JPH11320751A - 選択性光線透過膜転写材 - Google Patents
選択性光線透過膜転写材Info
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- JPH11320751A JPH11320751A JP10156625A JP15662598A JPH11320751A JP H11320751 A JPH11320751 A JP H11320751A JP 10156625 A JP10156625 A JP 10156625A JP 15662598 A JP15662598 A JP 15662598A JP H11320751 A JPH11320751 A JP H11320751A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】赤外線等の熱線を選択的に透過させない膜を付
与する時に、同時に必要となる層、例えば表面ハードコ
ート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等等をただ
一回の転写によって、ガラス、プラスチック板に付与し
得る転写材を提供する。 【解決手段】離型性を有するベースフィルム面上に、少
なくともハ−ドコ−ト層、選択性光線透過金属膜、接着
剤層をこの順に設けた選択性光線透過膜転写材。
与する時に、同時に必要となる層、例えば表面ハードコ
ート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等等をただ
一回の転写によって、ガラス、プラスチック板に付与し
得る転写材を提供する。 【解決手段】離型性を有するベースフィルム面上に、少
なくともハ−ドコ−ト層、選択性光線透過金属膜、接着
剤層をこの順に設けた選択性光線透過膜転写材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、太陽光線中の赤外
線等の熱線を選択的に膜を、自動車等の車両、一般家庭
の家屋や企業、事務所等のビルデイングの光線を取り入
れる窓等に転写によって比較的安価経済的に付与せんと
する選択性光線透過膜転写材に関する。さらに詳しく
は、この赤外線等の熱線を選択的に透過させない膜を付
与せんとする時に、同時に必要となる層、例えば表面ハ
ードコート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等等
をただ一回の転写によって、これらの窓等のガラス、プ
ラスチック板に付与し得る転写材に関する。
線等の熱線を選択的に膜を、自動車等の車両、一般家庭
の家屋や企業、事務所等のビルデイングの光線を取り入
れる窓等に転写によって比較的安価経済的に付与せんと
する選択性光線透過膜転写材に関する。さらに詳しく
は、この赤外線等の熱線を選択的に透過させない膜を付
与せんとする時に、同時に必要となる層、例えば表面ハ
ードコート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等等
をただ一回の転写によって、これらの窓等のガラス、プ
ラスチック板に付与し得る転写材に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、省エネルギー等の観点から、太陽
光線中の赤外線等の熱線を選択的に透過させない膜を、
自動車等の車両、一般家庭の家屋や企業、事務所等のビ
ルデイングの光線を取り入れる窓等に付与せんとする提
案が数多くなされている。例えば、ガラスやプラスチ
ック板に、太陽光線中の赤外線等の熱線を選択的に透過
させない膜を塗布し形成する方法、予めプラスチック
フイルムに太陽光線中の赤外線等の熱線を選択的に透過
させない膜を形成しこの積層体を、ガラスやプラスチッ
ク板に貼着する方法が挙げられる。
光線中の赤外線等の熱線を選択的に透過させない膜を、
自動車等の車両、一般家庭の家屋や企業、事務所等のビ
ルデイングの光線を取り入れる窓等に付与せんとする提
案が数多くなされている。例えば、ガラスやプラスチ
ック板に、太陽光線中の赤外線等の熱線を選択的に透過
させない膜を塗布し形成する方法、予めプラスチック
フイルムに太陽光線中の赤外線等の熱線を選択的に透過
させない膜を形成しこの積層体を、ガラスやプラスチッ
ク板に貼着する方法が挙げられる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来技術のガラスや
プラスチック板に、太陽光線中の赤外線等の熱線を選択
的に透過させない膜を塗布し形成する方法においては、
ガラス板、アクリル板等のプラスチック板に直接コ−テ
ィングを行うため、一枚、一枚枚葉でのコ−ティングと
なるため、生産性、歩留が悪くなり、加工コストが高く
なる。更に、良好な外観性を得ることは非常に困難とな
る。特に１層でなく、選択的に透過させない膜、表面ハ
ードコート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等の
多くの層を塗布する方法、すなわち直接コ−ティングを
行う方法は、これらの問題が極めて深刻となる。また、
予めプラスチックフイルムに太陽光線中の赤外線等の
熱線を選択的に透過させない膜を形成し、この積層体
を、ガラスやプラスチック板に貼着する方法において
は、異材料であるガラスやプラスチック板に、プラスチ
ックフイルムが積層している為に、回収や焼却時に問題
が多い。また太陽光線中の赤外線等の熱線を選択的に透
過させないということは同時に赤外線等の熱線以外の光
線すなわち可視光線は可及的に透過させたいものであ
り、プラスチックフイルムが積層している為にこのプラ
スチックフイルムの透明性が問題となる場合が多い。ま
た、長時間使用することにより、プラスチックフィルム
が剥離する等の、無視できない厚さを有するプラスチッ
クフイルムが積層されていることによる固有の問題が発
生する。
プラスチック板に、太陽光線中の赤外線等の熱線を選択
的に透過させない膜を塗布し形成する方法においては、
ガラス板、アクリル板等のプラスチック板に直接コ−テ
ィングを行うため、一枚、一枚枚葉でのコ−ティングと
なるため、生産性、歩留が悪くなり、加工コストが高く
なる。更に、良好な外観性を得ることは非常に困難とな
る。特に１層でなく、選択的に透過させない膜、表面ハ
ードコート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等の
多くの層を塗布する方法、すなわち直接コ−ティングを
行う方法は、これらの問題が極めて深刻となる。また、
予めプラスチックフイルムに太陽光線中の赤外線等の
熱線を選択的に透過させない膜を形成し、この積層体
を、ガラスやプラスチック板に貼着する方法において
は、異材料であるガラスやプラスチック板に、プラスチ
ックフイルムが積層している為に、回収や焼却時に問題
が多い。また太陽光線中の赤外線等の熱線を選択的に透
過させないということは同時に赤外線等の熱線以外の光
線すなわち可視光線は可及的に透過させたいものであ
り、プラスチックフイルムが積層している為にこのプラ
スチックフイルムの透明性が問題となる場合が多い。ま
た、長時間使用することにより、プラスチックフィルム
が剥離する等の、無視できない厚さを有するプラスチッ
クフイルムが積層されていることによる固有の問題が発
生する。
【０００４】したがって、本発明の目的は、本発明の転
写材を使用することで、従来の方法における加工コスト
面、生産性面、外観性面等の問題点を解決し、太陽光線
中の赤外線等の熱線を選択的に透過させず、かつ外観性
などに優れた選択性光線透過膜転写材を提供せんとする
ものである。
写材を使用することで、従来の方法における加工コスト
面、生産性面、外観性面等の問題点を解決し、太陽光線
中の赤外線等の熱線を選択的に透過させず、かつ外観性
などに優れた選択性光線透過膜転写材を提供せんとする
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、離型
性を有するベースフィルム面上に、少なくともハ−ドコ
−ト層、選択性光線透過金属膜、接着剤層をこの順に設
けたことを特徴とする選択性光線透過膜転写材であり、
また選択性光線透過金属膜の少なくとも片面に透明高屈
折率層をさらに設けた前記の選択性光線透過膜転写材で
あり、また、波長５５０ｎｍの光線透過率が６０％以
上、波長領域２μｍから２０μｍの光線透過率が２０％
以下である前記の選択性光線透過膜転写材であり、ま
た、ベースフィルムと接着剤層との間に、模様層および
または着色層をさらに設けた前記の選択性光線透過膜転
写材であり、また、選択性光線透過金属膜が、金、銀、
銅、白金の中から選ばれた一種以上の金属を主体とする
３０ナ〜３００ナ厚さの薄膜である前記の選択性光線透過
膜転写材であり、さらに、透明高屈折率層が錫、チタ
ン、インジウムから選ばれた一種以上の酸化物を主体と
する３０ナ〜１５００ナ厚さの薄膜である前記の選択性光
線透過膜転写材である。
性を有するベースフィルム面上に、少なくともハ−ドコ
−ト層、選択性光線透過金属膜、接着剤層をこの順に設
けたことを特徴とする選択性光線透過膜転写材であり、
また選択性光線透過金属膜の少なくとも片面に透明高屈
折率層をさらに設けた前記の選択性光線透過膜転写材で
あり、また、波長５５０ｎｍの光線透過率が６０％以
上、波長領域２μｍから２０μｍの光線透過率が２０％
以下である前記の選択性光線透過膜転写材であり、ま
た、ベースフィルムと接着剤層との間に、模様層および
または着色層をさらに設けた前記の選択性光線透過膜転
写材であり、また、選択性光線透過金属膜が、金、銀、
銅、白金の中から選ばれた一種以上の金属を主体とする
３０ナ〜３００ナ厚さの薄膜である前記の選択性光線透過
膜転写材であり、さらに、透明高屈折率層が錫、チタ
ン、インジウムから選ばれた一種以上の酸化物を主体と
する３０ナ〜１５００ナ厚さの薄膜である前記の選択性光
線透過膜転写材である。
【発明の実施態様】本発明の選択性光線透過膜転写材に
おいて用いる離型性を有するベースフィルム（ｂｆ）と
しては、特に制限はなく、離型性を有し、充分な自己保
持性を有する通常の転写箔に用いられるものであればい
ずれも用いることができる。例えばポリエチレンテレフ
タレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミド
フィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリエチレンフ
ィルム、ポリ塩化ビニルフィルムなどの合成樹脂フィル
ムやセルロースアセテートフィルムなどの人造樹脂フィ
ルム、セロハン紙、グラシン紙などの洋紙、和紙などの
フィルム状物、あるいはこれらの複合フィルム状物もし
くは複合シート状物などやまたそれらに離型処理を施し
たものがあげられる。
おいて用いる離型性を有するベースフィルム（ｂｆ）と
しては、特に制限はなく、離型性を有し、充分な自己保
持性を有する通常の転写箔に用いられるものであればい
ずれも用いることができる。例えばポリエチレンテレフ
タレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミド
フィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリエチレンフ
ィルム、ポリ塩化ビニルフィルムなどの合成樹脂フィル
ムやセルロースアセテートフィルムなどの人造樹脂フィ
ルム、セロハン紙、グラシン紙などの洋紙、和紙などの
フィルム状物、あるいはこれらの複合フィルム状物もし
くは複合シート状物などやまたそれらに離型処理を施し
たものがあげられる。
【０００７】ベースフィルムの厚さとしては、特に制限
はなく、通常４〜１５０μｍの範囲、好ましくは１２〜
１００μｍの範囲のもの、さらに好ましくは２０〜１０
０μｍの範囲のものを用いるのがしわや亀裂などのない
選択性光線透過膜付与ガラスや選択性光線透過膜付与プ
ラスチック板の製造が容易にできる点から好ましい。こ
れらのベースフイルムの離型性が不充分なときは、離型
層（ｒｓ）を形成してもよいもので、離型層の形成材
は、公知の離型層を形成するポリマーやワックスなどを
適宜選択使用でき、例えばパラフィンワックス、アクリ
ル系、ウレタン系、シリコン系、メラミン系、尿素系、
尿素−メラミン系、セルロ−ス系、ベンゾグアナミン系
などの樹脂及び界面活性剤を単独またはこれらの混合物
を主成分とした有機溶剤もしくは水に溶解させた塗料を
グラビア印刷法、スクリ−ン印刷法、オフセット印刷法
などの通常の印刷法で前記ベ−スフィルム上に塗布、乾
燥（熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹
脂、放射線硬化性樹脂など硬化性塗膜には硬化）させて
形成したものがあげられる。離型層の厚さとしては特に
制限はなく、０．１〜３μｍ程度の範囲から適宜採用さ
れる。０．１μｍ未満の場合、離型しにくくなり、逆に
３μｍを越えると離型しやすくなり過ぎて転写前に箔の
脱離が起こったり、コスト面で好ましくない。
はなく、通常４〜１５０μｍの範囲、好ましくは１２〜
１００μｍの範囲のもの、さらに好ましくは２０〜１０
０μｍの範囲のものを用いるのがしわや亀裂などのない
選択性光線透過膜付与ガラスや選択性光線透過膜付与プ
ラスチック板の製造が容易にできる点から好ましい。こ
れらのベースフイルムの離型性が不充分なときは、離型
層（ｒｓ）を形成してもよいもので、離型層の形成材
は、公知の離型層を形成するポリマーやワックスなどを
適宜選択使用でき、例えばパラフィンワックス、アクリ
ル系、ウレタン系、シリコン系、メラミン系、尿素系、
尿素−メラミン系、セルロ−ス系、ベンゾグアナミン系
などの樹脂及び界面活性剤を単独またはこれらの混合物
を主成分とした有機溶剤もしくは水に溶解させた塗料を
グラビア印刷法、スクリ−ン印刷法、オフセット印刷法
などの通常の印刷法で前記ベ−スフィルム上に塗布、乾
燥（熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹
脂、放射線硬化性樹脂など硬化性塗膜には硬化）させて
形成したものがあげられる。離型層の厚さとしては特に
制限はなく、０．１〜３μｍ程度の範囲から適宜採用さ
れる。０．１μｍ未満の場合、離型しにくくなり、逆に
３μｍを越えると離型しやすくなり過ぎて転写前に箔の
脱離が起こったり、コスト面で好ましくない。
【０００８】本発明のハ−ドコ−ト層（ｈｋ）は、透明
性に優れたしかも塗膜形成後の鉛筆硬度がＦ以上のもの
であり、好ましくは鉛筆硬度がＨ以上のものである。こ
れらの中で、屈折率が１．５以下、好ましくは１．４以
下（１．２以上）の低屈折率のものであってもよい。こ
れらのハ−ドコ−ト層形成用の原料化合物の具体例とし
ては、たとえば、ウレタンアクリレート系樹脂、多官能
末端アクリレート化合物、パーフルオロアルキレン基含
有の末端珪素化合物、パーフルオロアルキレン基含有エ
ポキシ化合物、パーフルオロアルキレン基含有メラミン
系化合物、パーフルオロアルキレン基含有珪素化合物、
等が挙げられるがこれらに限定されるものではない、こ
れらの化合物からハ−ドコ−ト層が形成される。前記の
化合物に予めＳｉＯ2の微粒子などの低屈折率化剤を含
有せしめて、樹脂化しハードコート層として形成したも
のでもよい。これらのハ−ドコ−ト層の厚さは特に限定
はされないが、好ましくは０．０５μｍから１．０μｍ
の範囲でありより好ましくは０．０７μｍから０．３μ
ｍの範囲である。
性に優れたしかも塗膜形成後の鉛筆硬度がＦ以上のもの
であり、好ましくは鉛筆硬度がＨ以上のものである。こ
れらの中で、屈折率が１．５以下、好ましくは１．４以
下（１．２以上）の低屈折率のものであってもよい。こ
れらのハ−ドコ−ト層形成用の原料化合物の具体例とし
ては、たとえば、ウレタンアクリレート系樹脂、多官能
末端アクリレート化合物、パーフルオロアルキレン基含
有の末端珪素化合物、パーフルオロアルキレン基含有エ
ポキシ化合物、パーフルオロアルキレン基含有メラミン
系化合物、パーフルオロアルキレン基含有珪素化合物、
等が挙げられるがこれらに限定されるものではない、こ
れらの化合物からハ−ドコ−ト層が形成される。前記の
化合物に予めＳｉＯ2の微粒子などの低屈折率化剤を含
有せしめて、樹脂化しハードコート層として形成したも
のでもよい。これらのハ−ドコ−ト層の厚さは特に限定
はされないが、好ましくは０．０５μｍから１．０μｍ
の範囲でありより好ましくは０．０７μｍから０．３μ
ｍの範囲である。
【０００９】本発明のハ−ドコ−ト層としては、屈折率
が１．６以上、好ましくは１．７以上の高屈折ハ−ドコ
−ト層であってもよく、透明性に優れたもので塗膜形成
後の鉛筆硬度がＦ以上好ましくはＨ以上のものである。
その具体例としては、平均粒子径で０．０３μｍ以下の
ＩＴＯ，酸化錫、酸化亜鉛、等の導電性微粒子およびま
たは平均粒子径で０．０３μｍ以下のＴｉＯ2、ＺｒＯ2
、ＣｅＯ2等の高屈折率化剤微粒子を含有する、従来から
のハードコート層に使用される樹脂からの組成物が使用
できる。これらの金属酸化物を含有する高屈折ハ−ドコ
−ト層の厚さは１．０μｍから１０μｍの範囲である。
これらの厚さが１．０μｍに満たない時は硬化がし難
く、また硬度も充分でなく、１０μｍを超える場合は、
層の割れや硬化不良が発生し易くなる。上記ハ−ドコ−
ト層と高屈折ハ−ドコ−ト層との積層によって反射防止
性能を発現さすこともできる。これらの本発明における
ハードコート層（ｈｋ）は、従来公知のハードコート層
でもよく、前記例示の低屈折率ハ−ドコ−ト層、高屈折
ハ−ドコ−ト層でも良く、これらを積層して使用しても
よく、これらを単独で使用してもよいが、好ましくは鉛
筆硬度（ＪＩＳ）でＦ以上好ましくはＨ以上のものであ
る。
が１．６以上、好ましくは１．７以上の高屈折ハ−ドコ
−ト層であってもよく、透明性に優れたもので塗膜形成
後の鉛筆硬度がＦ以上好ましくはＨ以上のものである。
その具体例としては、平均粒子径で０．０３μｍ以下の
ＩＴＯ，酸化錫、酸化亜鉛、等の導電性微粒子およびま
たは平均粒子径で０．０３μｍ以下のＴｉＯ2、ＺｒＯ2
、ＣｅＯ2等の高屈折率化剤微粒子を含有する、従来から
のハードコート層に使用される樹脂からの組成物が使用
できる。これらの金属酸化物を含有する高屈折ハ−ドコ
−ト層の厚さは１．０μｍから１０μｍの範囲である。
これらの厚さが１．０μｍに満たない時は硬化がし難
く、また硬度も充分でなく、１０μｍを超える場合は、
層の割れや硬化不良が発生し易くなる。上記ハ−ドコ−
ト層と高屈折ハ−ドコ−ト層との積層によって反射防止
性能を発現さすこともできる。これらの本発明における
ハードコート層（ｈｋ）は、従来公知のハードコート層
でもよく、前記例示の低屈折率ハ−ドコ−ト層、高屈折
ハ−ドコ−ト層でも良く、これらを積層して使用しても
よく、これらを単独で使用してもよいが、好ましくは鉛
筆硬度（ＪＩＳ）でＦ以上好ましくはＨ以上のものであ
る。
【００１０】本発明における選択性光線透過膜（ｓｋ
ｍ）は、赤外線およびその波長近辺の熱線を選択的に透
過させない層であれば、特に限定はされるものではない
が、好ましくは、金、銀、銅、白金、パラジウム、アル
ミニウム、ニッケル等の透明薄膜等が挙げられるが、さ
らに好ましくは、金、銀、銅、白金の中から選ばれた一
種以上の金属を主体とする３０ナ〜３００ナ厚さの薄膜で
ある。
ｍ）は、赤外線およびその波長近辺の熱線を選択的に透
過させない層であれば、特に限定はされるものではない
が、好ましくは、金、銀、銅、白金、パラジウム、アル
ミニウム、ニッケル等の透明薄膜等が挙げられるが、さ
らに好ましくは、金、銀、銅、白金の中から選ばれた一
種以上の金属を主体とする３０ナ〜３００ナ厚さの薄膜で
ある。
【００１１】本発明における透明高屈折率層（ｔｋｋ）
は、前記の選択性光線透過膜（ｓｋｍ）の環境に対する
保護機能と前記選択性光線透過膜（ｓｋｍ）との積層に
よる選択透過性を高める機能を有するものであればよ
く、特に限定はされないが、好ましくは錫、チタン、イ
ンジウム、の中から選ばれた一種以上の金属の酸化物を
主体とする薄膜であり、錫、インジウムの混合物の酸化
物の場合は透明導電性層として機能するものでもあり、
該薄膜の厚さは好ましくは３０ナ〜１５００ナである。ま
た前記した高屈折ハ−ドコ−ト層がこの透明高屈折率層
を兼ねたものでもよい。
は、前記の選択性光線透過膜（ｓｋｍ）の環境に対する
保護機能と前記選択性光線透過膜（ｓｋｍ）との積層に
よる選択透過性を高める機能を有するものであればよ
く、特に限定はされないが、好ましくは錫、チタン、イ
ンジウム、の中から選ばれた一種以上の金属の酸化物を
主体とする薄膜であり、錫、インジウムの混合物の酸化
物の場合は透明導電性層として機能するものでもあり、
該薄膜の厚さは好ましくは３０ナ〜１５００ナである。ま
た前記した高屈折ハ−ドコ−ト層がこの透明高屈折率層
を兼ねたものでもよい。
【００１２】本発明において、好ましく採用される模様
層（ｍｙｓ）、着色層（ｔｙｓ）は本発明の選択性光線
透過膜転写材から得られる選択性光線透過機能ガラスや
選択性光線透過機能プラスチック板等に透明無色以外の
模様や着色を付与しうるものであればよく、公知の模様
付与材（印刷インク等による印刷、顔料含有塗料による
部分着色や全面着色等）を用いることができる。本発明
においては、さらに必要に応じて撥水性付与層、防汚層
等の保護層（ｈｇ）を用いてもよく、これらの撥水性付
与層、防汚層等の保護層（ｈｇ）は本発明の目的作用を
損なわない限り特に限定されず公知の撥水性付与層、防
汚層等が使用できる。本発明においては前記の各種層お
よび下記する接着剤層の間に各層間の接着性を向上さす
等のためにプライマー層（ｐｓ）を設けてもよく、これ
らのプライマー層は各層の接着性、密着性が小さい時に
この接着性、密着性を高めるものであればよく特に限定
されず、公知の樹脂組成の層を使用することができる。
層（ｍｙｓ）、着色層（ｔｙｓ）は本発明の選択性光線
透過膜転写材から得られる選択性光線透過機能ガラスや
選択性光線透過機能プラスチック板等に透明無色以外の
模様や着色を付与しうるものであればよく、公知の模様
付与材（印刷インク等による印刷、顔料含有塗料による
部分着色や全面着色等）を用いることができる。本発明
においては、さらに必要に応じて撥水性付与層、防汚層
等の保護層（ｈｇ）を用いてもよく、これらの撥水性付
与層、防汚層等の保護層（ｈｇ）は本発明の目的作用を
損なわない限り特に限定されず公知の撥水性付与層、防
汚層等が使用できる。本発明においては前記の各種層お
よび下記する接着剤層の間に各層間の接着性を向上さす
等のためにプライマー層（ｐｓ）を設けてもよく、これ
らのプライマー層は各層の接着性、密着性が小さい時に
この接着性、密着性を高めるものであればよく特に限定
されず、公知の樹脂組成の層を使用することができる。
【００１３】本発明における接着剤層（ｓｓ）は、ガラ
スやプラスチック板に本発明の転写材を密着さすための
ものであり、特に制限はなく、粘着層であってもよく
（この粘着層の場合は、該層に離型シート等を貼着して
もよい）、例えばアクリル系、酢酸ビニル系、塩化ビニ
ル系、スチレンーブタジエン系、塩化ビニルー酢酸ビニ
ル系、エチレンー酢酸ビニル系、ポリエステル系、塩化
ゴム系、塩素化ポリプロピレン系、ウレタン系などの樹
脂の単独またはこれらの混合物を主成分とするエマルジ
ョン系樹脂や有機溶剤型樹脂、水溶性樹脂から適宜選択
採用される。接着剤層は、前記樹脂を水や有機溶剤で希
釈させた塗液をグラビア印刷法、スクリーン印刷法、オ
フセット印刷法、リバースコート法等で、本発明のベー
スフイルムからみて最外層の層上に塗布、乾燥（熱硬化
性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、放射線
硬化性樹脂など硬化性塗膜には硬化）させて形成され
る。接着層の厚さとしては特に制限はなく、通常０．３
〜２０μｍ程度の範囲から被転写物であるガラスやプラ
スチック板の表面状態などに応じて適宜選択採用され
る。接着剤層中に紫外線吸収剤、耐熱劣化剤等の安定剤
を含有せしめることが好ましい。特に紫外線吸収剤の使
用は、本発明の主旨からして使用することが好ましい。
スやプラスチック板に本発明の転写材を密着さすための
ものであり、特に制限はなく、粘着層であってもよく
（この粘着層の場合は、該層に離型シート等を貼着して
もよい）、例えばアクリル系、酢酸ビニル系、塩化ビニ
ル系、スチレンーブタジエン系、塩化ビニルー酢酸ビニ
ル系、エチレンー酢酸ビニル系、ポリエステル系、塩化
ゴム系、塩素化ポリプロピレン系、ウレタン系などの樹
脂の単独またはこれらの混合物を主成分とするエマルジ
ョン系樹脂や有機溶剤型樹脂、水溶性樹脂から適宜選択
採用される。接着剤層は、前記樹脂を水や有機溶剤で希
釈させた塗液をグラビア印刷法、スクリーン印刷法、オ
フセット印刷法、リバースコート法等で、本発明のベー
スフイルムからみて最外層の層上に塗布、乾燥（熱硬化
性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、放射線
硬化性樹脂など硬化性塗膜には硬化）させて形成され
る。接着層の厚さとしては特に制限はなく、通常０．３
〜２０μｍ程度の範囲から被転写物であるガラスやプラ
スチック板の表面状態などに応じて適宜選択採用され
る。接着剤層中に紫外線吸収剤、耐熱劣化剤等の安定剤
を含有せしめることが好ましい。特に紫外線吸収剤の使
用は、本発明の主旨からして使用することが好ましい。
【００１４】本発明においては、上記接着層に近赤外線
吸収剤を含有せしめてもよく、そのことによって光線選
択透過性に、近赤外線遮断性をも兼ね備えた光線選択透
過性転写材を得ることができる。近赤外線吸収剤として
はジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ポリメ
チン系化合物、シアニン系化合物、アントラキノン系化
合物などの単独またはこれらの混合物が好ましい。この
中でも特にジイモニウム系化合物が広域な近赤外線吸収
能、透明性などから好ましい。上記接着層形成用樹脂と
近赤外線吸収剤とを主成分とした有機溶剤もしくは水に
溶解させた塗料を溶解もしくは分散させ、グラビア印刷
法、スクリ−ン印刷法、オフセット印刷法などの通常の
印刷法で接着層を形成する。近赤外線吸収剤入り（透
明）接着層の厚さについては特に制限はなく、通常０．
５〜２０μｍ程度の範囲から適宜選択される。また、透
明近赤外線吸収剤含有接着層中の近赤外線吸収剤の含有
量としては目的とする近赤外線吸収効果に合わせて０．
０５〜１．０ｇ／ｍ2から適宜選択される。
吸収剤を含有せしめてもよく、そのことによって光線選
択透過性に、近赤外線遮断性をも兼ね備えた光線選択透
過性転写材を得ることができる。近赤外線吸収剤として
はジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ポリメ
チン系化合物、シアニン系化合物、アントラキノン系化
合物などの単独またはこれらの混合物が好ましい。この
中でも特にジイモニウム系化合物が広域な近赤外線吸収
能、透明性などから好ましい。上記接着層形成用樹脂と
近赤外線吸収剤とを主成分とした有機溶剤もしくは水に
溶解させた塗料を溶解もしくは分散させ、グラビア印刷
法、スクリ−ン印刷法、オフセット印刷法などの通常の
印刷法で接着層を形成する。近赤外線吸収剤入り（透
明）接着層の厚さについては特に制限はなく、通常０．
５〜２０μｍ程度の範囲から適宜選択される。また、透
明近赤外線吸収剤含有接着層中の近赤外線吸収剤の含有
量としては目的とする近赤外線吸収効果に合わせて０．
０５〜１．０ｇ／ｍ2から適宜選択される。
【００１５】本発明においては、以下に例示する層構成
等の実施態様がある。 ｛１｝ｂｆ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈｋ／ｓ
ｓ ｛２｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈ
ｋ／ｓｓ ｛３｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｇ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈ
ｋ／ｓｓ ｛４｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｋ／ｐｓ／ｍｙｓ／ｔｋｋ／ｓｋ
ｍ／ｔｋｋ／ｈｋ／ｓｓ｛５｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｋ／ｔｙ
ｓ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈｋ／ｓｓ ｛６｝ｂｆ／ｈｇ／ｐｓ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋ
ｋ／ｈｋ／ｈｇ／ｓｓ ｛７｝ｂｆ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｐｓ／ｈｇ／ｓｓ
等の実施態様がある。 ｛１｝ｂｆ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈｋ／ｓ
ｓ ｛２｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈ
ｋ／ｓｓ ｛３｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｇ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈ
ｋ／ｓｓ ｛４｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｋ／ｐｓ／ｍｙｓ／ｔｋｋ／ｓｋ
ｍ／ｔｋｋ／ｈｋ／ｓｓ｛５｝ｂｆ／ｒｓ／ｈｋ／ｔｙ
ｓ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋｋ／ｈｋ／ｓｓ ｛６｝ｂｆ／ｈｇ／ｐｓ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｔｋ
ｋ／ｈｋ／ｈｇ／ｓｓ ｛７｝ｂｆ／ｈｋ／ｔｋｋ／ｓｋｍ／ｐｓ／ｈｇ／ｓｓ
【００１６】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。 ＊＊実施例１ 厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエステルフイルム上に、ウ
レタンアクリレート系樹脂５０部（以下ことわらない限
り重量部を示す）、トルエン４０部、ＭＥＫ５０部等か
らなる溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾
燥、紫外線硬化して厚さ３．５μｍのハ−ドコ−ト層を
形成した。このハ−ドコ−ト層上に、マグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ４０ｎｍのＩＴＯ（インジウム
錫酸化物）層を形成した。このＩＴＯ（インジウム錫酸
化物）層上に、マグネトロンスパッタリング法により厚
さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合金層（Ａｇ：Ａｕが９５：５
の比）を形成した。このＡｇ．Ａｕ合金層上に、マグネ
トロンスパッタリング法により厚さ４０ｎｍのＩＴＯ
（インジウム錫酸化物）層を形成した。さらにこのＩＴ
Ｏ（インジウム錫酸化物）層上に、エチレン．酢ビ系樹
脂１０部、トルエン５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液
をリバースコーテイング法により塗布、乾燥して厚さ
０．５μｍのプライマー層を形成した。このプライマー
層上に、アクリル樹脂２５部、ジイモニウム系近赤外線
吸収剤０．５部、トルエン１００部、ＭＥＫ７０部から
なる溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾燥し
て厚さ４．０μｍの接着層を形成し選択性光線透過膜転
写材を得た。
る。 ＊＊実施例１ 厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエステルフイルム上に、ウ
レタンアクリレート系樹脂５０部（以下ことわらない限
り重量部を示す）、トルエン４０部、ＭＥＫ５０部等か
らなる溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾
燥、紫外線硬化して厚さ３．５μｍのハ−ドコ−ト層を
形成した。このハ−ドコ−ト層上に、マグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ４０ｎｍのＩＴＯ（インジウム
錫酸化物）層を形成した。このＩＴＯ（インジウム錫酸
化物）層上に、マグネトロンスパッタリング法により厚
さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合金層（Ａｇ：Ａｕが９５：５
の比）を形成した。このＡｇ．Ａｕ合金層上に、マグネ
トロンスパッタリング法により厚さ４０ｎｍのＩＴＯ
（インジウム錫酸化物）層を形成した。さらにこのＩＴ
Ｏ（インジウム錫酸化物）層上に、エチレン．酢ビ系樹
脂１０部、トルエン５０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液
をリバースコーテイング法により塗布、乾燥して厚さ
０．５μｍのプライマー層を形成した。このプライマー
層上に、アクリル樹脂２５部、ジイモニウム系近赤外線
吸収剤０．５部、トルエン１００部、ＭＥＫ７０部から
なる溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾燥し
て厚さ４．０μｍの接着層を形成し選択性光線透過膜転
写材を得た。
【００１７】＊＊実施例２ 厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエステルフイルム上に、ウ
レタンアクリレート系樹脂５０部、トルエン４０部、Ｍ
ＥＫ５０部等からなる溶液をリバースコーテイング法に
より塗布、乾燥、紫外線硬化して厚さ３．５μｍのハ−
ドコ−ト層を形成した。このハードコ−ト層上に、マグ
ネトロンスパッタリング法により厚さ３０ｎｍのＴｉＯ
2層を形成した。このＴｉＯ2層上に、マグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合金層
（Ａｇ：Ａｕが９３：７の比）を形成した。このＡｇ．
Ａｕ合金層上に、マグネトロンスパッタリング法により
厚さ３０ｎｍのＴｉＯ2層を形成した。さらにこのＴｉ
Ｏ2層上に、エチレン．酢ビ系樹脂１０部、トルエン５
０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコーテイン
グ法により塗布、乾燥して厚さ０．５μｍのプライマー
層を形成した。このプライマー層上に、アクリル樹脂２
５部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５部、トルエ
ン１００部、ＭＥＫ７０部からなる溶液をリバースコー
テイング法により塗布、乾燥して厚さ４．０μｍの接着
層を形成し選択性光線透過膜転写材を得た。
レタンアクリレート系樹脂５０部、トルエン４０部、Ｍ
ＥＫ５０部等からなる溶液をリバースコーテイング法に
より塗布、乾燥、紫外線硬化して厚さ３．５μｍのハ−
ドコ−ト層を形成した。このハードコ−ト層上に、マグ
ネトロンスパッタリング法により厚さ３０ｎｍのＴｉＯ
2層を形成した。このＴｉＯ2層上に、マグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合金層
（Ａｇ：Ａｕが９３：７の比）を形成した。このＡｇ．
Ａｕ合金層上に、マグネトロンスパッタリング法により
厚さ３０ｎｍのＴｉＯ2層を形成した。さらにこのＴｉ
Ｏ2層上に、エチレン．酢ビ系樹脂１０部、トルエン５
０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコーテイン
グ法により塗布、乾燥して厚さ０．５μｍのプライマー
層を形成した。このプライマー層上に、アクリル樹脂２
５部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５部、トルエ
ン１００部、ＭＥＫ７０部からなる溶液をリバースコー
テイング法により塗布、乾燥して厚さ４．０μｍの接着
層を形成し選択性光線透過膜転写材を得た。
【００１８】＊＊実施例３ 厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエステルフイルム上に、多
官能末端アクリレート化合物５０部、ＭＩＢＫ（メチル
イソブチルケトン）５０部、ＭＥＫ（メチルエチルケト
ン）４５部からなる溶液をリバースコーテイング法によ
り塗布、乾燥、紫外線硬化して厚さ０．１μｍのハード
コート層を形成した。このハードコート層上に、マグネ
トロンスパッタリング法により厚さ３０ｎｍの錫酸化物
層を形成した。この錫酸化物層上に、マグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合金層
（Ａｇ：Ａｕが９２：８の比）を形成した。このＡｇ．
Ａｕ合金層上に、マグネトロンスパッタリング法により
厚さ３０ｎｍの錫酸化物層を形成した。さらにこの錫酸
化物層上に、黄色顔料と緑色顔料との１：２比の顔料
０．３部、エチレン．酢ビ系樹脂１０部、トルエン５０
部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコーテイング
法により塗布、乾燥して厚さ０．５μｍの薄黄緑色プラ
イマー層を形成した。このプライマー層上に、アクリル
樹脂２５部、トルエン１００部、ＭＥＫ７０部からなる
溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾燥して厚
さ４．０μｍの接着層を形成し着色選択性光線透過膜転
写材を得た。
官能末端アクリレート化合物５０部、ＭＩＢＫ（メチル
イソブチルケトン）５０部、ＭＥＫ（メチルエチルケト
ン）４５部からなる溶液をリバースコーテイング法によ
り塗布、乾燥、紫外線硬化して厚さ０．１μｍのハード
コート層を形成した。このハードコート層上に、マグネ
トロンスパッタリング法により厚さ３０ｎｍの錫酸化物
層を形成した。この錫酸化物層上に、マグネトロンスパ
ッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ａｕ合金層
（Ａｇ：Ａｕが９２：８の比）を形成した。このＡｇ．
Ａｕ合金層上に、マグネトロンスパッタリング法により
厚さ３０ｎｍの錫酸化物層を形成した。さらにこの錫酸
化物層上に、黄色顔料と緑色顔料との１：２比の顔料
０．３部、エチレン．酢ビ系樹脂１０部、トルエン５０
部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコーテイング
法により塗布、乾燥して厚さ０．５μｍの薄黄緑色プラ
イマー層を形成した。このプライマー層上に、アクリル
樹脂２５部、トルエン１００部、ＭＥＫ７０部からなる
溶液をリバースコーテイング法により塗布、乾燥して厚
さ４．０μｍの接着層を形成し着色選択性光線透過膜転
写材を得た。
【００１９】＊＊実施例４ 厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエステルフイルム上に、多
官能末端アクリレート系化合物を主材とする塗布液を塗
布・予備乾燥・紫外線硬化して厚さ５μｍのハードコー
ト層を形成した。ハードコート層上に、テトラブチルチ
タネート３部、イソプロピルアルコール６５部、ノルマ
ルヘキサン３２部からなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸
化物層を２５ｎｍ厚さに形成した。このチタン酸化物層
上に、マグネトロンスパッタリング法により厚さ１０ｎ
ｍのＡｇ．Ｐｄ合金層（Ａｇ：Ｐｄが９２：８の比）を
形成した。このＡｇ．Ｐｄ合金層上に、テトラブチルチ
タネート３部、イソプロピルアルコール６５部、ノルマ
ルヘキサン３２部からなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸
化物層を２５ｎｍ厚さに形成した。さらにこのチタン酸
化物層上に、アクリル樹脂２５部、トルエン１００部、
ＭＥＫ７０部からなる溶液をリバースコーテイング法に
より塗布、乾燥して厚さ４．０μｍの接着層を形成し選
択性光線透過膜転写材を得た。
官能末端アクリレート系化合物を主材とする塗布液を塗
布・予備乾燥・紫外線硬化して厚さ５μｍのハードコー
ト層を形成した。ハードコート層上に、テトラブチルチ
タネート３部、イソプロピルアルコール６５部、ノルマ
ルヘキサン３２部からなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸
化物層を２５ｎｍ厚さに形成した。このチタン酸化物層
上に、マグネトロンスパッタリング法により厚さ１０ｎ
ｍのＡｇ．Ｐｄ合金層（Ａｇ：Ｐｄが９２：８の比）を
形成した。このＡｇ．Ｐｄ合金層上に、テトラブチルチ
タネート３部、イソプロピルアルコール６５部、ノルマ
ルヘキサン３２部からなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸
化物層を２５ｎｍ厚さに形成した。さらにこのチタン酸
化物層上に、アクリル樹脂２５部、トルエン１００部、
ＭＥＫ７０部からなる溶液をリバースコーテイング法に
より塗布、乾燥して厚さ４．０μｍの接着層を形成し選
択性光線透過膜転写材を得た。
【００２０】＊＊実施例５ 厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエステルフイルム上に、多
官能末端アクリレート系化合物を主材とする塗布液を塗
布・予備乾燥・紫外線硬化して厚さ５μｍのハードコー
ト層を形成した。ハードコート層上に、テトラブチルチ
タネート３部イソプロピルアルコール６５部、ノルマル
ヘキサン３２部からなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸化
物層を２５ｎｍ厚さに形成した。このチタン酸化物層う
えに、マグネトロンスパッタリング法により厚さ１０ｎ
ｍのＡｇ．Ｐｄ合金層（Ａｇ：Ｐｄが９２：８の比）を
形成した。このＡｇ．Ｐｄ合金層上に、テトラブチルチ
タネート３部（以下断らない限り重量部を示す。）イソ
プロピルアルコール６５部、ノルマルヘキサン３２部か
らなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸化物層を２５ｎｍ厚
さに形成した。さらにこのチタン酸化物層上に、マグネ
トロンスパッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ｐ
ｄ合金層（Ａｇ：Ｐｄが９２：８の比）を形成した。こ
のＡｇ．Ｐｄ合金層上に、テトラブチルチタネート３部
（以下断らない限り重量部を示す。）イソプロピルアル
コール６５部、ノルマルヘキサン３２部からなる溶液を
塗布乾燥し、チタン酸化物層を２５ｎｍ厚さに形成し
た。この無機層５層の上に、アクリル樹脂２５部、トル
エン１００部、ＭＥＫ７０部からなる溶液をリバースコ
ーテイング法により塗布、乾燥して厚さ４．０μｍの接
着層を形成し選択性光線透過膜転写材を得た。
官能末端アクリレート系化合物を主材とする塗布液を塗
布・予備乾燥・紫外線硬化して厚さ５μｍのハードコー
ト層を形成した。ハードコート層上に、テトラブチルチ
タネート３部イソプロピルアルコール６５部、ノルマル
ヘキサン３２部からなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸化
物層を２５ｎｍ厚さに形成した。このチタン酸化物層う
えに、マグネトロンスパッタリング法により厚さ１０ｎ
ｍのＡｇ．Ｐｄ合金層（Ａｇ：Ｐｄが９２：８の比）を
形成した。このＡｇ．Ｐｄ合金層上に、テトラブチルチ
タネート３部（以下断らない限り重量部を示す。）イソ
プロピルアルコール６５部、ノルマルヘキサン３２部か
らなる溶液を塗布乾燥し、チタン酸化物層を２５ｎｍ厚
さに形成した。さらにこのチタン酸化物層上に、マグネ
トロンスパッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．Ｐ
ｄ合金層（Ａｇ：Ｐｄが９２：８の比）を形成した。こ
のＡｇ．Ｐｄ合金層上に、テトラブチルチタネート３部
（以下断らない限り重量部を示す。）イソプロピルアル
コール６５部、ノルマルヘキサン３２部からなる溶液を
塗布乾燥し、チタン酸化物層を２５ｎｍ厚さに形成し
た。この無機層５層の上に、アクリル樹脂２５部、トル
エン１００部、ＭＥＫ７０部からなる溶液をリバースコ
ーテイング法により塗布、乾燥して厚さ４．０μｍの接
着層を形成し選択性光線透過膜転写材を得た。
【００２１】＜評価＞各実施例で得られた転写材をアク
リル板に転写したサンプルについて以下の評価を行っ
た。結果はいずれの実施例からのものも、透過率（分光
光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所製）を用い５５
０ｎｍの光線透過率を測定した。単位は％である）は６
０％以上であり、鉛筆硬度（ＪＩＳ−Ｋ５４００に準じ
て測定した）は、Ｈ以上であり、反射率（分光光度計Ｕ
Ｖ−３１００ＰＣ（島津製作所製）を用い５５０ｎｍの
光線反射率を測定した。単位は％である）は２．０％以
下であり、赤外線透過率（分光光度計ＵＶ−３１００Ｐ
Ｃ（島津製作所製）を用い、２μｍから２０μｍの光線
透過率を測定した。単位は％である）は１５％以下であ
った。
リル板に転写したサンプルについて以下の評価を行っ
た。結果はいずれの実施例からのものも、透過率（分光
光度計ＵＶ−３１００ＰＣ（島津製作所製）を用い５５
０ｎｍの光線透過率を測定した。単位は％である）は６
０％以上であり、鉛筆硬度（ＪＩＳ−Ｋ５４００に準じ
て測定した）は、Ｈ以上であり、反射率（分光光度計Ｕ
Ｖ−３１００ＰＣ（島津製作所製）を用い５５０ｎｍの
光線反射率を測定した。単位は％である）は２．０％以
下であり、赤外線透過率（分光光度計ＵＶ−３１００Ｐ
Ｃ（島津製作所製）を用い、２μｍから２０μｍの光線
透過率を測定した。単位は％である）は１５％以下であ
った。
【００２２】
【発明の効果】本発明の選択性光線透過膜転写材を使用
することで、従来の選択性光線透過膜板作成方法におけ
る物性面、加工コスト面、生産性面、外観性面等の問題
点を解決し、光線を選択的に透過させない膜、表面ハー
ドコート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等の多
くの層などを転写の一工程で一時に、ガラスやプラスチ
ック板に付与しうる選択性光線透過膜用転写材を提供で
きる。
することで、従来の選択性光線透過膜板作成方法におけ
る物性面、加工コスト面、生産性面、外観性面等の問題
点を解決し、光線を選択的に透過させない膜、表面ハー
ドコート層、装飾の為の模様層、着色層、保護層等の多
くの層などを転写の一工程で一時に、ガラスやプラスチ
ック板に付与しうる選択性光線透過膜用転写材を提供で
きる。
Claims (6)
- 【請求項１】 離型性を有するベースフィルム面上に、
少なくともハ−ドコ−ト層、選択性光線透過金属膜、接
着剤層をこの順に設けたことを特徴とする選択性光線透
過膜転写材。 - 【請求項２】 選択性光線透過金属膜の少なくとも片面
に透明高屈折率層をさらに設けた請求項１記載の選択性
光線透過膜転写材。 - 【請求項３】 波長５５０ｎｍの光線透過率が６０％以
上、波長領域２μｍから２０μｍの光線透過率が２０％
以下である請求項１記載の選択性光線透過膜転写材。 - 【請求項４】 ベースフィルムと接着剤層との間に、模
様層およびまたは着色層をさらに設けた請求項１記載の
選択性光線透過膜転写材。。 - 【請求項５】 選択性光線透過金属膜が、金、銀、銅、
白金の中から選ばれた一種以上の金属を主体とする３０
ナ〜３００ナ厚さの薄膜である請求項１記載の選択性光線
透過膜転写材。 - 【請求項６】 透明高屈折率層が錫、チタン、インジウ
ムから選ばれた一種以上の酸化物を主体とする３０ナ〜
１５００ナ厚さの薄膜である請求項１記載の選択性光線
透過膜転写材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15662598A JP3816237B2 (ja) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | 選択性光線透過膜転写材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15662598A JP3816237B2 (ja) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | 選択性光線透過膜転写材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11320751A true JPH11320751A (ja) | 1999-11-24 |
| JP3816237B2 JP3816237B2 (ja) | 2006-08-30 |
Family
ID=15631798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15662598A Expired - Fee Related JP3816237B2 (ja) | 1998-05-20 | 1998-05-20 | 選択性光線透過膜転写材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3816237B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008068519A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Oike Ind Co Ltd | 積層体及びその製造方法、並びに該積層体を用いた合わせガラス又は板ガラス |
-
1998
- 1998-05-20 JP JP15662598A patent/JP3816237B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008068519A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Oike Ind Co Ltd | 積層体及びその製造方法、並びに該積層体を用いた合わせガラス又は板ガラス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3816237B2 (ja) | 2006-08-30 |
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