JPH11322823A - スチレン系重合体製造用触媒の製造方法及びスチレン系重合体の製造方法 - Google Patents
スチレン系重合体製造用触媒の製造方法及びスチレン系重合体の製造方法Info
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- JPH11322823A JPH11322823A JP12700998A JP12700998A JPH11322823A JP H11322823 A JPH11322823 A JP H11322823A JP 12700998 A JP12700998 A JP 12700998A JP 12700998 A JP12700998 A JP 12700998A JP H11322823 A JPH11322823 A JP H11322823A
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スチレン系重合体、特にシンジオタクチック
ポリスチレンの製造の用に供される高活性な触媒を製造
する方法の開発。 【解決手段】（Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有化
合物及び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の錯
体を形成しうる化合物、さらに必要に応じて、（Ｄ）ア
ルキル化剤物、及び（Ｃ）粘土，粘土鉱物もしくはイオ
ン交換性層状化合物を用いて触媒を製造する方法におい
て、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、さらには（Ｄ）成
分を接触させた後、（Ｃ）成分を添加する。
ポリスチレンの製造の用に供される高活性な触媒を製造
する方法の開発。 【解決手段】（Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有化
合物及び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の錯
体を形成しうる化合物、さらに必要に応じて、（Ｄ）ア
ルキル化剤物、及び（Ｃ）粘土，粘土鉱物もしくはイオ
ン交換性層状化合物を用いて触媒を製造する方法におい
て、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、さらには（Ｄ）成
分を接触させた後、（Ｃ）成分を添加する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スチレン系重合体
製造用触媒の製造方法、詳しくは主としてシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体製造用触媒の製造
方法及びスチレン系重合体の製造方法に関する。
製造用触媒の製造方法、詳しくは主としてシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体製造用触媒の製造
方法及びスチレン系重合体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、π配位子を有し、該π配位子と中
心金属元素とが任意の基を介して結合してなる遷移金属
化合物を触媒成分とするスチレン系重合体製造用触媒、
いわゆるメタロセン触媒が開発され、オレフィン系重合
体やスチレン系重合体の製造に供されている。
心金属元素とが任意の基を介して結合してなる遷移金属
化合物を触媒成分とするスチレン系重合体製造用触媒、
いわゆるメタロセン触媒が開発され、オレフィン系重合
体やスチレン系重合体の製造に供されている。
【０００３】しかしながら、このような触媒を用いて十
分な活性を得るためには、アルミノキサン等の多量の助
触媒を必要とすることから、全触媒コストとしては高価
なものになり、また、生成ポリマー中に助触媒に起因す
る触媒残渣が存在し、ポリマーの着色等の原因にもなる
という問題があった。かかる状況に鑑み、助触媒の使用
量を減らすべく、粘土や粘土鉱物等を代わりに用いる技
術が提案されている（特開平０５−３０１９１７号公
報，特開平０６−１３６０４７号公報等）。
分な活性を得るためには、アルミノキサン等の多量の助
触媒を必要とすることから、全触媒コストとしては高価
なものになり、また、生成ポリマー中に助触媒に起因す
る触媒残渣が存在し、ポリマーの着色等の原因にもなる
という問題があった。かかる状況に鑑み、助触媒の使用
量を減らすべく、粘土や粘土鉱物等を代わりに用いる技
術が提案されている（特開平０５−３０１９１７号公
報，特開平０６−１３６０４７号公報等）。
【０００４】しかし、これらにおいても、十分な高活性
のものが得られていないのが現状である。
のものが得られていないのが現状である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
下で、スチレン系重合体、詳しくは主としてシンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体の製造の用に供
される高活性な触媒の製造方法及びスチレン系重合体の
製造方法を提供することを目的とする。
下で、スチレン系重合体、詳しくは主としてシンジオタ
クチック構造を有するスチレン系重合体の製造の用に供
される高活性な触媒の製造方法及びスチレン系重合体の
製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、スチレン系重
合体製造用触媒を調製し、しかる後に粘土，粘土鉱物も
しくはイオン交換性層状化合物を添加すると、粘土，粘
土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物の存在下にスチ
レン系重合体製造用触媒を調製する場合に比べ、活性が
向上することを見出し、本発明を完成させるに至ったも
のである。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、スチレン系重
合体製造用触媒を調製し、しかる後に粘土，粘土鉱物も
しくはイオン交換性層状化合物を添加すると、粘土，粘
土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物の存在下にスチ
レン系重合体製造用触媒を調製する場合に比べ、活性が
向上することを見出し、本発明を完成させるに至ったも
のである。
【０００７】すなわち、本発明は、以下を提供するもの
である。 （１）（Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有化合物及
び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形
成しうる化合物、及び（Ｃ）粘土，粘土鉱物もしくはイ
オン交換性層状化合物を用いてスチレン系重合体製造用
触媒を製造する方法において、上記（Ａ）成分及び
（Ｂ）成分を接触させた後、（Ｃ）成分を添加すること
を特徴とするスチレン系重合体製造用触媒の製造方法。 （２）（Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有化合物及
び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形
成しうる化合物、（Ｄ）アルキル化剤、及び（Ｃ）粘
土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物を用いて
スチレン系重合体製造用触媒を製造する方法において、
上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｄ）成分を接触させ
た後、（Ｃ）成分を添加することを特徴とするスチレン
系重合体製造用触媒の製造方法。 （３）上記（１）又は（２）に記載の（Ａ）遷移金属化
合物が、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される請求項
１又は２に記載のスチレン系重合体製造用触媒の製造方
法。
である。 （１）（Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有化合物及
び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形
成しうる化合物、及び（Ｃ）粘土，粘土鉱物もしくはイ
オン交換性層状化合物を用いてスチレン系重合体製造用
触媒を製造する方法において、上記（Ａ）成分及び
（Ｂ）成分を接触させた後、（Ｃ）成分を添加すること
を特徴とするスチレン系重合体製造用触媒の製造方法。 （２）（Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有化合物及
び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形
成しうる化合物、（Ｄ）アルキル化剤、及び（Ｃ）粘
土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物を用いて
スチレン系重合体製造用触媒を製造する方法において、
上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｄ）成分を接触させ
た後、（Ｃ）成分を添加することを特徴とするスチレン
系重合体製造用触媒の製造方法。 （３）上記（１）又は（２）に記載の（Ａ）遷移金属化
合物が、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される請求項
１又は２に記載のスチレン系重合体製造用触媒の製造方
法。
【０００８】ＺＭＸa-1 Ｌb ・・・（Ｉ） ＭＸa Ｌb ・・・（II） ［式中、Ｚはπ配位子で、シクロペンタジエニル基，置
換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデ
ニル基，フルオレニル基，置換フルオレニル基を示し、
Ｍは遷移金属、Ｘはσ配位子を示す。複数のＸは互いに
同一でも異なっていてもよく、また、互いに任意の基を
会して結合していてもよい。Ｌはルイス塩基、ａはＭの
価数、ｂは０、１又は２を示し、Ｌが複数の場合、各Ｌ
は互いに同一でも異なっていてもよい。］ （４）上記（１）〜（３）に記載の方法によって得たス
チレン系重合体製造用触媒を用いることを特徴とするス
チレン系重合体の製造方法。 （５）スチレン系重合体が、主としてシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン系重合体である上記（４）に記
載のスチレン系重合体の製造方法。
換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデ
ニル基，フルオレニル基，置換フルオレニル基を示し、
Ｍは遷移金属、Ｘはσ配位子を示す。複数のＸは互いに
同一でも異なっていてもよく、また、互いに任意の基を
会して結合していてもよい。Ｌはルイス塩基、ａはＭの
価数、ｂは０、１又は２を示し、Ｌが複数の場合、各Ｌ
は互いに同一でも異なっていてもよい。］ （４）上記（１）〜（３）に記載の方法によって得たス
チレン系重合体製造用触媒を用いることを特徴とするス
チレン系重合体の製造方法。 （５）スチレン系重合体が、主としてシンジオタクチッ
ク構造を有するスチレン系重合体である上記（４）に記
載のスチレン系重合体の製造方法。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて詳しく説明する。 １．スチレン系重合体製造用触媒の各成分 （Ａ）遷移金属化合物 特に制限はなく、公知のものを用いることができるが、
好ましくは、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される遷
移金属化合物が用いられる。
いて詳しく説明する。 １．スチレン系重合体製造用触媒の各成分 （Ａ）遷移金属化合物 特に制限はなく、公知のものを用いることができるが、
好ましくは、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される遷
移金属化合物が用いられる。
【００１０】ＺＭＸa-1 Ｌb ・・・（Ｉ） ＭＸa Ｌb ・・・（II） ［式中、Ｚはπ配位子で、シクロペンタジエニル基，置
換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデ
ニル基，フルオレニル基，置換フルオレニル基を示し、
Ｍは遷移金属、Ｘはσ配位子を示す。複数のＸは互いに
同一でも異なっていてもよく、また、互いに任意の基を
会して結合していてもよい。Ｌはルイス塩基、ａはＭの
価数、ｂは０、１又は２を示し、Ｌが複数の場合、各Ｌ
は互いに同一でも異なっていてもよい。］ 中でも、上記一般式（Ｉ）中のＺが、下記一般式（III)
〜（IX）で表せられる遷移金属化合物が好ましい。
換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデ
ニル基，フルオレニル基，置換フルオレニル基を示し、
Ｍは遷移金属、Ｘはσ配位子を示す。複数のＸは互いに
同一でも異なっていてもよく、また、互いに任意の基を
会して結合していてもよい。Ｌはルイス塩基、ａはＭの
価数、ｂは０、１又は２を示し、Ｌが複数の場合、各Ｌ
は互いに同一でも異なっていてもよい。］ 中でも、上記一般式（Ｉ）中のＺが、下記一般式（III)
〜（IX）で表せられる遷移金属化合物が好ましい。
【００１１】
【化１】
【００１２】[式中，Ａは１３、１４、１５又は１６族
の元素を示し、Ａは、それぞれ相互に同一であっても異
なっていてもよい。Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、炭
素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜３０の芳
香族炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、炭素
数６〜３０のアリーロキシ基、炭素数１〜３０のチオア
ルコキシ基，炭素数６〜３０のチオアリーロキシ基，ア
ミノ基、アミド基、カルボキシル基、炭素数３〜３０の
アルキルシリル基、アルキルシリルアルキル基を示し、
Ｒは、それぞれ相互に同一であっても異なっていてもよ
く、また、必要に応じて結合し、環構造を形成してもよ
い。ａは０、１又は２を示し、ｎ及びｍは、1 以上の整
数を示す。] このＲの具体例としては，例えば、以下のものが挙げら
れる。
の元素を示し、Ａは、それぞれ相互に同一であっても異
なっていてもよい。Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、炭
素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜３０の芳
香族炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、炭素
数６〜３０のアリーロキシ基、炭素数１〜３０のチオア
ルコキシ基，炭素数６〜３０のチオアリーロキシ基，ア
ミノ基、アミド基、カルボキシル基、炭素数３〜３０の
アルキルシリル基、アルキルシリルアルキル基を示し、
Ｒは、それぞれ相互に同一であっても異なっていてもよ
く、また、必要に応じて結合し、環構造を形成してもよ
い。ａは０、１又は２を示し、ｎ及びｍは、1 以上の整
数を示す。] このＲの具体例としては，例えば、以下のものが挙げら
れる。
【００１３】なお、インデニル誘導体及びフルオレニル
誘導体について、以下に示す置換基の位置番号を用いて
いる。
誘導体について、以下に示す置換基の位置番号を用いて
いる。
【００１４】
【化２】
【００１５】シクロペンタジエニル基、メチルシクロペ
ンタジエニル基、１，２−ジメチルシクロペンタジエニ
ル基、１，３−ジメチルシクロペンタジエニル基、１，
２，３−トリメチルシクロペンタジエニル基、１，３，
４−トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチル
シクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル基、エチルシクロペンタジエニル基、１，２−ジ
エチルシクロペンタジエニル基、１，３−ジエチルシク
ロペンタジエニル基、１，２，３−トリエチルシクロペ
ンタジエニル基、１，３，４−トリエチルシクロペンタ
ジエニル基、テトラエチルシクロペンタジエニル基、ペ
ンタエチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、１
−メチルインデニル基、１，２―ジメチルインデニル
基、１，３―ジメチルインデニル基、１，２，３―トリ
メチルインデニル基、２−メチルインデニル基、１−エ
チルインデニル基、１−エチル−２―メチルインデニル
基、１−エチル−３―メチルインデニル基、１−エチル
−２，３―ジメチルインデニル基、１，２−ジエチルイ
ンデニル基、１，３−ジエチルインデニル基、１，２，
３−トリエチルインデニル基、２−エチルインデニル
基、１―メチル−２−エチルインデニル基、１，３−ジ
メチル−２―エチルインデニル基、４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニル基、１−メチル−４，５，６，７
―テトラヒドロインデニル基、１，２−ジメチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１，３−ジメ
チル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、
１，２，３−トリメチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニル基、２―メチル−４，５，６，７―テトラ
ヒドロインデニル基、１−エチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニル基、１−エチル−２−メチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１−エチ
ル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニル基、１−エチル−２，３−ジメチル−４，５，６，
