JPH11344369A - 流量検出素子及び流量センサ - Google Patents
流量検出素子及び流量センサInfo
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- JPH11344369A JPH11344369A JP10154902A JP15490298A JPH11344369A JP H11344369 A JPH11344369 A JP H11344369A JP 10154902 A JP10154902 A JP 10154902A JP 15490298 A JP15490298 A JP 15490298A JP H11344369 A JPH11344369 A JP H11344369A
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Abstract
る検出温度及び発熱温度のばらつきを防止し、検出精度
を向上させることを目的とするものである。 【解決手段】 第1及び第2の温度補償抵抗のパターン
6a,6bを同一面上の同じ位置に互いにオーバーラッ
プするように形成した。即ち、第1の温度補償抵抗6a
のパターンの間に第2の温度補償抵抗6bのパターンを
形成し、第2の温度補償抵抗6bのパターンの間にも第
1の温度補償抵抗6aのパターンを形成した。
Description
の吸入空気量を計測する流量検出素子及び流量センサに
関し、特に発熱体又はこの発熱体によって加熱された部
分から流体への熱伝達現象に基づいて流体の流速又は流
量を計測する流量検出素子及び流量センサに関するもの
である。
号公報に示された従来の感熱式流量検出素子を示す平面
図である。図において、セラミックなどの電気絶縁材料
で作られた平板状の基材23の表面上には、感熱抵抗体
である白金薄膜からなる第1及び第2の発熱抵抗24
a,24bがスパッタリング及びフォトエッチングによ
り形成されている。第1の発熱抵抗24aは気流の上流
側に、第2の発熱抵抗24bは気流の下流側にそれぞれ
形成されている。また、第1及び第2の発熱抵抗24
a,24bの表面には、アルミナ又は酸化シリコンの薄
膜がコーティングされている。
度補償抵抗25a,25も、感熱抵抗体である白金薄膜
からなり、発熱抵抗24a,24bと同様のプロセスで
基材23上に形成されているが、それらの抵抗値は発熱
抵抗24a,24bの50倍以上になるように設計され
ている。発熱抵抗24a,24bと温度補償抵抗25
a,25bには、外部接続端子26a,26b,26
c,27dが設けられている。また、基材23の発熱抵
抗24a,24bと温度補償抵抗25a,25bとの間
には、孔27が設けられている。
4a,24bは、温度補償抵抗25a,25bで計測さ
れた吸気温度よりも100℃高い温度となるように、制
御回路(図示せず)によって制御されている。図の矢印
方向への気流が生じている場合、上流側に位置する第1
の発熱抵抗24aから気流に伝達する熱は、気流の流速
が速いほど増加する。
を通過する吸気は、上流側の発熱抵抗24aによって昇
温されているため、第2の発熱抵抗24bから吸気への
熱の伝達量は、第1の発熱抵抗24aから吸気への熱の
伝達量よりも少ない。即ち、第1の発熱抵抗24aは、
第2の発熱抵抗24bよりも良く冷却され、冷却の度合
の差は、気流の流速が増すほど大きくなる。従って、第
1の温度補償抵抗25aとの温度差が一定(100℃)
となるように第1の発熱抵抗24aに与えられる電流
は、第2の温度補償抵抗25bとの温度差が一定(10
0℃)となるように第2の発熱抵抗24bに与えられる
電流よりも大きく、その差は気流の流速が速いほど大き
くなる。
えられる電流の差は、計測される気流の流速の関数とな
るため、気流の流速、又は所定の通路内を通過する気流
の流量を計測することができる。また、第1及び第2の
発熱抵抗24a,24bの冷却の度合いの差を検出する
ことにより、流速だけではなく、流れの方向も検出する
ことができる。
た従来の流量検出素子においては、発熱抵抗24a,2
4bの抵抗値を、気流の流速に拘わらず、気流の温度に
対して所定値に保つ必要があるため、気流の温度を測定
する温度補償抵抗25a,25bが設けられている。温
度補償抵抗25a,25bは機能的には1つでもよい
