JPH11511433A - 塩化水素の触媒酸化のための発熱的二段階プロセス - Google Patents
塩化水素の触媒酸化のための発熱的二段階プロセスInfo
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- JPH11511433A JPH11511433A JP9512975A JP51297597A JPH11511433A JP H11511433 A JPH11511433 A JP H11511433A JP 9512975 A JP9512975 A JP 9512975A JP 51297597 A JP51297597 A JP 51297597A JP H11511433 A JPH11511433 A JP H11511433A
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Abstract
(57)【要約】
塩化水素の気流から塩素を回収する方法であって、HCl及び酸素の気流を塩素化剤反応器(11)に供給し、酸化第二銅及び塩化第二銅を含有する触媒の流動化した床(15)と発熱的に反応させ、酸化第二銅を塩化第二銅及びヒドロキシ塩化銅に部分的に変換すること、塩化第二銅、ヒドロキシ塩化銅及び残りの酸化第二銅を含有するキャリアー触媒(40)を(11)から組み合わせ酸化反応器(16)に通し、HCl及び酸素(10a)の気流と発熱的に反応し、これによって(11)に戻される酸化第二銅を生じさせること、塩素、HCl、不活性物質及び酸素のオーバーヘッド気流を(16)から(11)に供給し、これらの中のHClをキャリアー触媒中の酸化第二銅と反応させること、(11)から生成物の気流(23)が、塩素に富んでいるが、実質的にHClを含まないことを含む方法。
Description
【発明の詳細な説明】
塩化水素の触媒酸化のための発熱的二段階プロセス
本発明は、組み合わせ触媒キャリアーシステムを使用する多段階連続反応発熱
プロセスによって、ウェス又は副生塩化水素から塩化水素を回収するための装置
及び方法に有用である。塩化水素は、二酸化チタン顔料、ポリウレタン、エピク
ロルヒドリン、塩化ビニル、有機ハロゲン化物、及び多くの他の有用で経済的に
重要な物質の製造を含めた多くの化学プロセスからの副生成物として産生される
。典型的には、基本的な化学プロセスで使用される塩素は、鉄道、トラック又は
船による輸送で大スケールの電気化学的プラントから供給される。副生成物であ
る塩化水素は、通常、環境毒性物質と考えられ、低価格で販売することによって
、又はライム又は苛性化物の形態(これらは、例えば埋め立てで処分されなけれ
ばならない。)で集められ、処分される。
本明細書で開示される発明は、経済的で環境に安全な方法で、且つ、発熱的条
件下で行われる二段階プロセスで、基本的な化学プロセスにリサイクルするため
の塩素を製造し、該基本的プロセスで使用するための塩素を回収し、これによっ
て外部から供給されなければならない量を実質的に減少し、有用な熱を発生させ
、且つ、新鮮な塩素のコストを十分に下げるコストで、塩化水素を酸化すること
を可能にする。
本発明の概要
手短に言えば、主目的は、塩化水素の気流から塩素を連続的に回収する標準的
な方法を提供することである。該方法には、以下のステップが含まれる。
a)酸化用反応器及び塩素化剤反応器を含めた少なくとも2つの反応器を提
供し、該反応器の反応領域において酸化第二銅及び塩化第二銅を含有するキャリ
アー触媒の流動化床を提供すること、
b)各反応器に塩化水素及び酸素の気流を供給すること、
c)塩素化剤反応器中で該気流を、150°から220℃の間の温度でキャ
リアー触媒である酸化第二銅及び塩化第二銅の流動化床と反応し、発熱的に酸化
第二銅の一部を塩化第二銅及びヒドロキシ塩化銅に変換し、これによって塩素、
酸素、不活性物質及び水を含んだ生成物気流(これは塩素化剤反応器から除去さ
れる。)を産生させて塩化水素を本質的に除去すること、
