JPH11328979A - 強誘電体メモリ装置及びその読み出し方法 - Google Patents

強誘電体メモリ装置及びその読み出し方法

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JPH11328979A
JPH11328979A JP10377706A JP37770698A JPH11328979A JP H11328979 A JPH11328979 A JP H11328979A JP 10377706 A JP10377706 A JP 10377706A JP 37770698 A JP37770698 A JP 37770698A JP H11328979 A JPH11328979 A JP H11328979A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基準電圧生成のためのレファレンスセルを使
用せずに性能を向上した強誘電体メモリ装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明は強誘電体記憶素子を使用する強
誘電体メモリ装置に関し、特にデータをセンシングする
ための基準電圧を生成するためのレファレンスセルが必
要ない装置に関するものであり、複数のワードライン及
び複数の正、負ビットラインが互いに交差されマトリッ
クス形態で構成され、一つのセル当一つ以上の強誘電体
キャパシタを含む強誘電体メモリアレイ、及び上記正ビ
ットライン及び上記負ビットラインの小信号を感知し増
幅する感知増幅器を備える強誘電体メモリ装置におい
て、上記感知増幅器の電源電圧より高い値を持つ電圧で
上記正ビットラインをプレ−チャージするプレ−チャー
ジ手段とを含んでなる強誘電体メモリ装置を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は強誘電体記憶素子を
使用する強誘電体メモリ装置及びその読み出し方法に関
し、特にデータをセンシングするための基準電圧を生成
するためのレファレンスセルが必要ない強誘電体メモリ
装置及びその読み出し方法に関する。
【0002】
【従来技術】強誘電体キャパシタの特性をまず説明する
と、図1は強誘電体キャパシタの記号と強誘電体キャパ
シタ端子A、B間の電圧による関係を図式化したこと
で、強誘電体物質を誘電体で使用するキャパシタの両端
の電圧と誘起された電荷量間にヒステリシス関係がある
ことを見せる。
【0003】強誘電体キャパシタは両端の電圧が0Vで
ある時誘起された電荷量がP1、P2の2種類の状態で
存在し電源の供給がなくても2進形態のデータを保存す
ることができる。
【0004】このような特性を用いて強誘電体キャパシ
タは非揮発性メモリ素子の記憶手段で利用される。ま
た、強誘電体キャパシタの両端に印加される電圧の方向
と大きさによって強誘電体内の分極状態が変化するの
に、P1状態の分極を維持している強誘電体キャパシタ
に十分に大きい負電圧(V3)を印加すると図1のヒス
テリシス曲線に沿ってキャパシタが移動しながらP3方
向に分極状態が変化し該負電圧を除去しキャパシタ両端
の電圧を0VとするとP2状態に移動する。
【0005】すなわち、強誘電体キャパシタは電圧によ
って矢印方向に電荷量状態が変化し、強誘電体キャパシ
タに保存された情報はキャパシタの両端に電圧印加時に
誘起される電荷量の変化の程度を感知しデータ化する。
【0006】このような強誘電記憶素子に保存された情
報を読む過程で、ワードライン(wordline、以
下WLという)を開けてキャパシタの両端に電圧を印加
すると保存された情報(0または1)にしたがって正ビ
ットライン(bitline、以下BLという)は互い
に異なる電圧V0またはV1を持つようになる。
【0007】電圧V0、V1は小信号であるために感知
増幅器を利用して増幅させなければならない。該V0、
V1を増幅させるためにはV0とV1間の値である基準
電圧(reference voltage、以下Vr
efという)が負ビットライン(以下、/BLという)
に印加されなければならない。
【0008】すなわち、/BLに印加されたVrefに
比べBLの電圧(V0またはV1)が低いかまたは高い
かを感知増幅器で感知し増幅した後、セルに保存された
情報が0または1であるかを判読する。
【0009】したがって、Vrefは常にV0とV1間
の値を持つようにしなければならない。V0とV1の電
圧差が大きいほど素子の情報を正確に読むことができ
る。主記憶セルのキャパシタ容量が大きいほどV0とV
1の間隔をひろめることができるが、この場合セルの面
積が増加される問題が発生する。
【0010】また、従来にはV0とV1の中間値である
Vrefを/BLに印加させるためにいろいろな形態の
レファレンスセルを使用した。( 94、Int。So
lid State Circuit Conf。pa
per FA16。2、 96、Int。Solid
State Circuit Conf。paperS
