JPH11345412A

JPH11345412A - 記録媒体用基板及び記録媒体

Info

Publication number: JPH11345412A
Application number: JP10150201A
Authority: JP
Inventors: Osami Morita; 修身森田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1998-05-29
Filing date: 1998-05-29
Publication date: 1999-12-14
Also published as: US20010044038A1

Abstract

(57)【要約】【課題】安価であり且つ外部からの振動に影響され難
くて記録特性に優れた基板及びその基板を有する記録媒
体並びにその記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】磁気ディスク１は、ディスク基板２上に
磁性膜３が成膜されてなる。そして、このディスク基板
２は、金属材料を用いて射出成形により成形されてな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体用基板、
記録媒体及びその記録媒体の製造方法に関する。特に、
記録媒体用基板の材料及び成形法の改良に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報記録装置のサイズは、ノート
型パーソナルコンピュータ（以下、ノート型パソコンと
称する。）等の普及に伴い、急速に小さく成りつつあ
る。特に、磁気ディスク装置の厚みは、著しく薄くなる
傾向にある。

【０００３】また、例えば、ノート型パソコンにおいて
は、価格競争が激しくなってきており、パソコン自体の
性能が良くなっているにも関わらず、価格がより安価に
なってきている。

【０００４】これらのことから、現在又は将来におい
て、コンピュータの外部記憶装置として求められる性能
としては、小さく且つ安価な外部記録装置であることが
必要である。特に、ノート型パソコンでは、ディスプレ
イやキーボードがあることを考慮すると、外部記録装置
がより薄く且つより安価であることが求められている。

【０００５】そこで、薄くて且つ安価な磁気ディスク装
置が研究され検討されている。具体的には、磁気ディス
ク装置の薄型化は、次のように検討されている。

【０００６】先ず、仮に、磁気ディスク装置の薄型化を
図ることができても、磁気ディスク装置において、記録
容量が小さくなってしまっては性能上好ましくない。そ
のため、磁気ディスク装置では、薄型化の研究ととも
に、高密度記録化の研究も盛んに行われている。

【０００７】例えば、現在では、磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッドの開発により、従来のインダクティブ型磁気ヘッド
では達成することができなかった２Ｇｂｉｔ／ｓｑ．ｉ
ｎｃｈという記録密度を達成することができるようにな
った。そして、この技術により、従来の磁気ディスク装
置内に２枚のディスクを装備することにより達成してい
た磁気ディスク装置の記録容量が、１枚のディスクによ
り達成できることとなり、結果的に、磁気ディスク装置
の薄型化にも貢献している。

【０００８】また、磁気ディスク装置の薄型化の他の方
法としては、例えば、磁気ディスク自体の厚さを薄くす
ることによって磁気ディスク装置全体の薄型化を達成し
ようとする方法も検討されている。具体的には、磁気デ
ィスク装置に装備されていた磁気ディスクの厚さは、も
ともと１．２ｍｍが主流であったが、徐々に薄型化され
てきており、０．８ｍｍ、更には０．６３５ｍｍの厚さ
にまで薄型化が進行している。そして、この方法によ
り、少なくとも磁気ディスクが薄くなった分だけ、磁気
ディスク装置の薄型化に貢献している。

【０００９】一方、安価な磁気ディスク装置を提供する
方法としては、次のような方法が検討されている。具体
的には、磁気ディスク装置の部品のなかで高価な部品と
して挙げられるものに、磁気ヘッドや磁気ディスクがあ
る。

【００１０】この磁気ヘッドには、最近、上述の磁気抵
抗効果型磁気ヘッドが採用されており、この磁気抵抗効
果型磁気ヘッドにより高記録密度化が実現されている。
そのため、磁気抵抗効果型磁気ヘッドは、高記録密度を
達成する上で必要不可欠な部品となっており、この磁気
抵抗効果型磁気ヘッドを量産してコストを削減する方法
しか、この磁気ヘッドのコストダウンを図る方法がない
と考えられる。

【００１１】これに対して、磁気ディスクでは、低コス
トなディスク基板として射出成形により成形された樹脂
製のディスク基板を用いた磁気ディスクが注目を浴びて
いる。従来、ディスク基板としては、アルミニウムから
なるアルミニウム基板が一般的であった。このアルミニ
ウム基板の作製方法は、以下の通りである。

【００１２】先ず、アルミニウムからなる母材から基板
形状のアルミニウムを切り出す。次に、この切り出した
アルミニウム基板の表面に対して高精度な研磨を施す。
ここで、特に、高精度な研磨が必要とされるのは、通
常、磁気ディスク上を磁気ヘッドを搭載した浮上スライ
ダが浮上する際には、その浮上スライダの浮上量が約５
０ｎｍ程度であるため、仮に、磁気ディスク表面に高さ
５０ｎｍ以上の突起が存在すると、この突起と磁気ヘッ
ドとが衝突する虞があり、この衝突が生じた場合、磁気
ディスクや磁気ヘッドに損傷が生じたり、情報信号を再
生する際に再生信号に乱れが生じてしまうといった問題
が生じるからである。

【００１３】そのため、このアルミニウム基板の表面に
は、高精度な研磨が施されることとなる。詳しくは、平
滑な表面のディスク基板を得るために、研磨と洗浄が繰
り返し施される。このとき、研磨は、繰り返す毎に研磨
に使用する砥粒の粒径を小さくしていく。そして、この
研磨を繰り返して、最終的には高さ５０ｎｍ以上の突起
がない表面に仕上げていく。

【００１４】このようなディスク基板の作製方法では、
研磨と洗浄の工程を多数回繰り返して行うため、製造コ
ストを下げることが困難であり、結果的に、安価な磁気
ディスクを提供することができない。

【００１５】一方、樹脂を用いてディスク基板を射出成
形法により成形する方法では、得られるディスク基板を
研磨することなく、射出成形に用いられるスタンパの表
面のみを突起やへこみの極力存在しない平滑な面となる
ように研磨することのみによって、突起が極力存在しな
いディスク基板を得ることができる。これは、射出成形
品の表面性がスタンパの表面状態をそのまま反映するた
めである。

【００１６】このような射出成形法によれば、従来のア
ルミニウムからなるディスク基板の作製方法において必
須工程であった研磨及び洗浄の繰り返し工程を省略する
ことができ、製造コストの安価なディスク基板を提供す
ることができるようになった。さらに、樹脂の材料コス
トは、アルミニウムに比して安価である。そのため、射
出成形法により成形される樹脂製のディスク基板は、原
材料コストの点においても有利である。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、磁気
ディスク装置では、樹脂を用いた射出成形法によりディ
スク基板を成形し、しかもこのディスク基板を薄型化す
ることにより、装置の低コスト化及び薄型化を図ること
ができる。

