JPH11334084A - ノズルプレートの製造方法 - Google Patents

ノズルプレートの製造方法

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JPH11334084A
JPH11334084A JP14124098A JP14124098A JPH11334084A JP H11334084 A JPH11334084 A JP H11334084A JP 14124098 A JP14124098 A JP 14124098A JP 14124098 A JP14124098 A JP 14124098A JP H11334084 A JPH11334084 A JP H11334084A
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nozzle plate
nozzle
etching
opening
etching mask
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JP14124098A
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Hikoharu Aoki
彦治 青木
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Brother Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】凹溝を短時間に形成することができるノズルプ
レートの製造方法を提供する。 【解決手段】表裏に貫通したインク噴射用ノズル孔列の
少なくとも1列を備えるとともに、インク噴射側表面の
各ノズル孔列を単独列若しくは複数列で含む領域に凹溝
を備えたノズルプレートを製造する方法である。凹溝の
開口形状に対応した開口部1aを有するエッチングマス
ク1を、開口部1aが前記領域と対応するようにインク
噴出側表面に設け、しかる後ドライエッチングによりイ
ンク噴射側表面をエッチングして凹溝を形成する。複数
個のノズルプレート分の凹溝を同時に形成することがで
き、短時間で凹溝を加工することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクを噴射して
記録するインクジェットヘッドの構成部材であるノズル
プレートを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】上記インクジェットヘッドの基本的な構
成は、圧電素子等によってインクに機械的な圧力を加え
たり、或いは熱的に発生させた圧力をインクに加えたり
して、ノズル孔からインクを噴射させるというものであ
る。このインクジェットヘッドの一例を、図8に基づい
て説明する。
【0003】図8に示すように、このインクジェットヘ
ッド100は、セラミックスにより形成されたセンタプ
レート104、及びこのセンタプレート104の上下面
にそれぞれ貼着された圧電セラミックスプレート10
2,103からなるアクチュエータ部101と、このア
クチュエータ部101のインク噴射側面に設けられたノ
ズルプレート110とを備えている。
【0004】前記各圧電セラミックスプレート102,
103には、それぞれインクが供給される噴射チャンネ
ル105と、この噴射チャンネル105を挟むように設
けられた非噴射チャンネル106とが所定間隔で交互に
並設されている。また、前記ノズルプレート110は、
例えばポリイミド樹脂プレートからなるものであり、前
記各噴射チャンネル105に対応した位置に、それぞれ
ノズル孔111が設けられている。
【0005】以上のように構成されたインクジェットヘ
ッド100によれば、前記噴射チャンネル105と非噴
射チャンネル106との間に形成された壁部を駆動電界
により屈曲させて前記噴射チャンネル105内の容積を
変化させ、これにより噴射チャンネル105内のインク
に圧力をかけ、当該インクを前記ノズル孔111から噴
射させることができる。
【0006】ところで、事務用箋に文字,画像などを記
録する一般なインクジェットヘッドは、そのノズル孔の
開口端が記録媒体に対して1〜2mm以下の間隔で対向
しており、記録媒体がジャムを起こすなどして浮き上が
ると、記録媒体がノズル孔の開口端に接触して、開口端
を傷つけることがある。この場合、前記開口端にフッ素
などを含む撥水膜が形成されているものにあっては、こ
の撥水膜が損傷してインクの噴射性能が悪化し、高品質
な記録を行うことができなくなる。
【0007】そこで、従来、図8に示すように、ノズル
プレート110のインク噴射側面のノズル孔111が設
けられた領域に凹溝112を形成して、ノズル孔111
の開口端位置をノズルプレート110の面位置より少し
凹ませることにより、上述した記録媒体とノズル孔11
1の開口端との接触を防止していた。そして、従来、こ
の凹溝112はレーザ加工装置を用いて形成されてい
た。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のよう
な、レーザ光を用いた加工では、前記凹溝112を加工
する時間が非常に長くなり、製造コストが高くなるとい
う問題があった。
【0009】図8に示す前記凹溝112の長さLは通常
9mm、その幅Wは0.3mm程度とされ、その深さは
約5〜15μmが好ましい範囲とされている。
【0010】通常、レーザ光の照射範囲は9mm×0.
5mmの範囲であり、凹溝112を1個加工するごとに
レーザ光を移動させる、所謂ステップ・アンド・リピー
トによる加工では、多数の凹溝112を加工するには、
必然的にその加工時間が長くならざるを得ないのであ
る。
【0011】本発明は、以上の実情に鑑みなされたもの
であって、前記凹溝を短時間に形成することができるイ
ンクジェットヘッドノズルプレートの製造方法の提供を
目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段及びその効果】上記目的を
達成するための本発明の請求項1に係る発明は、表裏に
貫通したインク噴射用ノズル孔列の少なくとも1列を備
えるとともに、インク噴射側表面の前記各ノズル孔列を
単独列若しくは複数列で含む領域に凹溝を備えたノズル
プレートを製造する方法であって、前記凹溝の開口形状
に対応した開口部を有するエッチングマスクを、該開口
部が前記領域と対応するように前記インク噴出側表面に
設け、しかる後ドライエッチングにより前記インク噴射
側表面をエッチングして前記凹溝を形成することを特徴
とするものである。
【0013】この発明によれば、ノズルプレートのイン
ク噴射側表面に設けたエッチングマスクの開口部を介し
て、当該開口部に対応した部分の前記インク噴射側表
面、即ち、前記エッチングマスクにより覆われていない
露出したインク噴射側表面の全面がほぼ同時にドライエ
ッチングされ、前記開口部とほぼ同形状の凹溝が前記イ
ンク噴射側表面に形成される。
【0014】したがって、複数個の前記ノズルプレート
を裁断形成することができる大きさのノズルプレート材
料を用意するとともに、前記エッチングマスクに複数の
開口部を形成してドライエッチングすることにより、複
数個のノズルプレート分の前記凹溝を同時に形成するこ
とができ、上述した従来のステップ・アンド・リピート
によるレーザ加工に比べて、短時間で凹溝を加工するこ
とができる。これにより、ノズルプレートの製造コスト
を低減することができる。
【0015】本発明の請求項2に係る発明は、請求項1
の発明におけるドライエッチングを反応性イオンエッチ
ングにより行い、前記凹溝を形成することを特徴とする
ものである。
【0016】この発明によれば、プラズマ中に発生した
イオンと励起活性種とが同時に前記インク噴射側表面に
作用して当該表面が物理的かつ化学的にエッチングされ
るので、更に短時間に前記凹溝を形成することができ
る。また、指向性をもって移動するイオンにより前記表
面が物理的にエッチングされるので、所謂アンダーカッ
トが少なく、正確な形状の凹溝を形成することができ
る。
【0017】本発明の請求項3に係る発明は、上記請求
項1又は2の発明における前記ノズルプレートをポリイ
ミドから形成し、前記エッチングマスクをステンレス鋼
の薄板から形成するとともに、反応ガスに酸素ガスを用
いて前記ドライエッチングを行うことを特徴とするもの
である。
【0018】ポリイミドはインクに対する耐食性及び耐
熱性に富み、熱膨張係数も低いことからノズルプレート
の材料に適しており、また、反応ガスにOガスを用
いたドライエッチングにより容易にエッチングすること
ができる。したがって、この発明によれば、使用に際し
て好適なノズルプレートを容易に製造することができ
る。
【0019】また、エッチングマスクをステンレス鋼の
薄板で形成しているので、前記インク噴射側表面へのマ
スク形成を短時間で行うことができるとともに、これを
繰返して使用することができることから極めて経済的で
あり、また、Oガスに対する耐食性が高いことか
ら、長時間にわたって当該エッチングマスクを使用する
ことができ、この面においても経済的である。
【0020】本発明の請求項4に係る発明は、上記請求
項3の発明において、前記エッチングマスクよりも重
く、且つ前記エッチングマスクの開口部より広い開口部
を備えた押え部材を前記エッチングマスク上に重ね合わ
せた後、前記ドライエッチングを行うことを特徴とする
ものである。
【0021】この発明によれば、押え部材により前記ノ
ズルプレートとエッチングマスクとを密着させることが
できるので、ドライエッチングの際に所謂アンダーカッ
トを生じ難くすることができ、形成される凹溝の形状を
正確なものとすることができる。
【0022】本発明の請求項5に係る発明は、上記請求
