JPH1135149A - 吊下搬送装置及び浸漬処理装置 - Google Patents

吊下搬送装置及び浸漬処理装置

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JPH1135149A
JPH1135149A JP19627697A JP19627697A JPH1135149A JP H1135149 A JPH1135149 A JP H1135149A JP 19627697 A JP19627697 A JP 19627697A JP 19627697 A JP19627697 A JP 19627697A JP H1135149 A JPH1135149 A JP H1135149A
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    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063Transporting devices for sheet glass
    • B65G49/066Transporting devices for sheet glass being suspended; Suspending devices, e.g. clamps, supporting tongs

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  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スライドガラス等のプレートを試薬槽内に挿
入する場合に、位置決め誤差があってもその挿入が円滑
に行われるようにする。 【解決手段】 フレーム30には複数の受け穴40が形
成されている。受け穴40は角錐溝形状を有する。保持
具34のヘッド38は角錐軸として機能し、受け穴40
とそのヘッド38との係合によって、スライドガラス1
4の水平方向の運動が許容され、かつ、スライドガラス
14の垂直軸を回転軸とする回転運動が規制される。試
薬槽18の上端にはガイド面46Aが形成され、スライ
ドガラス14はそのガイド面46Aに沿って試薬槽18
内部に挿入される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は吊下搬送装置及び浸
漬処理装置に関し、特にスライドガラスなどを槽に漬け
て処理する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】スライドガラス上の試料を試薬処理する
ために各種の試薬処理装置が実用化されている。そのよ
うな試薬処理装置は、病理検査、染色体検査、免疫組織
検査などの検査において利用される。従来の試薬処理装
置では、多数のスライドガラスが金属製のキャリアに起
立保持され、そのキャリアごと試薬槽に漬けることによ
って、各スライドガラス上の試料に対して試薬処理がな
されている。なお、通常、1つの試料に対して複数の試
薬処理が行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の試薬処理装置では、大型の試薬槽を利用することか
ら常に多量の試薬が必要であり、また試料間でクロスコ
ンタミネーションを生じやすいという問題がある。
【0004】そこで、スライドガラスを個別的に試薬槽
に浸漬させるタイプの試薬処理装置も考えられる。しか
し、その場合には、試薬槽とそれに挿入されるスライド
ガラスの両者間の位置決め精度が問題となる。すなわ
ち、加工誤差、組立誤差、搬送位置決め誤差などに起因
して両者間に無視できない位置ずれが生じると、スライ
ドガラスが試薬槽の上部に衝突してしまうなどの問題が
生じる。もちろん、試薬槽を大きくすればその問題を回
避できるが、その場合には、1回の処理で必要以上の量
の試薬を利用しなければならず、試薬コストが増大する
という問題がある。
【0005】上記の位置決め誤差の問題は複数のスライ
ドガラスを同時に保持して試薬処理する場合において特
に顕著になる。
【0006】なお、例えば板状体の塗装処理、メッキ処
理、などを行う他の各種の分野でも上記同様の問題が起