【００１８】しかしながら、このような射出成形により
成形される樹脂製のディスク基板は、従来用いられてい
たガラスやアルミニウムからなるディスク基板と比べて
材質が軟らかく、そのため、外部からの振動に対して影
響を受けやすいという問題がある。つまり、射出成形に
より成形される樹脂製のディスク基板は、共振周波数が
低い。

【００１９】そのため、樹脂製のディスク基板を有する
磁気ディスクは、外部からの微小な振動に対しても共振
しやすく、その場合に、浮上スライダに搭載された磁気
ヘッドが本来位置すべきトラック上に位置することが困
難になり、正しい情報信号の読み出しができなくなって
しまうという記録再生特性上の問題がある。

【００２０】具体的には、一般に、磁気ディスクは、あ
る固有振動数を有している。そして、この固有振動数と
同じ周波数の外乱振動が磁気ディスクに加わると、磁気
ディスクは、共振を始める。

【００２１】特に、樹脂製のディスク基板を有する磁気
ディスクは、共振周波数が小さいため、微小な外部から
の振動に対しても共振してしまう。

【００２２】そして、この共振が始まると、磁気ディス
ク上を約５０ｎｍ程度の浮上量で浮上している浮上スラ
イダも同様に振動を始めることとなるが、浮上スライダ
は、磁気ディスクの振動に対して、その浮上量を一定に
保つためのサーボ機構をなんら有していない。さらに、
磁気ディスクは、その振動がスピンドルの軸方向の振動
であっても、スピンドルの軸方向に垂直な方向である、
ディスクの面内方向へも若干ではあるが振動することと
なる。

【００２３】特に、近年の磁気ディスク装置では、記録
密度を向上させるために、線記録方向の密度はもちろ
ん、トラック幅方向の密度も大きくなっている。すなわ
ち、トラック幅が小さくなされているため、磁気ディス
クにおいて、上記のような共振によるディスク面内方向
の振動が若干存在する場合、そのディスク面内方向の振
動が、記録再生特性上において無視できないレベルにき
ている。このようなディスク面内方向の振動があるため
に、浮上スライダは、本来位置すべきトラック上に位置
することができなくなり、正しい情報の読み出しが困難
となってしまう。

【００２４】したがって、磁気ディスクの振動を極力低
減させることが、記録再生特性の点から必要である。つ
まり、良好な記録再生特性を得るには、外部からの振動
に影響されにくいような磁気ディスクであることが必要
である。

【００２５】そこで、このような共振による磁気ディス
クの振動を低減する方法が検討されている。その方法の
１つとして、磁気ディスクに外部から加わる外乱振動源
となるスピンドルの挙動を制御する方法がある。詳しく
は、スピンドルのベアリングの挙動を抑圧、もしくは除
去するために、スピンドルのベアリングの軸受けとして
流体軸受けを磁気ディスク装置に配設する方法である。

【００２６】この方法は、従来と同じディスク基板を用
いることができるのが特徴であるが、流体軸受けが通常
のボールベアリングの軸受けと比較して高価であるのが
欠点である。また、流体軸受けを採用したからといっ
て、完全に外乱振動源を排除することはできない。

【００２７】そこで、本発明は、このような実情に鑑み
て提案されたものであり、安価であり、且つ外部からの
振動に影響され難くい記録媒体用基板及びその記録媒体
用基板を有し記録再生特性に優れる記録媒体を提供する
ことを目的とする。

【００２８】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
本発明に係る記録媒体用基板は、金属材料からなり射出
成形により成形されてなることを特徴とするものであ
る。ここで、上記金属材料としては、マグネシウム又は
アルミニウムのうちの少なくとも何れか１種を好適に用
いることができる。

【００２９】このように、本発明に係る記録媒体用基板
は、金属材料からなるため、硬度が十分確保されるの
で、外部からの振動に影響されにくい強固な構造とな
り、良好な振動特性が得られる。しかも、本発明に係る
記録媒体用基板は、金属材料を射出成形により成形して
なるので、従来の研磨方法による製造方法のような得ら
れた基板を研磨する工程が必要ないため、成形工程がよ
り簡単となり、より安価なものとなる。

【００３０】したがって、本発明に係る記録媒体用基板
は、良好な振動特性が得られるととともに、安価なもの
となる。なお、本発明に係る記録媒体用基板では、金属
材料としてマグネシウム又はアルミニウムのうちの少な
くとも何れ１種を用いることが、硬度や融点や熱伝導率
等の点から射出成形に用いるのに好適である。

【００３１】また、本発明に係る記録媒体は、金属材料
からなり射出成形により成形されてなる基板と、上記基
板上に形成される記録膜とを備えることを特徴とするも
のである。ここで、上記金属材料として、マグネシウム
又はアルミニウムのうちの少なくとも何れか１種を好適
に用いることができる。

【００３２】このように、本発明に係る記録媒体は、基
板が金属材料からなるため、硬度が十分確保されるの
で、外部からの振動に影響されにくい強固な構造とな
り、良好な振動特性の得られた記録媒体となる。しか
も、本発明に係る記録媒体は、基板が射出成形により成
形されるので従来の研磨方法による製造方法のような得
られた基板を研磨する工程が必要ないため、製造工程が
より簡単となり、結果的により安価な記録媒体となる。

【００３３】したがって、本発明に係る記録媒体は、良
好な振動特性が得られるとともに、安価なものとなる。
なお、本発明に係る記録媒体では、金属材料としてマグ
ネシウム又はアルミニウムのうちの少なくとも何れか１
種を用いることが、硬度や融点や熱伝導率等の点から射
出成形に用いるのに好適である。

【００３４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について、図面を参照しながら詳細に説明する。な
お、以下、本発明を適用した記録媒体として、磁気ディ
スクを取り挙げるが、本発明を適用した記録媒体は、後
述するようにこれに限らない。図１に、本発明を適用し
た磁気ディスクの斜視図を示す。図２に、本発明を適用
した磁気ディスクの断面図を示す。

【００３５】本発明を適用した磁気ディスク１は、図１
及び図２に示すように、ディスク基板２の両主面上に、
磁性膜３がそれぞれ成膜されてなる。そして、この磁気
ディスク１には、中央部に中心孔１ａが設けられてい
る。なお、本発明の磁気ディスクは、片面に磁性膜が形
成されているものでも良い。

