JPH11337851A - マルチビーム走査装置および２ビーム光源装置および同期検知装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】被走査面上における光スポットの配列方向を実
質的に副走査方向にして、なおかつ同期検知用に各ビー
ムの個別的な検知を実現する。 【解決手段】２ビーム光源装置１０から合成されて放射
される２ビームＬ１，Ｌ２を共通の光学系１２，１４，
１６を介して被走査面１８上に導き、被走査面上に、副
走査方向に所定の間隔を有して分離し、かつ実質的に副
走査対応方向に配列した２つの光スポットとして集光せ
しめ、２ラインを同時に光走査するマルチビーム走査装
置において、２ビーム光源装置は、半導体レーザ１０
１，１０２と、カップリングレンズ１０３，１０４と、
ビーム合成プリズム１０５と、同期検知用の各戻りビー
ムＬ１０，Ｌ２０を検知するフォトデテクタ１０７，１
０８と、光源駆動用回路と同期光検出用回路とを有し、
戻りビームＬ１０，Ｌ２０をビーム合成プリズム１０５
により互いに略直交する方向へ分離して、各戻りビーム
を対応するフォトデテクタ１０７，１０８に導くように
構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、マルチビーム走
査装置および２ビーム光源装置および同期検知装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】光走査装置は、光プリンタやデジタル複
写機、レーザファクシミリ等に関連した画像書込手段と
して広く知られている。また、光走査を利用する計測器
やディスプレイの分野への応用も考えられている。従
来、光走査装置は単一のビームを偏向させるシングルビ
ーム方式のものが一般であったが、近来、光走査による
画像書込みの高速化を意図して、複数ビームを同時に偏
向させ、複数ラインの光走査を同時に行う「マルチビー
ム走査装置」が種々提案され、中でも、２ビーム走査に
よるマルチビーム走査装置が実現されつつある。２ビー
ム走査方式の場合においては、被走査面上に副走査方向
に所定の間隔を有する２つの光スポットが形成され、こ
れら２つの光スポットが独立して２ラインを同時走査す
る。この場合、２つの光スポットのそれぞれについて、
光走査開始のための同期をとる必要がある。

【０００３】２ビーム走査方式において、２つの光スポ
ットについて光走査開始のための同期をとる方法とし
て、被走査面上に形成される２つの光スポットが「副走
査方向には所定の間隔で分離し、主走査方向には実質的
に同じ位置にある」ように、換言すれば２つの光スポッ
トが実質的に副走査方向に配列するようにし、光走査領
域へ向かう２ビームを共通の光検出器により同時検出す
る方法が提案されている（特開平９−１２７４４４
号）。しかし、この方法では、２つの光スポットを正確
に副走査方向に並ばせる必要があるが、これは必ずしも
容易ではなく、２つの光スポットが主走査方向にわずか
にでもずれると、光走査開始に誤差を生じてしまう。別
の方法として、２つの光スポットを主走査方向へ十分離
し、各光スポットを別個に検出する方法が考えられる。
この場合、各光スポットに関して光走査開始の同期を正
確にとることが可能である。しかし、このようにする
と、光偏向器として回転多面鏡を用いる場合、２つの光
スポットに対応するビームは、同じ偏向反射面の異なる
位置で反射されるようになる。マルチビーム走査方式の
場合、光スポットが被走査面上で描く軌跡は、正確な直
線にはならず、僅かながら不可避的に湾曲してしまう。
２つの光スポットを主走査方向へずらして、個々のビー
ムを別個に検出するようにすると、各ビームの反射点が
同一の偏向反射面の異なる位置になるため、２ビームが
走査光学系の異なる位置を通過することになり、これが
ピッチ偏差等の原因になる恐れがある。

【０００４】このような理由で、２ビームのマルチビー
ム走査方式においては、各ビームが、被走査面上で実質
的に副走査方向にへ配列するようにし、なおかつ、各ビ
ームを別個に検出できることが好ましい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】この発明は、被走査面
上における光スポットの配列方向を実質的に副走査方向
にして、なおかつ同期検知用に各ビームを個別的に検知
できる２ビーム光源装置の実現を課題とする。この発明
はまた、上記２ビーム光源装置を用いた同期検知装置の
実現を別の課題とする。