こりうる。
【0007】本発明は、上記従来の課題に鑑みなされた
ものであり、その目的は、板状体とそれを受け入れる槽
との間に少々の位置決め誤差があっても、搬送機構に過
負担をかけずに、板状体を円滑かつ確実に槽内に挿入す
ることが可能な吊下搬送装置及び浸漬処理装置を提供す
ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、搬送対象の上端を保持する少なくとも1
つの保持ユニットと、前記保持ユニットが吊り下げられ
る搬送フレームと、前記搬送フレームに前記保持ユニッ
トを吊り下げるための吊下機構と、を含み、前記吊下機
構は、前記保持ユニットの垂直軸を中心とする回転運動
を規制しつつ、前記保持ユニットの水平シフトを一定範
囲内で許容する構造を有することを特徴とする。
【0009】上記構成によれば、吊下機構によって、保
持ユニットが搬送フレームに吊り下げられる。吊下機構
は、保持ユニットの回転運動を規制し、その水平運動を
許容するため、搬送対象を処理溝に挿入する場合に、両
者間に位置決め誤差があっても、その位置決め誤差を吸
収できる。回転運動が規制されるので、板状の搬送対象
を細い処理溝に挿入する場合でも、上方から見て両者の
方向を常に一致させることができる。
【0010】本発明の望ましい態様では、前記吊下機構
は、前記保持ユニットの吊下軸の上端部を構成する下方
に凸形の角錐軸と、前記搬送フレームに形成され、前記
吊下軸が緩く貫通する開口の周囲が斜面となった下方に
凸形の角錐溝と、を含み、前記搬送対象に水平方向の力
が加わらない場合には前記角錐軸が前記角錐溝の中央に
落とし込まれ、前記搬送対象に水平方向の力が加わった
場合には前記角錐軸が前記角錐溝の斜面を滑り上がって
前記搬送対象が水平方向にシフトする。
【0011】上記構成によれば、角錐溝の中央には、吊
下軸を緩く貫通させる開口が形成され、その開口を覆う
ようにその開口に角錐軸が落とし込まれる。この場合、
角錐軸と角錐溝の間での面接触により角錐軸の回転運動
は規制され、同時に一定範囲での水平運動が許容され
る。ただし、角錐溝中での角錐軸のポテンシャルはそれ
が中央にある場合に最も低くなるので、角錐軸には角錐
溝の中央への復帰力が常に働いている。よって、搬送対
象を上方から処理溝へ挿入するような場合、溝の位置に
応じて保持ユニットを水平方向へシフトさせることがで
き、また、その溝から搬送対象を出した時点で保持ユニ
ットを角錐溝の中央に自動的に位置決めできる。なお、
吊下機構は吊下ユニットの揺動を許容するものであって
もよいが、その揺動は処理溝への搬送対象の挿入によっ
て規制される。
【0012】上記目的を達成するために、本発明は、処
理対象であるプレートを保持する少なくとも1つの保持
ユニットと、前記保持ユニットが吊り下げられる搬送フ
レームと、前記搬送フレームに前記保持ユニットを吊り
下げるための吊下機構と、前記プレートが上方から挿入
される処理溝を有する処理ユニットと、を含み、前記吊
下機構は、前記保持ユニットの垂直軸を中心とする回転
運動を規制しつつ、前記保持ユニットの水平方向のシフ
トを一定範囲内で許容する構造を有することを特徴とす
る。
【0013】本発明の望ましい態様では、前記吊下機構
は、前記保持ユニットの吊下軸の上端部を構成し、水平
方向に張り出たヘッドと、前記搬送フレームに形成さ
れ、前記吊下軸が緩く貫通する開口の周囲が斜面となっ
た受け穴と、を含み、前記プレートに水平方向の力が加
わらない場合には前記ヘッドが前記受け穴の中央に落と
し込まれ、前記プレートに水平方向の力が加わった場合
には前記ヘッドが前記受け穴の斜面を滑り上がって前記
プレートが水平方向にシフトする。
【0014】本発明の望ましい態様では、前記ヘッド
は、下方に凸形の角錐形状を有し、前記受け穴は、下方
に凸形の角錐形状を有する。
【0015】本発明の望ましい態様では、前記処理溝の
上部には上方に広がったテーパーが形成される。すなわ
ち、プレートを下方へ降下させる際、そのテーパーによ
って処理溝に対するプレートの位置決めを行うことがで
き、この場合、吊下機構によってプレートの水平方向の
運動が許容される。
【0016】本発明の望ましい態様では、前記搬送フレ
ームを搬送する搬送機構と、前記搬送フレームを前記搬
送機構に着脱自在に装着するための装着機構と、を含
む。
【0017】本発明の望ましい態様では、前記搬送機構
を制御する制御手段を含み、前記制御手段は、試薬処理
に先立って、前記搬送フレームを前記搬送機構に装着さ
せる装着制御を実行し、試薬処理後に、前記搬送フレー
ムを前記搬送機構から離脱させる離脱制御を実行する。
【0018】例えば、最初に、各処理溝が空にされた処
理ユニットの各処理溝にプレートを挿入して搬送フレー
ムがセットされ、その状態から自動的に搬送フレームが
搬送機構に装着される。最後には、各処理溝が空にされ
た処理ユニットの各処理溝にプレートが挿入され、搬送
フレームが搬送機構から離脱される。
【0019】上記の搬送対象は望ましくはスライドガラ
スであり、それ以外の各種のプレートにも本発明を適用
できる。本発明は、処理溝の底に接触するまで搬送対象
を引き下ろして処理を行う場合の他、処理溝の底まで搬
送対象を引き下ろさないで浮かせて処理を行う場合にも
適用できる。
【0020】上記の角錐溝は角錐軸よりも大きな形状を
有する。角錐溝の大きさ及び角錐溝の開口の大きさは角
錐軸の大きさや吊下軸の太さを考慮しつつ最大のシフト
量に基づいて設定する。なお、角錐溝と角錐軸の各斜面
の勾配は互いに一致させるのが望ましい。
【0021】本発明によれば、搬送フレームの搬送中に
おいて振動が生じても、吊下機構によってその振動を緩
和でき、試薬の飛散などを防止できる利点もある。な
お、各吊下ユニットを複数設ける場合、それらの間隔
は、それらがシフトした場合にあるいは揺動した場合
に、互いに接触しない距離以上に設定するのが望まし
い。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態を
図面に基づいて説明する。
【0023】図1には、本発明に係る浸漬処理装置の好
適な実施形態が示されており、図1はその正面図であ
る。この浸漬処理装置は、図1に示されるように、吊下
搬送装置としての搬送機構10を含むものである。
【0024】搬送機構10は、吊下アセンブリ12を水
平方向及び垂直方向に搬送する機構であり、水平方向の
搬送機構20と、垂直方向の搬送機構22と、吊下アセ
ンブリ12を吊り下げるアーム24と、で構成される。
吊下アセンブリ12の上部にはノブ28が複数形成され
ており、そのノブ28にアーム24に形成された各フッ
ク26を引っかけることによって、吊下アセンブリ12
がアーム24によって吊り下げられる。ちなみに、この
吊り下げは自動的に行われる。アーム24は機構22に
よって上下方向に駆動されており、また機構20によっ
て水平方向に駆動されている。
【0025】吊下アセンブリ12は、搬送フレーム30
と、搬送対象であるスライドガラス14を吊り下げる複
数の吊下ユニット(保持ユニット)と、で構成される。
各スライドガラス14は処理ユニット16に形成された
何れかの試薬槽(処理溝)18に挿入されつつ試薬処理
が行われる。
【0026】図2は、本実施形態の浸漬処理装置の上面
図である。アーム24の水平駆動方向に沿って複数の処
理ユニット16A,16B,16Cが設けられている。
各処理ユニット16A,16B,16Cにはそれぞれ後
述する吊下ユニット32の配列パターンと同一のパター
ンによって複数の試薬層18が形成されている。何れか
の処理ユニットにおいて試薬処理が実行されている間、
他の処理ユニットでは試薬分注や試薬処理後の試薬吸引
等が行われる。もちろん、本発明は1つの処理ユニット
16のみを有する浸漬処理装置にも適用できる。
【0027】図3には、吊下アセンブリ12の具体的な
構成が示されている。搬送フレーム30は箱形形状を有
しており、その下面プレートには複数の受け穴40が形
成されている。フレーム30における受け穴40の形成
パターンは、処理ユニット16における試薬槽18の形
成パターンと同一である。受け穴40は下に凸型の角錐
溝の形状を有し、その中央部には開口を有する。
【0028】吊下ユニット32はスライドガラス14を
保持する保持具34で構成されるものであり、この保持
具34は一対のフィンガ36とヘッド38とを有する。
図4には、保持具34の斜視図が示されており、吊下軸
を成すホルダ39には一対のフィンガ36が設けられて
おり、各フィンガ36A,36Bの間37にスライドガ
ラス14の上端部が挿入される。これによって一対のフ
ィンガ36によりスライドガラスが保持される。もちろ
ん、他の機構によって、スライドガラス14を保持する
ようにしてもよい。ヘッド38は下側に凸形状の角錐軸
を構成しており、その側面である当接面38Aは受け穴
40の各斜面に当接する。ホルダ39の大きさは受け穴
40の開口よりも小さく設定されており、ヘッド38が
受け穴40の斜面を滑り上がることによって一定範囲内
でホルダ39を開口内で水平方向に運動させることがで
きる。
【0029】図5には、受け穴40の具体的な構成が示
されている。その中央部には上述したように開口42が
形成されており、その開口の周囲には4つの斜面40A
が形成されている。各斜面40Aはヘッド38の各当接
面38Aと同一の傾きを有している。受け穴40はヘッ
ド38よりも大きな角錐形状を有する。
【0030】したがって、角錐軸であるヘッド38と角
錐溝である受け穴40との係合によって、吊下ユニット
32をフレーム30に吊り下げることができ、この場合
に、吊下ユニット32のその垂直軸を回転軸とする回転
運動を効果的に規制することができ、かつ、吊下ユニッ
ト32の水平方向の運動を許容することができる。ただ
し、スライドガラス14に対して外的な力が働いていな
いような場合には、受け穴40における中央部にヘッド
38が落し込まれ、すなわち吊下ユニット32が開口中
央に位置決めされる。その一方、スライドガラス14に
外的な水平力が働くと、ヘッド38が受け穴40の斜面
40Aを滑り上がって吊下ユニット32の全体がシフト
する。
【0031】斜面40Aの内辺及び外辺はスライドガラ
ス14及び処理槽48における長手方向又は短手方向に
平行に形成されており、また、ヘッド38の当接面38
Aの内辺及び外辺もスライドガラス14の長手方向及び
短手方向に平行に形成されている。したがって、ヘッド
38及び受け穴40の係合によれば、各面の面接合作用
によって、スライドガラス14(及び試薬槽48)の長
手方向及び短手方向の2つの方向にスライドガラス14
を水平運動させることができる。すなわちスライドガラ
ス14のねじれが規制される。
【0032】図3に戻って、ヘッド38の上面はフラッ
トに形成されており、フレーム30を倒立させると、フ
レーム30の上面プレートの内壁30Bにヘッド38の
上面が接合し、これによって各吊下ユニット32が起立
することになる。その状態で、各吊下ユニット32にス
ライドガラス14をセットすることができる。
【0033】処理ユニット16において、フレーム44
には複数の溝が形成されており、その各溝内には試薬槽
18が着脱自在に挿入される。試薬槽18の溝48内に
は試薬が注入される。試薬槽18の上端にはテーパーと
してのガイド面46Aが形成されている。本実施形態で
は、試薬槽18の長手方向にガイド面46Aが形成され
ているが、さらに短手方向にガイド面を形成してもよ
い。このガイド面46Aによって、スライドガラス14
が上方から引き下ろされたときに、その端部を円滑に試
薬槽18内に導き入れることが可能となる。
【0034】図6には、処理ユニットにおける各試薬槽
18に各スライドガラス14を挿入した状態が示されて
いる。すなわち試薬処理を実行する際の状態が示されて
いる。本実施形態では、試薬槽18の溝の底にスライド
ガラス14の下端が接触するまでスライドガラス14が
引き下ろされる。すなわち、試薬槽18内にスライドガ
ラス14が完全に挿入された状態では、保持具34のヘ
ッド38が受け穴40からやや浮き上がった状態にな
る。もちろん、スライドガラス14を試薬槽18内で浮
かせつつ試薬処理を行う場合にも本発明を適用できる。
【0035】図7及び図8には、フレーム30と処理ユ
ニット16との間に位置決め誤差Gが生じている場合の
例が示されている。図7は、各スライドガラスを試薬槽
18内に挿入する時点での状態が示されて、図8にはス
ライドガラス14を試薬槽18内に挿入した後の状態が
示されている。
【0036】図7に示すように、スライドガラス14を
上方から引き下ろすと、最初にその下端がガイド面46
Aに当接し、スライドガラス14の自重によってスライ
ドガラス14が試薬槽18の溝48内に導かれることな
る。この際、受け穴40とヘッド38の作用によって、
そのようなスライドガラス14の揺動運動が許容され
る。図7に示す状態からさらに引き下ろすと、溝48の
形状にしたがって各スライドガラス14が強制的に起立
されることになり、この場合、ヘッド38は受け穴40
の中でやや持ち上がりつつシフトすることになる。そし
て、最終的に図8に示すような状態になる。
【0037】このように、受け穴40とヘッド38との
係合関係によってスライドガラス14を前後左右に自在
にシフトさせることができ、かつスライドガラス14の
回転運動が規制されているため、電気的な作用を用いる
ことなく、自動的かつ円滑にスライドガラス14を試薬
槽18内に挿入することができる。よって、位置決め誤
差等が発生していても、その誤差により生ずる問題を効
果的に回避できる。
【0038】図9には、吊下機構の他の実施形態が示さ
れている。この実施形態では、受け穴140は図5に示
した受け穴40と同様の形態を有するが、保持具134
におけるヘッド138の形状が図4に示したものとは異
なっている。この実施形態では、ヘッド138は下方に
凸型の蒲鉾形状を有しており、その側面が受け穴140
に接触している。このような蒲鉾形状を採用することに
よって、上述した実施例と同様に、前後左右方向におけ
るシフトを許容しつつスライドガラスの垂直軸を回転軸
とする回転運動を規制することができる。
【0039】図10には、本実施形態の浸漬処理装置に
おける試薬処理工程が示されている。
【0040】まずS101では、図1に示した吊下アセ
ンブリ12がアーム24から取り外された状態で、その
吊下アセンブリ12が裏返しにされ、その状態で各吊下
ユニット32にスライドガラスが装着される。そして、
S102では、試薬槽18が空にされた所定の処理ユニ
ットに吊下アセンブリ12が配置される。具体的には、
裏返しにされた状態にある吊下アセンブリ12を正立さ
せ、各スライドガラス14を各試薬槽18内に挿入する
ことによってこのS102が達成される。これは人為的
な作業により行われる。
【0041】S103では、搬送機構10が図示されて
いない制御部によって制御され、その搬送機構10によ
ってS102で配置された吊下アセンブリが掴み上げら
れる。具体的には、吊下アセンブリ12に形成されたノ
ブ28にフック26を引っかけることによって吊下アセ
ンブリ12が搬送機構10に装着される。S104で
は、複数の試薬を用いて試薬処理が実行される。この場
合、ある処理ユニットに対して試薬分注が行われている
間、他の処理ユニットにおいて試薬処理が実行され、そ
れを交互に繰り返すことによって一連の試薬処理が行わ
れる。試薬処理が完了すると、S105において各試薬
槽が空にされた所定の処理ユニットに吊下アセンブリ1
2が配置される。具体的には、試薬処理前と同様に、各
スライドガラス14を空の試薬槽18内に挿入すること
によってこのS105が実行される。そして、吊下アセ
ンブリ12の配置が完了した時点で、アーム24から吊
下アセンブリ12が離脱され、これによってこの一連の
工程が完了する。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
板状体を溝に挿入する場合に、両者間に少々の位置誤差
があっても板状体を円滑かつ確実に溝内に挿入すること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る浸漬処理装置の正面図である。
【図2】 本発明に係る浸漬処理装置の上面図である。
【図3】 吊下アセンブリ及び処理ユニットの具体的な
構成を示す図である。
【図4】 保持部の斜視図である。
【図5】 受け穴の斜視図である。
【図6】 試薬処理を行っている状態を示す図である。
【図7】 位置決め誤差が生じている場合におけるスラ
イドガラスの試薬槽への挿入を示す図である。
【図8】 位置決め誤差が生じている場合におけるスラ
イドガラスの試薬槽への挿入を示す図である。
【図9】 保持具の他の実施形態を示す図である。
【図10】 試薬処理の各工程を示すフローチャートで
ある。
【符号の説明】
10 搬送機構、12 吊下アセンブリ、14 スライ
ドガラス、16 処理ユニット、18 試薬槽、30
フレーム、32 吊下ユニット、34 保持具、36
一対のフィンガ、38 ヘッド、40 受け穴、46A
ガイド面。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 搬送対象の上端を保持する少なくとも1
    つの保持ユニットと、 前記保持ユニットが吊り下げられる搬送フレームと、 前記搬送フレームに前記保持ユニットを吊り下げるため
    の吊下機構と、 を含み、 前記吊下機構は、前記保持ユニットの垂直軸を中心とす
    る回転運動を規制しつつ、前記保持ユニットの水平シフ
    トを一定範囲内で許容する構造を有することを特徴とす
    る吊下搬送装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の装置において、 前記吊下機構は、 前記保持ユニットの吊下軸の上端部を構成する下方に凸
    形の角錐軸と、 前記搬送フレームに形成され、前記吊下軸が緩く貫通す
    る開口の周囲が斜面となった下方に凸形の角錐溝と、 を含み、 前記搬送対象に水平方向の力が加わらない場合には前記
    角錐軸が前記角錐溝の中央に落とし込まれ、前記搬送対
    象に水平方向の力が加わった場合には前記角錐軸が前記
    角錐溝の斜面を滑り上がって前記搬送対象が水平方向に
    シフトすることを特徴とする吊下搬送装置。
  3. 【請求項3】 処理対象であるプレートを保持する少な
    くとも1つの保持ユニットと、 前記保持ユニットが吊り下げられる搬送フレームと、 前記搬送フレームに前記保持ユニットを吊り下げるため
    の吊下機構と、 前記プレートが上方から挿入される処理溝を有する処理
    ユニットと、 を含み、 前記吊下機構は、前記保持ユニットの垂直軸を中心とす
    る回転運動を規制しつつ、前記保持ユニットの水平方向
    のシフトを一定範囲内で許容する構造を有することを特
    徴とする浸漬処理装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の装置において、 前記吊下機構は、 前記保持ユニットの吊下軸の上端部を構成し、水平方向
    に張り出たヘッドと、 前記搬送フレームに形成され、前記吊下軸が緩く貫通す
    る開口の周囲が斜面となった受け穴と、 を含み、 前記プレートに水平方向の力が加わらない場合には前記
    ヘッドが前記受け穴の中央に落とし込まれ、前記プレー
    トに水平方向の力が加わった場合には前記ヘッドが前記
    受け穴の斜面を滑り上がって前記プレートが水平方向に
    シフトすることを特徴とする浸漬処理装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の装置において、 前記ヘッドは、下方に凸形の角錐形状を有し、 前記受け穴は、下方に凸形の角錐形状を有することを特
    徴とする浸漬処理装置。
  6. 【請求項6】 請求項3記載の装置において、 前記処理溝の上部には上方に広がったテーパーが形成さ
    れたことを特徴とする浸漬処理装置。
  7. 【請求項7】 請求項3記載の装置において、 前記搬送フレームを搬送する搬送機構と、 前記搬送フレームを前記搬送機構に着脱自在に装着する
    ための装着機構と、 を含むことを特徴とする浸漬処理装置。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の装置において、 前記搬送機構を制御する制御手段を含み、 前記制御手段は、試薬処理に先立って、前記搬送フレー
    ムを前記搬送機構に装着させる装着制御を実行し、試薬
    処理後に、前記搬送フレームを前記搬送機構から離脱さ
    せる離脱制御を実行することを特徴とする浸漬処理装
    置。
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