JPH1163479A - ガス通路におけるガス流の均一化方法 - Google Patents

ガス通路におけるガス流の均一化方法

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Publication number
JPH1163479A
JPH1163479A JP9213768A JP21376897A JPH1163479A JP H1163479 A JPH1163479 A JP H1163479A JP 9213768 A JP9213768 A JP 9213768A JP 21376897 A JP21376897 A JP 21376897A JP H1163479 A JPH1163479 A JP H1163479A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
incinerator
exhaust gas
gas flow
gas passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9213768A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Nakai
誠一 中井
Ryozo Shiji
良三 志治
Tomohiro Aoki
智広 青木
Takeshi Matsui
健 松井
Morio Sugiura
守男 杉浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP9213768A priority Critical patent/JPH1163479A/ja
Publication of JPH1163479A publication Critical patent/JPH1163479A/ja
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  • Incineration Of Waste (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ガス通路内を流れるガスの偏流を防止し得るガ
ス流の均一化方法を提供する。 【解決手段】焼却炉1と調温塔2との間に設けられる側
面視がU字形状の排ガス用ダクト3の頂部で、かつその
曲率半径が小さい側の壁面部3aの左右における中央位
置に接続された空気供給管4から高速で空気を吹き込む
方法である。これにより、排ガス用ダクトの頂部で生じ
る左右への偏流を、より強くして攪拌作用を生じさせ
て、調温塔2内に排ガスを均一に導き、調温塔内での噴
霧水による冷却をほぼ完全に行わせるようにしたもので
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス通路における
ガス流の均一化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ごみ焼却施設においては、ごみ
焼却炉から排出される燃焼排ガスは、調温塔で冷却され
た後、バグフィルターなどの集塵装置を経て煙突から大
気に放出されている。
【0003】従来、図3に示すように、燃焼排ガスの通
路、例えば焼却炉51と調温塔52との間を接続する排
ガス用ダクト53としては、断面形状が円形のものが使
用されるとともにその側面視形状がU字形状(正確に
は、上下が逆にされたU字形状)に構成されたものであ
った。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、排ガ
ス用ダクト53は、その断面形状が円形にされるととも
に側面視形状がU字形状となるように構成されているた
め、その転向部である頂部においては、上下位置で流速
(図3の波線aにて示す)が異なり、したがって内部を
流れる排ガスは偏流となる。具体的には、図4に示すよ
うに、中央から左右に分かれる偏流が生じる。
【0005】ところで、ごみ焼却炉が流動床式の場合、
調温塔52のガス冷却室としては、ドライボトム式が多
く採用されており、この形式の場合、冷却用噴霧水が完
全に蒸発されることが必要十分条件とされ、そのために
は、ガス冷却室入口部におけるガスの流れが均一化され
る必要があるが、上述したように、排ガス用ダクト53
内が偏流となっているため、ガス冷却室内でのガスの流
れを均一化し得ないという問題があった。
【0006】そこで、本発明は、ガス通路内を流れるガ
スの偏流を防止し得るガス流の均一化方法を提供するこ
とを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のガス通路におけるガス流の均一化方法は、
側面視がU字形状のガス通路の転向部に空気を吹き込む
方法であり、さらには側面視がU字形状のガス通路の転
向部で、かつその曲率半径が小さい側の壁面部の左右の
中央位置から空気を吹き込む方法である。
【0008】上記のガス流の均一化方法によると、ガス
通路の転向部で生じる左右への偏流を、より強くして攪
拌作用を生じさせることができるので、ガス通路の下流
側に設けられる例えばガス処理部へのガスの流れを均一
化して、ガス処理部での処理を確実に行わせることがで
きる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態におけ
るガス通路におけるガス流の均一化方法を、図1および
図2に基づき説明する。
【0010】なお、本実施の形態においては、流動床式
ごみ焼却施設におけるガス通路に、適用した場合につい
て説明する。すなわち、図1に示すように、このごみ焼
却施設は、流動床式の焼却炉1、この焼却炉1から排出
される排ガスの排出経路の途中に設けられた調温塔2、
この調温塔2で冷却された排ガス中の飛灰などのダスト
を除去するための集塵装置(図示しないが、例えばバグ
フィルターなどが使用される)、この集塵装置を出た排
ガスを大気に放出するための煙突などを具備しており、
しかも上記焼却炉1と調温塔2との間には、側面視がU
字形状(正確には、上下が逆にされたU字形状)の排ガ
ス用ダクト(ガス通路)3が設けられるとともに、この
排ガス用ダクト3の頂部(転向部)の下側壁面部(曲率
半径が小さい側の壁面部)3aに空気供給管4が接続さ
れている。
【0011】なお、図示しないが、上記調温塔2には、
排ガス中に水を空気により吹き込み排ガスの温度を下げ
るための冷却水噴霧ノズルおよびこの噴霧ノズルに冷却
水を供給する冷却水供給管が接続されている。
【0012】したがって、上記構成において、流動床式
の焼却炉1からの燃焼排ガスは、排ガス用ダクト3を通
って調温塔2内に移動し、ここで上方から噴霧される噴
霧水により冷却される。
【0013】ところで、排ガス用ダクト3の頂部には、
その下側壁面部3aに接続された空気供給管4から、高
速でもって空気が吹き込まれており、もともと左右に分
かれて偏流となっていた渦流がさらに加速されて、大き
い攪拌作用が生じている。
【0014】このように、排ガス用ダクト3の頂部にお
ける高速空気の吹き込みによる攪拌作用の増大により、
排ガスの流れが均一化されて調温塔2のガス冷却室内に
流れ込み、したがって調温塔2内で噴霧される冷却用噴
霧水もガス冷却室内に均一に分散されるため、噴霧水は
ほぼ完全に蒸発する。
【0015】すなわち、調温塔2内での冷却が効果的に
行われるとともに、調温塔2の内壁面への水分および排
ガス中に含まれるダストの付着が防止され、しかも調温
塔2でのガス冷却室がドライボトムとなるため、焼却炉
1が流動床式である場合でも問題は生じない。
【0016】ところで、上記実施の形態においては、排
ガス用ダクトの側面視形状を、転向部が上方に突出する
ような逆のU字形状として説明したが、勿論、この形状
に限定されるものではなく、例えば転向部が下方に突出
するU字形状の排ガス用ダクトであってもよく、この場
合、曲率半径の小さい上側壁面部から高速空気が吹き込
まれる。
【0017】また、上記実施の形態においては、焼却炉
が流動床式である場合について説明したが、例えば排ガ
スの移動経路の途中に設けられる熱交換器への排ガス通
路に適用することもできる。
【0018】より具体的には、白煙防止用の空気加熱
器、空気予熱器などに排ガスを導くためのガス通路に適
用することができる。
【0019】
【発明の効果】以上のように、本発明の各ガス流の均一
化方法によると、ガス通路の転向部にかつその左右にお
ける中央位置に空気を吹き込むようにしたので、この転
向部で生じる左右への偏流を、より強くして攪拌作用を
生じさせることができ、したがってガス通路の下流側に
設けられる例えばガス処理部へのガスの流れを均一化し
て、ガス処理部での処理を確実にすることができる。
【0020】例えば、焼却炉からの排ガスを調温塔に導
くためのガス通路に適用した場合、排ガスは空気により
均一に攪拌された状態で調温塔内に入るため、調温塔内
での噴霧水による排ガスの冷却が効果的に行われるとと
もに、調温塔における内壁面への水分および排ガス中に
含まれるダストの付着が防止され、しかも焼却炉が流動
床式のように、調温塔におけるガス冷却室がドライボト
ムとされる場合に問題となる噴霧水の滴下を防止するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態におけるガス均一化方法が
適用される焼却炉施設の要部側面図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】従来例のガスの流れを示す要部断面図である。
【図4】図3のB−B断面図である。
【符号の説明】
1 焼却炉 2 調温塔 3 排ガス用ダクト 3a 下側壁面部 4 空気供給管
フロントページの続き (72)発明者 青木 智広 大阪府大阪市此花区西九条5丁目3番28号 日立造船株式会社内 (72)発明者 松井 健 大阪府大阪市此花区西九条5丁目3番28号 日立造船株式会社内 (72)発明者 杉浦 守男 大阪府大阪市此花区西九条5丁目3番28号 日立造船株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】側面視がU字形状のガス通路の転向部に空
    気を吹き込むことを特徴とするガス通路におけるガス流
    の均一化方法。
  2. 【請求項2】側面視がU字形状のガス通路の転向部で、
    かつその曲率半径が小さい側の壁面部の左右の中央位置
    から空気を吹き込むことを特徴とするガス通路における
    ガス流の均一化方法。
JP9213768A 1997-08-08 1997-08-08 ガス通路におけるガス流の均一化方法 Pending JPH1163479A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9213768A JPH1163479A (ja) 1997-08-08 1997-08-08 ガス通路におけるガス流の均一化方法

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JP9213768A JPH1163479A (ja) 1997-08-08 1997-08-08 ガス通路におけるガス流の均一化方法

Publications (1)

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JPH1163479A true JPH1163479A (ja) 1999-03-05

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ID=16644718

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9213768A Pending JPH1163479A (ja) 1997-08-08 1997-08-08 ガス通路におけるガス流の均一化方法

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JP (1) JPH1163479A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014240508A (ja) * 2013-06-11 2014-12-25 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 乾式冷却装置及びこれを用いた排ガス冷却方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014240508A (ja) * 2013-06-11 2014-12-25 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 乾式冷却装置及びこれを用いた排ガス冷却方法

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