７―テトラヒドロインデニル基、１，２−ジエチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１，２−
ジエチル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニル基、１，３−ジエチル、４、５、６、７―テ
トラヒドロインデニル基、１，３−ジエチル、２−メチ
ル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１，
２，３−トリエチル−４，５，６，７―テトラヒドロイ
ンデニル基、２―エチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニル基、１−メチル−２―エチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニル基、１，３−ジメチル
−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニ
ル基、フルオレニル基、９−メチルフルオレニル基、９
−エチルフルオレニル基、１，２，３，４―テトラヒド
ロフルオレニル基、９−メチル−１，２，３，４―テト
ラヒドロフルオレニル基、９−エチル−１，２，３，４
―テトラヒドロフルオレニル基、１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロフルオレニル基、９−メチ
ル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフ
ルオレニル基、９−エチル、１，２，３，４，５，６，
７，８−オクタヒドロフルオレニル基等が挙げられる。
ンタジエニル基、１，２−ジメチルシクロペンタジエニ
ル基、１，３−ジメチルシクロペンタジエニル基、１，
２，３−トリメチルシクロペンタジエニル基、１，３，
４−トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチル
シクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル基、エチルシクロペンタジエニル基、１，２−ジ
エチルシクロペンタジエニル基、１，３−ジエチルシク
ロペンタジエニル基、１，２，３−トリエチルシクロペ
ンタジエニル基、１，３，４−トリエチルシクロペンタ
ジエニル基、テトラエチルシクロペンタジエニル基、ペ
ンタエチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、１
−メチルインデニル基、１，２―ジメチルインデニル
基、１，３―ジメチルインデニル基、１，２，３―トリ
メチルインデニル基、２−メチルインデニル基、１−エ
チルインデニル基、１−エチル−２―メチルインデニル
基、１−エチル−３―メチルインデニル基、１−エチル
−２，３―ジメチルインデニル基、１，２−ジエチルイ
ンデニル基、１，３−ジエチルインデニル基、１，２，
３−トリエチルインデニル基、２−エチルインデニル
基、１―メチル−２−エチルインデニル基、１，３−ジ
メチル−２―エチルインデニル基、４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニル基、１−メチル−４，５，６，７
―テトラヒドロインデニル基、１，２−ジメチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１，３−ジメ
チル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、
１，２，３−トリメチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニル基、２―メチル−４，５，６，７―テトラ
ヒドロインデニル基、１−エチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニル基、１−エチル−２−メチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１−エチ
ル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニル基、１−エチル−２，３−ジメチル−４，５，６，
７―テトラヒドロインデニル基、１，２−ジエチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１，２−
ジエチル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニル基、１，３−ジエチル、４、５、６、７―テ
トラヒドロインデニル基、１，３−ジエチル、２−メチ
ル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル基、１，
２，３−トリエチル−４，５，６，７―テトラヒドロイ
ンデニル基、２―エチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニル基、１−メチル−２―エチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニル基、１，３−ジメチル
−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニ
ル基、フルオレニル基、９−メチルフルオレニル基、９
−エチルフルオレニル基、１，２，３，４―テトラヒド
ロフルオレニル基、９−メチル−１，２，３，４―テト
ラヒドロフルオレニル基、９−エチル−１，２，３，４
―テトラヒドロフルオレニル基、１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロフルオレニル基、９−メチ
ル、１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフ
ルオレニル基、９−エチル、１，２，３，４，５，６，
７，８−オクタヒドロフルオレニル基等が挙げられる。
【００１６】Ｍは遷移金属で、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、ランタノイド系金属、Ｎｉ，Ｐｄが挙げられ
るが、好ましくはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、更に好ましくはＴ
ｉが用いられる。Ｘはσ配位子を示し、具体的には水素
原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素
基、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０のアル
コキシ基、チオアルコキシ基、炭素数６〜２０のチオア
リーロキシ基、炭素数１〜２０のアミノ基、アミド基、
カルボキシル基、アルキルシリル基等が挙げられ、複数
のＸは互いに同一でも異なっていてもよく、また任意の
基を介して結合していてもよい。さらにＸの具体例とし
ては、水素原子、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、よ
う素原子、メチル基、ベンジル基、フェニル基、トリメ
チルシリルメチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノ
キシ基などを挙げることができる。
ｂ、Ｔａ、ランタノイド系金属、Ｎｉ，Ｐｄが挙げられ
るが、好ましくはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、更に好ましくはＴ
ｉが用いられる。Ｘはσ配位子を示し、具体的には水素
原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素
基、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０のアル
コキシ基、チオアルコキシ基、炭素数６〜２０のチオア
リーロキシ基、炭素数１〜２０のアミノ基、アミド基、
カルボキシル基、アルキルシリル基等が挙げられ、複数
のＸは互いに同一でも異なっていてもよく、また任意の
基を介して結合していてもよい。さらにＸの具体例とし
ては、水素原子、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、よ
う素原子、メチル基、ベンジル基、フェニル基、トリメ
チルシリルメチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノ
キシ基などを挙げることができる。
【００１７】これらのうち、好ましいものは、シクロペ
ンタジエニル基類、４、５、６、７−テトラヒドロイン
デニル基類、オクタヒドロフルオレニル基等である。以
下に遷移金属化合物の具体例を示すが、これに限定され
るものではない。一般式（Ｉ）に関する具体例を以下に
示す。シクロペンタジエニルチタニウムトリクロライ
ド、シクロペンタジエニルチタニウムトリメチル、シク
ロペンタジエニルチタニウムトリメトキシド、シクロペ
ンタジエニルチタニウムトリベンジル、メチルシクロペ
ンタジエニルチタニウムトリクロライド、メチルシクロ
ペンタジエニルチタニウムトリメチル、メチルシクロペ
ンタジエニルチタニウムトリメトキシド、メチルシクロ
ペンタジエニルチタニウムトリベンジル、ジメチルシク
ロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、ジメチル
シクロペンタジエニルチタニウムトリメチル、ジメチル
シクロペンタジエニルチタニウムトリメトキシド、ジメ
チルシクロペンタジエニルチタニウムトリベンジル、ト
リメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライ
ド、トリメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリメ
チル、トリメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリ
メトキシド、トリメチルシクロペンタジエニルチタニウ
ムトリベンジル、テトラメチルシクロペンタジエニルチ
タニウムトリクロライド、テトラメチルシクロペンタジ
エニルチタニウムトリメチル、テトラメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメトキシド、テトラメチルシ
クロペンタジエニルチタニウムトリベンジル、ペンタメ
チルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリメチ
ル、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリ
メトキシド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニ
ウムトリベンジル、インデニルチタニウムトリクロリ
ド、インデニルチタニウムトリメチル、インデニルチタ
ニウムトリメトキシド、インデニルチタニウムトリベン
ジル、１−メチルインデニルチタニウムトリクロリド、
１−メチルインデニルチタニウムトリメチル、１−メチ
ルインデニルチタニウムトリメトキシド、１−メチルイ
ンデニルチタニウムトリベンジル、２−メチルインデニ
ルチタニウムトリクロリド、２−メチルインデニルチタ
ニウムトリメチル、２−メチルインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−メチルインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリク
ロリド、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリメ
チル、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリメト
キシド、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリク
ロリド、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリメ
チル、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリメト
キシド、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１，２，３−トリメチルインデニルチタニウム
トリクロリド、１，２，３−トリメチルインデニルチタ
ニウムトリメチル、１，２，３−トリメチルインデニル
チタニウムトリメトキシド、１，２，３−トリメチルイ
ンデニルチタニウムトリベンジル、１，２，３，４，
５，６，７−ヘプタメチルインデニルチタニウムトリク
ロリド、１，２，３，４，５，６，７−ヘプタメチルイ
ンデニルチタニウムトリメチル、１，２，３，４，５，
６，７−ヘプタメチルインデニルチタニウムトリメトキ
シド、１，２，３，４，５，６，７−ヘプタメチルイン
デニルチタニウムトリベンジル ４，５，６，７−テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチ
ル、４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリメトキシド、４，５，６，７―テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリベンジル、１−メチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、１−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメチル、１−メチル−４，５，６，
７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシ
ド、１−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリベンジル、２−メチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、２−メチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル、１、２−ジメチル、４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリクロリド、１，２−ジメチル
−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウム
トリメチル、１，２−ジメチル−４，５，６，７―テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、１，２
−ジメチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル
チタニウムトリベンジル、１，３−ジメチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、１，３−ジメチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリメチル、１，３−ジメチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１，３−ジメチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、１，
２，３−トリメチル−４，５，６，７―テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリクロリド、１，２，３−トリメ
チル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニ
ウムトリメチル、１，２，３−トリメチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキ
シド、１，２，３−トリメチル−４，５，６，７―テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、１−エチ
ル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリクロリド、１−エチル−４，５，６，７―テトラ
ヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１−エチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−エチル−４，５，６、７―テトラヒ
ドロインデニルチタニウムトリベンジル、１−エチル−
２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル
チタニウムトリクロリド、１−エチル−２−メチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメチル、１−エチル−２−メチル−４，５，６，７―
テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、１
−エチル−２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリベンジル、１−エチル−３−
メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリクロリド、１−エチル−３−メチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−エチル−３−メチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１−エチ
ル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１−エチル−３−メチ
ル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリベンジル、１−エチル−２，３−ジメチル−４、
５、６、７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−エチル−２，３−ジメチル−４，５，６，
７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１
