JP2814866B2 - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents

石英ガラスの製造方法

Info

Publication number
JP2814866B2
JP2814866B2 JP5022293A JP2229393A JP2814866B2 JP 2814866 B2 JP2814866 B2 JP 2814866B2 JP 5022293 A JP5022293 A JP 5022293A JP 2229393 A JP2229393 A JP 2229393A JP 2814866 B2 JP2814866 B2 JP 2814866B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
quartz glass
burner
ingot
temperature distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP5022293A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06234530A (ja
Inventor
潤 高野
和博 中川
典男 小峯
宏樹 神保
弘之 平岩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=12078705&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2814866(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority to JP5022293A priority Critical patent/JP2814866B2/ja
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Publication of JPH06234530A publication Critical patent/JPH06234530A/ja
Priority to US08/479,130 priority patent/US5702495A/en
Priority to US08/484,863 priority patent/US5699183A/en
Priority to US08/509,223 priority patent/US5703712A/en
Priority to US08/648,867 priority patent/US5696624A/en
Priority to US08/711,471 priority patent/US5719698A/en
Publication of JP2814866B2 publication Critical patent/JP2814866B2/ja
Application granted granted Critical
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70241Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415Reactant delivery systems
    • C03B19/1423Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/06Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/36Fuel or oxidant details, e.g. flow rate, flow rate ratio, fuel additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/70Control measures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00Glass compositions
    • C03C2201/02Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00Production processes
    • C03C2203/40Gas-phase processes

