくすることができる。

【００３２】ＴＡＣ支持体では、トリフェニルフォスフ
ェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ジメチ
ルエチルフォスフェート等の可塑剤を通常添加する。支
持体はベース色味のニュートラル化、ライトパイピング
防止、ハレーション防止などの目的のために染料を含有
してもよい。これら支持体上に写真層（例えば、感光性
ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フィルター層、磁気記録
層、導電性層）を強固に接着させるために、薬品処理、
機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、
高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レー
ザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理などの表面活性化
処理をした後、直接写真乳剤を塗布して接着力を得ても
良いし、一旦これらの表面処理をした後、あるいは表面
処理無しで下塗り層を設け、この上に写真乳剤層を塗布
しても良い。

【００３３】また、本発明の透明な磁気記録媒体には、
そのほか、染料、界面活性剤等を含有する事が出来る。
さらに、本発明の透明磁気記録媒体の透明磁気記録層側
の少なくともいずれか１層にシリコーン系化合物やフッ
素系化合物（含フッ素化合物）を組み込むことは、媒体
表面に汚れが付着しにくくなり、従って、磁気ヘッド表
面に汚れが転写しにくくなるので、磁気入出力トラブル
を低減できる点で好ましい。例えば、住友３Ｍ（株）製
のＦＣ−４３１等が挙げられる。本発明の透明磁気記録
媒体に用いられる滑り剤としては、例えば、高級脂肪酸
エステル（炭素数１０〜２４の脂肪酸と炭素数１０〜６
０のアルコールのエステル）が好ましい。滑り剤の使用
量は０．００１〜０．１ｇ／ｍ² が好ましく、より好ま
しくは０．００５〜０．０５ｇ／ｍ² である。

【００３４】特に本発明で好ましい磁気記録媒体とし
て、ハロゲン化銀感光層を含むカラーリバーサルフイル
ムとカラーネガフイルムをあげることができる。特に一
般用カラーネガフイルムが好ましい。ハロゲン化銀乳剤
は、通常、物理熟成、化学熟成および分光増感を行った
ものを使用する。本発明の効果は、金化合物と含イオウ
化合物で増感した乳剤を使用したときに特に顕著に認め
られる。このような工程で使用される添加剤はリサーチ
・ディスクロージャーＮｏ．１７６４３および同Ｎｏ．
１８７１６に記載されており、その該当箇所を後に挙げ
た。

【００３５】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記の２つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。添加剤種類ＲＤ１７６４３ＲＤ１８７１６１化学増感剤２３頁６４８頁右欄２感度上昇剤同上３分光増感剤、２３〜２４頁６４８頁右欄〜強色増感剤６４９頁右欄４増白剤２４頁５かぶり防止剤２４〜２５頁６４９頁右欄〜および安定剤６光吸収剤、６４９頁右欄〜フィルター染料、２５〜２６頁６５０頁左欄紫外線吸収剤７ステイン防止剤２５頁右欄６５０頁左〜右欄８色素画像安定剤２５頁９硬膜剤２６頁６５１頁左欄１０バインダー２６頁同上１１可塑剤、潤滑剤２７頁６５０頁左欄１２塗布助剤、２６〜２７頁６５０頁右欄表面活性剤

【００３６】本発明でＡＰＳ（ＡｄｖａｎｃｅｄＰｈ
ｏｔｏＳｙｓｔｅｍ）カラー感材を内蔵したパトロー
ネの場合、パトローネおよびパトローネケースに使用さ
れるプラスチックの総重量は通常１ｇ以上２５ｇ以下、
好ましくは５ｇ以上１５ｇ以下である。ＡＰＳの場合、
フイルムのロール幅が２４ｍｍとなるのでパトローネを
小型化できる。本発明のパトローネは、その形態につい
て特に限定されない。収納される写真フイルムは現像前
のいわゆる生フイルムでもよいし、現像処理された写真
フイルムでもよい。また、生フイルムと現像済みの写真
フイルムが同じ新パトローネに収納されていてもよい
し、別のパトローネでもよい。

