JPH113801A - 厚膜抵抗ペーストおよびその製造方法 - Google Patents

厚膜抵抗ペーストおよびその製造方法

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JPH113801A
JPH113801A JP9169518A JP16951897A JPH113801A JP H113801 A JPH113801 A JP H113801A JP 9169518 A JP9169518 A JP 9169518A JP 16951897 A JP16951897 A JP 16951897A JP H113801 A JPH113801 A JP H113801A
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JP
Japan
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glass frit
lead
weight
lead ruthenate
ruthenate
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JP9169518A
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Inventor
Akito Ishikawa
明人 石川
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型で耐高電圧性に優れた抵抗器用の厚膜抵
抗ペーストおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 ルテニウム酸鉛含有ガラスフリットと有
機ビヒクルからなる厚膜抵抗ペーストにおいて、ルテニ
ウム酸鉛含有ガラスフリットが、二酸化ルテニウム1〜
40重量%、酸化ケイ素10〜30重量%、酸化アルミ
ニウム1〜15重量%、残部酸化鉛を含有してなり、か
つルテニウム酸鉛含有ガラスフリット中のルテニウム酸
鉛の結晶子系が400オングストローム以下である厚膜
抵抗ペーストを特徴とするとともに、ルテニウム酸鉛含
有ガラスフリットと有機ビヒクルからなる厚膜抵抗ペー
ストの製造方法において、ルテニウム酸鉛含有ガラスフ
リットとして、結晶子径が20オングストローム以下の
二酸化ルテニウムとアルミノケイ酸鉛系ガラスフリット
原料粉末の混合物を800〜900℃で溶融、冷却、粉
砕したものを使用することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ルテニウム酸鉛を
含有する、特に耐高電圧性に優れた抵抗体用の厚膜抵抗
ペーストおよびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】厚膜抵抗体は、通常導電性粉末とガラス
粉末とを有機ビヒクルに分散させてペースト状とし、絶
縁基板上に所定のパターンで印刷した後、焼成して製造
される。しかしながら、フォーカスブロックや電子銃と
いった高圧用に使用する場合、導電性粉末とガラス粉末
を混合し、有機ビヒクルに分散させるこの方法では、抵
抗膜中の導電物粒子の均一性が十分ではなく、耐高電圧
性および初期抵抗値の安定性の点で満足の行くものが得
られなかった。
【0003】この問題を解決するために、抵抗膜中の導
電物粒子の分散性を向上させる試みがなされており、例
えば特公昭56−28363号公報では、二酸化ルテニ
ウムとガラスフリット原料粉末の混合物を溶融、冷却、
粉砕して得られるルテニウム酸鉛含有ガラスフリットを
使用することによって導電成分を均一に分散させる方法
が開示されている。この方法では、ルテニウム酸鉛を、
二酸化ルテニウムとガラスフリット原料粉末との反応に
よって得るものであるため、非常に微細なルテニウム酸
鉛の粒子を抵抗膜中に均一に分散させることができ、非
常に高い次元で初期抵抗値の安定性と耐高電圧性を実現
できるものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら近年電子
機器の小型化、高密度化の要求が急速に高まってきてお
り、それに伴う各種電子部品の小型化、高密度化が図ら
れるようになってきた。高圧用の抵抗器についても例外
ではなく、より小型で耐高電圧性のさらに優れたものが
求められている。この要求に答えるためには前記した特
公昭56−28363号公報に提案された条件では実現
困難となってきた。特に、耐高電圧性に優れた抵抗器と
して電流雑音が−8dB以下のものが求められつつある
が、そのようなものはこれまで得られていなかった。な
お、電流雑音の小さいものは耐高電圧性が高いという関
係が既に知られているので、耐高電圧性の目安として電
流雑音の程度を用いることができる。
【0005】本発明の目的は、小型で耐高電圧性に優れ
た抵抗器用の厚膜抵抗ペーストおよびその製造方法を提
供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、この課題を
解決すべく種々研究を行った結果、二酸化ルテニウムと
ガラスフリッ卜原料粉末の混合物を溶融、冷却、粉砕し
て得られたルテニウム酸鉛含有ガラスフリット中のルテ
ニウム酸鉛の結晶子径と耐高電圧性の関係を見出し、ル
テニウム酸鉛の結晶子径を制御することによって、従来
よりも耐高電圧性に優れた厚膜抵抗ペーストが得られる
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】したがって上記課題を達成するため本発明
の第1の実施態様は、ルテニウム酸鉛含有ガラスフリッ
トと有機ビヒクルからなる厚膜抵抗ペーストにおいて、
ルテニウム酸鉛含有ガラスフリットが、二酸化ルテニウ
ム1〜40重量%、酸化ケイ素10〜30重量%、酸化
アルミニウム1〜15重量%、残部、すなわち40〜8
5重量%の酸化鉛を含有してなり、かつルテニウム酸鉛
含有ガラスフリット中のルテニウム酸鉛の結晶子系が4
00オングストローム以下である厚膜抵抗ペーストを特
徴とするものである。
【0008】また本発明の第2の実施態様は、ルテニウ
ム酸鉛含有ガラスフリットと有機ビヒクルからなる厚膜
抵抗ペーストの製造方法において、ルテニウム酸鉛含有
ガラスフリットとして、結晶子径が20オングストロー
ム以下の二酸化ルテニウムとアルミノケイ酸鉛系ガラス
フリット原料粉末の混合物を800〜900℃で溶融、
冷却、粉砕したものを使用する厚膜抵抗ペーストの製造
方法を特徴とするものである。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明において、二酸化ルテニウ
ムとアルミノケイ酸鉛系ガラスフリット原料粉末の混合
物を800〜900℃で溶融、冷却、粉砕して得られた
導電性結晶物含有ガラスは、ガラスマトリックス中にル
テニウム酸鉛が均一に分散した構造であり、このルテニ
ウム酸鉛は、二酸化ルテニウムとアルミノケイ酸鉛系ガ
ラスフリット原料粉末の化学反応によって得られたもの
である。
【0010】耐高電圧性は、ルテニウム酸鉛系ガラスフ
リット中のルテニウム酸鉛の結晶子径が小さいほど良好
になる傾向があり、良好な耐高圧性を得るためには40
0オングストローム以下である必要がある。
【0011】また、ルテニウム酸鉛の結晶子径を400
オングストローム以下にするためには、二酸化ルテニウ
ムの結晶子径、溶融温度を考慮する必要がある。すなわ
ち、本発明において二酸化ルテニウムの結晶子径を20
オングストローム以下としたのは、20オングストロー
ムを超えると溶融温度を制御しても生成するルテニウム
酸鉛の結晶子径が400オングストロームを超えてしま
い、その結果耐高電圧性が低下してしまうからである。
なお、ルテニウム酸鉛の結晶子径および二酸化ルテニウ
ムの結晶子径は小さい程好ましいが、現在の技術水準か
らは前者については250オングストローム程度が下限
となるであろう。また後者については約16オングスト
ローム以下は結晶子径の測定ができないため不明であ
る。
【0012】また溶融温度は800〜900℃の範囲と
する必要があり、800℃より低い温度ではルテニウム
酸鉛の生成反応が十分に進行せず、一方900℃を超え
ると生成したルテニウム酸鉛の結晶子径が400オング
ストロームを超えてしまうからである。
【0013】さらに溶融時間は30分間以上保持すれば
よく、反応状態とガラス成分の蒸発などを考慮して2時
間程度が好ましいが、経済性を考慮すると2時間以上溶
融する必要はない。溶融後の冷却方法は、溶融物を自然
冷却してもよいし、水中に投入して急冷してもよいが、
急冷した方が後工程での破砕が容易に行えるので好都合
である。
【0014】また溶融に供する二酸化ルテニウムとガラ
スフリット原料粉末からなるルテニウム酸含有ガラスフ
リットの組成割合は、二酸化ルテニウム1〜40重量
%、酸化鉛40〜85重量%、酸化ケイ素10〜30重
量%、酸化アルミニウム1〜15重量%とする必要があ
り、一般のガラス中に含有されるMgO、CaO、Ba
O、B、SrO、CdO、SnO、Bi
どを5重量%以下含有させてもよい。
【0015】二酸化ルテニウムの割合を1〜40重量%
としたのは、1重量%未満では得られた抵抗体の抵抗値
が高すぎ、また40重量%を超えるとガラス量が少なす
ぎて強度が弱くなってガラスとしての役割を果たさない
からである。
【0016】さらに酸化鉛の割合を40〜85重量%と
したのは、40重量%未満ではガラスの軟化点が高くな
りすぎて800〜900℃の温度では溶融しなくなるか
らであり、一方85重量%を超えると安定なガラスが得
られないからである。
【0017】そして酸化ケイ素の割合を10〜30重量
%としたのは、10重量%未満では溶融してもガラス質
が得られず、30重量%を超えるとガラスの軟化点が高
くなりすぎるからであり、また酸化アルミニウムの割合
を1〜15重量%としたのは、1重量%未満ではガラス
の耐湿性や化学的安定性が悪くなり、一方15重量%を
超えるとガラスを結晶化しやすく不安定になるからであ
る。
【0018】二酸化ルテニウム、酸化鉛、酸化ケイ素、
酸化アルミニウム以外の一般のガラス中に含有されるM
gO、CaO、BaO、B、SrO、CdO、S
nO、Biなどは添加しなくても差し支えなく、
添加してもそれらの合計が5重量%以下であれば、本発
明において述べる抵抗体の特性に悪影響を与えることは
ない。
【0019】なお、本発明で製造されたルテニウム酸鉛
を含有する微粉砕されたガラスフリットを用いて厚膜抵
抗ペーストを製造するに際し、面積抵抗値および抵抗の
温度係数(TCR)を調整する必要がある場合には、一
般に用いられている添加剤、例えば酸化ニオブ、酸化マ
ンガン、酸化チタンなどを使用することができる。
【0020】また本発明において用いられる有機ビヒク
ルとしては、公知のものが使用可能であり。例えばセル
ロース系もしくはアクリル系の樹脂をターピネオールな
どの溶剤に溶かしたしたものを使用することができる。
【0021】
【実施例】以下に本発明の実施例を、比較例とともに説
明する。下記する表1に示す各種の結晶子径の二酸化ル
テニウム8重量%、酸化鉛61重量%、酸化ケイ素25
重量%、酸化アルミニウム3重量%、酸化ホウ素1.5
重量%、酸化カルシウム1.5重量%を混合して原料粉
末を調製した。
【0022】得られた原料粉末を表1に示すように75
0〜1000℃の範囲で温度を変えて溶融して2時間保
持した後、水中に投入して冷却後ボールミルにより微粉
砕し、導電物含有ガラスフリットを調製した。
【0023】これをX線回折により同定し、生成したル
テニウム酸鉛の結晶子径を算出してこれを表1に併せて
示す。次にこの導電物含有ガラスフリット70重量部に
エチルセルロースとターピネオールを主成分とする有機
ビヒクル30重量部を加え、ロールミルで粉砕、混練し
て厚膜抵抗ペーストを製造した。
【0024】金電極を配置した96%アルミナ基板上
に、このペーストを1.0×1.0mmの形状に焼成し
膜厚が40〜45μm程度になるように印刷した。抵抗
体25個分を印刷、乾燥した後、850℃で焼成して抵
抗体を作製し、面積抵抗値、TCR、電流雑音を測定
し、その結果も表1に示す。
【0025】
【表1】
【0026】表1より分かる通り、本発明の実施例の厚
膜抵抗ぺーストを用いた抵抗体は、全て電流雑音が−1
0dB以下と優れた耐高電圧性を示したが、比較例の厚
膜抵抗ペーストを用いた抵抗体は、全て−8dB以上の
電流雑音であり耐高電圧性が劣っていることが分かる。
【0027】
【発明の効果】以上のように本発明に係る厚膜抵抗ペー
ストは、従来品に比べ耐高電圧性に優れており、したが
ってより厳しい条件での使用が要求される抵抗器の抵抗
体の製造に多大な効果を奏する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ルテニウム酸鉛含有ガラスフリットと有
    機ビヒクルからなる厚膜抵抗ペーストにおいて、ルテニ
    ウム酸鉛含有ガラスフリットが、二酸化ルテニウム1〜
    40重量%、酸化ケイ素10〜30重量%、酸化アルミ
    ニウム1〜15重量%、残部酸化鉛を含有してなり、か
    つルテニウム酸鉛含有ガラスフリット中のルテニウム酸
    鉛の結晶子系が400オングストローム以下であること
    を特徴とする厚膜抵抗ペースト。
  2. 【請求項2】 ルテニウム酸鉛含有ガラスフリットと有
    機ビヒクルからなる厚膜抵抗ペーストの製造方法におい
    て、ルテニウム酸鉛含有ガラスフリットとして、結晶子
    径が20オングストローム以下の二酸化ルテニウムとア
    ルミノケイ酸鉛系ガラスフリット原料粉末の混合物を8
    00〜900℃で溶融、冷却、粉砕したものを使用する
    ことを特徴とする厚膜抵抗ペーストの製造方法。
JP9169518A 1997-06-11 1997-06-11 厚膜抵抗ペーストおよびその製造方法 Pending JPH113801A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5720789A (en) * 1980-07-12 1982-02-03 Toyama Gatsuki Seizou Kk Connector for synthetic resin flute
US8133413B2 (en) 2008-04-18 2012-03-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Resistor compositions using a Cu-containing glass frit
WO2012176696A1 (ja) * 2011-06-21 2012-12-27 住友金属鉱山株式会社 酸化ルテニウム粉末、それを用いた厚膜抵抗体用組成物および厚膜抵抗体
CN107731340A (zh) * 2017-08-31 2018-02-23 潮州三环(集团)股份有限公司 一种厚膜电阻浆料用导电相材料

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5720789A (en) * 1980-07-12 1982-02-03 Toyama Gatsuki Seizou Kk Connector for synthetic resin flute
JPS6060065B2 (ja) * 1980-07-12 1985-12-27 トヤマ楽器製造株式会社 合成樹脂製笛の接続装置
US8133413B2 (en) 2008-04-18 2012-03-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Resistor compositions using a Cu-containing glass frit
WO2012176696A1 (ja) * 2011-06-21 2012-12-27 住友金属鉱山株式会社 酸化ルテニウム粉末、それを用いた厚膜抵抗体用組成物および厚膜抵抗体
JP2016074593A (ja) * 2011-06-21 2016-05-12 住友金属鉱山株式会社 酸化ルテニウム粉末の製造方法
CN107731340A (zh) * 2017-08-31 2018-02-23 潮州三环(集团)股份有限公司 一种厚膜电阻浆料用导电相材料

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Effective date: 20040611