JPH11335386A - 遷移金属化合物、それを用いた重合用触媒及び該重合用触媒を用いた重合体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エチレン性不飽和結合含有化合物の重合体、
特に高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体を高活性触媒により製造する方法の開発。 【解決手段】（Ａ）１−トリメチルシリルメチル−２−
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリメトキシドのような特定の遷移金属化合物、
（Ｂ）（イ）酸素含有化合物、（ロ）遷移金属化合物と
反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物又は（ハ）
粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物と、必
要に応じて（Ｃ）アルキル化剤からなる重合用触媒を用
いて、エチレン性不飽和結合含有化合物の重合体、特に
シンジオタクチックスチレン系重合体を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エチレン性不飽和
結合含有化合物の重合用触媒、特にスチレン類重合用触
媒の成分として有用な遷移金属化合物、それを用いた重
合用触媒及び該触媒を用いた重合体の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレン類やポリプロピレン類など
のオレフィン系重合体は、チーグラー・ナッタ触媒を基
本とする触媒系を用いて製造されることが知られている
が、近年、π配位子を有し、該π配位子と中心金属元素
とが任意の基を介して結合してなる遷移金属化合物を触
媒成分とする重合用触媒、いわゆるメタロセン触媒を用
いて、オレフィン系重合体を製造することが様々に試み
られている。そして、π配位子として、インデニル基や
フルオレニル基のような芳香環を含む縮合多環式シクロ
ペンタジエニル基である遷移金属化合物を含有する触媒
も種々提案されてはいる。例えば、インデニル基をπ配
位子として有する遷移金属化合物とアルミノキサンとを
組み合わせた触媒を用いることにより、シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体が得られること（特
開平１−２９４７０５号公報）や、π配位子として、シ
クロペンタジエニル基が縮合結合している多員環の少な
くとも一つが飽和環である縮合多環式シクロペンタジエ
ニル基を有する特定構造の遷移金属化合物（特開平７−
２４７３０７号公報）等である。

【０００３】しかしながら、それらにおいて具体的に開
示されている内容では、その活性について充分に満足し
うるものが得られていないのが現状である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる状況
下で、（ｉ）エチレン性不飽和結合含有化合物の重合用
触媒の成分として有用な新規な遷移金属化合物、（ii）
該化合物を含有する高活性のエチレン性不飽和結合含有
化合物の重合用触媒、及び（iii)この重合用触媒を用い
て、エチレン性不飽和結合含有化合物の重合体、特に高
度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
を低いコストで効率よく製造する方法を提供することを
目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定のシクロ
ペンタジエニル基類を有する遷移金属化合物が、エチレ
ン性不飽和結合含有化合物の重合用触媒、特にスチレン
類の重合用触媒の成分として有用であること、（ii）こ
の遷移金属化合物と、酸素含有化合物及び／又は遷移金
属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物
及び／又は（ハ）粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性
層状化合物、及び必要に応じて用いられるアルキル化剤
からなる重合用触媒が高活性を有し、エチレン性不飽和
結合含有化合物を効率よく重合しうること、特に、上記
の重合用触媒を用いてスチレン類を重合させることによ
り、高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体が低いコストで効率よく得られることを見出し
た。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものであ
る。

【０００６】すなわち、本発明は、以下を提供するもの
である。 （１）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物。 ＣｐＭＸ_a-1 Ｌ_b ・・・（Ｉ） [式中，Ｃｐは，下記一般式（II）で表される置換基Ｒ
¹ を少なくとも一つ以上有し、残りの置換基Ｒ² が、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水
素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜
３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基、炭素数６〜３
０のチオアリーロキシ基、アミノ基、アミド基、カルボ
キシル基又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基である
シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基，インデニル基，置換インデニル基，フルオレニル基
又は置換フルオレニル基を表す。ここで、Ｒ² は相互に
同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ¹ ，Ｒ²
を問わず、Ｃｐ上の置換基は、互いに結合し、環状化合
物となっていてもよい。Ｍは、４族〜１０族の遷移金
属、Ｘはσ配位子を示し、複数のＸは互いに同一でも異
なっていてもよく、また任意の基を介して結合していて
もよい。Ｌはルイス塩基， aはＭの価数，ｂは０、１又
は２を示し，Ｌが複数の場合，各Ｌは互いに同一でも異
なっていてもよい。]

【０００７】

【化６】

【０００８】[式中、Ｙは、珪素原子，ゲルマニウム原
子又は錫原子を示し、ｎは、1 以上の整数を示す。Ｒ³
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭
化水素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数
１〜３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキ
シ基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜
３０のチオアリーロキシ基，アミノ基、アミド基、カル
ボキシル基、又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基を
示す。Ｒ³ は相互に同一であっても異なっていてもよ
い。] （２）下記一般式（III）で表される遷移金属化合物。

【０００９】Ｃｐ₂ ＭＸ_a-2 Ｌ_b ・・・（III） [式中，Ｃｐは，下記一般式（II）で表される置換基Ｒ
¹ を少なくとも一つ以上有し、残りの置換基Ｒ² が、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水
素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜
３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基、炭素数６〜３
０のチオアリーロキシ基、アミノ基、アミド基、カルボ
キシル基又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基である
シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基，インデニル基，置換インデニル基，フルオレニル基
又は置換フルオレニル基を表す。ここで、Ｒ² は相互に
同一であっても異なっていてもよく、２つのＣｐは、１
つ又は２つ以上のＲ² によって連結されていてもよい。
また、Ｒ¹ ，Ｒ² を問わず、Ｃｐ上の置換基は、互いに
結合し、環状化合物となっていてもよい。Ｍは、４族〜
１０族の遷移金属、Ｘはσ配位子を示し、複数のＸは互
いに同一でも異なっていてもよく、また任意の基を介し
て結合していてもよい。Ｌはルイス塩基， aはＭの価
数，ｂは０、１又は２を示し，Ｌが複数の場合，各Ｌは
互いに同一でも異なっていてもよい。]

【００１０】

【化７】

【００１１】[式中、Ｙは、珪素原子，ゲルマニウム原
子又は錫原子を示し、ｎは、1 以上の整数を示す。Ｒ³
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭
化水素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数
１〜３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキ
シ基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜
３０のチオアリーロキシ基，アミノ基、アミド基、カル
ボキシル基、又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基を
示す。Ｒ³ は相互に同一であっても異なっていてもよ
い。] （３）（Ａ）上記（１）又は（２）に記載の少なくとも
一種の遷移金属化合物と、（Ｂ）次の（イ），（ロ）及
び（ハ）から選ばれた少なくとも一種の化合物、及び必
要に応じて、（Ｃ）アルキル化剤からなるエチレン性不
飽和結合含有化合物の重合用触媒。（イ）酸素含有化合
物，（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を
形成しうる化合物，及び（ハ）粘土，粘土鉱物もしくは
イオン交換性層状化合物。 （４）上記（３）に記載の遷移金属化合物（Ａ）におい
て、そのＣｐが、下記一般式（IV）で表される遷移金属
化合物である上記（３）に記載の重合用触媒。 （５）（Ａ）上記（１）又は（２）に記載の遷移金属化
合物と、（Ｂ）（イ）酸素含有化合物，又は（ロ）遷移
金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合
物からなるスチレン類の重合用触媒。 （６）（Ａ）上記（１）又は（２）に記載の遷移金属化
合物、（Ｂ）（イ）酸素含有化合物，又は（ロ）遷移金
属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合
物、及び（Ｃ）アルキル化剤からなるスチレン類の重合
用触媒。 （７）上記（３）〜（６）のいずれかに記載の遷移金属
化合物（Ａ）において、そのＣｐが、下記一般式（IV）
で表される遷移金属化合物である上記（３）〜（６）の
いずれかに記載の重合用触媒。

【００１２】

【化８】

【００１３】[式中、Ｒ⁴ のうち、少なくとも１つは下
記一般式（Ｖ）で表される構造を有するアルキルシリル
アルキル基であり、残りのＲ⁴ は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜３
０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキシ
基、炭素数６〜３０のアリーロキシ基、炭素数１〜３０
のチオアルコキシ基，炭素数６〜３０のチオアリーロキ
シ基，アミノ基、アミド基、カルボキシル基、又は炭素
数３〜３０、好ましくは炭素数３〜２０のアルキルシリ
ル基を示す。Ｒ⁴ は相互に同一であっても異なっていて
もよい。]