【００３７】

【実施例】以下に実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００３８】１）第１層及び下塗り層厚さ９０μm のポリエチレンナフタレート支持体につい
て、その各々の両面に、処理雰囲気圧力０．２Ｔｏｒ
ｒ、雰囲気気体中のＨ₂ Ｏ分圧７５％、放電周波数３０
ｋＨｚ、出力２５００Ｗ、処理強度０．５ｋＶ・Ａ・分
／ｍ² でグロー放電処理を施した。この支持体上に、第
１層として下記組成の塗布液を特公昭５８−４５８９号
公報のバー塗布法を用いて、５ｃｃ／ｍ² の塗布量で塗
布した。導電性微粒子分散液（ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ₂ Ｏ₅ 粒子濃度５０重量部１０％の水分散液．１次粒子径０．００５μm の２次凝集体でその平均粒径が０．０５μm ）ゼラチン０．５重量部水４９重量部ポリグリセロールポリグリシジルエーテル０．１６重量部ポリ（重合度２０）オキシエチレン０．１重量部ソルビタンモノラウレート

【００３９】さらに、第１層を塗設後、直径２０ｃｍの
ステンレス巻き芯に巻付けて、１１０℃（ＰＥＮ支持体
のＴｇ：１１９℃）、４８時間加熱処理し熱履歴させた
後、支持体をはさみ第１層側と反対側に下塗り層として
下記組成の塗布液をバー塗布法を用いて、１０ｃｃ／ｍ
² の塗布量で塗布した。ゼラチン１．０１重量部サリチル酸０．３０重量部レゾルシン０．４０重量部ポリ（重合度１０）オキシエチレンノニルフェニルエーテル０．１１重量部水３．５３重量部メタノール８４．５７重量部ｎ−プロパノ−ル１０．０８重量部さらに、後述する第２、第３層を、第１層の上に順に塗
設し、最後に、特開平７−２８７３４５号公報の実施例
１に記載された、カラーネガ感光材料を重層塗布するこ
とで、ハロゲン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒体を作製
した。

【００４０】２）第２層( 透明磁気記録層) 磁性体の分散 Co被着γーFe₂O₃磁性体（Ｈｃ：８３１Ｏｅ、σs ：７
７．１ｅｍｕ／ｇ、σr ：３７．４ｅｍｕ／ｇ、ＳBET
：３８．７ｍ² ／ｇ）１１００重量部、水２２０重量
部及びシランカップリング剤〔３−（ポリ（重合度１
０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン〕１６５重量部を添加して、オープンニーダーで３
時間良く混練した。この粗分散した粘性のある液を７０
℃で１昼夜乾燥し水を除去した後、１１０℃、１時間加
熱して処理をし、表面処理をした磁気粒子を作製した。

【００４１】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて４時間混練した。上記表面処理済み磁気粒子８５５ｇジアセチルセルロース２５．３ｇメチルエチルケトン１３６．３ｇシクロヘキサノン１３６．３ｇ

【００４２】さらに、以下の処方で、サンドミル（１／
４Ｇのサンドミル）にて２０００ｒｐｍ、４時間微細分
散した。メディアは１ｍｍΦのガラスビーズを用いた。上記混練液４５ｇジアセチルセルロース２３．７ｇメチルエチルケトン１２７．７ｇシクロヘキサノン１２７．７ｇ

【００４３】さらに、以下の処方で、第３層塗布液を作
製した。磁性体含有中間液の作製上記磁性体微細分散液５０．８ｇジアセチルセルロース溶液１９１４．７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）これらをディスパ−にて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。

【００４４】粒子分散液の作製

【００４５】(1)トスパール１０５粒子分散液の作製
（大粒子）以下の処方にてトスパール１０５粒子分散液を作製し
た。トスパール１０５（平均１次粒子径０．５μm ）１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて
１時間分散した。但し、本発明試料２−Ｇでは、トスパ
ール１０５分散液を作製する際、ジアセチルセルロース
溶液を用いず、メチルエチルケトン／シクロヘキサノン
＝１／１である、バインダーを含まない分散媒にて、１
時間分散した。

【００４６】(2)シーホスタＫＥＰ７０粒子分散液の作
製（大粒子）以下の処方にてシーホスタＫＥＰ７０粒子分散液を作製
した。シーホスタＫＥＰ７０（平均１次粒子径０．７μm ）１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて
１時間分散した。

【００４７】(3)ＡＫＰ２０粒子分散液の作製（大粒
子）以下の処方にてＡＫＰ２０粒子分散液を作製した。ＡＫＰ２０（平均１次粒子径０．６μm ）１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて
３時間分散した。

【００４８】(4)ＭＸ−１００粒子分散液の作製（大粒
子）以下の処方にてＭＸ−１００粒子分散液を作製した。ＭＸ−１００（平均１次粒子径１．０μm ）１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて
１時間分散した。