−エチル−２，３−ジメチル−４，５，６，７―テトラ
ヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、１−エチ
ル−２，３−ジメチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリベンジル、１，２−ジエチル
−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウム
トリクロリド、１，２−ジエチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１，２−
ジエチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリメトキシド、１，２−ジエチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル、１，２−ジエチル−３−メチル−４，５，６，７―
テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、１，
２−ジエチル、３−メチル−４，５，６，７―テトラヒ
ドロインデニルチタニウムトリメチル、１，２−ジエチ
ル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１，２−ジエチル−３
−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリベンジル、１，３−ジエチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、１，３−ジエチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリメチル、１，３−ジエチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１，３−ジエチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、１，３
−ジエチル−２−メチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニルチタニウムトリクロリド、１，３−ジエチ
ル−２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメチル、１，３−ジエチル−２−メ
チル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニ
ウムトリメトキシド、１，３−ジエチル−２−メチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リベンジル、１，２，３−トリエチル−４，５，６，７
―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、
１，２，３−トリエチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニルチタニウムトリメチル、１，２，３−トリ
エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリメトキシド、１，２，３−トリエチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベ
ンジル、２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリクロリド、２―エチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメ
チル、２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリメトキシド、２―エチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１−メチル−２―エチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、１−メ
チル−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリメチル、１−メチル−２―エチル
−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウム
トリメトキシド、１−メチル−２―エチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル、１、３−ジメチル−２―エチル−４，５，６，７―
テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、１，
３−ジメチル−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒ
ドロインデニルチタニウムトリメチル、１，３−ジメチ
ル−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１，３−ジメチル−２
―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリベンジル−１，２，３，４―テトラヒドロ
フルオレニルチタニウムトリクロリド、１，２，３，４
―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリメチル、
１，２，３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウム
トリメトキシド、１，２，３，４―テトラヒドロフルオ
レニルチタニウムトリベンジル、９−メチル−１，２，
３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリクロ
リド、９−メチル−１，２，３，４―テトラヒドロフル
オレニルチタニウムトリメチル、９−メチル−１，２，
３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリメト
キシド、９−メチル−１，２，３，４―テトラヒドロフ
ルオレニルチタニウムトリベンジル、９−エチル−１，
２，３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリ
クロリド、９−エチル−１，２，３，４―テトラヒドロ
フルオレニルチタニウムトリメチル、９−エチル−１，
２，３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリ
メトキシド、９−エチル−１，２，３，４―テトラヒド
ロフルオレニルチタニウムトリベンジル、１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニ
ウムトリクロリド、１，２，３，４，５，６，７，８−
オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリメチル、１，
２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニ
ルチタニウムトリメトキシド、１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリ
ベンジル、９−メチル−１，２，３，４，５，６，７，
８−オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリクロリ
ド、９−メチル−１，２，３，４，５，６，７，８−オ
クタヒドロフルオレニルチタニウムトリメチル、９−メ
チル−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロ
フルオレニルチタニウムトリメトキシド、９−メチル−
１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオ
レニルチタニウムトリクロリド、９−エチル−１，２，
３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチ
タニウムトリメチル、９−エチル−１，２，３，４，
５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニウム
トリメトキシド、９−エチル−１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリ
ベンジル等、およびこれらの化合物におけるチタンをジ
ルコニウムやハフニウムに置換したもの、あるいは他の
族、またはランタノイド系列の遷移金属元素の類似化合
物を挙げることができるが、これらに限定されるもので
はない。これらの中で，チタン化合物が好適である。
ンタジエニル基類、４、５、６、７−テトラヒドロイン
デニル基類、オクタヒドロフルオレニル基等である。以
下に遷移金属化合物の具体例を示すが、これに限定され
るものではない。一般式（Ｉ）に関する具体例を以下に
示す。シクロペンタジエニルチタニウムトリクロライ
ド、シクロペンタジエニルチタニウムトリメチル、シク
ロペンタジエニルチタニウムトリメトキシド、シクロペ
ンタジエニルチタニウムトリベンジル、メチルシクロペ
ンタジエニルチタニウムトリクロライド、メチルシクロ
ペンタジエニルチタニウムトリメチル、メチルシクロペ
ンタジエニルチタニウムトリメトキシド、メチルシクロ
ペンタジエニルチタニウムトリベンジル、ジメチルシク
ロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、ジメチル
シクロペンタジエニルチタニウムトリメチル、ジメチル
シクロペンタジエニルチタニウムトリメトキシド、ジメ
チルシクロペンタジエニルチタニウムトリベンジル、ト
リメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライ
ド、トリメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリメ
チル、トリメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリ
メトキシド、トリメチルシクロペンタジエニルチタニウ
ムトリベンジル、テトラメチルシクロペンタジエニルチ
タニウムトリクロライド、テトラメチルシクロペンタジ
エニルチタニウムトリメチル、テトラメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメトキシド、テトラメチルシ
クロペンタジエニルチタニウムトリベンジル、ペンタメ
チルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロライド、
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリメチ
ル、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリ
メトキシド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニ
ウムトリベンジル、インデニルチタニウムトリクロリ
ド、インデニルチタニウムトリメチル、インデニルチタ
ニウムトリメトキシド、インデニルチタニウムトリベン
ジル、１−メチルインデニルチタニウムトリクロリド、
１−メチルインデニルチタニウムトリメチル、１−メチ
ルインデニルチタニウムトリメトキシド、１−メチルイ
ンデニルチタニウムトリベンジル、２−メチルインデニ
ルチタニウムトリクロリド、２−メチルインデニルチタ
ニウムトリメチル、２−メチルインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−メチルインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリク
ロリド、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリメ
チル、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリメト
キシド、１，２−ジメチルインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリク
ロリド、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリメ
チル、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリメト
キシド、１，３−ジメチルインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１，２，３−トリメチルインデニルチタニウム
トリクロリド、１，２，３−トリメチルインデニルチタ
ニウムトリメチル、１，２，３−トリメチルインデニル
チタニウムトリメトキシド、１，２，３−トリメチルイ
ンデニルチタニウムトリベンジル、１，２，３，４，
５，６，７−ヘプタメチルインデニルチタニウムトリク
ロリド、１，２，３，４，５，６，７−ヘプタメチルイ
ンデニルチタニウムトリメチル、１，２，３，４，５，
６，７−ヘプタメチルインデニルチタニウムトリメトキ
シド、１，２，３，４，５，６，７−ヘプタメチルイン
デニルチタニウムトリベンジル ４，５，６，７−テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチ
ル、４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリメトキシド、４，５，６，７―テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリベンジル、１−メチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、１−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメチル、１−メチル−４，５，６，
７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシ
ド、１−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリベンジル、２−メチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、２−メチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル、１、２−ジメチル、４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリクロリド、１，２−ジメチル
−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウム
トリメチル、１，２−ジメチル−４，５，６，７―テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、１，２
−ジメチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル
チタニウムトリベンジル、１，３−ジメチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、１，３−ジメチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリメチル、１，３−ジメチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１，３−ジメチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、１，
２，３−トリメチル−４，５，６，７―テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリクロリド、１，２，３−トリメ
チル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニ
ウムトリメチル、１，２，３−トリメチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキ
シド、１，２，３−トリメチル−４，５，６，７―テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、１−エチ
ル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリクロリド、１−エチル−４，５，６，７―テトラ
ヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１−エチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−エチル−４，５，６、７―テトラヒ
ドロインデニルチタニウムトリベンジル、１−エチル−
２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニル
チタニウムトリクロリド、１−エチル−２−メチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメチル、１−エチル−２−メチル−４，５，６，７―
テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、１
−エチル−２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリベンジル、１−エチル−３−
メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリクロリド、１−エチル−３−メチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−エチル−３−メチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１−エチ
ル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１−エチル−３−メチ
ル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリベンジル、１−エチル−２，３−ジメチル−４、
