JPH11326674A - 光ファイバ型光部品 - Google Patents
光ファイバ型光部品Info
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- JPH11326674A JPH11326674A JP10146630A JP14663098A JPH11326674A JP H11326674 A JPH11326674 A JP H11326674A JP 10146630 A JP10146630 A JP 10146630A JP 14663098 A JP14663098 A JP 14663098A JP H11326674 A JPH11326674 A JP H11326674A
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Abstract
レーションの光ファイバ型光部品を提供する。 【解決手段】 センタコア3の周りをサイドコア4で覆
って形成されるコア2の周りをクラッド5で覆って光フ
ァイバ1とする。センタコア3、サイドコア4、クラッ
ド5の純石英に対する比屈折率差Δ1、Δ2、Δ3の関
係をΔ1>Δ3>Δ2とし、センタコア3の屈折率が光
ファイバ光軸Zに対して周期的に変化するファイバグレ
ーティングの形成部6を設ける。センタコア3の周りに
屈折率がクラッド5よりも小さいサイドコア4を設ける
ことにより、光がコア2に閉じこもって伝搬しようとす
る伝搬モードを小さくする。ファイバグレーティング形
成部6によって反射した光がクラッド5側に染み出して
伝搬する反射モードと前記伝搬モードの結合により生じ
るクラッドモード結合ロスを抑制する。
Description
送される光から光透過阻止波長帯以外の波長の光を選択
的に透過させるフィルタ等として用いられる光ファイバ
型光部品に関するものである。
飛躍的に増大する傾向にあり、光ファイバ通信における
高速大容量化は、必要かつ、不可欠の課題となってお
り、近年、この高速大容量化へのアプローチとして、異
なる複数の波長の信号光を1本の光ファイバで伝送する
波長多重伝送方式の検討が行なわれている。
おいて、例えば波長多重伝送される光から予め定められ
た波長帯の光を選択的に反射させることにより、この反
射光をシステム監視用の光として用いることが検討され
ており、前記波長帯の光を選択的に反射させ、この波長
帯以外の波長の光を選択的に透過させるフィルタとし
て、シングルモード光ファイバにファイバグレーティン
グの形成部を設けた光ファイバ型光部品が注目されてい
る。なお、このような光ファイバ型光部品は、前記光フ
ァイバ通信における高速大容量化実現のための分散補償
技術の一手段としても注目されている。
周りをクラッドで覆って形成される光ファイバであっ
て、例えば図5の特性線aに示すように、光ファイバ径
方向に対する屈折率分布(横断面上の屈折率分布)がス
テップインデックス型を有している。すなわち、コアの
屈折率が光ファイバ径方向で一定であり、クラッドの屈
折率も前記光ファイバ径方向で一定であり、コアの純石
英に対する比屈折率差ΔCが、クラッドの純石英に対す
る比屈折率差Δ3よりも大きく形成され、コアとクラッ
ドとの境界部において屈折率が大きく(急激に)変化する
屈折率分布を有している。
iO2)の屈折率をnO 、クラッドの屈折率をnL 、コア
の屈折率をnc としたとき、コアの純石英との比屈折率
差ΔC、すなわち、純石英に対するコアの比屈折率差Δ
Cは、次の(1)式により定義している。
3は、次式(2)により定義している。
が0のシングルモード光ファイバ(クラッドが純石英に
より形成されており、nL=n0である)の屈折率分布
が、純石英に対する比屈折率差Δの値により示されてい
る。
えばゲルマニウム(Ge)ドープ石英(SiO2)ガラスに
強い紫外光を照射することによって、ゲルマニウムの屈
折率を高め、それにより、光ファイバのコア内に周期的
な屈折率変化を起こさせ、回折格子を形成したものであ
り、ファイバグレーティングなどのグレーティング形成
方法としては、例えば、フェイズマスク法やボログラフ
ィック法が知られている。
の上から紫外光を照射し、回折光を光ファイバなどの光
導波路に照射してグレーティングを形成する方法であ
り、例えば、文献Appl.Phys.Lett.,6
2,1035.1933等に示されている。また、前記