P23。1、 96、Symp。VLSI Circu
it、paper5。2) しかし、このようなレファレンスセルらはV0とV1の
中間値である信頼性が不足し、レファレンスセル自体が
チップ面積を消耗し雑音の原因で作用でき、素子の動作
を複雑にするという問題点がある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題点を解決するために案出されたものであり、0を読
む時と1を読む時のビットラインの電圧差を増加させる
ことによって、センシングマージンを高めて素子の信頼
性を向上し、負ビットラインのプレ−チャージ電圧Vc
cを基準電圧で用いて基準電圧生成のための別途のレフ
ァレンスセルを使用しなくても素子の集積度や信頼性の
側面で性能を向上した強誘電体メモリ装置及びその読み
出し方法を提供することにその目的がある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、複数のワードライン及び複数の正、負ビッ
トラインが互いに交差されマトリックス形態で構成さ
れ、一つのセル当一つ以上の強誘電体キャパシタを含む
強誘電体メモリアレイ、及び上記正ビットライン及び上
記負ビットラインの小信号を感知し増幅する感知増幅器
を備える強誘電体メモリ装置において、上記感知増幅器
の電源電圧より高い値を持つ電圧で上記正ビットライン
をプレ−チャージするプレ−チャージ手段とを含んでな
る強誘電体メモリ装置を提供する。
【0013】また、複数のワードライン及び複数の正、
負ビットラインが互いに交差されマトリックス形態で構
成され、一つのセル当1以上の強誘電キャパシターを含
む体強誘電体メモリアレイ、及び上記正ビットライン及
び上記負ビットラインの小信号を感知し増幅する感知増
幅器を含む強誘電体メモリ装置の読む方法において、メ
モリセルに保存されたデータを読むために第1制御信号
に応答し、上記正ビットラインを上記感知増幅器の電源
電圧より高い値を持つ台1電圧でプレ−チャージし、上
記負ビットラインを上記第1電圧より低い第2電圧でプ
レーチャージする第1段階と、あるメモリセルを選択し
て上記メモリセルの強誘電体キャパシタの両端に電位差
を発生させ、2種類の状態中で一つの状態のデータを読
む場合上記正ビットラインは上記強誘電体キャパシタと
上記正ビットライン間の電荷共有により上記第1電圧と
上記第2電圧の間の一定電位を持つようにし、上記2種
類状態中残り一つの状態のデータを読む場合上記正ビッ
トラインは上記強誘電体キャパシタと上記正ビットライ
ンとの間の電荷共有により上記第2電圧より低い一定電
位となる第2段階と、上記正ビットラインに誘起された
データの感知のために、上記感知増幅器で上記負ビット
ラインの上記第2電圧を基準として2種類の状態中で一
つの状態のデータを読む場合接地電源にし、上記2種類
状態中残り一つの状態のデータを読む場合には上記感知
増幅器の電源電圧として各々互いに異なるデータを読む
第3段階とを含んでなる強誘電体半導体装置の読み出し
方法を提供する。
【0014】以下、添付した図面を参照し本発明を詳細
に説明する。
【0015】図2は強誘電体記憶素子の回路模式図で、
セルプレート(cell plate)とノードB間に
接続された1個の強誘電キャパシタ(C1)及びノード
BとBL間に接続された1個のスイチングトランジスタ
ー(T1)で構成された主記憶セル(200)、BL及
び/BLの微細な信号差を感知増幅する感知増幅器(2
10)でなる。
【0016】強誘電前記憶素子でセルに保存された情報
を読むためには、主記憶セル(200)の強誘電キャパ
シタ(C1)の両端に電圧差を印加しなければならな
い。このために従来には、初期状態で強誘電キャパシタ
(C1)の両端電圧を全部接地電源(0V、以下Vss
という)として維持し、次にBLをVssでプレ−チャ
ージしセルのスイチングトランジスター(T1)を開き
ながらセルプレート(cell plate)電圧を電
源電圧(以下Vccという)まで引き上げることによっ
て、強誘電キャパシタ(C1)の両端に電圧差を印加し
た。
【0017】従来のまた別の方法は、初期状態では同様
に強誘電キャパシタ(C1)の両端電圧を全部接地電源
(0V、以下Vssという)として維持し、セルプレー
ト電圧(cell plate)をVssに維持した状
態で、BLをVccまでプレーチャージしてワードライ
ンを開けることで強誘電キャパシタ(C1)の両端に電
圧差を印加した。
【0018】強誘電キャパシタ(C1)の側面で考慮す
る際、従来のこのような二方法は対称関係にあり、実質
的に同じ方法であるが、本発明では後者の場合のように
BLの方をセルプレートより高い電圧でプレ−チャージ
した後スイチングトランジスター(T1)を開く方法に
ついて説明する。
【0019】図3は強誘電キャパシタの電荷量(Q)−
印加電圧(V)曲線に対するBLの電圧変化の様相を従
来と本発明の場合について示す。
【0020】初期状態にキャパシタ(C1)の両端にか
かる電圧がVssとして同一ならば二電極間に電圧差が