【０００６】この発明はさらに、上記同期検知装置を用
いることにより、被走査面上における光スポットの配列
方向を実質的に副走査方向にして、なおかつ同期検知用
に各ビームを個別的に検知でき、光走査開始の同期を精
度良くとることにより、良好なマルチビーム走査を行い
うるマルチビーム走査装置の実現を他の課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明の２ビーム光源
装置は「２ビーム光源装置から合成されて放射される２
ビームを共通の光学系を介して被走査面上に導き、該被
走査面上に、副走査方向に所定の間隔を有して分離し、
かつ実質的に副走査方向に配列した２つの光スポットと
して集光せしめ、２ラインを同時に光走査するマルチビ
ーム走査装置における２ビーム光源装置」であって、２
つの半導体レーザと、２つのカップリングレンズと、ビ
ーム合成プリズムと、２つのフォトデテクタと、光源駆
動用回路と、同期光検出用回路とを有する。「２つの半
導体レーザ」は、独立して駆動制御される。「２つのカ
ップリングレンズ」は、２つの半導体レーザからの各ビ
ームを以後の光学系にカップリングする。各カップリン
グレンズを透過したビームのビーム形態は、平行光束も
しくは弱い発散性の光束または弱い集束性の光束である
ことができる。「ビーム合成プリズム」は、カップリン
グされた２ビームを、各ビームの偏光方向の違いを利用
して合成するべく、偏光分離膜を有する。「２つのフォ
トデテクタ」は、同期検知用の各戻りビームを検知す
る。「光源駆動用回路」は、上記２つの半導体レーザを
独立して駆動制御する。「同期光検出用回路」は、上記
２つのフォトデテクタを制御する。即ち、２つのフォト
デテクタの個々により検出信号を発生させる。同期検知
用の２つの戻りビームは、ビーム合成プリズムにより互
いに略直交する方向へ分離され、各戻りビームが対応す
るフォトデテクタに導かれる。同期検知用の２つの戻り
ビームは、マルチビーム走査装置における光偏向器以後
の光路に位置する反射手段により反射されて光源側へ戻
るビームである。光偏向器の偏向反射面自体を上記「反
射手段」として利用できる。