【００１４】

【化９】

【００１５】[式中、ｎは1 以上の整数を示す。Ｒ⁵ は
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化
水素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１
〜３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜３
０のチオアリーロキシ基，アミノ基、アミド基、カルボ
キシル基、又は炭素数３〜３０、好ましくは炭素数３〜
２０のアルキルシリル基を示す。Ｒ⁵ は相互に同一であ
っても異なっていてもよい。] （８）上記（３）〜（６）のいずれかに記載の遷移金属
化合物（Ａ）において、そのＣｐが、下記一般式（VI）
で表される遷移金属化合物である上記（３）〜（６）の
いずれかに記載の重合用触媒。

【００１６】

【化１０】

【００１７】（９）上記（３），（４），（７）又は
（８）のいずれかに記載の重合用触媒を用いることを特
徴とするエチレン性不飽和結合含有化合物重合体の製造
方法。 （１０）上記（５）〜（８）のいずれかに記載の重合用
触媒を用いてスチレン類又はスチレン類と他の重合性不
飽和化合物とを重合させることを特徴とするスチレン系
重合体の製造方法。 （１１）スチレン系重合体が高度のシンジオタクチック
構造を有するものである上記（１０）に記載のスチレン
系重合体の製造方法。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて詳しく説明する。 １．遷移金属化合物 本発明の遷移金属化合物は、次に示すものである。 （１）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物 ＣｐＭＸ_a-1 Ｌ_b ・・・（Ｉ） [式中，Ｃｐは，下記一般式（II）で表される置換基Ｒ
¹ を少なくとも一つ以上有し、残りの置換基Ｒ² が、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水
素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜
３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基、炭素数６〜３
０のチオアリーロキシ基、アミノ基、アミド基、カルボ
キシル基又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基である
シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基，インデニル基，置換インデニル基，フルオレニル基
又は置換フルオレニル基を表す。ここで、Ｒ² は相互に
同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ¹ ，Ｒ²
を問わず、Ｃｐ上の置換基は、互いに結合し、環状化合
物となっていてもよい。Ｍは、４族〜１０族の遷移金
属、Ｘはσ配位子を示し、具体的には水素原子、ハロゲ
ン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６
〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキ
シ基もしくはチオアルコキシ基、炭素数６〜３０のチオ
アリーロキシ基又は炭素数１〜３０のアミノ基、アミド
基、カルボキシル基もしくはアルキルシリル基等が挙げ
られ、複数のＸは互いに同一でも異なっていてもよく、
また任意の基を介して結合していてもよい。Ｌはルイス
塩基， aはＭの価数，ｂは０、１又は２を示し，Ｌが複
数の場合，各Ｌは互いに同一でも異なっていてもよ
い。]

【００１９】

【化１１】

【００２０】[式中、Ｙは、珪素原子，ゲルマニウム原
子又は錫原子を示し、ｎは、1 以上の整数を示す。Ｒ³
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭
化水素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数
１〜３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキ
シ基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜
３０のチオアリーロキシ基，アミノ基、アミド基、カル
ボキシル基、又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基を
示す。Ｒ³ は相互に同一であっても異なっていてもよ
い。] （２）下記一般式（III）で表される遷移金属化合物。

【００２１】Ｃｐ₂ ＭＸ_a-2 Ｌ_b ・・・（III） [式中，Ｃｐは，下記一般式（II）で表される置換基Ｒ
¹ を少なくとも一つ以上有し、残りの置換基Ｒ² が、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水
素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜
３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基、炭素数６〜３
０のチオアリーロキシ基、アミノ基、アミド基、カルボ
キシル基又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基である
シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
基，インデニル基，置換インデニル基，フルオレニル基
又は置換フルオレニル基を表す。ここで、Ｒ² は相互に
同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ¹ ，Ｒ²
を問わず、Ｃｐ上の置換基は、互いに結合し、環状化合
物となっていてもよい。Ｍは、４族〜１０族の遷移金
属、Ｘはσ配位子を示し、具体的には水素原子、ハロゲ
ン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６
〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキ
シ基もしくはチオアルコキシ基、炭素数６〜３０のチオ
アリーロキシ基又は炭素数１〜３０のアミノ基、アミド
基、カルボキシル基もしくはアルキルシリル基等が挙げ
られ、複数のＸは互いに同一でも異なっていてもよく、
また任意の基を介して結合していてもよい。Ｌはルイス
塩基， aはＭの価数，ｂは０、１又は２を示し，Ｌが複
数の場合，各Ｌは互いに同一でも異なっていてもよ
い。]

【００２２】

【化１２】

【００２３】[式中、Ｙは、珪素原子，ゲルマニウム原
子又は錫原子を示し、ｎは、1 以上の整数を示す。Ｒ³
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭
化水素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数
１〜３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキ
シ基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜
３０のチオアリーロキシ基，アミノ基、アミド基、カル
ボキシル基、又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基を
示す。Ｒ³ は相互に同一であっても異なっていてもよ
い。] （３）後述する重合用触媒における（Ａ）成分である遷
移金属化合物としては、好ましくは次のものがあげられ
る。

【００２４】前述の遷移金属化合物において、そのＣ
ｐが、下記一般式（IV）で表される遷移金属化合物であ
る。

【００２５】

【化１３】

【００２６】[式中、Ｒ⁴ のうち、少なくとも１つは下
記一般式（Ｖ）で表される構造を有するアルキルシリル
アルキル基であり、残りのＲ⁴ は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜３
０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキシ
基、炭素数６〜３０のアリーロキシ基、炭素数１〜３０
のチオアルコキシ基，炭素数６〜３０のチオアリーロキ
シ基，アミノ基、アミド基、カルボキシル基、又は炭素
数３〜３０、好ましくは３〜２０のアルキルシリル基を
示す。Ｒ⁴ は相互に同一であっても異なっていてもよ
い。]

【００２７】

【化１４】

【００２８】[式中、ｎは1 以上の整数を示す。Ｒ⁵ は
水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化
水素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１
〜３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜３
０のチオアリーロキシ基，アミノ基、アミド基、カルボ
キシル基、又は炭素数３〜３０、好ましくは３〜２０の
アルキルシリル基を示す。Ｒ⁵ は相互に同一であっても
異なっていてもよい。] 前述の遷移金属化合物において、そのＣｐが、下記一
般式（VI）で表される遷移金属化合物である。

【００２９】

【化１５】

【００３０】（４）前述の遷移金属化合物におけるＣｐ
の具体例としては、１−トリメチルシリルメチルシクロ
ペンタジエニル基、１−メチル−２−トリメチルシリル
メチルシクロペンタジエニル基、１、２、３−トリメチ
ル−４−トリメチルシリルメチルシクロペンタジエニル
基、１、２、３、４−テトラメチル−５−トリメチルシ
リルメチルシクロペンタジエニル基、１−トリメチルシ
リルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
基，１−トリヒドロシリルメチル−４、５、６、７−テ
トラヒドロインデニル基，１−ジメチルフェニルシリル
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、
１−ジメチルエチルシリルメチル−４、５、６、７−テ
トラヒドロインデニル基、１−ジメチル（ｔ―ブチル）
シリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニ
ル基、２−トリメチルシリルメチル−４、５、６、７−
テトラヒドロインデニル基、２−トリヒドロシリルメチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、２−
ジメチルフェニルシリルメチル−４、５、６、７−テト
ラヒドロインデニル基、２−ジメチルエチルシリルメチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、２−
ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−４、５、６、７
−テトラヒドロインデニル基、１−トリメチルシリルメ
チル−２−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイン
デニル基、１−トリヒドロシリルメチル−２−メチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、１−ジメ
チルフェニルシリルメチル−２−メチル−４、５、６、
７−テトラヒドロインデニル基、１−ジメチルエチルシ
リルメチル−２−メチル−４、５、６、７−テトラヒド
ロインデニル基、、１−ジメチル（ｔ―ブチル）シリル
メチル−２−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニル基、２−トリメチルシリルメチル−１−メチル
−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、２−ト
リヒドロシリルメチル−１−メチル−４、５、６、７−
テトラヒドロインデニル基、２−ジメチルフェニルシリ
ルメチル−１−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロ
インデニル基、２−ジメチルエチルシリルメチル−１−
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、
２−ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−１−メチル
−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、１−ト
リメチルシリルメチル−３−メチル−４、５、６、７−
テトラヒドロインデニル基、１−トリヒドロシリルメチ
ル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデ
ニル基、１−ジメチルフェニルシリルメチル−３−メチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル基、１−
ジメチルエチルシリルメチル−３−メチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニル基、１−ジメチル（ｔ
―ブチル）シリルメチル−３−メチル−４、５、６、７
−テトラヒドロインデニル基等が挙げられる。 （５）前述の遷移金属化合物としては、具体的には、１
−トリメチルシリルメチルシクロペンタジエニルチタニ
ウムトリクロリド、１−トリメチルシリルメチルシクロ
ペンタジエニルチタニウムトリメトキシド、１−トリメ
チルシリルメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリ
メチル、１−トリメチルシリルメチルシクロペンタジエ
ニルチタニウムトリベンジル、１−メチル−２−トリメ
チルシリルメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリ
クロリド、１−メチル−２−トリメチルシリルメチルシ
クロペンタジエニルチタニウムトリメトキシド、１−メ
チル−２−トリメチルシリルメチルシクロペンタジエニ
ルチタニウムトリメチル、１−メチル−２−トリメチル
シリルメチルシクロペンタジエニルチタニウムトリベン
ジル、１、２、３−トリメチル−４−トリメチルシリル
メチルシクロペンタジエニルチタニウムトリクロリド、
１、２、３−トリメチル−４−トリメチルシリルメチル
シクロペンタジエニルチタニウムトリメトキシド、１、
２、３−トリメチル−４−トリメチルシリルメチルシク
ロペンタジエニルチタニウムトリメチル、１、２、３−
トリメチル−４−トリメチルシリルメチルシクロペンタ
ジエニルチタニウムトリベンジル、１、２、３、４−テ
トラメチル−５−トリメチルシリルメチルシクロペンタ
ジエニルチタニウムトリクロリド、１、２、３、４−テ
トラメチル−５−トリメチルシリルメチルシクロペンタ
ジエニルチタニウムトリメトキシド、１、２、３、４−
テトラメチル−５−トリメチルシリルメチルシクロペン
タジエニルチタニウムトリメチル、１、２、３、４−テ
トラメチル−５−トリメチルシリルメチルシクロペンタ
ジエニルチタニウムトリベンジル、１−トリメチルシリ
ルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリクロリド、１−トリメチルシリルメチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−トリメチルシリルメチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチ
ル、１−トリメチルシリルメチル−４、５、６、７−テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、２−ト
リメチルシリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリクロリド、２−トリメチルシ
リルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
チタニウムトリメトキシド、２−トリメチルシリルメチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリメチル、２−トリメチルシリルメチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル，１−トリメチルシリルメチル−２−メチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−トリメチルシリルメチル−２−メチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−トリメチルシリルメチル−２−メチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリメチル、１−トリメチルシリルメチル−２−メチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリベンジル、２−トリメチルシリルメチル−１−メ
チル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニ
ウムトリクロリド、２−トリメチルシリルメチル−１−
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリメトキシド、２−トリメチルシリルメチル−
１−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
チタニウムトリメチル、２−トリメチルシリルメチル−
１−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
チタニウムトリベンジル、１−トリメチルシリルメチル
−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニ
ルチタニウムトリクロリド、１−トリメチルシリルメチ
ル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１−トリメチルシリル
メチル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリメチル、１−トリメチルシリル
メチル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリベンジル、１−トリヒドロシリ
ルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリクロリド、１−トリヒドロシリルメチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−トリヒドロシリルメチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチ
ル、１−トリヒドロシリルメチル−４、５、６、７−テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、２−ト
リヒドロシリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリクロリド、２−トリヒドロシ
リルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
チタニウムトリメトキシド、２−トリヒドロシリルメチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリメチル、２−トリヒドロシリルメチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル，１−トリヒドロシリルメチル−２−メチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−トリヒドロシリルメチル−２−メチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、１−トリヒドロシリルメチル−２−メチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリメチル、１−トリヒドロシリルメチル−２−メチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリベンジル、２−トリヒドロシリルメチル−１−メ
チル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニ
ウムトリクロリド、２−トリヒドロシリルメチル−１−
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリメトキシド、２−トリヒドロシリルメチル−
１−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
チタニウムトリメチル、２−トリヒドロシリルメチル−
１−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
チタニウムトリベンジル、１−トリヒドロシリルメチル
−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニ
ルチタニウムトリクロリド、１−トリヒドロシリルメチ
ル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリメトキシド、１−トリヒドロシリル
メチル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリメチル、１−トリヒドロシリル
メチル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリベンジル、１−ジメチルフェニ
ルシリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデ
ニルチタニウムトリクロリド、１−ジメチルフェニルシ
リルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニル
チタニウムトリメトキシド、１−ジメチルフェニルシリ
ルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリメチル、１−ジメチルフェニルシリルメチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリベンジル、２−ジメチルフェニルシリルメチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リクロリド、２−ジメチルフェニルシリルメチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメ
トキシド、２−ジメチルフェニルシリルメチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメ
チル、２−ジメチルフェニルシリルメチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル，１−ジメチルフェニルシリルメチル−２−メチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リクロリド、１−ジメチルフェニルシリルメチル−２−
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリメトキシド、１−ジメチルフェニルシリルメ
チル−２−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリメチル、１−ジメチルフェニルシ
リルメチル−２−メチル−４、５、６、７−テトラヒド
ロインデニルチタニウムトリベンジル、２−ジメチルフ
ェニルシリルメチル−１−メチル−４、５、６、７−テ
トラヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、２−ジ
メチルフェニルシリルメチル−１−メチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキ
シド、２−ジメチルフェニルシリルメチル−１−メチル
−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウム
トリメチル、２−ジメチルフェニルシリルメチル−１−
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリベンジル、１−ジメチルフェニルメチル−３
−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリクロリド、１−ジメチルフェニルシリルメ
チル−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリメトキシド、１−ジメチルフェニ
ルシリルメチル−３−メチル−４、５、６、７−テトラ
ヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１−ジメチル
フェニルシリルメチル−３−メチル−４、５、６、７−
テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、１−
ジメチルエチルシリルメチル−４、５、６、７−テトラ
ヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、１−ジメチ
ルエチルシリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロ
インデニルチタニウムトリメトキシド、１−ジメチルエ
チルシリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリメチル、１−ジメチルエチルシリ
ルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリベンジル、２−ジメチルエチルシリルメチ
ル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウ
ムトリクロリド、２−ジメチルエチルシリルメチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド、２−ジメチルエチルシリルメチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメ
チル、２−ジメチルエチルシリルメチル−４、５、６、
７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル，
１−ジメチルエチルシリルメチル−２−メチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−ジメチルエチルシリルメチル−２−メチル
−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウム
トリメトキシド、１−ジメチルエチルシリルメチル−２
−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリメチル、１−ジメチルエチルシリルメチル
−２−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニ
ルチタニウムトリベンジル、２−ジメチルエチルシリル
メチル、１−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリクロリド、２−ジメチルエチル
シリルメチル−１−メチル−４、５、６、７−テトラヒ
ドロインデニルチタニウムトリメトキシド、２−ジメチ
ルエチルシリルメチル−１−メチル−４、５、６、７−
テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、２−ジ
メチルエチルシリルメチル−１−メチル−４、５、６、
７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル、
１−ジメチルエチルシリルメチル−３−メチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリク
ロリド、１−ジメチルエチルシリルメチル−３−メチル
−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウム
トリメトキシド、１−ジメチルエチルシリルメチル−３
−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチ
タニウムトリメチル、１−ジメチルエチルシリルメチル
−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニ
ルチタニウムトリベンジル、１−ジメチル（ｔ―ブチ
ル）シリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロイン
デニルチタニウムトリクロリド、１−ジメチル（ｔ―ブ
チル）シリルメチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリメトキシド、１−ジメチル（ｔ
―ブチル）シリルメチル−４、５、６、７−テトラヒド
ロインデニルチタニウムトリメチル、１−ジメチル（ｔ
―ブチル）シリルメチル−４、５、６、７−テトラヒド
ロインデニルチタニウムトリベンジル、２−ジメチル
（ｔ―ブチル）シリルメチル−４、５、６、７−テトラ
ヒドロインデニルチタニウムトリクロリド、２−ジメチ
ル（ｔ―ブチル）シリルメチル−４、５、６、７−テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、２−ジ
メチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−４、５、６、７−
テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、２−ジ
メチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−４、５、６、７−
テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジル，１−
ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−２−メチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リクロリド、１−ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル
−２−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニ
ルチタニウムトリメトキシド、１−ジメチル（ｔ―ブチ
ル）シリルメチル−２−メチル−４、５、６、７−テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、１−ジメチ
ル（ｔ―ブチル）シリルメチル−２−メチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリベンジ
ル、２−ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−１−メ
チル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニ
ウムトリクロリド、２−ジメチル（ｔ―ブチル）シリル
メチル−１−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロイ
ンデニルチタニウムトリメトキシド、２−ジメチル（ｔ
―ブチル）シリルメチル−１−メチル−４、５、６、７
−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメチル、２−
ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−１−メチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リベンジル、１−ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル
−３−メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニ
ルチタニウムトリクロリド、１−ジメチル（ｔ―ブチ
ル）シリルメチル−３−メチル−４、５、６、７−テト
ラヒドロインデニルチタニウムトリメトキシド、１−ジ
メチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−３−メチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメ
チル、１−ジメチル（ｔ―ブチル）シリルメチル−３−
メチル−４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタ
ニウムトリベンジル、（１、２′−エチレン）（２、
１′−エチレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルシ
クロペンタジエニル）チタニウムジクロリド、（１、
２′−エチレン）（２、１′−エチレン）ビス（３−ト
リメチルシリルメチルシクロペンタジエニル）チタニウ
ムジメトキシド、（２、１′−エチレン）ビス（３−ト
リメチルシリルメチルシクロペンタジエニル）チタニウ
ムジメチル、（２、１′−エチレン）ビス（３−トリメ
チルシリルメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジ
ベンジル等、およびこれらの化合物におけるチタンをジ
ルコニウムやハフニウムに置換したもの、或いは他の
族、又はランタノイド系列の遷移金属元素の類似化合物
を挙げることができる。また、これらの化合物の珪素を
ゲルマニウムやスズに置換した化合物をあげることがで
きる。これらの中で、好ましくはチタン、ジルコニウム
又はハフニウム化合物であり、さらに好ましくはチタン
化合物である。 ２．重合用触媒 （１）触媒成分 （Ａ）成分である遷移金属化合物については、前記のと
おりである。 （Ｂ）成分 次の（イ），（ロ）又は（ハ）から選ばれた少なくとも
一種の化合物である。（イ）酸素含有化合物，（ロ）遷
移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化
合物，又は（ハ）粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性
層状化合物である。これらのうち、好ましくは（イ）酸
素含有化合物及び／又は（ロ）遷移金属化合物と反応し
てイオン性の錯体を形成しうる化合物、さらに好ましく
は（イ）酸素含有化合物である。 （イ）成分の酸素含有化合物 下記一般式（VII)で表される化合物

【００３１】

【化１６】

【００３２】及び／又は一般式（VIII)

【００３３】

【化１７】

【００３４】で表される酸素含有化合物である。上記一
般式（VII)及び（VIII) において、Ｒ⁶ 〜Ｒ¹²はそれぞ
れ炭素数１〜８のアルキル基を示し、具体的にはメチル
基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，各種
ブチル基，各種ペンチル基，各種ヘキシル基，各種ヘプ
チル基，各種オクチル基が挙げられる。Ｒ⁶ 〜Ｒ¹⁰はた
がいに同一でも異なっていてもよく、Ｒ¹¹及びＲ¹²はた
がいに同一でも異なっていてもよい。Ｙ¹ 〜Ｙ⁵ はそれ
ぞれ周期律表１３族元素を示し、具体的にはＢ，Ａｌ，
Ｇａ，Ｉｎ及びＴｌが挙げられるが、これらの中でＢ及
びＡｌが好適である。Ｙ¹ 〜Ｙ³ はたがいに同一でも異
なっていてもよく、Ｙ⁴ 及びＹ⁵ はたがいに同一でも異
なっていてもよい。また、ａ〜ｄはそれぞれ０〜５０の
数であるが、（ａ＋ｂ）及び（ｃ＋ｄ）はそれぞれ１以
上である。ａ〜ｄとしては、それぞれ１〜２０の範囲が
好ましく、特に１〜５の範囲が好ましい。

【００３５】このような触媒成分として用いる酸素含有
化合物としては、アルキルアルミノキサンが好ましい。
具体的な好適例としては、メチルアルミノキサンやイソ
ブチルアルミノキサンが挙げられる。 （ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物 遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる
化合物としては、複数の基が金属に結合したアニオンと
カチオンとからなる配位錯化合物又はルイス酸を挙げる
ことができる。複数の基が金属に結合したアニオンとカ
チオンとからなる配位錯化合物としては様々なものがあ
るが、例えば下記一般式（IX) 又は（Ｘ）で表される化
合物を好適に使用することができる。

【００３６】 （〔Ｌ¹ −Ｈ〕^g+）_h （〔Ｍ² Ｘ¹ Ｘ² ・・・Ｘⁿ 〕^(n-m)-）_i ・・・（IX) （〔Ｌ² 〕^g+）_h （〔Ｍ³ Ｘ¹ Ｘ² ・・・Ｘⁿ 〕^(n-m)-）_i ・・・（Ｘ） 〔式（IX) 又は（Ｘ）中、Ｌ² は後述のＭ⁴ ，Ｒ¹³Ｒ¹⁴
Ｍ⁵ 又はＲ¹⁵ ₃ Ｃであり、Ｌ¹ はルイス塩基、Ｍ² 及び
Ｍ³ はそれぞれ周期律表の５族〜１５族から選ばれる金
属、Ｍ⁴ は周期律表の１族及び８族〜１２族から選ばれ
る金属、Ｍ⁵ は周期律表の８族〜１０族から選ばれる金
属、Ｘ¹ 〜Ｘⁿ はそれぞれ水素原子，ジアルキルアミノ
基，アルコキシ基，アリールオキシ基，炭素数１〜２０
のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキル
アリール基，アリールアルキル基，置換アルキル基，有
機メタロイド基又はハロゲン原子を示す。Ｒ¹³及びＲ¹⁴
はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタ
ジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ¹⁵は
アルキル基を示す。ｍはＭ² ，Ｍ³ の原子価で１〜７の
整数、ｎは２〜８の整数、ｇはＬ¹ −Ｈ，Ｌ² のイオン
価数で１〜７の整数、ｈは１以上の整数，ｉ＝ｈ×ｇ／
（ｎ−ｍ）である。〕Ｍ² 及びＭ³ の具体例としては
Ｂ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂなどの各原子、Ｍ⁴ の
具体例としてはＡｇ，Ｃｕ，Ｎａ，Ｌｉなどの各原子、
Ｍ⁵ の具体例としてはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉなどの各原子が
挙げられる。Ｘ¹ 〜Ｘⁿ の具体例としては、例えば、ジ
アルキルアミノ基としてジメチルアミノ基，ジエチルア
ミノ基など、アルコキシ基としてメトキシ基，エトキシ
基，ｎ−ブトキシ基など、アリールオキシ基としてフェ
ノキシ基，２，６−ジメチルフェノキシ基，ナフチルオ
キシ基など、炭素数１〜２０のアルキル基としてメチル
基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−
ブチル基，ｎ−オクチル基，２−エチルヘキシル基な
ど、炭素数６〜２０のアリール基，アルキルアリール基
若しくはアリールアルキル基としてフェニル基，ｐ−ト
リル基，ベンジル基，ペンタフルオロフェニル基，３，
５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル基，４−ターシ
ャリ−ブチルフェニル基，２，６−ジメチルフェニル
基，３，５−ジメチルフェニル基，２，４−ジメチルフ
ェニル基，１，２−ジメチルフェニル基など、ハロゲン
としてＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ、有機メタロイド基として５
メチルアンチモン基，トリメチルシリル基，トリメチル
ゲルミル基，ジフェニルアルシン基，ジシクロヘキシル
アンチモン基，ジフェニル硼素基などが挙げられる。Ｒ
¹³及びＲ¹⁴のそれぞれで表される置換シクロペンタジエ
ニル基の具体例としては、メチルシクロペンタジエニル
基，ブチルシクロペンタジエニル基，ペンタメチルシク
ロペンタジエニル基などが挙げられる。

