JPH11339716A - 紫外線ランプ - Google Patents
紫外線ランプInfo
- Publication number
- JPH11339716A JPH11339716A JP16279898A JP16279898A JPH11339716A JP H11339716 A JPH11339716 A JP H11339716A JP 16279898 A JP16279898 A JP 16279898A JP 16279898 A JP16279898 A JP 16279898A JP H11339716 A JPH11339716 A JP H11339716A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge vessel
- average
- group concentration
- ultraviolet
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Discharge Lamp (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Abstract
率よく得られ、放射光束維持率が高くて寿命が長く、安
全に点灯使用できる紫外線ランプを提供すること。 【解決手段】 シリカガラス製放電容器にアルゴン、ク
リプトン、キセノンのうち少なくとも1種類の希ガスが
300K換算で全圧0.1×105Pa以上封入され、
必要に応じて0.7mg/cc以上7mg/cc以下の
量の水銀が封入されて、放電容器の少なくとも一部はそ
の内表面から200μmまでの深さでの平均OH基濃度
が7.8×1024個/m3以上であり、かつ内表面から
深さ20μmまでの領域の平均OH基濃度が1.5×1
025個/m3以上1.2×1026個/m3以下であり、か
つ内表面からの深さ200μmより深い領域から放電容
器の外表面からの深さ600μmまでの領域間の平均O
H基濃度が6.2×1025個/m3以下である紫外線ラ
ンプとする。
Description
導体製造分野等に使用される紫外線を放出する紫外線ラ
ンプに関する。
ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどの希ガス
が使用される。希ガスがプラズマ中で励起されるとエキ
シマ発光する。このことは特開平7−50151号公報
などに記載されている。例えば、図1にショートアーク
型キセノンランプの外観図を示すが、放電ランプ1の放
電容器2の材質を合成石英ガラスにするとエキシマ光に
よる真空紫外域から赤外域まで幅広い放射が得られる。
キセノンエキシマ(Xe2 *)の放射原理は誘電体障壁放
電ランプと同じであるが、キセノンランプはショートア
ーク型にできるために、真空紫外域から紫外域の光を放
出する点発光の光源として比較的利用できる。
り、シリカガラスの吸収端に発光帯がかかる。それゆえ
真空紫外発光を効率よく取り出すために、放電容器2を
薄くする工夫をしているが、放電容器の強度が弱まり、
ランプ点灯中に排気管用チップ3(以下、チップと略
す。)の根元からの破壊(チップ割れ)が起こる。ま
た、電気入力を高入力にする(光を高出力させる)とチ
ップ割れが起こるまでの時間が早まった。
器内のガス温度上昇による高ガス圧力負荷も一因である
が、紫外線照射により誘起されるガラスの歪みも一因で
ある。紫外線誘起の歪みが、構造的に異形であるチップ
3に応力集中を起こすことも原因していると考えられ
る。特に長時間の点灯時には、前記双方の相乗効果が起
こり、チップ3の取り付け部周辺を起点として放電容器
2の破壊が起こる。
ルゴン、クリプトンの何れかの希ガスか、または数種類
組み合わせた希ガスがバッファガスとして放電容器内に
封入されることがある。何れのガスもエキシマ状態(X
e2 *、Ar2 *、Kr2 *)で前述のエキシマ光が発生す
る。アルゴンおよび/またはクリプトンをバッファガス
にすると、ランプの発光効率、アーク安定性、アーク集
中化が向上する一方、放電容器が白濁しやすく、照度維
持率の低下を招くという不具合が起こることがある。
象は、シリカ粒の堆積が原因であることが判った。Ar
2 *、Kr2 *はシリカガラスの吸収端よりも高いエネルギ
ーの光を放射する。この光の照射によって、Si−Oの
結合が切れ、シリカガラスが昇華し放電容器内表面に沈
着するものと推定される。
は、高い放射輝度で真空紫外域から紫外域の光が効率よ
く得られ、放射光束維持率が高くて寿命が長く、安全に
点灯使用できる紫外線ランプを提供することにある。
するために、請求項1に記載の発明は、放電容器がシリ
カガラスで構成されており、該放電容器にアルゴン、ク
リプトン、キセノンのうち少なくとも1種類の希ガスが
300K換算で全圧で0.1×105Pa以上封入さ
れ、必要に応じて0.7mg/cc以上7mg/cc以
下の量の水銀が封入されている紫外線ランプであって、
該放電容器の少なくとも紫外線放射発散度が最大となる
部分は、その内表面から200μmまでの深さでの平均
OH基濃度が7.8×1024個/m3以上であり、かつ
該内表面から深さ20μmまでの領域の平均OH基濃度
が1.5×1025個/m3以上1.2×1026個/m3以
下であり、かつ該内表面からの深さ200μmより深い
領域から放電容器の外表面からの深さ600μmまでの
領域の間の平均OH基濃度が6.2×1025個/m3以
下である紫外線ランプとするものである。
分とは放電容器の外面から放射される紫外線量が最大と
なる部分であり、一対の電極を対向配置させた放電ラン
プにおいては、放電容器の略中央の容器壁部分である。
ルゴン、クリプトン、キセノンのうち少なくとも1種類
の希ガスが300K換算で全圧で0.1×105Pa以
上封入される理由は、封入された希ガス圧力が、300
K換算で全圧で0.1×105Pa未満であると希ガス
による紫外線発光効率を充分に得ることができないから
である。
cc以上7mg/cc以下である理由は、0.7mg/
cc未満であると波長365nmの紫外線強度を実効的
に得ることができないし、7mg/ccを超えると波長
365nmの発光のスペクトル幅が広がってしまうから
である。
がシリカガラスで構成されており、該放電容器に、アル
ゴンの分圧をPA(Pa)、クリプトンの分圧をPK
(Pa)としたときに、PA+PK≧1.0×10
5(Pa)の条件でアルゴンとクリプトンが封入され、
それらに加えて、キセノンが分圧として、0.13×1
05Pa以上2.0×105Pa以下の範囲で封入され、
水銀が所定量封入されている紫外線ランプであって、該
放電容器の少なくとも紫外線放射発散度が最大となる部
分は、その内表面から200μmまでの深さでの平均O
H基濃度が1.5×1025個/m3以上であり、かつ該
内表面から深さ20μmまでの領域の平均OH基濃度が
1.5×1025個/m3以上1.2×1026個/m3以下
であり、かつ該内表面からの深さ200μmより深い領
域から放電容器の外表面からの深さ600μmまでの領
域の間の平均OH基濃度が7.8×1023以上1.5×
1025個/m3以下である紫外線ランプとするというも
のである。
圧PA、クリプトンの分圧をPKでPA+PK≧1.0
×105(Pa)とし、それらに加えて、キセノンが
0.13×105Pa以上2.0×105Pa以下の範囲
で封入される理由は、PA+PK<1.0×105(P
a)であると、波長365nmの紫外線強度を高めるこ
とができず、またクリプトンとアルゴンに加えてキセノ
ンが分圧として、0.13×105Pa未満であると放
電容器の白濁現象が生じるからであり、一方2.0×1
05Pa以上であると波長365nmの紫外線強度を実
効的に得ることができないからである。
による歪みを受け難くすることは知られている(例えば
特開平7−50151号公報)。しかし、多量のOH基
が含まれているときの効果や、紫外線ランプの放電容器
用のシリカガラスに適したOH基の濃度分布は知られて
いなかった。今回、OH基が多量にシリカガラスのバル
ク全体に含まれていると紫外線照射によって放電容器壁
の厚み中央部に圧縮歪みが発生し、内面と外面には引っ
張り歪みが発生することが推定された。
いが、OH基を放電容器壁の厚み中央部よりも特に内表
面に高濃度に分布させることで、内面に発生する引っ張
り歪みを緩和することや、真空紫外光によるシリカガラ
スの昇華を抑制すること、シリカガラスを変質させる真
空紫外光を吸収することができ、300nm以下に発生
する吸収中心や白濁の発生を驚くほど抑制することを可
能にすることを見出した。
外線照射により誘起される放電容器のガラスの歪みの大
きさや、シリカガラスの昇華によっておこる放電容器内
壁のガラス白濁についてOH基濃度との関係を調べた。
なお、本発明はショートアーク型の紫外線ランプに限ら
ず、ロングアーク型の紫外線ランプや、電極を放電容器
内に持たない誘電体障壁放電ランプ等、真空紫外域から
紫外域の光を放出する紫外線ランプに適用される。
型キセノンランプを作製した。封入ガスはXeで圧力は
300K換算で3×105Paであり、電極間距離は
4.5mmのショートアーク型ランプである。放電容器
用の素材である原管のシリカガラスには、(1)平均O
H基濃度が4.0×1023個/m3であるものと、
(2)平均OH基濃度が6.0×1025個/m3である
ものと、(3)平均OH基濃度が9.4×1025個/m
3であるものを使用した。そして、上記(1)、
(2)、(3)の原管を使用し、図2の表に示したよう
に放電容器の厚み方向で、紫外線放射発散度が最大とな
る部分のOH基濃度が異なる次に示すA1〜A5の5種
類の放電容器を使用したキセノンランプを作製した。
したもの、A2は(1)の原管にOH基を導入しただけ
のもの、A3は(2)の原管にOH基を導入して真空加
熱したもの、A4は(2)の原管にOH基を導入しただ
けのもの、A5は(3)の原管にOH基を導入しただけ
のものである。なお、OH基の導入はシリカガラスの原
管の中へ水蒸気を導入して後、外部から加熱する方法で
行なった。
IR(赤外線)領域の吸収測定を行ない、波長3673
cm-1の赤外線吸収強度からOH基濃度を求めた。ガラ
スの深さ方向のある領域の濃度は、試料となるシリカガ
ラスを厚さ方向に化学研磨(HF/H2SO4でエッチン
グする)して、その研磨前後でのIR吸光の度合いを比
較し、研磨された領域に含まれた平均OH基濃度を算出
した。
間後の紫外線照射で放電容器に誘起されたガラス歪みの
測定を行なった。ガラス歪みの測定は、試料とするガラ
ス板および偏向板を直交ニコルの関係に配置し、拡散光
を照らし複屈折により試料中を透過してくる光の強弱を
得る方法(光弾性測定)で行ない、測定部位は放電ラン
プを垂直にした場合に陰極の先端部の略水平横方向に位
置する放電容器ガラス部分(紫外線放射発散度が最大と
なる部分)について行なった。
3、A4の放電ランプで400時間点灯後も放電容器の
紫外線誘起による歪みは小さいものであった。
電ランプにおいて、同様に歪み測定をする場合の測定部
位は、放電容器の長さ方向の中央部に位置する放電容器
ガラス部分ということになる。また、誘電体障壁放電ラ
ンプの一部の型においては平面状のガラス面から紫外線
放出するものがあり、その場合は紫外線放射発散度が最
大となる部分は平面状のガラス面部分の中央部となる。
プを作製した。放電容器内には、ArとKrが合計で1
×105Pa、Xeが1×105Pa封入され、水銀が4
mg/cc封入されている。放電容器用の素材である原
管のシリカガラスには、チタン(Ti)を100wtp
pm含むシリカガラスを用いた。(4)平均OH基濃度
が4.0×1023個/m3であるものと、(5)平均O
H基濃度が1.56×1025個/m3であるものを使
い、図3の表に示したように放電容器の厚み方向で、紫
外線放射発散度が最大となる部分のOH基濃度が異なる
次に示すB1〜B4の4種類の放電容器を使用して水銀
ランプを作製した。
したもの、B2は(1)の原管にOH基を導入しただけ
のもの、B3は(2)の原管にOH基を導入して真空加
熱したもの、B4は(2)の原管のまま放電容器に加工
したものである。なお、OH基の導入は実施例1と同様
にて、シリカガラスの原管の中へ水蒸気を導入しての
ち、外部から加熱する方法で行なった。
放電容器の白濁の度合いについて見ると、B1ではかな
りの白濁があり、B2、B4で白濁はなく、B3では白
濁が少し生じた。そして、シリカガラスの昇華に起因す
る放電容器の白濁の進行による照度維持率の変化につい
て1500時間まで点灯して確認を行なった。波長36
5nmの紫外線照度維持率を点灯初期の値を1と規格化
して測定の結果を図4に示す。B2、B4で1500時
間点灯後も放電容器の白濁も生じず照度維持率は点灯初
期の90%もあった。B1は照度維持率の劣化が激しく
300時間で点灯初期の50%まで半減し、B3も15
00時間点灯後は点灯初期の45%程度にまで照度が低
下した。
発明によれば、放電容器内面に発生する引っ張り歪みを
緩和でき、放電容器の排気管用チップ部への応力集中を
抑制でき、排気管用チップ部での破裂危険性の少ない安
全な紫外線ランプとすることができる。
空紫外光によるシリカガラスの昇華を抑制し、シリカガ
ラスを変質させる真空紫外光を吸収することができ、3
00nm以下に発生する吸収中心や白濁の発生を驚くほ
ど抑制することを可能にし、放射光束維持率が高くて寿
命が長い紫外線ランプとすることができる。
示す。
表を示す。
表を示す。
Claims (2)
- 【請求項1】 放電容器がシリカガラスで構成されてお
り、該放電容器にアルゴン、クリプトン、キセノンのう
ち少なくとも1種類の希ガスが300K換算で全圧で
0.1×105Pa以上封入され、必要に応じて0.7
mg/cc以上7mg/cc以下の量の水銀が封入され
ている紫外線ランプであって、 該放電容器の少なくとも紫外線放射発散度が最大となる
部分は、その内表面から200μmまでの深さでの平均
OH基濃度が7.8×1024個/m3以上であり、かつ
該内表面から深さ20μmまでの領域の平均OH基濃度
が1.5×1025個/m3以上1.2×1026個/m3以
下であり、かつ該内表面からの深さ200μmより深い
領域から放電容器の外表面からの深さ600μmまでの
領域の間の平均OH基濃度が6.2×1025個/m3以
下であることを特徴とする紫外線ランプ。 - 【請求項2】 放電容器がシリカガラスで構成されてお
り、該放電容器に、アルゴンの分圧をPA(Pa)、ク
リプトンの分圧をPK(Pa)としたときに、PA+P
K≧1.0×105(Pa)の条件でアルゴンとクリプ
トンが封入され、それらに加えて、キセノンが分圧とし
て、0.13×105Pa以上2.0×105Pa以下の
範囲で封入され、水銀が0.7mg/cc以上7mg/
cc以下の量封入されている紫外線ランプであって、 該放電容器の少なくとも紫外線放射発散度が最大となる
部分は、その内表面から200μmまでの深さでの平均
OH基濃度が1.5×1025個/m3以上であり、かつ
該内表面から深さ20μmまでの領域の平均OH基濃度
が1.5×1025個/m3以上1.2×1026個/m3以
下であり、かつ該内表面からの深さ200μmより深い
領域から放電容器の外表面からの深さ600μmまでの
領域の間の平均OH基濃度が7.8×1023以上1.5
×1025個/m3以下であることを特徴とする紫外線ラ
ンプ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16279898A JP2891997B1 (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 紫外線ランプ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16279898A JP2891997B1 (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 紫外線ランプ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2891997B1 JP2891997B1 (ja) | 1999-05-17 |
JPH11339716A true JPH11339716A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15761422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16279898A Expired - Lifetime JP2891997B1 (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 紫外線ランプ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2891997B1 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002279932A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-27 | Ushio Inc | 放電ランプ |
JP2007273153A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Ushio Inc | ショートアーク型水銀ランプ |
JP2009295468A (ja) * | 2008-06-06 | 2009-12-17 | Ushio Inc | エキシマランプ |
JP2010055986A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Ushio Inc | エキシマランプ |
JP2011018472A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Ushio Inc | デジタルプロジェクター用キセノンショートアークランプ |
WO2015098392A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | ウシオ電機株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
CN105374659A (zh) * | 2014-08-11 | 2016-03-02 | 株式会社Orc制作所 | 短弧放电灯及光源装置 |
WO2016056232A1 (ja) * | 2014-10-08 | 2016-04-14 | ウシオ電機株式会社 | パターン形成体の製造方法、パターン形成体及び光照射装置 |
WO2023018754A1 (en) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | Kla Corporation | Laser-sustained plasma lamps with graded concentration of hydroxyl radical |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4760964B2 (ja) * | 2009-07-02 | 2011-08-31 | ウシオ電機株式会社 | ショートアーク型放電ランプ |
JP4826669B2 (ja) | 2009-11-05 | 2011-11-30 | ウシオ電機株式会社 | ショートアーク型放電ランプ |
-
1998
- 1998-05-28 JP JP16279898A patent/JP2891997B1/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002279932A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-27 | Ushio Inc | 放電ランプ |
JP2007273153A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Ushio Inc | ショートアーク型水銀ランプ |
JP4736900B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-07-27 | ウシオ電機株式会社 | ショートアーク型水銀ランプ |
JP2009295468A (ja) * | 2008-06-06 | 2009-12-17 | Ushio Inc | エキシマランプ |
JP2010055986A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Ushio Inc | エキシマランプ |
JP2011018472A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Ushio Inc | デジタルプロジェクター用キセノンショートアークランプ |
WO2015098392A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | ウシオ電機株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
JP2015126139A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-06 | ウシオ電機株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
CN105374659A (zh) * | 2014-08-11 | 2016-03-02 | 株式会社Orc制作所 | 短弧放电灯及光源装置 |
CN105374659B (zh) * | 2014-08-11 | 2018-07-24 | 株式会社Orc制作所 | 短弧放电灯及光源装置 |
WO2016056232A1 (ja) * | 2014-10-08 | 2016-04-14 | ウシオ電機株式会社 | パターン形成体の製造方法、パターン形成体及び光照射装置 |
WO2023018754A1 (en) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | Kla Corporation | Laser-sustained plasma lamps with graded concentration of hydroxyl radical |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2891997B1 (ja) | 1999-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2891997B1 (ja) | 紫外線ランプ | |
US9615439B2 (en) | System and method for inhibiting radiative emission of a laser-sustained plasma source | |
JP4400136B2 (ja) | ショートアーク型水銀蒸気放電ランプ | |
TW200952031A (en) | Excimer-Lampe | |
JP2002373625A (ja) | 放電灯および紫外線照射装置並びにその運用方法 | |
JP4736900B2 (ja) | ショートアーク型水銀ランプ | |
JP3292016B2 (ja) | 放電ランプおよび真空紫外光源装置 | |
JP3591470B2 (ja) | 放電ランプ | |
JP6660594B2 (ja) | 放電ランプ | |
KR940009200B1 (ko) | 실리콘 보호 피복을 구비한 고강도 금속 할로겐 화합물 방전램프 및 그 제조방법 | |
JP4865965B2 (ja) | 紫外線による液体処理装置及び方法 | |
JP4294533B2 (ja) | エキシマランプ用ガラス、エキシマランプ用放電容器及びエキシマランプ | |
JP3267153B2 (ja) | 金属蒸気放電ランプ | |
JP4475171B2 (ja) | フラッシュランプ | |
JP3252513B2 (ja) | 誘電体バリヤ放電ランプ | |
JP4432321B2 (ja) | エキシマ照射装置の初期調整方法 | |
JP2005276640A (ja) | エキシマランプ | |
JP3198519B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2005310455A (ja) | 紫外線ランプ | |
JP2018037277A (ja) | レーザ駆動ランプ | |
JP3175410B2 (ja) | 紫外線光源 | |
JP2008500691A (ja) | メタルハライドを有する低圧放電ランプ | |
CN1502563A (zh) | 紫外线液体处理装置和处理方法 | |
JP2915256B2 (ja) | カドミウム金属蒸気放電ランプ | |
JPH06231733A (ja) | 誘電体バリヤ放電ランプ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080226 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090226 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090226 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100226 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100226 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110226 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120226 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140226 Year of fee payment: 15 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |