JPH11509306A - マイクロ波エネルギーにより希釈剤含有樹脂の希釈剤濃度を低減する方法 - Google Patents

マイクロ波エネルギーにより希釈剤含有樹脂の希釈剤濃度を低減する方法

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JPH11509306A
JPH11509306A JP8536533A JP53653396A JPH11509306A JP H11509306 A JPH11509306 A JP H11509306A JP 8536533 A JP8536533 A JP 8536533A JP 53653396 A JP53653396 A JP 53653396A JP H11509306 A JPH11509306 A JP H11509306A
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ジェイ. アイダカベッジ,マイケル
ダブリュ. ケルソール,ロバート
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ナップ システムズ,インコーポレイテッド
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    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
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    • F26B3/347Electromagnetic heating, e.g. induction heating or heating using microwave energy
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Abstract

(57)【要約】 本発明に従い、溶剤含有樹脂組成物の迅速、効率的な乾燥方法とそのための有用な装置を提供する。発明の方法は、種々の樹脂、例えば印刷版から溶剤を除去するために使用できる。本発明の方法と装置を採用して処理した印刷版は、印刷用途に使用容易であり、特に従来の熱対流乾燥に必要な時間に比べ、比較的短時間の乾燥が可能である。更に、本発明の方法と装置に従い処理した版は、従来の熱対流乾燥にしばしばあるような、過度の加熱温度に暴露されることがない。過度の加熱は、重合体樹脂の性能特性に対して有害な傾向である。本発明の特別な観点では、ここに述べる方法に従って乾燥を行う場合、色変化を受ける新規な組成物を提供することができ、この色変化は乾燥工程が実質的に完了したことを表示する。印刷版の製造に使用する場合、本発明の組成物は、印刷版の床と画像部分との間に識別容易なコントラストを表す完成印刷版を提供することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 マイクロ波エネルギーにより希釈剤含有樹脂の希釈剤濃度を低減する方法 発明の分野 本発明は、水現像性感光性印刷版の製造方法、とそのために有効な装置に関す るものである。 発明の背景 凸版印刷版の製造に使用する感光性樹脂版は、水及び/又は有機溶剤を用い洗 浄により現像される。ひとたび露光版の現像(例えば、洗浄して未露光樹脂を除 去する)が完了すれば、樹脂版の次の処理工程に先立ち、露光樹脂から残留溶剤 を除去することが望ましい。その不履行は、最終硬化時の版の本来の姿を、例え ば亀裂、破壊、収縮、曲がり等により危うくし、且つ版の乾燥が不十分であれば 印刷品質不良に導かれるであろう。 現在、このような目的のために、当業界では熱対流炉を使用している。しかし ながら、溶剤含有樹脂の乾燥に使用する現在の方法には多くの欠点がある。例え ば、現在の方法では、溶剤除去のために樹脂版全体を加熱する(溶剤除去の標的 になる樹脂の部分だけを選択的加熱する代わりに)、熱対流炉が加熱と冷却の長 いサイクルを必要とする、もし急速乾燥が必要な場合には炉を長時間高温度に維 持する必要がある、連続乾燥工程を意図する時には大規模炉(関連空間と利用設 備要件を備えた)が必要である等の理由で、エネルギー的に大変非効率である。 更に、意に叶った乾燥水準を達成するために、樹脂を過度の加熱水準に暴露し がちになる。このような暴露は、樹脂の特性に多くの不利益な影響、例えば重合 体樹脂の劣化、樹脂の亀裂、樹脂版の曲がり等をもたらす可能性がある。 従って、当業界に必要なことは、重合体樹脂材料から希釈剤を除去するために 現在利用されている以上にエネルギー効率のよい方法である。特に、前記樹脂の 化学的および物理的特性を損なうことなく、重合体樹脂材料から希釈剤を除去す る方法が有用である。 発明の概要 本発明に従い、我々は、溶剤含有樹脂組成物を乾燥するための迅速且つ効率的 な方法、とそれに有効な装置を開発した。発明の方法は、種々の樹脂、例えば印 刷版から溶剤を除去する目的に使用できる。本発明の方法と装置を採用して処理 した印刷版は、印刷用途に使用容易であり、特に従来の熱対流乾燥に必要な時間 に比べ、比較的短時間の乾燥が可能となる。更に、本発明の方法と装置に従い処 理した印刷版は、従来の熱対流乾燥にしばしばあるような、過度の加熱温度に暴 露されることがない。過度の加熱は、重合体樹脂の性能特性に対して有害な傾向 である。 本発明の特別な観点では、ここに述べる方法に従って乾燥を行う場合、色変化 を受ける新規な組成物を提供するもので、この色変化は乾燥工程が実質的に完了 したことを示す。印刷版の製造に使用する場合、本発明の組成物は、印刷版の床 と画像部分との間に識別容易なコントラストを表す完成印刷版を提供する。 図面の概要 図1は、強制空気加熱炉中(60℃に維持、図中では黒色箱型;■印で表示) とマイクロ波中(300ワットで操作、図中では+印で表示)におけるフレクセ ル(ナップシステム社の商標)光重合性印刷版の乾燥プロフィールを比較する。 10インチの正方形の版を使用した。 図2Aは、強制空気加熱炉中(60℃に維持、図中では空白の三角形;△印で 表示)とマイクロ波中(300ワットで操作、図中では+印で表示)におけるフ レクシード(スプラテック社の商標)光重合性印刷版の乾燥プロフィールを比較 する。10インチの正方形の版を使用した。 図2Bは、強制空気加熱炉中(60℃に維持、図中では黒色箱型;■印で表示 )とマイクロ波中(300ワットで操作、図中では+印で表示)におけるナイオ フレックス・アクア(BASF社の商標)光重合性印刷版の乾燥プロフィールを 比較する。10インチの正方形の版を使用した。 発明の詳細な説明 本発明に従えば、希釈剤含有樹脂中の希釈剤濃度を低減する方法が提供され、 前記樹脂はマイクロ波適合性支持体上に塗装され、前記方法は、前記塗装支持体 を十分なマイクロ波エネルギーにさらして前記樹脂中の希釈剤濃度を実質的に低 減することを特徴とするものである。 本発明の実施に際して、広範囲の樹脂の使用が可能である。