JPH11504443A - 光学装置用の照明ユニット - Google Patents
光学装置用の照明ユニットInfo
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.放射源ユニットと、第1の光積分器と、照明光量を測定する放射感知検出器 を含む検出系とをこの順序で具える照明システムを含む光学装置用の照明ユニッ トにおいて、前記照明システムが第2の光積分器を具え、前記2個の積分器が少 なくとも1個のプリズムを具えるプリズム系を包囲し、このプリズム系が一部の 光を照明システムから出射させる取出面を有し、前記検出系の出射開口をプリズ ム系の出射面付近に位置することを特徴とする照明ユニット。 2.請求項1に記載の照明ユニットにおいて、前記検出系が光積分手段を具える ことを特徴とする照明ユニット。 3.請求項1又は2に記載の照明ユニットにおいて、前記プリズム系が1個のプ リズムを具え、このプリズムの斜面が照明システムの取出面及びプリズム系の出 射面となる照明ユニット。 4.請求項1又は2に記載の照明ユニットにおいて、前記プリズム系が、斜面が 互いに対向する第1及び第2のプリズムを具え、前記取出面が2個のプリズム間 に位置し、前記出射面が第2のプリズムの上側面と一致していることを特徴とす る照明ユニット。 5.請求項1又は2に記載の照明ユニットにおいて、前記プリズム系が前記プリ ズム系が、斜面が互いに対向する第1及び第2のプリズムを具え、前記取出面が 2個のプリズム間に位置し、前記出射面が第1及び第2のプリズムの側面と一致 していることを特徴とする照明ユニット。 6.請求項1又は2に記載の照明ユニットにおいて、前記プリズム系が前記プリ ズム系が、斜面が互いに対向する第1及び第2のプリズムを具え、第1のプリズ ムと第2のプリズムとの間の一端に第3のプリズムが位置しその他端に第1の積 分器が位置し、第3のプリズムの斜面に高反射性コーティングが形成され、前記 取出面が前記第1のプリズムと第2のプリズムとの間に存在し、前記出射面が第 2のプリズムの上側面と一致することを特徴とする照明ユニット。 7.請求項1、2、3又は4に記載の照明ユニットにおいて、前記第1のプリズ ムの斜面に少なくとも部分的に透過性の反射層を形成したことを特徴とする照 明ユニット。 8.請求項5又は6に記載の照明ユニットにおいて、前記第1のプリズムの斜面 に、少なくとも部分的に反射性の透過層を形成したことを特徴とする照明ユニッ ト。 9.請求項7又は8に記載の照明ユニットにおいて、前記層が複数の開口を有す ることを特徴とする照明ユニット。 10.請求項7、8又は9に記載の照明ユニットにおいて、前記層をアルミニウム で構成したことを特徴とする照明ユニット。 11.請求項7、8、9又は10に記載の照明ユニットにおいて、前記層を誘電体 材料で構成したことを特徴とする照明ユニット。 12.請求項11に記載の照明ユニットにおいて、前記2個のプリズムの斜面に複 数の突部が存在し、これら突部が他方のプリズムの斜面と光学的に接触すること を特徴とする照明ユニット。 13.請求項12に記載の照明ユニットにおいて、前記突部間に突部の光学的密度 よりも大きな光学的密度を有する材料が存在することを特徴とする照明ユニット 。 14.請求項3に記載の照明ユニットにおいて、前記第1のプリズムの斜面が、プ リズム、凹部又はマイクロ拡散器の形態の表面構造を有することを特徴とする照 明ユニット。 15.請求項4から10までのいずれか1項に記載の照明ユニットにおいて、前記 第1及び第2のプリズムの斜面が一緒に接着され、接着剤の屈折率とプリズムの 屈折率とをほぼ等しくしたことを特徴とする照明ユニット。 16.請求項4から13までのいずれか1項に記載の照明ユニットにおいて、前記 第1のプリズムと第2のプリズムとの間にエアーギャップが存在すると共に、少 なくとも1個のスペーサ素子が2個の斜面間に存在することを特徴とする照明ユ ニット。 17.請求項4、5、、6、7、8、9、10、11、12、13、15又は16 のいずれか1項に記載の照明ユニットにおいて、前記第2のプリズムの少なくと も1個の側面に反射防止層を形成したことを特徴とする照明ユニット。 18.請求項4、5、、6、7、8、9、10、11、12、13、15、16又 は17のいずれか1項に記載の照明ユニットにおいて、前記第2プリズムの側面 にビームダンプを設けたことを特徴とする照明ユニット。 19.請求項1から18までのいずれか1項に記載の照明ユニットにおいて、前記 プリズム系の出射面と検出系との間に拡散器が存在することを特徴とする照明ユ ニット。 20.請求項19に記載の照明ユニットにおいて、前記拡散器を乳白色ガラスで形 成したことを特徴とする照明ユニット。 21.請求項19又は20に記載の照明ユニットにおいて、前記スペーサ素子をフ レキシブルなダイアフラムとし、前記拡散器をステップ状とし、その一部が前記 検出系と対向するより大きな直径を有することを特徴とする照明ユニット。 22.請求項19、20又は21に記載の照明ユニットにおいて、前記ダイアフラ ムが前記拡散器とプリズム系との間に位置することを特徴とする照明ユニット。 23.請求項1から22までのいずれか1項に記載の照明ユニットにおいて、前記 検出系が光積分器として機能するセンサ管を具えることを特徴とする照明ユニッ ト。 24.請求項1から23までのいずれか1項に記載の照明ユニットを具える基板上 にマスクパターンを繰り返し結像する装置。 25.請求項24に記載の装置において、エネルギーセンサの測定値に基づいて放 射源を制御するフィードバックユニットが設けられていることを特徴とする装置 。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002043221A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-02-08 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ投影装置 |
JP2015014748A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 株式会社エンプラス | 光レセプタクルおよび光モジュール |
WO2015122075A1 (ja) * | 2014-02-17 | 2015-08-20 | 株式会社リコー | 光照射装置及びこれを備えた画像表示装置 |
JP2020530138A (ja) * | 2017-08-10 | 2020-10-15 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | 露光装置および露光方法 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19724903A1 (de) * | 1997-06-12 | 1998-12-17 | Zeiss Carl Fa | Lichtintensitätsmeßanordnung |
KR100499864B1 (ko) * | 1997-06-12 | 2005-09-30 | 칼 짜이스 에스엠테 아게 | 광도 측정 장치 |
EP0926615B1 (en) * | 1997-12-16 | 2001-05-09 | Datalogic S.P.A. | An optical code scanning reader with laser beams travelling along a minimum of two different optical paths |
DE19809395A1 (de) * | 1998-03-05 | 1999-09-09 | Zeiss Carl Fa | Beleuchtungssystem und REMA-Objektiv mit Linsenverschiebung und Betriebsverfahren dafür |
US6396567B1 (en) * | 1999-06-02 | 2002-05-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd | Method and apparatus for controlling the dose of radiations applied to a semiconductor wafer during photolithography |
JP2003510647A (ja) * | 1999-09-29 | 2003-03-18 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 画像投射システム |
DE10136507A1 (de) * | 2001-07-17 | 2003-04-03 | Zeiss Carl | Geometrischer Strahlteiler und Verfahren zu seiner Herstellung |
US20050134825A1 (en) * | 2002-02-08 | 2005-06-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Polarization-optimized illumination system |
DE10206061A1 (de) * | 2002-02-08 | 2003-09-04 | Carl Zeiss Semiconductor Mfg S | Polarisationsoptimiertes Beleuchtungssystem |
US20050094268A1 (en) * | 2002-03-14 | 2005-05-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical system with birefringent optical elements |
EP1483616A1 (en) * | 2002-03-14 | 2004-12-08 | Carl Zeiss SMT AG | Optical system with birefringent optical elements |
DE10251087A1 (de) * | 2002-10-29 | 2004-05-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungseinrichtung für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage |
WO2005024516A2 (de) * | 2003-08-14 | 2005-03-17 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage |
US7085063B2 (en) * | 2004-05-14 | 2006-08-01 | 3M Innovative Properties Company | Multi-directional optical element and an optical system utilizing the multi-directional optical element |
EP1780770B2 (en) * | 2004-06-18 | 2017-01-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method |
US7411734B2 (en) * | 2005-11-10 | 2008-08-12 | 3M Innovative Properties Company | Color-splitting optical element and an optical system utilizing the color-splitting optical element |
DE102007042984A1 (de) * | 2007-09-10 | 2009-03-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur optischen Navigation |
DE102008002247A1 (de) * | 2008-06-05 | 2009-12-10 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer optischen Eigenschaft eines optischen Systems |
DE102009005092A1 (de) * | 2009-01-19 | 2010-09-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur optischen Navigation und dessen Verwendung |
CN102253602A (zh) * | 2010-05-18 | 2011-11-23 | 上海微电子装备有限公司 | 一种光刻系统中实时控制照明剂量的装置 |
DE102010039965B4 (de) | 2010-08-31 | 2019-04-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | EUV-Kollektor |
CN102540752B (zh) * | 2010-12-28 | 2014-02-19 | 上海微电子装备有限公司 | 一种光刻照明系统 |
US9823572B2 (en) | 2013-06-18 | 2017-11-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic method |
SG11201601454WA (en) * | 2013-09-25 | 2016-03-30 | Asml Netherlands Bv | Beam delivery apparatus and method |
WO2024104730A1 (en) * | 2022-11-14 | 2024-05-23 | Asml Netherlands B.V. | Optical system for metrology |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60107835A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-13 | Hitachi Ltd | 投影露光装置 |
JPS636501A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | Komatsu Ltd | インテグレ−タプリズム |
JPH01155228A (ja) * | 1987-12-14 | 1989-06-19 | Anritsu Corp | 光方向性結合器 |
DE9004633U1 (de) * | 1990-04-25 | 1990-06-28 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Optische Weiche |
US5343270A (en) * | 1990-10-30 | 1994-08-30 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US5309198A (en) * | 1992-02-25 | 1994-05-03 | Nikon Corporation | Light exposure system |
JP2946950B2 (ja) * | 1992-06-25 | 1999-09-13 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた露光装置 |
JPH08179237A (ja) * | 1994-12-26 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 照明光学装置 |
-
1996
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002043221A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-02-08 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ投影装置 |
JP2015014748A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 株式会社エンプラス | 光レセプタクルおよび光モジュール |
WO2015122075A1 (ja) * | 2014-02-17 | 2015-08-20 | 株式会社リコー | 光照射装置及びこれを備えた画像表示装置 |
JPWO2015122075A1 (ja) * | 2014-02-17 | 2017-03-30 | 株式会社リコー | 光照射装置及びこれを備えた画像表示装置 |
US10073333B2 (en) | 2014-02-17 | 2018-09-11 | Ricoh Company, Ltd. | Light irradiation device, and image display equipped with the same, for emitting light of two or more components by laser light |
JP2020530138A (ja) * | 2017-08-10 | 2020-10-15 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | 露光装置および露光方法 |
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