が、制御回路の構成を簡単にするため、2個の発熱抵抗
24a,24bに対して2個の温度補償抵抗25a,2
5bが設けられている。
a,25bが異なる場所に配置されているため、気流に
温度分布が生じた場合、温度補償抵抗25a,25bの
計測温度にばらつきが生じ、これに伴って発熱抵抗24
a,24bの温度にもばらつきが生じて、流量検出精度
が低下してしまう。
との間の熱絶縁が不十分であると、熱伝導により基材2
3が昇温され、基材23上に温度分布が生じる。このた
め、温度補償抵抗25a,25bの位置により計測温度
にばらつきが生じ、流量検出精度が低下してしまう。さ
らに、基材23が昇温されていると、基材23上の温度
補償抵抗25a,25bの温度が計測流体温度よりも高
くなり、計測流体温度を正しく計測することができず、
流量検出精度が低下してしまう。
ることを課題としてなされたものであり、流量検出精度
を向上させることができる流量検出素子及び流量センサ
を得ることを目的とする。
量検出素子は、基材、この基材上に設けられているパタ
ーンにより構成され、計測流体の温度を検出する第1及
び第2の温度補償抵抗、基材上に設けられ、第1の温度
補償抵抗により検出された計測流体の温度に応じて発熱
するように通電される第1の発熱抵抗、及び基材上に設
けられ、第2の温度補償抵抗により検出された計測流体
の温度に応じて発熱するように通電される第2の発熱抵
抗を備え、第1及び第2の温度補償抵抗のパターンは、
基材上の同じ位置に互いにオーバーラップするように形
成されているものである。
1及び第2の温度補償抵抗のパターンを同一面上に形成
し、かつ第1の温度補償抵抗のパターンの間に第2の温
度補償抵抗のパターンを形成し、第2の温度補償抵抗の
パターンの間にも第1の温度補償抵抗のパターンを形成
したものである。
1及び第2の温度補償抵抗を、絶縁性の中間膜を介して
互いに積層したものである。
1及び第2の温度補償抵抗を、計測流体の流れの方向の
上流側で第1及び第2の発熱抵抗に並べて配置したもの
である。
材、この基材上に設けられ、計測流体の温度を検出する
第1及び第2の温度補償抵抗、基材上に設けられ、第1
の温度補償抵抗により検出された計測流体の温度に応じ
て発熱するように通電される第1の発熱抵抗、及び基材
上に設けられ、第2の温度補償抵抗により検出された計
測流体の温度に応じて発熱するように通電される第2の
発熱抵抗を備え、第1及び第2の温度補償抵抗は、第1
及び第2の発熱抵抗を挟んで計測流体の流れの上流側及
び下流側に対称に配置されているものである。
材、この基材上に設けられ、計測流体の温度を検出する
第1及び第2の温度補償抵抗、基材上に設けられ、第1
の温度補償抵抗により検出された計測流体の温度に応じ
て発熱するように通電される第1の発熱抵抗、及び基材
上に設けられ、第2の温度補償抵抗により検出された計
測流体の温度に応じて発熱するように通電される第2の
発熱抵抗を備え、第1及び第2の温度補償抵抗は、計測
流体の流れの方向及び流れに直角な方向に第1及び第2
の発熱抵抗を投影した領域の外に配置されているもので
ある。
管、及び基材と、この基材上に設けられ、計測流体の温
度を検出する温度補償抵抗と、基材上に設けられ、温度
補償抵抗により検出された計測流体の温度に応じて発熱
するように通電される発熱抵抗とを有し、発熱抵抗より
も温度補償抵抗が下方に位置するように検出管内に固定
されている流量検出素子を備えたものである。
について説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1による流
量検出素子を示す平面図、図2は図1のII−II線に
沿う断面図である。図において、例えば厚さ0.4mm
のシリコンからなる平板状の基材1の第1面1a上に
は、例えば厚さ1μmの窒化シリコン等からなる絶縁性
の支持膜2が、スパッタ、蒸着又はCVD等の方法で形
成されている。
4,5がスパッタ又は蒸着等の方法で着膜されている。
第1及び第2の発熱抵抗4,5は、例えば厚さ0.2μ
mの白金等の感熱抵抗膜からなるパターンにより構成さ
れている。また、発熱抵抗4,5のパターンは、写真製
版、ウェットエッチング又はドライエッチング等の方法
によりパターニングされて形成されている。さらに、発
熱抵抗4,5の発熱部の大きさは、例えば1mm×0.