ボログラフィック法は、コヒーレントな2つの紫外光を
干渉させて生じた干渉光を光ファイバなどの光導波路に
照射してグレーティングを形成する方法である。
重伝送システムにおいて、例えば波長約1550nm帯
の光を信号光として使用し、波長約1650nm帯の光
を前記監視光として用いることが検討されている。
量化の実現の手段として、システムにおける波長多重化
と平行し、エルビウム添加ファイバを用いることにより
光信号を光のまま増幅できる光ファイバアンプタイプの
光増幅器の開発が盛んに行なわれ、エルビウム添加ファ
イバの利得領域が波長約1550nmであることから、
波長多重伝送システムにおいて、波長約1550nm帯
の信号光を信号光として利用し、この信号光波長以外の
波長であってシングルモード光ファイバのカットオフ波
長(約1700nm)以内の波長の光を監視光と用いる
ようにしているからである。なお、波長約1700nm
を越えると、伝搬光にロスが生じるため、監視光として
は使用できない。
ード光ファイバにファイバグレーティングの形成部を設
けた光ファイバ型光部品において、波長約1650nm
の光を選択的に反射させる場合、例えば、図6の(a)
に示すように、波長約1520nm帯において、透過損
失が大きい領域が存在する。
は、前記ファイバグレーティングによる光の反射領域
(光透過阻止波長帯)に応じて生じるものであり、クラ
ッドモード結合ロスに起因すると考えられている。クラ
ッドモード結合ロスは、光ファイバのファイバグレーテ
ィング形成部において、光がコアに閉じこもって伝搬し
ようとする伝搬モードと、ファイバグレーティングによ
って反射した光がクラッド側に染み出して伝搬する反射
モードとが結合することにより生じるロスである。
nm帯のファイバグレーティングの形成部を有する光フ
ァイバ型光部品を、前記波長多重伝送システムにおける
監視光反射用(監視光除去用)のフィルタとして用いる
と、前記監視光を反射できるものの、波長約1550n
m帯の信号光の強度レベルも低下してしまうといった問
題が生じた。
になされたものであり、その目的は、ファイバグレーテ
ィングの形成部を有する光ファイバにおいて生じるクラ
ッドモード結合ロスを抑制することが可能で、例えば波
長約1650nm帯の光を確実に反射できると共に、波
長約1520nm帯における光透過損失を抑制すること
ができる高アイソレーションの光ファイバ型光部品を提
供することにある。
に、本発明は次のような構成をもって課題を解決するた
めの手段としている。すなわち、本第1の発明は、セン
タコアの外周側をサイドコアで覆い、該サイドコアの外
周側をクラッドで覆って形成され、前記センタコアの純
石英との比屈折率差をΔ1とし、前記サイドコアの純石
英との比屈折率差をΔ2とし、前記クラッドの純石英と
の比屈折率差をΔ3としたときに、Δ1>Δ3>Δ2と
成しているW型の屈折率分布を有する光ファイバに、前
記センタコアの屈折率が光ファイバ光軸方向に周期的に
変化するファイバグレーティングの形成部を設けた構成
を持って課題を解決する手段としている。
の構成に加え、前記センタコアの純石英との比屈折率差
Δ1の絶対値をサイドコアの純石英との比屈折率差Δ2
の絶対値よりも大きく形成した構成を持って課題を解決
する手段としている。
は第2の発明の構成に加え、前記センタコアの純石英と
の比屈折率差Δ1は0.5%を越える値とした構成を持
って課題を解決する手段としている。
は第2または第2の発明の構成に加え、前記ファイバグ
レーティングの形成部はフェイズマスクをかけて1回目
の紫外光照射を施した後、前記フェイズマスクを除いて
2回目の紫外光照射を施して形成した構成を持って課題
を解決する手段としている。
第4のいずれか一つに記載の発明の構成に加え、前記フ
ァイバグレーティングの形成部による光透過阻止波長帯
が約1640nm〜約1660nmと成し、光ファイバ
の使用波長帯が約1550nm帯である構成を持って課
題を解決する手段としている。
は、センタコアとサイドコアからなるコアの外周側をク
ラッドで覆い、センタコアの純石英との比屈折率差をΔ
1とし、前記サイドコアの純石英との比屈折率差をΔ2
とし、前記クラッドの純石英との比屈折率差をΔ3とし
たときに、Δ1>Δ3>Δ2と成しているW型の屈折率
分布を有する光ファイバ(以下、W型光ファイバと称す
る)であるために、サイドコアを設けたことによって、
