JPH11512383A - 溶融シリカガラスを製造するためのブール振動パターン - Google Patents
溶融シリカガラスを製造するためのブール振動パターンInfo
- Publication number
- JPH11512383A JPH11512383A JP9512059A JP51205997A JPH11512383A JP H11512383 A JPH11512383 A JP H11512383A JP 9512059 A JP9512059 A JP 9512059A JP 51205997 A JP51205997 A JP 51205997A JP H11512383 A JPH11512383 A JP H11512383A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blank
- striae
- substrate
- axis
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1484—Means for supporting, rotating or translating the article being formed
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1415—Reactant delivery systems
- C03B19/1423—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/60—Relationship between burner and deposit, e.g. position
- C03B2207/66—Relative motion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/70—Control measures
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S501/00—Compositions: ceramic
- Y10S501/90—Optical glass, e.g. silent on refractive index and/or ABBE number
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.(a)スート粒子の供給源を与えること、 (b)このスート粒子を捕集して、素地を形成すること、該捕集によって該素 地の厚さを増加させる、及び (c)前記スート粒子が捕集されるとき、前記供給源と前記素地との間の相対 振動運動を与えること、該振動運動は、前記素地の厚さに対して直角であり、繰 り返し周期を有する からなり、該捕集及び振動を、前記素地の厚さが前記繰り返し周期の間に少な くとも約0.15mmほど増加するように実施することを特徴とするシリカ含有 素地を形成する方法。 2.前記素地の厚さが、前記繰り返し周期の間に少なくとも約0.2mmほど増 加することを特徴とする請求の範囲第1項記載の方法。 3.(a)スート粒子の供給源を与えること、 (b)このスート粒子を捕集して、素地を形成すること、該捕集によって該素 地の厚さを増加させる、及び (c)前記スート粒子が捕集されるとき、前記供給源と前記素地との間の相対 振動運動を与えること、該振動運動は、前記素地の厚さに対して直角であり、少 なくとも約8分間の繰り返し周期を有する からなる、シリカ含有素地を形成する方法。 4.前記繰り返し周期が約10分間であることを特徴とする請求の範囲第3項記 載の方法。 5.(a)スート粒子の供給源を与えること、 (b)このスート粒子を捕集して、素地を形成すること、該スート粒子が捕集 されるとき該スート粒子は圧密化されて粘稠な流体を形成し、該捕集によって前 記素地の厚さを増加させる、及び (c)前記素地を回転させ、前記スート粒子が捕集されるとき、前記供給源と 前記素地との間の相対振動運動を与えること、該振動運動は、前記素地の厚さに 対して直角であり、該回転及び振動運動は、前記供給源の前記素地の上への 投影が実質的に螺旋である行路を描くようになされる、 からなることを特徴とするシリカ含有素地を形成する方法。 6.前記行路が純粋な螺旋であることを特徴とする請求の範囲第5項記載の方法 。 7.前記供給源が複数個のスート生成バーナーからなり、各バーナーが実質的に 螺旋である行路を描くことを特徴とする請求の範囲第5項記載の方法。 8.前記振動運動が繰り返し周期を有し、捕集及び振動を、前記素地の厚さが前 記繰り返し周期の間に少なくとも約0.15mmほど増加するように実施するこ とを特徴とする請求の範囲第5項記載の方法。 9.前記素地の厚さが前記繰り返し周期の間に少なくとも約0.2mmほど増加 することを特徴とする請求の範囲第8項記載の方法。 10.前記振動運動が、少なくとも約8分間の繰り返し周期を有することを特徴と する請求の範囲第5項記載の方法。 11.前記繰り返し周期が約10分間であることを特徴とする請求の範囲第10項 記載の方法。 12.請求の範囲第1項、第3項又は第5項記載の方法によって製造されたシリカ 含有素地から製造されたブランクであって、 該ブランクが、 (a)約2.0×10-8mm-1以下であるΔnstriae/Δzstriae値(但し、Δ nstriae及びΔzstriaeは、それぞれ、ブランクのオフ軸脈理の、平均ピーク〜 谷の大きさ及び平均ピーク〜ピーク周期である)、及び (b)125ミリメートル以上のブランクサイズについて1.0×10-6以下で あるz軸均質性Δn を有することを特徴とするブランク。 13.前記ブランクにドーパントが含有されていることを特徴とする請求の範囲第 12項記載のブランク。 14.請求の範囲第12項記載のブランクから製造された光学要素。 15.シリカ含有素地から形成されたブランクの屈折率に於けるオフ軸周期的脈理 を減少させる方法であって、該オフ軸周期的脈理が平均ピーク〜谷の大きさΔnstriae 及び平均ピーク〜ピーク周期Δzstriaeを有する方法において、 (a)スート粒子の供給源を与えること、 (b)このスート粒子を捕集して、素地を形成すること、該捕集によって前記素 地の厚さを増加させる、及び (c)前記スート粒子が捕集されるとき、前記供給源と前記素地との間の相対振 動運動を与えること、該振動運動は、前記素地の厚さに対して直角であり、前記 ブランクについてのΔnstriae/Δzstriaeが約2.0×10-8mm-1以下であ るように十分に長い繰り返し周期を有する、 からなることを特徴とする方法。 16.前記繰り返し周期が、前記ブランクについてのΔnstriae/Δzstriaeが約 1.5×10-8mm-1以下であるように十分に長いことを特徴とする請求の範囲 第15項記載の方法。 17.前記ブランクが125ミリメートル以上のブランクサイズについて1.0× 10-6以下であるz軸均質性Δnを有することを特徴とする請求の範囲第15項 記載の方法。 18.前記ブランクが125ミリメートル以上のブランクサイズについて1.0× 10-6以下であるz軸均質性Δnを有することを特徴とする請求の範囲第16項 記載の方法。 19.前記ブランクが125ミリメートル以上のブランクサイズについて0.5× 10-6以下であるz軸均質性Δnを有することを特徴とする請求の範囲第15項 記載の方法。 20.前記ブランクが125ミリメートル以上のブランクサイズについて0.5× 10-6以下であるz軸均質性Δnを有することを特徴とする請求の範囲第16項 記載の方法。 21.前記ブランクサイズが150ミリメートル以上であることを特徴とする請求 の範囲第17項、第18項、第19項又は第20項記載の方法。 