【００３６】特に、本発明のディスク基板２は、金属材
料からなり射出成形により成形されてなるものである。
つまり、このディスク基板２は、金属材料を用いて射出
成形されてなる。

【００３７】具体的には、上記金属材料としては、マグ
ネシウム、アルミニウム、チタン、ニッケル、鉄等を用
いることができ、好ましくは、マグネシウム又はアルミ
ニウムの少なくとも１種であり、更に好ましくは、マグ
ネシウムである。ここで、上記金属材料が特に好ましい
理由は、以下に示す理由によるものである。

【００３８】従来の樹脂製のディスク基板は、材質が軟
らかく、共振周波数が比較的低かった。そのため、樹脂
製のディスク基板を用いた従来の磁気ディスクは、外部
からの振動が加わった場合に、容易に振動しやすく、そ
のため、浮上スライダに搭載された磁気ヘッドが本来位
置すべきトラック上に正確に位置することができなくな
り、正しい情報信号の読み出しが困難であった。

【００３９】特に、上述したように、近年の磁気ディス
クでは、高記録密度を達成させるために、線記録方向の
密度だけでなくトラック幅方向の密度も大きくなされて
おり、このトラック幅が小さくなされると、外部からの
振動に共振する磁気ディスクの面内方向の振動が無視で
きないレベルとなる。これは、磁気ディスク装置におい
て、トラック位置決めのためのサーボ情報を磁気ディス
クから読み出すのであるが、このサーボ情報が正しく読
み出され、正しく位置決めされたとしても、磁気ディス
クの振動のために、情報信号の読み出しの際に浮上スラ
イダの位置がずれるためである。

【００４０】すなわち、浮上スライダに搭載された磁気
ヘッドをトラック上に正しく位置決めすること、つまり
サーボは、磁気ヘッドの動きが有限の周波数であるた
め、この周波数以上でトラックが振動する場合には、磁
気ヘッドを正しくトラック上に位置決めすることができ
なくなる。以下、０Ｈｚからこの有限の周波数までをサ
ーボ帯域と称する。したがって、サーボをかけることが
できる周波数は、サーボ帯域内の周波数でトラックが揺
れる場合であり、サーボ帯域外の周波数でトラックが揺
れる場合には、サーボをかけることができない。これ
は、トラックの揺れる原因に依らずである。

【００４１】よって、磁気ディスクの振動を排除するこ
とが、根本的な解決ではあるが、サーボ帯域外に磁気デ
ィスクの振動周波数を設定することも、解決手段の一つ
と考えられる。

【００４２】一般に、エネルギーは、周波数に反比例す
る。そのため、磁気ディスクの共振周波数が高い場合の
磁気ディスクの振動振幅は、小さく、サーボを掛けて磁
気ヘッドの位置決めをする程ではなく、無視できる程度
のずれしか生じない。

【００４３】したがって、磁気ディスクの共振周波数を
当該磁気ディスクが装填される磁気ディスク装置のサー
ボ帯域外に設定することができれば、サーボ帯域内にお
いては、完全に共振による振動が原因となるディスク面
内方向の磁気ディスクの振動を除去することができるこ
ととなる。また、完全に磁気ディスクの共振周波数をサ
ーボ帯域内から排除できなくても、なるべく高い周波数
に設定することにより、共振による磁気ディスクの振動
を極力小さいものとすることができる。

【００４４】通常、情報記録媒体用基板のような円板状
物体の固有振動数は、外形を変化させなければ、下記式
（１）で与えられる。

【００４５】ｆ_i＝Ｇ（Ｅ×ｔ²／ρ）^1/2 ・・・（１）ｆ_i：固有振動数ｔ：基板厚み ρ：基板材料密
度Ｅ：基板材料ヤング率Ｇ：比例定数上記式（１）からわかるように、固有振動数ｆ_iを高く
設定するには、ディスク基板の厚みを厚くするか、もし
くは、Ｅ／ρを大きくするかの２つの手法しかない。し
かし、ディスク基板の厚みは、磁気ディスク装置自体の
薄型化が望まれる近年の傾向のなかで、より薄くしてい
かなくてはならないものである。よって、ディスク基板
の厚みを厚くする手法は、次世代の磁気ディスクを開発
する上で採用することは好ましくない。

【００４６】したがって、本発明のディスク基板２の固
有振動数ｆｉを高くするためには、Ｅ／ρの大きな材料
を用いてディスク基板２を成形する方法が好ましいとい
える。そこで、このディスク基板２の材料を、以下に示
す表１に基づいて検討する。

【００４７】

【表１】

【００４８】表１の結果から明らかなように、Ｅ／ρが
最も大きい材料は、ガラスであり、そのＥ／ρ値が３
４．１である。一方、Ｅ／ρが最も小さいのは、樹脂で
あり、そのＥ／ρ値が２．４である。現在、ディスク基
板の材料として実用化されているアルミニウムは、その
Ｅ／ρ値が２６．１とディスク基板の材料として考えら
れる材料の中ではかなり大きな値を示している。

【００４９】よって、このアルミニウムのＥ／ρ値より
大きいか、もしくは同等の値を示す材料によれば、記録
再生時において、現状の磁気ディスクに生じる振動より
も振動が抑えられた、現状以上の振動特性が得られるデ
ィスク基板を成形することができるといえる。

【００５０】このことから、アルミニウムの他に、マグ
ネシウム、チタン、ガラス、ニッケル、鉄が、ディスク
基板２の材料として適していることとなる。なお、ニッ
ケルと鉄は、強磁性体であるため、磁気ディスク及び光
磁気ディスクの様に磁気特性を記録の原理に応用してい
るような記録媒体のディスク基板には不向きである。

【００５１】さらに、上記材料の中で、製造コストの安
価な基板製造方法である射出成形法に用いることが可能
な材料を考慮する。ここで、射出成形法に用いることが
可能な材料の条件としては、以下の条件が挙げられる。

【００５２】先ず、射出成形法に好適な材料としては、
融点がある程度低いことが必要である。これは、射出成
形では、材料を溶融して金型内に流し込むので、材料が
ある程度低い温度で溶融しないと金型自体が変形してし
まう虞があるからである。この点を考えると、材料の融
点が１０００度以上というのは、実用上現実的でないと
考えられる。よって、チタン、ニッケル、鉄、ガラスと
いった材料は、射出成形には不向きであるといえる。