【０００８】上記請求項１記載の２ビーム光源装置にお
いて、２つの半導体レーザと、２つのカップリングレン
ズと、２つのフォトデテクタを「主走査対応方向に平行
な、実質的に同一面内」に配備することにより、副走査
対応方向の装置幅を薄型化できる（請求項２）。「主走
査対応方向」は、各半導体レーザから被走査面に至る光
路上で、主走査方向と対応する方向であり、上記光路上
で、副走査方向に対応する方向を「副走査対応方向」と
言う。上記請求項１または２記載の２ビーム光源装置に
おいて「ビーム合成された２ビームの偏光状態を円偏光
状態に変換し、かつ２つの戻りビームの偏光状態を直線
偏光状態に戻すための１／４波長板」を有することがで
きる（請求項３）。各半導体レーザからのビームはそれ
らの偏光状態を利用して、ビーム合成プリズムの偏光分
離膜により合成されるので、合成された２ビームは、そ
の直線偏光の方向が互いに直交した状態にあり、直線偏
光の状態で光走査に供されると、偏光状態の差による反
射率や透過率の差により、各光スポットの光強度が、互
いに異なるように変動して、書き込まれる画像の画質に
影響する虞れがあるが、上記のように１／４波長板を用
いると、光走査に供される２ビームは、共に円偏光状態
であるので、各光スポットの光強度が、互いに異なるよ
うに変動することがない。上記光源駆動用回路と同期光
検出用回路とは、同一の基板上に実装することができる
（請求項４）。このようにすることにより、２ビーム光
源装置のコンパクト化が可能である。この発明の同期検
知装置は「２ビーム光源装置から合成されて放射される
２ビームを共通の光学系を介して被走査面上に導き、該
被走査面上に、副走査方向に所定の間隔を有して分離
し、かつ実質的に副走査方向に配列した２つの光スポッ
トとして集光せしめ、２ラインを同時に光走査するマル
チビーム走査装置において、各ビームによる光走査開始
のための同期をとるために、光走査領域へ向かう２つの
偏向ビームを同期ビームとして個別的に検出するための
装置」であって、上記請求項１〜４の任意の１に記載の
「２ビーム光源装置」と、「反射手段」とを有する。
「反射手段」は、２ビーム光源装置から放射されて光走
査領域へ向かう２ビームを、それぞれ同期検知用の戻り
ビームとして、各戻りビームが対応するフォトデテクタ
に入射するように、所定位置において反射させる手段で
ある。反射手段としては専用のミラーを適宜の位置に配
備して用いても良いが、光源側からの２ビームを偏向さ
せる光偏向器の偏向反射面を反射手段として用いても良
い（請求項６）。光偏向器としては回転多面鏡や回転単
面鏡、回転２面鏡等を利用できる。この発明のマルチビ
ーム走査装置は、「２ビーム光源装置から合成されて放
射される２ビームを共通の光学系を介して被走査面上に
導き、被走査面上に、副走査方向に所定の間隔を有して
分離し、かつ実質的に副走査方向に配列した２つの光ス
ポットとして集光せしめ、２ラインを同時に光走査する
マルチビーム走査装置」であって、同期検知装置とし
て、請求項５または６記載の同期検知装置を有すること
を特徴とする（請求項７）。なお、上記２ビーム光源装
置に１ビーム用の光源装置を組み合わせたり、上記２ビ
ーム光源装置を２以上用いるなどして、３ライン以上を
同時走査するマルチビーム走査装置を実現することもで
きる。

【０００９】

【発明の実施の形態】図１（ａ）において、２ビーム光
源装置１０から合成されて射出した２ビームＬ１，Ｌ２
は、図１（ａ）の図面に直交する方向である「副走査対
応方向」において互いに重なりあうように合成されてお
り、シリンダレンズ１２により副走査対応方向に集束さ
れ、「光偏向器」である回転多面鏡１４の偏向反射面１
４Ａの近傍に、主走査対応方向に長い線像として結像す
る。偏向反射面１４Ａにより反射された２ビームは、回
転多面鏡１４の等速回転に伴い等角速度的に偏向しつつ
走査結像レンズ１６に入射し、同レンズ１６の作用によ
り被走査面の実体をなす光導電性の感光体１８の周面上
にそれぞれ光スポットとして集光する。被走査面上に集
光した２つの光スポットは副走査方向に所定の間隔を隔
して、実質的に副走査方向に配列している。従って、２
つの光スポットは実質的に同時に２ラインを光走査す
る。さて、２ビームＬ１，Ｌ２は、偏向反射面１４Ａに
反射されると偏向して光走査領域へと向かうが、回転多
面鏡１４が僅かに回転するとき、戻りビームＬ１０，Ｌ
２０（実質的に副走査対応方向に重なっている）となっ
て２ビーム光源装置１０へ戻り、同期検知のために個別
に検知され、この検知の瞬間から所定の時間後に各光ス
ポットによる光走査が開始される。

【００１０】図１（ｂ）は同図（ａ）に示した２ビーム
光源装置１０を説明するための図である。２つの半導体
レーザ１０１，１０２は、図示されない「光源駆動用回
路」により独立して駆動制御される。即ち、情報信号に
従って発光強度を変調される。半導体レーザ１０１，１
０２から放射される発散性のビームは、それぞれカップ
リングレンズ１０３，１０４により以後の光学系に適し
たビーム形態にカップリングされる。ここでは説明の具
体性のため、カップリングレンズ１０３，１０４から射
出するビームは「平行光束」になっているものとする。
カップリングされたビームは、ビーム合成プリズム１０
５に入射する。ビーム合成プリズム１０５は偏光分離膜
１０６を有する所謂「偏光ビームスプリッタ」である。
半導体レーザ１０１は、放射するレーザビームの偏光方
向が、偏光分離膜１０６に対してＳ偏光となるように配
備態位を調整されており、従って、半導体レーザ１０１
からのビームは偏光分離膜１０６により反射される。一
方、半導体レーザ１０２は、放射するレーザビームの偏
光方向が、偏光分離膜１０６に対してＰ偏光となるよう
に配備態位を調整されており、従って、半導体レーザ１
０２からのビームは偏光分離膜１０６を透過する。この
ようにして、各半導体レーザ１０１，１０２からのビー
ムはビーム合成される。

【００１１】なお、カップリングレンズ１０３，１０４
の光軸は、互いに偏光分離膜１０６に関して共役な関係
にある。即ち、一方のカップリングレンズの光軸の「偏
光分離膜１０６を鏡面とする鏡映像」を作ると、この鏡
映像は他方のカップリングレンズの光軸と重なりあう。
半導体レーザ１０１，１０２からのビームが、被走査面
上において副走査方向に分離した２つの光スポットを形
成するように、半導体レーザ１０１，１０２のうちの少
なくとも一方は、その発光部を対応するカップリングレ
ンズの光軸上から副走査対応方向に「所定の微小距離」
だけずらされており、このため、合成された２ビームは
「カップリングレンズの合成光軸を含む副走査対応方向
に平行な面」内で、互いに微小角をなしている。ビーム
合成プリズム１０５から射出した２ビームは、互いに偏
光方向が直交しているので、このままでは偏光特性によ
る反射率や透過率の影響で、２つの光スポットの光強度
変動（シェーディング）が互いに異なり、書込み画像に
影響を与えるおそれもあるので、この実施の形態では、
さらに１／４波長板１１０を用いて、各ビームが共に円
偏光状態となるようにしている。かくして、ビーム合成
されたビームＬ１，Ｌ２が２ビーム光源装置から射出し
て、図１（ｂ）に示すように、シリンダレンズ１２に向
かう。

【００１２】さて、偏向反射面により反射された戻りビ
ームＬ１０，Ｌ２０（シリンダレンズ１２を透過するこ
とにより平行光束にもどっている）は、図１（ｂ）に示
すように、１／４波長板１１０を透過すると、それぞれ
互いに直交する方向へ直線偏光するビームとなり、ビー
ム合成プリズム１０５に入射する。ビームＬ２の戻りビ
ームであるビームＬ１０は、偏光分離膜１０６により反
射され、「フォトデテクタ」をなすフォトダイオード１
０７に入射する。ビームＬ１の戻りビームであるビーム
Ｌ２０は偏光分離膜１０６を透過して、フォトダイオー
ド１０８に入射する。フォトダイオード１０７，１０８
は、図示されない同期光検出用回路により制御され、フ
ォトダイオード１０７，１０８の出力信号に応じて、ビ
ームＬ２，Ｌ１の同期検知がなされる。

【００１３】即ち、図１に即して説明した２ビーム光源
装置は、２ビーム光源装置から合成されて放射される２
ビームを共通の光学系１２，１４，１６を介して被走査
面１８上に導き、被走査面１８上に、副走査方向に所定
の間隔を有して分離し、かつ実質的に副走査方向に配列
した２つの光スポットとして集光せしめ、２ラインを同
時に光走査するマルチビーム走査装置における２ビーム
光源装置であって、独立して駆動制御される２つの半導
体レーザ１０１，１０２と、２つの半導体レーザ１０
１，１０２からの各ビームを以後の光学系にカップリン
グする２つのカップリングレンズ１０３，１０４と、カ
ップリングされた２ビームを、各ビームの偏光方向の違
いを利用して合成するべく、偏光分離膜１０６を有する
ビーム合成プリズム１０５と、同期検知用の各戻りビー
ムＬ１０，Ｌ２０を検知する２つのフォトデテクタ１０
７，１０８と、２つの半導体レーザ１０１，１０２を独
立して駆動制御する光源駆動用回路と、２つのフォトデ
テクタ１０７，１０８を制御する同期光検出用回路とを
有し、同期検知用の２つの戻りビームＬ１０，Ｌ２０を
ビーム合成プリズム１０５により互いに略直交する方向
へ分離して、各戻りビームＬ１０，Ｌ２０を対応するフ
ォトデテクタ１０７，１０８に導くように構成されてい
る（請求項１）。また、ビーム合成された２ビームＬ
１，Ｌ２の偏光状態を円偏光状態に変換し、かつ２つの
戻りビームＬ１０，Ｌ２０の偏光状態を直線偏光状態に
戻すための１／４波長板１１０を有する（請求項３）。
なお、前述の「シェーディング」を問題にしない場合で
あれば、１／４波長板１１０を省略できることは言うま
でもない。また、必要に応じて、戻りビームＬ１０，Ｌ
２０を対応するフォトデテクタ１０７，１０８に集光す
るために、各フォトデテクタ１０７，１０８の受光面前
方に集光レンズを配備してもよい。上記のように、図１
に即して説明した実施の形態において、２ビーム光源装
置１０と回転多面鏡１４とは「２ラインを同時に光走査
するマルチビーム走査装置において、各ビームＬ１，Ｌ
２による光走査開始のための同期をとるために、光走査
領域へ向かう２つの偏向ビームを同期ビームとして個別
的に検出するための装置」であって、請求項３に記載の
２ビーム光源装置１０と、２ビーム光源装置から放射さ
れて光走査領域へ向かう２ビームＬ１，Ｌ２を、それぞ
れ同期検知用の戻りビームＬ２０，Ｌ１０として、各戻
りビームが対応するフォトデテクタ１０８，１０７に入
射するように、所定位置において反射させる反射手段１
４Ａとを有する同期検知装置（請求項５）であり、尚且
つ、反射手段１４Ａが、光源側からの２ビームを偏向さ
せる光偏向器１４の偏向反射面である（請求項６）。そ
して、図１に実施の形態を説明したマルチビーム走査装
置は、２ビーム光源装置１０から合成されて放射される
２ビームを共通の光学系１２，１４，１６を介して被走
査面１８上に導き、被走査面１８上に、副走査方向に所
定の間隔を有して分離し、かつ実質的に副走査対応方向
に配列した２つの光スポットとして集光せしめ、２ライ
ンを同時に光走査するマルチビーム走査装置において、
同期検知装置として、請求項６記載の同期検知装置を有
するもの（請求項７）である。図１の実施の形態を見る
と明らかであるが、従来のマルチビーム走査装置である
と、光源側から光偏向器へ入射するビームの光路と、光
偏向器により偏向されて被走査面へ向かうビームの光路
との間に同期検知手段が配備されていたため、走査結像
レンズ１６の光軸と、光源側から光偏向器１４に入射す
るビームの光路とのなす角：θは、同期検知手段配備の
ためにある程度以上小さくできなかったが、この発明の
マルチビーム走査装置では、２ビーム光源装置自体に同
期検知機能があるので、上記角：θをぎりぎりまで小さ
くでき、これによりマルチビーム走査装置をコンパクト
化できる。

【００１４】図２は、２ビーム光源装置の実施の別の形
態を示している。繁雑を避けるため、混同の虞れがない
と思われるものに就いては、図１におけると同じ符号を
用いた。２つの半導体レーザ１０１，１０２は、図示さ
れない「光源駆動用回路」により独立して駆動制御さ
れ、情報信号に従って発光強度を変調される。半導体レ
ーザ１０１，１０２から放射される発散性のビームは、
それぞれカップリングレンズ１０３，１０４により以後
の光学系に適したビーム形態、例えば「平行光束」に変
換される。カップリングされたビームは、ビーム合成プ
リズム１５０に入射する。ビーム合成プリズム１５０は
偏光分離膜１５１を有する「偏光ビームスプリッタ」で
ある。ビームプリズム１５０は薄型であり、厚み方向を
副走査対応方向に平行にして配備されている。半導体レ
ーザ１０１は、放射するレーザビームの偏光方向が偏光
分離膜１５１に対してＳ偏光となるように配備態位を調
整され、半導体レーザ１０１からのビームは偏光分離膜
１５１により反射されてビームＬ１として放射される。
半導体レーザ１０２は、放射するレーザビームの偏光方
向が偏光分離膜１５１に対してＰ偏光となるように配備
態位を調整され、半導体レーザ１０２からのビームは偏
光分離膜１５１を透過してビームＬ２として放射され
る。カップリングレンズ１０３の光軸の「偏光分離膜１
５１を鏡面」とする鏡映像を作ると、この鏡映像はカッ
プリングレンズ１０４の光軸と重なりあう。半導体レー
ザ１０１，１０２からのビームが、被走査面上において
副走査方向に分離した２つの光スポットを形成するよう
に、半導体レーザ１０１，１０２のうちの少なくとも一
方は、その発光部を対応するカップリングレンズの光軸
上から副走査対応方向に「所定の微小距離」だけずらさ
れている。このため、ビーム合成プリズム１５０から射
出する「合成」された２ビームＬ１，Ｌ２は「カップリ
ングレンズの合成光軸を含む副走査対応方向（図に示す
ビーム合成プリズム１５０の厚み方向）に平行な面」内
で、互いに微小角をなしている。

【００１５】ビーム合成されたビームＬ１，Ｌ２は、適
宜の反射手段、例えば図１の実施の形態におけると同じ
く回転多面鏡の偏向反射面により反射されて、それぞれ
戻りビームＬ１０，Ｌ２０となり、ビーム合成プリズム
１５０に入射する。戻りビームＬ１０，Ｌ２０は、それ
ぞれ、偏光分離膜１５１に対してＳ偏光およびＰ偏光で
あり、従って、戻りビームＬ１０は偏光分離膜１５１で
反射されてフォトデテクタであるフォトダイオード１０
７に入射して同期光として検知される。また、戻りビー
ムＬ２０は偏光分離膜１５１を透過してフォトダイオー
ド１０８に入射して同期光として検知される。即ち、図
２に実施の形態を示す２ビーム光源装置は、図１（ａ）
に即して説明したのと同様なマルチビーム走査装置にお
ける２ビーム光源装置であって、独立して駆動制御され
る２つの半導体レーザ１０１，１０２と、２つの半導体
レーザ１０１，１０２からの各ビームを以後の光学系に
カップリングする２つのカップリングレンズ１０３，１
０４と、カップリングされた２ビームを、各ビームの偏
光方向の違いを利用して合成するべく、偏光分離膜１５
１を有するビーム合成プリズム１５０と、同期検知用の
各戻りビームＬ１０，Ｌ２０を検知する２つのフォトデ
テクタ１０７，１０８と、２つの半導体レーザ１０１，
１０２を独立して駆動制御する光源駆動用回路（図示さ
れず）と、２つのフォトデテクタ１０７，１０８を制御
する同期光検出用回路（図示されず）とを有し、同期検
知用の２つの戻りビームＬ１０，Ｌ２０をビーム合成プ
リズム１５０により互いに略直交する方向へ分離して、
各戻りビームＬ１０，Ｌ２０を対応するフォトデテクタ
１０７，１０８に導くように構成されている（請求項
１）。図２に実施の形態を示す２ビーム光源装置はま
た、２つの半導体レーザ１０１，１０２と、２つのカッ
プリングレンズ１０３，１０４と、２つのフォトデテク
タ１０７，１０８を「主走査対応方向に平行な、実質的
に同一面内」に配備することにより、副走査対応方向の
装置幅を薄型化したものである（請求項２）。ビーム合
成プリズム１５０から射出した２ビームＬ１，Ｌ２は、
互いに偏光方向が直交しているので、このままでは偏光
特性による反射率や透過率の影響で、２つの光スポット
の前記「シェーディング」が互いに異なり、書込み画像
に影響を与えるおそれもある。このシェーディングを問
題にする場合には、図１に説明した実施の形態と同様
に、ビームＬ１，Ｌ２及び戻りビームＬ１０，Ｌ２０が
入射できるように「１／４波長板」を配備することがで
きる（請求項３）。

【００１６】図１や図２に示した２ビーム光源装置で
は、半導体レーザ１０１，カップリングレンズ１０３，
フォトダイオード１０７のグループと、半導体レーザ１
０２，カップリングレンズ１０４，フォトダイオード１
０８のグループとが、ビーム合成プリズムの互いに直交
する面に対向するように配備されているので、これらや
光源駆動用回路、同期光検出用回路は別個の基板に配備
される。図３は、請求項４記載の２ビーム光源装置の実
施の１形態を示している。図３（ａ）は２ビーム光源装
置を主走査対応方向から見た状態であり、従って図の上
下方向が副走査対応方向である。半導体１０１から放射
されたビームはカップリングレンズ１０３によりカップ
リングされてビーム合成プリズム１５２に入射し、同プ
リズム１５２のプリズム面１５４で全反射され、偏光分
離膜１５３により反射されてビームＬ１として放射され
る。半導体１０２からのビームはカップリングレンズ１
０４によりカップリングされてビーム合成プリズム１５
２に入射し、偏光分離膜１５３を透過してビームＬ２と
して射出する。図３（ｂ）は、２ビーム光源装置を副走
査対応方向から見た状態を示す。２ビーム光源装置から
放射される２つのビームは、副走査対応方向に分離して
いるので、図（ｂ）においては互いに重なっている。ま
た、戻りビームＬ１０，Ｌ２０も副走査方向に重なって
いるので、図３（ｂ）においては互いに重なりあって描
かれている。これら戻りビームＬ１０，Ｌ２０を受光す
るフォトダイオード１０７，１０８も、図３（ｂ）にお
いて互いに重なりあって描かれている。このようにする
と、半導体レーザ１０１，１０２、フォトダイオード１
０７，１０８を同一の基板１２０に配備でき、光源駆動
用回路と同期光検出用回路も、同一の基板１２０上に実
装することができ、従って。２ビーム光源装置をコンパ
クト化することができる。

【００１７】この実施の形態においても、シェーディン
グを問題とするなら、ビームＬ１，Ｌ２の偏光状態を円
偏光状態に変換し、かつ戻りビームＬ１０，Ｌ２０の偏
光状態を直線偏光状態に戻すための１／４波長板を設け
ることができる。図２，図３に示す実施の各形態におい
ても、必要に応じて、戻りビームＬ１０，Ｌ２０を対応
するフォトデテクタ１０７，１０８に集光するために、
各フォトデテクタ１０７，１０８の受光面前方に集光レ
ンズを配備してもよい。なお、上に説明した実施の各形
態において、２つの半導体レーザ、２つのカップリン
グ、２つのフォトデテクタやビーム合成プリズム、１／
４波長板や基板等は適宜のホルダで全体を一体に保持し
て全体は適当なケーシングに収納することができる。

【００１８】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規な２ビーム光源装置、同期検知装置、マルチビー
ム走査装置を実現できる。この発明の２ビーム光源装置
は、光源装置自体が同期光検知機能を有するので、光源
から光偏向器に至る光学系光路と走査結像光学系の光軸
とのなす角を小さく設定でき、マルチビーム走査装置を
コンパクト化できる。また、この発明の同期検知装置で
は、被走査面上で実質的に副走査方向に並んだ２つの光
スポットに対する戻りビームを個別的に検知でき、各光
スポットによる光走査開始の同期を精度良くとることが
できる。この発明のマルチビーム走査装置は２つの光ス
ポットを実質的に副走査方向へ配列させて２ラインを同
時走査するので、ピッチ偏差等を生じることなく、各光
スポットによる光走査開始のタイミングを正確にとるこ
とができるので、良好なマルチビーム走査を実現するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明のマルチビーム走査装置、２ビーム光
源装置、同期検知装置の実施の１形態を説明するための
図である。