ここで用いる「樹 脂」の用語は、明確な融点をもたない天然または合成系の固体または半固体の有 機材料を言う。このような材料は通常比較的高分子量である。重合性ならびに非 重合性樹脂が本発明の方法により処理可能である。重合性樹脂は種々の方法、例 えば光重合、熱誘導重合などで重合可能である。重合方法に関係なく、本発明に 従って如何なる樹脂も処理可能である。 例えば、従来の感光性樹脂版の調整に使用した感光性樹脂組成物のような、種 種の感光性樹脂材料が当業界では周知である。このような材料は、種々の反応性 材料、例えば液状不飽和ポリエステル、ポリビニルアルコール、水溶性ポリアミ ド、ポリウレタン、セルロースアセテート・サクシネート、アルコール溶性ポリ アミド、水現像性アクリルポリマー等を基底にしている。前記樹脂の全ては、本 発明の方法で処理可能である。 本発明の実施において使用可能な代表的樹脂は、架橋して前記マイクロ波適合 性支持体上に実質的に不溶性被膜を形成する、重合性樹脂である。このような材 料では、重合性樹脂を架橋条件にさらし、そして適切な溶剤を用いて洗浄により 前記支持体から未硬化樹脂を除去する。本発明の実施において使用可能な特殊な 種類の樹脂は感光性樹脂であり、例えば、 ホイン−トラン(Huynh-Tran)らの米国特許第5,364,741号に開示 された光反応性樹脂システムであり、ここにその全文を参考文献として編入する 、 ホイン−トランらの米国特許第5,290,663号に開示された光反応性 樹脂システムであり、ここにその全文を参考文献として編入する、 ベリアーらの米国特許第5,407,784号に開示された光反応性樹脂シ ステム コッホ(Koch)らの米国特許第4,777,115号に開示された光反応性 樹脂システムであり、ここにその全文を参考文献として編入する、 テルサーらの米国特許第5,176,986号に開示された光反応性樹脂シ ステムであり、ここにその全文を参考文献として編入する、 テルサーらの米国特許第5,240,815号に開示された光反応性樹脂シ ステムであり、ここにその全文を参考文献として編入する、 いしかわらの米国特許第5,175,076号に開示された光反応性樹脂シ ステムであり、ここにその全文を参考文献として編入する、 ワグナーの米国特許第5,348,844号に開示された光反応性樹脂シス テムであり、ここにその全文を参考文献として編入する、 くすだらの米国特許第5,073,477号に開示された光反応性樹脂シス テムであり、ここにその全文を参考文献として編入する、 アイダカベージ(Idacavage)の米国特許出願番号第08/324,730 号に開示された光反応性樹脂であり、ここにその全文を参考文献として編入する 、 ロバーツらの米国特許出願番号第08/122,906号に開示された光反 応性樹脂であり、ここにその全文を参考文献として編入する、 等の感光性樹脂である。 前記の光重合性材料は水性媒体中で処理可能である。それ故、このような材料 は、十分な電磁放射腺にさらして少なくともその一部分を硬化させ、そしてその 後に水性媒体を用いて洗浄により前記支持体から未硬化樹脂を除去可能である。 本発明の方法の実施において現状好適な組成物は、 (A)約30〜90重量%の範囲のコーポリマーであって、下記のモノマーを含 み、 (i)5〜95モル%の脂肪族共役ジエンモノマー、 (ii)1〜30モル%のα、β−エチレン性不飽和カルボン酸、 (iii)0.1〜10モル%の多官能性ビニルモノマー、と (iv)0〜70モル%の1官能性ビニルモノマー、 (B)コポリマー(A)のカルボキシル基1モル当たり、約0.2〜2モルの範 囲の塩基性窒素含有化合物、 (C)約5〜70重量%の範囲の、アクリレート芯構造、例えば下式を有する少 なくとも1種のエチレン性不飽和モノマー、 〔式中、RはHまたはメチル、そしてXは下記(a)〜(d)から選ばれ る、 (a)約8〜15の範囲の炭素原子を有するアルキル基、 (b) 但し、式中、各R’は独立してHまたはメチルから選ばれ、Rは上に定 義の通りであり、芯構造のRから独立して選ばれ、そしてxは約2〜6の範囲に 収まる整数である、 (c) −[(CH2)x'−O]y−Y 但し、式中、x’は約1〜12の範囲に収まる整数であり、yは約4〜 12の範囲に収まる整数であり、そしてYは約3〜15の範囲の炭素原子を有す るアルキル基であって、2またはそれ以上の芯種が相互に架橋可能であるか、又 は 但し、Rは上に定義の通りであり、そして芯構造のRから独立して選ば れる、 (d) 但し、x’とYは上に定義の通りであり、Zは約4,000〜5,00 0の範囲の分子量を有する、脂肪族、芳香族、脂肪族置換芳香族、または芳香族 置換脂肪族の架橋剤であり、Zは約0〜10の範囲に収まる整数である〕、と (D)約0.01〜10重量%の範囲の少なくとも1つの光重合開始剤、 を含有するものである。 所望により、本発明の実施において使用する組成物は、約0.5〜10重量% のポリブタジエンをさらに含有する。 所望により、本発明の実施において使用する組成物は、熱感応性染料をさらに 含有してもよい。このような染料は、乾燥工程で十分な熱が発生する製品の領域 に限り、処理版に色変化を与える。本発明で意図するマイクロ波乾燥は、物品を 局部的に加熱して、溶剤が残留し且つ除去待ちの物品の部分だけを乾燥する故に 、使用した温度感応性染料が処理物品の異なる部位間にコントラストを与える。 本発明の実施において使用する代表的熱感応性染料は、4級化サーモクロミッ クポリアセチレン塩誘導体、例えば米国特許第5,137,964号と第5,2 32,820号に記載のものがあり、両者をここに参考文献として編入する、感 熱性アリールジアセチレン、例えば米国特許第5,153,106号に記載のも のがあり、ここに参考文献として編入する、及びサーモクロミック遷移金属塩、 例えばブルームキストとウイレットがCoord.Chem.Rev.47:125〜164( 1982)に記載のもの等を含む。 上記樹脂組成物の部分として使用するコポリマーは、数成分の混合により、例 えば脂肪族共役ジエンモノマー、α、β−エチレン性不飽和カルボン酸、多官能 性ビニルモノマー、と所望により1官能性ビニルモノマーの混合により調整する 。典型的には、このような組成物はおよそ以下の範囲から成る、即ち、 (i)5〜95モル%の脂肪族共役ジエンモノマー、 (ii)1〜30モル%のα、β−エチレン性不飽和カルボン酸、 (iii)0.1−10モル%の多官能性ビニルモノマー、と (iv)0〜70モル%の1官能性ビニルモノマー。 本発明の実施において使用する現状の好適なコポリマー組成物は、以下の範囲か ら成る、即ち、 (i)40〜85モル%の脂肪族共役ジエンモノマー、 (ii)2.5〜15モル%のα、β−エチレン性不飽和カルボン酸、 (iii)0.5〜5モル%の多官能性ビニルモノマー、と (iv)5〜30モル%の1官能性ビニルモノマー。 上記光重合性組成物に使用する脂肪族共役ジエンモノマーは、ブタジエン、イ ソプレン、クロロプレン、ジメチルブタジエンなどを含む。 