【００４９】(5)ＨＩＴ１００粒子分散液の作製（微細
粒子）以下の処方にて、サンドミル（ベッセル内及び回転ディ
スクがセラミックコートされた１／４Ｇのサンドミル）
にて２０００ｒｐｍ、１２時間微細分散した。メディア
は１ｍｍΦのジルコニアビーズを用いた。ＨＩＴ１００３７ｇ（α−アルミナ、平均１次粒子径０．１０μｍ）シランカップリング剤８．４ｇ〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕ジアセチルセルロース溶液３２４．６ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）

【００５０】(6)コロイダルシリカ粒子分散液（微細粒
子）日産化学（株）製の「ＭＥＫ−シリカゾル」を使用し
た。これは、メチルエチルケトンを分散媒とした、平均
１次粒子径０．０１５μｍのコロイダルシリカの分散液
であり、固形分は３０％である。

【００５１】第２層塗布液の作製（本発明１−Ａ試料）上記磁性体含有中間液３５００ｇトスパール１０５分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン( 株) 製）ＨＩＴ１００分散液１４７ｇメチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２９．３ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。
この時、トスパール１０５は５０ｍｇ／ｍ² で塗布され
た。

【００５２】３）第３層滑り剤の分散原液の作成下記のａ液を９０℃加温溶解し、ｂ液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り剤の分散原液を作成した。ａ液下記化合物０．７５重量部Ｃ₆ Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＣ₅₀Ｈ₁₀₁ 下記化合物０．７５重量部ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁ Ｏ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₁₆Ｈキシレン２．１１重量部プロピレングリコール− ０．０８重量部モノメチルエーテルｂ液シクロヘキサノン９６．３重量部

【００５３】第３層塗布液の作製上記滑り分散原液４８２ｇに下記の溶剤を加え塗布液と
した。イソプロピルアルコール３２４３ｇメタノール１１５ｇシクロヘキサノン１４４ｇ下記化合物０．７３ｇＣ₈ Ｆ₁₇ＳＯ₂ Ｎ（Ｃ₃ Ｈ₇ ）（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₄ − （ＣＨ₂ ）₄ ＳＯ₃ Ｎａポリエステル変性シリコーン溶液２．８８ｇ（ＢＹＫケミジャパン（株) 製、商品名ＢＹＫ３１０、固形分含量２５％）

【００５４】上記滑り層塗布液を１０．４ｃｃ／ｍ² の
塗布量で塗布した。次に試料の評価について記す。

【００５５】ａ）ヘイズの測定日本電色工業（株) 製のヘイズ計「ＶＧＳ−１００１Ｄ
Ｐ」を用いて、ハロゲン化銀乳剤層を塗設する前の段階
の試料について下塗層を脱膜後ヘイズ度を測定した。こ
の時、光は透明磁気記録層側から入射するように測定し
た。透明磁気記録媒体のヘイズ度が９％未満の試料を
○、９％以上の試料を×（Ｎ．Ｇ．）と判定した。尚、
ヘイズ度は以下のように定義される。Ｔ＝Ｄ＋ＰＴＰＴ：平行透過率Ｈ＝（Ｄ／Ｔ）×１００（％）Ｔ：全透過率Ｄ：拡散Ｈ：ヘイズ度（濁度）

【００５６】ｂ）塗設層中に分散された粒子の粒径測定作製した試料の塗設層中に分散された、無機、有機高分
子粒子の粒度（平均２次粒子径）を求めるために、以下
の手順で行った。低温灰化装置（プラズマリアクターＰＲ−５０３ヤ
マト科学（株) 製）を用いて、粒子を覆っているバイン
ダーを除去する。粒子の表面を覆っていたバインダーを除去した後の試
料表面を、走査型電子顕微鏡「ＥＳＭ−３２００」に
て、５０００倍〜１００００倍で、必要枚数写真に写
す。写真に写っている分散粒子一個一個についてデジタイ
ザーを用いて円相当径を求め、計５００個の平均円相当
径を求めた。上記平均円相当径を「塗設層中に分散された粒子の粒
径」とした。

【００５７】ｃ）磁気入出力性能の評価幅２４ｍｍ、長さ３００ｍにスリットした作製試料を、
搬送速度１００ｍｍ／ｓｅｃにて、予め６ｋＨｚのＦＭ
信号にて磁気記録した。この後、富士写真フイルムのＣ
Ｎ−１６Ｘケミカル処方により現像処理を行った。現像
機は富士写真フイルム（株) 製のシネ式自動現像機ＦＮ
ＣＰ−９００を用いた。現像処理後の試料について、ギ
ャップ５μm 、巻き数２０００ターンの汎用の磁気再生
ヘッドにて、約９５ｄＢのゲインがあるアンプを用いて
記録信号を再生し、再生信号の一つ一つを以下の様に調
べ、磁気入出力性能の評価を行った。透明磁気記録層側
表面に残存する、現像処理液の乾固物が主成分である汚
れが、試料走行時に、磁気ヘッド表面に転写・蓄積して
しまう試料は、スペースロス損失により信号振幅の大き
さが小さくなり、ドロップアウトの回数が増加すること
から採用した。各々の再生信号（再生出力）の大きさ
が、磁気ヘッドに汚れの無い場合の理想的な再生信号の
大きさに対し、３５％以下になったとき「ドロップアウ
ト」と定義し、ドロップアウトが１０回以上の時 ×（Ｎ．Ｇ．）ドロップアウトが５回以上１０回未満の時 △（Ｎ．Ｇ．）ドロップアウトが３回以上５回未満の時 ○ ドロップアウトが１回以上３回未満の時 ○○ ドロップアウトがない時 ○○○ と判定した。

【００５８】ｄ）光学接触率の測定東洋精機製作所（株）製のマイクロトポグラフを用いて
測定した。測定は２５℃６０％、荷重１６ｋｇｆ／ｃｍ
² 、測定波長０．５μｍで行った。この測定では、光学
的に、試料表面が平滑であった場合に１００％と計測さ
れ、試料表面が平滑でなくなるに従い、その値は低下す
る。

【００５９】さらに、表１及び表２に示すような、本発
明試料１−Ｂ〜Ｇ及び比較例試料１−ア〜カを以下の様
に作製した。

【００６０】（本発明試料１−Ｂ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを本発明試料１−Ｂとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇトスパール１０５分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）コロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇメチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ

【００６１】（比較例試料１−ア）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−アとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇトスパール１０５分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００６２】（比較例試料１−イ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−イとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇトスパール１０５分散液２９４ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００６３】（比較例試料１−ウ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−ウとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇＨＩＴ１００分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００６４】（比較例試料１−エ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−エとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ

【００６５】（本発明試料１−Ｃ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを本発明試料１−Ｃとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇシーホスタＫＥＰ７０分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ＨＩＴ１００分散液１４７ｇメチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００６６】（本発明試料１−Ｄ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを本発明試料１−Ｄとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇシーホスタＫＥＰ７０分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）コロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇメチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ

【００６７】（比較例試料１−オ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−オとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇシーホスタＫＥＰ７０分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００６８】（本発明試料１−Ｅ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを本発明試料１−Ｅとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇＡＫＰ２０分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）コロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇメチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ

【００６９】（比較例試料１−カ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−カとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇＡＫＰ２０分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００７０】（本発明試料１−Ｆ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを本発明試料１−Ｆとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇＭＸ−１００分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）コロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇメチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ

【００７１】（比較例試料１−キ）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−キとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇＭＸ−１００分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００７２】（本発明試料１−Ｇ）第２層塗布液の塗布
量を１０．４ｃｃ／ｍ² になるように塗布した以外は、
本発明試料１−Ｂと全く同様に作製した。これを本発明
試料１−Ｇとする。

【００７３】（比較例試料１−ク）第２層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを比較例試料１−クとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００７４】

【表１】

【００７５】

【表２】

【００７６】表１及び表２よりわかる様に、本発明試料
における、磁気入出力性能改良効果は顕著であり、確実
な磁気入出力性能と透明性を兼ね備えた優れた透明磁気
記録媒体を提供することができる。

【００７７】（本発明試料２−Ａ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−Ａとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液５２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１１６６ｇシクロヘキサノン１１６６ｇトスパール１０５分散液１０８ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。
この時、トスパール１０５は２０ｍｇ／ｍ² で塗布され
た。

