JPH1145431A

JPH1145431A - 透明磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH1145431A
Application number: JP9217029A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Ogawa; 博小川; Tadahiro Matsunaga; 直裕松永
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-07-29
Filing date: 1997-07-29
Publication date: 1999-02-16

Abstract

(57)【要約】【課題】単位面積当りの磁性粉末の塗布量が少なくても
磁気記録の読み取りエラーの発生しない透明磁気記録媒
体を提供する。【解決手段】支持体上に少なくとも１層の磁性粒子を含
む磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該磁気記
録層の上に平均粒子サイズ０．５μｍ〜１．０μｍの球
状樹脂粒子を５mg／m²〜３０mg／m²含み、且つモース硬
度６以上、平均粒子サイズ０．２μｍ〜１．０μｍの研
磨材粒子を０．５mg／m²〜１０mg／m²含み、且つ平均粒
子サイズ０．０１μｍ〜０．１μｍの非磁性無機粒子を
５mg／m²〜５０mg／m²含み、且つ厚みが約０．１μｍ〜
０．３μｍの層を有する透明磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気入出力エラー
のない透明磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】オーディオテープ、ビデオテープ、フロ
ッピーディスクのような磁気記録媒体の磁気記録層は、
磁性体含有量（塗布量）が多いため、高い磁気出力が得
られるが光透過性がないので磁気カードの印刷面上や、
写真フイルム上に磁気記録層を設けることはできない。
米国特許第５，４９１，０５１号明細書にはくり返し使
用しうる磁気特性及び写真特性のすぐれた写真要素が記
載されている。しかし、この写真要素は各種の情報、例
えば撮影の日時、天候、照明条件、縮小／拡大比等の撮
影時の条件、再プリント枚数、ズームしたい箇所、メッ
セージ等を組み込んで、くり返し使用したときや、現
像、プリント時の条件等の磁気記録情報の入出力が必ず
しも確実ではないという難点があった。また、透明磁性
層関連の技術が特開平４−２１４２１７、特開平６−１
６１０３３、ＵＳ−５４９６６８７、ＵＳ−５４３２０
５０、ＵＳ−５４３６１２０、ＵＳ−５４３４０３７の
各号の明細書に記載されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】実際、例えば写真要素
（写真感材）として使用する場合、現像処理液の乾固物
等の汚れが磁気ヘッドに厚く付着し磁性層とヘッドとの
接触が著しく悪くなり、いわゆるスペーシングロスが発
生し、磁気記録の読み取りエラーが発生しやすかった。
汚れたヘッドをクリーニングするため、磁性層に研磨材
の添加が行われているが、従来公知の範囲で研磨剤を用
いても現像処理液乾固物等汚れの磁気ヘッドへの付着・
転写防止や除去効果は充分ではなかった。また、研磨剤
の使用量を増やしたり、研磨剤粒径を大きくしたりする
と、媒体の透明性が極めて低下して写真用として好まし
く無くなったり、磁気ヘッドの寿命を短かくするといっ
た問題等が発生していた。以上のことから、これらの問
題が無く、実質的に透明でかつ、確実に磁気記録および
再生ができる磁気記録媒体の開発が課題となっていた。
すなわち、本発明の目的は透明性確保の為磁性体の塗布
量を少なくしても、各種磁気情報を確実に記録再生でき
る磁気エラーのない優れた透明磁気記録媒体を提供する
ことにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に少
なくとも１層の磁性粒子を含む磁気記録層を有する磁す
る磁気記録媒体において、該磁気記録層の上に平均粒子
サイズ０．５μｍ〜１．０μｍの球状樹脂粒子を５ｍｇ
／ｍ²〜３０ｍｇ／ｍ²含み、且つモース硬度６以上、
平均粒子サイズ０．２μｍ〜１．０μｍの研磨材粒子を
０．５ｍｇ／ｍ²〜１０ｍｇ／ｍ²含み、且つ平均粒子
サイズ０．０１μｍ〜０．１μｍの非磁性無機粒子を５
ｍｇ／ｍ²〜５０ｍｇ／ｍ²含み、且つ厚みが約０．１
μｍ〜０．３μｍの層を有することを特徴とする透明磁
気記録媒体、及び前記透明磁気記録層を含むハロゲン化
銀写真感光材料によって達成された。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明の平均粒子サイズ０．０１
μｍ〜０．１μｍの非磁性無機粒子により現像処理液成
分が乾燥時に分割され乾燥後の固形分が微細化される、
微細化された処理液汚れは平均粒子サイズ０．５μｍ〜
１．２μｍの球状樹脂粒子による突起により磁気ヘッド
に付着しにくくなることで磁気エラーが実質的になくな
る。

【０００６】本発明における球状の樹脂粒子としては、
メタクリル樹脂、ポリスチレン、ポリシロキサン、メラ
ミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリテトラフルオロ
エチレン、セルロースアセテート、ポリカーボネート、
ナイロンなどの樹脂粒子やでんぷん等があり、それらの
中でポリメタクリル酸メチル、ポリシロキサン、ポリス
チレン、メラミン樹脂及びグアナミン樹脂が好ましい。
また別に、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸エステル、マレ
イン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、スチレン誘導
体、ビニルエステル類、アクリルアミド類、ビニルエー
テル類、アリル化合物、ビニルケトン類、ビニル異節環
化合物、アリル化合物、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、多官能モノマー類、等の単量体の１種または
２種以上のホモポリマー又はコポリマーを種々の手段例
えば懸濁重合法、スプレードライ法、あるいは分散法等
によって粒子としたものであってもよい。球状樹脂粒子
としては、特に架橋シロキサン樹脂、または架橋ＰＭＭ
Ａ樹脂が好ましい。平均粒子サイズは０．５μｍから
１．０μｍであり、好ましくは０．７μから１．０μｍ
未満である。添加量は該層に５ｍｇ／ｍ²から３０ｍｇ
／ｍ²がく、特に好ましくは１０ｍｇ／ｍ²から２０ｍ
ｇ／ｍ²である。これらの具体例としては、（シロキサン）東芝シリコーン（株）製の「トスパール
１０５」、「トスパール１０８」、「ＸＣ９９−Ａ８８
０８」（ＰＭＭＡ）綜研化学（株）製の「ＭＸ−１００」、
「ＭＸ−１５０」、日本ペイント（株）製の「Ｐ−１４
３０」、「Ｐ−５０００」等がある。