22.前記ブランクサイズが200ミリメートル以上であることを特徴とする請求 の範囲第17項、第18項、第19項又は第20項記載の方法。 23.前記素地が回転し、該回転及び振動運動によって、前記供給源の前記素地の 上への投影が実質的に螺旋である行路を描くようになることを特徴とする請求 の範囲第15項記載の方法。 24.前記行路が純粋な螺旋であることを特徴とする請求の範囲第23項記載の方 法。 25.前記供給源が複数個のスート生成バーナーからなり、各バーナーが実質的に 螺旋である行路を描くことを特徴とする請求の範囲第23項記載の方法。 26.請求の範囲第15項記載の方法によって製造されたブランクであって、 前記ブランクが、 (a)約2.0×10-8mm-1以下であるΔnstriae/Δzstriae値、及び (b)125ミリメートル以上のブランクサイズについて1.0×10-6以下で あるz軸均質性Δn を有することを特徴とするブランク。 27.前記ブランクにドーパントが含有されていることを特徴とする請求の範囲第 26項記載のブランク。 28.請求の範囲第26項記載のブランクから製造された光学要素。 29.(a)約2.0×10-8mm-1以下であるΔnstriae/Δzstriae値(但し、 Δnstriae及びΔzstriaeは、それぞれ、ブランクのオフ軸脈理の、平均ピーク 〜谷の大きさ及び平均ピーク〜ピーク周期である)、及び (b)125ミリメートル以上のブランクサイズについて1.0×10-6以下 であるz軸均質性Δn を有することを特徴とする溶融シリカブランク。 30.前記ブランクのΔnstriae/Δzstriaeが約1.5×10-8mm-1以下であ ることを特徴とする請求の範囲第29項記載の溶融シリカブランク。 31.前記ブランクが125ミリメートル以上のブランクサイズについて0.5× 10-6以下であるz軸均質性Δnを有することを特徴とする請求の範囲第29項 記載の溶融シリカブランク。 32.前記ブランクが125ミリメートル以上のブランクサイズについて0.5× 10-6以下であるz軸均質性Δnを有することを特徴とする請求の範囲第30項 記載の溶融シリカブランク。 33.ブランクサイズが150ミリメートル以上であることを特徴とする請求の範 囲第29項、第30項、第31項又は第32項記載の溶融シリカブランク。 34.ブランクサイズが200ミリメートル以上であることを特徴とする請求の範 囲第29項、第30項、第31項又は第32項記載の溶融シリカブランク。 35.請求の範囲第29項記載のブランクから製造された光学要素。 36.請求の範囲第29項記載のブランクから製造されたレンズ要素。 37.請求の範囲第29項記載のブランクから製造されたプリズム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US359695P | 1995-09-12 | 1995-09-12 | |
US60/003,596 | 1995-09-12 | ||
PCT/US1996/014551 WO1997010184A1 (en) | 1995-09-12 | 1996-09-11 | Boule oscillation patterns for producing fused silica glass |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11512383A true JPH11512383A (ja) | 1999-10-26 |
JP3841435B2 JP3841435B2 (ja) | 2006-11-01 |
Family
ID=21706621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51205997A Expired - Lifetime JP3841435B2 (ja) | 1995-09-12 | 1996-09-11 | 溶融シリカガラスを製造するためのブール振動パターン |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5696038A (ja) |
EP (2) | EP1524246A1 (ja) |
JP (1) | JP3841435B2 (ja) |
DE (1) | DE69634667T2 (ja) |
WO (1) | WO1997010184A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005503316A (ja) * | 2001-09-27 | 2005-02-03 | コーニング インコーポレイテッド | 石英ガラス生産のための改善された方法及び炉 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3369730B2 (ja) * | 1994-06-16 | 2003-01-20 | 株式会社ニコン | 光リソグラフィー用光学部材の評価方法 |
EP0850199B1 (en) * | 1995-09-12 | 2005-12-28 | Corning Incorporated | Method and Furnace for the Production of Silica Glass containing less striae |
JP2001524920A (ja) | 1997-05-15 | 2001-12-04 | ショット エムエル ゲーエムベーハー | 均一でストリークのない石英ガラス板の製造方法および装置 |
US6574991B1 (en) | 1998-08-13 | 2003-06-10 | Corning Incorporated | Pure fused silica, furnace and method |
JP2001010833A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-01-16 | Nikon Corp | 石英ガラス部材 |
IT1308786B1 (it) * | 1999-07-05 | 2002-01-10 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento e apparecchiatura per la formazione di strati piani disilice vetrosa mediante l'uso di una torcia a plasma ad accoppiamento |
JP2003511339A (ja) | 1999-10-14 | 2003-03-25 | カール−ツァイス−シュティフトゥング | 光学的に均一かつストリークを含まない大口径石英ガラス体の製造装置 |
US6410192B1 (en) | 1999-11-15 | 2002-06-25 | Corning Incorporated | Photolithography method, photolithography mask blanks, and method of making |
US6314766B1 (en) | 2000-01-19 | 2001-11-13 | Corning Incorporated | Apparatus for minimizing air infiltration in the production of fused silica glass |
US6403508B1 (en) | 2000-05-31 | 2002-06-11 | Corning Incorporated | Fused silica with constant induced absorption |
US20020083739A1 (en) * | 2000-12-29 | 2002-07-04 | Pandelisev Kiril A. | Hot substrate deposition fiber optic preforms and preform components process and apparatus |
US20020083740A1 (en) * | 2000-12-29 | 2002-07-04 | Pandelisev Kiril A. | Process and apparatus for production of silica grain having desired properties and their fiber optic and semiconductor application |
US7797966B2 (en) * | 2000-12-29 | 2010-09-21 | Single Crystal Technologies, Inc. | Hot substrate deposition of fused silica |
US6606883B2 (en) * | 2001-04-27 | 2003-08-19 | Corning Incorporated | Method for producing fused silica and doped fused silica glass |
US20020174684A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-11-28 | Danielson Paul S. | Fused silica furnace and method |
JP4158009B2 (ja) * | 2001-12-11 | 2008-10-01 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラスインゴット及び合成石英ガラスの製造方法 |
US7053017B2 (en) * | 2002-03-05 | 2006-05-30 | Corning Incorporated | Reduced striae extreme ultraviolet elements |
JP5367204B2 (ja) * | 2003-04-03 | 2013-12-11 | 旭硝子株式会社 | TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材 |
US7155936B2 (en) * | 2003-08-08 | 2007-01-02 | Corning Incorporated | Doped silica glass articles and methods of forming doped silica glass boules and articles |
US20070137252A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-21 | Maxon John E | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same |
US20070137253A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-06-21 | Beall Lorrie F | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same |
US20100154474A1 (en) * | 2005-12-21 | 2010-06-24 | Lorrie Foley Beall | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same |
US20070263281A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-11-15 | Maxon John E | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same |
US8230701B2 (en) * | 2008-05-28 | 2012-07-31 | Corning Incorporated | Method for forming fused silica glass using multiple burners |
US8713969B2 (en) | 2009-08-31 | 2014-05-06 | Corning Incorporated | Tuning Tzc by the annealing of ultra low expansion glass |
US9505649B2 (en) | 2013-09-13 | 2016-11-29 | Corning Incorporated | Ultralow expansion glass |
EP3727226A1 (en) | 2017-12-22 | 2020-10-28 | Coloplast A/S | Ostomy system and monitor device with angular leakage detection |
US10410456B1 (en) | 2019-01-08 | 2019-09-10 | American Security Products Co. | Physical article exchange using a safe |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1363233A (fr) * | 1963-04-16 | 1964-06-12 | Corning Glass Works | Procédé de fabrication de masses pleines, notamment de verres et céramiques, et appareil de mise en oeuvre |
US3806570A (en) * | 1972-03-30 | 1974-04-23 | Corning Glass Works | Method for producing high quality fused silica |
US3859073A (en) * | 1973-10-19 | 1975-01-07 | Corning Glass Works | Method of producing glass by flame hydrolysis |
US4135901A (en) * | 1974-12-18 | 1979-01-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of manufacturing glass for optical waveguide |
US3930819A (en) * | 1975-02-06 | 1976-01-06 | Fabrication De Maquinas, S.A. | Press molded hot glassware handling apparatus |
US3966446A (en) * | 1975-10-23 | 1976-06-29 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Axial fabrication of optical fibers |
