JPH1143772A - ベルト搬送式ｃｖｄ装置搬送用ベルト - Google Patents
ベルト搬送式ｃｖｄ装置搬送用ベルトInfo
- Publication number
- JPH1143772A JPH1143772A JP20014197A JP20014197A JPH1143772A JP H1143772 A JPH1143772 A JP H1143772A JP 20014197 A JP20014197 A JP 20014197A JP 20014197 A JP20014197 A JP 20014197A JP H1143772 A JPH1143772 A JP H1143772A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- belt
- surface area
- reaction chamber
- wire
- increasing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】反応室床部同様、搬送ベルトにも反応生成物付
着はあるが、搬送ベルトへの付着量は極めて微量であ
り、反応生成物の大半は反応室床部に堆積する。その
為、短期間の内に反応室床部に反応生成物が堆積し、装
置内クリーニングを目的とした定期メンテナンスが必要
となる。つまり、いかにして反応室床部に堆積する反応
性生物の量を低減させるかという課題を解決する事によ
って、定期メンテナンス頻度が延長・長期化できる。 【解決手段】搬送ベルト１０の表面積を増大させること
で、そこで発生する反応生成物を装置内で順次クリーニ
ングされる搬送ベルト１０多量に付着させ、反応室床部
に堆積する反応生成物の量を最低限にする。
着はあるが、搬送ベルトへの付着量は極めて微量であ
り、反応生成物の大半は反応室床部に堆積する。その
為、短期間の内に反応室床部に反応生成物が堆積し、装
置内クリーニングを目的とした定期メンテナンスが必要
となる。つまり、いかにして反応室床部に堆積する反応
性生物の量を低減させるかという課題を解決する事によ
って、定期メンテナンス頻度が延長・長期化できる。 【解決手段】搬送ベルト１０の表面積を増大させること
で、そこで発生する反応生成物を装置内で順次クリーニ
ングされる搬送ベルト１０多量に付着させ、反応室床部
に堆積する反応生成物の量を最低限にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ベルト搬送式ＣＶ
Ｄ装置搬送用ベルトに関し、特にウェハーを循環するメ
ッシュ状搬送用ベルトに載せて成膜場所まで搬送し成膜
を行うベルト搬送式ＣＶＤ装置搬送用ベルトに関する。
Ｄ装置搬送用ベルトに関し、特にウェハーを循環するメ
ッシュ状搬送用ベルトに載せて成膜場所まで搬送し成膜
を行うベルト搬送式ＣＶＤ装置搬送用ベルトに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置を製造する工程に使用するＣ
ＶＤ装置では、特開平６−２０９５４号公報に示される
様に、まず、成膜を行う成膜部まで循環する搬送用ベル
トに載せてウェハーを搬送する必要がある。図４は従来
のＣＶＤ装置の模式図である。図において１は搬送用ベ
ルトである。２はモータであって、回転部分３を回し搬
送用ベルト１を循環させる。４は成膜部である。５はベ
ルトに付着した反応生成物を無機系薬液蒸気によってク
リーニングする処理室である。６は５でクリーニングし
たベルトを純水にて洗浄する洗浄機である。図５は図４
の成膜部の拡大模式図である。８はガス吹出し部、９は
ウェハーであって１０は搬送ベルトである。１１は成膜
部の反応室床部である。
ＶＤ装置では、特開平６−２０９５４号公報に示される
様に、まず、成膜を行う成膜部まで循環する搬送用ベル
トに載せてウェハーを搬送する必要がある。図４は従来
のＣＶＤ装置の模式図である。図において１は搬送用ベ
ルトである。２はモータであって、回転部分３を回し搬
送用ベルト１を循環させる。４は成膜部である。５はベ
ルトに付着した反応生成物を無機系薬液蒸気によってク
リーニングする処理室である。６は５でクリーニングし
たベルトを純水にて洗浄する洗浄機である。図５は図４
の成膜部の拡大模式図である。８はガス吹出し部、９は
ウェハーであって１０は搬送ベルトである。１１は成膜
部の反応室床部である。
【０００３】次に動作について説明する。モータ２を駆
動する。すると回転部分３が回り搬送用ベルト１がベル
ト移動方向の矢印方向に循環する。その循環している搬
送用ベルト１の上にウェハー９を載せると、ウェハー９
は成膜部４まで搬送される。成膜部４では、上部の反応
性ガス吹き出し部８から反応性ガスが吹き出し、ウェハ
ー９表面の熱をエネルギー源として成膜を行う。上記の
様な従来のＣＶＤ装置では、搬送ベルト１０の編み目を
通して、搬送ベルト１０直下の反応室床部１１にも成膜
が行われる。搬送ベルト１０については、循環する課程
においてクリーニング処理室５でクリーニングされる。
しかしながら、搬送用ベルト１直下の反応室床部１１に
付着した成膜成分は、装置使用とともに蓄積され徐々に
厚膜化していく。反応室床部１１への過度の成膜は、ウ
ェハー９表面の成膜特性、膜質、及びウェハー９搬送上
障害となる。よって、ある一定の時間装置使用した後、
反応室床部１１をクリーニングする必要がある。反応室
床部１１のクリーニングは搬送ベルト１０のクリーニン
グ同様無機系薬液蒸気にてクリーニングする事になる。
そのクリーニングにおいては、搬送ベルト１０の着脱、
反応室温度の降温、昇温、薬液残留物の除去を伴う為、
非常に時間を要する。その為に、装置停止時間が長く装
置稼働時間低下を引き起こし、生産上の支障を来す。
動する。すると回転部分３が回り搬送用ベルト１がベル
ト移動方向の矢印方向に循環する。その循環している搬
送用ベルト１の上にウェハー９を載せると、ウェハー９
は成膜部４まで搬送される。成膜部４では、上部の反応
性ガス吹き出し部８から反応性ガスが吹き出し、ウェハ
ー９表面の熱をエネルギー源として成膜を行う。上記の
様な従来のＣＶＤ装置では、搬送ベルト１０の編み目を
通して、搬送ベルト１０直下の反応室床部１１にも成膜
が行われる。搬送ベルト１０については、循環する課程
においてクリーニング処理室５でクリーニングされる。
しかしながら、搬送用ベルト１直下の反応室床部１１に
付着した成膜成分は、装置使用とともに蓄積され徐々に
厚膜化していく。反応室床部１１への過度の成膜は、ウ
ェハー９表面の成膜特性、膜質、及びウェハー９搬送上
障害となる。よって、ある一定の時間装置使用した後、
反応室床部１１をクリーニングする必要がある。反応室
床部１１のクリーニングは搬送ベルト１０のクリーニン
グ同様無機系薬液蒸気にてクリーニングする事になる。
そのクリーニングにおいては、搬送ベルト１０の着脱、
反応室温度の降温、昇温、薬液残留物の除去を伴う為、
非常に時間を要する。その為に、装置停止時間が長く装
置稼働時間低下を引き起こし、生産上の支障を来す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来、特開平６−２０
９５４号公報に示されている様なＣＶＤ装置において使
用する搬送用ベルトは、その線材として、円、または、
楕円形状のものを使用している。反応室内の各部に堆積
する反応生成物の量は、それぞれの部位の表面積に比例
する。よって、反応室床部同様、搬送ベルトにも反応生
成物付着はあるが、搬送ベルトへの付着量は極めて微量
であり、反応生成物の大半は反応室床部に堆積する。そ
の為、短期間の内に反応室床部に反応生成物が堆積し、
装置内クリーニングを目的とした定期メンテナンスが必
要となる。つまり、いかにして反応室床部に堆積する反
応性生成物の量を低減させるかが、定期メンテナンス頻
度を延長・長期化できるかのポイントとなる。本発明の
解決しようとする課題は、搬送ベルトによってウェハー
を搬送するＣＶＤ装置において、成膜部で発生する余剰
の反応生成物を装置内で順次クリーニングされる搬送ベ
ルトに多量に付着させる事で、定期メンテナンス頻度を
延長させる事である。
９５４号公報に示されている様なＣＶＤ装置において使
用する搬送用ベルトは、その線材として、円、または、
楕円形状のものを使用している。反応室内の各部に堆積
する反応生成物の量は、それぞれの部位の表面積に比例
する。よって、反応室床部同様、搬送ベルトにも反応生
成物付着はあるが、搬送ベルトへの付着量は極めて微量
であり、反応生成物の大半は反応室床部に堆積する。そ
の為、短期間の内に反応室床部に反応生成物が堆積し、
装置内クリーニングを目的とした定期メンテナンスが必
要となる。つまり、いかにして反応室床部に堆積する反
応性生成物の量を低減させるかが、定期メンテナンス頻
度を延長・長期化できるかのポイントとなる。本発明の