【０００７】ヘッドクリーニング性、耐傷性を付与する
ためにモース硬度６以上の研磨材、特にα−アルミナを
併用する事が必要である。αアルミナの平均粒子サイズ
は０．２μｍ〜１．０μｍであり、０．５μｍ〜１．０
μｍが好ましく、添加量は該層に０．５ｍｇ／ｍ²〜１
０ｍｇ／ｍ²が好ましく、特に好ましくは１ｍｇ／ｍ²
〜５ｍｇ／ｍ²である。α−アルミナの例としては以下
のものがある。住友化学工業（株）製「ＡＫＰ５０」、「ＡＫＰ３
０」、「ＡＫＰ２０」、「ＨＩＴ５０」、レイノルズ
（株）製「ＥＲＣ−ＤＢＭ」、ノートン（株）製「Ｎｏ
ｒｔｏｎ−Ｅ６００」

【０００８】本発明における非磁性無機粒子は平均粒子
サイズ０．０１μｍから０．１μｍであり、０．０１μ
ｍ以上０．０４μｍ未満が好ましい。具体的には、シリ
カ（コロイダルシリカ）、酸化アルミニウム（α−アル
ミナ、γ−アルミナ、コランダム等）、酸化クロム（Ｃ
ｒ₂Ｏ₃）、酸化鉄（α−Ｆｅ₂Ｏ₃）、二酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化錫等の酸化物、シリコンカーバイト
（ＳｉＣ）、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、ダイヤ
モンド等の微粉末、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウムバリウム、マン
ガンコロイド、酸化アンチモン、マイカ、タルク等があ
げられる。これら粒子は表面の親水性、疎水性を調整す
るために界面活性剤、カップリング剤等で表面処理がさ
れていても良いが、ある程度親水性があったほうが好ま
しい。このれら粒子の内、特にシリカ（コロイダルシリ
カ）が好ましい。添加量は該層に５ｍｇ／ｍ²〜５０ｍ
ｇ／ｍ²で、特に１０ｍｇ／ｍ²〜３０ｍｇ／ｍ²が好
ましい。このシリカ粒子の具体例としては、日産化学
（株）製の「ＭＥＫ−ＳＴ」、「ＭＩＢＫ−ＳＴ」、
「メタノールシリカゾル」「ＭＡ−ＳＴ−Ｍ」、「ＩＰ
Ａ−ＳＴ」等がある。

【０００９】該、磁気記録層上の層の厚みは、０．１μ
ｍ〜０．３μｍが好ましい。該層の厚みが薄すぎると粒
子が脱落しやすくなり、厚すぎるとスペーシングロスで
磁気出力が低下するので好ましくない。該層は磁気記録
層のバイインダを溶解する溶剤を用いて磁気記録層と混
合させても良い。この場合には、該上の層の厚みは塗布
液組成から求められる値より厚くなる。

【００１０】磁性層とヘッドとの接触状態は上記の大突
起高さにおいて荷重１６ｋｇｆ／ｃｍ²下、波長０．５
μｍでの光学接触率が７０％以下であると好ましいこと
がわかった。特には６０％以下が好ましい。光学接触率
の下限は磁気出力から約２０％以上である。

【００１１】該、磁性層上の層には磁性体が含まれても
良く、その場合の好ましい添加量は１×１０^-12 から３
×１０^-10 mg／μｍ³である。

【００１２】また該層の塗布液溶剤の一部又は全部を、
該層の下層（磁性層）を溶解できる溶剤にすることで、
該粒子含有層を塗布する際、下層の一部を溶解し粒子を
下層の一部に埋めこむこともできる。特に該粒子含有層
を磁性層の外側に別層として設ける場合に有効で、その
際１つ１つの粒子が体積で５０％以上埋まっていること
が粒子の脱落を防止する上で好ましく６０％以上埋まっ
ていることがさらに好ましい。

【００１３】本発明に使用する粒子の屈折率に特に制限
はないが、粒子を含有する層の屈折率に対して、その差
が０．０８以下、より好ましくは０．０４以下、さらに
好ましくは０．０２以下であることが、ヘイズ等の媒体
の透明性を良化できる点で望ましい。

【００１４】本発明に用いられる無機粒子及び有機高分
子粒子は、分散液中の粒子の分散性改良や凝集沈降の改
良や、耐久性（粒子の脱落防止など）の改良、走行性の
改良などの目的で、公知の表面処理をほどこすことが好
ましい。たとえばドイツ特許２６５３７２３号、特開平
４−２５１４２９号、特開平２−７３５１３号、特開昭
４９−５９６０８号、特開昭５９−１０７４２６号、特
開昭６２−２０２３２７号、特公平６−１８０７４６
号、特開昭６１−７７１３６号、米国特許４５８４２４
３号、特開平７−７３４４２号、特公平５−８５９２号
に記載のごときシランカップリング剤、チタンカップリ
ング剤、アルミカップリング剤、特開平１−１６２２２
３号、特開平６−８０４０６号等に記載のごときポリマ
ーによる被覆、特公平６−７３１７６号などに記載のご
とき固体酸による被覆等があげられる。また、本発明に
用いられる、無機粒子及び有機高分子粒子は、後述する
磁性体と同様な分散方法（分散機など）を選択すること
ができる。