US4017288A (en) * | 1975-12-15 | 1977-04-12 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method for making optical fibers with helical gradations in composition |
US4065280A (en) * | 1976-12-16 | 1977-12-27 | International Telephone And Telegraph Corporation | Continuous process for manufacturing optical fibers |
US4231774A (en) * | 1978-04-10 | 1980-11-04 | International Telephone And Telegraph Corporation | Method of fabricating large optical preforms |
US4263031A (en) * | 1978-06-12 | 1981-04-21 | Corning Glass Works | Method of producing glass optical filaments |
US4203744A (en) * | 1979-01-02 | 1980-05-20 | Corning Glass Works | Method of making nitrogen-doped graded index optical waveguides |
FR2446264A1 (fr) * | 1979-01-10 | 1980-08-08 | Quartz & Silice | Procede de preparation d'une preforme pour guide d'onde optique |
US4363647A (en) * | 1981-05-14 | 1982-12-14 | Corning Glass Works | Method of making fused silica-containing material |
US4784465A (en) * | 1982-07-26 | 1988-11-15 | Corning Glass Works | Method of making glass optical fiber |
US4568370A (en) * | 1982-09-29 | 1986-02-04 | Corning Glass Works | Optical fiber preform and method |
DE3240355C1 (de) * | 1982-11-02 | 1983-11-17 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur Herstellung eines laenglichen Glaskoerpers mit inhomogener Brechungsindexverteilung |
US5221309A (en) * | 1984-05-15 | 1993-06-22 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing glass preform for optical fiber |
JPH0618234B2 (ja) * | 1985-04-19 | 1994-03-09 | 日本電信電話株式会社 | 半導体基板の接合方法 |
US5028246A (en) * | 1986-02-03 | 1991-07-02 | Ensign-Bickford Optical Technologies, Inc. | Methods of making optical waveguides |
US4935046A (en) * | 1987-12-03 | 1990-06-19 | Shin-Etsu Handotai Company, Limited | Manufacture of a quartz glass vessel for the growth of single crystal semiconductor |
US5325230A (en) * | 1989-06-09 | 1994-06-28 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Optical members and blanks of synthetic silica glass and method for their production |
ATE116448T1 (de) * | 1989-06-09 | 1995-01-15 | Heraeus Quarzglas | Optische teile und rohlinge aus synthetischem siliziumdioxidglas und verfahren zu ihrer herstellung. |
JPH0825763B2 (ja) * | 1990-04-26 | 1996-03-13 | 信越石英株式会社 | すす状シリカ体の製造方法、その装置及び該シリカ体を用いた合成石英ガラス |
US5043002A (en) * | 1990-08-16 | 1991-08-27 | Corning Incorporated | Method of making fused silica by decomposing siloxanes |
US5152819A (en) * | 1990-08-16 | 1992-10-06 | Corning Incorporated | Method of making fused silica |
US5410428A (en) * | 1990-10-30 | 1995-04-25 | Shin-Etsu Quartz Products Co. Ltd. | Optical member made of high-purity and transparent synthetic silica glass and method for production thereof or blank thereof |
EP0546196B1 (en) * | 1991-06-29 | 1997-05-02 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Synthetic quartz glass optical member for excimer laser and production thereof |
JP2588447B2 (ja) * | 1991-06-29 | 1997-03-05 | 信越石英株式会社 | エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法 |
US5330941A (en) * | 1991-07-24 | 1994-07-19 | Asahi Glass Company Ltd. | Quartz glass substrate for polysilicon thin film transistor liquid crystal display |
JP2566349B2 (ja) * | 1991-10-02 | 1996-12-25 | 信越化学工業株式会社 | 合成石英ガラス部材の製造方法 |
JP2814795B2 (ja) * | 1991-10-25 | 1998-10-27 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの製造方法 |
CA2084461A1 (en) * | 1991-12-06 | 1993-06-07 | Hiroo Kanamori | Method for fabricating an optical waveguide |