【図２】請求項２記載の発明の２ビーム光源装置の実施
の１形態を説明するための図である。

【図３】請求項５記載の発明の２ビーム光源装置の実施
の１形態を説明するための図である。

【符号の説明】

１０ ２ビーム光源装置 １２ シリンダレンズ １４ 回転多面鏡 １４Ａ 偏向反射面 １６ 走査結像レンズ １８ 感光体 Ｌ１，Ｌ２ ビーム Ｌ１０，Ｌ２０ 戻りビーム １０１，１０２ 半導体レーザ １０３，１０４ カップリングレンズ １０５ ビーム合成プリズム １０６ 偏光分離膜 １０７，１０８ フォトダイオード １１０ １／４波長板

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】２ビーム光源装置から合成されて放射され
   る２ビームを共通の光学系を介して被走査面上に導き、
   該被走査面上に、副走査方向に所定の間隔を有して分離
   し、かつ実質的に副走査方向に配列した２つの光スポッ
   トとして集光せしめ、２ラインを同時に光走査するマル
   チビーム走査装置の２ビーム光源装置であって、 独立して駆動制御される２つの半導体レーザと、 該２つの半導体レーザからの各ビームを以後の光学系に
   カップリングする２つのカップリングレンズと、 カップリングされた２ビームを、各ビームの偏光方向の
   違いを利用して合成するべく、偏光分離膜を有するビー
   ム合成プリズムと、 同期検知用の各戻りビームを検知する２つのフォトデテ
   クタと、 上記２つの半導体レーザを独立して駆動制御する光源駆
   動用回路と、 上記２つのフォトデテクタを制御する同期光検出用回路
   とを有し、 同期検知用の２つの戻りビームを上記ビーム合成プリズ
   ムにより互いに略直交する方向へ分離して、各戻りビー
   ムを対応するフォトデテクタに導くように構成されたこ
   とを特徴とする２ビーム光源装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の２ビーム光源装置におい
   て、 ２つの半導体レーザと、２つのカップリングレンズと、
   ２つのフォトデテクタを、主走査対応方向に平行な、実
   質的に同一面内に配備することにより、副走査対応方向
   の装置幅を薄型化したことを特徴とする２ビーム光源装
   置。
3. 【請求項３】請求項１または２記載の２ビーム光源装置
   において、 ビーム合成された２ビームの偏光状態を円偏光状態に変
   換し、かつ２つの戻りビームの偏光状態を直線偏光状態
   に戻すための１／４波長板を有することを特徴とする２
   ビーム光源装置。
4. 【請求項４】請求項１または２または３記載の２ビーム
   光源装置において、 光源駆動用回路と同期光検出用回路とを、同一の基板上
   に実装したことを特徴とする２ビーム光源装置。
5. 【請求項５】２ビーム光源装置から合成されて放射され
   る２ビームを共通の光学系を介して被走査面上に導き、
   該被走査面上に、副走査方向に所定の間隔を有して分離
   し、かつ実質的に副走査方向に配列した２つの光スポッ
   トとして集光せしめ、２ラインを同時に光走査するマル
   チビーム走査装置において、各ビームによる光走査開始
   のための同期をとるために、光走査領域へ向かう２つの
   偏向ビームを同期ビームとして個別的に検出するための
   装置であって、 請求項１〜４の任意の１に記載の２ビーム光源装置と、 該２ビーム光源装置から放射されて光走査領域へ向かう
   ２ビームを、それぞれ同期検知用の戻りビームとして、
   各戻りビームが対応するフォトデテクタに入射するよう
   に、所定位置において反射させる反射手段とを有する同
   期検知装置。
6. 【請求項６】請求項５記載の同期検知装置において、 反射手段が、光源側からの２ビームを偏向させる光偏向
   器の偏向反射面であることを特徴とする同期検知装置。
7. 【請求項７】２ビーム光源装置から合成されて放射され
   る２ビームを共通の光学系を介して被走査面上に導き、
   該被走査面上に、副走査方向に所定の間隔を有して分離
   し、かつ実質的に副走査方向に配列した２つの光スポッ
   トとして集光せしめ、２ラインを同時に光走査するマル
   チビーム走査装置において、 同期検知装置として、請求項５または６記載の同期検知
   装置を有することを特徴とするマルチビーム走査装置。