05mmである。
度補償抵抗6a,6bが蒸着又はスパッタ等の方法で着
膜されている。第1及び第2の温度補償抵抗6a,6b
は、例えば厚さ0.2μmの白金等の感熱抵抗膜からな
るパターンにより構成されている。また、温度補償抵抗
6a,6bのパターンは、写真製版、ウェットエッチン
グ又はドライエッチング等の方法によりパターニングさ
れて形成されており、それらの抵抗値は発熱抵抗4,5
の50倍以上になるように設計されている
ンは、同一面上で互いにオーバーラップするようにパタ
ーニングされている。即ち、第1の温度補償抵抗6aの
パターンの間に第2の温度補償抵抗6bのパターンが形
成され、第2の温度補償抵抗6bのパターンの間にも第
1の温度補償抵抗6aのパターンが形成されている。そ
して、温度補償抵抗6a,6bを合わせた大きさが、例
えば1mm×0.5mmになっている。
bの上には、例えば厚さ1μmの窒化シリコン等からな
る絶縁性の保護膜3が、スパッタ、蒸着又はCVD等の
方法で形成されている。発熱抵抗4,5及び温度補償抵
抗6a,6bは、リードパターン8a〜8hを介して、
流量検出素子の外部との電気的接続を行うための電極9
a〜9hに接続されている。電極9a〜9h上の保護膜
3は、電極9a〜9hにボンディングワイヤ等を接続す
るために除去されている。但し、図1(図6、図8、図
10、図12も同様)では、支持膜2上のパターンを明
確にするため、保護膜3全体を取り除いて示している。
面1b上には、裏面保護膜10が形成されている。ま
た、流量検出素子にはダイヤフラム部12が形成されて
おり、このダイヤフラム部12に発熱抵抗4,5が配置
されている。ダイヤフラム部12は、例えば写真製版等
の方法で裏面保護膜10にエッチングホール11を形成
した後、例えばアルカリエッチング等を施して基材1の
一部を除去することにより形成されている。
す回路図である。発熱抵抗4,5は、図3に示すような
制御回路によってそれぞれ所定の平均温度に制御され
る。制御回路は、温度補償抵抗6a及び発熱抵抗4を含
む第1ブリッジ回路22aと、温度補償抵抗6b及び発
熱抵抗5を含む第2ブリッジ回路22bと、発熱抵抗
4,5を流れる加熱電流に相当する電圧VM1,VM2
の差を求める回路22cを有している。発熱抵抗4,5
の発熱温度をそれぞれ温度補償抵抗6a,6bで検出さ
れた計測流体温度に基づいて適切に変えていくことによ
り、計測流体の流速と密度との積に相当する量が、加熱
電流から求められる。
4,5は、温度補償抵抗6a,6bで計測された計測流
体温度よりも一定の温度、例えば100℃高い温度とな
るように、制御回路によって制御されている。計測流体
が図1の右方向へ流れている場合、上流側に位置する第
1の発熱抵抗4から計測流体に伝達する熱は、計測流体
の流速が速いほど増加する。
上を通過する計測流体は、第1の発熱抵抗4によって昇
温されているため、第2の発熱抵抗5から計測流体への
熱の伝達量は、第1の発熱抵抗4から計測流体への熱の
伝達量よりも少ない。従って、第1の温度補償抵抗6a
との温度差が一定となるように第1の発熱抵抗4に与え
られる加熱電流は、第2の温度補償抵抗6bとの温度差
が一定となるように第2の発熱抵抗5に与えられる電流
よりも大きく、その差は計測流体の流速が速いほど大き
くなる。
電流の差は、計測流体の流速の関数となるため、計測流
体の流速、又は所定の通路内を通過する計測流体の流量
を計測することができる。また、第1及び第2の発熱抵
抗4,5の冷却の度合いの差を検出することにより、流
れの方向も検出することができる。
抗6a,6bがパターニングによって同一平面上で互い
にオーバーラップするように構成され、同じ場所に配置
されているため、計測流体に温度分布が生じた場合で
も、温度補償抵抗6a,6bが検出する計測流体の温度
は同じである。従って、発熱抵抗4,5の発熱温度も同
じで、ばらつきが生じなくなり、検出精度を向上させる
ことができる。
れているため、発熱抵抗4,5により基材1が昇温さ
れ、基材1上に温度分布が生じるが、温度補償抵抗6
a,6bが基材1上の同じ場所に配置されているため、
温度補償抵抗6a,6bに影響する基材1の温度は同じ
であり、発熱抵抗4,5の発熱温度にばらつきが生じな
くなり、検出精度を向上させることができる。
た流量センサの一例を示す正面図、図5は図4の流量セ
ンサの断面図である。図において、計測流体の通路を構
成する円筒状の主通路管18内には、主通路管18と同
軸の円筒状の検出管17が配置されている。この検出管
17内には、図1と同様の流量検出素子13が固定され
ている。
設けられている。ケース19内には、流量検出素子13
を制御するための制御回路を含む回路基板20が収容さ
れている。ケース19の外部には、制御回路を電源に接
続したり、出力信号を外部に取り出したりするためのコ
ネクタ21が設けられている。
を組み込むことにより、計測流体の流量を安定して検出
することができる。
施の形態2による流量検出素子を示す平面図、図7は図
6のVII−VII線に沿う断面図である。図におい
て、例えば厚さ1μmの支持膜2上には、例えば厚さ
0.2μmの白金等の感熱抵抗膜からなる第2の温度補
償抵抗6bがスパッタや蒸着等の方法で着膜されてい
る。支持膜2及び第2の温度補償抵抗6b上には、例え
ば厚さ0.5μmの窒化シリコン等からなる絶縁性の中
間膜14が、スパッタ、蒸着又はCVD等の方法で形成
されている。
の白金等の感熱抵抗膜からなる発熱抵抗4,5及び第1
の温度補償抵抗6aが、スパッタ又は蒸着等の方法で着
膜されている。第1の温度補償抵抗6aは、中間膜14
を挟んで第2の温度補償抵抗6b上に同じ大きさでパタ
ーニングされている。即ち、第1及び第2の温度補償抵
抗6a,6bは、立体的に互いにオーバーラップされて
いる。また、発熱抵抗4,5、温度補償抵抗6a及び中
間膜14上には、例えば0.5μmの保護膜3が着膜さ
れている。第2の温度補償抵抗6bに接続されているリ
ードパターン9a,9gは、支持膜2上に形成され、他
のリードパターン9b〜9f,9hは、中間膜14上に
形成されている。他の構成は、実施の形態1と同様であ
る。
抗6a,6bが立体的に互いにオーバーラップされてい
るため、計測流体に温度分布が生じた場合でも、温度補
償抵抗6a,6bが検出する計測流体の温度は同じであ
り、発熱抵抗4,5の発熱温度にばらつきが生じなくな
り、検出精度を向上させることができる。なお、基材1の
厚さ方向(図7の上下方向)の温度分布は、中間膜14
が十分に薄いため、平面的な温度分布に比べて無視でき
る程度である。
れているため、発熱抵抗4,5により基材1が昇温さ
れ、基材1上に温度分布が生じるが、温度補償抵抗6
a,6bが基材1上の同じ場所に配置されているため、
温度補償抵抗6a,6bに影響する基材1の温度は同じ
であり、発熱抵抗4,5の発熱温度にばらつきが生じな
くなり、検出精度を向上させることができる。
にオーバーラップされているため、基材1の面積を小さ
くしたり、熱の影響を小さくするために温度補償抵抗6
a,6bを発熱抵抗4,5から離したりすることができ
る。
施の形態3による流量検出素子を示す平面図、図9は図
8のIX−IX線に沿う断面図である。この実施の形態
3では、第1の発熱抵抗4及び第1の温度補償抵抗6a
と、第2の発熱抵抗5及び第2の温度補償抵抗6bと
が、基材1の短辺方向(図8の左右方向)の中心線を中
心として互いに対称に配置されている。また、温度補償
抵抗6a,6bは、発熱抵抗4,5で昇温された気流に
よって検出誤差が生じないように、流れの方向について
発熱抵抗4,5から十分に離して配置されることが望ま
しい。他の構成は、実施の形態1と同様である。
4,5と基材1との間の熱絶縁が不十分で、熱伝導によ
り基材1が昇温し、基材1上に温度分布が生じた場合で
も、温度補償抵抗6a,6bが発熱抵抗4,5から熱伝
導的に対称な位置に配置されているため、温度補償抵抗
6a,6bに影響する基材1の温度はほぼ同じであり、
発熱抵抗4,5の発熱温度にばらつきが生じなくなり、
検出精度を向上させることができる。
実施の形態4による流量検出素子を示す平面図、図11
は図10のXI−XI線に沿う断面図である。この実施
の形態4では、第1の発熱抵抗4及び第1の温度補償抵
抗6aと、第2の発熱抵抗5及び第2の温度補償抵抗6
bとが、基材1の短辺方向の中心線を中心として互いに
対称に配置されている。また、基材1の長辺方向(図1
0の上下方向)について、温度補償抵抗6a,6bは、
発熱抵抗4,5よりも電極9a〜9hに近い位置に配置
されている。さらに、温度補償抵抗6a,6bは、計測
流体の流れの方向及び流れに直角な方向に発熱抵抗4,
5を投影した領域の外に配置されている。他の構成は、
実施の形態1と同様である。
流れの方向及び流れに直角な方向について、温度補償抵
抗6a,6bが発熱抵抗4,5からずらして配置されて
いるため、発熱抵抗4,5により昇温されている計測流
体の熱伝達による影響を受けず、計測流体温度の計測精
度を高めることができる。
から離れた位置に配置されているため、基材1の昇温の
影響を低減することができる。さらに、温度補償抵抗6
a,6bが互いに対称に配置されているため、発熱抵抗
4,5からの熱伝導により基材1上に温度分布が生じた
場合でも、温度補償抵抗6a,6bに影響する基材1の
温度はほぼ同じであり、発熱抵抗4,5の発熱温度にば
らつきが生じなくなり、検出精度を向上させることがで
きる。
実施の形態5による流量検出素子を示す平面図、図13
は図12のXIII−XIII線に沿う断面図である。
この実施の形態5では、温度補償抵抗6a,6bが基材
1の短辺方向の中心に配置されている。また、温度補償
抵抗6a,6bは、電極9a〜9hとは反対側の基材1
の端部に設けられている。他の構成は、実施の形態1と
同様である。
1と同様に、温度補償抵抗6a,6bが平面的に互いに
オーバーラップされているため、計測流体に温度分布が
生じた場合でも、温度補償抵抗6a,6bが検出する計
測流体の温度は同じであり、発熱抵抗4,5の発熱温度
にばらつきが生じなくなり、検出精度を向上させること
ができる。
度補償抵抗6a,6bに影響する基材1の温度は同じで
あり、発熱抵抗4,5の発熱温度にばらつきが生じなく
なり、検出精度を向上させることができる。
抗6a,6bを下として、図12に示す流量検出素子を
図4及び図5に示すような流量センサに組み込むことに
より、温度補償抵抗6a,6bが発熱抵抗4,5よりも
下方に配置されるため、発熱抵抗4,5から計測流体を
介しての自然対流熱伝達の影響を温度補償抵抗6a,6
bが受けにくくなり、計測流体温度の計測精度を向上さ
せることができる。
合には、発熱抵抗及び温度補償抵抗はそれぞれ1つずつ
設ければよい。
流量検出素子は、第1及び第2の温度補償抵抗のパター
ンを、基材上の同じ位置に互いにオーバーラップするよ
うに形成したので、計測流体に温度分布が生じた場合で
も、温度補償抵抗が検出する計測流体の温度を同じにす
ることができ、発熱抵抗の発熱温度にばらつきが生じる
のを防止して、検出精度を向上させることができる。ま
た、基材の温度のばらつきによる影響も防止することが
でき、検出精度を向上させることができる。
び第2の温度補償抵抗のパターンを同一面上に形成し、
かつ第1の温度補償抵抗のパターンの間に第2の温度補
償抵抗のパターンを形成し、第2の温度補償抵抗のパタ
ーンの間にも第1の温度補償抵抗のパターンを形成した
ので、簡単な構成で検出精度を向上させることができ
る。
び第2の温度補償抵抗を、絶縁性の中間膜を介して互い
に積層したので、基材の面積を小さくしたり、熱の影響
を小さくするために温度補償抵抗を発熱抵抗から離した
りすることができる。
び第2の温度補償抵抗を、計測流体の流れの方向の上流
側で第1及び第2の発熱抵抗に並べて配置したので、計
測流体の流れの方向に直角な方向への温度分布の影響を
低減して、検出精度を向上させることができる。
び第2の温度補償抵抗を、第1及び第2の発熱抵抗を挟
んで計測流体の流れの上流側及び下流側に対称に配置し
たので、温度補償抵抗に影響する基材の温度をほぼ同じ
にすることができ、発熱抵抗の発熱温度にばらつきが生
じるのを防止して、検出精度を向上させることができ
る。
び第2の温度補償抵抗を、計測流体の流れの方向及び流
れに直角な方向に第1及び第2の発熱抵抗を投影した領
域の外に配置したので、発熱抵抗による基材の昇温の影
響を低減することができ、検出精度を向上させることが
できる。
よりも温度補償抵抗が下方に位置するように流量検出素
子を検出管内に固定したので、発熱抵抗から計測流体を
介しての自然対流熱伝達の影響を温度補償抵抗が受けに
くくなり、計測流体温度の計測精度を向上させることが
できる。
を示す平面図である。
である。
例を示す正面図である。
を示す平面図である。
る。
を示す平面図である。
子を示す平面図である。
る。
子を示す平面図である。
図である。
図である。
6a 第1の温度補償抵抗、6b 第2の温度補償抵
抗、13 流量検出素子、14 中間膜、15ダイヤフ
ラム部、16 スリット、17 検出管。
Claims (7)
- 【請求項1】 基材、 この基材上に設けられているパターンにより構成され、
計測流体の温度を検出する第1及び第2の温度補償抵
抗、 上記基材上に設けられ、上記第1の温度補償抵抗により
検出された計測流体の温度に応じて発熱するように通電
される第1の発熱抵抗、及び上記基材上に設けられ、上
記第2の温度補償抵抗により検出された上記計測流体の
温度に応じて発熱するように通電される第2の発熱抵抗
を備え、上記第1及び第2の温度補償抵抗のパターン
は、上記基材上の同じ位置に互いにオーバーラップする
ように形成されていることを特徴とする流量検出素子。 - 【請求項2】 第1及び第2の温度補償抵抗のパターン
は、同一面上に形成され、かつ上記第1の温度補償抵抗
のパターンの間に上記第2の温度補償抵抗のパターンが
形成され、上記第2の温度補償抵抗のパターンの間にも
上記第1の温度補償抵抗のパターンが形成されているこ
とを特徴とする請求項1記載の流量検出素子。 - 【請求項3】 第1及び第2の温度補償抵抗は、絶縁性
の中間膜を介して互いに積層されていることを特徴とす
る請求項1記載の流量検出素子。 - 【請求項4】 第1及び第2の温度補償抵抗は、計測流
体の流れの方向の上流側で第1及び第2の発熱抵抗に並
べて配置されていることを特徴とする請求項1ないし請
求項3のいずれかに記載の流量検出素子。 - 【請求項5】 基材、 この基材上に設けられ、計測流体の温度を検出する第1
及び第2の温度補償抵抗、 上記基材上に設けられ、上記第1の温度補償抵抗により
検出された計測流体の温度に応じて発熱するように通電
される第1の発熱抵抗、及び上記基材上に設けられ、上
記第2の温度補償抵抗により検出された上記計測流体の
温度に応じて発熱するように通電される第2の発熱抵抗
を備え、上記第1及び第2の温度補償抵抗は、上記第1
及び第2の発熱抵抗を挟んで上記計測流体の流れの上流
側及び下流側に対称に配置されていることを特徴とする
流量検出素子。 - 【請求項6】 基材、 この基材上に設けられ、計測流体の温度を検出する第1
及び第2の温度補償抵抗、 上記基材上に設けられ、上記第1の温度補償抵抗により
検出された計測流体の温度に応じて発熱するように通電
される第1の発熱抵抗、及び上記基材上に設けられ、上
記第2の温度補償抵抗により検出された計測流体の温度
に応じて発熱するように通電される第2の発熱抵抗を備
え、上記第1及び第2の温度補償抵抗は、上記計測流体
の流れの方向及び流れに直角な方向に上記第1及び第2
の発熱抵抗を投影した領域の外に配置されていることを
特徴とする流量検出素子。 - 【請求項7】 検出管、及び基材と、この基材上に設け
られ、計測流体の温度を検出する温度補償抵抗と、上記
基材上に設けられ、上記温度補償抵抗により検出された
計測流体の温度に応じて発熱するように通電される発熱
抵抗とを有し、上記発熱抵抗よりも上記温度補償抵抗が
下方に位置するように上記検出管内に固定されている流
量検出素子を備えていることを特徴とする流量センサ。
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JP15490298A JP3668921B2 (ja) | 1998-06-03 | 1998-06-03 | 流量検出素子 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20030026615A (ko) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 | 질량유량센서 및 이것을 이용한 질량유량계 |
WO2003052355A1 (fr) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Debitmetre |
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- 1998-12-09 DE DE1998156844 patent/DE19856844A1/de not_active Ceased
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