【００１５】前記粒子を使用することにより、使用して
いない場合と比べ、透明性は若干低下するが、本発明の
磁気記録媒体を写真フイルム上に設けることを想定する
と、磁気記録層側全層のヘイズ度は９％未満にすること
が写真性能上必要で、さらには８％未満にすることが好
ましい。透明磁気記録層とは実質的に写真画質に影響を
与えない程度の透明性を有した磁気記録層を指し、ブル
ーフィルター透過濃度で０〜０．２、好ましくは０〜
０．１５、より好ましくは０〜０．１０のものである。

【００１６】本発明で用いられる透明磁気記録層に含有
される磁性粒子は、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃などの強磁性酸化鉄
（ＦｅＯｘ、４／３＜ｘ≦３／２）、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ
₂Ｏ₃などのＣｏ被着強磁性酸化鉄（ＦｅＯｘ、４／３
＜ｘ≦３／２）、Ｃｏ被着マグネタイト、その他Ｃｏ含
有の強磁性酸化鉄、Ｃｏ含有マグネタイト、強磁性二酸
化クロム、強磁性金属、強磁性合金、さらにその他のフ
ェライト、例えば六方晶系のＢａフェライト、Ｓｒフェ
ライト、Ｐｂフェライト、Ｃａフェライトあるいはこれ
らの固溶体またはイオン置換体などを使用できる。

【００１７】強磁性体の形状としては針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換持性上好ましい。粒子サイズは、針状の場合は粒子サ
イズ（長軸長）が０．０１〜０．５μｍ、長軸と短軸の
比は５０：１〜２：１が好ましく、更に長軸は０．０３
〜０．３５μｍ、長軸と短軸の比は２０：１〜３：１が
特に好ましい。粒子の比表面積はＳ_BETで３０ｍ²／ｇ
以上が好ましく、４０ｍ²／ｇ以上が特に好ましい。磁
性体の粒子サイズ分布はできるだけシャープな方が磁気
性能、ヘイズ上から好ましい。強磁性体の飽和磁化（σ
ｓ）は５０ｅｍｕ／ｇ以上、さらに好ましくは７０ｅｍ
ｕ／ｇ以上である。また、強磁性体の角型比（σｒ／σ
ｓ）は４０％以上、さらには４５％以上が好ましい。保
磁力（Ｈｃ）は２００Ｏｅ以上３０００Ｏｅ以下、
好ましくは５００Ｏｅ以上２０００Ｏｅ以下であ
る。磁性粒子の磁気記録層の含有量は磁気読み取り性能
と透明性のバランスから１０〜１００ｍｇ／ｍ²が好ま
しい。

【００１８】これらの強磁性体粒子を、例えば特開昭５
９−２３５０５や特開平４−０９６０５２記載のものな
どのような、シリカおよび／またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平４−１９５７２６、同４一１
９２１１６、同４−２５９９１１、同５−０８１６５２
記載のような無機および／または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。カップリング剤としては例え
ば、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３
−イソシアニルプロピルメチルジメトキシシラン、３
−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メトキシ（ポリ（重合度
６）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシ
ラン、デシルトリメトキシシランなどが用いられる。こ
れらのシランカップリング剤及びチタンカップリング剤
の磁気粒子に対する添加量は１．０〜２００重量％であ
る。好ましくは１〜７５重量％であり、より好ましくは
２〜５０重量％である。又、これらのシランカップリン
グ剤及びチタンカップリング剤は磁気粒子への直接処理
方法やインテグラルブレンド法によって処理され、直接
法には乾式法、スラリー法、スプレー法がある。乾式法
では例えば、磁気粒子と少量の水、または有機溶剤、ま
たは水を含有する有機溶剤およびカップリング剤を混合
しオープンニーダーで攪拌して水、有機溶剤を除去した
後、更に微細分散するのが好ましい。

【００１９】上記磁性体を後述するバインダー中に分散
する方法は、ニーダー、ピン型ミル、アニュラー型ミル
などが好ましく、ニーダーとピン型ミル、もしくはニー
ダーとアニュラー型ミルの併用も好ましい。ニーダーと
しては、開放型（オープン）、密閉型、連続型などがあ
り、その他３本ロールミル、ラボプラストミル等の混練
機も用いられる。またマイクロフルイダイザーによる分
散も好ましい。

【００２０】磁気記録層としての保磁力は、好ましくは
８００Ｏｅ以上１５００Ｏｅ以下であり、支持体の
全面またはストライプ状に設けることができる。磁性体
を配同させるには永久磁石やソレノイドコイルを用いる
方法がある。永久磁石の強度は２０００Ｏｅ以上が好
ましい。ソレノイドの場合は５００Ｏｅ以上でもよ
い。また、乾燥時の配向のタイミングは磁気記録層内の
残留溶剤が５％〜７０％の地点が望ましい。

【００２１】磁気記録層には潤滑性向上、カール調節、
帯電防止、接着防止、ヘッド研磨、ゴミ付着防止などの
機能を合せ持たせてもよい。これらの機能は磁性層中に
各種の添加剤、粉体を添加することや磁性層側の面に別
層として機能層を設ける事によっても達成される。特に
帯電防止層を磁性層の下側に隣接する層、潤滑層を最外
層に設けることが好ましい。

【００２２】本発明に用いられる磁気記録層等のバイン
ダーは熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、
アルカリもしくは生分解性ポリマー、天然物重合体（セ
ルロース誘導体、糖誘導体など）およびこれらの混合物
を使用することができる。好ましい上記樹脂のＴｇは−
４０℃〜３００℃、重量平均分子量は０．２万〜１００
万、より好ましくは０．５万〜３０万である。