上記光重合性組成物に使用するα、β−エチレン性不飽和カルボン酸は、メタ クリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸などを含む。 上記光重合性組成物に使用する多官能性ビニルモノマーは、エチレングリコー ルジメタクリレート、ジビニルベンゼン、1,6−ヘキサンジオールジアクリレ ート、1,4−ブタンジオールジアクリレートなどを含む。 上記光重合性組成物に使用する1官能性ビニルモノマーは、エチルアクリレー ト、メチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、メチルメタクリレ ート、β−カルボキシエチルアクリレートなど、並びにそれらの2またはそれ以 上の混合物を含む。 上記光重合性組成物に使用する塩基性窒素含有化合物は、ジメチルアミノプロ ピル・メタクリルアミド(DMAPMA)、N−ジアルキルアミノアルキル(メ タ)アクリルアミド、アルキルアミノ(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロ リドンなどを含む。 上記光重合性組成物に使用するアクリレート芯構造を有するエチレン性不飽和 モノマーは、1,4−ブタンジオール、ジメタクリレート、ラウリルメタクリレ ート、ポリエチレングリコール(400)ジメタクリレート、高エトキシル化ト リメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコール ジアクリレート、エトキシル化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート 、ポリエチレングリコール(600)ジ(メタ)アクリレート、イソボーニルア クリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシル化 ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレー ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)ア クリ レート、脂肪族ウレタンジ(メタ)アクリレートなどを含む。本発明の実施にお いて使用する現状の好適なエチレン性不飽和モノマーは、1,4−ブタンジオー ル、ジメタクリレート、ラウリルメタクリレート、ポリエチレングリコール(4 00)ジメタクリレート、高エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレ ート、脂肪族ウレタンジ(メタ)アクリレートなどを含む。 当業者は認識していることであるが、広範囲の光重合開始剤が上記光重合性組 成物に使用可能である。上記組成物中に用いられる重合開始剤(A)は、通常の 光反応開始剤、例えばα−ジケトン化合物(例えばジアセチル、ベンジル等)、 アシロイン(例えばベンゾイン、ピバロイン等)、アシロインエーテル(例えば ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエ ーテル等)、多核キノン(アンスラキノン、1,4−ナフトキノン)、アシルフ ォスフィンオキサイドなどを含む。開始剤(D)は、100重量部のコポリマー (A)に対し、0.01〜10重量部、好適には0.5〜5重量部の量で通常添 加される。現状、好適な開始剤は、ベンジルジメチルケタール、2−エチルアン スラキノン、またはそれらの混合物を含む。 上記光重合性組成物に使用されるポリブタジエンは、1,2−ポリブタジエン (シス−、トランス−、またはその混合物)、1,4−ポリブタジエン(シス− 、トランス−、またはその混合物)、ポリブタジエンの無水マレイン酸アダクト を含み、且つこれらは標準的開環技術と引き続く(半)エステル化または(半) アミノ化により変性可能である。現状、本発明の実施において使用する好適なポ リブタジエンはシス−1,2−ポリブタジエンである。 本発明の実施に使用する組成物は、また可塑剤を含有し、可塑剤はポリマーの ガラス転移温度を下げる作用があり、それによって組成物の処理を容易にする。 本発明の実施に有効な可塑剤は、グリセリン、エトキシル化フェノール、エトキ シル化グリセリンなどがある。 本発明の実施に使用する組成物は、さらに添加剤を含み、処理および取扱性能 を改良する。この添加剤には、例えば、ポリエチレンワックス、パラフィン、ス テアリン酸のエステル(ソルビトールモノステアレートなど)、エチレン−アク リル酸コポリマー、ポリヒドロキシスチレンなどがある。 所望により、例えば、本発明の実施に使用する組成物の貯蔵安定性改良のため に、さらに貯蔵安定剤を添加することができ、例えばヒドロキシ芳香族化合物( ヒドロキノン、p−メトキシフェノール、p−t−ブチルカテコール、2,6− ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロールなど)、キノン(ベンゾキノン 、p−トルキノン、p−キシロキノンなど)、アミン(N−フェニルーα−ナフ チルアミンなど)、イミダゾール(メチル−ベンズイミダゾール)などがあって 、コポリマー(A)100重量部に対し0.01〜2部の量で用いる。 上記コポリマー以外に本発明の実施に使用する好適な組成物は、 (B)前記コポリマー100部に対し約5〜7部の範囲の前記塩基性窒素含有化 合物、 (C)前記コポリマー100部に対し約20〜30部の範囲の前記エチレン性不 飽和モノマー、 (D)前記コポリマー100部に対し約0.5〜2.5部の範囲の光重合開始剤 、 (E)前記コポリマー100部に対し約1〜3部の範囲のポリブタジエン、 を含む。 本発明の方法により除去する希釈剤は、水性媒体を含み、例えば所望により塩 基、酸、界面活性剤、及び/又は99容量%迄の有機媒体を含有する水である。 界面活性剤は、陽イオン性、ノニオン性、および両性の界面活性剤がある。 本発明の方法により除去する有機媒体は、水混和性と水非混和性の両者を含有 する。それらの例として、アルコール(例えば、エタノール、エチレングリコー ル、イソプロピルアルコール、メタノール、n−アミルアルコール、n−ブチル アルコール、n−ヘキシルアルコール、プロパノール、プロピレングリコールな ど)、ケトン(例えば、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチ ルイソブチルケトンなど)、エステル(アルキル、アルコキシアルキルとアルケ ニル・アセテートを含み、例えば、アミルアセテート、ブチルアセテート、エチ ルアセテート、イソプロピルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセ テート、ビニルアセテート、アルキル及びアルコキシアルキルグリコレート、高 級飽和脂肪族カルボン酸のアルキル及びアルコキシアルキルエステル、ジアルキ レングリコールジアルキルエーテルなど)、エーテル(例えば、エチルエーテル 、 ブチルエーテルなど)、塩素化炭化水素、飽和及び/又は不飽和環状炭化水素、 飽和及び/又は不飽和非環状炭化水素、石油留出物、芳香族化合物を除いた鉱油 留分などを挙げることができる。