JPH1163959A - 表面検査装置 - Google Patents

表面検査装置

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JPH1163959A
JPH1163959A JP9228532A JP22853297A JPH1163959A JP H1163959 A JPH1163959 A JP H1163959A JP 9228532 A JP9228532 A JP 9228532A JP 22853297 A JP22853297 A JP 22853297A JP H1163959 A JPH1163959 A JP H1163959A
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Kiyoshi Yoshida
田 清 吉
Noritaka Usui
井 徳 貴 臼
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Nissan Motor Co Ltd
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    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 自動車の塗装面における比較的高角度な凹凸
欠陥、緩い角度の凹凸欠陥、塗料色ブツ、キズ等をも検
出して、これら欠陥の発生源を特定できるようにする。 【解決手段】 門型形状に配置された光源を含みかつ被
検査面上に所定の明暗パターンを形成する照射手段1
と、門型形状に配置固定されかつボディ表面からの反射
光に基づいて複数の受光画像を形成するCCDカメラ3
と、CCDカメラ3により得られる受光画面に基いてボ
ディ表面上の欠陥を検出しその検出情報を出力する検査
処理手段4と、欠陥情報を収集する欠陥情報収集手段6
と、欠陥の種類を判定する欠陥種判定手段7と、自動車
の種類及びボディ面の塗料情報を入力する情報入力手段
8と、欠陥の種類及び欠陥数を統計処理する欠陥統計処
理手段9と、統計処理情報及び経験的な欠陥の特定情報
に基づいて欠陥の発生源を推定する発生源推定手段10
とを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術】本発明は、被検査物体の表面、例
えば、自動車ボディの塗装面における凹凸等のような表
面欠陥を検査し、又、表面欠陥の種別を行う表面検査装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の表面検査装置としては、例えば、
特開平5−322543号公報等に示されたものがあ
る。
【0003】同公報に開示の表面検査装置は、被検査面
に明暗勾配を有する明暗光を照射し、その反射光をCC
Dカメラで捕え、その受光画像中の明暗変化に基づいて
欠陥を検出すると共に、受光画像の明暗勾配の方向と欠
陥部の明暗勾配の画像に基づいて凹凸等の欠陥の種類の
判定を行うものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、自動車等の
自動塗装ラインでは、安定的な塗装品質の確保のため塗
装欠陥の検出とその欠陥種の識別及び欠陥数等の統計処
理を検査員が定期的に工数と時間をかけて実施してい
る。この場合、塗装機の不良や塗料の不良を特定するま
でに非常に時間がかかるため、現状において早期の欠陥
発生源対策を行うのは困難である。
【0005】現状の自動塗装ラインで発生する塗装欠陥
の種類は、ゴミブツ、ハジキ等の一般的な凹凸欠陥の他
に、塗料色交換時の前塗料の混入等により発生する塗料
色ブツ、塗装作業等で発生する擦り傷等があるが、上記
のごとき従来の表面検査装置においては、欠陥種の識別
がゴミブツ、ハジキ等の一般的な凹凸欠陥しかできない
ため、これら全ての欠陥の種類を欠陥の検出精度を低下
させることなく正確に判別することは非常に難しいとい
う問題があった。
【0006】本発明は、上記の如き課題に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、ゴミブツ、ハ
ジキ欠陥等の一般的な凹凸欠陥だけでなく、塗料色ブツ
およびキズ等の欠陥も同時に精度良く識別することがで
き、かつ上記の全ての欠陥を精度を低下させることなく
検出することができ、これにより、不具合発生時に迅速
で正確な欠陥発生源対策を指示することができる表面検
査装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
表面検査装置は、被検査物体の被検査面に光を照射し、
被検査面からの反射光に基づいて受光画像を形成し、前
記受光画像に基づいて被検査面上に存在する欠陥を検出
する表面検査装置であって、被検査物体を囲むような門
型形状に配置された光源を含みかつ被検査面上に所定の
明暗パターンを形成する照射手段と、被検査物体を囲む
ような門型形状に配置固定されかつ被検査面からの反射
光に基づいて複数の受光画像を形成する撮像手段と、前
記撮像手段により得られる受光画像に基づいて被検査面
上の欠陥を検出しその検出情報を出力する検査処理手段
と、前記検査処理手段により得られる欠陥情報を収集す
る欠陥情報収集手段と、前記欠陥情報収集手段により収
集された欠陥の種類を判定する欠陥種判定手段と、被検
査物体の種類及び被検査面の塗料情報を入力する情報入
力手段と、前記欠陥種判定手段により判定された欠陥種
情報及び前記情報入力手段により入力された入力情報に
基づき少なくとも欠陥の種類及び欠陥数を統計処理する
欠陥統計処理手段と、前記欠陥統計処理手段により得ら
れる統計処理情報及び経験的な欠陥の特定情報に基づい
て欠陥の発生源を推定する発生源推定手段と、を有する
構成となっている。
【0008】本発明の請求項2に係る表面検出装置は、
前記欠陥情報収集手段が、前記検査処理手段により得ら
れる欠陥サイズ情報及び検出処理情報を収集する構成と
なっている。
【0009】本発明の請求項3に係る表面検査装置は、
前記欠陥種判定手段が、前記欠陥情報収集手段により収
集された欠陥サイズ情報及び検査処理情報に基づいて欠
陥の種類を判定する構成となっている。
【0010】本発明の請求項4に係る表面検査装置は、
前記欠陥統計処理手段が、前記欠陥種判定手段により判
定された欠陥種情報及び前記情報入力手段に入力された
入力情報に基づき、塗装色の種類及び被検査面の部位毎
に存在する欠陥種ごとの欠陥数を統計処理する構成とな
っている。
【0011】本発明の請求項5に係る表面検出装置は、
前記照明手段の光源からの光を明暗パターンの拡散光に
よる面照明として被検査面に照射させるような所定の明
暗パターンを有する光拡散シートが前記光源と被検査物
体との間に設けられており、前記光拡散シートに形成さ
れる明暗パターンが、幅狭の明暗ストライプパターンと
幅広の明暗ストライプパターンを有する複合型明暗スト
ライプパターンである構成となっている。
【0012】本発明の請求項6に係る表面検出装置は、
前記照明手段の光源からの光を明暗パターンの拡散光に
よる面照明として被検査面に照射させるような所定の明
暗パターンを有する複数の光拡散シートが前記光源と被
検査物体との間に設けられ、前記複数の光拡散シートに
は、ピッチ幅の狭い明暗ストライプパターンを有する光
拡散シート及びピッチ幅の広い明暗ストライプパターン
を有する光拡散シートが含まれる構成となっている。
【0013】本発明の請求項7に係る表面検査装置は、
前記照明手段の光源からの光を明暗パターンの拡散光に
よる面照明として被検査面に照射させるような所定の明
暗パターンを有する光拡散シートが前記光源と被検査物
体との間に設けられており、前記光拡散シートに形成さ
れる明暗パターンは、連続的にピッチ幅が変化する連続
変化ピッチ型明暗ストライプパターンである構成となっ
ている。
【0014】本発明の請求項8に係る表面検査装置は、
前記検査処理手段が、撮像手段により得られた受光画像
の画像情報における空間周波数成分のうち所定レベル以
上の高周波数成分のみを抽出する画像処理手段と、前記
画像処理手段により処理されかつ同一の撮像手段により
撮像された時間的に異なる画像情報から被検査物体の移
動量及び移動方向と所定条件下で一致する画像情報を追
跡して検出する追跡処理手段とを有する構成となってい
る。
【0015】本発明の請求項9に係る表面検査装置は、
前記検査処理手段が、撮像手段により得られた受光画像
の像情報における空間周波数成分のうち複数のタイプの
明暗パターンに対応する各々の所定レベル以上の高周波
数成分を同時に抽出する画像処理手段と、前記画像処理
手段により処理されかつ同一の撮像手段により撮像され
た時間的に異なる画像情報から被検査物体の移動量及び
移動方向と所定条件下で一致する画像情報を追跡して検
出する追跡処理手段とを有する構成となっている。
【0016】本発明の請求項10に係る表面検査装置
は、前記画像処理手段が、撮像手段により得られた明暗
パターンを有する画像情報に対してエッジ検出処理を行
いかつ所定輝度レベル以上の成分のみを抽出するべく、
エッジ検出処理した処理画像情報におけるエッジ輝度レ
ベルに関する物理量に基づいて所定の演算を行いしきい
値を算出する第1のしきい値算出手段と、エッジ検出処
理した処理画像情報に発生するノイズに関する物理量に
基づいて所定の演算を行いしきい値を算出する第2のし
きい値算出手段と、前記第1及び第2のしきい値算出手
段により算出された各々のしきい値に基づいて二値化処
理を行う二値化処理手段とを有する構成となっている。
【0017】本発明の請求項11に係る表面検出装置
は、前記二値化処理手段が、撮像手段により得られた複
数のタイプの明暗パターン領域を有する画像情報におい
て、明暗パターンのピッチ幅を算出して所定値と比較
し、前記明暗パターンが複数のタイプの明暗パターンの
いずれの領域に含まれるかを判定する二値化領域判定手
段と、前記二値化領域判定手段により判定された分割領
域に対して前記第1及び第2しきい値算出手段により算
出された各々のしきい値を適用し同時に二値化処理を行
う分割型二値化処理手段とを有する構成となっている。
【0018】本発明の請求項12に係る表面検出装置
は、前記二値化処理手段が、撮像手段により得られた複
数のタイプの明暗パターン及び非検査面領域を有する画
像情報において、明暗パターンのピッチ幅を算出して複
数の所定値と比較し、前記明暗パターンがいずれの領域
に含まれるかを判定する二値化領域判定手段と、前記二
値化領域判定手段により判定された分割領域に対して前
記第1及び第2しきい値算出手段により算出された各々
のしきい値及び非検査面領域用の所定しきい値を適用し
同時に二値化処理を行う分割型二値化処理手段を有する
構成となっている。
【0019】
【発明の効果】本発明の請求項1に係る表面検査装置に
よれば、被検査物体の表面に明暗パターンを照射形成
し、この明暗パターンが映し出された被検査面を撮像し
て、得られる受光画像に基づいて被検査面上の欠陥を自
動的にかつ精度良く検出することができる。特に、ゴミ
ブツ、ハジキ等の一般的な凹凸欠陥だけでなく、塗装色
ブツ、擦りキズ等の欠陥も同時に精度よく識別すること
ができ、これにより、不具合発生時に迅速かつ正確に欠
陥発生源を推定して、所望の対策を講ずることができ
る。
【0020】本発明の請求項2に係る表面検査装置によ
れば、欠陥情報として、欠陥部分の面積、形状等の欠陥
サイズ情報及び検査処理手段による検査処理情報を収集
することから、これら収集された情報を欠陥の種類を判
別するのに利用することができる。
【0021】本発明の請求項3に係る表面検査装置によ
れば、欠陥情報として収集された欠陥サイズ情報及び検
査処理情報に基づいて欠陥の種類を判定することから、
より迅速かつ高精度に欠陥の種類を特定することができ
る。
【0022】本発明の請求項4に係る表面検査装置によ
れば、欠陥数の統計処理結果と生産ライン上での経験的
な不具合情報により欠陥の発生源をより正確に特定し、
塗装ラインよりも上流に対して速やかに指示をフィード
バックすることができる。
【0023】本発明の請求項5に係る表面検査装置によ
れば、被検査物体の被検査面上に明暗パターンを正確に
形成することができ、表面欠陥を容易かつ高精度に検出
することができる。
【0024】本発明の請求項6及び7に係る表面検出装
置によれば、ゴミブツ等の比較的高角度な凹凸欠陥だけ
でなく、緩い角度の凹凸欠陥をも、高精度に検出するこ
とができる。
【0025】本発明の請求項8に係る表面検査装置によ
れば、被検査物体の表面にある欠陥をより迅速にかつよ
り高精度に検出することができる。
【0026】本発明の請求項9に係る表面検出装置によ
れば、被検査物体の表面にある種々のタイプの欠陥をよ
り迅速にかつより高精度に検出することができる。
【0027】本発明の請求項10に係る表面検査装置に
よれば、得られた画像情報において、被検査物体の表面
にある欠陥情報と信号処理において発生するノイズとを
明確に識別して、高精度に欠陥を検出することができ
る。
【0028】本発明の請求項11に係る表面検査処理に
よれば、得られた画像情報を処理して欠陥を検出する際
の検出処理の効率化が達成され、より短時間で欠陥を検
出することができる。
【0029】本発明の請求項12に係る表面検査装置に
よれば、請求項11の効果に加えて、誤検出が防止で
き、より高精度に欠陥を検出することができる。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。
【0031】図1は、本発明に係る表面検査装置の一実
施例を示す正面図であり、自動車の塗装面の欠陥検査を
例にとった場合を示すものである。図1に示すように、
ボディ5の横断面輪郭にほぼ適合するように円弧形状に
形成された照明手段としてのアーチ(門)型照明装置1
は、被検査面上に所定の明暗パターンを映し出すよう構
成されている。また、その明暗パターンは、緩い欠陥
(低角度)を検出するための狭い明暗パターンと、一般
的な凹凸欠陥(高角度な欠陥)を検出するための広い明
暗パターンとを合わせて持つ複合型明暗パターンとして
形成されている。また、照明手段とほぼ同一形状をなし
て併設されたカメラスタンド2には、撮像手段としての
複数のCCDカメラ3が調整固定治具3´を介して固定
されており、明暗パターンが投写された被検査面を撮像
するように、所定の位置に各々配置されている(図1で
は1つのCCDカメラ3を示す。) さらに、これらCCDカメラ3は、これらにより得られ
る受光画像に基づいて被検査面上の欠陥を検出しかつそ
の結果を出力する検査処理手段4に接続されている。こ
の検査処理手段4は、画像処理(強調)部41、追跡処
理部42、ホストコンピュータ43で構成されている。
また、画像処理部41は、図2に示すように、エッジ検
出部13と、エッジを検出処理した画像中のストライプ
パターン境界部のエッジ輝度レベルに関する物理量に基
づいて所定の演算を行い所定のしきい値を算出する第1
のしきい値算出部14、そのしきい値より二値化処理を
行う第1の二値化処理部16、さらに、エッジ検出処理
した画像に発生するノイズ(明暗ストライプパターンの
エッジを除く)に関する物理量に基づいて所定の演算を
行い所定のしきい値を算出する第2のしきい値算出部1
5、そのしきい値より二値化処理を行う第2の二値化処
理部17、輝度レベルの高い明暗ストライプパターンの
幅を算出し、複数の所定値との比較からストライプのピ
ッチ幅が狭い領域か広い領域か又は非検査面領域である
かを判定する二値化領域判定部18等で構成されてい
る。
【0032】また、上記検査処理手段4には、この検査
処理手段4により得られる欠陥検出情報、すなわち、面
積,形状等の欠陥サイズ情報及び二値化処理の種類,追
跡処理回数等の検出処理情報を収集する欠陥情報収集手
段6が接続されている。さらに、上記欠陥情報収集手段
6には、この欠陥情報収集手段6により収集された面
積,形状等の欠陥サイズ情報及び二値化処理種,追跡処
理回数等の検出処理情報から全ての塗装欠陥の種類、す
なわち検出された欠陥がゴミブツ、塗装色ブツ、ハジ
キ、キズ等のいずれの種類かを判定する欠陥種判定手段
7が接続されている。
【0033】また、上記欠陥種判定手段7には、情報入
力手段8により入力された被検査物体の種類すなわち車
種及び被検査面の塗料等の情報と上記欠陥種判定手段7
により判定された欠陥種情報に基づき、塗装色の種類及
び被検査面の部位毎に存在する欠陥種ごとの欠陥数を統
計処理する欠陥統計処理手段9が接続されている。
【0034】さらに、上記欠陥統計処理手段9には、こ
の欠陥数統計処理手段9により得られる統計処理情報及
び塗装ラインでの経験的な欠陥不具合特定情報に基づい
て、欠陥の発生源を特定する発生源推定手段10が接続
されており、この特定結果はプリンター等の表示/指示
手段11により出力される構成となっている。
【0035】上記構成からなる表面検査装置での処理フ
ローは、図3に示すように、先ず、ステップSにおい
て、検査処理手段4によりCCDカメラ3の受光画像に
基づいて被検査面上の欠陥を検出する。続いて、ステッ
プSにおいて、欠陥情報収集手段6により上記検査処
理手段4で得られた欠陥検出情報を収集する。さらに、
ステップSにおいて、収集された欠陥の種類がハジ
キ、塗料ブツ、ゴミブツ、キズ等のいずれの種類である
かを欠陥種判定手段7により判定する。次に、ステップ
において、情報入力手段8を用いて車種及び被検査
面の塗料情報を入力し、この入力情報と判定された欠陥
種情報に基づき、ステップSにおいて、欠陥統計処理
手段9により欠陥の種類ごとの欠陥数さらには塗装色の
種類及び被検査面の部位毎に存在する欠陥種ごとの欠陥
数を統計処理する。続いて、ステップSにおいて、上
記統計処理情報及び塗装ラインでの経験的な欠陥特定情
報に基づき、発生源推定手段10により欠陥の発生源を
特定する。最後に、プリンター等の表示/指示手段11
により上記発生源の特定情報を表示して告知する。
【0036】ここで、上記照明手段1及び照明手段によ
る明暗パターンの形成手法について説明する。
【0037】照明手段1は、光源の光を被検査面に無駄
なくかつ斑なく照射するために、光源の裏側に白色もし
くは光を拡散反射するよう表面処理された背面板を有
し、この背面板に複数の光源がほぼ等間隔に取り付けら
れた構造となっている。
【0038】また、U字管タイプの蛍光灯が、背面板に
ほぼ等間隔に取付られており、この蛍光灯は、1つの背
面板の被検査物体側に例えば2列計4本取り付けられ、
その裏側に蛍光灯を高周波点灯させる電源が取り付けら
れて照明ユニットを形成している。このような照明ユニ
ットをアーチ形状をした支柱(不図示)に隙間無く取り
付けることにより、上記照明手段1が実現できる。
【0039】図4は、光拡散シートとしての明暗パター
ンシート105及びシートガイド106の構成を示す斜
視図であり、この明暗パターンシート105は、光を拡
散する作用を持ち、かつ、被検査物体の横断面輪郭形状
に沿うように容易に変形できるような、例えばシート状
のものに、例えば艶消し黒色のマスキングテープのよう
なもので所定の明暗パターンが施されたものである。光
を拡散する理由は、ボディ5がメタリック塗装されるよ
うな場合に、メタリックの光輝材の影響を抑えるためで
ある。さらに、明暗パターンシート(拡散シート)10
5は、狭い明暗ストライプパターンと広い明暗ストライ
プパターンを合わせて持つ複合型明暗ストライプパター
ンとして形成されている。
【0040】また、拡散シート105がしわの生じ易い
材質でかつこのしわによって陰や照明斑が発生する場合
は、図4に示すように、拡散シート105を下方から支
え、かつ、被検査物体の横断面輪郭形状に張るためのシ
ートガイド106を用いることで、上述しわの発生を抑
えることができる。このシートガイド106は、艶消し
黒色に塗装されており、シートガイドの支柱は、拡散シ
ート105の明暗パターンの暗部内に重なるような間隔
となっている。拡散シート105とシートガイド106
とは,この支柱部分で艶消し黒色のボルト、ナット、ワ
ッシャ等を用いて固定されている(不図示)。
【0041】さらに、シートガイド106には、図4に
示すように、キャスター106´が取り付けられてお
り、拡散シート105を張った状態で移動できる構造と
なっている。
【0042】明暗パターンの他の実施例としては、図5
に示すように、ピッチ幅の狭い明暗ストライプパターン
から順次ピッチ幅の広い明暗ストライプパターンへ連続
的に変化する連続変化ピッチ型の明暗ストライプパター
ンを構成する光拡散シート205を採用することができ
る。
【0043】次に、撮像手段により得られる受光画像に
基づいて被検査面上の欠陥を検出しその結果を出力する
検査処理手段について説明する。図6及び図7は、塗装
面における一般的な凹凸欠陥(比較的高角度)を検出す
るための画像処理手段4における画像処理例及び処理フ
ローの一例を示すものである。
【0044】上記照明手段によって明暗パターンの映し
出された被検査面をCCDカメラ3で撮像すると、図6
(a)のようになる。この原画像において、凹凸状の欠
陥部では光が乱反射するため、図のように明パターン1
41では暗部143となり現れる。同様に欠陥が暗パタ
ーン142にある場合は、明部となり現れる。
【0045】この原画像に対して、微分等のエッジ検出
処理を行い所定のしきい値で二値化すると、図6(b)
に示すように、画像において輝度変化のあった領域つま
り空間周波数の高い領域144が白、それ以外の部分1
46が黒となった二値画像が得られる。
【0046】次に、この二値画像の白画素に対して、ラ
ベリング(番号付け)及び面積/重心計算を行う。二値
画像の白画素において欠陥は孤立点として現われ、明暗
パターンの境界線144は画面の上下を横切るような大
きな物体となることから、所定の判定値で面積判定を行
い面積の小さい孤立点のみを抽出すると、図6(c)に
示すような画像となる。
【0047】ここで、ゆず肌といった欠陥にはならない
塗装面上の凹凸があると、図6(c)に示すように、欠
陥143と共に孤立点145(以下、これをノイズと称
す)として抽出される場合がある。
【0048】また、図8は、上記図6及び図7で示した
塗装面における一般的な凹凸欠陥(比較的高角度)の検
出と同時に、緩い凹凸欠陥をも検出するための画像処理
(強調)フローの一例を示すものである。
【0049】ここで、一般的な凹凸欠陥(比較的高角度
の欠陥)の検出は、上記図6及び図7に示すものと同様
であるので省略する。上記照明手段によって明暗パター
ンの映し出された被検査面をCCDカメラ3で撮像する
と、図9(a)のようになる。この原画像において、緩
い凹凸状の欠陥部では光の乱反射(角度)が小さいた
め、この緩い凹凸状の欠陥部を明暗パターンの中央で検
出するのは難しい。
【0050】一方、図9(a)に示すような明暗パター
ン境界部では、明暗縞の位置関係から反対側の縞パター
ンを反射することができるため、微分等のエッジ処理画
面ではこの境界上の欠陥は、図9(b)に示すように高
い輝度点となる。この微分画面にて、算出により得られ
た明暗パターン境界部の輝度平均+αのしきい値を用い
て二値化処理を行うと、図9(c)に示すように、輝度
変化大の領域つまり空間周波数の高い領域(欠陥)が
白、明暗パターン境界部を含むそれ以外の部分が黒とな
る二値画像が得られる。この二値画像の白画素に対し
て、ラベリング(番号付け)及び面積/重心計算を行
う。二値画像の白画素において、欠陥は孤立点であるた
め、所定の判定値で面積判定を行い面積の小さい孤立点
のみを抽出すると、図9(d)のような画像となる。
【0051】ここで、上記図8及び図9で示した画像処
理(強調)手段の二値化領域判定部及び分割二値化処理
部の例について説明する。
【0052】二値化領域判定部は、図10及び図11に
示すように、明暗ストライプ原画像を明部または暗部の
ピッチ幅の狭い領域(小ピッチ)と広い領域(大ピッ
チ)とに判定分割し、狭い領域は上記で算出されたしき
い値2、広い領域は同じく上記で算出されたしきい値1
を用いて二値化処理を行う。これにより、検出処理の効
率化が達成される。また、上記の明暗ストライプの原画
像において背景等の非検査面がある場合は、図12に示
すように、明暗ストライプのピッチ幅Lが、所定値L
以上の場合には、不要な領域と判断して所定のしきい値
3を適用し、所定値L以下の場合には、狭い領域と判
断して上記で算出されたしきい値2を適用し、L>L
>Lの場合は、広い領域と判定して上記で算出された
しきい値1を適用して二値化処理する。これにより、誤
検出が防止できる。
【0053】ここで、明暗ストライプパターンをピッチ
幅の狭い領域と広い領域とに分割するX軸座標Xとし
ては、n個のY軸上の座標Y,Y,…,Ynにおい
て、ピッチ幅LがL以上となるn個のX軸上の座標X
10,X20,…Xnを求め、次式(1)に代入して
得られたその平均値Xを適用する。
【0054】 以上により得られた処理データから欠陥のみを抽出する
ための追跡処理42を図7及び図13を用いて説明す
る。上記のような画像処理手段において、孤立点を抽出
する処理を時間的に連続して行うと、その結果得られる
面積判定画像は図13(a)〜(f)のようになり、こ
れらを重ねると図13(g)のようになる。
【0055】つまり、カメラ及び照明手段は固定されて
おり、一方、被検査物体であるボディ5は移動するの
で、カメラ画像においてボディ表面にある欠陥211
は、ボディの移動に応じて図13(g)の矢印の方向に
移動するが、ノイズ212はボディ5の移動とは無関係
にランダムに発生する。
【0056】よって、時間的に異なる連続した面積判定
画像から、ボディ5の移動量及び移動方向と所定の条件
で一致するものが、最終的に欠陥211と判断できる。
画像における欠陥211の移動方向は、カメラ3に対し
てボディ5がどのような方向で通過するかによって決定
されるため、本実施例のようにカメラ3の位置が固定さ
れかつボディ5の搬送方向が常に同じであるならば、各
カメラ毎に決定できる。
【0057】さらに、カメラ3の視野が、ボディ5の搬
送方向に平行に設定されていれば、欠陥は画像中の水平
方向もしくは垂直方向に移動することになる。本実施例
では、図13(g)に示すように、欠陥211が画像中
を真横(矢印)に移動するような向きに、カメラ3が固
定されているものとする。
【0058】このようにして得られた時間的に異なる連
続した画像において、まず初めに、各々の画像の白画素
におけるY方向(画面の縦方法)の重心座標の比較を行
う。上記のように、欠陥211は画像中を真横に移動す
るため、2つの画像間でY方向の重心座標がほぼ同じ白
画素があれば、その白画素が欠陥211である可能性が
高いと判断できる。従って、この白画素を欠陥候補とし
てメモリに記憶しておく。
【0059】次に、上記欠陥候補中の白画素において、
2つの画像間のX方向の重心座標の差が、画像における
移動画素数を表わし、その配列方向が移動方向を表わす
ので、これらとボディ移動量から算出した実移動画素数
及び画像におけるボディ5の移動方向とを比較し、それ
らの差が、所定の範囲内(一致しているものとみなす範
囲内)にあれば、その白画素が欠陥である可能性がさら
に高いと判断できる。従って、その白画素の時間的に新
しいX,Y重心座標をメモリに記憶しておく。
【0060】上記のような一連の処理を繰り返し行い、
1つの白画素において、上記比較の結果一致する回数が
所定の回数以上になった場合、その白画素を欠陥と判定
し(図7中の欠陥判定)、欠陥リストに最終的な重心座
標及び面積を書き込み記憶する。
【0061】追跡処理手段42は、上記のような処理を
ボディ5がカメラ視野に映っている間連続して行い、ボ
ディ5が通過した後、上記欠陥リストをホストコンピュ
ータ43に送る。
【0062】次に、欠陥種判定手段7による欠陥の種類
の判定処理について説明する。
【0063】図14は、欠陥種判定処理を示すフローチ
ャートである。先ず、上記検査処理手段4により得られ
る各種欠陥検出情報すなわち面積及び形状等の欠陥サイ
ズ情報と、二値化処理1又は二値化処理2のいずれであ
るか、すなわち二値化処理の種類及び追跡処理回数等の
検出処理情報とを欠陥情報収集手段6により収集する。
【0064】続いて、上記欠陥情報収集手段6で収集さ
れた面積、形状等の欠陥サイズ情報および二値化処理
種、追跡処理回数等の検出処理情報に基づき、図14に
示すように、ゴミブツ、塗料色ブツ、ハジキ、キズ等の
全ての塗装欠陥の種類を判定する。
【0065】まず、二値化処理種が二値化処理2でかつ
追跡処理回数Nが所定値Nより小さい場合は、緩い凹
欠陥であるハジキと判定される。また、同様に二値化処
理種が二値化処理2でかつ検出レベル頻度が高いすなわ
ち追跡処理回数NがN以上の値の場合は、塗料色ブツ
と判定される。
【0066】一方、二値化処理種が二値化処理1の場合
は、サイズ比γが所定値γより大きいか小さいかを判
断し、γ以上の場合はさらに面積変化比ηが所定値η
より小さいか大きいかを判断し、η以上の場合は塗
料色ブツと判定され、ηよりも小さい場合は凸欠陥で
あるゴミブツと判定される。また、サイズ比γがγ
りも小さい場合は、糸ゴミ等を含んだ線状のキズと判定
される。
【0067】次に、欠陥統計処理手段9における統計処
理について説明する。この統計処理においては、上記欠
陥種判定手段7により得られた欠陥種情報と情報入力手
段8により入力された車種、塗料種及び塗料色等の入力
情報とに基づいて、車種、被検査面が位置するボディ部
位、塗料種、塗料色毎に、検出される欠陥種(ゴミブ
ツ,ハジキ,塗料色ブツ,キズ)の区分けを行い、これ
ら欠陥種ごとの欠陥数を所定の基準検査台数ごとに統計
処理している。
【0068】表1は、車種ごとに統計処理を行った例で
あり、表2は、塗料種ごとに統計処理を行った例であ
る。具体的には、ボディ5の被検査面部位として、垂直
面と水平面とに区分けし、さらに、この垂直面につき、
上,中,下の3つの領域に、又、水平面につき右,左の
2つの領域に区分けを行って、これらそれぞれの領域で
検出される欠陥をその種類ごとに区分けすると共に欠陥
種ごとの欠陥数をカウントし、1台当たりの欠陥数とし
て表わしている。例えば、表1においては、車種Aにつ
き、ボディ5の垂直上部領域にゴミブツが1.2個/
台、ボディ5の垂直面中部領域にゴミブツが0.1個/
台、その他の領域にはゴミブツは存在しないという結果
となっている。
【0069】
【表1】
【0070】
【表2】
【0071】次に、発生源推定手段10における欠陥の
発生源を推定する処理について説明する。図15は、欠
陥の発生源推定処理を示すフローチャートである。この
発生源推定処理では、上記欠陥統計処理手段9により得
られる統計処理情報、具体的には車種分類での欠陥数、
塗料/色分類での欠陥数、車体(ボディ)部位分類での
欠陥数、欠陥種分類での欠陥数等に基づいて推定処理が
行われる。図15に示すように、先ず、ステップS
おいて、車種分類での欠陥数が所定値a以下か否かが判
断され、所定値a以下の場合は、ステップSに進ん
で、塗料/色分類での欠陥数が所定値b以下か否かが判
断される。この判断において、欠陥数が所定値b以下の
場合は、ステップSに進んで、車体部位分類での欠陥
数が所定値c以下か否かが判断される。ここで、欠陥数
が所定値c以下の場合は、さらにステップSに進ん
で、欠陥種分類での欠陥数が所定値d以下か否かが判断
され、この判断において欠陥数が所定値d以下の場合
は、特に塗装ライン上での不具合はなく正常と判断され
る。
【0072】一方、ステップSないしステップS
それぞれにおいて、欠陥数がそれぞれの所定値a,b,
c,dよりも大きいと判断された場合は、ステップS
に進んで、欠陥のサイズ/形状/発生頻度等の分類が行
われ、続いて、ステップSにおいて、経験的に得られ
た塗装ラインの欠陥不具合特定情報と上記欠陥統計処理
情報とが照合される。そして、ステップSにおいて、
塗装ライン構成における欠陥の発生源を特定し、ステッ
プSにおいて、その異常状態を表示/指示する。
【0073】上記構成によれば、正確な欠陥識別力と高
い検出精度により、不具合発生時に迅速かつ正確に欠陥
発生源の対策を指示することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る表面検査装置の一実施例を示す
概略構成図である。
【図2】 本発明に係る表面検査装置の一部を構成する
画像処理部を示すブロック図である。
【図3】 本発明に係る表面検査装置の処理フローを示
すフローチャートである。
【図4】 本発明に係る表面検査装置の一部を構成する
複合型明暗パターン光拡散シート及びシートガイドを示
す概略斜視図である。
【図5】 本発明に係る表面検査装置の一部を構成する
連続変化ピッチ型明暗パターン光拡散シート及びシート
ガイドを示す概略斜視図である。
【図6】 本発明に係る画像処理手段による画像処理の
例を示す図である。
【図7】 本発明に係る表面検査処理を示すフローチャ
ートである。
【図8】 本発明に係る表面検査処理の他の実施例を示
すフローチャートである。
【図9】 本発明に係る画像処理手段による画像処理の
他の実施例を示す図である。
【図10】 本発明に係る二値化処理を説明するための
図である。
【図11】 本発明に係る二値化処理を説明するための
図である。
【図12】 本発明に係る二値化処理において背景等の
非検査面が存在する場合の二値化処理を説明するための
図である。
【図13】 本発明に係る画像処理手段により面積判定
が行われた画像を示す図である。
【図14】 本発明に係る欠陥種判定手段による判定処
理を示すフローチャートである。
【図15】 本発明に係る発生源推定手段による欠陥の
発生源を推定する処理を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1 照明手段 2 カメラスタンド 3 CCDカメラ(撮像手段) 4 検査処理手段 5 ボディ(被検査物体) 6 欠陥情報収集手段 7 欠陥種判定手段 8 情報入力手段 9 欠陥統計処理手段 10 発生源推定手段 11 表示/指示手段 13 エッジ検出部 14,15 しきい値算出部 16,17 二値化処理部 18 領域判定部 41 画像処理部 42 追跡処理部 43 ホストコンピュータ 105 複合型明暗ストライプパターン光拡散シート 106 シートガイド 205 連続変化ピッチ型明暗ストライプパターン光拡
散シート

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査物体の被検査面に光を照射し、被
    検査面からの反射光に基づいて受光画像を形成し、前記
    受光画像に基づいて被検査面上に存在する欠陥を検出す
    る表面検査装置であって、 被検査物体を囲むような門型形状に配置された光源を含
    みかつ被検査面上に所定の明暗パターンを形成する照射
    手段と、被検査物体を囲むような門型形状に配置固定さ
    れかつ被検査面からの反射光に基づいて複数の受光画像
    を形成する撮像手段と、前記撮像手段により得られる受
    光画像に基づいて被検査面上の欠陥を検出しその検出情
    報を出力する検査処理手段と、前記検査処理手段により
    得られる欠陥情報を収集する欠陥情報収集手段と、前記
    欠陥情報収集手段により収集された欠陥の種類を判定す
    る欠陥種判定手段と、被検査物体の種類及び被検査面の
    塗料情報を入力する情報入力手段と、前記欠陥種判定手
    段により判定された欠陥種情報及び前記情報入力手段に
    より入力された入力情報に基づき少なくとも欠陥の種類
    及び欠陥数を統計処理する欠陥統計処理手段と、前記欠
    陥統計処理手段により得られる統計処理情報及び経験的
    な欠陥の特定情報に基づいて欠陥の発生源を推定する発
    生源推定手段と、を有することを特徴とする表面検査装
    置。
  2. 【請求項2】 前記欠陥情報収集手段は、前記検査処理
    手段により得られる欠陥サイズ情報及び検出処理情報を
    収集する、ことを特徴とする請求項1記載の表面検査装
    置。
  3. 【請求項3】 前記欠陥種判定手段は、前記欠陥情報収
    集手段により収集された欠陥サイズ情報及び検査処理情
    報に基づいて欠陥の種類を判定する、ことを特徴とする
    請求項2記載の表面検査装置。
  4. 【請求項4】 前記欠陥統計処理手段は、前記欠陥種判
    定手段により判定された欠陥種情報及び前記情報入力手
    段により入力された入力情報に基づき、塗装色の種類及
    び被検査面の部位毎に存在する欠陥種ごとの欠陥数を統
    計処理する、ことを特徴とする請求項1記載の表面検査
    装置。
  5. 【請求項5】 前記照明手段の光源からの光を明暗パタ
    ーンの拡散光による面照明として被検査面に照射させる
    ような所定の明暗パターンを有する光拡散シートが前記
    光源と被検査物体との間に設けられており、前記光拡散
    シートに形成される明暗パターンは、幅狭の明暗ストラ
    イプパターンと幅広の明暗ストライプパターンを有する
    複合型明暗ストライプパターンであることを特徴とする
    請求項1記載の表面検査装置。
  6. 【請求項6】 前記照明手段の光源からの光を明暗パタ
    ーンの拡散光による面照明として被検査面に照射させる
    ような所定の明暗パターンを有する複数の光拡散シート
    が前記光源と被検査物体との間に設けられ、前記複数の
    光拡散シートには、ピッチ幅の狭い明暗ストライプパタ
    ーンを有する光拡散シート及びピッチ幅の広い明暗スト
    ライプパターンを有する光拡散シートが含まれることを
    特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
  7. 【請求項7】 前記照明手段の光源からの光を明暗パタ
    ーンの拡散光による面証明として被検査面に照射させる
    ような所定の明暗パターンを有する光拡散シートが前記
    光源と被検査物体との間に設けられており、前記光拡散
    シートに形成される明暗パターンは、連続的にピッチ幅
    が変化する連続変化ピッチ型明暗ストライプパターンで
    あることを特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
  8. 【請求項8】 前記検査処理手段は、撮像手段により得
    られた受光画像の画像情報における空間周波数成分のう
    ち所定レベル以上の高周波数成分のみを抽出する画像処
    理手段と、前記画像処理手段により処理されかつ同一の
    撮像手段により撮像された時間的に異なる画像情報から
    被検査物体の移動量及び移動方向と所定条件下で一致す
    る画像情報を追跡して検出する追跡処理手段とを有する
    ことを特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
  9. 【請求項9】 前記検査処理手段は、撮像手段により得
    られた受光画像の画像情報における空間周波数成分のう
    ち複数のタイプの明暗パターンに対応する各々の所定レ
    ベル以上の高周波数成分を同時に抽出する画像処理手段
    と、前記画像処理手段により処理されかつ同一の撮像手
    段により撮像された時間的に異なる画像情報から被検査
    物体の移動量及び移動方向と所定条件下で一致する画像
    情報を追跡して検出する追跡処理手段とを有することを
    特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
  10. 【請求項10】 前記画像処理手段は、撮像手段により
    得られた明暗パターンを有する画像情報に対してエッジ
    検出処理を行いかつ所定輝度レベル以上の成分のみを抽
    出するべく、エッジ検出処理した処理画像情報における
    エッジ輝度レベルに関する物理量に基づいて所定の演算
    を行いしきい値を算出する第1のしきい値算出手段と、
    エッジ検出処理した処理画像情報に発生するノイズに関
    する物理量に基づいて所定の演算を行いしきい値を算出
    する第2のしきい値算出手段と、前記第1及び第2のし
    きい値算出手段により算出された各々のしきい値に基づ
    いて二値化処理を行う二値化処理手段とを有することを
    特徴とする請求項9記載の表面検査装置。
  11. 【請求項11】 前記二値化処理手段は、撮像手段によ
    り得られた複数のタイプの明暗パターン領域を有する画
    像情報において、明暗パターンのピッチ幅を算出して所
    定値と比較し、前記明暗パターンが複数のタイプの明暗
    パターンのいずれの領域に含まれるかを判定する二値化
    領域判定手段と、前記二値化領域判定手段により判定さ
    れた分割領域に対して前記第1及び第2しきい値算出手
    段により算出された各々のしきい値を適用し同時に二値
    化処理を行う分割型二値化処理手段とを有することを特
    徴とする請求項10記載の表面検査装置。
  12. 【請求項12】 前記二値化処理手段は、撮像手段によ
    り得られた複数のタイプの明暗パターン及び非検査面領
    域を有する画像情報において、明暗パターンのピッチ幅
    を算出して複数の所定値と比較し、前記明暗パターンが
    いずれの領域に含まれるかを判定する二値化領域判定手
    段と、前記二値化領域判定手段により判定された分割領
    域に対して前記第1及び第2しきい値算出手段により算
    出された各々のしきい値及び非検査面領域用の所定しき
    い値を適用し同時に二値化処理を行う分割型二値化処理
    手段を有することを特徴とする請求項10記載の表面検
    査装置。
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