５、６、７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−エチル−２，３−ジメチル−４，５，６，
７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１
−エチル−２，３−ジメチル−４，５，６，７―テトラ
ヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、１−エチ
ル−２，３−ジメチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリベンジル、１，２−ジエチル
−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウム
トリクロリド、１，２−ジエチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１，２−
ジエチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリメトキシド、１，２−ジエチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル、１，２−ジエチル−３−メチル−４，５，６，７―
テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、１，
２−ジエチル、３−メチル−４，５，６，７―テトラヒ
ドロインデニルチタニウムトリメチル、１，２−ジエチ
ル−３−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１，２−ジエチル−３
−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリベンジル、１，３−ジエチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリ
ド、１，３−ジエチル−４，５，６，７―テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリメチル、１，３−ジエチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１，３−ジエチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、１，３
−ジエチル−２−メチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニルチタニウムトリクロリド、１，３−ジエチ
ル−２−メチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメチル、１，３−ジエチル−２−メ
チル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニ
ウムトリメトキシド、１，３−ジエチル−２−メチル−
４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムト
リベンジル、１，２，３−トリエチル−４，５，６，７
―テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、
１，２，３−トリエチル−４，５，６，７―テトラヒド
ロインデニルチタニウムトリメチル、１，２，３−トリ
エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリメトキシド、１，２，３−トリエチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベ
ンジル、２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリクロリド、２―エチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリメ
チル、２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリメトキシド、２―エチル−４，
５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベ
ンジル、１−メチル−２―エチル−４，５，６，７―テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、１−メ
チル−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリメチル、１−メチル−２―エチル
−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチタニウム
トリメトキシド、１−メチル−２―エチル−４，５，
６，７―テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル、１、３−ジメチル−２―エチル−４，５，６，７―
テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、１，
３−ジメチル−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒ
ドロインデニルチタニウムトリメチル、１，３−ジメチ
ル−２―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１，３−ジメチル−２
―エチル−４，５，６，７―テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリベンジル−１，２，３，４―テトラヒドロ
フルオレニルチタニウムトリクロリド、１，２，３，４
―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリメチル、
１，２，３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウム
トリメトキシド、１，２，３，４―テトラヒドロフルオ
レニルチタニウムトリベンジル、９−メチル−１，２，
３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリクロ
リド、９−メチル−１，２，３，４―テトラヒドロフル
オレニルチタニウムトリメチル、９−メチル−１，２，
３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリメト
キシド、９−メチル−１，２，３，４―テトラヒドロフ
ルオレニルチタニウムトリベンジル、９−エチル−１，
２，３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリ
クロリド、９−エチル−１，２，３，４―テトラヒドロ
フルオレニルチタニウムトリメチル、９−エチル−１，
２，３，４―テトラヒドロフルオレニルチタニウムトリ
メトキシド、９−エチル−１，２，３，４―テトラヒド
ロフルオレニルチタニウムトリベンジル、１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニ
ウムトリクロリド、１，２，３，４，５，６，７，８−
オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリメチル、１，
２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニ
ルチタニウムトリメトキシド、１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリ
ベンジル、９−メチル−１，２，３，４，５，６，７，
８−オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリクロリ
ド、９−メチル−１，２，３，４，５，６，７，８−オ
クタヒドロフルオレニルチタニウムトリメチル、９−メ
チル−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロ
フルオレニルチタニウムトリメトキシド、９−メチル−
１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオ
レニルチタニウムトリクロリド、９−エチル−１，２，
３，４，５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチ
タニウムトリメチル、９−エチル−１，２，３，４，
５，６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニウム
トリメトキシド、９−エチル−１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリ
ベンジル等、およびこれらの化合物におけるチタンをジ
ルコニウムやハフニウムに置換したもの、あるいは他の
族、またはランタノイド系列の遷移金属元素の類似化合
物を挙げることができるが、これらに限定されるもので
はない。これらの中で，チタン化合物が好適である。
【００１８】一般式（II）に関する具体例を以下に示
す。テトラメチルチタニウム、テトラベンジルチタニウ
ム、テトラエチルチタニウム、テトラフェニルチタニウ
ム、テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニ
ウム、テトラフェノキシチタニウム、テトラ（ジメチル
アミノ）チタニウム、テトラ（ジエチルアミノ）チタニ
ウム、テトラ（ジフェニルアミノ）チタニウム、Macrom
olecules 1997,30,1562-1569やJournal of Organometal
lic Chemistry 514 (1996) 213-217等に記載されている
Bis-(phenoxo)titanium 化合物やMacromolecules 1996,
29,5241-5243やOrganometallics 1997，16, 1491-1496
等に記載されているDiamide titanium化合物等、および
これらの化合物におけるチタンをジルコニウムやハフニ
ウムに置換したもの、あるいは他の族、またはランタノ
イド系列の遷移金属元素の類似化合物を挙げることがで
きる。 （Ｂ）成分 （イ）酸素含有化合物及び／又は（ロ）遷移金属化合物
と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物である。
これらのうち、好ましくは（イ）酸素含有化合物であ
る。 （イ）成分の酸素含有化合物 下記一般式（Ｘ）で表される化合物
す。テトラメチルチタニウム、テトラベンジルチタニウ
ム、テトラエチルチタニウム、テトラフェニルチタニウ
ム、テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニ
ウム、テトラフェノキシチタニウム、テトラ（ジメチル
アミノ）チタニウム、テトラ（ジエチルアミノ）チタニ
ウム、テトラ（ジフェニルアミノ）チタニウム、Macrom
olecules 1997,30,1562-1569やJournal of Organometal
lic Chemistry 514 (1996) 213-217等に記載されている
Bis-(phenoxo)titanium 化合物やMacromolecules 1996,
29,5241-5243やOrganometallics 1997，16, 1491-1496
等に記載されているDiamide titanium化合物等、および
これらの化合物におけるチタンをジルコニウムやハフニ
ウムに置換したもの、あるいは他の族、またはランタノ
イド系列の遷移金属元素の類似化合物を挙げることがで
きる。 （Ｂ）成分 （イ）酸素含有化合物及び／又は（ロ）遷移金属化合物
と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物である。
これらのうち、好ましくは（イ）酸素含有化合物であ
る。 （イ）成分の酸素含有化合物 下記一般式（Ｘ）で表される化合物
【００１９】
【化３】
【００２０】及び／又は一般式（XI）
【００２１】
【化４】
【００２２】で表される酸素含有化合物である。上記一
般式（Ｘ) 及び(XI)において、Ｒ2 〜Ｒ8 はそれぞれ炭
素数１〜８のアルキル基を示し、具体的にはメチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，各種ブチ
ル基，各種ペンチル基，各種ヘキシル基，各種ヘプチル
基，各種オクチル基が挙げられる。Ｒ2 〜Ｒ6 はたがい
に同一でも異なっていてもよく、Ｒ7 及びＲ8 はたがい
に同一でも異なっていてもよい。Ｙ1 〜Ｙ5 はそれぞれ
周期律表１３族元素を示し、具体的にはＢ，Ａｌ，Ｇ
ａ，Ｉｎ及びＴｌが挙げられるが、これらの中でＢ及び
Ａｌが好適である。Ｙ1 〜Ｙ3 はたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はたがいに同一でも異な
っていてもよい。また、ａ〜ｄはそれぞれ０〜５０の数
であるが、（ａ＋ｂ）及び（ｃ＋ｄ）はそれぞれ１以上
である。ａ〜ｄとしては、それぞれ１〜２０の範囲が好
ましく、特に１〜５の範囲が好ましい。
般式（Ｘ) 及び(XI)において、Ｒ2 〜Ｒ8 はそれぞれ炭
素数１〜８のアルキル基を示し、具体的にはメチル基，
エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，各種ブチ
ル基，各種ペンチル基，各種ヘキシル基，各種ヘプチル
基，各種オクチル基が挙げられる。Ｒ2 〜Ｒ6 はたがい
に同一でも異なっていてもよく、Ｒ7 及びＲ8 はたがい
に同一でも異なっていてもよい。Ｙ1 〜Ｙ5 はそれぞれ
周期律表１３族元素を示し、具体的にはＢ，Ａｌ，Ｇ
ａ，Ｉｎ及びＴｌが挙げられるが、これらの中でＢ及び
Ａｌが好適である。Ｙ1 〜Ｙ3 はたがいに同一でも異な
っていてもよく、Ｙ4 及びＹ5 はたがいに同一でも異な
っていてもよい。また、ａ〜ｄはそれぞれ０〜５０の数
であるが、（ａ＋ｂ）及び（ｃ＋ｄ）はそれぞれ１以上
である。ａ〜ｄとしては、それぞれ１〜２０の範囲が好
ましく、特に１〜５の範囲が好ましい。
【００２３】このような触媒成分として用いる酸素含有
化合物としては、アルキルアルミノキサンが好ましい。
具体的な好適例としては、メチルアルミノキサンやイソ
ブチルアルミノキサンが挙げられる。 （ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式（XII)又は（XIII）で表される
化合物を好適に使用することができる。
化合物としては、アルキルアルミノキサンが好ましい。
具体的な好適例としては、メチルアルミノキサンやイソ
ブチルアルミノキサンが挙げられる。 （ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式（XII)又は（XIII）で表される
化合物を好適に使用することができる。
【００２４】 （〔Ｌ1 −Ｈ〕g+）h （〔Ｍ2 Ｘ1 Ｘ2 ・・・Ｘn 〕(n-m)-）i ・・・（XII) （〔Ｌ2 〕g+）h （〔Ｍ3 Ｘ1 Ｘ2 ・・・Ｘn 〕(n-m)-）i ・・・（XIII） 〔式（XII)又は（XIII）中、Ｌ2 は後述のＭ4 ，Ｒ9 Ｒ
10Ｍ5 又はＲ11 3 Ｃであり、Ｌ1 はルイス塩基、Ｍ2 及
びＭ3 はそれぞれ周期律表の５族〜１５族から選ばれる
金属、Ｍ4 は周期律表の１族及び８族〜１２族から選ば
れる金属、Ｍ5 は周期律表の８族〜１０族から選ばれる
金属、Ｘ1 〜Ｘn はそれぞれ水素原子，ジアルキルアミ
ノ基，アルコキシ基，アリールオキシ基，炭素数１〜２
０のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキ
ルアリール基，アリールアルキル基，置換アルキル基，
有機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。Ｒ9 及びＲ
10はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペン
タジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ11
はアルキル基を示す。ｍはＭ2 ，Ｍ3 の原子価で１〜７
の整数、ｎは２〜８の整数、ｇはＬ1 −Ｈ，Ｌ2 のイオ
ン価数で１〜７の整数、ｈは１以上の整数，ｉ＝ｈ×ｇ
／（ｎ−ｍ）である。〕 Ｍ2 及びＭ3 の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａ
ｓ，Ｓｂなどの各原子、Ｍ4 の具体例としてはＡｇ，Ｃ
ｕ，Ｎａ，Ｌｉなどの各原子、Ｍ5 の具体例としてはＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの各原子が挙げられる。Ｘ1 〜Ｘn
の具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基として
ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ
基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基な
ど、アリールオキシ基としてフェノキシ基，２，６−ジ
メチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基など、炭素数１
〜２０のアルキル基としてメチル基，エチル基，ｎ−プ
ロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−オクチ
ル基，２−エチルヘキシル基など、炭素数６〜２０のア
リール基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，ペ
ンタフルオロフェニル基，３，５−ジ（トリフルオロメ
チル）フェニル基，４−ターシャリ−ブチルフェニル
基，２，６−ジメチルフェニル基，３，５−ジメチルフ
ェニル基，２，４−ジメチルフェニル基，１，２−ジメ
チルフェニル基など、ハロゲンとしてＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ、有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基などが挙げられる。Ｒ9 及びＲ10のそれぞれで