d)塩素化剤反応器からの塩化第二銅、ヒドロキシ塩化銅、及び残りの酸化
第二銅を含有する流動化キャリアー触媒流を、床が約300°から400℃の間
の温度で操作される組み合わせ反応器に供給されるように通し、この場合に、組
み合わせ反応器に、床を流動化するように塩化水素及び酸素の気流が供給され、
塩化第二銅とヒドロキシ塩化銅との発熱的反応が酸化第二銅、及び塩素、未回収
の塩化水素、不活性物質水及び残留酸素のオーバーヘッド気流を生じさせること
、
e)c)で定義した塩化水素との反応のための塩素化剤反応器に酸化第二銅
を含有するキャリアー触媒流を供給すること、
f)組み合わせ反応器からの塩素、塩化水素、不活性物質、水、及び酸素を
塩素化剤反応器に供給し、150°から220℃の間の操作温度で、この中の塩
化水素をキャリアー触媒中の酸化第二銅と反応させること、
g)塩素化剤反応器からの生成物気流が塩素に富んでいるが、実質的に塩化
水素を含まないものであること。
他の目的は、発熱条件下で行われ、従って外部からの燃料が必要ない高度に経
済的な方法を与える二段階反応を提供することである。これらのステップには、
「銅塩化物」、銅酸化物及び種々のオキシ塩化銅の複合体に関連する制御された
組成物の触媒のリサイクルが含まれる。両段階は、典型的には塩化水素及び酸素
が供給される。
他の目的は、両段階で熱を発生させ、高圧気流を生じさせ、十分な量で、酸素
コンプレッサー、冷却用コンプレッサーの動力を供給し、全プロセスの正味の電
力を生じさせることである。
更なる目的は、塩化水素を含まない塩素生成物を生じさせる操作の条件を提供
することである。これは、脱水剤を再生させるための必要な分離エネルギーを供
給するための、二段階プロセスからの熱の回収を伴う吸着再生式ドライヤー又は
他の液体脱水システムを用いて塩化水素水溶液を生じさせることなく水を分離す
る第二の回収システムを含む。
更なる目的は、塩素を、特別に設計した吸着剤、又は液体吸収システムを使用
して、窒素、アルゴン、及び酸素のような残留非凝縮性ガスから分離する他の回
収ステップを提供することである。明らかに、全プロセスは、投資費用が低く、
腐食が少なく、操作費用が低く、新たな導入塩素のコストを十分に下げるコスト
で改善した塩素を産生する。
重要なことは、プロセス全体から見た場合に、触媒キャリアー塩素化ステップ
が、システム内で組み合わせ反応器の流出物に存在する塩化水素をリサイクルし
て使用し、塩化水素を含まない塩素気流生成物を生じるという事実である。これ
に関連して、一段階触媒酸化プロセスの主要な問題は、妥当な操作条件下で、約
60%から70%に平衡を拘束することによって強要される塩化水素の変換の制
限である。多段階酸化反応器と、第二段階としての触媒キャリアーシステムを組
み合わせることで、相互依存的な統合により、第二段階の触媒キャリアープロセ
スでの塩素化ステップによって精製された第一段階からの廃ガスが生じる。
本発明は、米国特許第4,959,202及び米国特許出願第08/338,
858の開示を改善する。これらの開示は、背景として、参照文献として本明細
書の一部をなす。
これらの及び他の目的、及び本発明の利点、並びに例示の態様の詳細は、以下
の明細書及び図面からより完全に理解されるであろう。
図面の説明
図1は、物質平衡の一覧を備えたブロック流れ図である。
図2は、方法の経済的要因を表にしたものである。
図3は、プロセス流れ図である。
図4は、塩素回収システムである。
図5は、実験データのまとめである。
図6は、実験室的な実験装置の略図である。詳細な説明
本発明の方法は、多段階流動化床システムで使用するのに適した形態のアルミ
ナ、シリカ、ゼオライト又はモレキュラーシーブのような担体塊体上に含浸させ
た酸化物及び塩化物の複合体の形態で金属元素を有するキャリアー触媒システム
を使用する。化学反応は一連のステップで起こる。これには、
1) 2HCl(g)+1/2O2(g) → Cl2(g)+H2O(g)(反応全体)
2) CuO(S)+HCl(g) → Cu(OH)Cl(S)
3) 2Cu(OH)Cl(g) → Cu2OCl2(S)+H2O(g)
4) Cu2OCl2(s) → CuO(S)+CuCl2(S)
5) CuCl2(S) → CuCl(S)+1/2Cl2(g)
6) 2CuCl(S)+1/2O2(g)→ CuCl2(S)+CuO(S)
が含まれる。
これらの固有の反応は、図1のブロックダイアグラムに示されるように、及び
図3で明らかなように、固有の反応領域、及び固有の温度領域、及び以下のステ
ップで起こる。
ステップ1
水性又は水及び存在するとすればプロセスの不純物を含む酸素、空気及び塩化
水素の気流10を、適切な担体に1:1の比で沈積させた塩化ナトリウムを有す
る銅酸化物及び銅塩化物のキャリアー触媒の流動化床12を介して、塩素化剤容
器11に通す。複雑な塩化物の形成に対する反応2、3、及び4が、床12内に
熱移動システム13を設けることによって150°から220℃の範囲に維持さ
れた温度で起こる。熱移動システムは、好ましい配列で、気流14aを発生する
熱交換機14を介して、反応の発熱を逃がし、プロセスの熱経済性を改善する。
13及び14で使用される熱移動の液体は、典型的には、要求される純度及び圧
力のボイラーに供給される水である。
塩素化された触媒物質は、粒状形態で第一の反応器から40で連続的に取り出
され、ステップ2が行われる第二の反応器16中の流動化された床15に移され
る。
ステップ2
水性又は水及びプロセスの不純物を含有する酸素、空気及び塩化水素の気流1
0aを、流動化した床15を介するように第二、即ち組み合わせ酸化反応器16
に通し、上記反応2から6を行い、複雑な塩化物を酸化第二銅及び塩化第二銅に
変換し、塩素ガスを放出させる。反応器16内の流動化した床15に、HClと
、100%酸素から20%酸素まで低下させた範囲の酸素及び窒素のガス混合物
10aを、17から反応器に導入して吹き込む。反応器16は、流動化した床1
5内の熱移動システム19を介して発熱的に生じた熱を除くことによって300
°から400℃の間の温度に維持される。熱移動は60で起こり、気流は61で
生じる。19及び60で使用される熱移動の液体は、典型的には、相応な組成と
圧力の、ボイラーに供給される水である。
反応器16内のガス及び触媒組成物及び温度は、かなりの量の塩化水素を残す
、塩化水素の塩素への酸化による化学的に平衡が制限された変換を起こす。この
塩化水素は、供給された塩化水素の塩素への全変換を改善し、塩素生成物の汚染
を防止するためには、除去されなければならない。
反応器16内のガス及び触媒組成物及び温度は、塩化水素の塩素への平衡が制
限された変換を起こし、排出ガス中に一定量の塩化水素を存在させる(図5の表
参照)。排出ガス中の塩化水素は供給された塩化水素の塩素への全体としての変
換を改善し、塩素生成物の汚染を防止するために除去されなければならない。
この除去は、ステップ3、即ち、反応器11への、塩化水素を含有するガスの
70でのリサイクルで達成される。酸化第二銅と複雑な銅塩化物を含有するキャ
リアー触媒の連続流を、ライン41を介して取り出し、第一の反応器内の床12
に戻す。
ステップ3
第二の反応器からの、塩素、酸素、窒素、及び未変換の塩化水素を含有するホ
ットガスの全流を、41を介して第一の反応器11及び流動化した床12にリサ
イクルする。ここで、含有される塩化水素が、第二の反応器16から戻された酸
化第二銅と反応する。第一の流動化床12に対して選択される温度条件、150
°から220℃で、塩化水素のみが反応し、酸素、窒素、水、及び塩素は変化せ
ずに通過する。反応器12及び反応器15は、内部に粉塵回収サイクロン21及
び22を備えており、排出ガスから触媒の粉塵を除去し、流動化床に該粉塵を戻
す
ことに注意する。
ステップ4
23で第二の反応器から出ていく流出ガスは、塩素、水、酸素、及び窒素であ
る。これらは、89及び89aで熱交換にかけ、水の除去のための回収システム
50、冷却器51、及び52での塩素、53での塩素生成物ガス、54での液体
塩素の除去のためのシステムにかけられる。説明したように操作する場合、該シ
ステムに導入される99%以上の塩化水素10及び10aを、ステップ5で説明
するようにガス又は液体の塩素生成物53及び54として回収する。
ステップ5
塩素化反応器11を出ていくガスは、クーラー89及び冷却器89aを通り、
脱水機50に導入される前に温度レベルを低下させる。ここで、再生システムは
、固体吸着剤又は液体吸収脱水剤(これは個別に選択されうる。)91との多段
階接触を用いる。活性な脱水剤は、塩素、酸素及び窒素を含有するガスから水を
除去し、後者は、熱再生の適切な手段90を用いてシステム92から排出される
。概略図4は、可能な再生式脱水システムを単に例示するために与えられるもの
である。該システムは、主触媒反応器システム14aの熱回収部分で生成される
蒸気を使用することができる。
図4を参照すれば、触媒セクションから得られる生成物ガス23は、多機能バ
ルブを介して脱水システム50に導入される。該システムでは、自動バルブA、
B、C、D、E、F、G、及びHの適切な配置によって脱水剤91又は水ストリ
ッパー92の何れかを介して流れが方向付けられ、一方又は他方の容器に順次通
される。91又は92の何れかから得られた脱水ガスは追加の冷却器51に通さ
れる。ガスから除かれた水は、多段階吸着材料又は吸収材料が順次2つの容器に
通される加熱された導入ガスと接触され、排出又は処分するために該水を除去す
ることによって再生されるまで、多段階吸着材料又は吸収材料に保持される。
冷却され、脱水されたガス24は、冷却器51を通り、25で塩素吸収機52
に導入される。ここでの選択溶媒との接触で、多段階接触システム内の塩素が吸
収される。本質的に窒素と残留酸素とよりなる塩素を含まないガスは、少量の塩
素を吸着するための保護床81及び82を通る。該塩素は後に除去される。保護
床からの排気ガスは、大気中に排出されるか、又は高純度酸素が本プロセスで使
用される場合には、残留酸素を使用するためにリサイクルされる。
吸着機52の底部から塩素を含有する溶媒を、82で汲み出し、熱交換機83
を通し、ストリッパー84に運ぶ。ここで、蒸気で加熱された再沸騰機85で溶
媒の温度を上げることによって塩素を分離する。塩素を含まない溶媒は、ストリ
ッパーの底部から流出し、熱交換機83を通って連続式で塩素吸収器52に戻さ
れる。ストリッパー中で溶媒から除去された塩素55は、冷却器86に流れる。
ここで部分的に凝縮された液体を還流ドラム87で分離し、ポンプ88でストリ
ッパー84に戻し、液体塩素の一部を生成物貯蔵庫54に流出させる。未縮合の
塩素ガス53は、塩化水素を生成するため、又は若干の他の化学的使用のための
元の塩素消費プラントへのリサイクル用生成物ラインに運ばれる。
一段階酸化ステップ及び塩素化ステップの双方が発熱的であるので、外部の熱
源は必要なく、十分な量の燃料及び資本投資を節約できる。反応器から利用可能
な熱は、高圧で過熱させた蒸気の形態で正のエネルギーフローをもたらし、これ
はコンプレッサーを稼働させ、ポンプ及び他のシステムに必要な電力を生じさせ
るのに使用され、十分に、全体の操作費用を低下させる。
実験室的な実験を実行する間に発見されたこの二段階プロセスの独特の性質の
更なる証として、図5を示す。これは、2つの反応器の間を通る個々の物質の循
環する気流を含有する流動化反応器に、供給ガスとして塩化水素と酸素を組み合
わせる特別な結果を例示するものである。前記2つの反応器の1つは、360°
から400℃で操作され、ここで塩化水素が、化学平衡によって塩素が40%か
ら70重量%に制限されて、部分的に変換される(これは、詳述されたDeacon
プロセスとして周知である。)。更に、図5は、150°から220℃の間で操
作される第二の流動化床反応器に、塩化水素、塩素、残留酸素、窒素、及び新た
に産生された水蒸気の全流出流を通す、独特の新たな発明を提供する。
塩化水素のみが触媒物質と反応し、オキシ塩化銅及び他の複雑な化合物を形成