【００５３】次に、射出成形法に好適な材料としては、
熱伝導率が比較的小さいことが必要である。これは、射
出成形では、溶融した材料が金型に注入された瞬間に冷
却が始まるので、熱伝導率が非常に高い材料であると、
金型内に材料が完全に充填される前に材料の固化が始ま
ってしまい、成形物の表面に、いわゆる流れと称される
樹脂の流れた跡が残ることになるからである。また、そ
のため、所望の形状が得られないということになる。

【００５４】この熱伝導率を考慮すると、表１に示され
るように、マグネシウムの熱伝導率の方がアルミニウム
の熱伝導率よりも小さいため、マグネシウムの方が、ア
ルミニウムよりも射出成形には適していることとなる。

【００５５】さらに、表１から分かるように、マグネシ
ウムは、アルミニウムに比べて密度が小さいため、同じ
形状ならば質量が軽くなる。その結果、マグネシウムを
ディスク基板２の材料に用いてなる磁気ディスク１で
は、軽量化が図られて、そのため、磁気ディスクを回転
させるモータのトルクが小さくなり、消費電力の省力化
にもつながる。特に、ノート型パソコンの場合には、電
池を搭載して使用することが多く、低消費電力化は使用
時間の長期化につながる利点も有することとなる。よっ
て、ディスク基板２の原料として、マグネシウムを採用
することにより、より低消費電力化が実現でき、ノート
型パソコン等の機器の使用時間を長くすることができ
る。

【００５６】このように、本発明のディスク基板２で
は、上記金属材料としては、マグネシウム、アルミニウ
ム、チタン、ニッケル、鉄等を用いることができ、好ま
しくは、マグネシウム又はアルミニウムの少なくとも１
種であり、更に好ましくは、マグネシウムであるといえ
る。但し、純マグネシウムは、反応性が高く、発火しや
すいために、一般には、マグネシウム合金という形で扱
われることが多い。このマグネシウム合金の組成として
は、例えば、Ｍｇ８３〜９７ｗｔ％、Ａｌ３．５〜１０
ｗｔ％、Ｚｎ１．５ｗｔ％、残りをＭｎとするものが挙
げられる。

【００５７】なお、上記に挙げたアルミニウム、マグネ
シウム、チタン、ガラス、ニッケル、鉄といった材料
は、今後、射出成形技術の向上により、より融点の高い
材料も射出成形することができることも十分考えられる
ので、上記材料を用いて射出成形することができないと
いうわけではない。また、上記材料を実際に射出成形す
ることを考えると、純鉄や純アルミニウム等のように１
００％純粋な金属では、反応性が高いため、ある程度の
不純物を混入させ、耐食性や耐発火性を向上させること
が必要となる。

【００５８】以上述べたように、本発明のディスク基板
２は、金属製であるため、硬度が十分確保され、従来の
樹脂製のディスク基板と比較して、格段に強度が増強さ
れたものとなる。

【００５９】その結果、本発明のディスク基板２は、外
部からの振動に対して影響されにくくい構造となる。す
なわち、本発明のディスク基板２は、共振周波数が高く
なり、外部からの振動に対して共振しにくい構造とな
る。

【００６０】よって、このディスク基板２を有する磁気
ディスク１においては、外部から振動が加わった場合
に、容易に振動するものではなくなり、浮上スライダに
搭載された磁気ヘッドが本来位置すべき磁気ディスク１
のトラック上に正確に位置するようになり、より正確な
情報信号の読み出しができて、記録再生特性を向上する
ことができ、高記録密度化を図ることが可能となる。

【００６１】しかも、本発明のディスク基板２は、上記
金属材料を用いて射出成形により成形されるので、従来
の研磨方法による製造方法のような得られた基板を研磨
する工程が必要ないため、成形工程がより簡単となり、
より安価なものとなる。そして、その結果、このディス
ク基板２を用いた本発明の磁気ディスク１は、安価なも
のとなる。

【００６２】ところで、本発明の磁気ディスク１は、こ
のようなディスク基板２上に磁性膜３が形成される。こ
の磁性膜３は、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃，Ｃｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃，Ｃ
ｏ−Ｐｔ−Ｃｒ等の従来公知の磁性層材料からなり、デ
ィスク基板２上にスパッタリング等の従来公知の薄膜形
成方法により形成される。

【００６３】なお、本発明を適用した磁気ディスクとし
ては、ディスク面が平滑面となされた上記の磁気ディス
ク１の他に、例えば、図３乃至図６に示すように、ディ
スク基板の表面にトラック方向と略平行な凹凸パターン
が形成されている磁気ディスク１０でも良い。図３は、
本発明を適用した磁気ディスク１０の平面図を示す。図
４は、図３中における範囲Ｘを拡大して示す平面図であ
る。図５は、本発明を適用した磁気ディスク１０の半径
方向の断面図である。図６は、本発明を適用した磁気デ
ィスク１０のトラック方向の断面図である。

【００６４】この磁気ディスク１０のディスク基板１３
は、磁気ディスク１のディスク基板２と同様に、金属材
料を用いて射出成形されてなる金属製である。このディ
スク基板１３には、データ記録領域（データゾーン）１
１及び制御信号記録領域（サーボゾーン）１２のそれぞ
れに対応した所定の凹凸パターンが形成されており、そ
の表面に磁性膜１４が形成されている。なお、データゾ
ーン１１及びサーボゾーン１２は、記録再生時に所定の
間隙毎にサーボゾーン１２が現れるように、例えば、図
３に示すように、サーボゾーン１２の形成位置が磁気デ
ィスク１０の中心から略放射状となるように形成され
る。

【００６５】上記データゾーン１１には、任意のデータ
を記録するためのデータトラックと、隣接するデータト
ラックを区分するためのガードバンドとが同心円状に形
成されている。そして、磁気ディスク１０には、データ
トラックが凸部１０ａとなり、ガードバンドが凹部１０
ｂとなるように、凹凸が形成されている。なお、これら
の凹凸は、磁気ディスク１０上を浮上するヘッドスライ
ダの走行方向に対して平行であれば良く、例えば、記録
トラックをスパイラル状に形成する場合には、当該記録
トラックに沿ってスパイラル状に形成する。また、これ
らの凹凸は、凸部１０ａが円周方向に連続的に続くよう
に形成されていても良いし、或いは、ヘッドスライダの
走行に悪影響を与えない程度に分断されていても良い。

【００６６】一方、サーボゾーン１２には、データトラ
ックを特定するためのグレイコードや、サーボクロック
を生成する際の基準となるクロックマークや、磁気ヘッ
ドのトラッキング制御に使用されるウォブルドマーク等
を含むサーボパターンが記録される。ここで、サーボゾ
ーン１２には、凹凸が形成され、凸部１０ａと凹部１０
ｂとが互いに逆方向に磁化されており、これにより、上
記サーボパターンが記録されている。

【００６７】そして、このような構成の磁気ディスク１
０上では、記録再生時において、図７に示すように、ヘ
ッドスライダ６が浮上する。図７は、磁気ディスク１０
上をヘッドスライダ６が浮上している様子を示す斜視図
である。

【００６８】ヘッドスライダ６は、図７に示すように、
その下面の両側にエアベアリングサーフェイスとして作
用するレール６ａ、６ｂが形成されていると共に、この
レール６ａ、６ｂの先端側にはテーパ部６ｃ、６ｄが形
成されている。そして、一方のレール６ａの後端面に
は、磁気へッド８が搭載されている。

【００６９】ここで、図８に、ヘッドスライダ６が磁気
ディスク１０上を浮上している状態の要部を示す。ま
た、図９は、図８に示す状態の際に、ヘッドスライダ６
にかかる力を説明する断面図である。

【００７０】このように、磁気ディスク１０は、磁気デ
ィスク１０の表面に所定の凹凸パターンが形成されてい
る。そのため、この磁気ディスク１０では、図８に示す
ように、磁気ディスク１０上の凹部１０ｂと、ヘッドス
ライダ６のレール６ａ、６ｂの後端側との微小な間隙に
空気が流れる。そして、この空気流によりヘッドスライ
ダ６に浮揚力が働き、磁気ディスク３とヘッドスライダ
６との浮上状態を保ちつつ、ヘッドスライダ６と磁気デ
ィスク３の凸部３ａとの間隙が限りなく０に近づくま
で、ヘッドスライダ６の浮上量を小さくするすることが
できる。

【００７１】言い換えれば、磁気ディスク１０では、こ
の媒体上を浮上するヘッドスライダ６が、従来の表面が
フラットな磁気ディスク上を浮上するヘッドスライダと
同等な浮上量にて浮上している場合でも、磁気ディスク
１０上に形成された凸部１０ａとヘッドスライダ６との
距離がより近づいた状態となる。そして、更にヘッドス
ライダ６の浮上量が小さくなされることにより、本発明
の磁気ディスク１０では、媒体上の凸部３ａとヘッドス
ライダ６との距離を限りなく０に近づけることができ
る。

【００７２】よって、磁気ディスク１０では、この凸部
１０ａに対して情報信号をより高密度で記録することが
可能となり、スペーシングロスを極力抑えることができ
るとともに、更なる高密度記録化を実現することができ
る。

【００７３】なお、さらに、この磁気ディスク１０で
は、ヘッドスライダ６の浮上量を限りなく小さくするこ
とにより、最終的に、磁気ディスク１０の凸部１０ａに
磁気ヘッド８を無負荷で接触させることができるように
なる。これにより、磁気ヘッド８と磁気ディスク１０の
表面とが接触していても、磁気ヘッド８及び磁気ディス
ク１０の摩耗を完全に防止することができる。

【００７４】すなわち、このようなヘッドスライダ６及
び磁気ディスク１０では、磁気へッド８が磁気ディスク
１０の凸部１０ａに接触したときに、テーパ部６ｃ、６
ｄからレール６ａ、６ｂに沿って流れ込む空気流が、磁
気ディスク１０の凹部１０ｂとレール６ａ、６ｂの後端
側との微小な間隙から流出することになるので、図９に
示すように、へッドスライダ６を浮上させる方向に、ヘ
ッドスライダ６に対して浮揚力Ｎ１が発生する。よっ
て、この浮揚力Ｎｌと、ヘッドスライダ６の荷重Ｎ２と
が釣り合うようにすれば、磁気へッド８に掛かる磁気デ
ィスク１０の凸部１０ａからの垂直抗力Ｌが０にされ、
磁気ヘッド８と磁気ディスク１０の表面との摩擦力を０
にすることができ、磁気ディスク１０の凸部３ａと磁気
ヘッド８とを無負荷で接触させることができて、磁気へ
ッド８や磁気ディスク１０の摩耗を無くすことができ
る。

【００７５】なお、本発明を適用した記録媒体として
は、上述したように、金属材料を用いて射出成形されて
なるディスク基板上に記録膜を備える記録媒体であれば
何れでも良く、上記の磁気ディスク１，１０に限らず、
エンボスピットによって情報信号が予め書き込まれる光
ディスクや、記録膜の相変化を利用して情報信号が書き
込まれる相変化型光ディスクや、記録膜の磁気光学効果
を利用して情報信号が書き込まれる光磁気ディスク等に
適用されても良い。

【００７６】具体的には、本発明を適用した光磁気ディ
スクでは、上記のディスク基板２上に、キュリー温度を
超えた温度上昇によって保磁力がなくなり外部磁界の方
向に磁化反転する光磁気記録層等が形成されてなる。こ
の光磁気記録層には、例えば、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ等の非
晶質合金薄膜等のカー効果やファラデー効果等の磁気光
学特性を有する垂直磁化膜等が用いられる。

【００７７】また、本発明を適用した相変化型光ディス
クは、上記のディスク基板２上に、結晶と非晶質との間
で可逆的な相変化をする相変化材料層等が形成される。
この相変化材料層には、単体のカルコゲンやカルコゲン
化合物が用いられる。具体的には、この相変化材料層の
材料として、Ｔｅ，Ｓｅの各単体、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ，
Ｇｅ−Ｔｅ，Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｅ−Ａ
ｇ，Ｉｎ−Ｓｅ，Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｌ−Ｃｏ，Ｉｎ−Ｓｂ
−Ｓｅ，Ｂｉ₂Ｔｅ₃，ＢｉＳｅ，Ｓｂ₂Ｓｅ₃，Ｓｂ₂Ｔ
ｅ₃等のカルコゲン系材料が挙げられる。

【００７８】なお、特に、本発明を適用した光磁気ディ
スクとしては、例えば、ハードディスク装置の構成に光
磁気ディスクの記録再生方式を組み込んでなる光ディス
ク装置に用いられる光ディスクでも良い。すなわち、本
発明を適用した光磁気ディスクを、上記のようなハード
ディスク装置の構成に光磁気ディスクの記録再生方式を
組み込んでなる光ディスク装置に適用しても良い。