【００３７】本発明において、複数の基が金属に結合し
たアニオンとしては、具体的にはＢ( Ｃ₆ Ｆ₅)₄ ^- ，Ｂ
( Ｃ₆ ＨＦ₄)₄ ^- ，Ｂ( Ｃ₆ Ｈ₂ Ｆ₃)₄ ^- ，Ｂ( Ｃ₆ Ｈ
₃ Ｆ ₂)₄ ^- ，Ｂ( Ｃ₆ Ｈ₄ Ｆ)₄ ^- ，Ｂ( Ｃ₆ ＣＦ₃ Ｆ₄)
₄ ^- ，Ｂ( Ｃ₆ Ｈ₅）₄ ^- ，ＰＦ₆ ^- ，Ｐ( Ｃ₆ Ｆ₅)₆
^- ，Ａｌ（Ｃ₆ ＨＦ₄)₄ ^- などが挙げられる。また、金
属カチオンとしては、Ｃｐ₂ Ｆｅ⁺ ，（ＭｅＣｐ）₂ Ｆ
ｅ⁺ ，（ｔＢｕＣｐ） ₂ Ｆｅ⁺ ，（Ｍｅ₂ Ｃｐ）₂ Ｆｅ
⁺ ，（Ｍｅ₃ Ｃｐ）₂ Ｆｅ⁺ ，（Ｍｅ₄ Ｃｐ） ₂ Ｆ
ｅ⁺ ，（Ｍｅ₅ Ｃｐ）₂ Ｆｅ⁺ ，Ａｇ⁺ , Ｎａ⁺ ，Ｌｉ
⁺ などが挙げられ、またその他カチオンとしては、ピリ
ジニウム，２，４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ニウム，ジフェニルアンモニウム，ｐ−ニトロアニリニ
ウム，２，５−ジクロロアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，キノリニウム，Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリニウム，Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムなど
の窒素含有化合物、トリフェニルカルベニウム，トリ
（４−メチルフェニル）カルベニウム，トリ（４−メト
キシフェニル）カルベニウムなどのカルベニウム化合
物、ＣＨ₃ ＰＨ₃ ⁺ ，Ｃ₂ Ｈ₅ ＰＨ₃ ⁺ ，Ｃ₃ Ｈ₇ ＰＨ
₃ ⁺ ，（ＣＨ₃ ）₂ ＰＨ₂ ⁺，（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₂ Ｐ
Ｈ₂ ⁺ ，（Ｃ₃ Ｈ₇ ）₂ ＰＨ₂ ⁺ ，（ＣＨ₃ ）₃ Ｐ
Ｈ ⁺，（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₃ ＰＨ ⁺，（Ｃ₃ Ｈ₇ ）₃ ＰＨ ⁺，
（ＣＦ₃ ）₃ ＰＨ ⁺，（ＣＨ₃ ） ₄ Ｐ⁺ ，（Ｃ₂ Ｈ₅ ）
₄ Ｐ⁺ ，（Ｃ₃ Ｈ₇ ）₄ Ｐ⁺ 等のアルキルフォスフォニ
ウムイオン，及びＣ₆ Ｈ₅ ＰＨ₃ ⁺ ，（Ｃ₆ Ｈ₅ ）₂ Ｐ
Ｈ₂ ⁺ ，（Ｃ₆ Ｈ₅ ）₃ ＰＨ⁺ ，（Ｃ₆ Ｈ₅ ）₄ Ｐ⁺ ，
（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₂ （Ｃ₆ Ｈ₅ ）ＰＨ⁺ ，（ＣＨ₃ ）（Ｃ₆
Ｈ₅ ）ＰＨ₂ ⁺ ，（ＣＨ₃ ）₂ （Ｃ₆ Ｈ₅ ）ＰＨ⁺ ，
（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₂ （Ｃ₆Ｈ₅ ）₂ Ｐ⁺ などのアリールフォ
スフォニウムイオンなどが挙げられる。

【００３８】一般式（IX) 及び（Ｘ）の化合物の中で、
具体的には、下記のものを特に好適に使用できる。一般
式（IX) の化合物としては、例えばテトラフェニル硼酸
トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ（ｎ
−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチ
ルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）硼酸トリ（ｎ−ブチル）アンモニウ
ム，ヘキサフルオロ砒素酸トリエチルアンモニウム，テ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピリジニウ
ム，テトラ（ペンタフルオロフェニル）硼酸ピロリニウ
ム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウムなどが挙
げられる。一方、一般式（Ｘ）の化合物としては、例え
ばテトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニ
ウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカ
メチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフ
ェニル）硼酸アセチルフェロセニウム，テトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）硼酸ホルミルフェロセニウム，
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸シアノフェ
ロセニウム，テトラフェニル硼酸銀，テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）硼酸銀，テトラフェニル硼酸トリ
チル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ
チル，ヘキサフルオロ砒素酸銀，ヘキサフルオロアンチ
モン酸銀，テトラフルオロ硼酸銀などが挙げられる。

【００３９】また、ルイス酸として、例えばＢ（Ｃ₆ Ｆ
₅)₃ ，Ｂ（Ｃ₆ ＨＦ₄)₃ ，Ｂ（Ｃ₆Ｈ₂ Ｆ₃)₃,Ｂ（Ｃ₆
Ｈ₃ Ｆ₂)₃,Ｂ（Ｃ₆ Ｈ₄ Ｆ)₃, Ｂ（Ｃ₆ Ｈ₅)₃ ，Ｂ
Ｆ₃ ，Ｂ（Ｃ₆ ＣＦ₃ Ｆ₄)₃ ，ＰＦ₅,Ｐ（Ｃ₆ Ｆ₅)₅ ,
Ａｌ（Ｃ₆ ＨＦ₄)₃ なども用いることができる。 （ハ）粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合
物。

【００４０】粘土とは、細かい含水ケイ酸塩鉱物の集合
体であって、適当量の水を混ぜてこねると可塑性を生
じ、乾けば剛性を示し、高温度で焼くと焼結するような
物質をいう。また、粘土鉱物とは、粘土の主成分をなす
含水ケイ酸塩をいう。これらは、天然産のものに限ら
ず、人工合成したものであってもよい。さらに、イオン
交換性層状化合物が用いられる。イオン交換性層状化合
物とは、イオン結合等によって構成される面が互いに弱
い結合力で平行に積み重なった結晶構造をとる化合物で
あり、含有するイオンが交換可能なものをいう。粘土鉱
物の中には、イオン交換性層状化合物であるものがあ
る。

【００４１】例えば、六方最密パッキング型、アンチモ
ン型、塩化カドミウム型、よう化カドミウム型等の層状
の結晶構造を有するイオン結晶性化合物をあげることが
できる。イオン交換性層状化合物は、天然産のものに限
らず、人工合成したものであってもよい。粘土，粘土鉱
物もしくはイオン交換性層状化合物のうち、好ましく
は、粘土鉱物であるカオリン鉱物、蛇紋石及び類縁鉱
物、パイロフィライト・タルク、雲母粘土鉱物、緑泥
岩、バーミキュライト、スメクタイト、混合層鉱物、セ
ピオライト、パリゴルスカイト、アロフェン・イモゴラ
イト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、ナクラ
イト等である。更に好ましくは、スメクタイトであり、
中でもモンモリロナイト種、サポナイト種、又はヘクト
ライト種である。また、粘土中の不純物除去及び構造、
機能の変化という点から、化学処理を施すことも好まし
い。

【００４２】ここで、化学処理とは、表面に付着してい
る不純物を除去する表面処理と粘土の結晶構造に影響を
与える処理の何れをもさす。具体的には、酸処理、アル
カリ処理、塩類処理、有機物処理等が挙げられる。例え
ば、酸処理では塩酸，硫酸等、アルカリ処理では水酸化
ナトリウム水溶液やアンモニア水等、塩類処理では塩化
マグネシウムや塩化アルミニウム等、有機物処理では有
機アルミニウムやシラン化合物，アンモニウム塩等が用
いられる。これらはそのまま用いても良いし、新たに水
を添加吸着させたものを用いてもよく、あるいは加熱脱
水処理したものを用いても良い。

【００４３】本発明の重合用触媒においては、上記
（Ｂ）成分として、（イ）成分の酸素含有化合物のみを
一種又は二種以上組み合わせて用いてもよく、また
（ロ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体
を形成しうる化合物のみを一種又は二種以上組み合わせ
て用いてもよく、また（ハ）粘土，粘土鉱物もしくはイ
オン交換性層状化合物のみを一種又は二種以上組み合わ
せて用いてもよい。あるいは、該（イ）成分，（ロ）成
分，及び（ハ）成分を適当に組み合わせて用いてもよ
い。

【００４４】なお、モノマーとして後述するスチレン類
を用いる場合は、（Ｂ）成分として、上記（イ）成分又
は（ロ）成分を用いることが好ましい。 （Ｃ）アルキル化剤 本発明の重合用触媒においては、必要に応じて、アルキ
ル化剤が用いられる。アルキル化剤としては様々なもの
があるが、例えば、一般式（XI) Ｒ¹⁶ _m Ａl(ＯＲ¹⁷) _n Ｘ_3-m-n ・・・（XI) 〔式中、Ｒ¹⁶及びＲ¹⁷は、それぞれ炭素数１〜８、好ま
しくは１〜４のアルキル基を示し、Ｘは水素原子あるい
はハロゲン原子を示す。また、ｍは０＜ｍ≦３、好まし
くは２あるいは３、最も好ましくは３であり、ｎは０≦
ｎ＜３、好ましくは０あるいは１である。〕で表わされ
るアルキル基含有アルミニウム化合物や一般式（XII) Ｒ¹⁶ ₂ Ｍｇ ・・・（XII) 〔式中、Ｒ¹⁶は前記と同じである。〕で表わされるアル
キル基含有マグネシウム化合物、さらには一般式（XII
I) Ｒ¹⁶ ₂ Ｚｎ ・・・（XIII)
〔式中、Ｒ¹⁶は前記と同じである。〕で
表わされるアルキル基含有亜鉛化合物等が挙げられる。

【００４５】これらのアルキル基含有化合物のうち、ア
ルキル基含有アルミニウム化合物、とりわけトリアルキ
ルアルミニウムやジアルキルアルミニウム化合物が好ま
しい。具体的にはトリメチルアルミニウム，トリエチル
アルミニウム，トリｎ−プロピルアルミニウム，トリイ
ソプロピルアルミニウム，トリｎ−ブチルアルミニウ
ム，トリイソブチルアルミニウム，トリｔ−ブチルアル
ミニウム等のトリアルキルアルミニウム、ジメチルアル
ミニウムクロリド，ジエチルアルミニウムクロリド，ジ
ｎ−プロピルアルミニウムクロリド，ジイソプロピルア
ルミニウムクロリド，ジｎ−ブチルアルミニウムクロリ
ド，ジイソブチルアルミニウムクロリド，ジｔ−ブチル
アルミニウムクロリド等のジアルキルアルミニウムハラ
イド、ジメチルアルミニウムメトキサイド，ジメチルア
ルミニウムエトキサイド等のジアルキルアルミニウムア
ルコキサイド、ジメチルアルミニウムハイドライド，ジ
エチルアルミニウムハイドライド，ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイド
ライド等があげられる。さらには、ジメチルマグネシウ
ム，ジエチルマグネシウム，ジｎ−プロピルマグネシウ
ム，ジイソプロピルマグネシウム等のジアルキルマグネ
シウムやジメチル亜鉛，ジエチル亜鉛，ジｎ−プロピル
エチル亜鉛，ジイソプロピル亜鉛等のジアルキル亜鉛を
あげることができる。 （２）触媒の調製方法 本発明の重合用触媒における（Ａ）成分と（Ｂ）成分と
所望により用いられる（Ｃ）成分との接触方法として
は、特に限定されないが、例えば（Ａ）成分と（Ｂ）
成分との接触混合物に、（Ｃ）成分を加えて触媒とし、
重合すべきモノマーと接触させる方法、（Ｂ）成分と
（Ｃ）成分との接触混合物に（Ａ）成分を加えて触媒と
し、重合すべきモノマーと接触させる方法、（Ａ）成
分と（Ｃ）成分との接触混合物に（Ｂ）成分を加えて触
媒とし、重合すべきモノマーと接触させる方法、重合
すべきモノマー成分に（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）成分を別
々に接触させる方法、重合すべきモノマー成分と
（Ｃ）成分との接触混合物に、上記の〜で調製して
触媒を接触させる方法などがある。

【００４６】以上の触媒成分の接触については、窒素等
の不活性気体中、重合温度以下で行なうことができる
が、−３０〜２００℃の範囲で行なってもよい。本発明
の重合用触媒は、上記（Ａ）及び（Ｂ）成分、あるいは
（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）成分の組合せからなるもので
あるが、このほかにさらに他の触媒成分を加えることも
可能である。各触媒成分の配合割合は、各種条件により
異なり、一義的には定められないが、通常、（Ｂ）成分
が酸素含有化合物の場合、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との
モル比は、好ましくは１：１〜１：１0,０００、より好
ましくは１：１〜１：1,０００の範囲で選ばれ、（Ｂ）
成分が遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
しうる化合物の場合、（Ａ）成分と（Ｂ）成分とのモル
比は、好ましくは0.１：１〜１：0.１の範囲で選ばれ
る。また、（Ｂ）成分が酸素含有化合物又は遷移金属化
合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物の場
合において（Ｃ）成分を用いる場合は、（Ａ）成分と
（Ｃ）成分とのモル比は、好ましくは１：0.１〜１：1,
０００の範囲で選ばれる。（Ｂ）成分が粘土，粘土鉱物
もしくはイオン交換性層状化合物の場合、（Ａ）成分と
（Ｂ）成分の（ハ）粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換
性層状化合物の水酸基のモル比は、好ましくは１：0.１
〜１：１００,0００の範囲で選ばれる。この場合にさら
に（Ｃ）成分を用いる場合は、（ハ）成分１グラムあた
り、（Ａ）成分と（Ｃ）成分とのモル比が、好ましくは
１：０（０を含まず）〜１０,0００になるように接触さ
せるのが望ましい。 ３．重合体の製造方法 （１）重合に供されるモノマー 本発明の重合用触媒は、エチレン性不飽和結合含有化合
物の重合用として用いられる。エチレン性不飽和結合含
有化合物としては、例えばオレフィン類，ジエン化合
物，スチレン類などが挙げられる。該オレフィン類とし
ては、例えばエチレン；プロピレン；ブテン−１；ペン
テン−１；ヘキセン−１；ヘプテン−１；オクテン−
１；ノネン−１；デセン−１；４−フェニルブテン−
１；６−フェニルヘキセン−１；３−メチルブテン−
１；４−メチルペンテン−１；３−メチルペンテン−
１；３−メチルヘキセン−１；４−メチルヘキセン−
１；５−メチルヘキセン−１；３，３−ジメチルペンテ
ン−１；３，４−ジメチルペンテン−１；４，４−ジメ
チルペンテン−１；ビニルシクロヘキサンなどのα−オ
レフィン、ヘキサフルオロプロペン；テトラフルオロエ
チレン；２−フルオロプロペン；フルオロエチレン；
１，１−ジフルオロエチレン；３−フルオロプロペン；
トリフルオロエチレン；３，４−ジクロロブテン−１な
どのハロゲン置換α−オレフィン、シクロペンテン；シ
クロヘキセン；ノルボルネン；５−メチルノルボルネ
ン；５−エチルノルボルネン；５−プロピルノルボルネ
ン；５，６−ジメチルノルボルネン；１−メチルノルボ
ルネン；７−メチルノルボルネン；５，５，６−トリメ
チルノルボルネン；５−フェニルノルボルネン；５−ベ
ンジルノルボルネンなどの環状オレフィンなどが挙げら
れる。

【００４７】また、ジエン化合物としては、例えばブタ
ジエン；イソプレン；１，６−ヘキサジエンなどの鎖状
ジエン化合物、ノルボルナジエン；５−エチリデンノル
ボルネン；５−ビニルノルボルネン；５−ビニルシクロ
ヘキセン；ジシクロペンタジエンなどの環状ジエン化合
物などが挙げられる。そして、スチレン類としては、例
えばスチレンをはじめ、ｐ−メチルスチレン；ｏ−メチ
ルスチレン；ｍ−メチルスチレン；２，４−ジメチルス
チレン；２，５−ジメチルスチレン；３，４−ジメチル
スチレン；３，５−ジメチルスチレン；ｐ−ｔ−ブチル
スチレンなどのアルキルスチレン、ｐ−メトキシスチレ
ン；ｏ−メトキシスチレン；ｍ−メトキシスチレンなど
のアルコキシスチレン、ｐ−クロロスチレン；ｍ−クロ
ロスチレン；ｏ−クロロスチレン；ｐ−ブロモスチレ
ン；ｍ−ブロモスチレン；ｏ−ブロモスチレン；ｐ−フ
ルオロスチレン；ｍ−フルオロスチレン；ｏ−フルオロ
スチレン；ｏ−メチル−ｐ−フルオロスチレンなどのハ
ロゲン化スチレン、さらにはトリメチルシリルスチレ
ン，ビニル安息香酸エステル，ジビニルベンゼンなどが
挙げられる。

【００４８】上記単量体は、それぞれ単独で重合させて
もよく、また二種以上を組み合わせて重合させてもよ
い。 （２）重合方法 重合方法としては、塊状重合でもよく、ペンタン，ヘキ
サン，ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン
などの脂環族炭化水素あるいはベンゼン，トルエン，キ
シレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒中で
行ってもよい。また、重合温度は特に制限はないが、一
般には０〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃であ
る。また、気体状モノマーを使用する際の気体状モノマ
ーの分圧は、一般には３００気圧以下、好ましくは３０
気圧以下である。 ４．スチレン系重合体の製造方法 本発明においては、上記重合用触媒は、特にスチレン系
重合体の製造に使用するのが望ましい。この場合、該重
合用触媒の存在下、スチレン類を単独重合させてもよ
く、二種以上共重合させてもよい。またスチレン類一種
以上と重合性不飽和化合物一種以上とを共重合させても
よい。スチレン類と共重合させる重合性不飽和化合物と
しては、上記のオレフィン類，ジエン化合物などを挙げ
ることができる。

【００４９】上記触媒を用いて得られるスチレン系重合
体は、スチレン連鎖部が、高度のシンジオタクチック構
造を有するものである。ここで、スチレン系重合体にお
けるスチレン連鎖部が高度のシンジオタクチック構造と
は、立体化学構造が高度のシンジオタクチック構造、す
なわち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖
であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に
位置する立体構造を有することを意味し、そのタクティ
シティーは同位体炭素による核磁気共鳴法（¹³Ｃ−ＮＭ
Ｒ法）により定量される。¹³Ｃ−ＮＭＲ法により測定さ
れるタクティシティーは、連続する複数個の構成単位の
存在割合、例えば２個の場合はダイアッド，３個の場合
はトリアッド，５個の場合はペンタッドによって示すこ
とができるが、本発明にいう「シンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体」とは、通常はラセミダイア
ッドで７５％以上、好ましくは８５％以上、若しくはラ
セミペンタッドで３０％以上、好ましくは５０％以上の
シンジオタクティシティーを有するポリスチレン，ポリ
（置換スチレン），ポリ（ビニル安息香酸エステル）及
びこれらの混合物、あるいはこれらを主成分とする共重
合体を意味する。

【００５０】なお、ここでポリ（置換スチレン）として
は、ポリ（メチルスチレン），ポリ（エチルスチレ
ン），ポリ（イソプロピルスチレン），ポリ（ターシャ
リブチルスチレン），ポリ（フェニルスチレン），ポリ
（ビニルスチレン）などのポリ（炭化水素置換スチレ
ン）、ポリ（クロロスチレン），ポリ（ブロモスチレ
ン），ポリ（フルオロスチレン）などのポリ（ハロゲン
化スチレン）、ポリ（メトキシスチレン），ポリ（エト
キシスチレン）などのポリ（アルコキシスチレン）など
がある。これらの中で、特に好ましいスチレン系重合体
としては、ポリスチレン，ポリ（ｐ−メチルスチレ
ン），ポリ（ｍ−メチルスチレン），ポリ（ｐ−ターシ
ャリ−ブチルスチレン），ポリ（ｐ−クロロスチレ
ン），ポリ（ｍ−クロロスチレン），ポリ（ｐ−フルオ
ロスチレン）、さらにはスチレンとｐ−メチルスチレン
との共重合体、スチレンとｐ−ターシャリブチルスチレ
ンとの共重合体、スチレンとジビニルベンゼンとの共重
合体を挙げることができる。

【００５１】

〔実施例１〕

（１）１−トリメチルシリルメチル−２−メチル−４、
５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメ
トキシド［（化合物（５）］の合成 以下に合成スキームを示す。

【００５２】

【化１８】

【００５３】化合物（２）の合成 化合物（１）0.33 g（2.35ミリモル）をＴＨＦ10ミリリ
ットルに溶かし、０℃に冷却した。次にＭｅ₃ＳｉＣＨ₂
Ｉ ０.4ミリリットル（2.7 ミリモル）を加え，一晩攪
拌した。反応液を減圧乾固し、黄色オイル状固体［化合
物（２）］を得た。

【００５４】・¹ Ｈ−ＮＭＲ（テトラメチルシラン標
準、CDCl₃ ） δ（ppm ） 1.66 −2.71（m, 12H），1.85（s, 3H ），
0.0 （s, 9H ） 化合物（３）の合成 化合物（２）0.24 g（1.10ミリモル）をヘキサン５ミリ
リットルに溶かし、０℃に冷却した。次にｎ−ブチルリ
チウム0.9 ミリリットル（１.3ミリモル）を加え，室温
に昇温した後、一晩攪拌した。反応液を減圧乾固し、0.
19ｇの白色固体を得た。その固体0.１g ( 0.4 ミリモ
ル）をＴＨＦ10ミリリットルに溶かし、０℃に冷却し
た。次にMe₃ SiCl 0.１ミリリットル（0.８ミリモル）
を加え，室温に昇温した後、一晩攪拌した。反応液を減
圧留去した後、黄色オイル状固体［化合物（３）］を得
た ・¹ Ｈ−ＮＭＲ（CDCl₃ ） δ（ppm ） 1.4−2.7 （m, 11H），1.88（s, 3H ），0.
0 （s, 18H） １−トリメチルシリルメチル−２−メチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリクロラ
イド［化合物（４）］の合成 四塩化チタン0.04ミリリットル（０.3４ミリモル）を塩
化メチレン溶液８ミリリットルに溶かし，−２０℃に冷
却した。次に化合物（３）0.09ｇ（０.3１ミリモル）の
塩化メチレン溶液５ミリリットル溶液を加えた後，室温
に昇温し、一晩攪拌した。反応液をろ過後、減圧濃縮
し，化合物（４）を得た。

【００５５】・¹ Ｈ−ＮＭＲ（CDCl₃ ） δ（ppm ） 1.4−2.7 （m, 11H），1.88（s, 3H ），0.
0 （s, 18H） １−トリメチルシリルメチル−２−メチル−４、５、
６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムトリメトキ
シド［化合物（５）］の合成 化合物（４）2.５ｇ（ 6.5ミリモル）をトルエン50ミリ
リットルに溶かし、−７８℃に冷却した後，無水メタノ
ール２.1ミリリットル（65ミリモル）とトリエチルアミ
ン9.０ミリリットル（65ミリモル）を加え，室温に昇温
した後、一晩攪拌した。反応液を減圧乾固し、得られた
残さを減圧蒸留(115-123℃／250 ×10^-3Torr) により精
製し，黄色液体を得た。

【００５６】・¹ Ｈ−ＮＭＲ（CDCl₃ ） δ（ppm ） 5.64 （ｓ, 1H）、４．06（ｓ, 9H）、2.8
−2.3 （s, 3H ）、1.89（s, 2H ），１.8−1.6 （m, 4
H ），0.0 （s, 9H ） （２）スチレンの重合 ５０ミリリットルの容器に窒素を導入し、トルエン１
９.3ミリリットル、トリイソブチルアルミニウムの２.0
Ｍトルエン溶液０.6３ミリリットル、メチルアルミノキ
サンの１.4４Ｍトルエン溶液３.8２ミリリットル、およ
び合成した１−トリメチルシリルメチル−２−メチル−
４、５、６、７−テトラヒドロインデニルチタニウムト
リメトキシド［化合物（５）］の４０ｍＭトルエン溶液
１.2５ミリリットルを加えた。これを混合触媒と呼ぶ。

【００５７】３０ミリリットルのガラス瓶にスチレン
５ミリリットル、トリイソブチルアルミニウムの０.5Ｍ
トルエン溶液０.0０５ミリリットルを窒素雰囲気下で混
合した。このガラス瓶を６０℃のオイルバスにセット
し、上記混合触媒０.0３１５ミリリットルを加えた。６
０℃で３０分重合した後、ガラス瓶をオイルバスから取
出し、重合溶液をメタノールで処理した。重合物を取出
し、メタノールで洗浄した後、乾燥を行った。収量は
０.9０４ｇで、触媒活性は３０１（ｋｇ／ｇＴｉ）であ
った。また、融点は２６９.2℃であった。得られた重合
物が高融点を示すことから高シンジオタクティシティの
ＳＰＳであると判断される。 〔比較例１〕スチレンの重合において、チタン錯体をペ
ンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシド
にした以外は実施例１と同様に行なった。収量は０.6４
０ｇで、触媒活性は２１３（ｋｇ／ｇＴｉ）であった。

【００５８】

【発明の効果】本発明の遷移金属化合物を含有する重合
用触媒は、高活性を有し、エチレン性不飽和結合含有化
合物の重合に好適に用いられる。特に、該重合用触媒を
用いてスチレン類を単独重合又は共重合させることによ
り、残留金属量の少ない高度のシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体が高活性で効率よく得られ
る。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化
   合物。 ＣｐＭＸ_a-1 Ｌ_b ・・・（Ｉ） [式中，Ｃｐは，下記一般式（II）で表される置換基Ｒ
   ¹ を少なくとも一つ以上有し、残りの置換基Ｒ² が、水
   素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水
   素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜
   ３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
   基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基、炭素数６〜３
   ０のチオアリーロキシ基、アミノ基、アミド基、カルボ
   キシル基又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基である
   シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
   基，インデニル基，置換インデニル基，フルオレニル基
   又は置換フルオレニル基を表す。ここで、Ｒ² は相互に
   同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ¹ ，Ｒ²
   を問わず、Ｃｐ上の置換基は、互いに結合し、環状化合
   物となっていてもよい。Ｍは、４族〜１０族の遷移金
   属、Ｘはσ配位子を示し、複数のＸは互いに同一でも異
   なっていてもよく、また任意の基を介して結合していて
   もよい。Ｌはルイス塩基， aはＭの価数，ｂは０、１又
   は２を示し，Ｌが複数の場合，各Ｌは互いに同一でも異
   なっていてもよい。] 【化１】 [式中、Ｙは、珪素原子，ゲルマニウム原子又は錫原子
   を示し、ｎは、1 以上の整数を示す。Ｒ³ は水素原子、
   ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭
   素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜３０のア
   ルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ基、炭素数
   １〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜３０のチオア
   リーロキシ基，アミノ基、アミド基、カルボキシル基、
   又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基を示す。Ｒ³ は
   相互に同一であっても異なっていてもよい。]
2. 【請求項２】 下記一般式（III）で表される遷移金属
   化合物。 Ｃｐ₂ ＭＸ_a-2 Ｌ_b ・・・（III） [式中，Ｃｐは，下記一般式（II）で表される置換基Ｒ
   ¹ を少なくとも一つ以上有し、残りの置換基Ｒ² が、水
   素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水
   素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜
   ３０のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ
   基、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基、炭素数６〜３
   ０のチオアリーロキシ基、アミノ基、アミド基、カルボ
   キシル基又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基である
   シクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル
   基，インデニル基，置換インデニル基，フルオレニル基
   又は置換フルオレニル基を表す。ここで、Ｒ² は相互に
   同一であっても異なっていてもよく、２つのＣｐは、１
   つ又は２つ以上のＲ² によって連結されていてもよい。
   また、Ｒ¹ ，Ｒ² を問わず、Ｃｐ上の置換基は、互いに
   結合し、環状化合物となっていてもよい。Ｍは、４族〜
   １０族の遷移金属、Ｘはσ配位子を示し、複数のＸは互
   いに同一でも異なっていてもよく、また任意の基を介し
   て結合していてもよい。Ｌはルイス塩基， aはＭの価
   数，ｂは０、１又は２を示し，Ｌが複数の場合，各Ｌは
   互いに同一でも異なっていてもよい。] 【化２】 [式中、Ｙは、珪素原子，ゲルマニウム原子又は錫原子
   を示し、ｎは、1 以上の整数を示す。Ｒ³ は水素原子、
   ハロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭
   素数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜３０のア
   ルコキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ基、炭素数
   １〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜３０のチオア
   リーロキシ基，アミノ基、アミド基、カルボキシル基、
   又は炭素数３〜３０のアルキルシリル基を示す。Ｒ³ は
   相互に同一であっても異なっていてもよい。]
3. 【請求項３】 （Ａ）請求項１又は２に記載の遷移金属
   化合物と、（Ｂ）次の（イ），（ロ）及び（ハ）から選
   ばれた少なくとも一種の化合物からなるエチレン性不飽
   和結合含有化合物の重合用触媒。（イ）酸素含有化合
   物，（ロ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を
   形成しうる化合物，及び（ハ）粘土，粘土鉱物もしくは
   イオン交換性層状化合物。
4. 【請求項４】 （Ａ）請求項１又は２に記載の遷移金属
   化合物、（Ｂ）次の（イ），（ロ）及び（ハ）から選ば
   れた少なくとも一種の化合物、及び（Ｃ）アルキル化剤
   からなるエチレン性不飽和結合含有化合物の重合用触
   媒。（イ）酸素含有化合物，（ロ）遷移金属化合物と反
   応してイオン性の錯体を形成しうる化合物，及び（ハ）
   粘土，粘土鉱物もしくはイオン交換性層状化合物。
5. 【請求項５】 （Ａ）請求項１又は２に記載の遷移金属
   化合物と、（Ｂ）（イ）酸素含有化合物，又は（ロ）遷
   移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化
   合物からなるスチレン類の重合用触媒。
6. 【請求項６】 （Ａ）請求項１又は２に記載の遷移金属
   化合物、（Ｂ）（イ）酸素含有化合物，又は（ロ）遷移
   金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合
   物、及び（Ｃ）アルキル化剤からなるスチレン類の重合
   用触媒。
7. 【請求項７】 請求項３〜６のいずれかに記載の遷移金
   属化合物（Ａ）において、そのＣｐが、下記一般式（I
   V）で表される遷移金属化合物である請求項３〜６のい
   ずれかに記載の重合用触媒。 【化３】 [式中、Ｒ⁴ のうち、少なくとも１つは必ず下記一般式
   （Ｖ）で表される構造を有するアルキルシリルアルキル
   基であり、残りのＲ⁴ は水素原子、ハロゲン原子、炭素
   数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜３０の芳香
   族炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、炭素数
   ６〜３０のアリーロキシ基、炭素数１〜３０のチオアル
   コキシ基，炭素数６〜３０のチオアリーロキシ基，アミ
   ノ基、アミド基、カルボキシル基、又は炭素数３〜３０
   のアルキルシリル基を示す。Ｒ⁴ は相互に同一であって
   も異なっていてもよい。] 【化４】 [式中、ｎは1 以上の整数を示す。Ｒ⁵ は水素原子、ハ
   ロゲン原子、炭素数１〜３０の脂肪族炭化水素基、炭素
   数６〜３０の芳香族炭化水素基、炭素数１〜３０のアル
   コキシ基、炭素数６〜３０のアリーロキシ基、炭素数１
   〜３０のチオアルコキシ基，炭素数６〜３０のチオアリ
   ーロキシ基，アミノ基、アミド基、カルボキシル基、又
   は炭素数３〜３０のアルキルシリル基を示す。Ｒ⁵ は相
   互に同一であっても異なっていてもよい。]
8. 【請求項８】 請求項３〜６のいずれかに記載の遷移金
   属化合物（Ａ）において、そのＣｐが、下記一般式（V
   I）で表される遷移金属化合物である請求項３〜６のい
   ずれかに記載の重合用触媒。 【化５】
9. 【請求項９】 請求項３，４，７又は８のいずれかに記
   載の重合用触媒を用いることを特徴とするエチレン性不
   飽和結合含有化合物重合体の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項５〜８のいずれかに記載の重合
    用触媒を用いてスチレン類又はスチレン類と他の重合性
    不飽和化合物とを重合させることを特徴とするスチレン
    系重合体の製造方法。
11. 【請求項１１】 スチレン系重合体が高度のシンジオタ
    クチック構造を有するものである請求項１０に記載のス
    チレン系重合体の製造方法。