し、ガス気流から塩化水素を除去し、塩化水素の除去のための更なる処理を必要
とすることなく低温反応器から塩素回収システムへ排出ガスを輸送することが可
能となる。
本プロセスは、ガスが2つの反応器の間を通過する際に、水蒸気が除去される
場合、同じ方法で作動するであろう。しかし、このステップは、本プロセスでは
きちんと操作する必要がない。
この発見は、連続法を基準にした4kg/時間の塩素生成パイロットプラントの
操作で確認された。両反応器は、反応の発熱的な領域で操作され、高圧蒸気又は
他の適切な熱回収媒体に十分なエネルギーを生じさせる。流動化された銅ベース
の触媒と反応し、複雑な固体化合物を形成する塩化水素は、低温反応器から高温
反応器(ここで、これは塩素に変換される。)に送られる。この方法での塩化水
素のリサイクルは、簡単な二段階発熱システムで、供給された塩化水素の塩素へ
の、全体として100%の変換を起こす。
2つの発熱ステップの間で触媒を循環させるこれら2つの反応器の組み合わせ
は、吸熱様式で操作され、外部の供給源から部分的に十分な熱を必要とする別々
の酸化反応器を使用する最近の出願第08/338,858に開示された方法と
は有意に異なっており、同様の理由で米国出願第4,959,202と異なって
いる。
図5に示される実験データは、全体の概念を検証するために入力及び出力ガス
分析用に取り付けられた循環流動化床ベンチスケールユニットを操作することに
よって得た。
図6に示される装置は、2つの25mmの石英反応器300及び301よりなり
、これらは301での酸化ステップの400℃と、300での塩素化ステップの
200℃の間で、触媒を移動させるためのアップフロー輸送管302及び303
と接続される。各反応器に、制御された流れの塩化水素、酸素及び窒素を供給す
る。矢印304及び305参照。温度を温度制御された電熱テープ306及び3
07で必要なレベルに維持する。反応器間の触媒流は、輸送管の複数の位置で窒
素を導入することによって移動される。308及び309参照。310及び31
1で反応基から排出されるガスは、粉塵ノックアウト容器312及び313を通
り、塩化水素及び塩素が分析され、処理用の排出フードに通される。矢印313
及び314参照。500ml/分のオーダーの全流速のガスを各反応器に導入する
。固体循環速度は、典型的には1分あたり5から20gmsである。
本発明の経済的要因の例示として、1年あたり60,000トンの水性塩化水
素を加工するプラントを工学的にデザインし、作業経費を、副生生物である塩化
水素の供給がゼロの値である場合を基準にして決定した。図2に示されるように
、これらの結果は、塩素回収費用が1トンあたり$78(1995年のデータ)
であり、現在の市場で塩素の販売価格が1トンあたり$230であることを示し
た。
図2には、典型的なプラント資本及び作業経費によるプロセスの経済的要因を
列挙した。
説明したように、全システムは、基本的に塩化水素の塩素への100%の変換
を提供する。生成物である塩素は、液体として、又は99%以上の純度のガス気
流として生産される。大気又は地下水に放出される毒性又は有害な排出ガスは、
全く生産されない。標準的な電気化学的プロセスの30%以下のエネルギー要量
が得られ、これは他の提案された塩素回収プロセスに対して報告されている消費
よりも十分に低い。図1は、物質バランスのデータを示す。
米国特許第4,959,202の開示で述べたのと同様に、本プロセスは、銅
に代えて酸化マンガン及び塩化マンガンを触媒キャリアーに使用して、良好な結
果で行なうことができる。ここで塩素反応器は250°〜350℃の範囲の温度
で操作され、組み合わせ反応器は約400°〜450℃の温度で操作される。
鉄酸化物及び鉄塩化物も代用されうる。
生成物気流からの熱の回収及び塩素の回収は、米国特許第4,959,202
に開示されているように行うことができる。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項
【提出日】1997年7月9日
【補正内容】
請求の範囲
1. 塩化水素の気流から塩素を回収する方法において、ステップが、
a)塩素化剤反応器及び組み合わせ反応器を含めた少なくとも2つの反応器
を提供し、該塩素化剤反応器内の反応領域において酸化第二銅及び塩化第二銅を
含有するキャリアー触媒の流動化床を提供すること、
b)各反応器に塩化水素及び酸素を含有するガスの気流を供給すること、
c)塩素化剤反応器中で塩化水素及び酸素を含有するガスの前記気流を、1
50°から220℃の間の温度で酸化第二銅及び塩化第二銅を含有するキャリア
ー触媒の前記流動化床と反応し、発熱的に酸化第二銅の一部を塩化第二銅及びヒ
ドロキシ塩化銅に変換し、これによって、前記塩素化剤反応器から除去される塩
素、酸素、不活性物質及び水を含んだ生成物気流を生じさせて塩化水素を本質的
に除去すること、
d)前記塩素化剤反応器からの塩化第二銅、ヒドロキシ塩化銅、及び残りの
酸化第二銅を含有するステップ(c)で生じたキャリアー触媒を、約300°か
ら400℃の間の温度で操作される床を形成した組み合わせ反応器に通し、この
場合に、前記組み合わせ酸化反応器は、塩化水素及び酸素を含有するガスの気流
を補充され、前記床を流動化し、キャリアー触媒内の塩化第二銅とヒドロキシ塩
化銅との発熱的反応が酸化第二銅、並びに塩素、未回収の塩化水素、不活性物質
、水及び残留酸素のオーバーヘッド気流を生じさせること、
e)c)で定義した塩化水素との反応のための塩素化剤反応器に酸化第二銅
を含有するステップ(d)で生じたキャリアー触媒流を供給すること、
f)組み合わせ酸化反応器からの塩素、塩化水素、不活性物質、水、及び酸
素のオーバーヘッド気流を塩素化剤反応器に供給し、150°から220℃の間
の操作温度で、この中の塩化水素をキャリアー触媒中の酸化第二銅と反応させる
こと、
g)塩素化剤反応器からの前記生成物気流が塩素に富んでいるが、実質的に
塩化水素を含まないものであること、
を含むもの。
2. 請求の範囲第1項に記載の方法であって、熱が、両反応器で発熱的に生
成され、外部での使用のために両反応器から除去される方法。
3. 請求の範囲第2項に記載の方法であって、反応器から除去される熱が過
熱された蒸気を生じるように使用される方法。
4. 請求の範囲第1項に記載の方法であって、塩素化剤反応器から除去され
る前記の塩素に富む生成物の気流が、塩素回収のための加工に付され、その結果
、前記反応器に供給される塩化水素の塩素含量の少なくとも約99%の塩素が塩
素生成物として回収される方法。
5. 請求の範囲第1項に記載の方法であって、前記触媒キャリアーが、アル
ミナ、ゼオライト、シリカ、及びモレキュラーシーブよりなる群から選択される
担体を含有する方法。
6. 前記塩素化剤反応器からの前記生成物気流から熱を除去することを含む
請求の範囲第1項に記載の方法。
7. 塩化水素及び酸素の反応器への供給を制御することを含む請求の範囲第
1項に記載の方法。
8. 反応器からの、ステップ(c)での生成物気流及びステップ(f)での
オーバーヘッド気流排出物としての、反応器内の流動化した床からの細かな粒状
物の除去のためのサイクロン分離器の使用を含む請求の範囲第1項に記載の方法
。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L
U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF
,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,
SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S
Z,UG),AM,AT,AU,BB,BG,BR,B
Y,CA,CH,CN,CZ,DE,DK,EE,ES
,FI,GB,GE,HU,IS,JP,KE,KG,
KP,KR,KZ,LK,LR,LT,LU,LV,M
D,MG,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT
,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,
TM,TT,UA,UG,US,UZ,VN
(72)発明者 ベンソン、シドニー・エム
アメリカ合衆国、カリフォルニア州
90049、ブレントウッド、ノース・バンデ
ィー・ドライブ 110
(72)発明者 モーテンセン、マックス・ケー
アメリカ合衆国、カリフォルニア州
91789、ウォルナット、ケイペン・アベニ
ュー 1056
(72)発明者 ツォツィス、セオドール・ティー
アメリカ合衆国、カリフォルニア州
92649、ハブティントン・ビーチ、フェル
プス・レーン 16781
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. 塩化水素の気流から塩素を回収する方法において、ステップが、 a)塩素化剤反応器及び組み合わせ反応器を含めた少なくとも2つの反応器 を提供し、該塩素化剤反応器内の反応領域においてキャリアー触媒である酸化第 二銅及び塩化第二銅の流動化床を提供すること、 b)各反応器に塩化水素及び酸素を含有するガスの気流を供給すること、 c)塩素化剤反応器中で前記気流を、150°から220℃の間の温度でキ ャリアー触媒である酸化第二銅及び塩化第二銅の前記流動化床と反応し、発熱的 に酸化第二銅の一部を塩化第二銅及びヒドロキシ塩化銅に変換し、これによって 、前記塩素化剤反応器から除去される塩素、酸素、不活性物質及び水を含んだ生 成物気流を生じさせて塩化水素を本質的に除去すること、 d)前記塩素化剤反応器からの塩化第二銅、ヒドロキシ塩化銅、及び残りの 酸化第二銅を含有する前記流動化キャリアー触媒流を、床が約300°から40 0℃の間の温度で操作される組み合わせ反応器に供給されるように通し、この場 合に、前記組み合わせ酸化反応器に、前記床を流動化するように塩化水素及び酸 素を含有するガスの気流が供給され、塩化第二銅とヒドロキシ塩化銅との発熱的 反応が酸化第二銅、及び塩素、未回収の塩化水素、不活性物質、水及び残留酸素 のオーバーヘッド気流を生じさせること、 e)c)で定義した塩化水素との反応のための塩素化剤反応器に酸化第二銅 を含有するキャリアー触媒流を供給すること、 f)組み合わせ反応器からの塩素、塩化水素、不活性物質、水、及び酸素の オーバーヘッド気流を塩素化剤反応器に供給し、150°から220℃の間の操 作温度で、この中の塩化水素をキャリアー触媒中の酸化第二銅と反応させること 、 g)塩素化剤反応器からの前記生成物気流が塩素に富んでいるが、実質的に 塩化水素を含まないものであること、 を含むもの。 2. 請求の範囲第1項に記載の方法であって、熱が、両反応器で発熱的に生 成され、外部での使用のために両反応器から除去される方法。 3. 請求の範囲第2項に記載の方法であって、反応器から除去される熱が過 熱された蒸気を生じるように使用される方法。 4. 請求の範囲第1項に記載の方法であって、塩素化剤反応器から除去され る前記の塩素に富む生成物の気流が、塩素回収のための加工に付され、これによ って前記反応器に供給される塩化水素の塩素含量の少なくとも約99%の塩素が 塩素生成物として回収される方法。 5. 請求の範囲第1項に記載の方法であって、前記触媒キャリアーが、アル ミナ、ゼオライト、シリカ、及びモレキュラーシーブ物質よりなる群から選択さ れる方法。 6. 組み合わせ酸化反応器から流れ出る塩素、塩化水素、不活性物質、及び 酸素の気流から塩素回収システムへ熱を移動することを含む請求の範囲第1項に 記載の方法。 7. 塩化水素及び酸素の反応器への供給を制御することを含む請求の範囲第 1項に記載の方法。 8. 反応器からのガス排出物としての、反応器内の流動化した床からの細か な粒状物の除去のためのサイクロン分離器の使用を含む請求の範囲第1項に記載 の方法。
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