項1乃至4のいずれかの発明において、形成した前記凹
溝に撥水膜を形成し、しかる後該凹溝内に前記ノズル孔
を形成することを特徴とするものである。
【0023】前記ノズルプレートの凹溝内にノズル孔を
形成した後当該凹溝内に撥水膜を形成すると、撥水膜形
成時に当該撥水膜によって前記ノズル孔が塞がれるおそ
れがある。この発明によれば、撥水膜を形成した後に前
記凹溝内にノズル孔を形成するようにしているので、こ
のような問題を生じることがなく、確実にノズル孔を形
成することができる。
【0024】本発明の請求項6に係る発明は、上記請求
項5の発明における前記ノズル孔を、前記凹溝が設けら
れた面とは反対側の面からレーザ加工により形成するこ
とを特徴とするものである。
【0025】ノズルプレートのノズル孔は、適量かつ定
量のインク滴を噴射することができるように、インク噴
射側が小径となったテーパ状のものが好ましいとされて
いる。一方、レーザ加工により形成される孔形状は、レ
ーザ光の照射される側が大径のテーパとなる。この発明
によれば、凹溝が設けられた面とは反対側の面からレー
ザ加工によりノズル孔を形成するようにしているので、
前記凹溝表面側、即ちインク噴射側の口径が小径となっ
たテーパ状のノズル孔を形成することができ、求められ
る形状のノズル孔を形成することができる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施形態
について添付図面に基づき説明する。尚、この例では、
便宜上、図8に示したノズルプレート110であって、
これを2個同時に製造する場合について説明する。
【0027】まず、図1に示すような、ステンレス鋼の
薄板からなるエッチングマスク1を製造した。このエッ
チングマスク1には、前記ノズルプレート110の凹溝
112に対応した位置に、当該凹溝112と同形状をし
た開口部1aが形成されている。このエッチングマスク
1の板厚は、あまり厚いとプラズマが凹溝112内に入
りにくいので0.05〜0.3mmのものが好ましい。
尚、図中、一点鎖線は1個分の前記ノズルプレート11
0に対応した領域を示すものである。
【0028】次に、2個のノズルプレート110を裁断
形成することができる大きさを有するノズルプレート材
料2を用意し、このノズルプレート材料2上に前記エッ
チングマスク1を重ね合わせて図2に示すような積層体
とする。尚、この例ではエッチングマスク1とノズルプ
レート材料2とを同じ大きさのものとしているが、これ
に限られるものではない。また、本例では、ノズルプレ
ート材料2に、厚さ75μmのポリイミド樹脂製シート
を用いた。ポリイミド樹脂はインクに対する耐食性及び
耐熱性に富み、熱膨張係数も低いことから、ノズルプレ
ート110の材料として最適である。
【0029】次に、上述のようにして積層したエッチン
グマスク1とノズルプレート材料2とを、図3に示すよ
うな、エッチング装置10内に入れ、このノズルプレー
ト材料2に反応性イオンエッチングよるエッチングを施
した。
【0030】図3に示すように、このエッチング装置1
0は、エッチングチャンバ11と、このエッチングチャ
ンバ11内の上下にそれぞれ設けられた電極13及びプ
ラテン12と、前記電極13の側方に設けられたガス供
給管14と、前記プラテン12の側方に設けられた排気
管15とからなる、所謂平行平板型のエッチング装置で
ある。
【0031】尚、前記電極13は接地されており、前記
プラテン12には13.56MHz、200WのRF電
力が印加されている。また、前記排気管15は真空ポン
プ(図示せず)に接続されており、この真空ポンプ(図
示せず)により前記エッチングチャンバ11内が8mT
orr程度に減圧されるようになっている。一方、ガス
供給管14は酸素ボンベ(図示せず)に接続されてお
り、この酸素ボンベ(図示せず)から高純度のO
スが前記エッチングチャンバ11内に供給されるように
なっている。そして、積層した前記エッチングマスク1
及びノズルプレート材料2をこのエッチングチャンバ1
1内のプラテン12上に載置している。
【0032】このエッチング装置10によれば、前記プ
ラテン12にRF電力を印加すると、エッチングチャン
バ11内に供給されたOガスがイオン,電子,酸素
ラジカルなどを含むプラズマとなる。前記プラテン12
には自己バイアスが生じており、プラズマ中のイオンが
この自己バイアスによってプラテン12に引き寄せられ
る。
【0033】そして、プラテン12上に載置されたノズ
ルプレート材料2の、エッチングマスク1の開口部1a
に対応した部分、即ち露出した表面が、発生したプラズ
マ中の酸素ラジカルによって化学的にエッチングされる
とともに、前記自己バイアスによりプラテンに向けて加
速されたイオンが前記露出表面に衝突して物理的にエッ
チングされ、前記開口部1aとほぼ同形状の凹溝112
が前記ノズルプレート材料2表面に形成される。
【0034】このようにして凹溝112の形成されたノ
ズルプレート材料2を図5に示す。尚、図5(a)は凹
溝112の形成されたノズルプレート材料2を示す斜視
図であり、図5(b)はその矢視A−A方向の断面図で
ある。また、エッチングチャンバ11内のOガス圧
を8mTorrとし、プラテンに印加されるRF電力を
200Wとして、前記ノズルプレート材料2をエッチン
グしたときのエッチング時間と加工深さの関係を図4に
示す。
【0035】次に、エッチングの終了したエッチングマ
スク1及びノズルプレート材料2を前記エッチングチャ
ンバ11内から取り出し、これらを分離した後、ノズル
プレート材料2の凹溝112を形成した側の面全体に、
フッ素を含む樹脂を塗布して撥水膜を形成する。尚、フ
ッ素を含む樹脂としては、FEP(4ふっ化エチレン・
エチレン共重合樹脂)又はPTFE(4ふっ化エチレン
樹脂)が特に好ましい。
【0036】ついで、図6に示したレーザ加工装置20
を用いて、撥水膜形成後の前記ノズルプレート材料2
に、その凹溝112を形成した反対側の面からレーザ光
を照射してノズル孔11を形成する。
【0037】図6に示すように、このレーザ加工装置2
0は、適宜載置面21aを有し、矢示X,Y方向に移動
可能となったテーブル21と、レーザ光22aを出射す
るレーザ発振器22と、加工すべきノズル孔111に対
応した開口を有するマスク23と、このマスク23を通
ったレーザ光22aを反射するハーフミラー24と、反
射したレーザ光22bを前記テーブル21の載置面21
a上に照射する集光レンズ27と、ハーフミラー24を
介して前記載置面21a上を撮像するように設けられた
カメラ25と、カメラ25により撮像された画像を表示
するディスプレイ26とを備えている。尚、前記カメラ
25は、その光軸が前記ハーフミラー24によって反射
されたレーザ光22bの光軸と同軸となるように設けら
れている。
【0038】まず、前記ノズルプレート材料2を、凹溝
112の形成された面が下を向くようにして、即ち凹溝
112とは反対面が上を向くようにして、前記テーブル
21の載置面21a上に載置し、前記カメラ25により
これを撮像しディスプレイ26上に表示する。尚、前記
ノズルプレート材料2は透明な部材であるので、その裏
面に形成した凹溝112がディスプレイ26に表示され
る。
【0039】次に、テーブル21を矢示X,Y方向に移
動させて、図6に示したごとく、カメラ25に設定した
十字線25aの中心が前記撮像した凹溝112に対して
適宜位置関係となるようにする。しかる後、レーザ発振
器22からレーザ光22aを出射してテーブル21上の
ノズルプレート材料2に照射し、ノズル孔111を形成
する。以後、テーブル21を矢示Y,X方向に適宜移動
させながら、レーザ光22aを照射して必要なノズル孔
111を順次形成する。
【0040】図7に、このようにしてノズル孔111を
形成した後のノズルプレート材料2を示す。尚、図7
(a)はノズルプレート材料2を示す斜視図であり、図
7(b)はその矢視B−B方向の断面図である。図7
(b)に示すように、ノズル孔111はレーザ光22b
の照射される側が大径のテーパ状となっている。
【0041】ついで、このようにして製造されたノズル
プレート材料2を、図7に示す一点鎖線の部分で裁断す
ることにより、最終的に2個のノズルプレート110と
することができる。
【0042】以上詳述したように、本例のノズルプレー
ト110を製造する方法によれば、2個のノズルプレー
ト110分の凹溝112を同時に形成することができる
ので、上述した従来のステップ・アンド・リピートによ
るレーザ加工に比べて、短時間で凹溝112を形成する