ないので強誘電キャパシタ(C1)は点0(0のデータ
が保存された場合)、または点1(1のデータが保存さ
れた場合)の位置にあるようになる。
【0021】従来のようにBLをVccでプレ−チャー
ジした場合には、BLをVccでプレ−チャージした後
スイチングトランジスター(T1)を開けばトランジス
ターを通じて電荷が強誘電キャパシタに流入されノード
Bの電圧は増加し、BLの電圧は減少し二電圧が一致す
るようになる時まで移動し、この時の最終電圧はBLの
キャパシタンスと強誘電キャパシタのQ−V曲線に依存
する。
【0022】もし初期に点0状態にあったら、スイチン
グトランジスター(T1)が開きながらQ0の電荷量が
移動され強誘電キャパシタのノードB電圧は点0でV0
に移動し、BLは初期Vcc電圧を持つ点Vcc0状態
から点V0に移動するようになる。この時、点Vcc0
とV0を結ぶ線の傾きに対する絶対値はBLのキャパシ
タンスである。
【0023】もし初期に点1状態にあったら、スイチン
グトランジスター(T1)が開きながらQ1の電荷量が
移動して強誘電キャパシタのノードB電圧は点1からV
1に移動し、BLは点Vcc1状態から点V1に移動す
るようになる。
【0024】ここで、強誘電キャパシタ(C1)の初期
状態に沿ってQ−V曲線の傾きが異なるので、Q0とQ
1は互いに異なる値になり、したがってV0とV1も互
いに異なる値になる。結局、強誘電キャパシタ(C1)
の初期状態が0または1であるかによりBLの電圧もV
0またはV1になる。本発明ではBLをVccでプレ−
チャージしなくてそれより高い電圧Vcc+αでプレ−
チャージする。
【0025】この場合を図3を参照し説明する。
【0026】強誘電キャパシタ(C1)の初期状態が0
ならばスイチングトランジスターが開く時Q0′の電荷
量が移動してノードBの状態は点0から点V0′に移動
する。この時、Q0よりQ0′が大きい理由、すなわち
V0′電圧がV0より高い理由は、BLのキャパシタン
スは一定であることに比べBLの初期電圧がより高いた
めである。
【0027】もし、強誘電キャパシタ(C1)の初期状
態が1ならば、スイチングトランジスターが開く時Q
1′の電荷量が移動してノードBの状態は点1から点V
1′に移動する。
【0028】この時V1′電圧がV1より高い。ここ
で、V1とV0の電圧差(V1−V0)よりV1′とV
0′の電圧差(V1′−V0′)がより大きいというこ
とが分かるのに、その理由は強誘電キャパシタのQ−V
曲線の特性上直線V0−V0′の傾きは直線V1−V
1′の傾きより常に大きいためにV0がV0 に変化す
る幅がV1がV1′に変化する幅より常に小さいし、結
果的にV1′−V0′はV1−V0より常に大きかなけ
ればならない。
【0029】上記した通り本発明ではBLのプレ−チャ
ージ電圧を増加させて0を読む時と1を読む時のBLの
電圧差を増加させることによって、センシングマージン
(sensing margin)を高めてそれにとも
なう素子の信頼性を向上する。
【0030】また、BLをVccより高い電圧Vcc+
αでプレ−チャージする時、α値を適切に調節して図3
に図示されたようにVccがV0′とV1′の中間に位
置するようにすることができる。このようにBLをVc
c+αで、/BLをVccでプレ−チャージさせれば、
/BLが基準電圧の役割をするので基準電圧生成のため
の別途のレファレンスセルなくても感知増幅器がBLと
/BLの電圧差を増幅するようにすることによってデー
タの読み出し動作を遂行することができる。
【0031】図4及び図5は従来技術及び本発明に基づ
いた強誘電記憶素子の読み出し方法に対するBL及び/
BL電圧のタイミングダイヤグラムを図示したのであ
る。
【0032】まず、図4はBL及び/BLをVccでプ
レ−チャージする従来のタイミング図で、プレ−チャー
ジした後スイチングトランジスター(T1)がオンされ
る。保存されたデータ1を読む場合に、BL及び/BL
の電圧は夫々メモリセルおよびレファランスセルとは電
荷の共有により夫々V1とVrefに減少し、この時感
知増幅器(210)が動作しレファレンスセルから生成
されたVrefを基準電圧としてBLはVccで、/B
LはVssで感知増幅する。
【0033】図5はレファランスセルがなく、BLをV
cc+αでプレ−チャージする本発明のタイミング図
で、BLはVcc+αで、/BLはVccでプレ−チャ
ージした後スイチングトランジスター(T1)がオンさ
れる。保存されたデータ1を読む場合に、BLの電圧は
Vccより高い電位に減少し、/BLの電圧はVccそ
のまま維持したまま感知増幅器が動作し/BLのVcc
を基準電圧としてBLはVccで、/BLはVssで感
知増幅する。
【0034】保存されたデータ0を読む場合に、BLの
電圧はVcc以下に減少し/BLの電圧はVccそのま
ま維持した後感知増幅器が動作して/BLのVccを基
準電圧としてBLはVssで、/BLはVccで感知増
幅する。
【0035】図6はBLをVcc+αで、/BLをVc
cでプレ−チャージし、別途のレファレンスセルがなく
ても強誘電記憶素子に保存されたデータを読むことが出
来るように構成した本発明の回路図で、一つのメモリセ
ルが1個のスイチングトランジスターと1個の強誘電体
キャパシタで構成され、複数のワードライン及び複数の
ビットラインが互いに交差されてマトリックス形態で構
成された強誘電体メモリアレイ(500)、BL及び/
BLの信号を感知し増幅する感知増幅器(510)、外
部から入力される駆動しようとするセルの行アドレスを
保存し出力する行アドレスバッファー(540)、行ア
ドレスを入力されてワードライン(wl)を駆動させる
ワードライン(wordline)駆動回路(55
0)、電圧損失なしVcc+α、Vccをプレ−チャー
ジ部(560)に伝送するためにワードライン駆動回路
(550)から出力されるブートストラップされた行ア
ドレスの最下位ビット(LSB)に応答しVcc+α及
びVccをBL及び/BLで選択して送るプレ−チャー
ジ電圧選択部(520)、プレ−チャージ電圧選択部
(520)から入力されるVcc+α及びVccでBL
及び/BLをプレ−チャージするプレ−チャージ部(5
60)、及びBLをプレ−チャージさせるためのVcc
+αを生成するVcc+α生成部(530)で構成され
る。
【0036】図7はプレ−チャージ電圧選択部(52
0)の内部回路図で、BLをプレ−チャージするための
電圧を選択すると共に、ブートストラップされたLSB
を各々ゲート入力とし、Vcc+α及びVcc間に直列
で連結されたPMOSトランジスター(P361)及び
NMOSトランジスター(N386)で構成される第1
ブロック(521)、損失のないVccで/BLをプレ
−チャージさせるためにブートストラップされたLSB
を各々ゲート入力とし、高電源電圧(Vpp)及びVs
s間に直列で連結したPMOSトランジスター(P38
4)及びNMOSトランジスター(N382)で構成さ
れた第2ブロック(523)及び/BLをプレ−チャー
ジするための電圧を選択すると共に、第2ブロック(5
23)の出力信号を各々ゲート入力とし、Vcc+α及
びVcc間に直列で連結したPMOSトランジスター
(P377)及びNMOSトランジスター(N387)
で構成される第3ブロック(522)で構成される。
【0037】図6及び図7を参照して本発明の動作を詳
細に説明する。
【0038】まず、行アドレスバッファー(540)か
ら入力されるLSBがロー(low)の場合のBL及び
/BLのプレ−チャージ動作を説明する。入力されたロ
ーのLSBがワードライン駆動回路(550)を通じて
プレ−チャージ電圧選択部(520)に入力され、プレ
−チャージ電圧選択部(520)で該ロー値をゲート入
力としてBLにはVcc+α生成部(530)から生成
されたVcc+αが、/BLにはVccが選択されプレ
−チャージ部(560)でビットラインプレ−チャージ
信号(hpb)に応答して偶数のワードライン(wl0
−wln−1)とNMOSトランジスターに連結されて
いるBL(BL0−Bln)はVcc+αがプレ−チャ
ージされ、/BL(/BL0−/BLn)はVccがプ
レ−チャージされる。
【0039】次に、LSBがハイ(high)の場合の
BL及び/BLのプレ−チャージ動作を説明する。入力
されたハイのLSBがワードライン駆動回路(550)
を通じて高電圧に上昇された後プレ−チャージ電圧選択
部(520)に入力され、プレ−チャージ電圧選択部
(520)でハイ値をゲート入力として/BLにはVc
c+α生成部(530)から生成されたVcc+αが、
BLにはVccが選択されてプレ−チャージ部(56
0)でビットラインプレ−チャージ信号(hpb)に応
答して奇数のワードライン(wl1−wln)とNMO
Sトランジスターに連結されているBL(/BL0−/
BLn)はVcc+αがプレ−チャージされ、/BL
(BL0−BLn)はVccがプレ−チャージされる。
【0040】このようにそれぞれのBLにプレ−チャー
ジされたVcc+αの電圧は選択されたワードラインが
駆動されて各セルに保存されているデータが0または1
なのかによって/BLのVccより低い電圧または高い
電圧になる。この時感知増幅器(510)の駆動信号s
ap及びsanを駆動してBLの電圧を増幅してデータ
が0または1なのかを判別するようになる。このような
動作に対する信号波形図が図8に図示されている。
【0041】図6ないし図8を参照してデータを強誘電
体キャパシタ(C1)に保存された0または1のデータ
を読む動作を説明する。
【0042】まず、待機状態ではビットラインプレ−チ
ャージ信号(PBL)がハイで入力されBLと/BLを
接地電源(以下Vssという)でプレ−チャージし、A
区間で保存されたデータを読むためにハイビットライン
プレ−チャージ信号(hpb)をローとし、BLはVc
c+αで、/BLはVccでチャージさせる。
【0043】次にB区間で、WL信号がハイになれば強
誘電体キャパシタの両端に大きい量の電圧が印加される
ので、Q−V曲線で0のデータを読む場合にはaからb
点に、1のデータを読む場合にはg点からh点に移され
る。またBLとの電荷共有によりBLは1を読む場合
に、元来チャージされたVcc+αよりは低いがVcc
よりは高い一定電位(700)で、0を読む場合にVc
cより低い一定電位(710)である。この時、供給さ
れるプレート電圧(plate)はVssで、/BLは
はじめにチャージされたVccそのままの電位を維持す
る。
【0044】次にC区間で、感知増幅器を駆動して/B
LのVccを基準としてBLの信号を感知増幅した後0
のデータを読む場合にはVss、1のデータを読む場合
にはVccになり各々0または1のデータを読む。この
時、Q−V曲線で0のデータを読む場合にはb点からc
点に、1のデータを読む場合にはh点からi点に移され
る。
【0045】そして、それぞれの情報を読んだ後または
読む前の情報を維持するためにリストア段階のD、E、
F区間の動作を遂行する。
【0046】
【発明の効果】上記のような本発明はビットラインのプ
レ−チャージ電圧を増加させて0を読む時と1を読む時
のビットラインの電圧差を増加させることによって、セ
ンシングマージンを高めてそれにともなう素子の信頼性
を向上する。
【0047】また、正ビットラインをVccより高い電
圧Vcc+αでプレ−チャージし、負ビットラインをV
ccでプレ−チャージし、負ビットラインのVccがV
0′とV1′の中間に位置するようにして負ビットライ
ンを基準電圧として感知増幅して保存されたデータを読
むことによって、基準電圧生成のための別途のレファレ
ンスセルが必要なくなり全体チップ面積を減少させるこ
とができ、これによる経費節減の効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】強誘電体キャパシタの記号と強誘電体キャパシ
タ端子A、B間の電圧にともなう関係を図示した図であ
る。
【図2】強誘電体記憶素子の回路模式図である。
【図3】強誘電キャパシタの電荷量(Q)−印加電圧
(V)曲線に対するBLの電圧変化様相を従来と本発明
の場合について図示した図である。
【図4】従来技術に基づいた強誘電記憶素子の読み出し
方法に対するBLおよび/BL電圧タイミングダイヤグ
ラム図である。
【図5】本発明に基づいた強誘電記憶素子の読み出し方
法に対するBLおよび/BL電圧タイミングダイヤグラ
ム図である。
【図6】本発明の回路図である。
【図7】プレ−チャージ電圧選択部の内部回路図であ
る。
【図8】図6の回路を駆動するための信号波形図及び各
区間別強誘電体キャパシタのQ−V曲線を図示した図で
ある。
【符号の説明】
500 強誘電体メモリアレイ 510 感知増幅器 520 プレ−チャージ電圧選択部 530 Vcc+α電圧生成部 540 行アドレスバッファー 550 ワードライン駆動回路 560 プレ−チャージ部

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のワードライン及び複数の正、負ビ
    ットラインが互いに交差されマトリックス形態で構成さ
    れ、一つのセル当一つ以上の強誘電体キャパシタを含む
    強誘電体メモリアレイ、及び上記正ビットライン及び上
    記負ビットラインの小信号を感知し増幅する感知増幅器
    を備える強誘電体メモリ装置において、 上記感知増幅器の電源電圧より高い値を持つ電圧で上記
    正ビットラインをプレ−チャージするプレ−チャージ手
    段とを含んでなる強誘電体メモリ装置。
  2. 【請求項2】 複数のワードライン及び多数の正、負ビ
    ットラインが互いに交差されてマトリックス形態で構成
    されて一つのセル当たり一つ以上の強誘電体キャパシタ
    を含む強誘電体メモリアレイを具備する強誘電体メモリ
    装置において、 ワードライン駆動回路から出力されて入力される行アド
    レスの最下位ビットに応答し、上記感知増幅器の電源電
    圧より高い値を持つ第1電圧で上記正ビットラインをプ
    レーチャージする手段と、 上記ワードライン駆動回路から出力されて入力される行
    アドレスの最下位ビットに応答し、上記第1電圧より低
    い第2電圧で上記負ビットラインをプレーチャージする
    手段と、 読み出し駆動の際上記負ビットラインの上記第2電圧を
    基準電圧にして上記正ビットラインの電圧レベルを感知
    増幅する感知増幅手段とを含んでなる強誘電体メモリ装
    置。
  3. 【請求項3】 上記感知増幅器の電源電圧を上記第2電
    圧で使用する請求項2記載の強誘電体メモリ装置。
  4. 【請求項4】 上記第1電圧及び上記第2電圧の各電圧
    レベルを調節する手段をさらに含んでなる請求項2記載
    の強誘電体メモリ装置。
  5. 【請求項5】 多数のワードライン及び多数の正、負ビ
    ットラインが互いに交差されてマトリックス形態で構成
    されて一つのセル当たり一つ以上の強誘電体キャパシタ
    を含む強誘電体メモリアレイ、及び上記正ビットライン
    及び上記負ビットラインの小信号を感知して増幅する感
    知増幅器を含んでなる強誘電体メモリ装置において、 ポジティブポンピングされた電源電圧を生成する電圧生
    成手段と、 ワードライン駆動回路から出力されて入力される行アド
    レスの最下位ビットに応答し、上記ポジティブポンピン
    グされた電源電圧を上記正ビットラインのプレーチャー
    ジ電圧で、電源電圧を上記負ビットラインのプレーチャ
    ージ電圧で各々選択するプレーチャージ電圧選択手段
    と、 上記プレーチャージ電圧選択手段からの上記ポジティブ
    ポンピングされた電源電圧及び上記電源電圧で上記正ビ
    ットライン及び上記負ビットラインを各々プレーチャー
    ジするプレーチャージ手段とをさらに含んでなり、上記
    電源電圧を上記感知増幅器の基準電圧で使用する強誘電
    体メモリ装置。
  6. 【請求項6】 上記ポジティブポンピングされた電源電
    圧レベルを調節できる手段をさらに含んでなる請求項5
    記載の強誘電体メモリ装置。
  7. 【請求項7】 上記プレ−チャージ電圧選択手段は、 上記最下位ビットに応答し、上記ポンピングされた電源
    電圧を上記正ビットラインのプレ−チャージ電圧で出力
    する第1回路と、 上記最下位ビットを反転する反転手段と、 上記反転手段からの出力信号に応答し、上記電源電圧を
    上記負ビットラインのプレ−チャージ電圧で出力する第
    2回路とを含む請求項5記載の強誘電体メモリ装置。
  8. 【請求項8】 上記第1回路は、 上記最下位ビットをそれぞれのゲート入力とし、上記ポ
    ンピングされた電源電圧及び上記電源電圧との間に直列
    で連結された第1PMOSトランジスター及び第1NM
    OSトランジスターでなる請求項7記載の強誘電体メモ
    リ装置。
  9. 【請求項9】 上記反転手段は、 損失ない電源電圧を上記負ビットラインのプレ−チャー
    ジ電圧で出力するために、 上記最下位ビットをそれぞれのゲート入力とし、上記ポ
    ンピングされた電源電圧より大きいかもしくは同じ値の
    高電源電圧及び接地電源との間に直列で連結された第2
    PMOSトランジスター及び第2NMOSトランジスタ
    ーでなる請求項7記載の強誘電体メモリ装置。
  10. 【請求項10】 上記第2回路は、 上記反転手段からの出力信号をそれぞれのゲート入力と
    し、上記ポンピングされた電源電圧及び上記電源電圧と
    の間に直列で連結された第3PMOSトランジスター及
    び第3NMOSトランジスターでなる請求項7記載の強
    誘電体メモリ装置。
  11. 【請求項11】 上記プレ−チャージ手段は、 第1制御信号をゲート入力とし、上記プレ−チャージ電
    圧選択手段からの上記ポジティブポンピングされた電源
    電圧及び上記正ビットライン間に接続された第4PMO
    Sトランジスターと、 上記第1制御信号をゲート入力とし、上記プレ−チャー
    ジ電圧選択手段からの上記電源電圧及び上記負ビットラ
    インとの間に接続された第5PMOSトランジスターと
    を含む請求項5記載の強誘電体メモリ装置。
  12. 【請求項12】 複数のワードライン及び複数の正、負
    ビットラインが互いに交差されマトリックス形態で構成
    され、一つのセル当1以上の強誘電キャパシターを含む
    体強誘電体メモリアレイ、及び上記正ビットライン及び
    上記負ビットラインの小信号を感知し増幅する感知増幅
    器を含む強誘電体メモリ装置の読む方法において、 メモリセルに保存されたデータを読むために第1制御信
    号に応答し、上記正ビットラインを上記感知増幅器の電
    源電圧より高い値を持つ台1電圧でプレ−チャージし、
    上記負ビットラインを上記第1電圧より低い第2電圧で
    プレーチャージする第1段階と、 あるメモリセルを選択して上記メモリセルの強誘電体キ
    ャパシタの両端に電位差を発生させ、2種類の状態中で
    一つの状態のデータを読む場合上記正ビットラインは上
    記強誘電体キャパシタと上記正ビットライン間の電荷共
    有により上記第1電圧と上記第2電圧の間の一定電位を
    持つようにし、上記2種類状態中残り一つの状態のデー
    タを読む場合上記正ビットラインは上記強誘電体キャパ
    シタと上記正ビットラインとの間の電荷共有により上記
    第2電圧より低い一定電位となる第2段階と、 上記正ビットラインに誘起されたデータの感知のため
    に、上記感知増幅器で上記負ビットラインの上記第2電
    圧を基準として2種類の状態中で一つの状態のデータを
    読む場合接地電源にし、上記2種類状態中残り一つの状
    態のデータを読む場合には上記感知増幅器の電源電圧と
    して各々互いに異なるデータを読む第3段階とを含んで
    なる強誘電体メモリ装置の読み出し方法。
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19950581A1 (de) * 1999-10-20 2001-04-26 Infineon Technologies Ag Anordnung zur Selbstreferenzierung von ferroelektrischen Speicherzellen
JP3777913B2 (ja) * 1999-10-28 2006-05-24 株式会社日立製作所 液晶駆動回路及び液晶表示装置
JP3662163B2 (ja) * 2000-03-06 2005-06-22 シャープ株式会社 強誘電体メモリ及びその駆動方法
JP4031904B2 (ja) * 2000-10-31 2008-01-09 富士通株式会社 データ読み出し回路とデータ読み出し方法及びデータ記憶装置
US6456519B1 (en) * 2000-12-29 2002-09-24 Stmicroelectronics, Inc. Circuit and method for asynchronously accessing a ferroelectric memory device
US6972983B2 (en) 2002-03-21 2005-12-06 Infineon Technologies Aktiengesellschaft Increasing the read signal in ferroelectric memories
US7193880B2 (en) * 2004-06-14 2007-03-20 Texas Instruments Incorporated Plateline voltage pulsing to reduce storage node disturbance in ferroelectric memory
US7009864B2 (en) * 2003-12-29 2006-03-07 Texas Instruments Incorporated Zero cancellation scheme to reduce plateline voltage in ferroelectric memory
US7133304B2 (en) * 2004-03-22 2006-11-07 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus to reduce storage node disturbance in ferroelectric memory
US6970371B1 (en) * 2004-05-17 2005-11-29 Texas Instruments Incorporated Reference generator system and methods for reading ferroelectric memory cells using reduced bitline voltages
US20060256608A1 (en) * 2005-05-11 2006-11-16 Spansion Llc Resistive memory device with improved data retention and reduced power
US7561458B2 (en) * 2006-12-26 2009-07-14 Texas Instruments Incorporated Ferroelectric memory array for implementing a zero cancellation scheme to reduce plateline voltage in ferroelectric memory
US7920404B2 (en) * 2007-12-31 2011-04-05 Texas Instruments Incorporated Ferroelectric memory devices with partitioned platelines
TWI381394B (zh) * 2008-06-09 2013-01-01 Promos Technologies Inc 動態隨機存取記憶體之資料感測方法
US10529410B2 (en) 2017-12-18 2020-01-07 Micron Technology, Inc. Techniques for accessing an array of memory cells to reduce parasitic coupling
US10762944B2 (en) * 2017-12-18 2020-09-01 Micron Technology, Inc. Single plate configuration and memory array operation
US11017831B2 (en) 2019-07-15 2021-05-25 Micron Technology, Inc. Ferroelectric memory cell access

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4006469A (en) 1975-12-16 1977-02-01 International Business Machines Corporation Data storage cell with transistors operating at different threshold voltages
US4477886A (en) * 1982-02-26 1984-10-16 Fairchild Camera & Instrument Corporation Sense/restore circuit for dynamic random access memory
US4420822A (en) * 1982-03-19 1983-12-13 Signetics Corporation Field plate sensing in single transistor, single capacitor MOS random access memory
JPS61196499A (ja) * 1985-02-25 1986-08-30 Seiko Epson Corp 多値ダイナミツクランダムアクセスメモリ
JPS62232796A (ja) 1986-04-01 1987-10-13 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US4873664A (en) * 1987-02-12 1989-10-10 Ramtron Corporation Self restoring ferroelectric memory
DE3887924T3 (de) * 1987-06-02 1999-08-12 Nat Semiconductor Corp Nichtflüchtige Speicheranordnung mit einem kapazitiven ferroelektrischen Speicherelement.
JP3020297B2 (ja) * 1991-03-26 2000-03-15 株式会社日立製作所 半導体メモリ
US5768182A (en) * 1991-05-21 1998-06-16 The Regents Of The University Of California Ferroelectric nonvolatile dynamic random access memory device
US5218566A (en) * 1991-08-15 1993-06-08 National Semiconductor Corporation Dynamic adjusting reference voltage for ferroelectric circuits
JP3302734B2 (ja) * 1992-09-16 2002-07-15 株式会社東芝 半導体記憶装置
JPH0785661A (ja) * 1993-09-14 1995-03-31 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP3226677B2 (ja) * 1993-09-21 2001-11-05 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JPH0793978A (ja) * 1993-09-27 1995-04-07 Hitachi Ltd 半導体メモリおよび半導体メモリの駆動方法
JP2899523B2 (ja) * 1994-06-22 1999-06-02 ワイケイケイアーキテクチュラルプロダクツ株式会社 カーテンウォールの水密構造
JP2953316B2 (ja) * 1994-08-12 1999-09-27 日本電気株式会社 不揮発性強誘電体メモリ
US5572459A (en) 1994-09-16 1996-11-05 Ramtron International Corporation Voltage reference for a ferroelectric 1T/1C based memory
JPH08147965A (ja) * 1994-11-15 1996-06-07 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP3183076B2 (ja) * 1994-12-27 2001-07-03 日本電気株式会社 強誘電体メモリ装置
JPH08203266A (ja) * 1995-01-27 1996-08-09 Nec Corp 強誘電体メモリ装置
JP3576271B2 (ja) * 1995-06-20 2004-10-13 株式会社ルネサステクノロジ 強誘電体メモリ
JPH097377A (ja) 1995-06-20 1997-01-10 Sony Corp 強誘電体記憶装置

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