JP2985540B2 (ja) * | 1992-11-27 | 1999-12-06 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの製造方法 |
JP2814867B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1998-10-27 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの製造方法 |
JP2814866B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1998-10-27 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの製造方法 |
JP3656855B2 (ja) * | 1993-04-23 | 2005-06-08 | 株式会社ニコン | 光リソグラフィー用石英ガラス部材 |
JP3334219B2 (ja) * | 1993-02-19 | 2002-10-15 | 住友電気工業株式会社 | ガラス母材の製造装置および製造方法 |
US5332702A (en) * | 1993-04-16 | 1994-07-26 | Corning Incorporated | Low sodium zircon refractory and fused silica process |
-
1996
- 1996-09-11 JP JP51205997A patent/JP3841435B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-11 EP EP04029793A patent/EP1524246A1/en not_active Withdrawn
- 1996-09-11 US US08/712,298 patent/US5696038A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-11 WO PCT/US1996/014551 patent/WO1997010184A1/en active IP Right Grant
- 1996-09-11 DE DE69634667T patent/DE69634667T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-11 EP EP96930815A patent/EP0850202B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005503316A (ja) * | 2001-09-27 | 2005-02-03 | コーニング インコーポレイテッド | 石英ガラス生産のための改善された方法及び炉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69634667T2 (de) | 2006-04-27 |
EP0850202A4 (en) | 2002-03-13 |
US5696038A (en) | 1997-12-09 |
WO1997010184A1 (en) | 1997-03-20 |
JP3841435B2 (ja) | 2006-11-01 |
DE69634667D1 (de) | 2005-06-02 |
EP0850202B1 (en) | 2005-04-27 |
EP1524246A1 (en) | 2005-04-20 |
EP0850202A1 (en) | 1998-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3841435B2 (ja) | 溶融シリカガラスを製造するためのブール振動パターン | |
JP3850880B2 (ja) | 溶融シリカガラス製造用閉じ込め容器 | |
JP3979666B2 (ja) | 溶融シリカガラスの製造に於ける、炉、その使用方法及び炉によって製造された光学製品 | |
KR101190914B1 (ko) | 감소된 줄무늬의 극 자외선 부재 | |
EP2038230B1 (en) | Method for making reduced striae low expansion glass | |
US6698248B2 (en) | Methods and furnaces for fused silica production | |
US20070263281A1 (en) | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same | |
US20070137253A1 (en) | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same | |
US20100154474A1 (en) | Reduced striae low expansion glass and elements, and a method for making same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20041122 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20050222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050308 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20050608 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20050725 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051122 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060222 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060424 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060522 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060725 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060808 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100818 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110818 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110818 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120818 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120818 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130818 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |