JPH1140479A - 電子線投影露光装置及びｘ線投影露光装置 - Google Patents
電子線投影露光装置及びｘ線投影露光装置Info
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- JPH1140479A JPH1140479A JP19399397A JP19399397A JPH1140479A JP H1140479 A JPH1140479 A JP H1140479A JP 19399397 A JP19399397 A JP 19399397A JP 19399397 A JP19399397 A JP 19399397A JP H1140479 A JPH1140479 A JP H1140479A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光用のマスク等にゴミが付着することを防
止して、その結果、露光における歩留りとスループット
の向上を達成することができる電子線投影露光装置及び
Ｘ線投影露光装置を提供すること。 【解決手段】 複数のマスク等（マスクまたはレチク
ル）304 を保管したローダー341 から、露光に使用する
マスク等を取り出して露光用ステージ331 に載置し、該
ステージ上のマスク等に電子線を照射して電子光学系33
2 によって投影することにより、パターン露光を行う電
子線投影露光装置において、前記ローダー341 内にある
マスク等304 の表面法線方向が水平または略水平な方向
となるように、前記マスク等を保持する機構を設けたこ
とを特徴とする電子線投影露光装置。
止して、その結果、露光における歩留りとスループット
の向上を達成することができる電子線投影露光装置及び
Ｘ線投影露光装置を提供すること。 【解決手段】 複数のマスク等（マスクまたはレチク
ル）304 を保管したローダー341 から、露光に使用する
マスク等を取り出して露光用ステージ331 に載置し、該
ステージ上のマスク等に電子線を照射して電子光学系33
2 によって投影することにより、パターン露光を行う電
子線投影露光装置において、前記ローダー341 内にある
マスク等304 の表面法線方向が水平または略水平な方向
となるように、前記マスク等を保持する機構を設けたこ
とを特徴とする電子線投影露光装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線投影露光装
置及びＸ線投影露光装置に関するものである。
置及びＸ線投影露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在の半導体製造プロセスにおいて、シ
リコンウエハ上に微細な回路を形成する際には、レジス
トを塗布したウエハに、マスク等の上に形成されたパタ
ーンを縮小投影して露光する方法が一般的である。この
プロセスにおいて形成するパターンは非常に微細である
ため、マスク等（マスクもしくはレチクル）またはウエ
ハの上に微細な微粒子などのゴミ（異物）が付着して汚
れていると、致命的な影響を受ける。
リコンウエハ上に微細な回路を形成する際には、レジス
トを塗布したウエハに、マスク等の上に形成されたパタ
ーンを縮小投影して露光する方法が一般的である。この
プロセスにおいて形成するパターンは非常に微細である
ため、マスク等（マスクもしくはレチクル）またはウエ
ハの上に微細な微粒子などのゴミ（異物）が付着して汚
れていると、致命的な影響を受ける。
【０００３】特に、マスク等が汚れている場合には、そ
のマスク等から投影・転写されたパターンのすべてに影
響が及ぶため、マスク等の清浄度は非常に重要である。
現在、この縮小投影に用いられている露光光は主に紫外
光であるため、マスク等の両面からある程度離れた場所
に、露光光に対して透明なペリクルと呼ばれる薄膜を配
置することにより、マスク等へのゴミの付着を防いでい
る。
のマスク等から投影・転写されたパターンのすべてに影
響が及ぶため、マスク等の清浄度は非常に重要である。
現在、この縮小投影に用いられている露光光は主に紫外
光であるため、マスク等の両面からある程度離れた場所
に、露光光に対して透明なペリクルと呼ばれる薄膜を配
置することにより、マスク等へのゴミの付着を防いでい
る。
【０００４】これは、ペリクルの表面であれば、ゴミが
付着したとしても結像面では像がボケるため、パターン
の形成には影響を与えないからである。
付着したとしても結像面では像がボケるため、パターン
の形成には影響を与えないからである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】半導体製造プロセスに
おいて求められる加工のサイズは、集積度の上昇に伴い
年々微細化している。現在の投影に使用している露光光
では、加工できる最小のサイズは回折限界により制限さ
れると考えられており、それ以下のサイズのパターン加
工には、Ｘ線や電子線を用いることが検討されている。
おいて求められる加工のサイズは、集積度の上昇に伴い
年々微細化している。現在の投影に使用している露光光
では、加工できる最小のサイズは回折限界により制限さ
れると考えられており、それ以下のサイズのパターン加
工には、Ｘ線や電子線を用いることが検討されている。
【０００６】電子線を用いて投影露光をおこなう場合、
電子線はすべての物質に強く散乱・吸収されてしまうた
め、マスク等の表面をゴミから守るためにペリクルを使
うことはできない。そのため、電子線を用いて投影露光
をおこなう場合、マスク等の表面に常にゴミが付着する
おそれがある。
電子線はすべての物質に強く散乱・吸収されてしまうた
め、マスク等の表面をゴミから守るためにペリクルを使
うことはできない。そのため、電子線を用いて投影露光
をおこなう場合、マスク等の表面に常にゴミが付着する
おそれがある。
【０００７】また、Ｘ線を用いて投影露光をおこなう場
合、マスクは反射型のものが適していると考えられてい
るが、この場合でも、現在実用化が検討されている波長
１３ｎｍのＸ線は、すべての物質に強く吸収されるの
で、マスク表面をゴミから守るべくペリクルを使うこと
はできない。そのため、Ｘ線を用いて投影露光をおこな
う場合にも、マスク表面に常にゴミが付着するおそれが
ある。
合、マスクは反射型のものが適していると考えられてい
るが、この場合でも、現在実用化が検討されている波長
１３ｎｍのＸ線は、すべての物質に強く吸収されるの
で、マスク表面をゴミから守るべくペリクルを使うこと
はできない。そのため、Ｘ線を用いて投影露光をおこな
う場合にも、マスク表面に常にゴミが付着するおそれが
ある。
【０００８】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
ものであり、露光用のマスク等にゴミが付着することを
防止して、その結果、露光における歩留りとスループッ
トの向上を達成することができる電子線投影露光装置及
びＸ線投影露光装置を提供することを目的とする。
ものであり、露光用のマスク等にゴミが付着することを
防止して、その結果、露光における歩留りとスループッ
トの向上を達成することができる電子線投影露光装置及
びＸ線投影露光装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「複数のマスク等（マスクまたはレチクル）を保管し
たローダーから、露光に使用するマスク等を取り出して
露光用ステージに載置し、該ステージ上のマスク等に電
子線を照射して電子光学系によって投影することによ
り、パターン露光を行う電子線投影露光装置において、
前記ローダー内にあるマスク等の表面法線方向が水平ま
たは略水平な方向となるように、前記マスク等を保持す
る機構を設けたことを特徴とする電子線投影露光装置
（請求項１）」を提供する。
に「複数のマスク等（マスクまたはレチクル）を保管し
たローダーから、露光に使用するマスク等を取り出して
露光用ステージに載置し、該ステージ上のマスク等に電
子線を照射して電子光学系によって投影することによ
り、パターン露光を行う電子線投影露光装置において、
前記ローダー内にあるマスク等の表面法線方向が水平ま
たは略水平な方向となるように、前記マスク等を保持す
る機構を設けたことを特徴とする電子線投影露光装置
（請求項１）」を提供する。
【００１０】また、本発明は第二に「複数のマスク等
（マスクまたはレチクル）を保管したローダーから、露
光に使用するマスク等を取り出して露光用ステージに載
置し、該ステージ上のマスク等に電子線を照射して電子
光学系によって投影することにより、パターン露光を行
う電子線投影露光装置において、前記マスク等を収納す
る清浄な容器と、露光に使用するマスク等を前記容器か
ら取り出して前記ステージ上に載置し、かつ前記ステー
ジ上の露光が終了したマスク等を前記容器に収納する機
構と、を設けたことを特徴とする電子線投影露光装置
（請求項２）」を提供する。
（マスクまたはレチクル）を保管したローダーから、露
光に使用するマスク等を取り出して露光用ステージに載
置し、該ステージ上のマスク等に電子線を照射して電子
光学系によって投影することにより、パターン露光を行
う電子線投影露光装置において、前記マスク等を収納す
る清浄な容器と、露光に使用するマスク等を前記容器か
ら取り出して前記ステージ上に載置し、かつ前記ステー
ジ上の露光が終了したマスク等を前記容器に収納する機
構と、を設けたことを特徴とする電子線投影露光装置
（請求項２）」を提供する。
【００１１】また、本発明は第三に「複数の反射型Ｘ線
マスクを保管したローダーから、露光に使用するマスク
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスクにＸ線を照射してＸ線光学系によって投影するこ
とにより、パターン露光を行うＸ線投影露光装置におい
て、前記ローダー内にある反射型マスクの表面法線方向
が水平または略水平な方向となるように、あるいは前記
マスクの表面が下方を向くように、前記マスクを保持す
る機構を設けたことを特徴とするＸ線投影露光装置（請
求項３）」を提供する。
マスクを保管したローダーから、露光に使用するマスク
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスクにＸ線を照射してＸ線光学系によって投影するこ
とにより、パターン露光を行うＸ線投影露光装置におい
て、前記ローダー内にある反射型マスクの表面法線方向
が水平または略水平な方向となるように、あるいは前記
マスクの表面が下方を向くように、前記マスクを保持す
る機構を設けたことを特徴とするＸ線投影露光装置（請
求項３）」を提供する。
【００１２】また、本発明は第四に「複数の反射型Ｘ線
マスクを保管したローダーから、露光に使用するマスク
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスクにＸ線を照射してＸ線光学系によって投影するこ
とにより、パターン露光を行うＸ線投影露光装置におい
て、前記マスクを収納する清浄な容器と、露光に使用す
るマスクを前記容器から取り出して前記ステージ上に載
置し、かつ前記ステージ上の露光が終了したマスクを前
記容器に収納する機構と、を設けたことを特徴とするＸ
線投影露光装置（請求項４）」を提供する。
マスクを保管したローダーから、露光に使用するマスク
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスクにＸ線を照射してＸ線光学系によって投影するこ
とにより、パターン露光を行うＸ線投影露光装置におい
て、前記マスクを収納する清浄な容器と、露光に使用す
るマスクを前記容器から取り出して前記ステージ上に載
置し、かつ前記ステージ上の露光が終了したマスクを前
記容器に収納する機構と、を設けたことを特徴とするＸ
線投影露光装置（請求項４）」を提供する。
【００１３】また、本発明は第五に「複数の反射型Ｘ線
マスクを保管したローダーから、露光に使用するマスク
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスクにＸ線を照射してＸ線光学系によって投影するこ
とにより、パターン露光を行うＸ線投影露光装置におい
て、前記マスクを収納する清浄な容器と、露光に使用す
るマスクを前記容器ごと前記ステージ上に載置し、前記
容器の蓋を開けてマスク面を露出させる機構であり、露
光が終了したマスクの容器の蓋を閉じるとともに、該容
器をステージから除去する機構と、を設けたことを特徴
とするＸ線投影露光装置（請求項５）」を提供する。
マスクを保管したローダーから、露光に使用するマスク
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスクにＸ線を照射してＸ線光学系によって投影するこ
とにより、パターン露光を行うＸ線投影露光装置におい
て、前記マスクを収納する清浄な容器と、露光に使用す
るマスクを前記容器ごと前記ステージ上に載置し、前記
容器の蓋を開けてマスク面を露出させる機構であり、露
光が終了したマスクの容器の蓋を閉じるとともに、該容
器をステージから除去する機構と、を設けたことを特徴
とするＸ線投影露光装置（請求項５）」を提供する。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の電子線投影露光装置（請
求項１）またはＸ線投影露光装置（請求項３）には、マ
スク等を保管しているローダー内にあるマスク等の表面
法線方向が水平または略水平な方向となるように（請求
項１、３）、或いはマスクの表面が下方を向くように
（請求項３）、前記マスク等を保持する機構が設けられ
ている。
求項１）またはＸ線投影露光装置（請求項３）には、マ
スク等を保管しているローダー内にあるマスク等の表面
法線方向が水平または略水平な方向となるように（請求
項１、３）、或いはマスクの表面が下方を向くように
（請求項３）、前記マスク等を保持する機構が設けられ
ている。
【００１５】そのため、本発明（請求項１、３）の投影
露光装置によれば、露光用のマスク等にゴミが付着する
ことを防止して、その結果、露光における歩留りとスル
ープットの向上を達成することができる。また、本発明
の電子線投影露光装置（請求項２）またはＸ線投影露光
装置（請求項４）には、マスク等を収納する清浄な容器
と、露光に使用するマスク等を前記容器から取り出して
前記ステージ上に載置し、かつ前記ステージ上の露光が
終了したマスク等を前記容器に収納する機構と、が設け
られている。
露光装置によれば、露光用のマスク等にゴミが付着する
ことを防止して、その結果、露光における歩留りとスル
ープットの向上を達成することができる。また、本発明
の電子線投影露光装置（請求項２）またはＸ線投影露光
装置（請求項４）には、マスク等を収納する清浄な容器
と、露光に使用するマスク等を前記容器から取り出して
前記ステージ上に載置し、かつ前記ステージ上の露光が
終了したマスク等を前記容器に収納する機構と、が設け
られている。
【００１６】そのため、本発明（請求項２、４）の投影
露光装置によれば、露光用のマスク等にゴミが付着する
ことを防止して、その結果、露光における歩留りとスル
ープットの向上を達成することができる。さらに、本発
明（請求項５）のＸ線投影露光装置には、マスクを収納
する清浄な容器と、露光に使用するマスクを前記容器ご
と前記ステージ上に載置し、前記容器の蓋を開けてマス
ク面を露出させる機構であり、露光が終了したマスクの
容器の蓋を閉じるとともに、該容器をステージから除去
する機構と、が設けられている。
露光装置によれば、露光用のマスク等にゴミが付着する
ことを防止して、その結果、露光における歩留りとスル
ープットの向上を達成することができる。さらに、本発
明（請求項５）のＸ線投影露光装置には、マスクを収納
する清浄な容器と、露光に使用するマスクを前記容器ご
と前記ステージ上に載置し、前記容器の蓋を開けてマス
ク面を露出させる機構であり、露光が終了したマスクの
容器の蓋を閉じるとともに、該容器をステージから除去
する機構と、が設けられている。
【００１７】そのため、本発明（請求項５）の投影露光
装置によれば、露光用のマスクにゴミが付着することを
防止して、その結果、露光における歩留りとスループッ
トの向上を達成することができる。即ち、本発明におい
ては、電子線投影露光に用いられるマスク等（マスクま
たはレチクル）を非使用時にはレチクル面を横に向け
て、またＸ線投影露光に用いられるマスクを非使用時に
はマスク面を横または下に向けて保管することにより或
いは、非使用時にはマスク等を清浄な容器内に収納する
ことにより、微粒子などのゴミがマスク等の表面へ付着
するおそれを低減している。
装置によれば、露光用のマスクにゴミが付着することを
防止して、その結果、露光における歩留りとスループッ
トの向上を達成することができる。即ち、本発明におい
ては、電子線投影露光に用いられるマスク等（マスクま
たはレチクル）を非使用時にはレチクル面を横に向け
て、またＸ線投影露光に用いられるマスクを非使用時に
はマスク面を横または下に向けて保管することにより或
いは、非使用時にはマスク等を清浄な容器内に収納する
ことにより、微粒子などのゴミがマスク等の表面へ付着
するおそれを低減している。
【００１８】ここで、図１及び図２を引用して、本発明
にかかるマスク等へのゴミ付着防止の例を説明する。ま
ず、図１（ａ）は、レチクル１０１、１０２を、その向
きをそれぞれ変えてレチクルローダ（不図示）内に保管
した状態を模式的に示している。レチクルローダー内は
真空に排気されているので、微粒子１１０は垂直に落下
する。そのため、レチクル面を水平に保って置かれてい
るレチクル１０２の表面には微粒子１１０が付着する可
能性が高く、これに対してレチクル面を垂直にして置か
れたレチクル１０１の表面には、微粒子１１０が付着す
る可能性がかなり小さい。
にかかるマスク等へのゴミ付着防止の例を説明する。ま
ず、図１（ａ）は、レチクル１０１、１０２を、その向
きをそれぞれ変えてレチクルローダ（不図示）内に保管
した状態を模式的に示している。レチクルローダー内は
真空に排気されているので、微粒子１１０は垂直に落下
する。そのため、レチクル面を水平に保って置かれてい
るレチクル１０２の表面には微粒子１１０が付着する可
能性が高く、これに対してレチクル面を垂直にして置か
れたレチクル１０１の表面には、微粒子１１０が付着す
る可能性がかなり小さい。
【００１９】次に、図１（ｂ）は、反射型Ｘ線マスク１
１１、１１２、１１３を、その向きをそれぞれ変えてロ
ーダ（不図示）内に保管した状態を模式的に示してい
る。この場合も、ローダ内は真空に排気されており、投
影パターンを形成した面を上に向けて置いてあるマスク
１１２と比較して、前記パターン形成面を横に向けたマ
スク１１１では、微粒子付着の可能性がかなり小さい。
１１、１１２、１１３を、その向きをそれぞれ変えてロ
ーダ（不図示）内に保管した状態を模式的に示してい
る。この場合も、ローダ内は真空に排気されており、投
影パターンを形成した面を上に向けて置いてあるマスク
１１２と比較して、前記パターン形成面を横に向けたマ
スク１１１では、微粒子付着の可能性がかなり小さい。
【００２０】また、反射型Ｘ線マスクの場合は、パター
ン形成面のみに対して微粒子の付着が問題となるので、
マスク１１３のようにパターン形成面を下に向けて保管
すると、微粒子付着の可能性はさらに低下する。次に、
図２（ａ）、（ｂ）に示した状態においても、レチクル
２０１，２０２やＸ線マスク２１１，２１２，２１３が
それぞれ向きを変えてローダ（不図示）内に保管されて
いる。
ン形成面のみに対して微粒子の付着が問題となるので、
マスク１１３のようにパターン形成面を下に向けて保管
すると、微粒子付着の可能性はさらに低下する。次に、
図２（ａ）、（ｂ）に示した状態においても、レチクル
２０１，２０２やＸ線マスク２１１，２１２，２１３が
それぞれ向きを変えてローダ（不図示）内に保管されて
いる。
【００２１】この場合、レチクルやマスクは、内部が清
浄に保たれたレチクルケース２２０やマスクケース２３
０内にあるので、どの向きの場合でもマスク等の表面に
微粒子２１０が付着する可能性はない。このように、本
発明の投影露光装置によれば、マスク等の表面にゴミが
付着する可能性を減少させることができるので、露光不
良の発生率が小さくなり、またマスク等を洗浄する必要
回数が少なくる。そして、その結果、露光における歩留
りとスループットの向上を達成することができる。
浄に保たれたレチクルケース２２０やマスクケース２３
０内にあるので、どの向きの場合でもマスク等の表面に
微粒子２１０が付着する可能性はない。このように、本
発明の投影露光装置によれば、マスク等の表面にゴミが
付着する可能性を減少させることができるので、露光不
良の発生率が小さくなり、またマスク等を洗浄する必要
回数が少なくる。そして、その結果、露光における歩留
りとスループットの向上を達成することができる。
【００２２】以下、本発明を実施例により更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【００２３】
【実施例１】図３に、本実施例にかかる電子線投影露光
装置の概略構成を示す。真空容器３４０の内部は、電子
が散乱しないように１０-4Ｐａ以下の圧力まで排気装置
（不図示）により排気されている。真空容器３４０の内
部には、電子源３３４、照明電子光学系３３０、レチク
ルステージ３３１、投影電子光学系３３２、ウエハステ
ージ３３３などが配置され電子線によってレチクル３０
１上のパターンがウエハ３０３上に投影・転写される。
装置の概略構成を示す。真空容器３４０の内部は、電子
が散乱しないように１０-4Ｐａ以下の圧力まで排気装置
（不図示）により排気されている。真空容器３４０の内
部には、電子源３３４、照明電子光学系３３０、レチク
ルステージ３３１、投影電子光学系３３２、ウエハステ
ージ３３３などが配置され電子線によってレチクル３０
１上のパターンがウエハ３０３上に投影・転写される。
【００２４】様々なパターンの投影・転写をおこなうた
めにレチクルを交換する際に、その都度レチクルを真空
雰囲気外に取り出す必要がないように、真空雰囲気下に
あるレチクルローダ３４１内に複数のレチクル３０４が
保管されている。そして、露光に使用するレチクルは、
レチクルローダ３４１からレチクルステージ３３１ま
で、レチクル搬送系３４２により搬送されて、レチクル
ステージ３３１上に載置される。
めにレチクルを交換する際に、その都度レチクルを真空
雰囲気外に取り出す必要がないように、真空雰囲気下に
あるレチクルローダ３４１内に複数のレチクル３０４が
保管されている。そして、露光に使用するレチクルは、
レチクルローダ３４１からレチクルステージ３３１ま
で、レチクル搬送系３４２により搬送されて、レチクル
ステージ３３１上に載置される。
【００２５】また、使用済みのレチクルは、ステージ上
からレチクルローダ３４１内の保管位置まで、レチクル
搬送系３４２により搬送される。レチクルローダ３４１
の中にある各レチクル３０４は、レチクル面を横に向け
た状態で保管されている。真空中では微粒子などのゴミ
は、空気の流れの影響を受けないで鉛直に落下する。
からレチクルローダ３４１内の保管位置まで、レチクル
搬送系３４２により搬送される。レチクルローダ３４１
の中にある各レチクル３０４は、レチクル面を横に向け
た状態で保管されている。真空中では微粒子などのゴミ
は、空気の流れの影響を受けないで鉛直に落下する。
【００２６】従って、レチクルローダ３４１内におい
て、レチクル面を横に向けた状態で各レチクル３０４を
保管することにより、レチクル面を上に向けた状態で保
管するよりも、ゴミがレチクル面に付着する可能性を大
きく減少させることができる。このように、本実施例の
投影露光装置によれば、レチクル表面にゴミが付着する
可能性を大きく減少させることができるので、露光不良
の発生率が小さくなり、またレチクルを洗浄する必要回
数が少なくる。そして、その結果、露光における歩留り
とスループットの向上を達成することができる。
て、レチクル面を横に向けた状態で各レチクル３０４を
保管することにより、レチクル面を上に向けた状態で保
管するよりも、ゴミがレチクル面に付着する可能性を大
きく減少させることができる。このように、本実施例の
投影露光装置によれば、レチクル表面にゴミが付着する
可能性を大きく減少させることができるので、露光不良
の発生率が小さくなり、またレチクルを洗浄する必要回
数が少なくる。そして、その結果、露光における歩留り
とスループットの向上を達成することができる。
【００２７】
【実施例２】図４に、本実施例にかかる電子線投影露光
装置の概略構成を示す。装置構成は、図３に示した実施
例１の装置とほぼ同じであるが、レチクル４０１，４０
４は、レチクルステージ４３１上に配置されるときを除
いて、内部を清浄に保たれたレチクルケース４２０に収
納された状態で、レチクルローダ４４１内に保管されて
いる。
装置の概略構成を示す。装置構成は、図３に示した実施
例１の装置とほぼ同じであるが、レチクル４０１，４０
４は、レチクルステージ４３１上に配置されるときを除
いて、内部を清浄に保たれたレチクルケース４２０に収
納された状態で、レチクルローダ４４１内に保管されて
いる。
【００２８】露光に使用するレチクルは、レチクルケー
ス４２０ごとレチクルローダ４４１からレチクルステー
ジ４３１の近傍まで、レチクル搬送系４４２により搬送
される。そして、レチクルステージ４３１の近傍におい
て、レチクル搬送系４４２はレチクルをレチクルケース
４２０から取り出して、ステージ上に載置する。また、
ステージ上に載置された使用済みのレチクルは、レチク
ル搬送系４４２により、レチクルケース４２０に収納さ
れ、さらにケースごとレチクルローダ４４１内の保管位
置まで搬送される。
ス４２０ごとレチクルローダ４４１からレチクルステー
ジ４３１の近傍まで、レチクル搬送系４４２により搬送
される。そして、レチクルステージ４３１の近傍におい
て、レチクル搬送系４４２はレチクルをレチクルケース
４２０から取り出して、ステージ上に載置する。また、
ステージ上に載置された使用済みのレチクルは、レチク
ル搬送系４４２により、レチクルケース４２０に収納さ
れ、さらにケースごとレチクルローダ４４１内の保管位
置まで搬送される。
【００２９】このように、実際に露光に使用するとき以
外はレチクルを清浄なケース内に収納することにより、
レチクルに微粒子などのゴミが付着する可能性を著しく
減少させることができる。即ち、本実施例の投影露光装
置によれば、レチクル表面にゴミが付着する可能性を著
しく減少させることができるので、露光不良の発生率が
小さくなり、またレチクルを洗浄する必要回数が少なく
る。そして、その結果、露光における歩留りとスループ
ットの向上を達成することができる。
外はレチクルを清浄なケース内に収納することにより、
レチクルに微粒子などのゴミが付着する可能性を著しく
減少させることができる。即ち、本実施例の投影露光装
置によれば、レチクル表面にゴミが付着する可能性を著
しく減少させることができるので、露光不良の発生率が
小さくなり、またレチクルを洗浄する必要回数が少なく
る。そして、その結果、露光における歩留りとスループ
ットの向上を達成することができる。
【００３０】なお、本実施例のレチクルケースは、レチ
クルを収納する箱形の容器であるが、搬送が容易になる
構造を有していることが望ましい。
クルを収納する箱形の容器であるが、搬送が容易になる
構造を有していることが望ましい。
【００３１】
【実施例３】図５に、本実施例にかかるＸ線投影露光装
置の概略構成を示す。Ｘ線発生用真空容器５５４の内部
は、Ｘ線が減衰しない真空度まで排気装置（不図示）に
より排気されている。真空容器５５４の内部に配置され
た標的部材５５６に、集光光学系５５２により集光され
たＹＡＧレーザー出射光５５１が入射窓５５３を通って
集光されることにより、プラズマ５５５が形成されて、
輝度が非常に高いＸ線５５８が発生する。
置の概略構成を示す。Ｘ線発生用真空容器５５４の内部
は、Ｘ線が減衰しない真空度まで排気装置（不図示）に
より排気されている。真空容器５５４の内部に配置され
た標的部材５５６に、集光光学系５５２により集光され
たＹＡＧレーザー出射光５５１が入射窓５５３を通って
集光されることにより、プラズマ５５５が形成されて、
輝度が非常に高いＸ線５５８が発生する。
【００３２】このＸ線は、可視光を遮断しＸ線を透過す
るＸ線フィルター５５７を通って、別の真空容器５４０
の内部へと入射する。真空容器５４０の内部もＸ線が減
衰しない真空度まで排気装置（不図示）により排気され
ている。Ｘ線５５８は、照明光学系５３０によって集光
され、反射型Ｘ線マスク５０１を照明する。
るＸ線フィルター５５７を通って、別の真空容器５４０
の内部へと入射する。真空容器５４０の内部もＸ線が減
衰しない真空度まで排気装置（不図示）により排気され
ている。Ｘ線５５８は、照明光学系５３０によって集光
され、反射型Ｘ線マスク５０１を照明する。
【００３３】照明されたマスク５０１上のパターンは、
投影光学系５３２によりレジストを塗布したウエハ５０
３上に投影される。マスク５０１とウエハ５０３は、ス
テージ５３１、５３３の上にそれぞれ設置されている。
ステージ５３１上のマスク５０１をローダ５４１内に保
管された他のマスク５０４と交換する場合には、ゲート
バルブ５４３を開いて、マスク搬送系５４２によりマス
ク５０１をローダ５４１の保管位置まで搬送し、さらに
他のマスク５０４をローダ５４１から取り出して搬送
し、マスクステージ５３１上に設置する。
投影光学系５３２によりレジストを塗布したウエハ５０
３上に投影される。マスク５０１とウエハ５０３は、ス
テージ５３１、５３３の上にそれぞれ設置されている。
ステージ５３１上のマスク５０１をローダ５４１内に保
管された他のマスク５０４と交換する場合には、ゲート
バルブ５４３を開いて、マスク搬送系５４２によりマス
ク５０１をローダ５４１の保管位置まで搬送し、さらに
他のマスク５０４をローダ５４１から取り出して搬送
し、マスクステージ５３１上に設置する。
【００３４】ローダ５４１の内部は、排気装置（不図
示）により排気されている。ローダ５４１内において、
各マスクはマスク面を下に向けて保管されているため、
微粒子が付着する可能性を極めて低く抑えることができ
る。このように、本実施例の投影露光装置によれば、レ
チクル表面にゴミが付着する可能性を大きく減少させる
ことができるので、露光不良の発生率が小さくなり、ま
たレチクルを洗浄する必要回数が少なくる。そして、そ
の結果、露光における歩留りとスループットの向上を達
成することができる。
示）により排気されている。ローダ５４１内において、
各マスクはマスク面を下に向けて保管されているため、
微粒子が付着する可能性を極めて低く抑えることができ
る。このように、本実施例の投影露光装置によれば、レ
チクル表面にゴミが付着する可能性を大きく減少させる
ことができるので、露光不良の発生率が小さくなり、ま
たレチクルを洗浄する必要回数が少なくる。そして、そ
の結果、露光における歩留りとスループットの向上を達
成することができる。
【００３５】
【実施例４】図６に、本実施例にかかるＸ線投影露光装
置の概略構成を示す。装置構成の概略は、図５に示した
実施例３の場合と同じであるが、マスク６０１、６０４
は、マスクケース６０５の内部に常に納められている。
搬送系６４２は、ケース６０５ごとマスクの搬送をおこ
ない、マスクステージ６３１にもマスクはマスクケース
６０５ごと設置される。
置の概略構成を示す。装置構成の概略は、図５に示した
実施例３の場合と同じであるが、マスク６０１、６０４
は、マスクケース６０５の内部に常に納められている。
搬送系６４２は、ケース６０５ごとマスクの搬送をおこ
ない、マスクステージ６３１にもマスクはマスクケース
６０５ごと設置される。
【００３６】マスクがマスクステージ６３１に固定（設
置）されると、マスクケースの蓋が開いてマスク面が露
出され、Ｘ線がマスク面に到達できるようになって、投
影露光が可能となる。マスクが投影露光に使用されてい
ないときには、マスクケースの蓋は閉じているため、マ
スク面にゴミが付着する可能性は極めて小さい。また、
マスクはローダ６４１内において、マスク面を下に向け
て保管されているので、ゴミ付着の可能性はさらに低下
する。
置）されると、マスクケースの蓋が開いてマスク面が露
出され、Ｘ線がマスク面に到達できるようになって、投
影露光が可能となる。マスクが投影露光に使用されてい
ないときには、マスクケースの蓋は閉じているため、マ
スク面にゴミが付着する可能性は極めて小さい。また、
マスクはローダ６４１内において、マスク面を下に向け
て保管されているので、ゴミ付着の可能性はさらに低下
する。
【００３７】このように、本実施例の投影露光装置によ
れば、レチクル表面にゴミが付着する可能性を著しく減
少させることができるので、露光不良の発生率が小さく
なり、またレチクルを洗浄する必要回数が少なくる。そ
して、その結果、露光における歩留りとスループットの
向上を達成することができる。
れば、レチクル表面にゴミが付着する可能性を著しく減
少させることができるので、露光不良の発生率が小さく
なり、またレチクルを洗浄する必要回数が少なくる。そ
して、その結果、露光における歩留りとスループットの
向上を達成することができる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
露光用のマスク等にゴミが付着することを防止して、そ
の結果、露光における歩留りとスループットの向上を達
成することができる。
露光用のマスク等にゴミが付着することを防止して、そ
の結果、露光における歩留りとスループットの向上を達
成することができる。
【図１】は、本発明にかかる、マスク等へのゴミ付着を
防止する原理を説明する図である。
防止する原理を説明する図である。
【図２】は、本発明にかかる、マスク等へのゴミ付着を
防止する原理を説明する別の図である。
防止する原理を説明する別の図である。
【図３】は、実施例１の電子線投影露光装置の概略構成
図である。
図である。
【図４】は、実施例２の電子線投影露光装置の概略構成
図である。
図である。
【図５】は、実施例３のＸ線投影露光装置の概略構成図
である。
である。
【図６】は、実施例４のＸ線投影露光装置の概略構成図
である。
である。
１０１，２０１，３０１，４０１ レチクル １０２，２０２ レチクル ３０３，４０３ ウエハ ３０４，４０４ レチクル １１０，２１０ 微粒子 １１１，１１２，１１３ 反射型Ｘ線マスク ２１１，２１２，２１３ 反射型Ｘ線マスク ２２０，４２０ レチクルケース ２３０ マスクケース ３３０，４３０ 照明電子光学系 ３３１，４３１ レチクルステージ ３３２，４３２ 投影電子光学系 ３３３，４３３ ウエハステージ ３３４，４３４ 電子源 ３４０，４４０ 真空容器 ３４１，４４１ レチクルローダ ３４２，４４２ レチクル搬送系 ５０１，５０４，６０１，６０４ 反射型Ｘ線マスク ５０３，６０３ ウエハ ６０５ マスクケース ５３０，６３０ 照明光学系 ５３１，６３１ マスクステージ ５３２，６３２ 投影光学系 ５３３，６３３ ウエハステージ ５４０，６４０ 真空容器 ５４１，６４１ ローダ ５４２，６４２ マスク搬送系 ５４３，６４３ ゲートバルブ ５５１，６５１ ＹＡＧレーザー出射光 ５５２，６５２ 集光光学系 ５５３，６５３ 入射窓 ５５４，６５４ Ｘ線発生用真空容器 ５５５，６５５ プラズマ ５５６，６５６ 標的部材 ５５７，６５７ Ｘ線フ
ィルタ 以上
ィルタ 以上
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５３１Ａ
Claims (5)
- 【請求項１】 複数のマスク等（マスクまたはレチク
ル）を保管したローダーから、露光に使用するマスク等
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスク等に電子線を照射して電子光学系によって投影す
ることにより、パターン露光を行う電子線投影露光装置
において、 前記ローダー内にあるマスク等の表面法線方向が水平ま
たは略水平な方向となるように、前記マスク等を保持す
る機構を設けたことを特徴とする電子線投影露光装置。 - 【請求項２】 複数のマスク等（マスクまたはレチク
ル）を保管したローダーから、露光に使用するマスク等
を取り出して露光用ステージに載置し、該ステージ上の
マスク等に電子線を照射して電子光学系によって投影す
ることにより、パターン露光を行う電子線投影露光装置
において、 前記マスク等を収納する清浄な容器と、 露光に使用するマスク等を前記容器から取り出して前記
ステージ上に載置し、かつ前記ステージ上の露光が終了
したマスク等を前記容器に収納する機構と、を設けたこ
とを特徴とする電子線投影露光装置。 - 【請求項３】 複数の反射型Ｘ線マスクを保管したロー
ダーから、露光に使用するマスクを取り出して露光用ス
テージに載置し、該ステージ上のマスクにＸ線を照射し
てＸ線光学系によって投影することにより、パターン露
光を行うＸ線投影露光装置において、 前記ローダー内にある反射型マスクの表面法線方向が水
平または略水平な方向となるように、或いは前記マスク
の表面が下方を向くように、前記マスクを保持する機構
を設けたことを特徴とするＸ線投影露光装置。 - 【請求項４】 複数の反射型Ｘ線マスクを保管したロー
ダーから、露光に使用するマスクを取り出して露光用ス
テージに載置し、該ステージ上のマスクにＸ線を照射し
てＸ線光学系によって投影することにより、パターン露
光を行うＸ線投影露光装置において、前記マスクを収納
する清浄な容器と、 露光に使用するマスクを前記容器から取り出して前記ス
テージ上に載置し、かつ前記ステージ上の露光が終了し
たマスクを前記容器に収納する機構と、を設けたことを
特徴とするＸ線投影露光装置。 - 【請求項５】 複数の反射型Ｘ線マスクを保管したロー
ダーから、露光に使用するマスクを取り出して露光用ス
テージに載置し、該ステージ上のマスクにＸ線を照射し
てＸ線光学系によって投影することにより、パターン露
光を行うＸ線投影露光装置において、 前記ローダー内にあるマスクをそれぞれ収納する清浄な
容器と、 露光に使用するマスクを前記容器ごと前記ステージ上に
載置し、前記容器の蓋を開けてマスク面を露出させる機
構であり、露光が終了したマスクの容器の蓋を閉じると
ともに、該容器をステージから除去する機構と、を設け
たことを特徴とするＸ線投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19399397A JP3741178B2 (ja) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | Ｘ線縮小露光装置及びｘ線投影露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19399397A JP3741178B2 (ja) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | Ｘ線縮小露光装置及びｘ線投影露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1140479A true JPH1140479A (ja) | 1999-02-12 |
| JP3741178B2 JP3741178B2 (ja) | 2006-02-01 |
Family
ID=16317194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19399397A Expired - Lifetime JP3741178B2 (ja) | 1997-07-18 | 1997-07-18 | Ｘ線縮小露光装置及びｘ線投影露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3741178B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002069379A1 (fr) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Nikon Corporation | Masque reflechissant les rayons x, procede pour proteger le masque reflechissant, dispositif d'exposition aux rayons x et procede pour produire un dispositif semi-conducteur |
| US7551265B2 (en) | 2004-10-01 | 2009-06-23 | Nikon Corporation | Contact material and system for ultra-clean applications |
| US7785746B2 (en) | 2002-01-18 | 2010-08-31 | Intelligent Energy Limited | Fuel cell oxygen removal and pre-conditioning system |
| JP2012078562A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-19 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケースおよびマスクの洗浄方法 |
-
1997
- 1997-07-18 JP JP19399397A patent/JP3741178B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002069379A1 (fr) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Nikon Corporation | Masque reflechissant les rayons x, procede pour proteger le masque reflechissant, dispositif d'exposition aux rayons x et procede pour produire un dispositif semi-conducteur |
| US7785746B2 (en) | 2002-01-18 | 2010-08-31 | Intelligent Energy Limited | Fuel cell oxygen removal and pre-conditioning system |
| US7551265B2 (en) | 2004-10-01 | 2009-06-23 | Nikon Corporation | Contact material and system for ultra-clean applications |
| JP2012078562A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-04-19 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケースおよびマスクの洗浄方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3741178B2 (ja) | 2006-02-01 |
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