ある種の有機化合物が、他の化合物に比べて希 釈剤含有樹脂から一層除去し易いことを当業者は知っている。このような有機化 合物の除去は、水と共沸混合物の形成により容易になる。 上記樹脂組成物は、例えば洗浄工程で希釈剤にさらされた時、樹脂被覆の重量 を基準にして約10重量%までの希釈剤を通常保留している。本発明に従えば、 本発明の方法を採用することにより、通常、希釈剤濃度を樹脂被覆の重量を基準 にして約1重量%以下に低減できる。≦0.5重量%の残留希釈剤濃度は、樹脂 材料の次の取扱と応用のためには、現状では好ましい。 前記の好適な組成物の期待される特性の1つは、実質的に中性PHの水による 現像可能性である。このように、前記の好適な組成物の現像に際して、PH修正 した(例えば、酸またはアルカリ)媒体を使用する必要はない。しかしながら、 本発明の方法が広範囲な希釈剤の除去に適用可能であることは注目してよい。 当業者は、本発明を実施する際の使用に適するマイクロ波適合性支持体を容易 に区別して認識できる。このように、本発明の実施に使用する支持体は、多くの 材料、例えば金属、プラスチック、紙、木材、ガラス、セラミックなどから準備 可能である。代表的支持体材料は、鋼、アルミニウム、とプラスチック(例えば ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル)がある。現在、好適な支持 体材料はポリエチレンテレフタレートである。 本発明に従って塗装支持体をさらすマイクロ波エネルギーは、通常、樹脂被覆 の希釈剤含有部位(典型的には樹脂の床部位)の温度を短時間に効果的に高め、 全記樹脂の希釈剤濃度を目標濃度に効果的に低減させる。樹脂材料の希釈剤含有 部位は、マイクロ波により励起されやすい(樹脂の実質的希釈剤非含有部位に比 べ)故に、樹脂材料のこの部位は、マイクロ波にさらされた時選択的に加熱され る。比較的短時間に乾燥を達成するためには、樹脂被覆の希釈剤含有部位の温度 が実質的に室温以上に高められ、しかしマイクロ波適合性支持体またはその上の 樹脂材料に不利益になる程高くない温度に高められることが望ましい。 ここで意図する乾燥の達成に、広範囲のマイクロ波エネルギーの使用が可能で あることを当業者は認識しているが、通常、樹脂とその支持体を害することなく 合理的時間内に乾燥を終了するためには、塗装支持体をさらすマイクロ波エネル ギーは約1〜約500ワット−分/平方インチの範囲に収まり、所望の乾燥速度 、除去する希釈剤の特異性、除去する希釈剤の量、溶剤を除去する樹脂の性質、 乾燥する樹脂の厚み、環境条件(例えば温度、相対湿度など)、乾燥室に流す不 活性ガス及び/又は乾いた空気の量と速度などに依存して、より高い又は低いエ ネルギー投入が行われる。要望する乾燥を達成するための現状好適なエネルギー 投入量は、約10〜300ワット−分/平方インチの範囲に収まり、より好適に は約25〜200ワット−分/平方インチの範囲の投入量である。 本発明の他の実施態様に従えば、マイクロ波適合性支持体上に塗装した希釈剤 含有樹脂を含む物品中の希釈剤濃度を低減させる装置が提供され、この装置は、 処理すべき前記物品を封入する手段、 前記封入する手段に前記物品を導入する手段、 前記封入スル手段から前記物品を移動する手段、 マイクロ波エネルギーを制御可能に生じさせる手段、と 前記封入する手段から蒸発希釈剤を除去する手段、 を包含する。 本発明のこの実施態様の特別な観点に従って、前記装置は前記物品を前記封入 する手段の中を通って輸送する手段をさらに含む。ここで用いる「輸送する手段 」は処理する物品をマイクロ波エネルギー源領域の内または外に移動する全ての 手段を言う。このように、物品は、手、コンベヤー、ターンテーブルにより、ト レー上、パレット上などを移動可能である。 本発明のこの実施態様の他の観点では、前記装置は前記物品の重量損耗を監視 する手段をさらに含む。ここで用いる「重量損耗を監視する手段」は、重量変化 が起きた時に処理する物品の相対重量を測定の折々に監視できる全ての手段を言 う。通常、このような重量損耗は重量計で監視する。 本発明のこの実施態様のさらに他の観点では、前記装置は乾燥処理中の前記物 品から揮発性物質の損耗を監視する手段をさらに含む。ここで用いる「損耗を監 視する手段」は添加の揮発性物質が蒸発する時に乾燥中の物品から放出される揮 発性物質を測定の折々に監視できる全ての手段を言う。このような損耗は多くの 手段、例えばインラインのガスクロマトグラフ(封入する手段から放出される空 気の状態を連続的または断続的に監視する)、調湿器などで監視できる。 本発明のこの実施態様のさらに別の観点では、前記装置は前記物品の温度を監 視する手段をさらに含む。ここで用いる「温度を監視する手段」は全ての熱感知 手段、例えば熱電対、示温金属、熱感応性化学組成物、非接触赤外線(即ちIR 温度計)などを言う。このような構成要素は種々の場所に配置可能であり、例え ば支持体の裏面(支持体が過度の加熱を受けているか否かを評価する)、処理す る樹脂内部(または樹脂上)(乾燥する樹脂材料が過度の加熱を受けているか否 かを評価する)、版上部、版下部などがある。 本発明のこの実施態様の更にもう一つの観点では、前記装置は前記物品に保留 される希釈剤残留濃度を監視する手段をさらに含む。ここで用いる「希釈剤残留 濃度を監視する手段」は近赤外線検知器(樹脂中の希釈剤濃度を測定可能)など を言う。 ここで用いる、処理すべき前記物品の「封入する手段」は、物品のマイクロ波 処理を行う全ての包囲を言うものであり、例えば、密閉された室、細長い室など を指し、この室を通して処理すべき物品を輸送する。 ここで用いる、前記物品を前記封入する手段に「導入する手段」は、処理すべ き物品を封入する手段に導入できる全ての開口部を指している。例えば、導入す る手段は、ドアー、処理すべき物品の収容に十分な大きさの隙間、カーテンなど である。 ここで用いる、前記物品を前記封入する手段から「移動する手段」は、処理す べき物品を封入する手段から回収できる全ての開口部をいう。例えば、移動する 手段は、ドアー、処理すべき物品の収容に十分な大きさの隙間、カーテンなどで ある。 ここで用いる、「マイクロ波エネルギーを制御可能に生じさせる手段」は、本 発明の乾燥方法に必要な範囲でマイクロ波エネルギーを発生させる、マイクロ波 発生器またはマイクロ波発振器である。このような発生器または発振器の出力を 制御して、本発明の装置が、種々の樹脂組成物と種々の希釈剤濃度をもつ様々な サイズの版に適合可能であることが望ましい。当業者は、マイクロ波発生器また は発振器のエネルギー出力を制御する多くの手段を容易に区別して認識出来るも ので、例えば、予め調整のオン/オフのサイクル時間の利用、種々の出力レベル 、差動出力レベルなどの利用により制御する。所望により、マイクロ波発生器ま たは発振器の出力を1またはそれ以上の上記監視手段に結合してもよい。このよ うに、封入する手段に導入するマイクロ波エネルギー量を、揮発性物質の損耗速 度や乾燥中の樹脂の温度などの関数として制御可能である。 ここで用いる、「前記封入する手段から蒸発希釈剤を除去する手段」は、全て の適切な通気手段を言い、例えば、送風機(例えばエアーナイフ)、ポンプ(例 えば真空ポンプ)などである。実施例で一層詳細に説明するように、樹脂塗装物 品にマイクロ波照射中、封入する手段から吸引される比較的乾燥した空気の流量 が大きい程、本発明の乾燥方法は促進される。 以下に実施例を参照しながら本発明を詳細に説明するが、本発明はその実施例 に限定されるものではない。 実施例1 使用するマイクロ波装置の基礎的解説 以下の実施例で使用するマイクロ波炉は、巻上げ式マイクロ波回転盤を備えた 600ワット家庭用品質の炉である。その装置の出力を、マイクロ波キャビテイ の一隅に置いた500mlの水の瓶により300ワットに減衰させた。装置を通 過する空気の流量を、炉の通気孔上部に設置した軸流フアンの取付けにより調整 した。 空気流量変化が版乾燥に与える影響を証明するために、一連の版を作成した。 版はプラスチック支持体に形成した0.067インチ厚のフレクセル(ナップシ ステム社の商標)を使用した。市販の標準的なコールドランプ露光機を用いて版 を露光し、版の床部を形成させた。主露光は行わなかった。FP−F(ナップシ ステム社の商標)の高圧水噴霧処理機を用い、標準的条件下で各版を処理した。 版を回収し、処理機の乾燥工程に送り、上記の基礎的マイクロ波装置を用い乾燥 した。マイクロ波エネルギーに暴露する間、種々の空気流量を採用し、また重量 損耗により逸失した揮発性物質の量を監視した。マイクロ波に暴露中、最初の1 2分間は各1分毎、以後試験終了まで各2分毎に版の質量を測定した。版のサイ ズは4×6インチであった。 参考基準として、1枚の版を市販の強制熱風式ブルーM(商標)炉を用い乾燥 した。乾燥の最初の90分間の各15分毎、試験の残りの各30分毎に、重量損 耗により逸失した揮発性物質の量を監視した。試験期間中、ブルーM炉を60℃ に維持した。このよな条件下におけるフレクセル版の標準乾燥時間は60分であ る。標準乾燥サイクル後に、逸失した揮発性物質の量は4重量%であった。種々 の空気流量でマイクロ波装置を使用した時、同じ4重量%の損耗に到達するため に要する乾燥時間は、以下の通りである。 空気流の補足なし >45分 27CFM 18分 50CFM 9分 75CFM 3分 この結果は、明らかにマイクロ波乾燥工程で追加空気流が望ましいことを証明し ている。 実施例2 フレクセル版乾燥の標準条件である1時間の強制熱風乾燥サイクルと同等のマ イクロ波乾燥サイクルを証明するために、2枚のフレクセル版を市販の標準コー ルドランプ露光装置を用い露光した。版の総厚は0.067インチであった。実 験室的版評価のためのフレクセル試験ターゲットを用い、版に画像形成した。F P−F高圧水噴霧処理機を用い標準条件下で各版を処理した。版を回収し、処理 機の乾燥工程に入れた。1枚の版は、実施例1に記載した基礎的マイクロ波装置 を用いて乾燥した。マイクロ波暴露による乾燥の最初の12分間の各1分毎、最 後33分間の各2分毎に版の重量を測定した。炉を通る空気流量は75CFMで あった。版のサイズは10×10インチであった。 参考基準として、1枚の版を市販の強制熱風式ブルーM炉を用い乾燥した。乾 燥の最初の30分間の各5分毎、次の30分間の各15分サイクル毎および試験 の残りの各30分毎に、重量損耗により逸失した揮発性物質の量を監視した。試 験期間中、ブルーM炉を60℃に維持した。各版に対する逸失した揮発性物質の 重量%のプロットをとり、図1に表した。 図を点検すれば、標準的な60分の強制熱風炉乾燥時間と同等な結果を達成す るマイクロ波等価乾燥時間は20分サイクルに過ぎないことが判る。 実施例3 市販の標準コールドランプ露光装置を用い、4枚のフレクセル版を露光した。 版の総厚は0.067インチであった。実験室的版評価のためのフレクセル試験 ターゲットを用い、版に画像形成した。FP−F高圧水噴霧処理機を用い標準条 件下で各版を処理した。版を回収し、処理機の乾燥工程に入れた。版の2枚は、 実施例1に記載した基礎的マイクロ波装置を用いて乾燥した。マイクロ波暴露に よる乾燥の最初の10分間の各1分毎、最後の10分間の各2分毎に各版の重量 を測定した。炉を通る空気流量は75CFMであった。版のサイズは10×10 インチであった。実施例1に記載したようにブルーMを用いて2枚の参考標準版 を作成した。各版の逸失揮発性物質の重量%のプロットから、全版が同一%の揮 発性物質を逸失したことが判る。 上記した乾燥工程に続いて、1枚のマイクロ波乾燥版と1枚のブルーM炉乾燥 版を、市販の標準コールドランプ露光装置を用い後硬化させた。残る2枚は後硬 化しなかった。全4枚を示差光熱量計(DPC)で分析した。分析目的は、マイ クロ波エネルギーによる乾燥版が従来の強制熱風炉による乾燥版に比べ異質の化 学的反応性を有するか否かを調べるためであった。分析に用いたDPC装置はデ ュポン930であった。分析結果を表1に表す。 上記試験の結果は、マイクロ波乾燥版と比較した時に、従来の強制熱風炉による 乾燥版の画像(凸版)または非画像(床)部の反応性に差異がないことを示して いる。 実施例4 市販の標準コールドランプ露光装置を用い、4枚のフレクセル版を露光した。 版の総厚は0.067インチであった。実験室的版評価のためのフレクセル試験 ターゲットを用い、版に画像形成した。FP−F高圧水噴霧処理機を用い標準条 件下で各版を処理した。版を回収し、処理機の乾燥工程に入れた。版の2枚は、 実施例1に記載した基礎的マイクロ波装置を用いて乾燥した。マイクロ波暴露に よる乾燥の最初の10分間の各1分毎、最後の10分間の各2分毎に各版の重量 を測定した。炉を通る空気流量は75CFMであった。版のサイズは10×10 インチであった。実施例1に記載したようにブルーMを用いて2枚の参考標準版 を作成した。各版の逸失揮発性物質の重量%のプロットから、全版が同一%の揮 発性物質を逸失したことが判る。 上記した乾燥工程に続いて、1枚のマイクロ波乾燥版と1枚のブルーM炉乾燥 版を、市販の標準コールドランプ露光装置を用い後硬化させた。残る2枚は後硬 化しなかった。全4枚をアクアスターV1B滴定器(EMサイエンス社)で水分 量を試験した。水抽出に用いた条件は以下の通りである。 試料サイズ :0.03600g±0.0500g 試料形態 :8−13 1/4インチ円形パンチ 抽出溶剤 :100mlメタノール 滴定前待機時間 :10分 滴定終了迄の時間:30分 分析目的は、マイクロ波エネルギーによる乾燥版が従来の強制熱風炉による乾燥 版に比べ異なる水分量を有するか否かを調べるためであった。分析結果を表2に 表す。 マイクロ波乾燥版と従来の強制熱風炉による乾燥版間の水分含有量に重大な差異 はなかった。 実施例5 種々の資源から版に対するマイクロ波乾燥の適応性を検討するために、フレク シード(スプラテック社の商標)とナイロフレックス・アクア(BASFの商標 )について乾燥プロフィールを調べた。市販の標準コールドランプ露光装置を用 い、各商品に対し2枚の版を露光した。版の総厚は0.067インチであった。 実験 室的版評価のためのフレクセル試験ターゲットを用い、版に画像形成した。FP −F高圧水噴霧処理機を用い標準条件下で各版を処理した。版を回収し、処理機 の乾燥工程に入れた。各版の内の1枚を実施例1に記載した基礎的マイクロ波装 置を用いて乾燥した。マイクロ波暴露による乾燥の最初の10分間の各1分毎、 最後の10分間の各2分毎に各版の重量を測定した。炉を通る空気流量は75C FMであった。版のサイズは10×10インチであった。 実施例1に記載したようにブルーMを用いて2枚の参考標準版を作成した。採 用乾燥サイクル全60分間の各5分の乾燥サイクル毎に、各版の重量損耗を記録 した。試験結果をプロットし、図2Aと2Bに表した。 グラフは、20分のマイクロ波乾燥サイクルが強制熱風炉乾燥の60分と同等 であることを示している。BASFの材料の揮発性物質の重量%は、スプラテッ クの材料で得られる値に比較して3倍であるが、前記のことは真実である。揮発 性物質の重量%損耗が3つの版で異なる故、乾燥に先立って各版の水分含有量の 分析を実施した。実施例4で使用の装置と技術を水分分析に採用した。分析結果 を表3に表す。 スプラテック版はフレクセル版の初期水分の約1/2の水分を有した。BAS F版はフレクセル版の初期水分の約2倍の水分を有した。これらの結果は重量% 損耗のデータと大変よく一致する。3つの異なる版の重量損耗の差異は初期水分 含有量で容易に説明ができ、そして他の揮発性成分の損耗では説明できない。 実施例6 市販の標準コールドランプ露光装置を用い、4枚のナイロフレックス・アクア 版を露光した。版の総厚は0.067インチであった。実験室的版評価のための フレクセル試験ターゲットを用い、版に画像形成した。FP−F高圧水噴霧処理 機を用い各版を処理した。版を回収し、処理機の乾燥工程に入れた。版の2枚は 実施例1に記載した基礎的マイクロ波装置を用いて乾燥した。マイクロ波暴露に よる乾燥の最初の10分間の各1分毎、最後の10分間の各2分毎に各版の重量 を測定した。炉を通る空気流量は75CFMであった。版のサイズは10×10 インチであった。 実施例1に記載したようにブルーMを用いて2枚の参考標準版を作成した。各 版の逸失揮発性物質の重量%のプロットから、全版が同一%の揮発性物質を逸失 したことが判る。 上記した乾燥工程に続いて、1枚のマイクロ波乾燥版と1枚のブルーM炉乾燥 版を、市販の標準コールドランプ露光装置を用い後硬化させた。残る2枚は後硬 化しなかった。全4枚をアクアスターV1B滴定器(EMサイエンス社の商標) で水分量を試験した。水抽出に用いた条件は以下の通りである。 試料サイズ :0.03600g±0.0500g 試料形態 :8−13 1/4インチ円形パンチ 抽出溶剤 :100mlメタノール 滴定前待機時間 :10分 滴定終了迄の時間:30分 分析目的は、マイクロ波エネルギーによる乾燥版が従来の強制熱風炉による乾燥 版に比べ異なる水分量を有するか否かを調べるためであった。 マイクロ波乾燥版と従来の強制熱風炉による乾燥版間の水分含有量に重大な差 異はなかった。事実、各乾燥法により得た版は驚くほど同一であり、使用乾燥法 に関連した残留水分含有量に事実上の差異はなかった。 実施例7 市販の標準コールドランプ露光装置を用い、2枚のフレクセル版を露光した。 版総厚は0.067インチであった。版に画像形成し、版の1/2を立体 (凸版)、そして他の1/2を非画像部(床)とした。FP−F高圧水噴霧処理 機を用い標準条件下で版を処理した。版を回収し、処理機の乾燥工程に入れた。 1枚の版は実施例1に記載した基礎的マイクロ波装置を用いて乾燥した。炉を通 る空気流量は75CFMであった。版のサイズは10×10インチであった。不 可逆性TL−E−170温度指示薬8点印刷ラベル(オメガエンジニアリング社 )を全部で4枚、版に貼り付けた。4枚のラベルの貼り付け位置を以下に記す。 版の各半面(凸版と床)の裏面に1枚 版の各半面(凸版と床)の樹脂表面に1枚 上記の試験から、温度指示薬ラベルがマイクロ波エネルギーに敏感でないことが 証明された。乾燥のサイクル時間は10分を2回であった。結果を表4にまとめ た。 第2の版を参考標準版として使用し、ブルーM炉を用いて180°Fの温度で乾 燥した。マイクロ波乾燥版と共に、不可逆性TL−E−170温度指示薬8点印 刷ラベル(オメガエンジニアリング社)を全部で4枚、版に貼り付けた。4枚の ラベルの貼り付け位置を以下に記す。 版の各半面(凸版と床)の裏面に1枚 版の各半面(凸版と床)の樹脂表面に1枚 全60分の乾燥サイクルの各15分毎に版を炉から取り出し、指示薬温度を検査 した。結果を表5にまとめた。 マイクロ波乾燥版の床部と凸版部間の温度差は約30°Fである。ブルーM乾燥 版の床部と凸版部間の温度差はなかった。 実施例8 市販の標準コールドランプ露光装置を用い、2枚のナイロフレクッス・アクア 版を露光した。版総厚は0.067インチであった。版に画像形成し、版の1/ 2を立体(凸版)、そして他の1/2を非画像部(床)とした。FP−F高圧水 噴霧処理機を用い版を処理した。版を回収し、処理機の乾燥工程に入れた。1枚 の版は実施例1に記載した基礎的マイクロ波装置を用いて乾燥した。炉を通る空 気流量は75CFMであった。版のサイズは10×10インチであった。不可逆 性TL−E−170温度指示薬8点印刷ラベル(オメガエンジニアリング社)を 全部で4枚、版に貼り付けた。4枚のラベルの貼り付け位置を以下に記す。 版の各半面(凸版と床)の裏面に1枚 版の各半面(凸版と床)の樹脂表面に1枚 上記の作業から、温度指示薬ラベルがマイクロ波エネルギーに敏感でないことが 証明された。乾燥の最初の10分間のマイクロ波暴露の各1分毎、と最後の10 分間の各2分毎に、版の温度指示薬を検査した。結果を表6にまとめた。 第2の版を参考標準版として使用し、ブルーM炉を用いて180°Fの温度で乾 燥した。マイクロ波乾燥版と共に、不可逆性TL−E−170温度指示薬8点印 刷ラベル(オメガエンジニアリング社)を全部で4枚、版に貼り付けた。4枚の ラベルの貼り付け位置を以下に記す。 版の各半面(凸版と床)の裏面に1枚 版の各半面(凸版と床)の樹脂表面に1枚 全60分の乾燥サイクルの各15分毎に版を炉から取り出し、指示薬温度を検査 した。結果を表7にまとめた。 マイクロ波乾燥版の床部と凸版部間の温度差は約50°Fである。ブルーM(商 標)乾燥版の床部と凸版部間の温度差はなかった。 幾つかの好適な実施態様を引用して本発明を詳細に説明したが、変性と変更は ここに説明しそして請求する本発明の精神と範囲に属するものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.希釈剤含有樹脂中の希釈剤濃度を低減する方法であって、前記樹脂はマイ クロ波適合性支持体上に塗装され、前記塗装支持体を十分なマイクロ波エネルギ ーにさらして前記樹脂中の希釈剤濃度を実質的に低減することを特徴とする前記 方法。 2.前記樹脂がさらに熱感応性染料を含有する、請求の範囲第1項に記載する 方法。 3.前記樹脂が重合性樹脂である、請求の範囲第1項に記載する方法。 4.前記重合性樹脂が架橋して前記マイクロ波適合性支持体上に実質的に不溶 性被膜を形成する、請求の範囲第3項に記載する方法。 5.前記重合性樹脂を架橋条件にさらし、そして適切な溶剤を用いて洗浄によ り前記支持体から未硬化樹脂を除去する、請求の範囲第4項に記載する方法。 6.前記重合性樹脂が感光性樹脂である、請求の範囲第4項に記載する方法。 7.前記重合性樹脂が、 ホイン−トランらの米国特許第5,364,741号に開示された光反応性 樹脂システム、 ホイン−トランらの米国特許第5,290,663号に開示された光反応性 樹脂システム、 ベリアーらの米国特許第5,407,784号に開示された光反応性樹脂シ ステム、 コッホらの米国特許第4,777,115号に開示された光反応性樹脂シス テム、 テルサーらの米国特許第5,176,986号に開示された光反応性樹脂シ ステム、 テルサーらの米国特許第5,240,815号に開示された光反応性樹脂シ ステム、 いしかわらの米国特許第5,175,076号に開示された光反応性樹脂シ ステム、 ワグナーの米国特許第5,348,844号に開示された光反応性樹脂シス テム、 くすだらの米国特許第5,073,477号に開示された光反応性樹脂シス テム、 アイダカベージの米国特許出願番号第08/324,730号に開示された 光反応性樹脂、または ロバーツらの米国特許出願番号第08/122,906号に開示された光反 応性樹脂、 から選択される、請求の範囲第6項に記載する方法。 8.前記感光性樹脂を十分な電磁放射腺にさらして少なくともその一部分を硬 化させ、そしてその後に水性媒体を用いて洗浄により前記支持体から未硬化樹脂 を除去する、請求の範囲第6項に記載する方法。 9.前記希釈剤が水性媒体である、請求の範囲第1項に記載する方法。 10.前記水性媒体が水、所望により塩基、酸、界面活性剤を含み、及び/又は 99容量%までの有機媒体から選ばれる、請求の範囲第9項に記載する方法。 11.前記界面活性剤が陽イオン界面活性剤、非イオン界面活性剤または両性界 面活性剤である、請求の範囲第10項に記載する方法。 12.前記有機媒体がアルコール、ケトン、エステルまたはエーテルから選ばれ る、請求の範囲第10項に記載する方法。 13.希釈剤の濃度を樹脂被覆重量を基準にして約1重量%以下に低減させる、 請求の範囲第1項に記載する方法。 14.前記塗装支持体をさらすマイクロ波エネルギーが樹脂被覆の床部位の温度 を短時間に効果的に高め、前記樹脂の希釈剤濃度を目標濃度に低減す、請求の範 囲第1項に記載する方法。 15.樹脂被覆の床部位の温度を実質的に室温以上に、しかしマイクロ波適合性 支持体に不利益になる程高くない温度に高める、請求の範囲第14項に記載する 方法。 16.前記塗装支持体をさらすマイクロ波エネルギーが約1〜約100ワット− 分/平方インチの範囲に収まる、請求の範囲第1項に記載する方法。 17.前記マイクロ波適合性支持体が金属、紙、プラスチック、木材、ガラスま たはセラミックから選ばれる、請求の範囲第1項に記載する方法。 18.前記プラスチック支持体がポリエステルである、請求の範囲第17項に記 載する方法。 19.マイクロ波適合性支持体上に塗装した希釈剤含有樹脂を含む物品中の希釈 剤濃度を低減させる装置であって、 処理すべき前記物品を封入する手段、 前記封入する手段に前記物品を導入する手段、 前記封入する手段から前記物品を移動する手段、 マイクロ波エネルギーを制御可能に生じさせる手段、と 前記封入する手段から蒸発希釈剤を除去する手段、 を含むことを特徴とする前記装置。 20.前記封入する手段の中を通って前記物品を輸送する手段をさらに含む、請 求の範囲第19項に記載する装置。 21.前記物品の重量損耗を監視する手段をさらに含む、請求の範囲第19項に 記載する装置。 22.前記物品の温度を監視する手段をさらに含む、請求の範囲第19項に記載 する装置。 23.前記物品に保留される希釈剤残留濃度を監視する手段をさらに含む、請求 の範囲第19項に記載する装置。 24.前記物品から揮発性物質の損耗を監視する手段をさらに含む、請求の範囲 第19項に記載する装置。 25.請求の範囲第1項に記載する方法により製造する物品。 26.請求の範囲第2項に記載する方法により製造する物品。 27.感光性樹脂と熱感応性染料を含むことを特徴とする組成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009513338A (ja) * 2005-10-27 2009-04-02 コーニング インコーポレイテッド 表面保護および触媒塗膜を備えた多孔質セラミックフィルタのためのマイクロ波処理方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6692896B2 (en) * 2000-03-01 2004-02-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat mode-compatible planographic printing plate
US6335152B1 (en) * 2000-05-01 2002-01-01 Advanced Micro Devices, Inc. Use of RTA furnace for photoresist baking
FR2869831B1 (fr) * 2004-05-06 2006-06-30 Heights France Sas Soc Par Act Procede de sechage-desorption de plaques de flexogravure par exposition a un rayonnement en l'absence de circulation d'air chaud, et enceinte de mise en oeuvre du procede
US8691340B2 (en) 2008-12-31 2014-04-08 Apinee, Inc. Preservation of wood, compositions and methods thereof
US9878464B1 (en) 2011-06-30 2018-01-30 Apinee, Inc. Preservation of cellulosic materials, compositions and methods thereof
CN107338679A (zh) * 2017-09-07 2017-11-10 苏州安特实业有限公司 一种包装纸烘干组件

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US122906A (en) 1872-01-23 Improvement in spring bed-bottoms
US324730A (en) 1885-08-18 Thied to edgae weight
JPS557008B2 (ja) * 1972-02-29 1980-02-21
US4243744A (en) * 1978-12-22 1981-01-06 Exxon Research & Engineering Co. Microwave curing of photoresist films
JPS57180124A (en) * 1981-04-30 1982-11-06 Toshiba Corp Heating method for resistfilm by microwave
JPS60147337A (ja) * 1983-12-30 1985-08-03 インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション 放電破壊によつて直接陰画もしくは直接オフセツト・マスタを形成する方法
DE3423533A1 (de) * 1984-06-26 1986-01-02 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur trocknung von leiterplatten
CH668654A5 (en) * 1985-04-13 1989-01-13 Kurt Etter Dr Continuous prodn. equipment for presensitised lithographic plates - incorporates station for oxidn. or silicate treatment of strip or plate between preliminary and final rinses
DE3540950A1 (de) 1985-11-19 1987-05-21 Basf Ag Durch photopolymerisation vernetzbare gemische
US4701345A (en) * 1986-03-11 1987-10-20 Markel Corporation Process for applying polymeric coatings, and resulting coated articles
US5175076A (en) 1986-09-22 1992-12-29 Nippon Paint Co., Ltd. Water-developable photosensitive composition for producing relief plates
JPH01300246A (ja) 1988-05-28 1989-12-04 Nippon Paint Co Ltd フレキソ印刷用感光性樹脂組成物
DE3908764C2 (de) 1989-03-17 1994-08-11 Basf Ag Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen
US5407784A (en) 1990-04-26 1995-04-18 W. R. Grace & Co.-Conn. Photocurable composition comprising maleic anhydride adduct of polybutadiene or butadiene copolymers
DE4020374A1 (de) 1990-06-27 1992-01-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten
JPH04115521A (ja) * 1990-09-05 1992-04-16 Nec Corp レジスト膜乾燥装置
US5348844A (en) 1990-12-03 1994-09-20 Napp Systems, Inc. Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates
US5290663A (en) 1991-03-01 1994-03-01 W. R. Grace & Co.-Conn. Photocurable polyurethane-acrylate ionomer compositions for aqueous developable printing plates
US5153106A (en) 1991-03-11 1992-10-06 Isp Investments Inc. Direct color imaging with laser in a writing mode
US5232820A (en) * 1991-03-18 1993-08-03 Isp Investments Inc. Process of directly imaging a thermosensitive polyacetylene salt dyes
US5137964A (en) 1991-03-18 1992-08-11 Isp Investments Inc. Visually imageable polyacetylene salt dyes
US5563644A (en) * 1992-02-03 1996-10-08 Xerox Corporation Ink jet printing processes with microwave drying
US5804353A (en) * 1992-05-11 1998-09-08 E. I. Dupont De Nemours And Company Lasers engravable multilayer flexographic printing element
US5328805A (en) 1992-08-28 1994-07-12 W. R. Grace & Co.-Conn. Aqueous developable photosensitive polyurethane-(meth)acrylate
IT1271311B (it) * 1994-12-21 1997-05-27 Enichem Spa Composizioni reattive liquide termoindurenti e procedimento per la loro reticolazione

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009513338A (ja) * 2005-10-27 2009-04-02 コーニング インコーポレイテッド 表面保護および触媒塗膜を備えた多孔質セラミックフィルタのためのマイクロ波処理方法

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Publication number Publication date
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