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は石英ガラスの製造方法に
関するものであり、特に高均質性が要求される合成石英
ガラス部材を必要とする分野、例えば光リソグラフィ
ー、高精度分光器、レーザー等の精密光学機器に有用と
される高均質な光学用合成石英ガラスに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコン等のウエハ上に集積回路
の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィー技術
においては、ステッパーと呼ばれる露光装置が用いられ
ている。このステッパーの光源は、近年のLSIの高集
積化にともなってg線(436nm)からi線(365
nm)、さらにはKrF(248nm)やArF(19
3nm)エキシマレーザーへと短波長化が進められてい
る。
【0003】一般に、ステッパーの照明系あるいは投影
レンズとして用いられる光学ガラスは、i線よりも短い
波長領域では光透過率が低下するため、従来の光学ガラ
スにかえて合成石英ガラスやCaF2(蛍石)等のフッ
化物単結晶を用いることが提案されている。このよう
に、紫外線リソグラフィー用の光学素子として用いられ
る石英ガラスには、紫外域の高透過性と屈折率の高均質
性が要求されている。紫外域の高透過性を実現するため
には、石英ガラス中の不純物濃度を抑える必要がある。
そこで、石英ガラスの原料となるSi化合物ガス(Si
化合物ガスを送り出すために、O2、H2等のキャリアガ
スが用いられる)と加熱のための燃焼ガス(O2ガスと
2ガス)とをバーナーから流出し、火炎内で石英ガラ
スを堆積させる火炎加水分解法が一般的に用いられてい
る。
【0004】この方法は、原料、燃焼ガスの不純物を抑
えることが容易なため、高純度な石英ガラスを得られる
ことが知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
火炎加水分解法により製造された石英ガラスは、不純物
濃度が抑えられてはいるが、屈折率の均質性に関しては
満足のいくものが得られていなかった。本発明の目的
は、このような問題を解決し、光透過性がよく、かつ屈
折率の均質性の高い石英ガラスの製造方法を提供するこ
とにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】屈折率の均質性は、ター
ゲット上にインゴットが形成されるときの径方向(横方
向)から見た温度分布に依存すると考えられる。そこ
で、従来は、バーナーの先端部の形状や、原料ガス、燃
焼ガス(O2ガスとH2ガス)の量や比を、あらかじめ均
質化の最適な温度分布となるように予測して設定してい
た。
【0007】しかしながら、温度分布は必ずしも予測通
りにはならず、また、どの程度の均質性の石英ガラスが
得られるかは、実際に製造して均質性を測定するまでわ
からなかった。本発明者らは、このような状況を踏まえ
た上で、屈折率の均質性を最適化するようにインゴット
のヘッド部の温度分布を調整すべく鋭意研究を重ねた結
果、ヘッド部の温度分布を計測し、その情報に応じてバ
ーナーのガス量を変化させることにより上記問題を解決
できることを見い出し、本発明を成すに至った。
【0008】よって、本発明は、Si化合物ガスとO2
ガスとH2ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、タ
ーゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する
石英ガラスの製造方法において、前記インゴットのヘッ
ド部の温度分布を計測して得られた情報により前記バー
ナーのガス量を変化させることを特徴とする石英ガラス
の製造方法(請求項1)を提供するものである。
【0009】また、本発明の石英ガラスの製造方法にお
いて、バーナーのガス量を変化させる手段として、好ま
しくはマスフローコントローラが用いられる(請求項
2)。
【0010】
【作用】従来の製造方法においては、屈折率の均質化に
最適な条件で石英ガラスのインゴットを一定の速度で安
定して合成させるために、バーナーのガス量はほとんど
一定であった。ところが、本発明者らが研究した結果、
一定のガス量では、ヘッドの温度分布に対する様々な外
乱要因により高均質の屈折率分布を持つ石英ガラスが得
られないことがわかった。さらに研究したところ、バー
ナーの中央部の燃焼ガスのガス量がヘッドの温度分布に
強く作用することと、周辺部の燃焼ガスのガス量はヘッ
ドの温度分布への影響が少ないことがわかった。したが
って、本発明においては、バーナー中央部のガス量をヘ
ッドの温度分布制御に利用し、バーナー周辺部のガス量
はインゴットを一定の速度で安定して合成させる制御に
利用した。これにより、絶えず合成速度の安定化を考慮
しながら屈折率の均質性を保つのに最適なガス量を制御
することができた。
【0011】本発明の石英ガラスの製造方法により製造
された石英ガラスは、主としてレンズ、プリズム、反射
板等の光学素子の母材として用いられる。この母材の外
周部分は削り取られ、必要に応じて切断、再成形されて
任意の形状に加工される。そして、内部歪をなくすため
にアニール(熱処理)した後、研磨、コーティング工程
を経て光学素子となる。
【0012】
【実施例】以下、火炎加水分解法を用いた本発明の石英
ガラスの製造方法の一実施例について説明するが、本発
明はこれに限られるものではない。図1は本発明の一実
施例を示す概念図である。バーナー1は、炉2の上部か
らターゲット3にその先端部を向けて設置されている。
炉壁には観察用の窓4と、IRカメラ観察用の窓5と、
排気孔6とがそれぞれ設けられている。さらに、炉の下
部には、インゴット7形成用のターゲット3が設置され
ている。
【0013】図2はバーナー先端部の概略図である。石
英管11からSiCl4ガスおよびキャリアガスが、加
熱のための燃焼ガスとして中央部の石英管12及び周辺
部の石英管13からO2ガスとH2ガスとがそれぞれ流出
される。それぞれのガス量は、バーナー先端部の形状等
によっても異なるが、本実施例の場合は、SiCl4
ス5〜50g/min.、O2ガス20〜250l/min.、
2ガス40〜500l/min.の範囲で変化させた。
【0014】燃焼ガスによる火炎により、SiCl4
スが酸化されて熔融石英となり、ターゲット上に堆積し
インゴットを形成する。インゴットのヘッド部は燃焼ガ
スによる火炎におおわれている。インゴットのヘッド部
の温度測定にはIRカメラ9を使用し、画面をデータ処
理するためのコンピュータ10、および、ガス量を制御
するマスフローコントローラ8(MFCと略す)で構成
されている。コンピュータは、処理された画面データか
ら最適なガス量を計算し、MFCに信号を送ることによ
り、オンラインでの制御が可能になっている。
【0015】図3は実験的にMFCによりバーナーの燃
焼ガスのガス量を変化させた時のインゴットのヘッド部
の温度分布と屈折率の均質性の結果を示す。本実施例に
おいては、インゴットを形成している際に径方向(横方
向)から見た温度分布を計測し、この情報に応じてバー
ナーのガス量を調整することにより屈折率の均質化に最
適な温度分布を保つことが可能となり、インゴットの径
方向の均質性の向上した石英ガラスを製造することがで
きた。
【0016】さらに、ヘッド部の温度分布を最適値に保
つために中央部ガス量を制御すると同時に、石英ガラス
のインゴットを一定の速度で合成するために周辺部のガ
ス量を制御することにより、インゴットの径方向(横方
向)から見た均質性の向上した石英ガラスを一定の速度
で安定して製造することができた。
【0017】
【発明の効果】以上の様に、本発明の石英ガラスの製造
方法によれば、温度分布を計測し、この情報に応じてバ
ーナーのガス量を変化させることにより屈折率の均質性
を最適化するような温度分布とすることができ、結果と
して不純物濃度が低く、かつ均質性の高い石英ガラスが
得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例1に用いられる石英ガラス製
造装置の概念図である。
【図2】 図1の製造装置のバーナー先端部の形状を示
す概念図である。
【図3】 バーナーのガス量を変化させたときのインゴ
ットのヘッド部の温度分布と屈折率の均質性の結果を示
す説明図である。
【符号の説明】
1 バーナー 2 炉 3 ターゲット 4 観察用窓 5 IRカメラ観察用窓 6 排気孔 7 インゴット 8 マスフローコントローラ 9 IRカメラ 10 コンピュータ 11 SiCl4ガス用石英管 12 バーナー中央部のO2、H2ガス用石英管 13 バーナー周辺部のO2、H2ガス用石英管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平岩 弘之 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 株式会社ニコン内 審査官 大工原 大二 (56)参考文献 特開 昭55−75934(JP,A) 特開 昭58−64233(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C03B 8/04 C03B 20/00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Si化合物ガスとO2ガスとH2ガスとをバ
    ーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラ
    スを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法
    において、前記インゴットのヘッド部の温度分布を計測
    して、得られた情報により前記バーナーのガス量を変化
    させることを特徴とする石英ガラスの製造方法。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の製造方法において、前記
    バーナーのガス量を変化させる手段としてマスフローコ
    ントローラを用いることを特徴とする石英ガラスの製造
    方法。
JP5022293A 1993-02-10 1993-02-10 石英ガラスの製造方法 Expired - Lifetime JP2814866B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5022293A JP2814866B2 (ja) 1993-02-10 1993-02-10 石英ガラスの製造方法
US08/479,130 US5702495A (en) 1993-02-10 1995-06-07 Silica glass member for UV-lithography, method for silica glass production, and method for silica glass member production
US08/484,863 US5699183A (en) 1993-02-10 1995-06-07 Silica glass member for UV-lithography, method for silica glass production, and method for silica glass member production
US08/509,223 US5703712A (en) 1993-02-10 1995-07-31 Silica glass member for UV-lithography, method for silica glass production, and method for silica glass member production
US08/648,867 US5696624A (en) 1993-02-10 1996-05-16 Silica glass member for UV-lithography, method for silica glass production, and method for silica glass member production
US08/711,471 US5719698A (en) 1993-02-10 1996-09-06 Silica glass member for UV-lithography, method for silica glass production, and method for silica glass member production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5022293A JP2814866B2 (ja) 1993-02-10 1993-02-10 石英ガラスの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06234530A JPH06234530A (ja) 1994-08-23
JP2814866B2 true JP2814866B2 (ja) 1998-10-27

Family

ID=12078705

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5022293A Expired - Lifetime JP2814866B2 (ja) 1993-02-10 1993-02-10 石英ガラスの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2814866B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3979666B2 (ja) * 1995-09-12 2007-09-19 コーニング インコーポレイテッド 溶融シリカガラスの製造に於ける、炉、その使用方法及び炉によって製造された光学製品
US5696038A (en) * 1995-09-12 1997-12-09 Corning Incorporated Boule oscillation patterns in methods of producing fused silica glass
WO1997010183A1 (en) * 1995-09-12 1997-03-20 Corning Incorporated Containment vessel for producing fused silica glass
WO2003027033A1 (en) * 2001-09-27 2003-04-03 Corning Incorporated Improved methods and furnaces for fused silica production
CN113683291A (zh) * 2021-07-30 2021-11-23 江苏亨通智能科技有限公司 一种生产大尺寸、高均匀性合成石英玻璃砣的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06234530A (ja) 1994-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3064857B2 (ja) 光リソグラフィー用光学部材および合成石英ガラスの製造方法
KR100382776B1 (ko) 석영유리,그것을함유하는광학부재및그의제조방법
JP4304409B2 (ja) 石英ガラス部材の製造方法
JP5299477B2 (ja) 合成石英ガラスの製造方法
EP1129998B1 (en) Method for producing quartz glass member
EP0901989B1 (en) Silica glass and its manufacturing method
JP2814867B2 (ja) 石英ガラスの製造方法
EP1462717A2 (en) Burner for the manufacture of synthetic quartz glass
EP1538130A1 (en) Burner and method for the manufacture of synthetic quartz glass
JP2814866B2 (ja) 石英ガラスの製造方法
EP1063203A1 (en) Silica glass member
JP3520541B2 (ja) 石英ガラス製バーナー、これを用いて製造される石英ガラス、石英ガラスバーナーを用いた石英ガラスの製造方法
US6587181B2 (en) Optical system with improved durability for projection exposure apparatus and method for manufacturing optical system for projection exposure apparatus
JPH1053432A (ja) 石英ガラス光学部材、その製造方法、及び投影露光装置
JP2000290026A (ja) エキシマレーザー用光学石英ガラス部材
JP4438948B2 (ja) 合成石英ガラス製造用バーナー及び合成石英ガラスインゴットの製造方法
JP3360374B2 (ja) 石英ガラスの製造方法
JP3341395B2 (ja) 石英ガラスの製造装置
JP3230346B2 (ja) 石英ガラスの製造装置および製造方法
JPH1129331A (ja) 合成石英ガラス光学部材の製造方法および光学部材
JP2003176143A (ja) 合成石英ガラス部材
JPH08709B2 (ja) 光透過体用石英ガラス母材とその製造方法、及び前記母材を用いて形成した光透過体
JPH11116255A (ja) 石英ガラスの均質化方法及びこれにより得られた石英ガラス
JP2006265029A (ja) 合成石英ガラスの製造方法、光学部材、露光装置、及び合成石英ガラスの製造装置
JP2003057401A (ja) 光学素子

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070814

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130814

Year of fee payment: 15

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130814

Year of fee payment: 15