【００２３】上記熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニル
アルコール、マレイン酸および／またはアクリル酸との
共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル・アクリロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体などのビニル系共重合体、ニトロセルロー
ス、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセ
チルジブチルアセテート、トリプロピオニルアセテー
ト、ジドデシルアセテートなどのセルロース誘導体、ア
クリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテルポリウレタン、ポリカーボネート、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ブタジ
エンアクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン
系樹脂、フッ素系樹脂を挙げることができる。

【００２４】熱硬化性樹脂または反応型樹脂はたとえ
ば、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、
硬化型ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量
グリコール／高分子量ジオール／ポリイソシアネートの
混合物、ポリアミン樹脂、およびこれらの混合物が挙げ
られる。

【００２５】また、磁気記録層を構成するバインダーの
中で置換度１．７〜２．９のセルロースエステルが、好
ましく用いられる。特に好ましいのはセルロースジアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネートである。

【００２６】以上列挙のバインダー中に、極性基（エポ
キシ基、ＣＯ₂Ｍ、ＯＨ、ＮＲ₂、ＮＲ₃Ｘ、ＳＯ
₃Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、ＰＯ₃Ｍ₂、ＯＰＯ₃Ｍ₂、ただし
Ｍは水素、アルカリ金属またはアンモニウムであり、一
つの基の中に複数のＭがあるときは互いに異なっていて
もよい、Ｒは水素またはアルキル基である）を導入して
あってもよい。

【００２７】上記バインダーは単独または数種混合で使
用され、エポキシ系、アジリジン系、イソシアネート系
の架橋剤を添加してあっても良い。架橋剤を使用するこ
とにより、層そのもの、あるいは層間の接着を強化でき
る。イソシアネート系架橋剤としてはイソシアネート基
を２個以上有するポリイソシアネート化合物で、たとえ
ばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメ
タンジイソシアネートなどのイソシアネート類、これら
のイソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物
（例えば、トルレンジイソシアナート３ｍｏｌとトリメ
チロールプロパン１ｍｏｌの反応生成物）、及びこれら
のイソシアネート類の縮合により生成したポリイソシア
ネートなどが挙げられる。上記架橋剤の中で特に好まし
いのは下記の一般式（１）で表されるイソシアネート系
架橋剤である。

【００２８】一般式（１）： φ：ベンゼン核

【００２９】一般式（１）においてｎは１〜５０の分布
の範囲が好ましいが、より好ましくは０〜３０、さらに
好ましくは０〜１０である。φはベンゼン環を表す。ｍ
は１〜２の整数である。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はＨ、アルキ
ル基（Ｃ1 以上）、あるいはアリール基（Ｃ6 以上）で
ある。この様な架橋剤の好ましい粘度は５０（ｃＰ／２
５℃）〜１０００（ｃＰ／２５℃）である。またこのよ
うな架橋剤の好ましいＮＣＯ含有率は２０〜４０％であ
る。より好ましくは２５〜３５％である。この様な架橋
剤の市販品としては、日本ポリウレタン（株）製の「ミ
リオネートＭＴ」、「ミリオネートＭＲ−１００」、
「ミリオネートＭＲ−２００」、「ミリオネートＭＲ−
３００」、「ミリオネートＭＲ−４００」、住友バイエ
ルウレタン（株）製の「スミジュール４４Ｖ１０」（以
上、いずれも商品名）等が挙げられる。

【００３０】上記架橋剤の塗布量は、３ｍｇ／ｍ²以上
１０００ｍｇ／ｍ²以下で含まれることが好ましいが、
より好ましくは５ｍｇ／ｍ²以上５００ｍｇ／ｍ²以下
であり、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以上３００ｍ
ｇ／ｍ²以下である。このような架橋剤が充分に架橋を
行うために、５０℃以上、好ましくは７０℃以上で、１
分〜７２時間の加熱乾燥を行うことが好ましい。

【００３１】上記の様な架橋剤を使用する際、３級アミ
ン系、金属塩系、ＤＢＵ（１，８−ジアザ−ビシクロ
〔５，４，０〕ウンデセン−７）系化合物の中から少な
くとも１種類以上を同時に使用することで、層そのも
の、あるいは層とこれに隣接する層との架橋反応速度を
促進させることができ、耐久性向上のための架橋反応時
間を短縮させることができる。３級アミン系では、例え
ば、Ｂｒｕｉｎｓらの”ＰｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅＴ
ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”Ｐ．２５，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎ
ｃｅ（１９６０）に記載されているような、テトラメチ
ルブタンジアミンや１，４−ジアザビシクロ〔２，２，
２〕オクタンやトリエチルアミンなどが挙げられる。ま
た金属塩系では、例えば、ジブチルすずジラウレート、
オクトエ酸すず、ナフテン酸コバルト、塩化第１すず、
テトラ−ｎ−ブチルすず、塩化第２すず、トリメチルす
ずヒドロキシド、ジメチル２塩化すずなどが挙げられ
る。このような化合物は、例えば、磁気記録層塗布液中
に上記架橋剤とともに添加した後、塗布するか、または
／さらに磁気記録層の下層または／さらに上層の塗布液
中に添加しておいて、磁気記録層への該化合物の拡散を
利用しても良い。

【００３２】本発明で使用されるフイルム支持体として
はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリアミド、ポ
リカーボネート及びポリエステル等があり、ポリエステ
ルが好ましい。これらのポリエステルの好ましい平均分
子量の範囲は約５０００ないし２０００００である。本
発明で用いられるポリエステルはそのＴｇが７０℃以上
２００℃以下であり、９０℃以上１８０℃以下が好まし
い。具体的には下記のような化合物例を示すことができ
る。

【００３３】化合物例Ｐ−１：〔テレフタル酸（ＴＰＡ）／エチレングリコール（ＥＧ））（１００／１００）〕（ＰＥＴ）Ｔｇ＝８０℃ Ｐ−２：〔２，６−ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＣＡ）／エチレングリコール（ＥＧ）（１００／１００）〕（ＰＥＮ）Ｔｇ＝１１９℃ Ｐ−３：２，６−ＮＤＣＡ／ＴＰＡ／ＥＧ（５０／５０／１００）Ｔｇ＝９２℃ Ｐ−４：ＰＥＮ／ＰＥＴ（６０／４０）Ｔｇ＝９５℃ Ｐ−５：ＰＥＮ／ＰＥＴ（８０／２０）Ｔｇ＝１０４℃

【００３４】ポリエステルの中で好ましいのは２，６−
ナフタレンジカルボン酸を含むポリエステルであり、全
ジカルボン酸中に２，６−ナフタレンジカルボン酸を１
０モル％以上含むポリエステルである。中でも特に好ま
しいのはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキ
シレートである。また、支持体の厚みは８０〜１１５μ
ｍが好ましく、特に好ましくは８５〜１０５μｍであ
る。更にポリエステル支持体は感光層を塗布する前に４
０℃以上ガラス転移温度以下の温度で、０．１〜１５０
０時間熱処理を施すと、ロール状の感光材料としたと
き、巻きぐせをつきにくくすることができる。

【００３５】支持体はベース色味のニュートラル化、ラ
イトパイピング防止、ハレーション防止などの目的のた
めに染料を含有してもよい。これら支持体上に写真層
（例えば、感光性ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フィル
ター層、磁気記録層、導電性層）を強固に接着させるた
めに、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理
などの表面活性化処理をした後、直接写真乳剤を塗布し
て接着力を得ても良いし、一旦これらの表面処理をした
後、あるいは表面処理無しで下塗り層を設け、この上に
写真乳剤層を塗布しても良い。

【００３６】また、本発明の透明な磁気記録媒体には、
そのほか、染料、界面活性剤等を含有する事が出来る。
さらに、本発明の透明磁気記録媒体の透明磁気記録層側
の少なくともいずれか１層にシリコーン系化合物やフッ
素系化合物（含フッ素化合物）を組み込むことができ
る。例えば、住友３Ｍ（株）製のＦＣ−４３１等が挙げ
られる。本発明の透明磁気記録媒体に用いられる滑り剤
としては、例えば、高級脂肪酸エステル（炭素数１０〜
２４の脂肪酸と炭素数１０〜６０のアルコールのエステ
ル）が好ましい。滑り剤の使用量は０．００１〜０．１
ｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは０．００５〜０．
０５ｇ／ｍ²である。

【００３７】特に本発明で好ましい磁気記録媒体とし
て、ハロゲン化銀感光層を含むカラーリバーサルフイル
ムとカラーネガフイルムをあげることができる。特に一
般用カラーネガフイルムが好ましい。ハロゲン化銀乳剤
は、通常、物理熟成、化学熟成および分光増感を行った
ものを使用する。本発明の効果は、金化合物と含イオウ
化合物で増感した乳剤を使用したときに特に顕著に認め
られる。このような工程で使用される添加剤はリサーチ
・ディスクロージャーＮｏ．１７６４３および同Ｎｏ．
１８７１６に記載されており、その該当箇所を後に挙げ
た。

【００３８】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記の２つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。添加剤種類ＲＤ１７６４３ＲＤ１８７１６１化学増感剤２３頁６４８頁右欄２感度上昇剤同上３分光増感剤、２３〜２４頁６４８頁右欄〜強色増感剤６４９頁右欄４増白剤２４頁５かぶり防止剤２４〜２５頁６４９頁右欄〜および安定剤６光吸収剤、６４９頁右欄〜フィルター染料、２５〜２６頁６５０頁左欄紫外線吸収剤７ステイン防止剤２５頁右欄６５０頁左〜右欄８色素画像安定剤２５頁９硬膜剤２６頁６５１頁左欄１０バインダー２６頁同上１１可塑剤、潤滑剤２７頁６５０頁左欄１２塗布助剤、２６〜２７頁６５０頁右欄表面活性剤

【００３９】本発明はＡＰＳ（ＡｄｖａｎｃｅｄＰｈ
ｏｔｏＳｙｓｔｅｍ）カラー写真に利用されるが、フ
イルムのロール幅が２４ｍｍとなるのでパトローネケー
スに使用されるプラスチックの総重量は５ｇ以上１５ｇ
以下となり、パトローネを小型化できる。

【００４０】

【実施例】以下に実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００４１】１）第１層及び下塗り層厚さ９０μm のポリエチレンナフタレート支持体につい
て、その各々の両面に、処理雰囲気圧力０．２Ｔｏｒ
ｒ、雰囲気気体中のＨ₂Ｏ分圧７５％、放電周波数３０
ｋＨｚ、出力２５００Ｗ、処理強度０．５ｋＶ・Ａ・分
／ｍ²でグロー放電処理を施した。この支持体上に、第
１層として下記組成の塗布液を特公昭５８−４５８９号
公報のバー塗布法を用いて、５ｃｃ／ｍ²の塗布量で塗
布した。導電性微粒子分散液（ＳｎＯ₂／Ｓｂ₂Ｏ₅粒子濃度５０重量部１０％の水分散液．１次粒子径０．００５μm の２次凝集体でその平均粒径が０．０５μm ）ゼラチン０．５重量部水４９重量部ポリグリセロールポリグリシジルエーテル０．１６重量部ポリ（重合度２０）オキシエチレン０．１重量部ソルビタンモノラウレート

【００４２】さらに、第１層を塗設後、直径２０ｃｍの
ステンレス巻芯に巻付けて、１１０℃（ＰＥＮ支持体の
Ｔｇ：１１９℃）で４８時間加熱処理し熱履歴させてア
ニール処理をした後、支持体をはさみ第１層側と反対側
に乳剤用の下塗り層として下記組成の塗布液をバー塗布
法を用いて、１０ｃｃ／ｍ²の塗布量で塗布した。ゼラチン１．０１重量部サリチル酸０．３０重量部レゾルシン０．４０重量部ポリ（重合度１０）オキシエチレンノニルフェニルエーテル０．１１重量部水３．５３重量部メタノール８４．５７重量部ｎ−プロパノール１０．０８重量部さらに、後述する第２、第４層を、第１層の上に順に塗
設し、最後に、特開平７−２８７３４５号公報の実施例
１に記載された、カラーネガ感光材料を反対側に重層塗
布することで、ハロゲン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒
体を作製した。

【００４３】２）第２層（透明磁気記録層）磁性体の分散Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂Ｏ₃磁性体（平均長軸長：０．２５
μｍ、Ｓ_BET：３９ｍ²／ｇ、Ｈｃ：８３１Ｏｅ、σ
s ：７７．１ｅｍｕ／ｇ、σr ：３７．４ｅｍｕ／ｇ）
１１００重量部、水２２０重量部及びシランカップリン
グ剤〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキ
シプロピルトリメトキシシラン〕１６５重量部を添加
して、オープンニーダーで３時間良く混練した。この粗
分散した粘性のある液を７０℃で１昼夜乾燥し水を除去
した後、１１０℃で１時間加熱処理し、表面処理をした
磁気粒子を作製した。

【００４４】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて４時間混練した。上記表面処理済み磁気粒子８５５ｇジアセチルセルロース２５．３ｇメチルエチルケトン１３６．３ｇシクロヘキサノン１３６．３ｇ

【００４５】さらに、以下の処方で、サンドミル（１／
４Ｇのサンドミル）にて２０００ｒｐｍ、４時間微細分
散した。メディアは１ｍｍΦのガラスビーズを用いた。上記混練液４５ｇジアセチルセルロース２３．７ｇメチルエチルケトン１２７．７ｇシクロヘキサノン１２７．７ｇ

【００４６】さらに、以下の処方で、第４層塗布液を作
製した。磁性体含有中間液の作製上記磁性体微細分散液５０．８ｇジアセチルセルロース溶液１９１４．７ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）これらをディスパ−にて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。

【００４７】粒子分散液の作製 (1) トスパール１０５粒子分散液の作製（大粒子）以下の処方にてトスパール１０５粒子（ポリシロキサン
球状粒子、平均１次粒子径０．５μm ）の分散液を作製
した。トスパール１０５１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて
１時間分散した。

【００４８】(2）トスパールＸＣ９９−Ａ８８０８分散
液の作製（大粒子）以下の処方にてトスパールＸＣ９９−Ａ８８０８（ポリ
シロキサン球状粒子、平均１次粒子径０．９μm ）の分
散液を作製した。トスパールＸＣ−９９１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて
１時間分散した。

【００４９】(3）ＭＸ−１００粒子分散液の作製（大粒
子）以下の処方にてＭＸ−１００粒子（架橋ＰＭＭＡ球状粒
子、平均１次粒子径１．０μm ）の分散液を作製した。ＭＸ−１００１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲ

【００５０】(5）ＡＫＰ５０（αアルミナ粒子）粒子分
散液の作製以下の処方にて、サンドミル（ベッセル内及び回転ディ
スクがセラミックコートされた１／４Ｇのサンドミル）
にて２０００ｒｐｍ、６時間微細分散した。メディアは
１ｍｍΦのジルコニアビーズを用いた。ＡＫＰ５０３７ｇ（α−アルミナ、平均１次粒子径０．２μｍ）シランカップリング剤２．１ｇ〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕ジアセチルセルロース溶液３２４．６ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）ＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて１時間分散した。

【００５１】(4）ＡＫＰ２０粒子分散液の作製（αアル
ミナ粒子）以下の処方にてＡＫＰ２０粒子分散液を作製した。ＡＫＰ２０（平均１次粒子径０．６μm ）１０ｇシランカップリング剤〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕２ｇジアセチルセルロース溶液１８８ｇ（固形分３％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「ＳＯＮＩ
ＦＩＥＲ４５０（ＢＲＡＮＳＯＮ（株) 製）」を用いて
３時間分散した。

【００５２】(5）ＡＫＰ５０（αアルミナ粒子）粒子分
散液の作製以下の処方にて、サンドミル（ベッセル内及び回転ディ
スクがセラミックコートされた１／４Ｇのサンドミル）
にて２０００ｒｐｍ、６時間微細分散した。メディアは
１ｍｍΦのジルコニアビーズを用いた。ＡＫＰ５０３７ｇ（α−アルミナ、平均１次粒子径０．２μｍ）シランカップリング剤２．１ｇ〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕ジアセチルセルロース溶液３２４．６ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）

【００５３】(6）コロイダルシリカ粒子分散液（微粒
子）日産化学（株）製の「ＭＥＫ−シリカゾル」を使用し
た。これは、メチルエチルケトンを分散媒とした、平均
１次粒子径０．０１５μｍのコロイダルシリカの分散液
であり、固形分は３０％である。

【００５４】第２層塗布液の作製（本発明試料）以下の処方で、第２層（磁性層）塗布液
を作製した。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）架橋剤〔１〕：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株) 製）メチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２９．３ｃｃ／
ｍ²になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。
乾燥後の層厚は１．０μｍだった。次いで、以下の処方
で第３層塗布液を作製した。＜第３層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液５２ｇ（固形分４．５％、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１）メチルエチルケトン１１６６ｇシクロヘキサノン１１６６ｇ樹脂粒子分散液ｘｇ研磨剤分散液ｙｇコロイダルシリカ分散液ｚｇｘ、ｙ、ｚは第１表に示す添加量になるように調製す
る。この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４ｃ
ｃ／ｍ²になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行っ
た。この時、トスパール１０５は２０ｍｇ／ｍ²で塗布
された。また、塗布品の断面をＳＥＭで観察したとこ
ろ、塗布・乾燥中に第３層が第２層と混合し、第３層の
厚みは約０．３μｍ、第２層の厚みは約０．７μｍだっ
た。

【００５５】３）第４層滑り剤の分散原液の作成下記のａ液を９０℃加温溶解し、ｂ液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り剤の分散原液を作成した。ａ液下記化合物Ａ０．７５重量部Ｃ₆Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＣ₅₀Ｈ₁₀₁ 下記化合物Ｂ０．７５重量部ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆Ｈキシレン２．１１重量部プロピレングリコール− ０．０８重量部モノメチルエーテルｂ液シクロヘキサノン９６．３重量部

【００５６】第４層塗布液の作製上記滑り分散原液４８２ｇに下記の溶剤を加え塗布液と
した。イソプロピルアルコール３２４３ｇメタノール１１５ｇシクロヘキサノン１４４ｇ下記化合物Ｃ０．７３ｇＣ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₃Ｈ₇）（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₄− （ＣＨ₂）₄ＳＯ₃Ｎａポリエステル変性シリコーン溶液２．８８ｇ（ＢＹＫケミジャパン（株) 製、商品名ＢＹＫ３１０、固形分含量２５％）

【００５７】上記第４層塗布液を第２層の上に１０．４
ｃｃ／ｍ²の塗布量で塗布し、９０℃で乾燥した。乾燥
後の潤滑剤（化合物Ａ）は約７．５ｍｇ／ｍ²だった。

【００５８】さらに、表１及に示すような、本発明試料
Ｂ〜Ｅ及び比較例試料ア〜エを作製した。

【００５９】（比較例試料ア）第２層塗布液の処方を以
下に代えて、厚み約１．２μｍに塗布した以外は、本発
明試料と全く同様に作成した。ジアセチルセルロース（バインダー）１５００ｇトリアセチルセルロース（バインダー）１２９ｇ Toda CSF-4085V2 （磁性粒子）１２９ｇ Sumitomo AKP-50 （アルミナ、０．２５μｍ）３５ｇ Degussa 酸化アルミニウムＣ（０．０４μｍ）１３５ｇ Gafac PE510 （界面活性剤）６ｇ Gafac PE610 （界面活性剤）３ｇ Solsperse 24000 （分散剤）３７５ｇフタル酸ジブチル（摩砕溶剤）２６７ｇ 3M FC-431 （塗布助剤）１３６ｇ Mobay Mondur CB 75 （架橋剤）１５ｇ錫オクチエート（架橋触媒）２７０ｇ塩化メチレン（溶剤）６６４２８ｇアセトン（溶剤）２３７２４ｇアセト酢酸メチル（溶剤）５６５５ｇ

【００６０】試料の評価について記す。

【００６１】ａ）光学接触率の測定東洋精機製作所（株）製のマイクロトポグラフを用いて
測定した。測定は２５℃６０％、荷重１６ｋｇｆ／ｃｍ
²、測定波長０．５μｍで行った。この測定では、光学
的に、試料表面が平滑であった場合に１００％と計測さ
れ、試料表面が平滑でなくなるに従い、その値は低下す
る。

【００６２】ｂ）ヘイズの測定日本電色工業（株) 製のヘイズ計「ＶＧＳ−１００１Ｄ
Ｐ」を用いて、ハロゲン化銀乳剤層を塗設する前の段階
の試料について下塗層を脱膜後ヘイズ度を測定した。こ
の時、光は透明磁気記録層側から入射するように測定し
た。透明磁気記録媒体のヘイズ度が９％未満の試料を
○、９％以上の試料を×（Ｎ．Ｇ．）と判定した。尚、
ヘイズ度は以下のように定義される。Ｔ＝Ｄ＋ＰＴＰＴ：平行透過率Ｈ＝（Ｄ／Ｔ）×１００（％）Ｔ：全透過率Ｄ：拡散Ｈ：ヘイズ度（濁度）

【００６３】ｃ）塗設層中に分散された粒子の粒径測定作製した試料の塗設層中に分散された、無機、有機高分
子粒子の粒度（平均２次粒子径）を求めるために、以下
の手順で行った。低温灰化装置（プラズマリアクターＰＲ−５０３ヤ
マト科学（株) 製）を用いて、粒子を覆っているバイン
ダーを除去する。粒子の表面を覆っていたバインダーを除去した後の試
料表面を、走査型電子顕微鏡「ＥＳＭ−３２００」に
て、５０００倍〜１００００倍で、必要枚数写真に写
す。写真に写っている分散粒子一個一個についてデジタイ
ザーを用いて円相当径を求め、計５００個の平均円相当
径を求めた。上記平均円相当径を「塗設層中に分散された粒子の粒
径」とした。

【００６４】ｄ）磁気入出力性能の評価作成した広幅フイルムを２４ｍｍ幅にスリットし、カー
トリッジに組み込み加工し、ＡＰＳカメラ用４０枚取り
フイルムを得た。このフイルムを富士写真光機（株）製
ＡＰＳカメラ「ＥＰＩＯＮ３００」にて露光し、磁気記
録層に撮影条件を磁気記録した。この後、富士写真フイ
ルムのＣＮ−１６Ｘケミカル処方において電導度２００
０μS ｃｍ^-1のＮ４液を使用して現像処理を行った。現
像機は富士写真フイルム（株) 製のシネ式自動現像機Ｆ
ＮＣＰ−９００を用いた。この処理条件は通常よりも処
理液濃度を高くしてフイルム表面への処理液付着量を多
くした条件である。現像処理後の試料を富士写真フイル
ム（株）製アタッチャ「ＡＴ−１００」を使用してカー
トリッジに巻き込んだ。次いで、富士写真フイルム
（株）製ネガキャリア「ＮＣ２４０Ｓ」を使用して常温
・常湿にてフイルムを５０本連続して読み取り、磁気性
能を評価した。上記評価条件は透明磁気記録層表面に残
存する現像処理液の乾固物を主成分とする汚れが、試料
走行時に磁気ヘッド表面に転写・蓄積し、スペースロス
損失により信号出力が小さくなり磁気読みとりエラーが
発生することから採用した。再生出力が、磁気ヘッドに
汚れの無い場合の理想的な再生出力に対し、３５％減少
したときに出力低下（磁気エラー）とした。出力低下５０本まで発生なし：○ 出力低下４０本で発生：○△ 出力低下３０本で発生：△ 出力低下２０本で発生：× 出力低下１０本以下で発生：×× ｅ）５０本走行後のヘッドの汚れを観察した。ほとんど無し：○ ややあり：○△ あり：△ 多い：× 非常に多い：×× と判定した。

【００６５】ｆ）ヘッドクリーニング性パーマロイ製ヘッドを使用し、バック圧１５０ｇで４０
ｍのフイルムを走行したときの磨耗性を調べた。０．２μｍ以下：× ０．２μｍを越え０．５μｍ未満：△ ０．５μｍ以上：○

【００６６】ｇ）耐久性富士写真フイルム製フォトプレイヤーＡＰ−１にて５０
往復走行させて磁性層面の傷の有無を見た。傷ほとんど無し：○ 傷ややあり：△ 傷あり：×

【００６７】

【表１】

【００６８】表１及よりわかる様に、本発明試料におけ
る、磁気入出力性能の改良効果は顕著であり、確実な磁
気入出力性能と透明性を兼ね備えた優れた透明磁気記録
媒体を提供することができる。

【００６９】（その他−本発明試料−その１）前述した
本発明試料すべてにおいて、第４層に含有される上記化
合物Ａを固形分で、２倍になるように塗設した以外は、
それぞれ全く同様に作製したところ、全く同じ改良効果
（結果）が得られた。これにより、滑り性がさらに向上
し、透明性と磁気入出力性能が両立する、優れたハロゲ
ン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒体を得ることができ
た。

【００７０】（その他−本発明試料−その２）前述した
本発明試料すべてにおいて、それぞれ、第２層の磁性体
塗布量を０．６倍にし、乳剤層を反転カラー乳剤層であ
る特開平２−８５４実施例１の試料１０１と同様にし
て、さらに現像処理を特開平２−８５４実施例１に示さ
れるようなカラーリバーサル感材用の現像処理法により
実施する以外は、前述本発明試料とそれぞれ同様に行っ
たところ、全く同じ改良効果（結果）が得られ、透明性
と磁気入出力性能が両立した、優れたハロゲン化銀乳剤
層付き透明磁気記録媒体が得られた。

【００７１】

【発明の効果】本発明により、確実な磁気入出力性能と
透明性を兼ね備えた、優れた透明磁気記録媒体を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】発明試料Ａの断面を６万倍に拡大して形態観察
したＳＥＭ写真である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に少なくとも１層の磁性粒子を
含む磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該磁気
記録層の上に平均粒子サイズ０．５μｍ〜１．０μｍの
球状樹脂粒子を５ｍｇ／ｍ²〜３０ｍｇ／ｍ²含み、且
つモース硬度６以上、平均粒子サイズ０．２μｍ〜１．
０μｍの研磨材粒子を０．５ｍｇ／ｍ²〜１０ｍｇ／ｍ
²含み、且つ平均粒子サイズ０．０１μｍ〜０．１μｍ
の非磁性無機粒子を５ｍｇ／ｍ²〜５０ｍｇ／ｍ²含
み、且つ厚みが約０．１μｍ〜０．３μｍの層を有する
ことを特徴とする透明磁気記録媒体。
【請求項２】該球状で平均粒子サイズ０．５μｍ〜
１．２μｍの樹脂粒子が架橋シロキサン樹脂、または架
橋ＰＭＭＡ樹脂であることを特徴とする請求項１に記載
の磁気記録体。
【請求項３】該モース硬度６以上、平均粒子サイズ
０．２μｍ〜１．０μｍの研磨材粒子がαアルミナであ
ることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録体。
【請求項４】概平均粒子サイズ０．０１μｍ〜０．１
μｍの非磁性無機粒子がシリカ粒子であることを特徴と
する請求項１に記載の磁気記録体。
【請求項５】該透明磁気記録媒体の２５℃６０％Ｒ
Ｈ、荷重１６ｋｇｆ／ｃｍ²下、波長０．５μｍでの光
学接触率が７０％以下であることを特徴とする請求項１
に記載の透明磁気記録媒体。
【請求項６】該磁気記録層に平均粒子サイズ０．０１
μｍ〜０．１μｍの非磁性無機粒子を５０ｍｇ／ｍ²〜
３００ｍｇ／ｍ²含むことを特徴とする請求項１に記載
の透明磁気記録媒体。
【請求項７】該磁気記録層に含まれる平均粒子サイズ
０．０１μｍ〜０．１μｍの非磁性無機粒子がシリカ粒
子であることを特徴とする請求項７に記載の透明磁気記
録媒体。
【請求項８】該磁気記録層にモース硬度６以上、平均
粒子サイズ０．２μｍ〜１．０μｍの研磨材粒子を５ｍ
ｇ／ｍ²〜５０ｍｇ／ｍ²含むことを特徴とする請求項
１に記載の透明磁気記録媒体。
【請求項９】該透明磁気記媒体の磁性層に含まれる平
均粒子サイズ０．２μｍ〜１．０μｍの研磨材粒子がα
アルミナであることを特徴とする請求項９に記載の透明
磁気記録媒体。
【請求項１０】該磁性粒子の平均サイズが０．０３μ
m 以上０．３５μm以下であり、且つ該磁気記録層側全
層のヘイズ度が９％未満であることを特徴とする請求項
１に記載の透明磁気記録媒体。
【請求項１１】該透明磁気記録層の反対面側の支持体
上に少なくとも１層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。