コアを伝搬する光がクラッド側に染み出し、本発明の光
ファイバ型光部品は、図5の特性線aに示したような屈
折率分布を有するシングルモード光ファイバに比べてコ
アを伝搬する光の伝搬モードが小さくなると推定され
る。
光ファイバのファイバグレーティング形成部において、
光がコアに閉じこもって伝搬しようとする伝搬モード
と、ファイバグレーティングによって反射した光がクラ
ッド側に染み出して伝搬する反射モードとが結合するこ
とにより生じるロスであるため、本発明のように、前記
伝搬モードが小さいと、クラッドモード結合ロスが小さ
くなると考えられる。
ーティングの形成部を設けた本発明の光ファイバ型光部
品は、前記クラッドモード結合ロスを抑制することが可
能となり、例えば、ファイバグレーティングの形成部に
よる光透過阻止波長帯を約1640nm〜約1660n
mとしたときに、波長約1520nm帯に大きい透過損
失領域が生じることが抑制され、使用波長約1550n
m帯での波長多重伝送を行なったときに信号光の強度レ
ベルが低下することはなく、上記課題が解決される。
に基づいて説明する。なお、本実施形態例の説明におい
て、従来例と同一名称部分には同一符号を付し、その重
複説明は省略する。図1の(a)には、本発明に係る光
ファイバ型光部品の一実施形態例の屈折率分布が示され
ており、同図の(b)には、この光ファイバ型光部品の
斜視構成が模式的に示されている。
例の光ファイバ型光部品は、センタコア3の外周側をサ
イドコア4で覆い、サイドコア4の外周側をクラッド5
で覆って形成され、センタコア3の純石英との比屈折率
差をΔ1とし、サイドコア4の純石英との比屈折率差を
Δ2とし、クラッド5の純石英との比屈折率差をΔ3と
したときに、Δ1>Δ3>Δ2と成しているW型の屈折
率分布を有する光ファイバ(W型光ファイバ)1に、セ
ンタコア3の屈折率が光ファイバ光軸Zに対して周期的
に変化するファイバグレーティングの形成部6を設けて
構成されている。具体的には、前記Δ1=1.5%、Δ
2=−0.35%、Δ3=0である。
折率をnCC 、サイドコア4の屈折率をns 、としたと
き、センタコア3の純石英との比屈折率差Δ1、すなわ
ち、純石英に対するセンタコア3の比屈折率差Δ1は、
次式(3)により定義している。
差Δ2(サイドコア層4の純石英に対する比屈折率差Δ
2)は、次式(4)により定義している。
は純石英(SiO2)により形成されており、センタコ
ア3は、屈折率を高めるゲルマニウムをドープした石英
により形成されており、サイドコア4は、屈折率を低く
するフッ素をドープした石英により形成されている。セ
ンタコア3の純石英に対する比屈折率差Δ1の絶対値
(1.5)はサイドコア4の純石英に対する比屈折率差
Δ2の絶対値(0.35)よりも大きく形成されてい
る。
ーティングの形成部6による光透過阻止波長帯を約16
40nm〜約1660nmと成し、光ファイバの使用波
長帯を約1550nm帯としており、ファイバグレーテ
ィングの形成部6は、フェイズマスクをかけて1回目の
紫外光照射を施した後、前記フェイズマスクを除いて2
回目の紫外光照射を施して形成されている。
方法は、具体的には以下のような方法である。例えば、
まず、光ファイバ1の被覆を除去して裸光ファイバを予
め定められた長さ露出させ、露出した裸光ファイバの部
分に、光誘起特性の向上を目的とした加圧水素処理を行
なう。次に、図4に示すように、フェイズマスク13を
通して紫外光のレーザ光Lを照射することにより、1回
目の紫外光照射を施してセンタコア3内のゲルマニウム
の屈折率を高め、次に、フェイズマスク13を外し、前
記レーザ光を照射して2回目の紫外光照射を施して、さ
らにセンタコア3内のゲルマニウムの屈折率を高め、フ
ァイバグレーティングを形成し、光ファイバ型光部品と
する。
m、出力350mJのエキシマレーザ等を用いて数分〜
数十分照射する。また、フェイズマスク13は、例え
ば、マスクピッチ1138μm、0次の回折光透過率1
%、1次の回折光透過率40%のものを用いると、ファ
イバグレーティングが非常に的確に形成される。
る光ファイバにおいて生じるクラッドモード結合ロス
は、前記の如く、光ファイバのファイバグレーティング
形成部において、光がコア2に閉じこもって伝搬しよう
とする伝搬モードと、ファイバグレーティングによって
反射した光がクラッド5側に染み出して伝搬する反射モ
ードとが結合することにより生じるロスであるため、本
発明者は、前記伝搬モードと反射モードとの結合を減少
させるために、前記伝搬モードを小さくすることを考
え、この伝搬モードを小さくするために、光ファイバの
屈折率分布に着目した。
に対する比屈折率差Δ2がクラッド5の純石英に対する
比屈折率差Δ3よりも小さいために、コア2に光が閉じ
こもって伝搬しようとする伝搬モードが小さくなると考
えられる。そこで、本発明者は、ファイバグレーティン
グの形成部6を設ける光ファイバ1に屈折率の小さいサ
イドコア4を設け、光ファイバ1の屈折率分布を前記の
ようなW型の屈折率分布とし、W型光ファイバにファイ
バグレーティングを設けて本実施形態例の光ファイバ型
光部品を形成した。
めに、W型光ファイバ1におけるセンタコア3の純石英
に対する比屈折率差Δ1とサイドコア4の純石英に対す
る比屈折率差Δ2の値をパラメータとして、比屈折率差
Δ1、Δ2の異なる様々なW型光ファイバ1を形成し、
ファイバグレーティングの形成部6による光透過阻止波
長帯を約1640nm〜約1660nmとして、この光
ファイバにおける透過損失の波長依存性を検討した。
レーティングの形成部6を設けた光ファイバ型光部品
は、比屈折率差Δ1、Δ2の値によらず、シングルモー
ド光ファイバにファイバグレーティングの形成部を設け
た光ファイバ型光ファイバに比べてクラッドモード結合
ロスを抑制でき、波長約1520nm帯の透過損失を抑
制できることが確認され、特に、比屈折率差Δ1の絶対
値が比屈折率差Δ2の絶対値よりも大きいW型光ファイ
バ1においては、その抑制効果が大きく、その効果を非
常に再現性よく発揮できることが確認された。また、比
屈折率差Δ1の絶対値を比屈折率差Δ2の絶対値よりも
大きくすると、光ファイバ1の光伝搬特性などの光ファ
イバ特性もよくなる。
折率差Δ1の値をパラメータとし、Δ1の異なる様々な
W型光ファイバ1を形成し、ファイバグレーティングの
形成部6による光透過阻止波長帯を約1640nm〜約
1660nmとして、この光ファイバ1における波長約
1550nmの透過損失を測定することにより、前記ク
ラッドモード結合ロスの抑制効果を検討した。
明らかなように、比屈折率差Δ1が0.5%を越える値
のときに透過損失が小さくなり、さらに、比屈折率差Δ
1が約0.8%以上となるとより一層透過損失が小さく
なり、さらに、比屈折率差Δ1が約1.3%以上となる
とより一層透過損失が小さくなり、クラッドモード結合
ロスを著しく低減できることが分かった。そこで、本実
施形態例では、センタコア3の純石英に対する比屈折率
差Δ1を、0.5%を越える値である1.5%とした。
ティングを形成し、ファイバグレーティングの形成部6
による光透過阻止波長帯の光透過損失を、例えば40d
Bといった予め定められた値にするのに要する時間は、
比屈折率差Δ1が小さいW型光ファイバ1に比べて比屈
折率差Δ1が大きいW型光ファイバ1の方が短い。この
時間とクラッドモード結合ロスの抑制効果の大きさとは
比例関係があることから、本発明者は、比屈折率差Δ1
が大きいW型光ファイバ1ほどクラッドモード結合ロス
を効果的に抑制し、例えば、光透過阻止波長約1640
nm〜約1660nmとしたときに、波長1520nm
の光透過損失を非常によく抑制することができると推定
している。
結果に基づき、Δ1=1.5%、Δ2=−0.35%の
W型の光ファイバ1にファイバグレーティングの形成部
6を設けて形成したために、クラッドモード結合ロスに
よる光透過損失を非常によく抑制することが可能とな
り、光透過阻止波長約1640nm〜約1660nmに
応じて生じる、波長約1520nm帯の光透過損失を殆
どなくすことができる。
ティングの形成部6は、フェイズマスク13をかけて1
回目の紫外光照射を施した後、フェイズマスク13を除
いて2回目の紫外光照射を施して形成しており、このよ
うに、フェイズマスク13を設けて行なう1回目の紫外
光照射とフェイズマスク13を除いて行なう2回目の紫
外光照射を行なってファイバグレーティングを形成する
ことにより、本発明者が特願平09―301934号に
以前に提案しているグレーティング型光部品の製造方法
(未だ公開にはなっていない)と同様に、より一層クラ
ッドモード結合ロスを抑制することができる。
イバ型光部品における光透過損失の波長依存性が、波長
1450nm〜波長1700nmの範囲について示され
ており、同図の(b)には、前記波長依存性が、波長1
630nm〜波長1670nmの範囲について示されて
いる。また、比較のために、図6の(a)には、従来の
シングルモード光ファイバを用いた光ファイバ型光部品
おける光透過損失の波長依存性が、波長1450nm〜
波長1700nmの範囲について示されており、同図の
(b)には、前記波長依存性が、波長1630nm〜波
長1670nmの範囲について示されている。
ファイバ型光部品において問題であった波長約1520
nm帯における光透過損失の大きい領域が、本実施形態
例においては殆どなく、本実施形態例では、前記クラッ
ドモード結合ロスに起因する光透過損失を殆ど抑制でき
ることが確認できた。また、波長約1640nm〜波長
約1660nmにおける光透過損失は、本実施形態例の
光ファイバ型光部品のほうが従来の光ファイバ型光部品
よりも大きく、したがって、本実施形態例の光ファイバ
型光部品は、この波長帯の光を従来の光ファイバ型光部
品よりも確実に透過阻止することができることが確認さ
れ、非常に高アイソレーションの光部品であることが確
認された。
グレーティングの形成部6による光透過阻止波長帯を約
1640nm〜約1660nmとし、波長約1520n
m帯にクラッドモード結合ロスによる透過損失領域が生
じることを抑制できるために、使用波長約1550nm
帯での波長多重伝送を行なったときに信号光の強度レベ
ルを低下させることなく、前記光透過阻止波長帯の光を
反射することができる。そのため、例えばエルビウム添
加ファイバを用いた使用波長約1550nm帯の波長多
重伝送システムに本実施形態例を適用することにより、
信号光の強度レベルを低減させることなく、監視光を確
実に反射することが可能となり、非常に優れた波長多重
伝送システムの構築を図ることができる。
ることはなく様々な実施の態様を採り得る。例えば、上
記実施形態例では、センタコア3の純石英に対する比屈
折率差Δ1は、1.5%としたが、比屈折率差Δ1の値
は特に限定されるものではなく、適宜設定されるもので
ある。ただし、比屈折率差Δ1を、0.5%を越える値
とすることにより、クラッドモード結合ロス抑制効果を
非常によく発揮することが可能となり、比屈折率差Δを
大きくすることにより、クラッドモード結合ロス抑制効
果をより一層よく発揮することができる。なお、比屈折
率差Δ1の上限は、製造上可能な最高値(現状では例え
ば2.8%であるが、技術の進歩によりさらに大きくな
る可能性がある)とすることができる。
の純石英に対する比屈折率差Δ2を−0.35%とした
が、サイドコア4の比屈折率差Δ2の値は特に限定され
るものではなく、適宜設定されるものである。ただし、
比屈折率差Δ1の絶対値を比屈折率差Δ2の絶対値より
も大きくすれば、クラッドモード結合ロス抑制や、その
他の光ファイバ特性をよくすることができるために、比
屈折率差Δ1の絶対値を比屈折率差Δ2の絶対値よりも
大きくすることが好ましい。
レーティングの形成部6は、フェイズマスク13をかけ
て1回目の紫外光照射を施した後、フェイズマスク13
を除いて2回目の紫外光照射を施して形成したが、ファ
イバグレーティングの形成部6は、このような2回の紫
外光照射により形成するとは限らず。従来のフェイズマ
スク法のように、1回の紫外光照射により形成してもよ
いし、フェイズマスク法の代わりに、ホログラフィック
法により形成してもよい。
レーティングの形成部6による光透過阻止波長帯を約1
640nm〜約1660nmと成し、光ファイバの使用
波長帯を約1550nm帯としたが、ファイバグレーテ
ィングの形成部6による光透過阻止波長帯や光ファイバ
の使用波長帯は特に限定されるものではなく、適宜設定
されるものである。
3を、ゲルマニウムをドープした石英により形成し、サ
イドコア4を、フッ素をドープした石英により形成し、
クラッド5を純石英により形成したが、センタコア3や
サイドコア4、クラッド5を形成する材質は特に限定さ
れるものではなく、適宜設定されるものであり、例え
ば、センタコア3を、リン(P)やボロン(B)やアル
ミニウム(Al)等の屈折率を高めるドーパントをドー
プした石英により形成してもよい。なお、この場合、屈
折率を高めるドーパントの屈折率を紫外光照射などによ
ってさらに高めることによりファイバグレーティングが
形成される。
コアとサイドコアからなるコアの周りをクラッドで覆
い、センタコアの純石英との比屈折率差をΔ1とし、前
記サイドコアの純石英との比屈折率差をΔ2とし、前記
クラッドの純石英との比屈折率差をΔ3としたときに、
Δ1>Δ3>Δ2と成しているW型の屈折率分布を有す
る光ファイバとしたものであるから、サイドコアを設け
たことにより、コアを伝搬する光がクラッド側に染み出
し、シングルモード光ファイバに比べてコアを伝搬する
光の伝搬モードを小さくすることが可能となると考えら
れ、光ファイバのファイバグレーティング形成部におい
て、光がコアに閉じこもって伝搬しようとする伝搬モー
ドと、ファイバグレーティングによって反射した光がク
ラッド側に染み出して伝搬する反射モードとが結合する
ことにより生じるクラッドモード結合ロスを低減させる
ことができる。
比屈折率差Δ2の絶対値よりも大きく形成したものにあ
っては、クラッドモード結合ロスの抑制効果が大きく、
その効果を非常に再現性よく発揮できるし、光伝搬特性
などの光ファイバ特性も良くすることができる。
折率差Δ1は0.5%を越える値とした本発明によれ
ば、ファイバグレーティングによる光透過阻止波長領域
が予め定められた光透過阻止機能を有するものとなるよ
うにする時間が短くてすむし、クラッドモード結合ロス
は、この時間と比例関係にあることから、クラッドモー
ド結合ロスをより一層効果的に抑制することができる。
成部はフェイズマスクをかけて1回目の紫外光照射を施
した後、前記フェイズマスクを除いて2回目の紫外光照
射を施して形成した構成のものにあっては、前記クラッ
ドモード結合ロスをより一層確実に抑制することができ
る。
成部による光透過阻止波長帯を約1640nm〜約16
60nmと成し、光ファイバの使用波長帯を約1550
nm帯とした本発明によれば、シングルモード光ファイ
バにファイバグレーティングの形成部を設けた従来の光
ファイバ型光部品と異なり、波長約1520nm帯に大
きい透過損失領域が生じることを抑制できるために、使
用波長約1550nm帯での波長多重伝送を行なったと
きに信号光の強度レベルが低下することはなく、信号光
強度レベルを高く保持することが可能で、かつ、例え
ば、光透過阻止波長帯の光を監視光として用いることに
よって監視光を確実に透過阻止できるようになり、優れ
た波長多重伝送システムの構築を図ることができる。
例の構成を、屈折率分布(a)と、斜視構成の模式図に
より示す要部構成図である。
すグラフである。
に対する比屈折率差Δ1と光透過損失との関係を示すグ
ラフである。
部形成方法を断面図により示す説明図である。
を光ファイバの径方向に対して示すグラフである。
ィングの形成部を設けて形成した従来の光ファイバ型光
部品における光透過損失の波長依存性を示すグラフであ
る。
3を、ゲルマニウムをドープした石英により形成し、サ
イドコア4を、フッ素をドープした石英により形成し、
クラッド5を純石英により形成したが、センタコア3や
サイドコア4、クラッド5を形成する材質は特に限定さ
れるものではなく、適宜設定されるものであり、例え
ば、センタコア3を、リン(P)やアルミニウム(A
l)等の屈折率を高めるドーパントをドープした石英に
より形成してもよい。なお、この場合、屈折率を高める
ドーパントの屈折率を紫外光照射などによってさらに高
めることによりファイバグレーティングが形成される。
Claims (5)
- 【請求項1】 センタコアの外周側をサイドコアで覆
い、該サイドコアの外周側をクラッドで覆って形成さ
れ、前記センタコアの純石英との比屈折率差をΔ1と
し、前記サイドコアの純石英との比屈折率差をΔ2と
し、前記クラッドの純石英との比屈折率差をΔ3とした
ときに、Δ1>Δ3>Δ2と成しているW型の屈折率分
布を有する光ファイバに、前記センタコアの屈折率が光
ファイバ光軸方向に周期的に変化するファイバグレーテ
ィングの形成部を設けたことを特徴とする光ファイバ型
光部品。 - 【請求項2】 センタコアの純石英との比屈折率差Δ1
の絶対値をサイドコアの純石英との比屈折率差Δ2の絶
対値よりも大きく形成したことを特徴とする請求項1記
載の光ファイバ型光部品。 - 【請求項3】 センタコアの純石英との比屈折率差Δ1
は0.5%を越える値としたことを特徴とする請求項1
又は請求項2記載の光ファイバ型光部品。 - 【請求項4】 ファイバグレーティングの形成部はフェ
イズマスクをかけて1回目の紫外光照射を施した後、前
記フェイズマスクを除いて2回目の紫外光照射を施して
形成したことを特徴とする請求項1又は請求項2又は請
求項3記載の光ファイバ型光部品。 - 【請求項5】 ファイバグレーティングの形成部による
光透過阻止波長帯が約1640nm〜約1660nmと
成し、光ファイバの使用波長帯が約1550nm帯であ
ることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一
つに記載の光ファイバ型光部品。
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---|---|---|---|
JP14663098A JP3717307B2 (ja) | 1998-05-12 | 1998-05-12 | 光ファイバ型光部品 |
US09/184,968 US6289154B1 (en) | 1997-11-04 | 1998-11-03 | Grating-type optical component and method of manufacturing the same |
EP98309015A EP0915354A3 (en) | 1997-11-04 | 1998-11-04 | Grating-type optical component and method of manufacturing the same |
CA002252992A CA2252992A1 (en) | 1997-11-04 | 1998-11-04 | Grating-type optical component and method of manufacturing the same |
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JP3717307B2 JP3717307B2 (ja) | 2005-11-16 |
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ID=15412088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006109426A1 (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 光ファイバ |
JP2006293258A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-10-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ファイバ |
JP2022078105A (ja) * | 2016-11-30 | 2022-05-24 | ヴァイアヴィ・ソリューションズ・インコーポレイテッド | シリコンゲルマニウムをベースとする光学フィルタ |
-
1998
- 1998-05-12 JP JP14663098A patent/JP3717307B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006109426A1 (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 光ファイバ |
JP2006293258A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-10-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ファイバ |
JP2022078105A (ja) * | 2016-11-30 | 2022-05-24 | ヴァイアヴィ・ソリューションズ・インコーポレイテッド | シリコンゲルマニウムをベースとする光学フィルタ |
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Publication number | Publication date |
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JP3717307B2 (ja) | 2005-11-16 |
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