【００７８】（本発明試料２−Ｂ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−Ｂとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液８３ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１８２１ｇシクロヘキサノン１８２１ｇトスパール１０５分散液１７４ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）１０１ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００７９】（本発明試料２−Ｃ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−Ｃとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液５０２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン９６０ｇシクロヘキサノン９６０ｇトスパール１０５分散液６５ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）１３ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１７．３ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８０】（本発明試料２−Ｄ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−Ｄとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液３６ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン９０９ｇシクロヘキサノン９０９ｇトスパール１０５分散液８７ｇＡＫＰ２０分散液９ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）５１ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８１】（本発明試料２−Ｅ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−Ｅとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）コロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇメチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液５０２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン９６０ｇシクロヘキサノン９６０ｇトスパール１０５分散液６５ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）１３ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１７．３ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８２】（本発明試料２−Ｆ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１のＡと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−Ｆとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）コロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇメチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液５０２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン９６７ｇシクロヘキサノン９６６ｇトスパール１０５分散液６５ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１７．３ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８３】（比較例試料２−ア）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−アとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液７２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン６９５ｇシクロヘキサノン６９５ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）３８ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８４】（比較例試料２−イ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−イとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液３１ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン７０２ｇシクロヘキサノン７０２ｇトスパール１０５分散液６５ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８５】（比較例試料２−ウ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−ウとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液７２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン７１４ｇシクロヘキサノン７１４ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８６】（本発明試料２−Ｆ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設する以外は、本発
明試料１−Ａと全く同様に作製した。これを本発明試料
２−Ｆとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇトスパール１０５分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液７２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン６９５ｇシクロヘキサノン６９５ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）３８ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃｃ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００８７】（本発明試料２−Ｇ）第３層塗布液の処方
を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを本発明試料２−Ｇとする。＜第３層＞滑り剤の分散原液の作成下記のａ液を９０℃加温溶解し、ｂ液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り剤の分散原液を作成した。ａ液下記化合物０．７５重量部Ｃ₆ Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＣ₅₀Ｈ₁₀₁ 下記化合物０．７５重量部ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁ Ｏ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₁₆Ｈキシレン２．１１重量部プロピレングリコール− ０．０８重量部モノメチルエーテルｂ液シクロヘキサノン９６．３重量部第３層塗布液の作製上記滑り分散原液４８２ｇに下記の溶剤を加え塗布液と
した。イソプロピルアルコール３０８１ｇメタノール１１５ｇ下記化合物０．７３ｇＣ₈ Ｆ₁₇ＳＯ₂ Ｎ（Ｃ₃ Ｈ₇ ）（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₄ − （ＣＨ₂ ）₄ ＳＯ₃ Ｎａポリエステル変性シリコーン溶液２．８８ｇ（ＢＹＫケミジャパン（株) 製、商品名ＢＹＫ３１０、固形分含量２５％）トスパール１０５分散液１９３ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）１１３ｇ

【００８８】上記第３層塗布液を１０．４ｃｃ／ｍ² の
塗布量で塗布した。トスパール１０５粒子は２０ｍｇ／
ｍ² で塗布された。

【００８９】（本発明試料２−Ｈ）第２層及び第３層塗
布液の処方を以下に代える以外は、本発明試料１−Ａと
全く同様に作製した。これを本発明試料２−Ｈとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇトスパール１０５分散液１４７ｇ架橋剤［１］：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）ジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ

【００９０】＜第３層塗布液処方＞滑り剤の分散原液の作成下記のａ液を９０℃加温溶解し、ｂ液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り剤の分散原液を作成した。ａ液下記化合物１０．７５重量部Ｃ₆ Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＣ₅₀Ｈ₁₀₁ 下記化合物２０．７５重量部ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁ Ｏ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₁₆Ｈキシレン２．１１重量部プロピレングリコール− ０．０８重量部モノメチルエーテルｂ液シクロヘキサノン９６．３重量部第３層塗布液の作製上記滑り分散原液４８２ｇに下記の溶剤を加え塗布液と
した。イソプロピルアルコール３２７４ｇメタノール１１５ｇ下記化合物３０．７３ｇＣ₈ Ｆ₁₇ＳＯ₂ Ｎ（Ｃ₃ Ｈ₇ ）（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）₄ − （ＣＨ₂ ）₄ ＳＯ₃ Ｎａポリエステル変性シリコーン溶液２．８８ｇ（ＢＹＫケミジャパン（株) 製、商品名ＢＹＫ３１０、固形分含量２５％）コロイダルシリカ分散液（固形分３０％）１１３ｇ

【００９１】

【表３】

【００９２】

【表４】

【００９３】表３及び表４よりわかる様に、本発明試料
における、磁気入出力性能改良効果は顕著であり、確実
な磁気入出力性能と透明性を兼ね備えた優れた透明磁気
記録媒体を提供することができる。

【００９４】（その他−本発明試料−その１）前述した
本発明試料すべてにおいて、第３層に含有される上記化
合物１を固形分で、２倍になるように塗設した以外は、
それぞれ全く同様に作製したところ、全く同じ改良効果
（結果）が得られた。これにより、滑り性がさらに向上
し、透明性と磁気入出力性能が両立する、優れたハロゲ
ン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒体を得ることができ
た。