解決しようとする課題は、搬送ベルトによってウェハー
を搬送するＣＶＤ装置において、成膜部で発生する余剰
の反応生成物を装置内で順次クリーニングされる搬送ベ
ルトに多量に付着させる事で、定期メンテナンス頻度を
延長させる事である。
【０００５】本発明は、ウェハーを循環する搬送用ベル
トに載せて成膜場所まで搬送し成膜を行うＣＶＤ装置に
おいて、ウェハーを成膜する際に、そこで発生する反応
生成物を装置内で順次クリーニングされる搬送ベルトに
多量に付着させ、反応室床部に堆積する反応生成物の量
を最低限にする事で、ＣＶＤ装置の定期メンテナンス頻
度の延長・長期化を実現する事を目的とした、ウェハー
搬送用ベルトを提供するものである。
トに載せて成膜場所まで搬送し成膜を行うＣＶＤ装置に
おいて、ウェハーを成膜する際に、そこで発生する反応
生成物を装置内で順次クリーニングされる搬送ベルトに
多量に付着させ、反応室床部に堆積する反応生成物の量
を最低限にする事で、ＣＶＤ装置の定期メンテナンス頻
度の延長・長期化を実現する事を目的とした、ウェハー
搬送用ベルトを提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、搬送ベルトで
ウェハーを搬送するＣＶＤ装置で使用する搬送用ベルト
である。前記問題点を解決する為に、搬送ベルトの表面
積を増大させることで、そこで発生する反応生成物を装
置内で順次クリーニングされる搬送ベルトに多量に付着
させ、反応室床部に堆積する反応生成物の量を最低限に
する手段である。
ウェハーを搬送するＣＶＤ装置で使用する搬送用ベルト
である。前記問題点を解決する為に、搬送ベルトの表面
積を増大させることで、そこで発生する反応生成物を装
置内で順次クリーニングされる搬送ベルトに多量に付着
させ、反応室床部に堆積する反応生成物の量を最低限に
する手段である。
【０００７】本発明に係るウェハー搬送用ベルトは、通
常使用している単純な丸、楕円形状の線材を使用した搬
送ベルトと比較し、表面積を増大させ反応生成物付着量
を増加させているので、その反面反応室床部への搬送生
成物付着が低減されている。よって、反応室床部のクリ
ーニングを行う為の定期メンテナンス頻度を延長・長期
化ができる。
常使用している単純な丸、楕円形状の線材を使用した搬
送ベルトと比較し、表面積を増大させ反応生成物付着量
を増加させているので、その反面反応室床部への搬送生
成物付着が低減されている。よって、反応室床部のクリ
ーニングを行う為の定期メンテナンス頻度を延長・長期
化ができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明に用いる搬送ベルトの表面
積を増大させる手段の好ましい実施の形態は、下記
（イ）、（ロ）、（ハ）の手段の少なくとも１つを含む
ものである。
積を増大させる手段の好ましい実施の形態は、下記
（イ）、（ロ）、（ハ）の手段の少なくとも１つを含む
ものである。
【０００９】（イ）線径の細い線材を使用し、螺旋状、
または、三つ編み状に編み込む事によって表面積を増大
させる手段。
または、三つ編み状に編み込む事によって表面積を増大
させる手段。
【００１０】（ロ）線材表面をビーズブラスト、または
サンドブラスト処理することで、表面粗度を低下させる
事によって表面積を増大させる手段。
サンドブラスト処理することで、表面粗度を低下させる
事によって表面積を増大させる手段。
【００１１】（ハ）線材を酸系、またはアルカリ系薬液
に浸積し、表面粗度を低下させる事によって表面積を増
大させる手段。
に浸積し、表面粗度を低下させる事によって表面積を増
大させる手段。
【００１２】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を用いて説明
する。まず、実施例１について説明する。
する。まず、実施例１について説明する。
【００１３】図１に示す様に、線径の細い線材を使用
し、螺旋状、または、三つ編み状に編み込む事によって
表面積を増大させる。従来の線径の１／３の線材を使用
し編み込むことによって、表面積は約３３％増大する。
し、螺旋状、または、三つ編み状に編み込む事によって
表面積を増大させる。従来の線径の１／３の線材を使用
し編み込むことによって、表面積は約３３％増大する。
【００１４】次に実施例２について説明する。
【００１５】図２に示す様に、線材表面をビーズブラス
ト、またはサンドブラスト処理することで、表面粗度を
