JPH11339312A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH11339312A JPH11339312A JP10148854A JP14885498A JPH11339312A JP H11339312 A JPH11339312 A JP H11339312A JP 10148854 A JP10148854 A JP 10148854A JP 14885498 A JP14885498 A JP 14885498A JP H11339312 A JPH11339312 A JP H11339312A
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- Japan
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- layer
- shape memory
- optical disk
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- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 形状記憶金属により、情報記録層を形成
した光ディスクであり、形状記憶能力の向上を図る。 【解決手段】 透明基板１上に、柔軟性高分子樹脂層２
と形状記憶金属反射層３とを順次形成し、前記層３に平
面方向に対して螺旋状の溝３ａを形成した光ディスクで
ある。
した光ディスクであり、形状記憶能力の向上を図る。 【解決手段】 透明基板１上に、柔軟性高分子樹脂層２
と形状記憶金属反射層３とを順次形成し、前記層３に平
面方向に対して螺旋状の溝３ａを形成した光ディスクで
ある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク及びそ
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、記録可能型光ディスクは、溝
（凹凸）が形成されている金属原盤（スタンパ−）から
射出成形などによって溝（凹凸）が転写されている透明
樹脂基板上に有機色素や金属合金薄膜で記録層を形成
し、さらに、金属の反射膜、高分子樹脂の保護層を設け
てできており、レ−ザ光の熱エネルギ−で有機色素や金
属合金薄膜に穴やバブル、相変化で記録するもの、磁気
を併用して記録するものが周知である。
（凹凸）が形成されている金属原盤（スタンパ−）から
射出成形などによって溝（凹凸）が転写されている透明
樹脂基板上に有機色素や金属合金薄膜で記録層を形成
し、さらに、金属の反射膜、高分子樹脂の保護層を設け
てできており、レ−ザ光の熱エネルギ−で有機色素や金
属合金薄膜に穴やバブル、相変化で記録するもの、磁気
を併用して記録するものが周知である。
【０００３】形状記憶合金を用いる光ディスクとして、
例えば特開昭６０−２９９４９号公報、特開昭６０−５
７５５１号公報、特開昭６０−８７４４５号公報及び特
開平４−９５２４１号公報等に開示されているものが知
られている。
例えば特開昭６０−２９９４９号公報、特開昭６０−５
７５５１号公報、特開昭６０−８７４４５号公報及び特
開平４−９５２４１号公報等に開示されているものが知
られている。
【０００４】上記特開昭６０−２９９４９号公報に示す
光ディスクは、ガラスやアクリル樹脂からなる基板に平
状形が記憶されている形状記憶合金と炭素と水素からな
る非晶質膜を形成し、非晶質膜に直接レ−ザ光を照射し
て、熱エネルギ−で炭素と水素（アルキル分子）が蒸発
し、そのガスの圧力によって形状記憶合金に凸形を造り
記録する。また、消去はレ−ザ光を直接照射して、熱エ
ネルギ−により形状記憶合金が記憶している平状形に戻
って行われる。
光ディスクは、ガラスやアクリル樹脂からなる基板に平
状形が記憶されている形状記憶合金と炭素と水素からな
る非晶質膜を形成し、非晶質膜に直接レ−ザ光を照射し
て、熱エネルギ−で炭素と水素（アルキル分子）が蒸発
し、そのガスの圧力によって形状記憶合金に凸形を造り
記録する。また、消去はレ−ザ光を直接照射して、熱エ
ネルギ−により形状記憶合金が記憶している平状形に戻
って行われる。
【０００５】上記特開昭６０−５７５５１号公報に示す
光ディスクは、基板上にバッファ層を設け、その上に平
状形が記憶されている形状記憶合金膜を績層し、プレス
加工で形状記憶合金膜に凹凸形状を形成し、レ−ザ光を
直接形状記憶合金膜の凸形状部に照射し、熱エネルギ−
で形状記憶合金膜が記憶している平状形に戻って記録が
行われる。
光ディスクは、基板上にバッファ層を設け、その上に平
状形が記憶されている形状記憶合金膜を績層し、プレス
加工で形状記憶合金膜に凹凸形状を形成し、レ−ザ光を
直接形状記憶合金膜の凸形状部に照射し、熱エネルギ−
で形状記憶合金膜が記憶している平状形に戻って記録が
行われる。
【０００６】上記特開昭６０−８７４４５号公報に示す
光ディスクは、シリコンゴム基板又は低融点接着剤層が
設けられているＰＡＭＭ基板上に平状形が記憶されてい
る形状記憶合金層を績層させ、２５０℃の温度をかけな
がらスタンピングでＶ形又は矩形に形状記憶合金層を変
形させ、更に、熱吸収層を績層させ、レ−ザ光を照射
し、熱エネルギ−で形状記憶合金層が記憶している平状
形に戻って記録が行われる。
光ディスクは、シリコンゴム基板又は低融点接着剤層が
設けられているＰＡＭＭ基板上に平状形が記憶されてい
る形状記憶合金層を績層させ、２５０℃の温度をかけな
がらスタンピングでＶ形又は矩形に形状記憶合金層を変
形させ、更に、熱吸収層を績層させ、レ−ザ光を照射
し、熱エネルギ−で形状記憶合金層が記憶している平状
形に戻って記録が行われる。
【０００７】上記特開平４−９５２４１号公報に示す光
ディスクは、樹脂基板上にアルミニウムの反射層、温度
の違いにより粘着性を有する薄膜層、凹凸形が記憶され
ている形状記憶合金膜層、保護層を順次績層し、基板を
介してレ−ザ光を照射し、熱エネルギ−によって薄膜層
が剥離して形状記憶合金膜層が記憶している凹凸形に戻
って記録する。また、消去は薄膜層が粘着性を示す温度
に上昇させて粘着力により平状形にして行われる。
ディスクは、樹脂基板上にアルミニウムの反射層、温度
の違いにより粘着性を有する薄膜層、凹凸形が記憶され
ている形状記憶合金膜層、保護層を順次績層し、基板を
介してレ−ザ光を照射し、熱エネルギ−によって薄膜層
が剥離して形状記憶合金膜層が記憶している凹凸形に戻
って記録する。また、消去は薄膜層が粘着性を示す温度
に上昇させて粘着力により平状形にして行われる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開昭６０−２９９４９号公報に示す光ディスクは直接レ
−ザ光を形状記憶合金層表面に照射し、発生するガスの
力で凸形に記録し、熱エネルギ−で平状形にして消去し
ているために、凸形に変形しづらく、基板を介したレ−
ザ光で記録、再生を行っている実用化されている光デイ
スクのシステムに合わない。
開昭６０−２９９４９号公報に示す光ディスクは直接レ
−ザ光を形状記憶合金層表面に照射し、発生するガスの
力で凸形に記録し、熱エネルギ−で平状形にして消去し
ているために、凸形に変形しづらく、基板を介したレ−
ザ光で記録、再生を行っている実用化されている光デイ
スクのシステムに合わない。
【０００９】上記特開昭６０−５７５５１号公報に示す
光ディスクはレ−ザ光を直接形状記憶合金層表面に照射
して記録再生を行うために、実用化している光ディスク
のシステムに合わない。
光ディスクはレ−ザ光を直接形状記憶合金層表面に照射
して記録再生を行うために、実用化している光ディスク
のシステムに合わない。
【００１０】上記特開昭６０−８７４４５号公報に示す
光ディスクは樹脂基板に温度をかけるために基板が劣化
し、基板そのものが変形するために、形状記憶合金層が
平状形に戻っても記録が難しい。
光ディスクは樹脂基板に温度をかけるために基板が劣化
し、基板そのものが変形するために、形状記憶合金層が
平状形に戻っても記録が難しい。
【００１１】上記特開平４−９５２４１号公報に示す光
デイスクはアルミニウムの反射層ごと形状を変化させる
ために記録、消去が難しく、従来の記録可能な光ディス
ク及びその製造方法によれば、平状から凹凸に変化する
ことが不十分であるなどの問題点がある。
デイスクはアルミニウムの反射層ごと形状を変化させる
ために記録、消去が難しく、従来の記録可能な光ディス
ク及びその製造方法によれば、平状から凹凸に変化する
ことが不十分であるなどの問題点がある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
てなされたものであり、第一の発明は、透明基板上に、
柔軟性高分子樹脂層と形状記憶金属反射層とが順次形成
され、前記形状記憶金属反射層とに情報記録のための溝
条部が平面方向に対して螺旋状に形成されていることを
特徴とする光ディスクである。
てなされたものであり、第一の発明は、透明基板上に、
柔軟性高分子樹脂層と形状記憶金属反射層とが順次形成
され、前記形状記憶金属反射層とに情報記録のための溝
条部が平面方向に対して螺旋状に形成されていることを
特徴とする光ディスクである。
【００１３】また、上記発明の光デイスクにおいて、前
記柔軟性高分子樹脂層は、鉛筆硬度４〜５Ｂ、厚さ１０
〜１２μｍの透明性と弾力性のある熱硬化樹脂及び紫外
線硬化樹脂より形成されていることを特徴とする光ディ
スクである。
記柔軟性高分子樹脂層は、鉛筆硬度４〜５Ｂ、厚さ１０
〜１２μｍの透明性と弾力性のある熱硬化樹脂及び紫外
線硬化樹脂より形成されていることを特徴とする光ディ
スクである。
【００１４】また、上記発明の光ディスクにおいて、前
記形状記憶金属反射層は、厚さ１〜２μｍのＴｉ−Ｎｉ
及びＣｕ−Ｚｎ−Ａｌより成る形状記憶合金より形成さ
れ、前記層が記録と反射との機能を有していることを特
徴とする光ディスクである。
記形状記憶金属反射層は、厚さ１〜２μｍのＴｉ−Ｎｉ
及びＣｕ−Ｚｎ−Ａｌより成る形状記憶合金より形成さ
れ、前記層が記録と反射との機能を有していることを特
徴とする光ディスクである。
【００１５】また、上記発明の光ディスクにおいて、前
記螺旋状の溝条部は、情報記録時に熱エネルギ−が照射
された際に平板面まで復帰して情報が記録される構成で
あることを特徴とする光ディスクである。
記螺旋状の溝条部は、情報記録時に熱エネルギ−が照射
された際に平板面まで復帰して情報が記録される構成で
あることを特徴とする光ディスクである。
【００１６】更に、第二の発明は、透明樹脂基板に透明
性と弾力性のある熱硬化樹脂及び紫外線硬化樹脂を１０
〜１２μｍの厚さで形成し、その上に厚さ１〜２μｍの
形状記憶合金を積層させた後、外力により歪み変形２〜
４％の螺旋状の溝条部を形成するようにしたことを特徴
とした光ディスクの製造方法である。
性と弾力性のある熱硬化樹脂及び紫外線硬化樹脂を１０
〜１２μｍの厚さで形成し、その上に厚さ１〜２μｍの
形状記憶合金を積層させた後、外力により歪み変形２〜
４％の螺旋状の溝条部を形成するようにしたことを特徴
とした光ディスクの製造方法である。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の光ディスク及びそ
の製造方法に関し、好ましい実施例により説明する。図
１は、その実施例を説明するための光デイスクの製造工
程の概略断面図である。
の製造方法に関し、好ましい実施例により説明する。図
１は、その実施例を説明するための光デイスクの製造工
程の概略断面図である。
【００１８】まず、ポリカ−ボネ−ト樹脂やアクリル樹
脂などの透明基板１に、スピンコ−ト法、バ−コタ−法
などにより、表面硬度が鉛筆硬度４〜５Ｂの透明性と弾
力性のある熱硬化樹脂、例えばエポキシ樹脂など、紫外
線硬化樹脂、例えば、ウレタン系紫外線硬化樹脂を厚さ
１０〜１２μｍに塗布して柔軟性高分子樹脂層２を形成
する［図１（ａ）］。
脂などの透明基板１に、スピンコ−ト法、バ−コタ−法
などにより、表面硬度が鉛筆硬度４〜５Ｂの透明性と弾
力性のある熱硬化樹脂、例えばエポキシ樹脂など、紫外
線硬化樹脂、例えば、ウレタン系紫外線硬化樹脂を厚さ
１０〜１２μｍに塗布して柔軟性高分子樹脂層２を形成
する［図１（ａ）］。
【００１９】ここで、表面硬度が４Ｂ以下の場合には記
録層が外力によって変形しづらく、変形しても平状形態
に戻りずらく、５Ｂ以上の場合には変形しすぎて平状形
態に戻りずらい。また、厚さが１０μｍ以下の場合には
基板にダメ−ジを与え、１２μｍ以上の場合には柔軟性
高分子樹脂の弾力性が強く変形しずらい。
録層が外力によって変形しづらく、変形しても平状形態
に戻りずらく、５Ｂ以上の場合には変形しすぎて平状形
態に戻りずらい。また、厚さが１０μｍ以下の場合には
基板にダメ−ジを与え、１２μｍ以上の場合には柔軟性
高分子樹脂の弾力性が強く変形しずらい。
【００２０】次に、柔軟性高分子樹脂層２上に、スパッ
タ法で形状記憶合金Ｔｉ−Ｎｉ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌを厚
さ１〜２μｍに積層して、形状記憶金属反射層３を形成
する［図１（ｂ）］。または、圧延法で厚さ１〜２μｍ
の形状記憶合金箔をつくり、柔軟性高分子樹脂層で透明
基板に貼って形状記憶金属反射層を形成しても良い。こ
こで、厚さが１μｍ以下の場合には変形しても平状形態
に戻らず、２μｍ以上の場合にはレ−ザ光の熱エネルギ
−では平状形態に戻らない。
タ法で形状記憶合金Ｔｉ−Ｎｉ、Ｃｕ−Ｚｎ−Ａｌを厚
さ１〜２μｍに積層して、形状記憶金属反射層３を形成
する［図１（ｂ）］。または、圧延法で厚さ１〜２μｍ
の形状記憶合金箔をつくり、柔軟性高分子樹脂層で透明
基板に貼って形状記憶金属反射層を形成しても良い。こ
こで、厚さが１μｍ以下の場合には変形しても平状形態
に戻らず、２μｍ以上の場合にはレ−ザ光の熱エネルギ
−では平状形態に戻らない。
【００２１】次に、断面形状がＶ形又は矩形で、平面方
向に対して螺旋状の凸条部Ｓ１が転写されている金属原
盤（スタンパ−）Ｓを用いて、断面形状Ｖ形又は矩形の
溝条部３ａを形状記憶金属反射層３にプレスし、歪み変
形２〜４％のＶ形又は矩形の溝条部３ａを形成する［図
１（ｃ）］。または、回転させながら、スタイラスを押
しつけて歪み変形２〜４％の螺旋状の溝を形状記憶金属
反射層３に形成しても良い。
向に対して螺旋状の凸条部Ｓ１が転写されている金属原
盤（スタンパ−）Ｓを用いて、断面形状Ｖ形又は矩形の
溝条部３ａを形状記憶金属反射層３にプレスし、歪み変
形２〜４％のＶ形又は矩形の溝条部３ａを形成する［図
１（ｃ）］。または、回転させながら、スタイラスを押
しつけて歪み変形２〜４％の螺旋状の溝を形状記憶金属
反射層３に形成しても良い。
【００２２】次に、レンズＬを通過したレ−ザ光Ｒを歪
み変形の断面形状Ｖ形又は矩形の螺旋状溝に照射し、レ
−ザ光の熱ネルギ−で照射された箇所３ｂだけが元の平
状形態に戻り、０，１の情報を記録できるようにするも
のである［図１（ｄ）］。
み変形の断面形状Ｖ形又は矩形の螺旋状溝に照射し、レ
−ザ光の熱ネルギ−で照射された箇所３ｂだけが元の平
状形態に戻り、０，１の情報を記録できるようにするも
のである［図１（ｄ）］。
【００２３】そして、このように記録された光ディスク
から、情報を再生する場合には、記録時のレ−ザ光より
小さいエネルギ−により０，１の情報を再生することに
なる。
から、情報を再生する場合には、記録時のレ−ザ光より
小さいエネルギ−により０，１の情報を再生することに
なる。
【００２４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明に係わる光
ディスク及びその製造方法によれば、従来例で説明した
光ディスクよりも形状記憶能力が良好である。また、特
に、請求項３記載の発明によると、形状記憶金属反射層
に、厚さ１〜２μｍＴｉ−Ｎｉ形状記憶合金及びＣｕ−
Ｚｎ−Ａｌ形状記憶合金を用いることにより、従来例で
説明した光ディスクの記録層と反射層の機能を一つにす
ることができ、かつ、保護層を必要としないために、安
価に光ディスクを製造できる。更に、特に、請求項４及
び請求項５の記載の発明によると、形状変換能力の良い
ディスクを安価に多量に提供できる。
ディスク及びその製造方法によれば、従来例で説明した
光ディスクよりも形状記憶能力が良好である。また、特
に、請求項３記載の発明によると、形状記憶金属反射層
に、厚さ１〜２μｍＴｉ−Ｎｉ形状記憶合金及びＣｕ−
Ｚｎ−Ａｌ形状記憶合金を用いることにより、従来例で
説明した光ディスクの記録層と反射層の機能を一つにす
ることができ、かつ、保護層を必要としないために、安
価に光ディスクを製造できる。更に、特に、請求項４及
び請求項５の記載の発明によると、形状変換能力の良い
ディスクを安価に多量に提供できる。
【図１】本発明の光ディスク及びその製造方法の一実施
例を説明するための光ディスクの製造工程を示す概略断
面図である。
例を説明するための光ディスクの製造工程を示す概略断
面図である。
１ 透明基板 ２ 柔軟性高分子樹脂層 ３ 形状記憶金属反射層 ３ａ 溝条部 Ｌ レンズ Ｒ レーザ光 Ｓ スタンパー Ｓ１ 凸条部
Claims (5)
- 【請求項１】透明基板上に、柔軟性高分子樹脂層と形状
記憶金属反射層とが順次形成され、前記形状記憶金属反
射層に情報記録のための溝条部が平面方向に対して螺旋
状に形成されていることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】請求項１記載の光ディスクにおいて、 前記柔軟性高分子樹脂層は、鉛筆硬度４〜５Ｂ、厚さ１
０〜１２μｍの透明性と弾力性のある熱硬化樹脂及び紫
外線硬化樹脂より形成されていることを特徴とする光デ
ィスク。 - 【請求項３】請求項１記載の光デイスクにおいて、 前記形状記憶金属反射層は、厚さ１〜２μｍのＴｉ−Ｎ
ｉ及びＣｕ−Ｚｎ−Ａｌより成る形状記憶合金より形成
され、前記層が記録と反射との機能を有していることを
特徴とする光ディスク。 - 【請求項４】請求項１記載の光デイスクにおいて、 前記螺旋状の溝条部は、情報記録時に熱エネルギ−が照
射された際に平板面まで復帰して情報が記録される構成
であることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項５】透明樹脂基板に透明性と弾力性のある熱硬
化樹脂及び紫外線硬化樹脂を１０〜１２μｍの厚さで形
成し、その上に厚さ１〜２μｍの形状記憶合金を積層さ
せた後、外力により歪み変形２〜４％の螺旋状の溝条部
を形成するようにしたことを特徴とした光ディスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10148854A JPH11339312A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 光ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10148854A JPH11339312A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 光ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11339312A true JPH11339312A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15462234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10148854A Pending JPH11339312A (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 光ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11339312A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108205239A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-06-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种压印模板及其制作方法、压印方法 |
| CN109240040A (zh) * | 2018-11-16 | 2019-01-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 压印模板和压印方法 |
-
1998
- 1998-05-29 JP JP10148854A patent/JPH11339312A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108205239A (zh) * | 2018-01-03 | 2018-06-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种压印模板及其制作方法、压印方法 |
| CN109240040A (zh) * | 2018-11-16 | 2019-01-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 压印模板和压印方法 |
| US11531265B2 (en) | 2018-11-16 | 2022-12-20 | Beijing Boe Technology Development Co., Ltd. | Imprint template and imprint method |
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