【００９５】（その他−本発明試料−その２）前述した
本発明試料すべてにおいて、それぞれ、第２層の磁性体
塗布量を０．６倍にし、乳剤層を反転カラー乳剤層であ
る特開平２−８５４実施例１の試料１０１と同様にし
て、さらに現像処理を特開平２−８５４実施例１に示さ
れるようなカラ−リバ−サル感材用の現像処理法により
実施する以外は、前述本発明試料とそれぞれ同様に行っ
たところ、全く同じ改良効果（結果）が得られ、透明性
と磁気入出力性能が両立した、優れたハロゲン化銀乳剤
層付き透明磁気記録媒体が得られた。

【００９６】

【発明の効果】本発明により、確実な磁気入出力性能と
透明性を兼ね備えた、優れた透明磁気記録媒体を提供す
ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に少なくとも１層の磁性粒子を
含む磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該磁気
記録層側のいずれかの同一層内又は／及び異なる層内
に、平均１次粒子径が異なる無機粒子又は／及び有機高
分子粒子を２種類以上含有し、且つ該磁気記録層側全層
のヘイズ度が９％未満であることを特徴とする透明磁気
記録媒体。
【請求項２】該透明磁気記録層又は／及び該透明磁気
記録層に隣接する層が、平均１次粒子径が異なる、２種
類以上の無機粒子又は／及び有機高分子粒子を含有する
ことを特徴とする請求項１記載の透明磁気記録媒体。
【請求項３】該無機粒子のうち、少なくとも１つがα
−アルミナであることを特徴とする請求項１又は２記載
の透明磁気記録媒体。
【請求項４】平均１次粒子径が異なる無機粒子又は／
及び有機高分子粒子を２種類以上含有し、少なくとも一
つの粒子の平均１次粒子径が０．２μｍ以上１．０μｍ
以下であり、少なくとも一つの粒子の平均１次粒子径が
０．０１μｍ以上０．２μｍ未満であることを特徴とす
る請求項１、２又は３記載の透明磁気記録媒体。
【請求項５】平均１次粒子径が異なる無機粒子又は／
及び有機高分子粒子を２種類以上含有し、少なくとも１
つの粒子が平均１次粒子径が０．２μｍ以上１．０μｍ
以下であるポリメチルメタクリレート、α−アルミナ、
シリカ、又は／及びシロキサン粒子であり、少なくとも
１つの粒子が平均１次粒子径が０．０１μｍ以上０．２
μｍ未満であるα−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アル
ミナ、ポリメチルメタクリレート、シリカ、コロイダル
シリカ又は／及び二酸化チタン粒子であることを特徴と
する請求項１、２、３又は４記載の透明磁気記録媒体。
【請求項６】塗設層中に分散された２次粒子を含む該
無機粒子、有機高分子粒子の粒子数で９０％以上が１．
０μｍ以下であることが特徴である、請求項１、２、
３、４又は５記載の透明磁気記録媒体。
【請求項７】該無機粒子、有機高分子粒子のうち、最
も平均１次粒子径が小さい粒子を５ｍｇ／ｍ² 以上５０
０ｍｇ／ｍ² 以下含有していることを特徴とする請求項
１、２、３、４、５又は６記載の透明磁気記録媒体。
【請求項８】該透明磁気記録媒体の２５℃ ６０％Ｒ
Ｈ、荷重１６ｋｇｆ／ｃｍ² 下での波長０．５μｍの光
学接触率が２０％以上８０％以下であることを特徴とす
る請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の透明磁気
記録媒体。
【請求項９】該無機粒子、有機高分子粒子を含有する
層の厚みが、その層内で最も平均１次粒子径が大きい粒
子の粒子径の９０％以下であることが特徴である請求項
１、２、３、４、５、６、７又は８記載の透明磁気記録
媒体。
【請求項１０】該無機粒子、有機高分子粒子を含有す
る層中に、該無機粒子、有機高分子粒子の１つ１つが、
体積で３０％以上埋まっていることが特徴である請求項
１、２、３、４、５、６、７、８又は９記載の透明磁気
記録媒体。
【請求項１１】該透明磁気記録媒体において、支持体
をはさみ該透明磁気記録層に対して反対側に少なくとも
１層のハロゲン化銀乳剤層を有することを特徴とする請
求項１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０記載
のハロゲン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒体。