低下させる事によって表面積を増大させる。より効率的
に表面積を増大させるためには、極めて目の細かいブラ
スト処理を行う必要がある。
ト、またはサンドブラスト処理することで、表面粗度を
低下させる事によって表面積を増大させる。より効率的
に表面積を増大させるためには、極めて目の細かいブラ
スト処理を行う必要がある。
【００１６】次に実施例３について説明する。
【００１７】図３に示す様に、線材を酸系、またはアル
カリ系薬液に浸積し、表面粗度を低下させる事によって
表面積を増大させる。本実施例を最も有効に実施するた
めには、線材としては、従来より線径の大きいものを用
意し、その線素材に浸食性のある薬液に浸積する事で、
表面粗度を低下させるのが有効である。浸食分を考慮し
あらかじめ若干太めの線材を使用することで、出来上が
りとして同等の線径が得られる。
カリ系薬液に浸積し、表面粗度を低下させる事によって
表面積を増大させる。本実施例を最も有効に実施するた
めには、線材としては、従来より線径の大きいものを用
意し、その線素材に浸食性のある薬液に浸積する事で、
表面粗度を低下させるのが有効である。浸食分を考慮し
あらかじめ若干太めの線材を使用することで、出来上が
りとして同等の線径が得られる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明に係るＣＶＤ
用搬送ベルトを用いれば、表面積を増大させ反応生成物
付着量を増加させているので、その反面反応室床部への
搬送生成物付着が低減されている。よって、反応室床部
のクリーニングを行う為の定期メンテナンス頻度を長期
化ができる。
用搬送ベルトを用いれば、表面積を増大させ反応生成物
付着量を増加させているので、その反面反応室床部への
搬送生成物付着が低減されている。よって、反応室床部
のクリーニングを行う為の定期メンテナンス頻度を長期
化ができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態の搬送ベルトの断面
図である。
図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態の搬送ベルトの断面
図である。
図である。
【図３】本発明の第３の実施の形態の搬送ベルトの断面
図である。
図である。
【図４】従来のＣＶＤ装置の模式図である。
【図５】図４の成膜部の拡大模式図である。
１ 搬送用ベルト ２ モーター ３ 回転部分 ４ 成膜部 ５ クリーニング処理室 ６ 洗浄機 ７ ベルト移動方向 ８ 反応ガス吹き出し部 ９ ウェハー １０ 搬送ベルト １１ 反応室床部
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェハーを循環する搬送用ベルトに載せ
て成膜場所の反応室床部の搬送ベルトまで搬送し反応生
成物の成膜を行うベルト搬送式ＣＶＤ装置搬送用ベルト
において、前記搬送ベルトの表面を増大させる手段によ
って前記搬送ベルトに付着する量を増加させて前記反応
室床部への堆積を低減させ装置のメンテナンス頻度を延
長させる事を特徴とするベルト搬送式ＣＶＤ装置搬送用
ベルト。 - 【請求項２】 前記搬送ベルトの表面積を増大させる手
段が、下記（イ）、（ロ）、（ハ）のうちの少くとも１
つを含む事を特徴とする請求項１記載のベルト搬送式Ｃ
ＶＤ装置搬送用ベルト。 （イ）線径の細い線材を使用し、螺旋状、または、三つ
編み状に編み込む事によって表面積を増大させる手段。 （ロ）線材表面をビーズブラスト、またはサンドブラス
ト処理することで、表面粗度を低下させる事によって表
面積を増大させる手段。 （ハ）線材を酸系、またはアルカリ系薬液に浸積し、表
面粗度を低下させる事によって表面積を増大させる手
段。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09200141A JP3076276B2 (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | ベルト搬送式ｃｖｄ装置搬送用ベルト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09200141A JP3076276B2 (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | ベルト搬送式ｃｖｄ装置搬送用ベルト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1143772A true JPH1143772A (ja) | 1999-02-16 |
| JP3076276B2 JP3076276B2 (ja) | 2000-08-14 |
Family
ID=16419479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09200141A Expired - Fee Related JP3076276B2 (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | ベルト搬送式ｃｖｄ装置搬送用ベルト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3076276B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102211238A (zh) * | 2010-04-07 | 2011-10-12 | 株式会社电装 | 弧焊方法和弧焊设备 |
-
1997
- 1997-07-25 JP JP09200141A patent/JP3076276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102211238A (zh) * | 2010-04-07 | 2011-10-12 | 株式会社电装 | 弧焊方法和弧焊设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3076276B2 (ja) | 2000-08-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3076276B2 (ja) | ベルト搬送式ｃｖｄ装置搬送用ベルト | |
| CN1030043C (zh) | 超声波连续清洗装置 | |
| JP2008308709A (ja) | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | |
| CN219136919U (zh) | 一种抑制气相生长时侧壁沉积的吹扫系统 | |
| JPH088222A (ja) | スピンプロセッサ | |
| JPH02250324A (ja) | 半導体装置の製造方法およびそれに使用される洗浄装置 | |
| JPH11116221A (ja) | 活性炭粒子洗浄装置 | |
| US20050252535A1 (en) | Substrate cleaning apparatus and method | |
| JPS59228932A (ja) | 気相成長装置 | |
| KR100328258B1 (ko) | 웨이퍼 세정장치 | |
| JP2008060102A (ja) | 基板の洗浄乾燥方法 | |
| JP3923761B2 (ja) | ウェット処理装置及びウェット処理システム | |
| KR101574645B1 (ko) | 연속 세정 장치 | |
| JP2848661B2 (ja) | 半導体処理装置 | |
| JPH1116871A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2001007034A (ja) | エピタキシャルウエーハ製造設備 | |
| JPH0529225A (ja) | 気相成長装置 | |
| JPH11176786A (ja) | 半導体基板洗浄装置 | |
| JPS6347258B2 (ja) | ||
| KR100355876B1 (ko) | 세정장치 | |
| JPH0642782Y2 (ja) | 缶洗浄装置 | |
| KR20100125018A (ko) | 폐기가스 유도장치 | |
| JP2000100794A (ja) | 半導体製造装置におけるドライクリーニング方法 | |
| JPS61100937A (ja) | ウエハ−の処理方法 | |
| JP2000226699A (ja) | 金属部品の表面処理方法及び表面処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000523 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |