JPH1137558A - 液体加熱方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液体の加熱に要する待ち時間を短縮する。 【解決手段】 加熱開始時点からの一定期間、液体を静
止もしくはほぼ静止させた状態で加熱し、これによっ
て、加熱手段の出口温度を短時間で目標温度に到達させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液体を加熱手段に
流通させて加熱する加熱装置に適用される液体加熱方法
に関し、特に、上記液体の加熱開始時における加熱時間
の短縮を図るための液体加熱方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造ラインにおけるシリコンウエ
ハの洗浄や、液晶製造ラインにおけるガラス基板の洗浄
等には洗浄液として超純水が使用されるが、この超純水
は、使用に際して例えば８０℃程度に加熱する必要があ
るので、予め、加熱装置で加熱される。

【０００３】この超純水を加熱する装置は、該超純水を
加熱手段に流通させて加熱するように構成されている。
この加熱装置においては、常時、所定量（例えば、１８
ｌ／ｍｉｎ）の超純水を加熱手段に流通させている
が、これは、この超純水の流通が長時間停止すると、有
機炭素等の粒子を形成する有害菌が該超純水中に発生す
るからである。

【０００４】なお、上記加熱手段は、上記超純水の流通
が可能な容器に加熱源を配設した構造を有する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記加熱装置の加熱手
段には、所定量の超純水が常時流通しているので、この
加熱手段が加熱動作を開始した時点においても、該加熱
手段の内部を超純水が流通している。

【０００６】超純水が流通している状態で加熱手段を始
動した場合、該加熱手段が発生した熱エネルギーがこの
流通する超純水によって次々と持ち去られることにな
り、そのため、従来、以下のような不都合を生じてい
た。

【０００７】ａ． 加熱手段が加熱を開始してから該加
熱手段の出口温度が目標温度に到達するまでの待ち時間
が長くなり、これは、洗浄作業の開始を遅らせる。ｂ．
上記待ち時間の間に流通する多量の超純水が廃棄され
ることになるので、不経済である。ｃ． 上記熱エネル
ギーの持ち出しのために、この熱エネルギーが無駄に消
費される。

【０００８】本発明の目的は、かかる状況に鑑み、上記
超純水等の液体の加熱に要する待ち時間を短縮すること
ができる液体加熱方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、所定流量の液
体を加熱手段に流通させて加熱する加熱装置に適用され
るものであり、請求項１に係る発明では、前記加熱手段
の加熱開始以後、この加熱手段への前記液体の供給を一
定時間停止して該加熱手段内の液体を静止状態にする工
程と、前記一定時間が経過した時点で前記加熱手段に前
記所定流量の液体を供給し、同時に、前記加熱手段の出
口温度が所定の目標温度に維持されるように前記加熱手
段を制御する工程とを含むことを特徴としている。

【００１０】また、請求項２に係る発明では、前記加熱
手段の加熱開始以後、この加熱装置に微少量の前記液体
を一定時間供給して該加熱手段内の液体を僅かに流動さ
せる工程と、前記一定時間が経過した時点で前記加熱手
段に前記所定流量の液体を供給し、同時に、前記加熱手
段の出口温度が所定の目標温度に維持されるように前記
加熱手段を制御する工程とを含むことを特徴としてい
る。

【００１１】更に、請求項４に係る発明では、前記加熱
手段の加熱開始以後、この加熱装置に微少量の前記液体
を供給して該加熱手段内の液体を僅かに流動させる工程
と、前記加熱手段の出口温度を検出する工程と、前記出
口温度が所定の温度に達した時点で前記加熱手段に前記
所定流量の液体を供給し、同時に、前記加熱手段の出口
温度が所定の目標温度に維持されるように前記加熱手段
を制御する工程とを含むことを特徴としている。

【００１２】

【発明の実施の形態】

（実施形態１）図１に示す液体加熱装置１は、半導体製
造ラインにおけるシリコンウエハの洗浄や、液晶製造ラ
インにおけるガラス基板の洗浄等に使用される超純水を
加熱するものであり、加熱された超純水を排出するため
の出口２と、加熱すべき常温の超純水を導入するための
入口３と、上記出口２と入口３間に直列に介在させた加
熱ユニット４−１〜４−３および閉止弁５とを備えてい
る。

【００１３】加熱ユニット４−１〜４−３は、それぞれ
石英ガラスからなる所定容積の加熱容器に加熱源である
ハロゲンランプを適数本配設した構成を有し、上記加熱
容器内を流通する超純水を上記ハロゲンランプの輻射熱
によって加熱する。

【００１４】なお、この加熱ユニット４−１〜４−３の
構造は、例えば、特願平４−１７２５６０号等によって
公知であるので、ここでは、その構造についての詳細な
説明を省略する。

【００１５】上記入口３には、加圧された超純水が供給
され、また、閉止弁５は、常時において開けられた状態
にある。したがって、上記加熱ユニット４−１〜４−３
の加熱容器には、常時、上記超純水が流通している。

【００１６】いま、上記加熱ユニット４−１〜４−３の
加熱パワーをそれぞれＱ₁ 〜Ｑ₃ 、加熱ユニット４−１
〜４−３内の超純水の量を表す該ユニット４−１〜４−
３の内容積をそれぞれＶ、加熱ユニット４−１内で静止
した超純水をΔＴ₁ 度上昇させるための加熱時間を
ｔ₁ 、加熱ユニット４−２内で静止した超純水をΔＴ₂
度だけ上昇させるための加熱時間をｔ₂ 、加熱ユニット
４−３内の超純水をΔＴ₃度上昇させるための加熱時間
をｔ₃ とすると以下の関係が成立する。

【００１７】 Ｑ₁ ＝Ａ₀ ×ΔＴ₁ ×Ｖ／ｔ₁ …（１） Ｑ₂ ＝Ａ₀ ×ΔＴ₂ ×Ｖ／ｔ₂ …（２） Ｑ₃ ＝Ａ₀ ×ΔＴ₃ ×Ｖ／ｔ₃ …（３） ただし、Ａ₀ ：定数

【００１８】上記加熱ユニット４−１〜４−３の内容積
Ｖは既知であり、また、加熱ユニット４−１〜４−３の
加熱パワーＱ₁ ，Ｑ₂ およびＱ₃ （例えば、フルパワー
で２４ＫＷ）も既知である。

【００１９】図１に示したコントローラ６には、加熱開
始前に上記内容積Ｖ、加熱パワーＱ₁ 〜Ｑ₃ 、超純水の
目標加熱温度Ｔ_S （例えば、８０℃）および該超純水の
初期温度Ｔ₀ （例えば、２３℃）が予め入力される。

【００２０】そして、コントローラ６は、上記（１）〜
（３）式と下記温度条件とに基づいて、上記加熱時間ｔ
₁ ，ｔ₂ およびｔ₃ を演算する。

【００２１】

【００２２】コントローラ６に、加熱スタート信号が入
力されると、該コントローラ６によって前記閉止弁５が
閉じられる。この結果、装置１内での超純水の流通が停
止され、このとき、加熱ユニット４−１〜４−３の加熱
容器には、該容器の容積Ｖに対応した量の温度Ｔ₀ の超
純水が静止状態で充填されている。

【００２３】一方、コントローラ６は、上記スタート信
号の入力時点で、加熱ユニット４−１をフルパワーで加
熱動作させるとともに、この加熱動作の開始後、（ｔ₁
−ｔ₂ ）時間が経過した時点で加熱ユニット４−２を、
更に、上記加熱動作の開始後、（ｔ₁ −ｔ₃ ）時間が経
過した時点で加熱ユニット４−３をそれぞれフルパワー
で加熱動作させる。

【００２４】この結果、図２に示すように、上記加熱ユ
ニット４−１内の超純水の温度は、上記スタート信号の
入力時点から徐々に上昇し、時間ｔ₁ 後にその値が（Ｔ
₀ ＋ΔＴ₁ ）となる。

【００２５】また、加熱ユニット４−２，４−３内の超
純水の温度は、上記スタート信号の入力時点から上記時
間（ｔ₁ −ｔ₂ ），（ｔ₁ −ｔ₃ ）を経過した時点でそ
れぞれ上昇を開始し、時間ｔ₂ ，ｔ₃ 後に、それぞれ値
（Ｔ₀ ＋ΔＴ₂ ），（Ｔ₀ ＋ΔＴ₃ ）に到達する。

【００２６】図２および上記（４）式から明らかなよう
に、上記値（Ｔ₀ ＋ΔＴ₁ ）は、目標温度Ｔ_S よりも若
干低く設定されているが、これは、何等かの要因で加熱
ユニット４−１の出口温度が目標温度Ｔ_S を越えるよう
なことがないように配慮したものである。

【００２７】一方、コントローラ６は、上記時間ｔ₁ が
経過した時点で前記閉止弁５を開作動するとともに、予
設定目標温度Ｔ_S と温度センサ７によって検出される加
熱ユニット４−１の出口温度とに基づいて、それらの温
度の偏差が零となるように、つまり、上記出口温度が目
標温度Ｔ_S に維持されるように各加熱ユニット４−１〜
４−３の加熱パワーを制御する。

【００２８】この結果、加熱ユニット４−１の出口から
は、目標温度Ｔ_S に温度調整された超純水が流出する。
そして、この超純水は、図１に示した出口２を介して所
定のユースポイントに供給される。

【００２９】なお、上記閉止弁５を開作動されてからの
加熱パワーの制御は、例えば、以下に示す態様で実施さ
れる。

【００３０】（１） 必要な加熱パワーの１／３を各加
熱ユニット４−１〜４−３にそれぞれ負担させる。 （２） 加熱ユニット４−２，４−３をフルパワー動作
させ、不足パワーを加熱ユニット４−１に負担させる。

【００３１】（実施形態２）次ぎに、超純水の流量を加
味した実施形態について説明する。加熱ユニット４−１
〜４−３に流量Ｌ₀ の超純水を流通させた状態で、加熱
ユニット４−１の出口温度を初期温度Ｔ₀ から目標温度
Ｔ_S まで上昇させようとした場合、加熱ユニット４−１
〜４−３全体の必要加熱パワーＱ₀ は、下式（６）のよ
うに表わされる。

【００３２】 Ｑ₀ ＝Ａ_O ×（Ｔ_S −Ｔ₀ ）×Ｌ₀ …（６） ただし、Ａ_O ：定数 Ｌ₀ ：超純水の流量

【００３３】そこで、上記コントローラ６は、予め入力
される上記初期温度Ｔ₀ 、目標温度Ｔ_S および流量Ｌ₀
と、上記（６）式の関係とに基づいて上記の必要加熱パ
ワーＱ₀ を演算する。

【００３４】いま、例えば、上記目標温度Ｔ_S を８０
℃、初期温度Ｔ₀ を２３℃、流量Ｌ₀を１５（ｌ／ｍｉ
ｎ）とすると、上記必要加熱パワーＱ₀ は下式（７）の
ように演算される。

【００３５】

【００３６】したがって、例えば、各加熱ユニット４−
１〜４−３に均等な加熱パワーを発生させる場合には、
それらの加熱ユニット４−１〜４−３の加熱パワーをＱ
₀ ／３＝２０ＫＷに設定することになる。

【００３７】そして、この場合、加熱ユニット４−１の
加熱時間ｔ₁ は、該ユニット４−１の内容積Ｖを４リッ
トルとすると、下式（８）のように求められる。

【００３８】

【００３９】そこで、コントローラ６は、加熱開始時に
閉止弁５を閉じ、同時に、加熱ユニット４−１にＱ₀ ／
３＝２０ＫＷのパワーを発生させる。そして、上記加熱
開始時点から１６秒（ｔ₁ ／３）が経過した時点と、該
経過時点から更に１６秒が経過した時点でそれぞれ加熱
ユニット４−２，４−３に２０ＫＷのパワーを発生さ
せ、その後、上記加熱開始時点からｔ₁ 時間が経過した
時点で上記閉止弁５を開くとともに、センサ７の出力に
基づいて加熱ユニット４−１の出口温度が目標温度Ｔ_S
に維持されるように各加熱ユニット４−１〜４−３の加
熱パワーを制御する。

【００４０】超純水の流量Ｌ₀ を加味した上記実施形態
によれば、閉止弁４の開時点における各加熱ユニット４
−１〜４−３の出口温度を、それぞれ図３に例示した最
終目標温度８０℃，６１℃および，４２℃に可及的に近
付けることができるので、図２における温度制定時間Δ
ｔ₁ を短縮することができる。

【００４１】なお、上記においては、加熱ユニット４−
１〜４−３にそれぞれ均等な加熱パワーＱ₀ ／３（２０
ＫＷ）を発生させているが、これらの加熱ユニット４−
１〜４−３の加熱パワーの総和がＱ₀ になるという条件
が満たされれば、加熱ユニット４−１〜４−３に負担さ
せる加熱パワーの大きさは任意に設定することができ
る。

【００４２】ところで、上記実施形態１に係る加熱方法
をより精度良く実施するには、超純水の初期温度Ｔ₀ を
実際に検出することがことが望ましく、また、上記実施
形態２に係る加熱方法をより精度良く実施するには、上
記初期温度Ｔ₀ と流量Ｌ₀ の双方を実際に検出すること
がことが望ましい。

【００４３】図４に示すように、上記初期温度Ｔ₀ と流
量Ｌ₀ の双方を検出するためには、前記入口３と閉止弁
５との間に流量センサ８および温度センサ９を介在させ
るとともに、該閉止弁５の流入側端と前記出口２との間
に閉止弁１０を介在させれば良く、また、上記初期温度
Ｔ₀ のみを検出する場合には、上記流量センサ８を省略
すれば良い。

【００４４】図４において、コントローラ６は、閉止弁
５の閉時もしくは閉後に閉止弁１０を開く。これによ
り、入口３から流入した超純水は、流量センサ８、温度
センサ９および閉止弁１０を介して出口２から流出する
ことになり、その結果、センサ８および９によって超純
水の実際の流量Ｌ₀ および初期温度Ｔ₀ をそれぞれ検出
することができる。なお、上記閉止弁１０は、閉止弁５
が再び開かれる時点以前に閉じられる。

【００４５】（実施形態３）前記各実施形態１，２にお
いては、閉止弁５が閉じられてから再び開けられるまで
の間、各加熱ユニット４−１〜４−３内で超純水が完全
静止している。この超純水の静止期間は短いので、この
期間に前記有害菌が発生する確率は極めて低いが、より
信頼性の高い超純水を供給するには、上記加熱ユニット
４−１〜４−３に微小流量の超純水を流して、該超純水
が完全静止した状態になるのを回避することが望まし
い。

【００４６】上記超純水の完全静止を防止するには、上
記閉止弁５に代えて、図５に示すような死水防止弁５ａ
付の閉止弁５′を使用するか、図６に示すような微小流
量弁１３を閉止弁５に併設すれば良い。また、上記閉止
弁４に代えて図示していない自動流量調整弁を配設し、
この調整弁を制御して上記微小流量の超純水の流通を実
現するようにしても良い。

【００４７】（実施形態４）上記のように、加熱ユニッ
ト４−１〜４−３に微小流量の超純水を流せば、該各加
熱ユニット４−１〜４−３内で超純水が僅かに流通する
ので、それらの加熱ユニット４−１〜４−３の出口にお
ける超純水の温度（出口温度）を検出することが可能に
なる。

【００４８】そこで、図７に示すように、加熱ユニット
４−１の出口温度を前記温度センサ７で、また、加熱ユ
ニット４−２，４−３の出口温度を温度センサ１１，１
２でそれぞれ検出すれば、これらのセンサ７，１１およ
び１２の出力に基づいて加熱ユニット４−１〜４−３の
出口温度を制御することができる。

【００４９】なお、図７の加熱装置１では、上記死水防
止弁５ａ付の閉止弁５′を採用している。

【００５０】この図７の加熱装置１のコントローラ６
は、前記加熱スタート信号の入力時点で加熱ユニット４
−１〜４−３をそれぞれ例えばフルパワーで同時作動さ
せるので、各加熱ユニット４−１〜４−３の出口温度
は、図８に例示したように時間と共に互いに同一の態様
で上昇する。

【００５１】そして、コントローラ６は、加熱ユニット
４−３に対して設定された目標出口温度（Ｔ₀ ＋Δ
Ｔ₃ ）と、センサ１２で検出される同ユニット４−３の
実出口温度とを比較し、この実出口温度が目標出口温度
（Ｔ₀ ＋ΔＴ₃ ）に到達した時点で、両温度の偏差が零
となるように同ユニット４−３の電力を制御する。

【００５２】同様に、コントローラ６は、加熱ユニット
４−２の実出口温度が目標出口温度（Ｔ₀ ＋ΔＴ₂ ）に
到達した時点で、両温度の偏差が零となるように同ユニ
ットの電力を制御し、また、加熱ユニット４−１の実出
口温度が目標出口温度（Ｔ₀＋ΔＴ₁ ）に到達した時点
で、両温度の偏差が零となるように同ユニットの電力を
制御する。

【００５３】この実施形態によれば、加熱ユニット４−
１の実出口温度が上記目標出口温度（Ｔ₀ ＋ΔＴ₁ ）に
到達した時点で閉止弁５′を開ければよいので、この閉
止弁５′の開時点を演算する必要がない。

【００５４】（実施形態５）前記実施形態１では、図２
に示したように、加熱ユニット４−１〜４−３を順次加
熱動作させているが、図９に示したように、これらの加
熱ユニット４−１〜４−３を同時に加熱動作させること
も可能である。

【００５５】すなわち、加熱ユニット４−１の出口温度
を所期温度Ｔ₀ からＴ₀ ＋ΔＴ₁ まで上昇させるための
同ユニット４−１の加熱時間ｔ₁ ′は、このユニット４
−１の加熱パワーＱ₁ を設定することにより、前記
（１）式に準じた下式（１）′によって与えられる。

【００５６】Ｑ₁ ＝Ａ₀ ×ΔＴ₁ ×Ｖ／ｔ₁ ′…
（１）′同様に、加熱ユニット４−２の出口温度を時間
ｔ₁ ′で所期温度Ｔ₀ からＴ₀＋ΔＴ₂ まで上昇させる
ための該加熱ユニット４−２の加熱パワーＱ₂ は、前記
（２）式に準じた下式（２）′によって与えられ、ま
た、加熱ユニット４−３の出口温度を時間ｔ₁ ′で所期
温度Ｔ₀ からＴ₀ ＋ΔＴ₃ まで上昇させるための該加熱
ユニット４−３の加熱パワーＱ₃ は、前記（３）式に準
じた下式（３）′によって与えられる。

【００５７】 Ｑ₂ ＝Ａ₀ ×ΔＴ₂ ×Ｖ／ｔ₁ ′…（２）′ Ｑ₃ ＝Ａ₀ ×ΔＴ₃ ×Ｖ／ｔ₁ ′…（３）′

【００５８】そこで、図１に示したコントローラ６に上
記加熱時間ｔ₁ と加熱パワーＱ₂ ，Ｑ₃ を演算させ、そ
の後、前記スタート信号が該コントローラ６に入力され
た時点で各加熱ユニット４−１〜４−３を同時に加熱動
作させる。

【００５９】この場合、（１）′式における加熱ユニッ
ト４−１の加熱パワーＱ₁ は、例えばフルパワー（例え
ば、２４ＫＷ）に設定され、また、温度上昇値ΔＴ
₁ は、前記目標温度Ｔ_S より若干低めに設定される。そ
して、上記（２），（３）式における温度上昇値Δ
Ｔ₂ ，ΔＴ₃ は、加熱ユニット４−２，４−３の各加熱
パワーＱ₂ ，Ｑ₃ が、たとえば、６７％パワー（２４Ｋ
Ｗ×０．６７），３３％パワー（２４ＫＷ×０．３３）
になるように設定される。

【００６０】各加熱ユニット４−１〜４−３に対しこの
ようなパワー配分を行っておけば、図１に例示した態様
でそれらの加熱ユニット４−１〜４−３の出口温度が上
昇することになる。なお、図１に示した閉止弁５は、上
記加熱時間ｔ₁ ′が終了した時点で開かれる。

【００６１】以上の説明から明らかなように、この実施
形態の場合、加熱ユニット４−２および４−３の加熱時
間の計算が不要となる。

【００６２】上記各実施形態によれば、加熱ユニット４
−１〜４−３内の超純水を静止もしくはほぼ静止した状
態で加熱するので、図１０に実線で示したように、加熱
ユニット４−１の出口温度が極めて短い待ち時間ｔ_a で
目標加熱温度Ｔ_S に到達することになり、したがって、
上記シリコンウエハ等の洗浄作業を速やかに開始するこ
とができるとともに、超純水や電力の無駄な消費を可及
的に低減することができる。

【００６３】もし、上記閉止弁５が開かれている状態で
加熱ユニット４−１〜４−３の加熱動作を開始した場
合、該加熱ユニット４−１〜４−３が流通状態の超純水
を加熱することになり、その結果、図１０に鎖線で示す
ように、加熱ユニット４−１の出口温度が目標加熱温度
Ｔ_S に到達するまでに極めて長い待ち時間ｔ_b を要する
ことになる。

【００６４】そして、この場合、上記時間ｔ_b の経過中
に出口２から送り出される多量の超純水を廃棄処分しな
ければならず、しかも、この廃棄される超純水の加熱に
要した電力が無駄になる。

【００６５】なお、上記各実施形態においては、３つの
加熱ユニット４−１〜４−３を直列接続しているが、本
発明は１つの加熱ユニットを用いた場合、あるいは２ま
たは４以上の加熱ユニット４−１〜４−３を直列接続し
た場合でも実施可能である。更に、図１１に示すよう
に、直列接続した複数（この例では３）の加熱ユニット
４群を互いに並列接続した場合でも実施可能である。

【００６６】また上記各実施形態では、超純水を加熱し
ているが、本発明は、この超純水以外の液体の加熱にも
当然適用することができる。

【００６７】

【発明の効果】本発明によれば、液体を静止もしくはほ
ぼ静止させた状態で加熱するので、加熱手段の出口温度
が極めて短い待ち時間で目標温度に到達することにな
る。したがって、シリコンウエハ等の洗浄に使用する超
純水の加熱に適用すれば、その洗浄作業を速やかに開始
することができるとともに、超純水や電力の無駄な消費
を可及的に低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用される液体加熱装置の一構成を示
すブロック図。

【図２】図１の装置における各加熱ユニットの出口温度
の変化態様を示すグラフ。

【図３】各加熱ユニットの目標出口温度を示すブロック
図。

【図４】本発明が適用される液体加熱装置の他の構成を
示すブロック図。

【図５】死水防止弁が付属した閉止弁の記号図。

【図６】閉止弁に微小流量弁を併設した状態を示す記号
図。

【図７】本発明が適用される液体加熱装置の他の構成を
示すブロック図。

【図８】図７の装置における各加熱ユニットの出口温度
の変化態様を示すグラフ。

【図９】各加熱ユニットに配分された加熱パワーに基づ
く該各加熱ユニットの出口温度の変化態様を示すグラ
フ。

【図１０】待ち時間の比較図。

【図１１】加熱ユニットの他の配列構成を示すブロック
図。

【符号の説明】

１ 加熱装置 ２ 出口 ３ 入口 ４，４−１〜４−３ 加熱ユニット ５，５′，１０ 閉止弁 ５ａ 死水防止弁 ６ コントローラ ７，９，１１，１２ 温度センサ ８ 流量センサ １３ 微小流量弁

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定流量の液体を加熱手段に流通させて
   加熱する加熱装置に適用され、 前記加熱手段の加熱開始以後、この加熱手段への前記液
   体の供給を一定時間停止して該加熱手段内の液体を静止
   状態にする工程と、 前記一定時間が経過した時点で前記加熱手段に前記所定
   流量の液体を供給し、同時に、前記加熱手段の出口温度
   が所定の目標温度に維持されるように前記加熱手段を制
   御する工程とを含むことを特徴とする液体加熱方法。
2. 【請求項２】 所定流量の液体を加熱手段に流通させて
   加熱する加熱装置に適用され、 前記加熱手段の加熱開始以後、この加熱装置に微少量の
   前記液体を一定時間供給して該加熱手段内の液体を僅か
   に流動させる工程と、 前記一定時間が経過した時点で前記加熱手段に前記所定
   流量の液体を供給し、同時に、前記加熱手段の出口温度
   が所定の目標温度に維持されるように前記加熱手段を制
   御する工程とを含むことを特徴とする液体加熱方法。
3. 【請求項３】 前記一定時間は、前記加熱手段の出口温
   度が前記目標温度を越えないように設定される請求項１
   または２に記載の液体加熱方法。
4. 【請求項４】 所定流量の液体を加熱手段に流通させて
   加熱する加熱装置に適用され、 前記加熱手段の加熱開始以後、この加熱装置に微少量の
   前記液体を供給して該加熱手段内の液体を僅かに流動さ
   せる工程と、 前記加熱手段の出口温度を検出する工程と、 前記出口温度が所定の温度に達した時点で前記加熱手段
   に前記所定流量の液体を供給し、同時に、前記加熱手段
   の出口温度が所定の目標温度に維持されるように前記加
   熱手段を制御する工程とを含むことを特徴とする液体加
   熱方法。