表される置換シクロペンタジエニル基の具体例として
は、メチルシクロペンタジエニル基，ブチルシクロペン
タジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どが挙げられる。
10Ｍ5 又はＲ11 3 Ｃであり、Ｌ1 はルイス塩基、Ｍ2 及
びＭ3 はそれぞれ周期律表の５族〜１５族から選ばれる
金属、Ｍ4 は周期律表の１族及び８族〜１２族から選ば
れる金属、Ｍ5 は周期律表の８族〜１０族から選ばれる
金属、Ｘ1 〜Ｘn はそれぞれ水素原子，ジアルキルアミ
ノ基，アルコキシ基，アリールオキシ基，炭素数１〜２
０のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキ
ルアリール基，アリールアルキル基，置換アルキル基，
有機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。Ｒ9 及びＲ
10はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペン
タジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ11
はアルキル基を示す。ｍはＭ2 ，Ｍ3 の原子価で１〜７
の整数、ｎは２〜８の整数、ｇはＬ1 −Ｈ，Ｌ2 のイオ
ン価数で１〜７の整数、ｈは１以上の整数，ｉ＝ｈ×ｇ
／（ｎ−ｍ）である。〕 Ｍ2 及びＭ3 の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａ
ｓ，Ｓｂなどの各原子、Ｍ4 の具体例としてはＡｇ，Ｃ
ｕ，Ｎａ，Ｌｉなどの各原子、Ｍ5 の具体例としてはＦ
ｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの各原子が挙げられる。Ｘ1 〜Ｘn
の具体例としては、例えば、ジアルキルアミノ基として
ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ
基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基な
ど、アリールオキシ基としてフェノキシ基，２，６−ジ
メチルフェノキシ基，ナフチルオキシ基など、炭素数１
〜２０のアルキル基としてメチル基，エチル基，ｎ−プ
ロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−オクチ
ル基，２−エチルヘキシル基など、炭素数６〜２０のア
リール基，アルキルアリール基若しくはアリールアルキ
ル基としてフェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，ペ
ンタフルオロフェニル基，３，５−ジ（トリフルオロメ
チル）フェニル基，４−ターシャリ−ブチルフェニル
基，２，６−ジメチルフェニル基，３，５−ジメチルフ
ェニル基，２，４−ジメチルフェニル基，１，２−ジメ
チルフェニル基など、ハロゲンとしてＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ、有機メタロイド基として五メチルアンチモン基，ト
リメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニル
アルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニ
ル硼素基などが挙げられる。Ｒ9 及びＲ10のそれぞれで
表される置換シクロペンタジエニル基の具体例として
は、メチルシクロペンタジエニル基，ブチルシクロペン
タジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基な
どが挙げられる。
【００２５】本発明において、複数の基が金属に結合し
たアニオンとしては、具体的にはＢ( Ｃ6 Ｆ5)4 - ，Ｂ
( Ｃ6 ＨＦ4)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ2 Ｆ3)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ
3 Ｆ 2)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)4 - ，Ｂ( Ｃ6 ＣＦ3 Ｆ4)
4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ5）4 - ，ＰＦ6 - ，Ｐ( Ｃ6 Ｆ5)6
- ，Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)4 - などが挙げられる。また、金
属カチオンとしては、Ｃｐ2 Ｆｅ+ ，（ＭｅＣｐ）2 Ｆ
ｅ+ ，（ｔＢｕＣｐ） 2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ2 Ｃｐ）2 Ｆｅ
+ ，（Ｍｅ3 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ4 Ｃｐ） 2 Ｆ
ｅ+ ，（Ｍｅ5 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，Ａｇ+ , Ｎａ+ ，Ｌｉ
+ などが挙げられ、またその他カチオンとしては、ピリ
ジニウム，２，４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ニウム，ジフェニルアンモニウム，ｐ−ニトロアニリニ
ウム，２，５−ジクロロアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，キノリニウム，Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリニウム，Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムなど
の窒素含有化合物、トリフェニルカルベニウム，トリ
（４−メチルフェニル）カルベニウム，トリ（４−メト
キシフェニル）カルベニウムなどのカルベニウム化合
物、ＣＨ3 ＰＨ3 + ，Ｃ2 Ｈ5 ＰＨ3 + ，Ｃ3 Ｈ7 ＰＨ
3 + ，（ＣＨ3 ）2 ＰＨ2 +，（Ｃ2 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ3 Ｈ7 ）2 ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）3 Ｐ
Ｈ +，（Ｃ2 Ｈ5 ）3 ＰＨ +，（Ｃ3 Ｈ7 ）3 ＰＨ +，
（ＣＦ3 ）3 ＰＨ +，（ＣＨ3 ） 4 Ｐ+ ，（Ｃ2 Ｈ5 ）
4 Ｐ+ ，（Ｃ3 Ｈ7 ）4 Ｐ+ 等のアルキルフォスフォニ
ウムイオン，及びＣ6 Ｈ5 ＰＨ3 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）3 ＰＨ+ ，（Ｃ6 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（ＣＨ3 ）（Ｃ6
Ｈ5 ）ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6Ｈ5 ）2 Ｐ+ などのアリールフォ
スフォニウムイオンなどが挙げられる。
たアニオンとしては、具体的にはＢ( Ｃ6 Ｆ5)4 - ，Ｂ
( Ｃ6 ＨＦ4)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ2 Ｆ3)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ
3 Ｆ 2)4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)4 - ，Ｂ( Ｃ6 ＣＦ3 Ｆ4)
4 - ，Ｂ( Ｃ6 Ｈ5）4 - ，ＰＦ6 - ，Ｐ( Ｃ6 Ｆ5)6
- ，Ａｌ（Ｃ6 ＨＦ4)4 - などが挙げられる。また、金
属カチオンとしては、Ｃｐ2 Ｆｅ+ ，（ＭｅＣｐ）2 Ｆ
ｅ+ ，（ｔＢｕＣｐ） 2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ2 Ｃｐ）2 Ｆｅ
+ ，（Ｍｅ3 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，（Ｍｅ4 Ｃｐ） 2 Ｆ
ｅ+ ，（Ｍｅ5 Ｃｐ）2 Ｆｅ+ ，Ａｇ+ , Ｎａ+ ，Ｌｉ
+ などが挙げられ、またその他カチオンとしては、ピリ
ジニウム，２，４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ニウム，ジフェニルアンモニウム，ｐ−ニトロアニリニ
ウム，２，５−ジクロロアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，キノリニウム，Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリニウム，Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムなど
の窒素含有化合物、トリフェニルカルベニウム，トリ
（４−メチルフェニル）カルベニウム，トリ（４−メト
キシフェニル）カルベニウムなどのカルベニウム化合
物、ＣＨ3 ＰＨ3 + ，Ｃ2 Ｈ5 ＰＨ3 + ，Ｃ3 Ｈ7 ＰＨ
3 + ，（ＣＨ3 ）2 ＰＨ2 +，（Ｃ2 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ3 Ｈ7 ）2 ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）3 Ｐ
Ｈ +，（Ｃ2 Ｈ5 ）3 ＰＨ +，（Ｃ3 Ｈ7 ）3 ＰＨ +，
（ＣＦ3 ）3 ＰＨ +，（ＣＨ3 ） 4 Ｐ+ ，（Ｃ2 Ｈ5 ）
4 Ｐ+ ，（Ｃ3 Ｈ7 ）4 Ｐ+ 等のアルキルフォスフォニ
ウムイオン，及びＣ6 Ｈ5 ＰＨ3 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）2 Ｐ
Ｈ2 + ，（Ｃ6 Ｈ5 ）3 ＰＨ+ ，（Ｃ6 Ｈ5 ）4 Ｐ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，（ＣＨ3 ）（Ｃ6
Ｈ5 ）ＰＨ2 + ，（ＣＨ3 ）2 （Ｃ6 Ｈ5 ）ＰＨ+ ，
（Ｃ2 Ｈ5 ）2 （Ｃ6Ｈ5 ）2 Ｐ+ などのアリールフォ
スフォニウムイオンなどが挙げられる。
【００２６】一般式（XII)及び（XIII）の化合物の中
で、具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。
一般式（XII)の化合物としては、例えばテトラフェニル
硼酸トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ
（ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ
メチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸トリ（ｎ−ブチル）アンモニ
ウム，ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピリジニウ
ム，テトラ（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピロリニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式（XIII）の化合物としては、例
えばテトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルフェロセニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロ
セニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
デカメチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）硼酸アセチルフェロセニウム，テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸ホルミルフェロセニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸シアノ
フェロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸銀，テトラフェニル硼
酸トリチル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼
酸トリチル，ヘキサフルオロ砒素酸銀，ヘキサフルオロ
アンチモン酸銀，テトラフルオロ硼酸銀などが挙げられ
る。
で、具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。
一般式（XII)の化合物としては、例えばテトラフェニル
硼酸トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ
（ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ
メチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸トリ（ｎ−ブチル）アンモニ
ウム，ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピリジニウ
ム，テトラ（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピロリニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式（XIII）の化合物としては、例
えばテトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルフェロセニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロ
セニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸
デカメチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）硼酸アセチルフェロセニウム，テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸ホルミルフェロセニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸シアノ
フェロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）硼酸銀，テトラフェニル硼
酸トリチル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼
酸トリチル，ヘキサフルオロ砒素酸銀，ヘキサフルオロ
アンチモン酸銀，テトラフルオロ硼酸銀などが挙げられ
る。
【００２７】また、ルイス酸として、例えばＢ（Ｃ6 Ｆ
5)3 ，Ｂ（Ｃ6 ＨＦ4)3 ，Ｂ（Ｈ2Ｆ3)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ3
Ｆ2)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3, Ｂ（Ｃ6 Ｈ5)3 ，ＢＦ3 ，Ｂ
（Ｃ 6 ＣＦ3 Ｆ4)3 ，ＰＦ5,Ｐ（Ｃ6 Ｆ5)5 ,Ａｌ（Ｃ
6 ＨＦ4)3 なども用いることができる。 （Ｃ）粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合
物。
5)3 ，Ｂ（Ｃ6 ＨＦ4)3 ，Ｂ（Ｈ2Ｆ3)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ3
Ｆ2)3,Ｂ（Ｃ6 Ｈ4 Ｆ)3, Ｂ（Ｃ6 Ｈ5)3 ，ＢＦ3 ，Ｂ
（Ｃ 6 ＣＦ3 Ｆ4)3 ，ＰＦ5,Ｐ（Ｃ6 Ｆ5)5 ,Ａｌ（Ｃ
6 ＨＦ4)3 なども用いることができる。 （Ｃ）粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合
物。
【００２８】粘土とは、細かい含水ケイ酸塩鉱物の集合
体であって、適当量の水を混ぜてこねると可塑性を生
じ、乾けば剛性を示し、高温度で焼くと焼結するような
物質をいう。また、粘土鉱物とは、粘土の主成分をなす
含水ケイ酸塩をいう。これらは、天然産のものに限ら
ず、人工合成したものであってもよい。さらに、イオン
交換性層状化合物が用いられる。イオン交換性層状化合
物とは、イオン結合等によって構成される面が互いに弱
い結合力で平行に積み重なった結晶構造をとる化合物で
あり、含有するイオンが交換可能なものをいう。粘土鉱
物の中には、イオン交換性層状化合物であるものもあ
る。
体であって、適当量の水を混ぜてこねると可塑性を生
じ、乾けば剛性を示し、高温度で焼くと焼結するような
物質をいう。また、粘土鉱物とは、粘土の主成分をなす
含水ケイ酸塩をいう。これらは、天然産のものに限ら
ず、人工合成したものであってもよい。さらに、イオン
交換性層状化合物が用いられる。イオン交換性層状化合
物とは、イオン結合等によって構成される面が互いに弱
い結合力で平行に積み重なった結晶構造をとる化合物で
あり、含有するイオンが交換可能なものをいう。粘土鉱
物の中には、イオン交換性層状化合物であるものもあ
る。
【００２９】例えば、六方最密パッキング型、アンチモ
ン型、塩化カドミウム型、よう化カドミウム型等の層状
の結晶構造を有するイオン結晶性化合物をあげることが
できる。イオン交換性層状化合物は、天然産のものに限
らず、人工合成したものであってもよい。粘土，粘土鉱
物もしくはイオン交換性層状化合物のうち、好ましく
は、粘土鉱物であるカオリン鉱物、蛇紋石及び類縁鉱
物、パイロフィライト・タルク、雲母粘土鉱物、緑泥
岩、バーミキュライト、スメクタイト、混合層鉱物、セ
ピオライト、パリゴルスカイト、アロフェン・イモゴラ
イト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、ナクラ
イト等である。更に好ましくは、スメクタイトであり、
中でもモンモリロナイト種、サポナイト種、又はヘクト
ライト種である。また、これらの鉱物中の不純物除去及
び構造、機能の変化という点から、化学処理を施すこと
も好ましい。
ン型、塩化カドミウム型、よう化カドミウム型等の層状
の結晶構造を有するイオン結晶性化合物をあげることが
できる。イオン交換性層状化合物は、天然産のものに限
らず、人工合成したものであってもよい。粘土，粘土鉱
物もしくはイオン交換性層状化合物のうち、好ましく
は、粘土鉱物であるカオリン鉱物、蛇紋石及び類縁鉱
物、パイロフィライト・タルク、雲母粘土鉱物、緑泥
岩、バーミキュライト、スメクタイト、混合層鉱物、セ
ピオライト、パリゴルスカイト、アロフェン・イモゴラ
イト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、ナクラ
イト等である。更に好ましくは、スメクタイトであり、
中でもモンモリロナイト種、サポナイト種、又はヘクト
ライト種である。また、これらの鉱物中の不純物除去及
び構造、機能の変化という点から、化学処理を施すこと
も好ましい。
【００３０】ここで、化学処理とは、表面に付着してい
る不純物を除去する表面処理と粘土の結晶構造に影響を
与える処理の何れをもさす。具体的には、酸処理、アル
カリ処理、塩類処理、有機物処理等が挙げられる。例え
ば、酸処理では塩酸，硫酸等、アルカリ処理では水酸化
ナトリウム水溶液やアンモニア水等、塩類処理では塩化
マグネシウムや塩化アルミニウム等、有機物処理では有
機アルミニウムやシラン化合物，アンモニウム塩等が用
いられる。これらはそのまま用いても良いし、新たに水
を添加吸着させたものを用いてもよく、あるいは加熱脱
水処理したものを用いても良い。
る不純物を除去する表面処理と粘土の結晶構造に影響を
与える処理の何れをもさす。具体的には、酸処理、アル
カリ処理、塩類処理、有機物処理等が挙げられる。例え
ば、酸処理では塩酸，硫酸等、アルカリ処理では水酸化
ナトリウム水溶液やアンモニア水等、塩類処理では塩化
マグネシウムや塩化アルミニウム等、有機物処理では有
機アルミニウムやシラン化合物，アンモニウム塩等が用
いられる。これらはそのまま用いても良いし、新たに水
を添加吸着させたものを用いてもよく、あるいは加熱脱
水処理したものを用いても良い。
【００３１】本発明のスチレン系重合体製造用触媒にお
いては、上記（Ｂ）成分として、（イ）成分の酸素含有
化合物のみを一種又は二種以上組み合わせて用いてもよ
く、また（ロ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン
性の錯体を形成しうる化合物のみを一種又は二種以上組
み合わせて用いてもよい。あるいは、上記（イ）成分及
び（ロ）成分を適当に組み合わせて用いてもよい。 （Ｄ）アルキル化剤 本発明のスチレン系重合体製造用触媒においては、必要
に応じて、アルキル化剤が用いられる。アルキル化剤と
しては様々なものがあるが、例えば、一般式（XIV) Ｒ12 m Ａl(ＯＲ13) n Ｘ3-m-n ・・・（XIV) 〔式中、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ炭素数１〜８、好ま
しくは１〜４のアルキル基を示し、Ｘは水素原子あるい
はハロゲン原子を示す。また、ｍは０＜ｍ≦３、好まし
くは２あるいは３、最も好ましくは３であり、ｎは０≦
ｎ＜３、好ましくは０あるいは１である。〕で表わされ
るアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式（XV) Ｒ12 2 Ｍｇ ・・・（XV） 〔式中、Ｒ12は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式（XVI) Ｒ12 2 Ｚｎ ・・・（XVI) 〔 式中、Ｒ12は前記と同じである。〕 で表わされるアルキル基含有亜鉛化合物等が挙げられ
る。
いては、上記（Ｂ）成分として、（イ）成分の酸素含有
化合物のみを一種又は二種以上組み合わせて用いてもよ
く、また（ロ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン
性の錯体を形成しうる化合物のみを一種又は二種以上組
み合わせて用いてもよい。あるいは、上記（イ）成分及
び（ロ）成分を適当に組み合わせて用いてもよい。 （Ｄ）アルキル化剤 本発明のスチレン系重合体製造用触媒においては、必要
に応じて、アルキル化剤が用いられる。アルキル化剤と
しては様々なものがあるが、例えば、一般式（XIV) Ｒ12 m Ａl(ＯＲ13) n Ｘ3-m-n ・・・（XIV) 〔式中、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ炭素数１〜８、好ま
しくは１〜４のアルキル基を示し、Ｘは水素原子あるい
はハロゲン原子を示す。また、ｍは０＜ｍ≦３、好まし
くは２あるいは３、最も好ましくは３であり、ｎは０≦
ｎ＜３、好ましくは０あるいは１である。〕で表わされ
るアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式（XV) Ｒ12 2 Ｍｇ ・・・（XV） 〔式中、Ｒ12は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式（XVI) Ｒ12 2 Ｚｎ ・・・（XVI) 〔 式中、Ｒ12は前記と同じである。〕 で表わされるアルキル基含有亜鉛化合物等が挙げられ
る。
【００３２】これらのアルキル基含有化合物のうち、ア
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。具体的にはトリメチルアルミニウム，トリエチル
アルミニウム，トリｎ−プロピルアルミニウム，トリイ
ソプロピルアルミニウム，トリｎ−ブチルアルミニウ
ム，トリイソブチルアルミニウム，トリｔ−ブチルアル
ミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジメチルアル
ミニウムクロリド，ジエチルアルミニウムクロリド，ジ
ｎ−プロピルアルミニウムクロリド，ジイソプロピルア
ルミニウムクロリド，ジｎ−ブチルアルミニウムクロリ
ド，ジイソブチルアルミニウムクロリド，ジｔ−ブチル
アルミニウムクロリド等のジアルキルアルミニウムハラ
イド、ジメチルアルミニウムメトキサイド，ジメチルア
ルミニウムエトキサイド等のジアルキルアルミニウムア
ルコキサイド、ジメチルアルミニウムハイドライド，ジ
エチルアルミニウムハイドライド，ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイド
ライド等があげられる。さらには、ジメチルマグネシウ
ム，ジエチルマグネシウム，ジｎ−プロピルマグネシウ
ム，ジイソプロピルマグネシウム等のジアルキルマグネ
シウムやジメチル亜鉛，ジエチル亜鉛，ジｎ−プロピル
エチル亜鉛，ジイソプロピル亜鉛等のジアルキル亜鉛を
あげることができる。 ２．触媒の調製方法 本発明にかかるスチレン系重合体製造用触媒の製造方法
においては、前記の各成分の添加順序に特徴を有する。
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。具体的にはトリメチルアルミニウム，トリエチル
アルミニウム，トリｎ−プロピルアルミニウム，トリイ
ソプロピルアルミニウム，トリｎ−ブチルアルミニウ
ム，トリイソブチルアルミニウム，トリｔ−ブチルアル
ミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジメチルアル
ミニウムクロリド，ジエチルアルミニウムクロリド，ジ
ｎ−プロピルアルミニウムクロリド，ジイソプロピルア
ルミニウムクロリド，ジｎ−ブチルアルミニウムクロリ
ド，ジイソブチルアルミニウムクロリド，ジｔ−ブチル
アルミニウムクロリド等のジアルキルアルミニウムハラ
イド、ジメチルアルミニウムメトキサイド，ジメチルア
ルミニウムエトキサイド等のジアルキルアルミニウムア
ルコキサイド、ジメチルアルミニウムハイドライド，ジ
エチルアルミニウムハイドライド，ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイド
ライド等があげられる。さらには、ジメチルマグネシウ
ム，ジエチルマグネシウム，ジｎ−プロピルマグネシウ
ム，ジイソプロピルマグネシウム等のジアルキルマグネ
シウムやジメチル亜鉛，ジエチル亜鉛，ジｎ−プロピル
エチル亜鉛，ジイソプロピル亜鉛等のジアルキル亜鉛を
あげることができる。 ２．触媒の調製方法 本発明にかかるスチレン系重合体製造用触媒の製造方法
においては、前記の各成分の添加順序に特徴を有する。
【００３３】即ち、まず、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及
び所望により用いられる（Ｄ）成分とを接触させ、しか
る後に（Ｃ）成分を添加することを本旨とする。（Ｃ）
成分を添加する前に、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び所
望により用いられる（Ｄ）成分とを接触させておくこと
が必要である。このように（Ｄ）成分を後添加すること
により、高い重合活性が発現する。
び所望により用いられる（Ｄ）成分とを接触させ、しか
る後に（Ｃ）成分を添加することを本旨とする。（Ｃ）
成分を添加する前に、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び所
望により用いられる（Ｄ）成分とを接触させておくこと
が必要である。このように（Ｄ）成分を後添加すること
により、高い重合活性が発現する。
【００３４】（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び所望により
用いられる（Ｄ）成分の添加順序については、特に制限
はない。（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び所望により用い
られる（Ｄ）成分とを接触させた後、（Ｃ）成分を添加
するまでの時間については、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、
及び所望により用いられる（Ｄ）成分の種類及びその温
度によって異なるが、１分以上が望ましい。
用いられる（Ｄ）成分の添加順序については、特に制限
はない。（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び所望により用い
られる（Ｄ）成分とを接触させた後、（Ｃ）成分を添加
するまでの時間については、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、
及び所望により用いられる（Ｄ）成分の種類及びその温
度によって異なるが、１分以上が望ましい。
【００３５】以上の触媒成分の接触については、窒素等
の不活性気体中、重合温度以下で行なうことができる
が、−３０〜２００℃の範囲で行なってもよい。各触媒
成分の配合割合は、各種条件により異なり、一義的には
定められないが、（Ｃ）成分として粘土，粘土鉱物を用
いる場合、（Ａ）成分と（Ｃ）成分の水酸基のモル比
は、好ましくは１：0.１〜１：１００,0００の範囲で選
ばれ、（Ｃ）成分として粘土，粘土鉱物以外のものを用
いる場合、（Ｃ）成分１グラムあたり、（Ａ）成分と
（Ｃ）成分とのモル比は、好ましくは１：０（０を含ま
ず）〜１：１0,０００の範囲で選ばれる。 ３．スチレン系重合体製造用触媒を用いた重合体の製造 （１）重合に供されるモノマー 本発明のスチレン系重合体製造用触媒は、スチレン類の
単独重合及びそれらの２種以上による共重合、又はスチ
レン類とオレフィン類の共重合用として用いられる。
の不活性気体中、重合温度以下で行なうことができる
が、−３０〜２００℃の範囲で行なってもよい。各触媒
成分の配合割合は、各種条件により異なり、一義的には
定められないが、（Ｃ）成分として粘土，粘土鉱物を用
いる場合、（Ａ）成分と（Ｃ）成分の水酸基のモル比
は、好ましくは１：0.１〜１：１００,0００の範囲で選
ばれ、（Ｃ）成分として粘土，粘土鉱物以外のものを用
いる場合、（Ｃ）成分１グラムあたり、（Ａ）成分と
（Ｃ）成分とのモル比は、好ましくは１：０（０を含ま
ず）〜１：１0,０００の範囲で選ばれる。 ３．スチレン系重合体製造用触媒を用いた重合体の製造 （１）重合に供されるモノマー 本発明のスチレン系重合体製造用触媒は、スチレン類の
単独重合及びそれらの２種以上による共重合、又はスチ
レン類とオレフィン類の共重合用として用いられる。
【００３６】スチレン類としては、例えばスチレンをは
じめ、ｐ−メチルスチレン；ｏ−メチルスチレン；ｍ−
メチルスチレン；２，４−ジメチルスチレン；２，５−
ジメチルスチレン；３，４−ジメチルスチレン；３，５
−ジメチルスチレン；ｐ−ｔ−ブチルスチレンなどのア
ルキルスチレン、ｐ−メトキシスチレン；ｏ−メトキシ
スチレン；ｍ−メトキシスチレンなどのアルコキシスチ
レン、ｐ−クロロスチレン；ｍ−クロロスチレン；ｏ−
クロロスチレン；ｐ−ブロモスチレン；ｍ−ブロモスチ
レン；ｏ−ブロモスチレン；ｐ−フルオロスチレン；ｍ
−フルオロスチレン；ｏ−フルオロスチレン；ｏ−メチ
ル−ｐ−フルオロスチレンなどのハロゲン化スチレン、
さらにはトリメチルシリルスチレン，ビニル安息香酸エ
ステル，ジビニルベンゼンなどが挙げられる。
じめ、ｐ−メチルスチレン；ｏ−メチルスチレン；ｍ−
メチルスチレン；２，４−ジメチルスチレン；２，５−
ジメチルスチレン；３，４−ジメチルスチレン；３，５
−ジメチルスチレン；ｐ−ｔ−ブチルスチレンなどのア
ルキルスチレン、ｐ−メトキシスチレン；ｏ−メトキシ
スチレン；ｍ−メトキシスチレンなどのアルコキシスチ
レン、ｐ−クロロスチレン；ｍ−クロロスチレン；ｏ−
クロロスチレン；ｐ−ブロモスチレン；ｍ−ブロモスチ
レン；ｏ−ブロモスチレン；ｐ−フルオロスチレン；ｍ
−フルオロスチレン；ｏ−フルオロスチレン；ｏ−メチ
ル−ｐ−フルオロスチレンなどのハロゲン化スチレン、
さらにはトリメチルシリルスチレン，ビニル安息香酸エ
ステル，ジビニルベンゼンなどが挙げられる。
【００３７】オレフィン類としては、例えばエチレン；
プロピレン；ブテン−１；ペンテン−１；ヘキセン−
１；ヘプテン−１；オクテン−１；ノネン−１；デセン
−１；４−フェニルブテン−１；６−フェニルヘキセン
−１；３−メチルブテン−１；４−メチルペンテン−
１；３−メチルペンテン−１；３−メチルヘキセン−
１；４−メチルヘキセン−１；５−メチルヘキセン−
１；３，３−ジメチルペンテン−１；３，４−ジメチル
ペンテン−１；４，４−ジメチルペンテン−１；ビニル
シクロヘキサンなどのα−オレフィン、ヘキサフルオロ
プロペン；テトラフルオロエチレン；２−フルオロプロ
ペン；フルオロエチレン；１，１−ジフルオロエチレ
ン；３−フルオロプロペン；トリフルオロエチレン；
３，４−ジクロロブテン−１などのハロゲン置換α−オ
レフィン、シクロペンテン；シクロヘキセン；ノルボル
ネン；５−メチルノルボルネン；５−エチルノルボルネ
ン；５−プロピルノルボルネン；５，６−ジメチルノル
ボルネン；１−メチルノルボルネン；７−メチルノルボ
ルネン；５，５，６−トリメチルノルボルネン；５−フ
ェニルノルボルネン；５−ベンジルノルボルネンなどの
環状オレフィンなどが挙げられる。 （２）上記触媒を用いて得られるスチレン系重合体は、
スチレン連鎖部が、高度のシンジオタクチック構造を有
するものについて効果的である。ここで、スチレン系重
合体におけるスチレン連鎖部が高度のシンジオタクチッ
ク構造とは、立体化学構造が高度のシンジオタクチック
構造、すなわち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対
して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反
対方向に位置する立体構造を有することを意味し、その
タクティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法（13
Ｃ−ＮＭＲ法）により定量される。13Ｃ−ＮＭＲ法によ
り測定されるタクティシティーは、連続する複数個の構
成単位の存在割合、例えば２個の場合はダイアッド，３
個の場合はトリアッド，５個の場合はペンタッドによっ
て示すことができるが、本発明にいう「シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体」とは、通常はラセ
ミダイアッドで７５％以上、好ましくは８５％以上、若
しくはラセミペンタッドで３０％以上、好ましくは５０
％以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレ
ン，ポリ（置換スチレン），ポリ（ビニル安息香酸エス
テル）及びこれらの混合物、あるいはこれらを主成分と
する共重合体を意味する。
プロピレン；ブテン−１；ペンテン−１；ヘキセン−
１；ヘプテン−１；オクテン−１；ノネン−１；デセン
−１；４−フェニルブテン−１；６−フェニルヘキセン
−１；３−メチルブテン−１；４−メチルペンテン−
１；３−メチルペンテン−１；３−メチルヘキセン−
１；４−メチルヘキセン−１；５−メチルヘキセン−
１；３，３−ジメチルペンテン−１；３，４−ジメチル
ペンテン−１；４，４−ジメチルペンテン−１；ビニル
シクロヘキサンなどのα−オレフィン、ヘキサフルオロ
プロペン；テトラフルオロエチレン；２−フルオロプロ
ペン；フルオロエチレン；１，１−ジフルオロエチレ
ン；３−フルオロプロペン；トリフルオロエチレン；
３，４−ジクロロブテン−１などのハロゲン置換α−オ
レフィン、シクロペンテン；シクロヘキセン；ノルボル
ネン；５−メチルノルボルネン；５−エチルノルボルネ
ン；５−プロピルノルボルネン；５，６−ジメチルノル
ボルネン；１−メチルノルボルネン；７−メチルノルボ
ルネン；５，５，６−トリメチルノルボルネン；５−フ
ェニルノルボルネン；５−ベンジルノルボルネンなどの
環状オレフィンなどが挙げられる。 （２）上記触媒を用いて得られるスチレン系重合体は、
スチレン連鎖部が、高度のシンジオタクチック構造を有
するものについて効果的である。ここで、スチレン系重
合体におけるスチレン連鎖部が高度のシンジオタクチッ
ク構造とは、立体化学構造が高度のシンジオタクチック
構造、すなわち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対
して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反
対方向に位置する立体構造を有することを意味し、その
タクティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法（13
Ｃ−ＮＭＲ法）により定量される。13Ｃ−ＮＭＲ法によ
り測定されるタクティシティーは、連続する複数個の構
成単位の存在割合、例えば２個の場合はダイアッド，３
個の場合はトリアッド，５個の場合はペンタッドによっ
て示すことができるが、本発明にいう「シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体」とは、通常はラセ
ミダイアッドで７５％以上、好ましくは８５％以上、若
しくはラセミペンタッドで３０％以上、好ましくは５０
％以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレ
ン，ポリ（置換スチレン），ポリ（ビニル安息香酸エス
テル）及びこれらの混合物、あるいはこれらを主成分と
する共重合体を意味する。
【００３８】なお、ここでポリ（置換スチレン）として
は、ポリ（メチルスチレン），ポリ（エチルスチレ
ン），ポリ（イソプロピルスチレン），ポリ（ターシャ
リブチルスチレン），ポリ（フェニルスチレン），ポリ
（ビニルスチレン）などのポリ（炭化水素置換スチレ
ン）、ポリ（クロロスチレン），ポリ（ブロモスチレ
ン），ポリ（フルオロスチレン）などのポリ（ハロゲン
化スチレン）、ポリ（メトキシスチレン），ポリ（エト
キシスチレン）などのポリ（アルコキシスチレン）など
がある。これらの中で、特に好ましいスチレン系重合体
としては、ポリスチレン，ポリ（ｐ−メチルスチレ
ン），ポリ（ｍ−メチルスチレン），ポリ（ｐ−ターシ
ャリ−ブチルスチレン），ポリ（ｐ−クロロスチレ
ン），ポリ（ｍ−クロロスチレン），ポリ（ｐ−フルオ
ロスチレン）、さらにはスチレンとｐ−メチルスチレン
との共重合体、スチレンとｐ−ターシャリブチルスチレ
ンとの共重合体、スチレンとジビニルベンゼンとの共重
合体を挙げることができる。
は、ポリ（メチルスチレン），ポリ（エチルスチレ
ン），ポリ（イソプロピルスチレン），ポリ（ターシャ
リブチルスチレン），ポリ（フェニルスチレン），ポリ
（ビニルスチレン）などのポリ（炭化水素置換スチレ
ン）、ポリ（クロロスチレン），ポリ（ブロモスチレ
ン），ポリ（フルオロスチレン）などのポリ（ハロゲン
化スチレン）、ポリ（メトキシスチレン），ポリ（エト
キシスチレン）などのポリ（アルコキシスチレン）など
がある。これらの中で、特に好ましいスチレン系重合体
としては、ポリスチレン，ポリ（ｐ−メチルスチレ
ン），ポリ（ｍ−メチルスチレン），ポリ（ｐ−ターシ
ャリ−ブチルスチレン），ポリ（ｐ−クロロスチレ
ン），ポリ（ｍ−クロロスチレン），ポリ（ｐ−フルオ
ロスチレン）、さらにはスチレンとｐ−メチルスチレン
との共重合体、スチレンとｐ−ターシャリブチルスチレ
ンとの共重合体、スチレンとジビニルベンゼンとの共重
合体を挙げることができる。
【００３９】上記単量体は、それぞれ単独で重合させて
もよく、また二種以上を組み合わせて重合させてもよ
い。 （３）重合方法 重合方法としては、塊状重合でもよく、ペンタン，ヘキ
サン，ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン
などの脂環族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キ
シレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中で
行ってもよい。また、重合温度は特に制限はないが、一
般には０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であ
る。また、気体状モノマーを使用する際の気体状モノマ
ーの分圧は、一般には３００気圧以下、好ましくは３０
気圧以下である。
もよく、また二種以上を組み合わせて重合させてもよ
い。 （３）重合方法 重合方法としては、塊状重合でもよく、ペンタン，ヘキ
サン，ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン
などの脂環族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キ
シレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中で
行ってもよい。また、重合温度は特に制限はないが、一
般には０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であ
る。また、気体状モノマーを使用する際の気体状モノマ
ーの分圧は、一般には３００気圧以下、好ましくは３０
気圧以下である。
【００４０】
（１）粘土鉱物の化学処理 市販のモンモリロナイト（クニミネ工業社製、クニピア
Ｆ）４０ｇを粉砕機で４時間粉砕した。５００ミリリッ
トル容積の三ツ口セパラブルフラスコに粉砕モンモリロ
ナイト２０ｇを入れ、塩化マグネシウム六水和物２０ｇ
を溶解させた脱イオン水１００ミリリットル中に分散さ
せ、攪拌下９０℃で０．５時間処理した。処理後、固体
成分を水洗した。この処理操作をもう一度繰り返して、
塩化マグネシウム処理モンモリロナイトを得た。次にこ
れを６％の塩酸水溶液１６０ミリリットルに分散させ
て、攪拌しながら還流下で２時間処理した。処理後、ろ
液が中性になるまで水洗を繰り返し、乾燥を行なって、
化学処理モンモリロナイトを得た。 （２）有機アルミニウム系化合物による化学処理 ３００ミリリットル容積のシュレンク管に（１）で得た
化学処理モンモリロナイト（水分含有率１０重量％：１
５０℃で１時間の加熱脱水処理時の重量減量から求め
た。以下同様）２．０ｇを入れ、トルエン１００ミリリ
ットルに分散させてスラリーとした。この中に、トリイ
ソブチルアルミニウム６．３ミリリットル（２５ミリモ
ル）を添加した。得られたスラリーを、室温で６０時間
攪拌した後、昇温を行ない９０℃で１時間反応させた。
反応後上澄み液を抜き出し、固体成分をトルエン２００
ミリリットルで洗浄した。このろ過操作を繰り返した。
次いで、この洗浄スラリーに新たにトルエンを加えて全
量を１００ミリリットルとし、次の調製に用いた。 〔製造例２〕 （１）粘土鉱物の化学処理 市販のヘクトライト（コープケミカル社製、ＳＷＮ２７
３９）５０ｇを粉砕機で４時間粉砕した。３リットル容
積の三ツ口フラスコに粉砕ヘクトライト２０ｇを入れ、
脱塩水２リットルを加え、攪拌下室温で一晩分散させ
た。続いて、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム塩酸塩２．
７ｇを溶解させた脱イオン水２００ミリリットルを加
え、攪拌下６０℃で１時間処理した。処理後、固体成分
を水洗した。この処理操作を５回繰り返して、乾燥を行
なって、化学処理ヘクトライトを得た。 （２）有機アルミニウム系化合物による化学処理 ３００ミリリットル容積のシュレンク管に（１）で得た
化学処理ヘクトライト（水分含有率３重量％：１５０℃
で１時間の加熱脱水処理時の重量減量から求めた。以下
同様）３．１ｇを入れ、トルエン１５０ミリリットルに
分散させてスラリーとした。この中に、トリイソブチル
アルミニウム１２．６ミリリットル（５０．１ミリモ
ル）を添加した。得られたスラリーを、室温で６０時間
攪拌した後、昇温を行ない９０℃で１時間反応させた。
反応後上澄み液を抜き出し、固体成分をトルエン２００
ミリリットルで洗浄した。このろ過操作を繰り返した。
次いで、この洗浄スラリーに新たにトルエンを加えて全
量を１５０ミリリットルとし、次の調製に用いた。 〔製造例３〕 （１）化学処理粘土の調製 市販のサポナイト（クニミネ工業社製、スメクトンＳ
Ａ）４０ｇを粉砕機で４時間粉砕した。５００ミリリッ
トル容積の三ツ口セパラブルフラスコに粉砕サポナイト
２０ｇを入れ、硫酸アルミニウム１４〜１８水２０ｇを
溶解させた脱イオン水２００ミリリットル中に分散さ
せ、攪拌下９０℃で０．５時間処理した。
Ｆ）４０ｇを粉砕機で４時間粉砕した。５００ミリリッ
トル容積の三ツ口セパラブルフラスコに粉砕モンモリロ
ナイト２０ｇを入れ、塩化マグネシウム六水和物２０ｇ
を溶解させた脱イオン水１００ミリリットル中に分散さ
せ、攪拌下９０℃で０．５時間処理した。処理後、固体
成分を水洗した。この処理操作をもう一度繰り返して、
塩化マグネシウム処理モンモリロナイトを得た。次にこ
れを６％の塩酸水溶液１６０ミリリットルに分散させ
て、攪拌しながら還流下で２時間処理した。処理後、ろ
液が中性になるまで水洗を繰り返し、乾燥を行なって、
化学処理モンモリロナイトを得た。 （２）有機アルミニウム系化合物による化学処理 ３００ミリリットル容積のシュレンク管に（１）で得た
化学処理モンモリロナイト（水分含有率１０重量％：１
５０℃で１時間の加熱脱水処理時の重量減量から求め
た。以下同様）２．０ｇを入れ、トルエン１００ミリリ
ットルに分散させてスラリーとした。この中に、トリイ
ソブチルアルミニウム６．３ミリリットル（２５ミリモ
ル）を添加した。得られたスラリーを、室温で６０時間
攪拌した後、昇温を行ない９０℃で１時間反応させた。
反応後上澄み液を抜き出し、固体成分をトルエン２００
ミリリットルで洗浄した。このろ過操作を繰り返した。
次いで、この洗浄スラリーに新たにトルエンを加えて全
量を１００ミリリットルとし、次の調製に用いた。 〔製造例２〕 （１）粘土鉱物の化学処理 市販のヘクトライト（コープケミカル社製、ＳＷＮ２７
３９）５０ｇを粉砕機で４時間粉砕した。３リットル容
積の三ツ口フラスコに粉砕ヘクトライト２０ｇを入れ、
脱塩水２リットルを加え、攪拌下室温で一晩分散させ
た。続いて、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム塩酸塩２．
７ｇを溶解させた脱イオン水２００ミリリットルを加
え、攪拌下６０℃で１時間処理した。処理後、固体成分
を水洗した。この処理操作を５回繰り返して、乾燥を行
なって、化学処理ヘクトライトを得た。 （２）有機アルミニウム系化合物による化学処理 ３００ミリリットル容積のシュレンク管に（１）で得た
化学処理ヘクトライト（水分含有率３重量％：１５０℃
で１時間の加熱脱水処理時の重量減量から求めた。以下
同様）３．１ｇを入れ、トルエン１５０ミリリットルに
分散させてスラリーとした。この中に、トリイソブチル
アルミニウム１２．６ミリリットル（５０．１ミリモ
ル）を添加した。得られたスラリーを、室温で６０時間
攪拌した後、昇温を行ない９０℃で１時間反応させた。
反応後上澄み液を抜き出し、固体成分をトルエン２００
ミリリットルで洗浄した。このろ過操作を繰り返した。
次いで、この洗浄スラリーに新たにトルエンを加えて全
量を１５０ミリリットルとし、次の調製に用いた。 〔製造例３〕 （１）化学処理粘土の調製 市販のサポナイト（クニミネ工業社製、スメクトンＳ
Ａ）４０ｇを粉砕機で４時間粉砕した。５００ミリリッ
トル容積の三ツ口セパラブルフラスコに粉砕サポナイト
２０ｇを入れ、硫酸アルミニウム１４〜１８水２０ｇを
溶解させた脱イオン水２００ミリリットル中に分散さ
せ、攪拌下９０℃で０．５時間処理した。
【００４１】粘土の硫酸アルミニウム水溶液による処理
を再度繰返した。処理後、得られた粘土スラリーは加圧
ろ過し、水洗操作はろ液が中性になるまで行った。 ろ
過物は常温で真空下２４時間乾燥を行ない、硫酸アルミ
ニウム処理サポナイト（化学処理粘土Ａ）を得た。化学
処理粘土Ａの水分含量は、２０％であった。但し、水分
含量の測定は、乾燥した化学処理粘土をマッフル炉に入
れ、３０分で１５０℃に昇温し、その温度で１時間保持
して得られた粘土の重量減少から求めた。 （２）有機アルミニウム系化合物による化学処理 ３００ミリリットル容積のシュレンク管に化学処理粘土
Ａ（水分含有率２０重量％）１．０ｇとトルエン２５ｍ
ｌを入れ、脱気・窒素置換した。 次に、窒素気流下、
管内にＴＩＢＡ稀釈液（０．５モル／リットルのＴＩＢ
Ａトルエン溶液）５０ミリリットルを添加し、攪拌しな
がら、３０分かけて１００℃に昇温し、その温度で１時
間保持した。冷却後、トルエン１５０ミリリットル添加
し、攪拌静置し、粘土スラリーを洗浄した。
を再度繰返した。処理後、得られた粘土スラリーは加圧
ろ過し、水洗操作はろ液が中性になるまで行った。 ろ
過物は常温で真空下２４時間乾燥を行ない、硫酸アルミ
ニウム処理サポナイト（化学処理粘土Ａ）を得た。化学
処理粘土Ａの水分含量は、２０％であった。但し、水分
含量の測定は、乾燥した化学処理粘土をマッフル炉に入
れ、３０分で１５０℃に昇温し、その温度で１時間保持
して得られた粘土の重量減少から求めた。 （２）有機アルミニウム系化合物による化学処理 ３００ミリリットル容積のシュレンク管に化学処理粘土
Ａ（水分含有率２０重量％）１．０ｇとトルエン２５ｍ
ｌを入れ、脱気・窒素置換した。 次に、窒素気流下、
管内にＴＩＢＡ稀釈液（０．５モル／リットルのＴＩＢ
Ａトルエン溶液）５０ミリリットルを添加し、攪拌しな
がら、３０分かけて１００℃に昇温し、その温度で１時
間保持した。冷却後、トルエン１５０ミリリットル添加
し、攪拌静置し、粘土スラリーを洗浄した。
【００４２】トルエンによる洗浄操作を再度繰返した
後、スラリー液全量をトルエンで５０ミリリットルに調
製し、修飾化処理粘土Ａを調製した。 〔実施例１〕 （１）シンジオタクチックポリスチレン系重合体を与え
るスチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、トリイソブチ
ルアルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリット
ル、メチルアルミノキサンの１．４６Ｍトルエン溶液
０．１４ミリリットル、およびペンタメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメトキシドの５０ｍＭトルエ
ン溶液０．４ミリリットルを加えた。 （２）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の添
加 上記（１）により、各成分を接触させた後、３０分間経
過したものについて、製造例１で調製された粘土、粘土
鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌト
ルエン溶液を６ミリリットル、トルエン１３．２ミリリ
ットルを添加し、スチレン系重合体製造用触媒を得た。 （３）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を８０℃のオイルバスにセットし、上記
（２）のスチレン系重合体製造用触媒１．２５ミリリッ
トルを加えた。８０℃で１時間重合した後、ガラス瓶を
オイルバスから取出し、重合溶液をメタノールで処理し
た。重合物を取出し、メタノールで洗浄した後、乾燥を
行った。シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
１．５９４ｇを得、重合系に投入した金属Ｔｉ１グラム
あたりの触媒活性は２６．６（ｋｇ／ｇＴｉ）であっ
た。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、６３８０００
であった。 〔比較例１〕 （１）スチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、製造例１で調
製された粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の
０．０２ｇ／ｍｌトルエン溶液を６ミリリットル、及び
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリメト
キシドの５０ｍＭトルエン溶液０．４ミリリットルを加
え、トルエン１３．２ミリリットル、トリイソブチルア
ルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリットルを
加え、さらにメチルアルミノキサンの１．４６Ｍトルエ
ン溶液０．１４ミリリットルを加えてスチレン系重合体
製造用触媒を得た。 （２）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を８０℃のオイルバスにセットし、上記
（１）のスチレン系重合体製造用触媒１．２５ミリリッ
トルを加えた。８０℃で１時間重合した後、ガラス瓶を
オイルバスから取出し、重合溶液をメタノールで処理し
た。重合物を取出し、メタノールで洗浄した後、乾燥を
行った。シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
１．０２７ｇを得、重合系に投入した金属Ｔｉ１グラム
あたりの触媒活性は１７．１（ｋｇ／ｇＴｉ）であっ
た。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、７９９０００
であった。 〔実施例２〕 （１）シンジオタクチックポリスチレン系重合体を与え
るスチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、トリイソブチ
ルアルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリット
ル、メチルアルミノキサンの１．４４Ｍトルエン溶液
０．６９ミリリットル、およびペンタメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメトキシドの５０ｍＭトルエ
ン溶液０．４ミリリットルを加え、シンジオタクチック
ポリスチレン系重合体を与えるスチレン系重合体製造用
触媒を調製した。 （２）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の添
加 上記（１）により、各成分を接触させた後、３０分間経
過したものについて、製造例１で調製された粘土、粘土
鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌト
ルエン溶液を６ミリリットル、トルエン１２．６６ミリ
リットルを添加し、スチレン系重合体製造用触媒を得
た。 （３）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を６０℃のオイルバスにセットし、上記
（２）のスチレン系重合体製造用触媒０．２５ミリリッ
トルを加えた。６０℃で１時間重合した後、ガラス瓶を
オイルバスから取出し、重合溶液をメタノールで処理し
た。重合物を取出し、メタノールで洗浄した後、乾燥を
行った。シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
３．４５６ｇを得、重合系に投入した金属Ｔｉ１グラム
あたりの触媒活性は２８８（ｋｇ／ｇＴｉ）であった。
得られたＳＰＳの重量平均分子量は、２３１００００で
あった。 〔実施例３〕製造例１で調製された粘土、粘土鉱物又は
イオン交換性層状化合物の代わりに製造例２で調製され
た粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０
２ｇ／ｍｌトルエン溶液を６ミリリットルを用いること
以外、実施例２と同様に行なった。その結果、ＳＰＳ
４．１９ｇを得、触媒活性は ３４９（ｋｇ／ｇＴｉ）
であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、２１２
００００であった。 〔実施例４〕製造例１で調製された粘土、粘土鉱物又は
イオン交換性層状化合物の代わりに製造例３で調製され
た粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０
２ｇ／ｍｌトルエン溶液を６ミリリットルを用いること
以外、実施例２と同様に行なった。その結果、ＳＰＳ
３．２５７ｇを得、触媒活性は ２７１（ｋｇ／ｇＴ
ｉ）であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、１
７４００００であった。 〔実施例５〕 （１）シンジオタクチックポリスチレン系重合体を与え
るスチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、トリイソブチ
ルアルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリット
ル、メチルアルミノキサンの１．４４Ｍトルエン溶液
０．３５ミリリットル、および１、２、３、４、５、
６、７、８―オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリ
メトキシドの２５０ｍＭトルエン溶液０．０８ミリリッ
トルを加え、シンジオタクチックポリスチレン系重合体
を与えるスチレン系重合体製造用触媒を調製した。 （２）重合触媒の調製 上記（１）で調製されたシンジオタクチックポリスチレ
ン系重合体を与えるスチレン系重合体製造用触媒０．６
８ミリリットルの溶液に実施例１で調製された粘土、粘
土鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌ
トルエン溶液を６ミリリットル、トルエン１３．３２ミ
リリットル加え、混合液を調製した。 （３）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を６０℃のオイルバスにセットし、上記
（２）混合溶液０．２５ミリリットルを加えた。６０℃
で１時間重合した後、ガラス瓶をオイルバスから取出
し、重合溶液をメタノールで処理した。重合物を取出
し、メタノールで洗浄した後、乾燥を行った。ＳＰＳ
０．９４３ｇを得、触媒活性は ７９（ｋｇ／ｇＴｉ）
であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、６５０
０００であった。 〔実施例６〕製造例１で調製された粘土、粘土鉱物又は
イオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌトルエン溶
液を１５ミリリットル、トルエン４．３２ミリリットル
を加えること以外、実施例５と同様に行なった。その結
果、ＳＰＳ１．４３５ｇを得、触媒活性は１２０（ｋｇ
／ｇＴｉ）であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量
は、４０６０００であった。
後、スラリー液全量をトルエンで５０ミリリットルに調
製し、修飾化処理粘土Ａを調製した。 〔実施例１〕 （１）シンジオタクチックポリスチレン系重合体を与え
るスチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、トリイソブチ
ルアルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリット
ル、メチルアルミノキサンの１．４６Ｍトルエン溶液
０．１４ミリリットル、およびペンタメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメトキシドの５０ｍＭトルエ
ン溶液０．４ミリリットルを加えた。 （２）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の添
加 上記（１）により、各成分を接触させた後、３０分間経
過したものについて、製造例１で調製された粘土、粘土
鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌト
ルエン溶液を６ミリリットル、トルエン１３．２ミリリ
ットルを添加し、スチレン系重合体製造用触媒を得た。 （３）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を８０℃のオイルバスにセットし、上記
（２）のスチレン系重合体製造用触媒１．２５ミリリッ
トルを加えた。８０℃で１時間重合した後、ガラス瓶を
オイルバスから取出し、重合溶液をメタノールで処理し
た。重合物を取出し、メタノールで洗浄した後、乾燥を
行った。シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
１．５９４ｇを得、重合系に投入した金属Ｔｉ１グラム
あたりの触媒活性は２６．６（ｋｇ／ｇＴｉ）であっ
た。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、６３８０００
であった。 〔比較例１〕 （１）スチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、製造例１で調
製された粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の
０．０２ｇ／ｍｌトルエン溶液を６ミリリットル、及び
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリメト
キシドの５０ｍＭトルエン溶液０．４ミリリットルを加
え、トルエン１３．２ミリリットル、トリイソブチルア
ルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリットルを
加え、さらにメチルアルミノキサンの１．４６Ｍトルエ
ン溶液０．１４ミリリットルを加えてスチレン系重合体
製造用触媒を得た。 （２）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を８０℃のオイルバスにセットし、上記
（１）のスチレン系重合体製造用触媒１．２５ミリリッ
トルを加えた。８０℃で１時間重合した後、ガラス瓶を
オイルバスから取出し、重合溶液をメタノールで処理し
た。重合物を取出し、メタノールで洗浄した後、乾燥を
行った。シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
１．０２７ｇを得、重合系に投入した金属Ｔｉ１グラム
あたりの触媒活性は１７．１（ｋｇ／ｇＴｉ）であっ
た。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、７９９０００
であった。 〔実施例２〕 （１）シンジオタクチックポリスチレン系重合体を与え
るスチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、トリイソブチ
ルアルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリット
ル、メチルアルミノキサンの１．４４Ｍトルエン溶液
０．６９ミリリットル、およびペンタメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメトキシドの５０ｍＭトルエ
ン溶液０．４ミリリットルを加え、シンジオタクチック
ポリスチレン系重合体を与えるスチレン系重合体製造用
触媒を調製した。 （２）粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の添
加 上記（１）により、各成分を接触させた後、３０分間経
過したものについて、製造例１で調製された粘土、粘土
鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌト
ルエン溶液を６ミリリットル、トルエン１２．６６ミリ
リットルを添加し、スチレン系重合体製造用触媒を得
た。 （３）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を６０℃のオイルバスにセットし、上記
（２）のスチレン系重合体製造用触媒０．２５ミリリッ
トルを加えた。６０℃で１時間重合した後、ガラス瓶を
オイルバスから取出し、重合溶液をメタノールで処理し
た。重合物を取出し、メタノールで洗浄した後、乾燥を
行った。シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
３．４５６ｇを得、重合系に投入した金属Ｔｉ１グラム
あたりの触媒活性は２８８（ｋｇ／ｇＴｉ）であった。
得られたＳＰＳの重量平均分子量は、２３１００００で
あった。 〔実施例３〕製造例１で調製された粘土、粘土鉱物又は
イオン交換性層状化合物の代わりに製造例２で調製され
た粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０
２ｇ／ｍｌトルエン溶液を６ミリリットルを用いること
以外、実施例２と同様に行なった。その結果、ＳＰＳ
４．１９ｇを得、触媒活性は ３４９（ｋｇ／ｇＴｉ）
であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、２１２
００００であった。 〔実施例４〕製造例１で調製された粘土、粘土鉱物又は
イオン交換性層状化合物の代わりに製造例３で調製され
た粘土、粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０
２ｇ／ｍｌトルエン溶液を６ミリリットルを用いること
以外、実施例２と同様に行なった。その結果、ＳＰＳ
３．２５７ｇを得、触媒活性は ２７１（ｋｇ／ｇＴ
ｉ）であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、１
７４００００であった。 〔実施例５〕 （１）シンジオタクチックポリスチレン系重合体を与え
るスチレン系重合体製造用触媒の調製 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、トリイソブチ
ルアルミニウムの２Ｍトルエン溶液０．２５ミリリット
ル、メチルアルミノキサンの１．４４Ｍトルエン溶液
０．３５ミリリットル、および１、２、３、４、５、
６、７、８―オクタヒドロフルオレニルチタニウムトリ
メトキシドの２５０ｍＭトルエン溶液０．０８ミリリッ
トルを加え、シンジオタクチックポリスチレン系重合体
を与えるスチレン系重合体製造用触媒を調製した。 （２）重合触媒の調製 上記（１）で調製されたシンジオタクチックポリスチレ
ン系重合体を与えるスチレン系重合体製造用触媒０．６
８ミリリットルの溶液に実施例１で調製された粘土、粘
土鉱物又はイオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌ
トルエン溶液を６ミリリットル、トルエン１３．３２ミ
リリットル加え、混合液を調製した。 （３）重合 ３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン１０ミリリット
ル、トリイソブチルアルミニウムの０．５Ｍトルエン溶
液０．０１ミリリットルを窒素雰囲気下で混合した。こ
のガラス瓶を６０℃のオイルバスにセットし、上記
（２）混合溶液０．２５ミリリットルを加えた。６０℃
で１時間重合した後、ガラス瓶をオイルバスから取出
し、重合溶液をメタノールで処理した。重合物を取出
し、メタノールで洗浄した後、乾燥を行った。ＳＰＳ
０．９４３ｇを得、触媒活性は ７９（ｋｇ／ｇＴｉ）
であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量は、６５０
０００であった。 〔実施例６〕製造例１で調製された粘土、粘土鉱物又は
イオン交換性層状化合物の０．０２ｇ／ｍｌトルエン溶
液を１５ミリリットル、トルエン４．３２ミリリットル
を加えること以外、実施例５と同様に行なった。その結
果、ＳＰＳ１．４３５ｇを得、触媒活性は１２０（ｋｇ
／ｇＴｉ）であった。得られたＳＰＳの重量平均分子量
は、４０６０００であった。
【００４３】
【発明の効果】本発明によると、スチレン系重合体の製
造の用に供される高活性なスチレン系重合体製造用触媒
を製造することができる。また、特に主としてシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を高活性で製
造することができる。
造の用に供される高活性なスチレン系重合体製造用触媒
を製造することができる。また、特に主としてシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を高活性で製
造することができる。
Claims (5)
- 【請求項１】 （Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有
化合物及び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の
錯体を形成しうる化合物、及び（Ｃ）粘土，粘土鉱物も
しくはイオン交換性層状化合物を用いてスチレン系重合
体製造用触媒を製造する方法において、上記（Ａ）成分
及び（Ｂ）成分を接触させた後、（Ｃ）成分を添加する
ことを特徴とするスチレン系重合体製造用触媒の製造方
法。 - 【請求項２】 （Ａ）遷移金属化合物、（Ｂ）酸素含有
化合物及び／又は遷移金属化合物と反応してイオン性の
錯体を形成しうる化合物、（Ｄ）アルキル化剤、及び
（Ｃ）粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物
を用いてスチレン系重合体製造用触媒を製造する方法に
おいて、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｄ）成分を
接触させた後、（Ｃ）成分を添加することを特徴とする
スチレン系重合体製造用触媒の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の（Ａ）遷移金属
化合物が、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される請求
項１又は２に記載のスチレン系重合体製造用触媒の製造
方法。 ＺＭＸa-1 Ｌb ・・・（Ｉ） ＭＸa Ｌb ・・・（II） ［式中、Ｚはπ配位子で、シクロペンタジエニル基，置
換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデ
ニル基，フルオレニル基，置換フルオレニル基を示し、
Ｍは遷移金属、Ｘはσ配位子を示す。複数のＸは互いに
同一でも異なっていてもよく、また、互いに任意の基を
会して結合していてもよい。Ｌはルイス塩基、ａはＭの
価数、ｂは０、１又は２を示し、Ｌが複数の場合、各Ｌ
は互いに同一でも異なっていてもよい。］ - 【請求項４】 請求項１〜３に記載の方法によって得た
スチレン系重合体製造用触媒を用いることを特徴とする
スチレン系重合体の製造方法。 - 【請求項５】 スチレン系重合体が、主としてシンジオ
タクチック構造を有するものである請求項４に記載のス
チレン系重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12700998A JPH11322823A (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | スチレン系重合体製造用触媒の製造方法及びスチレン系重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12700998A JPH11322823A (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | スチレン系重合体製造用触媒の製造方法及びスチレン系重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11322823A true JPH11322823A (ja) | 1999-11-26 |
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ID=14949434
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12700998A Pending JPH11322823A (ja) | 1998-05-11 | 1998-05-11 | スチレン系重合体製造用触媒の製造方法及びスチレン系重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11322823A (ja) |
-
1998
- 1998-05-11 JP JP12700998A patent/JPH11322823A/ja active Pending
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