ことができる。これにより、ノズルプレート110の製
造コストを低減することができる。尚、本例では、便宜
上、2個のノズルプレート110の凹溝112を形成す
るものとしたがこれに限るものではなく、更に多くのノ
ズルプレート110分についての凹溝112を同時に加
工するようにすれば、その加工時間が更に短くなる。ま
た、本例では、1列のノズル孔111列を含む領域に凹
溝112を設けたノズルプレート110の製造方法につ
いて例示したが、当然に、複数列のノズル孔111列を
含む領域に凹溝112を設けたノズルプレート110に
ついても本発明に含まれる。
【0043】また、化学的エッチング及び物理的エッチ
ングの双方のエッチング作用を有する反応性イオンエッ
チングにより凹溝112を形成するようにしているの
で、更に短時間に前記凹溝を形成することができる。ま
た、指向性をもって移動するイオンにより物理的にエッ
チングされるので、所謂アンダーカットが少なく、正確
な形状の凹溝112を形成することができる。
【0044】また、エッチングマスク1をステンレス鋼
の薄板で形成しているので、前記ノズルプレート材料2
へのマスク形成を短時間で行うことができるとともに、
これを繰返して使用することができることから極めて経
済的であり、また、Oガスに対する耐食性が高いこ
とから、長時間にわたって当該エッチングマスク1を使
用することができ、この面においても経済的である。
【0045】また、凹溝112に撥水膜を形成した後に
該凹溝112内にノズル孔111を形成するようにして
いるので、撥水膜によってノズル孔111が塞がれると
いった問題を生じることがなく、確実にノズル孔111
を形成することができる。
【0046】また、凹溝112が設けられた面とは反対
側の面から、レーザ加工によってノズル孔111を形成
するようにしているので、レーザ加工により形成される
ノズル孔111は、レーザ光22bの照射される側が大
径のテーパとなり、即ち、インク噴射側の口径が小径と
なったテーパとなる。したがって、適量かつ定量のイン
ク滴を噴射することができるような好ましい形状のノズ
ル孔112とすることができる。
【0047】尚、上例では、ドライエッチングに反応性
イオンエッチングを採用したが、これに限られるもので
はなく、例えば、反応ガスにOガスを用いた、イオ
ンアシストのないプラズマエッチングによるものとして
も良い。
【0048】また、前記エッチングマスク1よりも重
く、且つ前記エッチングマスク1の開口部1aより広い
開口部を備えた押え部材を前記エッチングマスク1上に
重ね合わせた後、エッチングを行うようにしても良い。
このようにすれば、押え部材により前記ノズルプレート
材料2とエッチングマスク1とを密着させることができ
るので、ドライエッチングの際に所謂アンダーカットを
生じ難くすることができ、形成される凹溝112の形状
を正確なものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態にかかるノズルプレートの
製造方法を説明するための説明図である。
【図2】本発明の一実施形態にかかるノズルプレートの
製造方法を説明するための説明図である。
【図3】本実施形態にかかる製造方法に用いるエッチン
グ装置を示す断面図である。
【図4】本実施形態にかかるエッチング装置によりエッ
チングした結果を示すグラフである。
【図5】凹溝を形成した後のノズルプレート材料を示す
説明図である。
【図6】本実施形態にかかる製造方法に用いるレーザ加
工装置を示す斜視図である。
【図7】ノズル孔を形成した後のノズルプレート材料を
示す説明図である。
【図8】一例にかかるインクジェットヘッドを示す斜視
図である。
【符号の説明】
1 エッチングマスク 2 ノズルプレート材料 10 エッチング装置 11 エッチングチャンバ 12 プラテン 13 電極 14 ガス供給管 15 排気管 20 レーザ加工装置 21 テーブル 22 レーザ発振器 23 集光レンズ 24 ハーフミラー 25 カメラ 26 ディスプレイ 100 インクジェットヘッド 101 アクチュエータ部 110 ノズルプレート 111 ノズル孔 112 凹溝

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表裏に貫通したインク噴射用ノズル孔列
    の少なくとも1列を備えるとともに、インク噴射側表面
    の前記各ノズル孔列を単独列若しくは複数列で含む領域
    に凹溝を備えたノズルプレートを製造する方法であっ
    て、 前記凹溝の開口形状に対応した開口部を有するエッチン
    グマスクを、該開口部が前記領域と対応するように前記
    インク噴出側表面に設け、しかる後ドライエッチングに
    より前記インク噴射側表面をエッチングして前記凹溝を
    形成することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
  2. 【請求項2】 反応性イオンエッチングにより前記凹溝
    を形成することを特徴とする請求項1記載のノズルプレ
    ートの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記ノズルプレートをポリイミドから形
    成し、前記エッチングマスクをステンレス鋼の薄板から
    形成するとともに、反応ガスに酸素ガスを用いて前記ド
    ライエッチングを行うことを特徴とする請求項1又は2
    記載のノズルプレートの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記エッチングマスクよりも重く、且つ
    前記エッチングマスクの開口部より広い開口部を備えた
    押え部材を前記エッチングマスク上に重ね合わせた後、
    前記ドライエッチングを行うことを特徴とする請求項3
    記載のノズルプレートの製造方法。
  5. 【請求項5】 形成した前記凹溝に撥水膜を形成し、し
    かる後該凹溝内に前記ノズル孔を形成することを特徴と
    する請求項1乃至4に記載のいずれかのノズルプレート
    の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記ノズル孔を、前記凹溝が設けられた
    面とは反対側の面からレーザ加工により形成することを
    特徴とする請求項5記載のノズルプレートの製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002154209A (ja) * 2000-09-06 2002-05-28 Canon Inc インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2007125714A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Fuji Xerox Co Ltd 液滴吐出ヘッド
JP2013237263A (ja) * 2012-04-18 2013-11-28 Canon Inc 液体吐出ヘッド
JP2015168143A (ja) * 2014-03-06 2015-09-28 セイコーエプソン株式会社 貫通孔の形成方法、部材、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドユニットおよびインクジェット式記録装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002154209A (ja) * 2000-09-06 2002-05-28 Canon Inc インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2007125714A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Fuji Xerox Co Ltd 液滴吐出ヘッド
JP2013237263A (ja) * 2012-04-18 2013-11-28 Canon Inc 液体吐出ヘッド
JP2015168143A (ja) * 2014-03-06 2015-09-28 セイコーエプソン株式会社 貫通孔の形成方法、部材、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドユニットおよびインクジェット式記録装置

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