【００７９】この光ディスク装置は、光学ヘッドを構成
する対物レンズ等をヘッドスライダに搭載することによ
り、対物レンズと光磁気ディスクとを近接又は接触さ
せ、これにより、開口数ＮＡを上げて高密度記録化を図
るものである。図１０は、ハードディスク装置の構成に
光磁気ディスクの記録再生方式を組み込んでなる上記光
ディスク装置におけるヘッドスライダ部分を示す断面図
である。

【００８０】詳しくは、この光ディスク装置では、図１
０に示すように、ハードディスク装置と同様な浮上型の
ヘッドスライダ２０を使う。そして、光磁気ディスク２
１の記録膜２２は、ハードディスクと同様に、ディスク
表面にむき出しの状態とする。

【００８１】但し、この浮上型のヘッドスライダ２０に
搭載するのは、磁気記録再生素子ではなく、その代わり
に、レンズやコイルからなる光磁気記録用の光学モジュ
ールを搭載する。

【００８２】すなわち、この光ディスク装置では、ヘッ
ドスライダ２０のディスク対向面２０ａとは反対側の面
２０ｂにプリフォーカスレンズ２４が搭載されるととも
に、ヘッドスライダ２０のディスク対向面２０ａに半球
状のＳＩＬ（solid imersionlens）と称されるレンズ
（以下、ＳＩレンズという。）２２が搭載されている。
プリフォーカスレンズ２４は、従来の光磁気ディスク装
置における対物レンズに相当するレンズである。また、
ＳＩレンズ２２は、ガラス等の絶対屈折率ｎが高い材料
からなる。

【００８３】そして、このＳＩレンズ２２を囲むように
磁界変調用コイル２３が配置されている。このコイル２
３によって、ＳＩレンズ２２付近の磁界を反転させ、記
録マークを形成する。

【００８４】このような光ディスク装置における記録再
生方式としては、ミニディスク等とほぼ同じ磁界変調方
式の光磁気記録を使う。すなわち、レーザ光の照射によ
ってビームスポット内の記録膜２２の温度を一時的に上
げ、冷えるときにコイル２３で印加した磁化方向を記録
する。

【００８５】つぎに、以上のように構成される本発明の
磁気ディスク１の製造方法について詳細を説明する。

【００８６】まず、磁気ディスク１のディスク基板２
は、以下に示すような射出成形装置の金型部３０にて製
造されるものである。図１１に、ディスク基板２を製造
する射出成形装置の金型部３０を示す。

【００８７】射出成形装置の金型部３０は、成形物の主
面のうちの一方を形成する可動金型３１と、当該可動金
型３１に対向配置されて成形物の主面のうちの他方を形
成する固定金型３２とを備える。

【００８８】可動金型３１は、図示しない駆動機構によ
って固定金型３２に対して接離動作する。ここで、これ
ら可動金型３１及び固定金型２は、型締め状態において
協動してディスク基板２を形成するキャビティ３３を構
成する。

【００８９】一方、固定金型３２側には、キャビティ３
３の中心に位置して、溶融されたプラスチックをキャビ
ティ３３内に射出充填させるノズル３４ａを有するスプ
ルブッシュ３４が配設されている。また、可動金型３１
側には、キャビティ３３の中心に対応する位置に、成形
されるディスク基板２の内周側の情報信号が記録されな
い領域に対応した外径寸法を有する筒状を呈したイジェ
クト部材３５が軸方向に移動自在に配設されている。こ
のイジェクト部材３５は、ディスク基板２の離型動作の
際に図示しない駆動手段によってキャビティ３３内へと
突き出されて成形されたディスク基板２を可動金型３１
から離型させる。また、このイジェクト部材３５には、
その内周側に、成形される基板の中心穴を穿設するパン
チ３６が取り付けられている。

【００９０】特に、本発明における金型部３０では、金
属材料の熱による形状変形を回避するため、可動金型３
１及び固定金型３２の内側面、ノズル３４ａの内側面及
びスプルブッシュ３４の成形物と接する面に、耐熱性に
優れたイリジウム金属を被着させてイリジウム膜３７を
被覆させている。これにより、金型部３０では、溶融さ
れた金属材料が金型部３０内のノズル３４を介してキャ
ビティ３３内に射出充填される際に、金型部３０内が非
常に高温となっても溶融された金属材料の熱により金型
部３０の成形面が変形するのを極力防ぐことができる。

【００９１】ここで、特に、イリジウム膜３７を被覆さ
せたのは、イリジウムの融点が２４００℃と高く、ま
た、硬度も大きいため、マグネシウムの様な高融点の金
属材料をキャビティ３３内に充填しても、イリジウム膜
３７自体が変形しにくく、結果的に、キャビティ３３を
構成する可動金型３１及び固定金型３２の内側面を十分
保護することができるからである。

【００９２】なお、本発明の磁気ディスクとして、ディ
スク表面に凹凸形状が形成された磁気ディスク１０を作
製する場合、この磁気ディスク１０用のディスク基板を
成形する射出成形装置の金型部３０は、イリジウム膜３
７が被着された可動金型３１又は固定金型３２の成形面
に、例えば物理的エッチングを施して、ディスク基板上
に形成する所望の凹凸パターンと逆パターンの凹凸パタ
ーンを形成するものとする。そして、このような成形面
に凹凸パターンが形成された金型部を有する射出成形装
置を用いることにより、磁気ディスク１０用のディスク
基板を成形することができる。

【００９３】ここで、イリジウム膜３７が被着された可
動金型３１又は固定金型３２の成形面に直接エッチング
を施して凹凸パターンを形成するのは、次の理由によ
る。

【００９４】つまり、従来の凹凸パターンが形成された
樹脂製ディスク基板を成形する場合には、予め凹凸パタ
ーンが形成されたスタンパを固定金型又は可動金型の成
形面に設置し、このようなスタンパが配された金型部を
有する射出成形装置を用いてディスク基板を成形してい
た。しかし、この従来のスタンパは、厚さが約０．３ｍ
ｍ程の非常に薄い金属板であるため、本発明のように金
型部３０内に高温の金属材料を充填すると、スタンパが
熱膨張を起こして変形してしまい、結果的にディスク基
板が所望の平面性を有しないものとなってしまう。

【００９５】以上のように構成された射出成形装置で
は、次のようにディスク基板２が射出成形される。以下
では、特に、射出成形装置の金型部３０に着目してディ
スク基板２が成形される工程を説明する。図１１〜図１
６は、射出成形の工程を示す断面図である。

【００９６】先ず、図１１に示すように、図示しない駆
動機構が動作することにより、固定金型３２に対して可
動金型３１が接近動作して型締め状態とされて、可動金
型３１及び固定金型３２により周囲が閉塞されたキャビ
ティ３３が構成される。

【００９７】次に、図１２に示すように、型締め状態の
キャビティ３３内に、スプルブッシュ３４内のノズル３
４ａから溶融された金属材料、例えばマグネシウム合金
が射出充填される。このとき、金属材料を射出充填する
速度は、従来の樹脂材料を金型内に射出充填する速度に
比べて速くする。

【００９８】これは、本発明のディスク基板用の金属材
料は、上述の表１に示すように、樹脂材料よりも熱伝導
率が大きいため、樹脂を射出成形する場合と同等の射出
充填速度で金属材料を金型部内に充填すると、金属材料
が完全に金型部内の全体に充填される前に、金属材料が
金型の温度により冷却されて凝固してしまい、所望の形
状のディスク基板を得ることができないためである。

【００９９】特に、マグネシウム合金を射出充填する場
合、その射出充填速度は、樹脂材料を射出充填する速度
の約１０倍速くする。これは、上述の表１に示すよう
に、マグネシウムの熱伝導率が、樹脂の熱伝導率の約１
００倍と大きいため、その分、材料の射出充填速度も大
きくする必要があるからである。

【０１００】次に、この射出成形装置の金型部３０に設
けられた図示しない温度調節機構によりマグネシウム合
金が半溶融状態に冷却されて、図１３に示すように、イ
ジェクト部材３５の中心穴からパンチ３６が固定金型３
４の方向へと突出動作されて、成形される基板のセンタ
穴を穿設する。

【０１０１】この後、図１４に示すように、射出成形装
置の金型部３０において、射出充填されたマグネシウム
合金が図示しない温度調節機構により冷却し固化され
る。このとき、金型部３０の冷却温度としては、従来の
樹脂材料を金型内で冷却する温度と同等なレベルの低い
温度まで設定する必要はない。具体的には、従来の樹脂
材料を用いた射出成形の場合では、金型部の冷却温度を
約１００℃付近に設定し、金型をこの温度まで冷却す
る。一方、本発明に用いられる金属材料は、上述の表１
に示すように、樹脂よりも格段に融点が高いものばかり
である。そのため、例えば、マグネシウム合金を用いる
場合には、金型部３０の冷却温度を約２００℃付近に設
定すれば良い。つまり、金型部３０をこの温度まで冷却
すればマグネシウム合金は十分凝固されるからである。

【０１０２】そして、図１５に示すように、この射出成
形装置の金型部３０では、図示しない駆動機構が動作し
て可動金型３１が共動して固定金型３２に対して離間動
作されることによって、型開き動作が行われる。このと
き、金型部３０が型開きされた直後では、ディスク基板
は、未だ常温に達していないが、もともとこのディスク
基板の金属材料は熱伝導率が高いため、一気に常温まで
冷却されることになる。

【０１０３】最終的に、図１６に示すように、キャビテ
ィ３３内で成形された状態のディスク基板２は、イジェ
クト部材３５によって可動金型３１側から突き出され
て、図示しない基板取り出し機構によって取り出され
る。

【０１０４】なお、上述した射出成形においては、例え
ば、マグネシウム合金等の金属材料の固相とその溶融し
た液相とが混じりあった状態で行われるチクソモールデ
ィング法を用いた。このチクソモールディング法は、現
在では、融点の高い材料の射出成形に一般的に用いられ
ている。

【０１０５】以上のようにして得られたディスク基板２
上に、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃やＣｏ−γ−Ｆｅ₂Ｏ₃やＣｏ−Ｐｔ
−Ｃｒ合金等の従来公知の磁性層材料を用いてスパッタ
リング等の従来公知の薄膜形成法により磁性膜３を形成
し、本発明の磁気ディスク１を得る。

【０１０６】なお、この磁性膜３上に、例えば、カーボ
ンを原料として用いてスパッタリング等の従来公知の薄
膜形成法により保護膜を形成しても良い。また、ディス
ク基板２と磁性膜３との間に、つまり、ディスク基板２
上に、Ｃｒ等を原料として用いてスパッタリング等の従
来公知の薄膜形成法により下地膜を形成しても良い。

【０１０７】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について実験
結果に基づいて説明する。詳しくは、ディスク基板の材
料が、作製された磁気ディスクの振動特性に及ぼす影響
を評価するために、以下に示すような磁気ディスクを作
製し、その振動特性を測定した。

【０１０８】実施例１上記表１に記載された材料中、最も実用上有利と考えら
れるマグネシウムをディスク基板の材料として用いるこ
とにした。

【０１０９】先ず、マグネシウム８５重量％、アルミニ
ウム５重量％、亜鉛５重量％、マンガン５重量％からな
るマグネシウム合金を用意した。

【０１１０】次に、成形物と接する内側面全体にイリジ
ウムを被膜してなる金型部を有する射出成形装置を用い
て、その金型部内に、溶融させたマグネシウム合金をノ
ズルを介して射出充填した。ここで、金型部内のキャビ
ティーの大きさは、試作するディスク基板の大きさであ
る直径９５ｍｍの外径で、内径２５ｍｍの穴を有し、厚
みを０．８ｍｍとした。このときの射出速度を、樹脂材
料を用いて射出充填させる時の約１０倍の速さとした。

【０１１１】次に、金型部に設けられた温度調節機構に
よりマグネシウム合金を半溶融状態に冷却させた後に、
パンチを突出動作させて成形されるディスク基板のセン
タ穴を穿設した。

【０１１２】次に、金型部の冷却温度を約２００℃に設
定して、この温度まで金型部を冷却した。その後、この
金型部を型開きさせて、図示しないディスク基板取り出
し機構により、成形されたディスク基板を取り出した。

【０１１３】次に、このようにして成形されたディスク
基板上に、クロム（Ｃｒ）からなる下地層、コバルトク
ロム白金（ＣｏＣｒＰｔ）からなる磁性層、カーボン
（Ｃ）からなる保護層を順次スパッタリング法により形
成した。その後、この保護層上に潤滑剤をディッピング
法により塗布形成し、最終的に、直径９５ｍｍの外径
で、内径２５ｍｍの中心孔を有し、厚さ０．８ｍｍの磁
気ディスクを得た。

【０１１４】実施例２マグネシウム合金の代わりに、アルミニウムを用いた以
外は、実施例１と同様にして、磁気ディスクを作製し
た。

【０１１５】比較例マグネシウム合金の代わりに、樹脂材料を用い、キャビ
ティの厚さを約１．２ｍｍとした以外は、実施例１と同
様にして、最終的に、厚さ１．２ｍｍの磁気ディスクを
作製した。

【０１１６】＜振動特性の評価＞以上のように作製され
た磁気ディスクを用いて、次に示すように、振動特性の
測定を行った。図１７に、このとき用いた振動測定系の
概略模式図を示す。

【０１１７】この振動測定系では、図１７に示すよう
に、レーザ−ドップラー振動測定装置（Laser Dopler V
ibrometer）５０により磁気ディスクの振動を測定し
た。ここで、ディスク面による振動以外の振動を除去す
るために、スピンドルには、エアースピンドルを使用し
た。また、ディスク回転と同期した成分の振動は、スピ
ンドルの面ぶれや、ディスクのうねりに起因するものと
して除去するものとした。よって、ディスク回転に同期
しない振動成分の値のみを振動として測定することな
る。

【０１１８】そして、このレーザドップラー振動測定装
置５０により観測された信号を高速フーリエ変換アナラ
イザ（Ｆ．Ｆ．Ｔ）５１により周波数軸に展開して、デ
ィスク回転成分を除去して、その他の振動成分を自乗和
することにより振動とした。つまり、横軸に周波数をと
り、縦軸に振動成分の自乗和をとった。この測定結果を
図１８に示す。

【０１１９】図１８の結果に示されるように、マグネシ
ウム合金のディスク基板を備える実施例１は、アルミニ
ウムのディスク基板を備える実施例２とほぼ同等な振動
特性を有する。詳しくは、マグネシウム合金のディスク
基板を備える実施例１の方が、アルミニウムのディスク
基板を備える実施例２よりも、若干振動が少ないとわか
った。

【０１２０】一方、樹脂製のディスク基板を備える比較
例は、実施例１及び実施例２のディスク基板よりも若干
厚みが厚いにも関わらず、特に、ディスクの回転数が大
きい際に著しく振動しやすいことが示されており、振動
特性が実施例１や実施例２に比べて格段に悪いことが判
明した。これは、表１に示されるように、樹脂材料がア
ルミニウムやマグネシウム材料よりもＥ／ρ値が小さい
ためと考えられる。

【０１２１】以上の結果から明らかなように、金属材料
を用いて射出成形によりディスク基板を成形することに
より、ディスク基板、更には磁気ディスク自体の強度が
増大し、結果的に、外部からの振動に対して影響を受け
にくく、良好な振動特性が得られた磁気ディスクを得る
ことができると判明した。特に、金属材料として、マグ
ネシウム合金は、振動特性の点で好ましいことが判明し
た。

【０１２２】しかも、実施例１や実施例２は、ディスク
基板が射出成形により成形されるので従来の研磨方法に
よる製造方法のような得られた基板を研磨する工程が必
要ないため、製造工程がより簡単となるのでより安価な
ものであるといえる。

【０１２３】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る記録媒体用基板によれば、金属材料からなるため、硬
度が十分確保されるので、外部からの振動に影響されに
くい強固な構造となり、良好な振動特性が得られて、高
信頼性の得られたものとなる。さらに、本発明に係る記
録媒体用基板は、金属材料を射出成形により成形してな
るので、従来の研磨方法による製造方法のような得られ
た基板を研磨する工程が必要ないため、成形工程をより
簡略化することができ、結果的に、安価なものとなる。

【０１２４】また、本発明に係る記録媒体は、基板が金
属材料からなるため、硬度が十分確保されるので、外部
からの振動に影響されにくい強固な構造となり、良好な
振動特性の得られた記録媒体となる。その結果、本発明
に係る記録媒体によれば、良質な品質で安定した再生信
号が得られ、記録再生特性が向上されて更なる高記録密
度化を実現可能な高信頼性の得られたものとなる。さら
に、本発明に係る記録媒体は、基板が金属材料を用いて
射出成形により成形されるので、従来の研磨方法による
製造方法のような得られた基板を研磨する工程が必要な
いため、製造工程をより簡略化することができて、結果
的に安価な記録媒体とすることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ディスクの一例を示す斜
視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ディスクの一例を示す断
面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ディスクの他の例を示す
平面図である。

【図４】図３中の範囲Ｘを拡大して示す平面図である。

【図５】図３に示す磁気ディスクの半径方向における断
面図である。

【図６】図３に示す磁気ディスクのトラック方向におけ
る断面図である。

【図７】図３に示す磁気ディスク上をヘッドスライダが
浮上する様子を示す斜視図である。

【図８】図３に示す磁気ディスク上を浮上するヘッドス
ライダの要部を示す斜視図である。

【図９】図３に示す磁気ディスク上をヘッドスライダが
浮上する様子を示す断面図である。

【図１０】光ディスク装置の一例を示す断面図である。

【図１１】本発明の記録媒体用基板を成形する際に用い
られる射出成形装置の金型部を示す断面図である。

【図１２】射出成形装置の金型部にて記録媒体用基板が
製造される一工程を示す断面図である。

【図１３】射出成形装置の金型部にて記録媒体用基板が
製造される他の工程を示す断面図である。

【図１４】射出成形装置の金型部にて記録媒体用基板が
製造される他の工程を示す断面図である。

【図１５】射出成形装置の金型部にて記録媒体用基板が
製造される他の工程を示す断面図である。

【図１６】射出成形装置の金型部にて記録媒体用基板が
製造される他の工程を示す断面図である。

【図１７】本発明を適用した磁気ディスクの振動特性を
評価する振動測定系を示す模式図である。

【図１８】実施例及び比較例の結果を示す図である。

【符号の説明】

１，１０，２１磁気ディスク、２ディスク基板、
３磁性膜、６ヘッドスライダ、８磁気ヘッ
ド、１０ａ凸部、１０ｂ凹部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】金属材料からなり、射出成形により成形
されてなることを特徴とする記録媒体用基板。
【請求項２】上記金属材料がマグネシウム又はアルミ
ニウムのうちの少なくとも何れか１種であることを特徴
とする請求項１記載の記録媒体用基板。
【請求項３】表面に所定の凹凸パターンが形成されて
いることを特徴とする請求項１記載の記録媒体用基板。
【請求項４】金属材料からなり射出成形により成形さ
れてなる基板と、上記基板上に形成される記録膜とを備えることを特徴と
する記録媒体。
【請求項５】上記金属材料がマグネシウム又はアルミ
ニウムのうちの少なくとも何れか１種であることを特徴
とする請求項４記載の記録媒体。
【請求項６】上記基板の表面に、所定の凹凸パターン
が形成されていることを特徴とする請求項４記載の記録
媒体。