JPH11314061A - Device and method for coating recessed and projected base with coating liquid, plasma display and device and method for manufacturing plasma display member - Google Patents

Device and method for coating recessed and projected base with coating liquid, plasma display and device and method for manufacturing plasma display member

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Publication number
JPH11314061A
JPH11314061A JP11044153A JP4415399A JPH11314061A JP H11314061 A JPH11314061 A JP H11314061A JP 11044153 A JP11044153 A JP 11044153A JP 4415399 A JP4415399 A JP 4415399A JP H11314061 A JPH11314061 A JP H11314061A
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JP
Japan
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coating liquid
coating
base material
applying
plate
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Application number
JP11044153A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Kitamura
義之 北村
Yoshinori Tani
義則 谷
Hideki Ikeuchi
秀樹 池内
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Publication of JPH11314061A publication Critical patent/JPH11314061A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformize the discharge amount of respective openings, make the cleaning for openings easy, prevent a coating liquid from remaining in a nozzle and reduce the amount of use of coating liquid and the like when the coating liquid is applied on recessed sections of a base with given recessed and projected patterns such as a pattern plate of a plasma display. SOLUTION: A coating device for applying a coating liquid is provided with a table 6 fixing a base 4, on the surface of which recessed and projected sections are formed at the given pitch, a coating liquid discharge device with a plurality of openings formed facing recessed and projected sections of the base 4, a feed means for feeding the coating liquid to the coating liquid discharge device and a moving means for moving three-dimensionally and relatively the table 6 and the coating liquid discharge device, and the coating liquid discharge device is provided with a liquid reservoir section for storing the given amount of coating liquid, and openings of the diameter in the range of 50-500 μm running through a plate-shaped body of thickness (t) in the range of 0.5-10 d are formed at the given pitches.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に凹凸状の
特定のパターンが形成されたもの、特に一定形状の隔壁
を等ピッチで配置したプラズマディスプレイパネルや、
ストライプ形ブラックマトリックス式のカラー受像管の
パネル内面等における一定パターンの塗布に適用でき
る、凹凸基板への塗液の塗布装置および塗布方法、並び
にこれらの装置および方法を使用したプラズマディスプ
レイおよびプラズマディスプレイ背面板や前面板等のプ
ラズマディスプレイ用部材の製造装置および製造方法の
改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel having a specific pattern of concavities and convexities formed on a substrate, in particular, a plasma display panel having fixed-shaped partition walls arranged at equal pitches,
Apparatus and method for applying a coating liquid to a concavo-convex substrate, and a plasma display and a plasma display using these apparatuses and methods, which can be applied to apply a predetermined pattern on the inner surface of a panel of a stripe type black matrix color picture tube or the like The present invention relates to an improvement in a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a plasma display member such as a face plate and a front plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ディスプレイはその方式において
次第に多様化してきている。現在注目されているものの
一つが、従来のブラウン管よりも大型で薄型軽量化が可
能なプラズマディスプレイである。これは、一定ピッチ
で一方向に延びる隔壁によりストライプ状の凹凸部をガ
ラス基板上に形成し、該凹凸部の凹部に赤(R)、緑
(G)、青(B)の蛍光体を充填し、任意の部位を紫外
線により発光させ、所定のカラーパターンを達成するも
のである。
2. Description of the Related Art In recent years, displays have become increasingly diversified in their system. One of the things that are currently attracting attention is a plasma display that is larger, thinner and lighter than conventional cathode ray tubes. That is, stripe-shaped uneven portions are formed on a glass substrate by partition walls extending in one direction at a constant pitch, and the concave portions of the uneven portions are filled with red (R), green (G), and blue (B) phosphors. Then, an arbitrary portion is caused to emit light by ultraviolet rays to achieve a predetermined color pattern.

【0003】蛍光体がストライプ状に構成されていると
いう構造は、ストライプ形ブラックマトリックス式のカ
ラー受像管のパネルも有している。
The structure in which the phosphors are formed in a stripe shape also has a striped black matrix type color picture tube panel.

【0004】このような構造のものを高い生産性と高品
質で製造するには、プラズマディスプレイを構成する部
材である背面板で蛍光体を一定のパターン状に、塗り分
ける技術が重要となる。
[0004] In order to manufacture such a structure with high productivity and high quality, it is important to apply a phosphor in a predetermined pattern on a back plate which is a member constituting a plasma display.

【0005】通常は、隔壁パターンを形成後、特開平5
−144375号公報に示されるように一色の蛍光体を
全面スクリーン印刷し、必要な部分のみフォトリソグラ
フィー法で残すようにして、高精度のパターンが得られ
るようにしている。しかし、この方法では、R、G、B
の各蛍光体パターンを形成するために、各色の塗布、露
光、現像、乾燥等の工程を3回繰り返す必要があり、コ
ストがかかる上、生産性に著しく劣るという欠点を持
つ。
Usually, after a partition pattern is formed,
As shown in JP-A-144375, a phosphor of one color is screen-printed on the entire surface, and only a necessary portion is left by photolithography so that a highly accurate pattern can be obtained. However, in this method, R, G, B
In order to form each of the phosphor patterns described above, it is necessary to repeat the steps of coating, exposing, developing, and drying each color three times, which is costly and has a disadvantage that productivity is extremely poor.

【0006】単にガラス基板上にストライプ状の着色パ
ターンを形成する他の方法としては、ノズルを用いる特
開平5−11105号公報や特開平5−142407公
報等に記載されている方法があるが、表面が平坦な基板
を対象に先端が平坦なノズルで3色同時に塗布するもの
であるため、表面に凹凸が形成されているものに対して
はこの技術をそのまま用いることはできない。
As another method of simply forming a striped colored pattern on a glass substrate, there is a method described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 5-1105 and 5-142407 using a nozzle. Since three colors are simultaneously applied to a substrate having a flat surface by a nozzle having a flat tip, this technique cannot be used as it is for a substrate having a surface having irregularities.

【0007】また、特開昭52−134368号公報、
特開昭54−13250号公報、特開昭54−1325
1号公報等には、ストライプ形ブラックマトリックス式
のカラー受像管のパネル内面の、凸状となっているブラ
ックマトリックス間の凹部に所定の蛍光体を塗布する方
法として、蛇行防止等の制御装置を有する改良されたノ
ズル装置を用いることが示されている。しかし、一本の
ノズルを用いているために、表面の複数の凹凸部に対し
て同時に塗布する方法には適用できず、一本のノズルに
よる塗布のために時間がかかるという問題がある。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-134368,
JP-A-54-13250, JP-A-54-1325
No. 1 Publication and the like discloses a control device for preventing meandering or the like as a method of applying a predetermined phosphor to a concave portion between convex black matrices on the inner surface of a panel of a striped black matrix type color picture tube. It has been shown to use an improved nozzle arrangement having However, since a single nozzle is used, the method cannot be applied to a method of simultaneously applying to a plurality of uneven portions on the surface, and there is a problem that it takes time to apply using a single nozzle.

【0008】また、ノズルを用いて平坦な基板上にスト
ライプ状に隔壁を形成する技術が特開平9−92134
号公報に開示されているが、基板上に既に凹凸部が形成
されており、その凹凸部の凹部に沿うように塗液を精度
良く塗布していく工程には採用し難い。
Japanese Patent Laid-Open No. 9-92134 discloses a technique of forming partition walls in a stripe pattern on a flat substrate using a nozzle.
Although it is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-157, it is difficult to employ a process in which a coating liquid is applied with high accuracy along a concave portion of the uneven portion because the uneven portion is already formed on the substrate.

【0009】また、特開平9−132812号公報に
は、溶融紡糸用に、2つの溝を有するブロックと板とを
組み合わせてノズルを構成し、複数の開口部を設けたも
のが開示されているが、このような溶融紡糸用のノズル
には寸法精度はそれほど要求されず、プラズマディスプ
レイ製造のような高精度が要求される塗液の塗布装置に
は適用できない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-132812 discloses an apparatus in which a nozzle is formed by combining a block having two grooves and a plate for melt spinning, and a plurality of openings are provided. However, such a nozzle for melt spinning does not require much dimensional accuracy, and cannot be applied to a coating liquid coating apparatus that requires high accuracy such as plasma display manufacturing.

【0010】さらに、米国特許第4,774,109号
公報には、基板上に、ホットメルト接着剤等の粘性液を
塗布するノズルとして、櫛状のシムをマニホールドを有
するブロックで挟み込んで、複数の開口部を形成したノ
ズルが記載されているが、これもまた、平坦な基板上に
ストライプ状に塗液を塗布するものであり、既に凹凸部
が形成された基板の凹部に沿うように塗液を精度良く塗
布していく工程には採用し難い。
Further, in US Pat. No. 4,774,109, as a nozzle for applying a viscous liquid such as a hot-melt adhesive onto a substrate, a comb-shaped shim is sandwiched between blocks having a manifold. Although a nozzle having an opening formed therein is described, this also applies a coating liquid in a stripe shape on a flat substrate, and the coating liquid is applied along the concave portion of the substrate on which the unevenness has already been formed. It is difficult to adopt it in the process of applying the liquid with high accuracy.

【0011】さらにまた、上記のような従来技術とは別
に、プラズマディスプレイ製造のような高精度が要求さ
れる塗液の塗布においては、一般的に次のような問題、
要望がある。
Furthermore, apart from the above-described conventional techniques, the application of a coating liquid requiring high precision, such as plasma display manufacturing, generally has the following problems.
There is a request.

【0012】すなわち、 (1)凹凸基板のストライプ状の凹部に、複数の吐出孔
のあるノズルから塗液を凹部のみに塗布するときに、吐
出孔のピッチ精度、孔精度の高いものが要求され、それ
によって、凹部に塗布される量を均一にすることが望ま
れる。
(1) When a coating liquid is applied only to a concave portion from a nozzle having a plurality of discharge holes to a stripe-shaped concave portion of a concave-convex substrate, a discharge hole having high pitch accuracy and high hole accuracy is required. Therefore, it is desired to make the amount applied to the concave portions uniform.

【0013】(2)プラズマディスプレイ用基板等に塗
液を塗布するノズルの開口部は小さいので、塗液のカス
等がたまりやすいにもかかわらず、清掃が困難であると
いう問題がある。したがって、繰り返して長期にわたっ
て生産するには、開口部を清掃できることが必須の条件
となり、かつ、清掃も容易に効率よく行うことができる
ようにすることが望まれる。
(2) Since the opening of a nozzle for applying a coating liquid to a substrate for a plasma display or the like is small, there is a problem that cleaning is difficult despite that the coating liquid scum easily accumulates. Therefore, in order to produce repeatedly and for a long period of time, it is an essential condition that the opening can be cleaned, and it is desired that the cleaning can be performed easily and efficiently.

【0014】(3)複数の開口部を持つノズルは、均一
吐出のためにはどうしても大きなマニホールドを形成す
ることになるので、塗液の滞留をおこしやすくなり、そ
れによって塗液の品質の低下、ひいては被塗布物の品質
低下を招くおそれがある。つまり、滞留は塗液が同じ場
所に居座り続けることであり、時間変化が起こりやすい
塗液だと、粘度等の特性が変わったりして、塗布の障害
となる。また変質を起こして含んでいる粒子が沈降した
りして品質も悪化するおそれがある。したがって、この
ような問題を起こさないためには、ノズルの内部で滞留
をおこさないようにすることが望まれる。
(3) A nozzle having a plurality of openings necessarily forms a large manifold for uniform discharge, so that the coating liquid tends to stay, thereby deteriorating the quality of the coating liquid. As a result, the quality of the object to be coated may be reduced. In other words, the stagnation is that the coating liquid stays in the same place, and if the coating liquid is liable to change with time, characteristics such as viscosity change, thereby hindering the coating. In addition, there is a possibility that the quality may be deteriorated due to sedimentation of the contained particles due to deterioration. Therefore, in order to prevent such a problem from occurring, it is desired that stagnation does not occur inside the nozzle.

【0015】(4)使用する塗液が高価なものであると
き等には、使用量を減らす必要があるが、通常のように
供給タンクからノズルまでの経路中のすべてを塗液で満
たしていたのではどうしてもむだな塗液の使用量が多く
なってしまう。したがって、必要最小限度の塗液で塗布
できるようにすることも望まれる。
(4) When the coating liquid to be used is expensive, it is necessary to reduce the amount of the coating liquid. However, the entire path from the supply tank to the nozzle is filled with the coating liquid as usual. If this is the case, the use amount of the coating liquid is inevitably increased. Therefore, it is also desired to be able to apply with a minimum necessary coating solution.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、プラズマディスプレイの隔壁のように一定の凹凸状
パターンが形成された基材の複数の凹部に、複数の吐出
孔を有するノズルから所定の塗液を塗布するに際し、各
凹部への塗布量を均一化し、各部の特性がより均一な凹
凸基板を製造することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a nozzle having a plurality of discharge holes in a plurality of recesses of a substrate having a predetermined uneven pattern such as a partition wall of a plasma display. An object of the present invention is to produce a concavo-convex substrate in which the amount of application to each concave portion is uniformed when applying a coating liquid, and the characteristics of each portion are more uniform.

【0017】また、本発明の別の課題は、塗液塗布装置
の開口部を形成する部材を分解可能として、開口部を容
易に直接洗浄できる構造にし、長期にわたって安定生産
できるようにすることにある。
Another object of the present invention is to provide a structure in which a member for forming an opening of a coating liquid application device can be disassembled so that the opening can be easily and directly cleaned so that stable production can be performed for a long period of time. is there.

【0018】また、本発明の別の課題は、塗液塗布装置
のノズルのマニホールド部から、開口部における吐出口
に至るまで、塗液の滞留が生じないようにし、塗液の特
性変化や変質が生じないようにして、塗液が塗布された
基板の品質を安定して良好に保つことにある。
Another object of the present invention is to prevent the coating liquid from staying from the manifold portion of the nozzle of the coating liquid coating apparatus to the discharge port in the opening, and to change the properties of the coating liquid or change the quality of the coating liquid. And to maintain the quality of the substrate on which the coating liquid is applied stably and favorably.

【0019】さらに、本発明の別の課題は、塗液を必要
最小限の量だけノズルに供給しながら所望の塗布を確実
に行えるようにし、無駄な塗液の使用量を低減して、製
造コストの低減に寄与することにある。
Further, another object of the present invention is to make it possible to reliably perform a desired coating while supplying a necessary minimum amount of a coating liquid to a nozzle, to reduce a useless amount of a coating liquid, and to manufacture. This is to contribute to cost reduction.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の凹凸基材への塗液の塗布装置は、表面に一
定ピッチで凹凸部が形成されている基材を固定するテー
ブルと、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗液を供給する供給手
段と、テーブルと塗液吐出装置を3次元的に相対移動さ
せる移動手段とを備えた凹凸基材への塗液の塗布装置に
おいて、塗液吐出装置は内部に塗液を一定量蓄積する液
だめ部を有するとともに、開口部は直径dが50〜50
0μmの範囲にある孔が一定ピッチにて厚さtが0.5
〜10dの範囲にある板状体を貫通することにより形成
されていることを特徴とするものからなる(第1の装
置)。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, an apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises a table for fixing a substrate having an uneven portion formed on a surface thereof at a constant pitch. A coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the concave and convex portions of the base material; a supply unit for supplying the coating liquid to the coating liquid discharge device; and a table and the coating liquid discharge device relatively moved three-dimensionally. And a moving means for moving the coating liquid onto the uneven substrate, wherein the coating liquid discharge device has a liquid reservoir for accumulating a predetermined amount of the coating liquid therein, and the opening has a diameter d of 50 to 50.
Holes in the range of 0 μm have a constant pitch and a thickness t of 0.5
(1st device) formed by penetrating the plate-shaped object in the range of 10 to 10d.

【0021】この第1の装置においては、開口部が形成
されている板状体の塗液吐出側の面が断面でみて直線状
の面であり、かつ、板状体の厚みが均一であることが好
ましく、板状体の厚みの均一度としては、±10%以下
であることが好ましい。
In this first apparatus, the surface of the plate-shaped body having the opening formed therein is a linear surface when viewed in cross section, and the thickness of the plate-shaped body is uniform. The thickness uniformity of the plate is preferably ± 10% or less.

【0022】また、本発明に係る凹凸基材への塗液の塗
布装置は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成されている
基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面して複
数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗
液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装置を3
次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸基材へ
の塗液の塗布装置において、塗液吐出装置は、開口部の
配列方向に対し垂直な方向に2つのブロックを重ね合わ
せたものからなり、内部に塗液を一定量蓄積する液だめ
部を有するとともに、2つのブロックの重ね合わせ面に
液だめ部と外部とを連通する複数の貫通道をブロックの
重ね方向とは垂直な方向に一定ピッチで設けることによ
り開口部を形成し、かつ、前記貫通道の塗液吐出方向の
長さが0.1〜20mmの範囲にあることを特徴とする
ものからなる(第2の装置)。
Further, according to the present invention, there is provided an apparatus for applying a coating liquid onto an uneven base material, the table for fixing a base material having uneven portions formed on the surface at a constant pitch, and a table facing the uneven portion of the base material. A coating liquid discharge device having a plurality of openings, a supply means for supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device, a table and a coating liquid discharge device
In a coating device for applying a coating liquid to an uneven substrate having a moving means for performing a relative movement in a three-dimensional manner, the coating liquid discharge device is formed by stacking two blocks in a direction perpendicular to the arrangement direction of the openings. In addition, it has a reservoir for accumulating a certain amount of coating liquid inside, and a plurality of through passages connecting the reservoir and the outside are provided on the overlapping surface of the two blocks in a direction perpendicular to the overlapping direction of the blocks. An opening is formed by providing the coating at a constant pitch, and the length of the through passage in the coating liquid discharge direction is in the range of 0.1 to 20 mm (second apparatus).

【0023】また、本発明に係る凹凸基材への塗液の塗
布装置は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成されている
基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面して複
数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装置に塗
液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装置を3
次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸基材へ
の塗液の塗布装置において、塗液吐出装置は、2つのブ
ロックの間に板状シムを重ね合わせたものからなり、内
部に塗液を一定量蓄積する液だめ部を有するとともに、
板状シムに液だめ部と外部とを連通する複数のスリット
をブロックの長手方向に一定ピッチで設けることにより
開口部を形成し、かつ、板状シムのスリット部の前記2
つのブロックで挟み込まれる部分の塗液吐出方向の長さ
が0.1〜20mmの範囲にあることを特徴とするもの
からなる(第3の装置)。
Further, the apparatus for applying a coating liquid to an uneven base material according to the present invention comprises a table for fixing a base material having uneven portions formed on the surface at a constant pitch, and a table facing the uneven portion of the base material. A coating liquid discharge device having a plurality of openings, a supply means for supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device, a table and a coating liquid discharge device
In an apparatus for applying a coating liquid to an uneven base material having a moving means for performing a relative movement in a three-dimensional manner, the coating liquid discharging apparatus comprises a plate-shaped shim overlapped between two blocks, and the coating liquid is applied inside. With a reservoir for accumulating a certain amount of liquid,
An opening is formed by providing a plurality of slits in the plate-shaped shim at a constant pitch in the longitudinal direction of the block so as to communicate the liquid reservoir with the outside.
The length of the portion sandwiched between the two blocks in the coating liquid ejection direction is in the range of 0.1 to 20 mm (third device).

【0024】この第3の装置においては、板状シムは、
前記2つのブロックで挟みこまれる厚さが同じで塗液吐
出方向に長さが異なる2種類の板をブロックの長手方向
に一定ピッチで重ね合わせて複数のスリットを形成する
ものや、さらにここでの2種類の板が一枚の基準板上で
重ね合わせられているもの、または一定厚さの板状体に
液だめ部と外部とを連通する複数のスリットに相当する
一定深さの溝をブロックの長手方向に一定ピッチで設け
たもの、であることが好ましい。
In this third device, the plate-shaped shim is
The two blocks having the same thickness sandwiched by the two blocks and having different lengths in the coating liquid discharge direction are overlapped at a constant pitch in the longitudinal direction of the block to form a plurality of slits. The two types of plates are superimposed on one reference plate, or a plate of a certain thickness is provided with a groove of a certain depth corresponding to a plurality of slits communicating the reservoir and the outside. It is preferably provided at a constant pitch in the longitudinal direction of the block.

【0025】さらに、本発明に係る凹凸基材への塗液の
塗布装置は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成されてい
る基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面して
複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装置に
塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装置を
3次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸基材
への塗液の塗布装置において、塗液吐出装置は内部に塗
液を一定量蓄積する液だめ部を有するとともに、液だめ
部が外部に連通する開口部に向けて先細りの形状を有す
ることを特徴とするものからなる(第4の装置)。
Further, the apparatus for applying a coating liquid to an uneven base material according to the present invention comprises a table for fixing a base material having uneven portions formed on the surface at a constant pitch, and a table facing the uneven portion of the base material. An uneven substrate including a coating liquid ejection device having a plurality of openings, a supply unit that supplies the coating liquid to the coating liquid ejection device, and a moving unit that relatively moves the table and the coating liquid ejection device three-dimensionally. In the coating liquid application apparatus, the coating liquid discharge device has a liquid reservoir for accumulating a predetermined amount of the coating liquid therein, and the liquid reservoir has a tapered shape toward an opening communicating with the outside. (Fourth device).

【0026】さらにまた、本発明に係る凹凸基材への塗
液の塗布装置は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面
して複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装
置に塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装
置を3次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸
基材への塗液の塗布装置において、塗液吐出装置はさら
に塗液が供給される塗液供給口と供給された塗液を加圧
する圧力供給口を有し、圧力供給口は塗液供給口よりも
重力方向において上部に配されていることを特徴とする
ものからなる(第5の装置)。
Further, the apparatus for applying a coating liquid to an uneven base material according to the present invention comprises a table for fixing a base material having uneven portions formed on the surface thereof at a constant pitch, and a table facing the uneven portion of the base material. Substrate having a plurality of openings, a supply means for supplying the coating liquid to the coating liquid discharge apparatus, and a moving means for three-dimensionally moving the table and the coating liquid discharge apparatus relative to each other In the apparatus for applying a coating liquid to the coating liquid, the coating liquid discharging apparatus further has a coating liquid supply port to which the coating liquid is supplied and a pressure supply port to pressurize the supplied coating liquid, and the pressure supply port is provided from the coating liquid supply port. Are also arranged at the upper part in the direction of gravity (fifth device).

【0027】本発明に係る凹凸基材への塗液の塗布方法
は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成されている基材
と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する塗液
吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記塗液吐出装
置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出し、基材の凹
部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、塗液吐出装置
に、内部に塗液を一定量蓄積する液だめ部を有するとと
もに、開口部が、直径dが50〜500μmの範囲にあ
る孔が一定ピッチにて厚さtが0.5〜10dの範囲に
ある板状体を貫通することにより形成されているものを
用いて塗布することを特徴とする方法からなる(第1の
方法)。
[0027] The method for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises a substrate having uneven portions formed on the surface thereof at a constant pitch, and a plurality of openings facing the uneven portions of the substrate. A coating method in which a coating liquid discharge device is relatively moved, and a coating liquid is supplied to the coating liquid discharge device, a coating liquid is discharged from an opening, and a predetermined thickness is coated on a concave portion of the base material. The coating liquid discharge device has a liquid reservoir for accumulating a predetermined amount of coating liquid therein, and the openings have holes having a diameter d in a range of 50 to 500 μm at a constant pitch and a thickness t of 0.5. The method is characterized in that the coating is performed using a material formed by penetrating a plate-like body in the range of 10 to 10d (first method).

【0028】また、本発明に係る凹凸基材への塗液の塗
布方法は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成されている
基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記塗液吐
出装置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出し、基材
の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、塗液吐出
装置に、開口部の配列方向に対し垂直な方向に2つのブ
ロックを重ね合わせたものからなり、内部に塗液を一定
量蓄積する液だめ部を有するとともに、2つのブロック
の重ね合わせ面に液だめ部と外部とを連通する複数の貫
通道をブロックの重ね方向とは垂直な方向に一定ピッチ
で設けることにより開口部を形成し、かつ、前記貫通道
の塗液吐出方向の長さが0.1〜20mmの範囲にある
ものを用いて塗布することを特徴とする方法からなる
(第2の方法)。
Further, the method for applying a coating liquid to an uneven base material according to the present invention comprises the steps of: forming a base material having uneven portions formed on the surface thereof at a constant pitch; The coating method is to relatively move the coating liquid discharge device having, and to supply the coating liquid to the coating liquid discharge device, discharge the coating liquid from the opening, and apply a predetermined thickness to the concave portion of the base material. In addition, the coating liquid discharge device has a structure in which two blocks are overlapped in a direction perpendicular to the direction in which the openings are arranged. An opening is formed by providing a plurality of through passages communicating the liquid reservoir and the outside at a constant pitch in a direction perpendicular to the overlapping direction of the blocks on the overlapping surface of Coating with a length in the direction of 0.1-20mm Consists wherein the Rukoto (second method).

【0029】また、本発明に係る凹凸基材への塗液の塗
布方法は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成されている
基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有する
塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記塗液吐
出装置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出し、基材
の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、塗液吐出
装置に、2つのブロックの間に板状シムを重ね合わせた
ものからなり、内部に塗液を一定量蓄積する液だめ部を
有するとともに、板状シムに液だめ部と外部とを連通す
る複数のスリットをブロックの長手方向に一定ピッチで
設けることにより開口部を形成し、かつ、板状シムのス
リット部の前記2つのブロックで挟み込まれる部分の塗
液吐出方向の長さが0.1〜20mmの範囲にあるもの
を用いて塗布することを特徴とする方法からなる(第3
の方法)。
Further, the method for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention comprises the steps of: forming a substrate having uneven portions on its surface at a constant pitch; The coating method is to relatively move the coating liquid discharge device having, and to supply the coating liquid to the coating liquid discharge device, discharge the coating liquid from the opening, and apply a predetermined thickness to the concave portion of the base material. There is a coating liquid discharging device comprising a plate-shaped shim overlapped between two blocks, and has a reservoir for accumulating a predetermined amount of coating liquid therein, and a plate-shaped shim having a reservoir. An opening is formed by providing a plurality of slits communicating with the outside at a constant pitch in the longitudinal direction of the block, and the length of the slit portion of the plate-shaped shim sandwiched between the two blocks in the coating liquid discharge direction. With a thickness of 0.1 to 20 mm Consists wherein the door (3
the method of).

【0030】この第3の方法においては、板状シムは、
前記2つのブロックで挟みこまれる厚さが同じで塗液吐
出方向に長さが異なる2種類の板をブロックの長手方向
に一定ピッチで重ね合わせて複数のスリットを形成した
ものや、さらにここでの2種類の板が一枚の基準板上で
重ね合わせられたもの、または一定厚さの板状体に液だ
め部と外部とを連通する複数のスリットに相当する一定
深さの溝をブロックの長手方向に一定ピッチで設けたも
の、を用いることが好ましい。
In the third method, the plate-shaped shim is
A plurality of slits formed by stacking two types of plates having the same thickness sandwiched between the two blocks and having different lengths in the coating liquid discharge direction at a constant pitch in the longitudinal direction of the block; The two types of plates are superimposed on a single reference plate, or blocks of a certain depth corresponding to a plurality of slits that connect the reservoir to the outside on a plate of a certain thickness Which are provided at a constant pitch in the longitudinal direction.

【0031】さらに、本発明に係る凹凸基材への塗液の
塗布方法は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成されてい
る基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を有す
る塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記塗液
吐出装置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出し、基
材の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、塗液吐
出装置に、内部に塗液を一定量蓄積する液だめ部を有す
るとともに、液だめ部が外部に連通する開口部に向けて
先細りの形状を有するものを用いて塗布することを特徴
とする方法からなる(第4の方法)。
Further, the method for applying a coating liquid to an uneven base material according to the present invention comprises a base material having uneven portions formed on the surface thereof at a constant pitch, and a plurality of openings facing the uneven portion of the base material. The coating method is to relatively move the coating liquid discharge device having, and to supply the coating liquid to the coating liquid discharge device, discharge the coating liquid from the opening, and apply a predetermined thickness to the concave portion of the base material. In addition, the coating liquid discharging device has a liquid reservoir for accumulating a predetermined amount of the coating liquid therein, and the liquid reservoir has a tapered shape toward an opening communicating with the outside. (Fourth method).

【0032】さらにまた、本発明に係る凹凸基材への塗
液の塗布方法は、表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を
有する塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記
塗液吐出装置に塗液を供給すると共に開口部より塗液を
吐出し、基材の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であっ
て、前記塗液吐出装置内には、塗液と加圧用気体を混在
させ、加圧用気体の圧力により開口部から塗液を吐出し
て塗布することを特徴とする方法からなる(第5の方
法)。
Further, the method for applying a coating liquid to an uneven base material according to the present invention comprises a base material having uneven portions formed on the surface thereof at a constant pitch, and a plurality of openings facing the uneven portion of the base material. A coating method for relatively moving a coating liquid discharge device having a portion, supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device, discharging the coating liquid from an opening, and applying a predetermined thickness to a concave portion of the base material. In the coating liquid discharging apparatus, a coating liquid and a pressurizing gas are mixed, and the coating liquid is discharged from the opening by the pressure of the pressurizing gas to apply the coating liquid. Method 5).

【0033】そして、本発明に係るプラズマディスプレ
イおよびプラズマディスプレイ用部材の製造装置は、塗
液が赤色、緑色、青色のいずれかの色に発光する蛍光体
粉末を含むペーストであって、前述のいずれかの塗液の
塗布装置を用いたことを特徴とするものからなる。
The plasma display and the apparatus for manufacturing a member for a plasma display according to the present invention are characterized in that the coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits any one of red, green and blue colors. It is characterized by using such a coating liquid coating device.

【0034】また、本発明に係るプラズマディスプレイ
およびプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、塗液
が赤色、緑色、青色のいずれかの色に発光する蛍光体粉
末を含むペーストであって、上述のいずれかの塗液の塗
布方法を用いることを特徴とする方法からなる。
Further, in the method of manufacturing a plasma display and a member for a plasma display according to the present invention, the coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits any one of red, green and blue colors. The method is characterized by using such a method of applying a coating liquid.

【0035】上記第1の装置および方法を用いることに
より、塗液吐出装置(ノズル)は、その先端面が平坦な
板状体から形成され、孔が加工しやすい形状にされて、
孔が高精度で形成され、吐出量のばらつきが小さくされ
る。したがって、凹凸基材の凹部への塗液の塗布量が均
一化される。
By using the above first apparatus and method, the coating liquid discharging apparatus (nozzle) is formed from a flat plate-like body at its tip end surface, and has a shape in which holes are easily processed.
The holes are formed with high accuracy, and variations in the discharge amount are reduced. Therefore, the application amount of the coating liquid to the concave portions of the uneven substrate is made uniform.

【0036】また、上記第2、第3の装置および方法を
用いることにより、開口部を形成する部材が分解可能と
され、開口部(溝その他)を直接洗浄できる構造にされ
る。したがって、開口部の清掃を容易に効率よく行うこ
とができるようになり、繰り返して長期にわたって生産
する場合にも、開口部の清掃により安定した生産を続行
できる。
Further, by using the second and third apparatuses and methods, the member forming the opening can be disassembled, and the opening (groove or the like) can be directly cleaned. Therefore, the opening can be easily and efficiently cleaned, and stable production can be continued by cleaning the opening even when production is repeatedly performed for a long period of time.

【0037】また、上記第4の装置および方法を用いる
ことにより、ノズル内のマニホールドから開口部に向か
って流路が収束する形状とされ、速度ゼロのところがで
きないようにすることによって滞留は生じなくなる。し
たがって、吐出される塗液の安定した特性が確保される
とともに劣化が防止され、所定の塗布品質が安定して得
られる。
Further, by using the above-described fourth apparatus and method, the flow path has a shape converging from the manifold in the nozzle toward the opening, and the stagnation does not occur by preventing the velocity from being zero. . Therefore, stable characteristics of the discharged coating liquid are secured and deterioration is prevented, so that a predetermined coating quality can be stably obtained.

【0038】さらに、上記第5の装置および方法を用い
ることにより、塗液は必要最小限の量だけノズルに供給
し、それを加圧して吐出するようにしたので、無駄に消
費される塗液の量が低減され、製造コストの低減に寄与
できる。
Further, by using the fifth apparatus and the method, the coating liquid is supplied to the nozzle in a necessary minimum amount, and the nozzle is pressurized and discharged. Is reduced, which can contribute to a reduction in manufacturing cost.

【0039】このような装置および方法を用いてプラズ
マディスプレイおよびプラズマディスプレイ用部材を製
造することにより、凹凸基材の凹部への塗液の均一な吐
出量の塗布を安定して行うことができ、優れた品質のプ
ラズマディスプレイおよびプラズマディスプレイ用部材
を長期にわたって安定して、かつ、安価に製造すること
ができる。
By manufacturing a plasma display and a member for a plasma display using such an apparatus and a method, it is possible to stably apply a uniform discharge amount of the coating liquid to the concave portions of the uneven substrate. An excellent quality plasma display and a member for a plasma display can be stably manufactured at a low cost over a long period of time.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施態
様に係る塗布装置の全体斜視図、図2は図1のテーブル
6とノズル20回りの模式図、図3は図1のノズル20
を下側からみた拡大平面図である。図4および図5は、
本発明の一実施態様に係る塗液塗布装置(ノズル)部分
の構造を示している。
Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an overall perspective view of a coating apparatus according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic view around the table 6 and the nozzle 20 in FIG. 1, and FIG. 3 is a nozzle 20 in FIG.
FIG. 5 is an enlarged plan view as viewed from below. FIG. 4 and FIG.
1 shows the structure of a coating liquid application device (nozzle) according to an embodiment of the present invention.

【0041】まず、塗液の塗布装置の全体構成について
説明する。図1は、本発明に係るプラズマディスプレイ
パネル用部材の製造に適用される塗布装置の一例を示し
ている。この塗布装置は基台2を備えている。基台2上
には、一対のガイド溝レール8が設けられており、この
ガイド溝レール8上にはテーブル6が配置されている。
このテーブル6の上面には、表面に凹凸が一定ピッチで
一方向にストライプ状に形成された基材4が、真空吸引
によってテーブル面に固定可能となるように、サクショ
ン面を構成する複数の吸着孔7が設けられている。ま
た、基材4は図示しないリフトピンによってテーブル6
上を昇降する。さらにテーブル6はスライド脚9を介し
てガイド溝レール8上をX軸方向に往復動自在となって
いる。
First, the overall configuration of the coating liquid coating apparatus will be described. FIG. 1 shows an example of a coating apparatus applied to manufacture of a member for a plasma display panel according to the present invention. This coating apparatus includes a base 2. A pair of guide groove rails 8 is provided on the base 2, and a table 6 is arranged on the guide groove rails 8.
On the upper surface of the table 6, a plurality of suction surfaces constituting a suction surface are formed so that a substrate 4 having a surface formed with stripes in one direction at a constant pitch can be fixed to the table surface by vacuum suction. A hole 7 is provided. The substrate 4 is held on a table 6 by lift pins (not shown).
Go up and down. Further, the table 6 is reciprocally movable in the X-axis direction on the guide groove rail 8 via the slide legs 9.

【0042】一対のガイド溝レール8間には、図2に示
す送りねじ機構を構成するフィードスクリュー10が、
テーブル6の下面に固定されたナット状のコネクタ11
を貫通して延びている。フィードスクリュー10の両端
部は軸受12に回転自在に支持され、さらに片方の一端
にはACサーボモータ16が連結されている。
A feed screw 10 constituting a feed screw mechanism shown in FIG.
Nut-shaped connector 11 fixed to the lower surface of table 6
Extends through it. Both ends of the feed screw 10 are rotatably supported by bearings 12, and an AC servomotor 16 is connected to one end.

【0043】図1に示すように、テーブル6の上方に
は、塗液吐出装置であるノズル20がホルダー22を介
して昇降機構30、幅方向移動機構36に連結してい
る。昇降機構30は昇降可能な昇降ブラケット28を備
えており、昇降機構30のケーシング内部で一対のガイ
ドロッドに昇降自在に取り付けられている。また、この
ケーシング内にはガイドロッド間に位置してボールねじ
からなるフィードスクリュー(図示しない)もまた回転
自在に配置されており、ナット型のコネクタを介して昇
降ブラケット28と連結されている。さらにフィードス
クリューの上端には図示しないACサーボモータが接続
されており、このACサーボモータの回転によって昇降
ブラケット28を任意に昇降動作させることができるよ
うになっている。
As shown in FIG. 1, above the table 6, a nozzle 20 as a coating liquid discharge device is connected via a holder 22 to a lifting / lowering mechanism 30 and a width direction moving mechanism 36. The elevating mechanism 30 includes an elevating bracket 28 that can be moved up and down, and is attached to a pair of guide rods inside the casing of the elevating mechanism 30 so as to be able to move up and down. A feed screw (not shown) composed of a ball screw is also rotatably disposed in the casing between the guide rods, and is connected to the lifting bracket 28 via a nut-type connector. Further, an AC servomotor (not shown) is connected to the upper end of the feed screw, and the lifting bracket 28 can be arbitrarily moved up and down by rotation of the AC servomotor.

【0044】さらに、昇降機構30はY軸移動ブラケッ
ト32(アクチュエータ)を介して幅方向移動機構36
に接続されている。幅方向移動機構36はY軸移動ブラ
ケット32をノズル20の幅方向、すなわちY軸方向に
往復自在に移動させるものである。動作のために必要な
ガイドロッド、フィードスクリュー、ナット型コネクタ
ー、ACサーボモータ等は、ケーシング内に昇降機構3
0と同じように配置されている。幅方向移動機構36は
支柱34により基台2上に固定されている。
Further, the lifting mechanism 30 is moved by the Y-axis moving bracket 32 (actuator) to the width direction moving mechanism 36.
It is connected to the. The width direction moving mechanism 36 is for moving the Y-axis moving bracket 32 reciprocally in the width direction of the nozzle 20, that is, in the Y-axis direction. The guide rod, feed screw, nut-type connector, AC servomotor, etc. necessary for the operation are provided with a lifting mechanism 3 inside the casing.
It is arranged in the same way as 0. The width direction moving mechanism 36 is fixed on the base 2 by the columns 34.

【0045】これらの構成によって、ノズル20はZ軸
とY軸方向に自在に移動させることができる。
With these configurations, the nozzle 20 can be freely moved in the Z-axis and Y-axis directions.

【0046】ノズル20は、テーブル6の往復動方向と
直交する方向、つまりY軸方向に水平に延びているが、
これを直接保持するコの字形のホルダー22は昇降ブラ
ケット28内にて回転自在に支持されており、垂直面内
で自在に図中の矢印方向に回転することができる。
The nozzle 20 extends horizontally in the direction orthogonal to the reciprocating direction of the table 6, that is, in the Y-axis direction.
A U-shaped holder 22 for directly holding the holder is rotatably supported in an elevating bracket 28, and can freely rotate in a vertical direction in the direction of the arrow in the figure.

【0047】このホルダ22の上方には水平バー24も
昇降ブラケット28に固定されている。この水平バー2
4の両端部には、電磁作動型のリニアアクチュエータ2
6が取り付けられている。このリニアアクチュエータ2
6は水平バー24の下面から突出する伸縮ロッドを有し
ており、これら伸縮ロッドがホルダ22の両端部に接触
することによってホルダ22の回転角度を規制すること
ができ、結果としてノズル20の傾き度を任意に設定す
ることができる。
A horizontal bar 24 is also fixed to the lifting bracket 28 above the holder 22. This horizontal bar 2
4 are electromagnetically actuated linear actuators 2 at both ends.
6 is attached. This linear actuator 2
Numeral 6 has telescopic rods projecting from the lower surface of the horizontal bar 24, and these telescopic rods can regulate the rotation angle of the holder 22 by contacting both ends of the holder 22. The degree can be set arbitrarily.

【0048】さらに図1を参照すると、基台2の上面に
は逆L字形のセンサ支柱38が固定されており、その先
端にはテーブル6上の基材4の凸部頂上の位置(高さ)
を測定する高さセンサ40が取り付けられている。ま
た、高さセンサ40の隣には、基材4の隔壁間の凹部の
位置を検知するカメラ72が支柱70に取り付けられて
いる。図2に示すように、カメラ72は画像処理装置7
4に電気的に接続されており、隔壁間の凹部位置の変化
を定量的に求めることができる。
Further, referring to FIG. 1, an inverted L-shaped sensor support 38 is fixed to the upper surface of the base 2, and the tip of the sensor support 38 is positioned at the top (height) of the convex portion of the base material 4 on the table 6. )
Is mounted. Next to the height sensor 40, a camera 72 for detecting the position of the concave portion between the partition walls of the base material 4 is attached to the column 70. As shown in FIG. 2, the camera 72 is connected to the image processing device 7.
4, and can quantitatively determine a change in the position of the concave portion between the partition walls.

【0049】さらに、テーブル6の一端には、センサー
ブラケット64を介して、ノズル20の開口部のある下
端面(開口部面)のテーブル6に対する垂直方向の位置
を検出するセンサー66が取り付けられている。
Further, a sensor 66 for detecting a vertical position of the lower end surface (opening surface) of the nozzle 20 with respect to the table 6 is attached to one end of the table 6 via a sensor bracket 64. I have.

【0050】図2に示すように、ノズル20はそのマニ
ホールド41内に塗液42が充填されており、開口部で
ある吐出孔44が開口部先端面45上で長手方向に一直
線状にならんでいる(図3参照)。そしてこの吐出孔4
4より塗液42が吐出される。ノズル40には供給ホー
ス46が接続されており、さらに吐出用電磁切換え弁4
8、供給ユニット50、吸引ホース52、吸引用電磁切
換え弁54、塗液タンク56へと連なっている。塗液タ
ンク56には塗液42が蓄えられている。塗液42は、
赤色、緑色、青色のいずれかの色に発光する蛍光体粉末
を含むペーストからなる。
As shown in FIG. 2, the nozzle 20 has a manifold 41 filled with a coating liquid 42, and the discharge holes 44, which are openings, are arranged in a straight line in the longitudinal direction on the opening end surface 45. (See FIG. 3). And this discharge hole 4
4, the coating liquid 42 is discharged. A supply hose 46 is connected to the nozzle 40.
8, a supply unit 50, a suction hose 52, an electromagnetic switching valve for suction 54, and a coating liquid tank 56. The coating liquid 42 is stored in the coating liquid tank 56. The coating liquid 42
It is composed of a paste containing a phosphor powder that emits light of any of red, green and blue colors.

【0051】供給ユニット50の具体例としては、ピス
トン、ダイヤフラム型等の定容量ポンプ、チュービング
ポンプ、ギアポンプ、モーノポンプ、さらには液体を気
体の圧力で押し出す圧送コントローラ等がある。供給装
置コントローラ58からの制御信号をうけて、供給ユニ
ット50や、各々の電磁切換え弁の動作を行なわせ、塗
液タンク56から塗液42を吸引して、ノズル20に塗
液42を供給することができる。塗液タンク56から定
容量ポンプへの塗液42の吸引動作を安定化させるため
に、塗液タンク56に空気、窒素等の気体で圧力を付加
してもよい。圧力の大きさは0.01〜1MPa、特に
0.02〜0.5MPaが好ましい。
Specific examples of the supply unit 50 include a piston, a constant volume pump such as a diaphragm type, a tubing pump, a gear pump, a mono pump, and a pressure feed controller for pushing out a liquid by gas pressure. In response to a control signal from the supply device controller 58, the supply unit 50 and each of the electromagnetic switching valves are operated to suck the coating liquid 42 from the coating liquid tank 56 and supply the coating liquid 42 to the nozzle 20. be able to. In order to stabilize the suction operation of the coating liquid 42 from the coating liquid tank 56 to the constant volume pump, pressure may be applied to the coating liquid tank 56 with a gas such as air or nitrogen. The magnitude of the pressure is preferably 0.01 to 1 MPa, particularly preferably 0.02 to 0.5 MPa.

【0052】供給装置コントローラはさらに、全体コン
トローラ60に電気的に接続されている。この全体コン
トローラ60には、モータコントローラ62、高さセン
サー40の電気入力等、カメラ72の画像処理装置74
からの情報等、すべての制御情報が電気的に接続されて
おり、全体のシーケンス制御を司れるようになってい
る。全体コントローラ60は、コンピュータでも、シー
ケンサでも、制御機能を持つものならばどのようなもの
でもよい。
The supply device controller is further electrically connected to the general controller 60. The general controller 60 includes an image processing device 74 of a camera 72 such as a motor controller 62 and electric inputs of the height sensor 40.
All the control information, such as information from the computer, is electrically connected, so that the entire sequence control can be performed. The general controller 60 may be a computer, a sequencer, or any controller having a control function.

【0053】またモータコントローラ62には、テーブ
ル6を駆動するACサーボモータ16や、昇降機構30
と幅方向移動機構36のそれぞれのアクチュエータ7
6、78(たとえば、ACサーボモータ)、さらにはテ
ーブル6の移動位置を検出する位置センサ68からの信
号、ノズル20の作動位置を検出するY、Z軸の各々の
リニアセンサ(図示しない)からの信号などが入力され
る。なお、位置センサ68を使用する代わりに、ACサ
ーボモータ16にエンコーダを組み込み、このエンコー
ダから出力されるパルス信号に基づき、テーブル6の位
置を検出することも可能である。
The motor controller 62 includes the AC servomotor 16 for driving the table 6 and the lifting mechanism 30.
And each actuator 7 of the width direction moving mechanism 36
6, 78 (for example, an AC servomotor), a signal from a position sensor 68 for detecting the moving position of the table 6, and a linear sensor (not shown) for each of the Y and Z axes for detecting the operating position of the nozzle 20. Is input. Instead of using the position sensor 68, an encoder may be incorporated in the AC servomotor 16 and the position of the table 6 may be detected based on a pulse signal output from the encoder.

【0054】次にこの塗布装置を使った塗布方法につい
て説明する。まず塗布装置における各作動部の原点復帰
が行われるとテーブル6、ノズル20は各々X軸、Y
軸、Z軸の準備位置に移動する。この時、塗液タンク5
6〜ノズル20まで塗液はすでに充満されており、吐出
用電磁切換え弁48は開、吸引用電磁切換え弁54は閉
の状態にする。そして、テーブル6の表面には図示しな
いリフトピンが上昇し、図示しないローダから隔壁が一
定ピッチのストライプ状に形成されている基材4がリフ
トピン上部に載置される。
Next, a coating method using this coating apparatus will be described. First, when the origin return of each operation unit in the coating apparatus is performed, the table 6 and the nozzle 20 are respectively moved to the X axis and the Y
Move to the preparation position of the axis and Z axis. At this time, the coating liquid tank 5
The coating liquid has already been filled from No. 6 to Nozzle 20, and the discharge electromagnetic switching valve 48 is opened and the suction electromagnetic switching valve 54 is closed. Then, lift pins (not shown) rise on the surface of the table 6, and the base material 4, whose partitions are formed in a stripe pattern at a constant pitch, is placed on the lift pins from a loader (not shown).

【0055】次にリフトピンを下降させて基材4をテー
ブル6の上面に載置し、図示しないアライメント装置に
よってテーブル6上の位置決めが行われた後に基材2を
吸着する。
Next, the lift pins are lowered to place the substrate 4 on the upper surface of the table 6, and after the positioning on the table 6 is performed by an alignment device (not shown), the substrate 2 is sucked.

【0056】次にテーブル6はカメラ72と、高さセン
サー40の真下に基材4の隔壁(凸部頂上)がくるまで
移動し、停止する。カメラ72はテーブル6上に位置決
めされた基材4上の隔壁端部を写し出すようにあらかじ
め位置調整されており、画像処理によって一番端の凹部
の位置を検出し、カメラ基準点からの位置変化量laを
求める。一方、カメラ72の基準点と、所定のY軸座標
位置Yaにある時のホルダ22に固定されたノズル20
の最端部に位置する吐出孔44間の長さlbは、事前の
調整時に測定し、情報として全体コントローラ60に入
力しているので、画像処理装置74からカメラ基準点か
らの隔壁凹部の位置変化量laが電送されると、ノズル
20の最端部に位置する吐出孔44が隔壁端部の凹部の
真上となるY軸座標値Ycを計算し(例えば、Yc=Y
a+lb−la)、ノズル20をその位置に移動させ
る。なお、カメラ72は、ノズル20やホルダ22に取
り付けても同じ機能が得られる。
Next, the table 6 moves until the partition (the top of the convex portion) of the substrate 4 comes just below the camera 72 and the height sensor 40, and stops. The position of the camera 72 is adjusted in advance so as to project the end of the partition wall on the base material 4 positioned on the table 6, and the position of the endmost concave portion is detected by image processing, and the position change from the camera reference point is performed. Find the quantity la. On the other hand, the reference point of the camera 72 and the nozzle 20 fixed to the holder 22 at the predetermined Y-axis coordinate position Ya
The length lb between the discharge holes 44 located at the end of the partition is measured at the time of advance adjustment, and is input to the overall controller 60 as information. When the change amount la is transmitted, the Y-axis coordinate value Yc at which the discharge hole 44 located at the end of the nozzle 20 is directly above the concave portion at the end of the partition wall is calculated (for example, Yc = Y).
a + lb-la), the nozzle 20 is moved to that position. The same function can be obtained by attaching the camera 72 to the nozzle 20 or the holder 22.

【0057】この間に高さセンサ40は基材4の隔壁頂
上部の垂直方向の位置を検知し、テーブル6上面との位
置の差から基材4の隔壁頂上部の高さを算出する。この
高さに、あらかじめ与えておいたノズル20開口部〜基
材4の隔壁頂上部間の間隙値を加算して、ノズル20の
Z軸リニアセンサー上での下降すべき値を演算し、その
位置にノズルを移動する。これによって、テーブル6上
での隔壁頂上部位置が基材ごとに変化しても、塗布に重
要なノズル20開口部〜基材上の隔壁頂上部間の間隙を
常に一定に保てるようになる。
During this time, the height sensor 40 detects the vertical position of the top of the partition wall of the base material 4 and calculates the height of the top of the partition wall of the base material 4 from the difference in position from the upper surface of the table 6. To this height, a predetermined gap value between the opening of the nozzle 20 and the top of the partition wall of the substrate 4 is added, and a value to be lowered on the Z-axis linear sensor of the nozzle 20 is calculated. Move the nozzle to the position. Thus, even if the top position of the partition on the table 6 changes for each substrate, the gap between the opening of the nozzle 20 important for coating and the top of the partition on the substrate can always be kept constant.

【0058】次にテーブル6をノズル20の方へ向けて
動作を開始させ、ノズル20の開口部の真下に基材4の
塗布開始位置が到達する前に所定の塗布速度まで増速さ
せておく。テーブル6の動作開始位置と塗布開始位置ま
での距離は塗布速度まで増速できるよう十分確保できて
いなければならない。
Next, the operation is started with the table 6 directed toward the nozzle 20, and the speed is increased to a predetermined coating speed before the coating start position of the base material 4 reaches just below the opening of the nozzle 20. . The distance between the operation start position of the table 6 and the application start position must be sufficiently ensured that the speed can be increased to the application speed.

【0059】さらに基材4の塗布開始位置がノズル20
の開口部の真下に至るまでの所に、テーブル6の位置を
検知する位置センサー68を配置しておき、テーブル6
がこの位置に達したら、供給ユニット50の動作を開始
して塗液42のノズル20への供給を開始する。ノズル
20開口部より吐出される塗液42が基材4に達するに
は、基材〜ノズル開口部間の間隙だけ時間遅れが生じ
る。そのため、事前に塗液42をノズル20に供給する
ことによって、基材4の塗布開始位置がノズル20開口
部の丁度真下に来たところでノズル20から吐出された
所定量の塗液42が基板4に到達するので、ほとんど厚
みむらゼロの状態で塗布を開始することができる。塗液
42の供給を開始する位置は位置センサー68の設置場
所を変えて調整することができる。この位置センサー6
8の代わりに、モータあるいはフィードスクリューにエ
ンコーダを接続したり、テーブルにリニアセンサーを付
けたりすると、エンコーダやリニアセンサーの値で検知
しても同様なことが可能となる。
Further, the application start position of the substrate 4 is
A position sensor 68 for detecting the position of the table 6 is disposed immediately below the opening of the table 6.
When this reaches this position, the operation of the supply unit 50 is started, and the supply of the coating liquid 42 to the nozzle 20 is started. In order for the coating liquid 42 discharged from the opening of the nozzle 20 to reach the base material 4, a time delay occurs by the gap between the base material and the nozzle opening. Therefore, by supplying the coating liquid 42 to the nozzle 20 in advance, a predetermined amount of the coating liquid 42 discharged from the nozzle 20 is applied to the substrate 4 when the coating start position of the base material 4 is just below the opening of the nozzle 20. , The application can be started with almost no thickness unevenness. The position where the supply of the coating liquid 42 is started can be adjusted by changing the installation location of the position sensor 68. This position sensor 6
When an encoder is connected to the motor or the feed screw or a linear sensor is attached to the table instead of 8, a similar operation can be performed even if the value is detected by the encoder or the linear sensor.

【0060】塗布は、基材4の塗布終了位置がノズル2
0の開口部の真下付近に来るまで行われる。すなわち、
基材4はいつもテーブル6上の定められた位置に置かれ
ているから、基材4の塗布終了位置がノズル20の開口
部の(a)たとえば真下にくる5mm前や、(b)丁度
真下になる位置に相当するテーブル6の位置に、位置セ
ンサーやそのエンコーダ値をあらかじめ設定しておき、
テーブル6が(a)に対応する位置にきたら、全体コン
トローラ60から供給装置コントローラ58に停止指令
を出して塗液42のノズル20への供給を停止して、
(b)の位置までスキージ塗工し、次いでテーブル6が
(b)に対応する位置にきたら、ノズル20を上昇させ
て完全に塗液42をたちきる。塗液42が比較的高粘度
の液体である場合には、単に塗液の供給を停止しただけ
では、残圧によるノズル20開口部からの塗液吐出まで
も瞬時に停止することは難しい。そのために、塗液の供
給を停止するとと同時にノズル20内のマニホールド4
1圧力を大気圧にすると、短時間で開口部からの塗液の
吐出停止が可能となるので、供給ユニットにこのような
機能をもたせるか、あるいは、供給ユニットの吐出電磁
切換え弁48〜ノズル20の間に大気開放バルブを設け
るのが望ましい。
In the application, the application end position of the substrate 4 is
The process is performed until the position is just below the opening of 0. That is,
Since the base material 4 is always placed at a predetermined position on the table 6, the coating end position of the base material 4 is (a) 5 mm before, for example, just below the opening of the nozzle 20, or (b) just below. The position sensor and its encoder value are set in advance at the position of the table 6 corresponding to the position
When the table 6 comes to the position corresponding to (a), a stop command is issued from the general controller 60 to the supply device controller 58 to stop supplying the coating liquid 42 to the nozzle 20.
The squeegee coating is performed up to the position (b), and when the table 6 comes to the position corresponding to the position (b), the nozzle 20 is raised to completely turn off the coating liquid 42. When the coating liquid 42 is a liquid having a relatively high viscosity, it is difficult to stop the supply of the coating liquid from the opening of the nozzle 20 due to the residual pressure instantaneously simply by stopping the supply of the coating liquid. Therefore, when the supply of the coating liquid is stopped, the manifold 4 in the nozzle 20 is stopped.
When the pressure is set to atmospheric pressure, the discharge of the coating liquid from the opening can be stopped in a short time. Therefore, the supply unit may be provided with such a function, or the discharge electromagnetic switching valve 48 to the nozzle 20 of the supply unit may be provided. It is desirable to provide an atmosphere release valve between them.

【0061】さて、塗布終了位置を通過しても、テーブ
ル6は動作を続け、終点位置にきたら停止する。このと
き塗布すべき部分がまだ残っている場合には、次の塗布
すべき開始位置までノズルをY軸方向に塗布幅分(ノズ
ルピッチ×穴数)移動して、以下テーブル6を反対方向
に移動させることを除いては同じ手順で塗布を行う。1
回目と同一のテーブル6の移動方向で塗布を行なうのな
ら、ノズル20は次の塗布すべき開始位置までY軸方向
に移動、テーブル6はX軸準備位置まで復帰させる。
The table 6 continues to operate even after passing the coating end position, and stops when it reaches the end position. At this time, if the portion to be applied still remains, the nozzle is moved by the application width (nozzle pitch × number of holes) in the Y-axis direction to the next start position to be applied, and then the table 6 is moved in the opposite direction. Coating is performed in the same procedure except that it is moved. 1
If the application is performed in the same moving direction of the table 6 as the first time, the nozzle 20 is moved in the Y-axis direction to the next start position to be applied, and the table 6 is returned to the X-axis preparation position.

【0062】そして塗布工程が完了したら、基材4をア
ンローダで移載する場所までテーブル6を移動して停止
させ、基材4の吸着を解除するとともに大気開放した後
に、リフトピンを上昇させて基材4をテーブル6の面か
ら引き離し、持ち上げる。
When the coating process is completed, the table 6 is moved to the place where the substrate 4 is transferred by the unloader and stopped, and the suction of the substrate 4 is released, and the substrate 4 is released to the atmosphere. The material 4 is separated from the surface of the table 6 and lifted.

【0063】このとき図示されないアンローダによって
基材4の下面が保持され、次の工程に基材4を搬送す
る。基材4をアンローダに受け渡したら、テーブル6は
リフトピンを下降させ原点位置に復帰する。
At this time, the lower surface of the substrate 4 is held by an unloader (not shown), and the substrate 4 is transported to the next step. When the substrate 4 is delivered to the unloader, the table 6 lowers the lift pins and returns to the original position.

【0064】このとき、吐出用電磁切換え弁48を閉、
吸引用電磁切換え弁54を開状態にして供給ユニット5
0を動作させ、塗液タンク56から1枚の基材の塗布に
必要な量だけ塗液を供給する。
At this time, the discharge electromagnetic switching valve 48 is closed,
With the suction electromagnetic switching valve 54 opened, the supply unit 5
0 is operated, and the coating liquid is supplied from the coating liquid tank 56 in an amount necessary for coating one substrate.

【0065】上記のような塗液の塗布には、たとえば、
図4および図5に示すタイプのノズル80が用いられ
る。図4および図5に示すタイプのノズル80において
は、ブロックから、内部に塗液を一定量蓄積するための
液だめ部としてのマニホールド81をくりぬくものと、
先端の板状体82の部分に開口部としての貫通孔(吐出
孔)83を加工してから、マニホールド部81に接合
(レーザ溶接、接着剤による接着など)するものがあ
り、いずれの方法を採用してもよい。84は、ノズル8
0内への塗液の導入口を示している。
For the application of the coating liquid as described above, for example,
A nozzle 80 of the type shown in FIGS. 4 and 5 is used. In the nozzle 80 of the type shown in FIGS. 4 and 5, a manifold 81 as a reservoir for accumulating a predetermined amount of the coating liquid therein is cut out from the block;
A through-hole (discharge hole) 83 as an opening is formed in the plate-like body 82 at the tip and then joined to the manifold 81 (laser welding, bonding with an adhesive, or the like). May be adopted. 84 is the nozzle 8
The drawing shows the inlet of the coating liquid into 0.

【0066】貫通孔(吐出孔)83の孔径(d)は、前
述の如く50〜500μmの範囲に設定され、かつ、板
状体82の厚さ(t)が0.5〜10dの範囲に設定さ
れている。貫通孔83は、一定ピッチにて穿設されてい
る。孔径(d)が50μmよりも小さいと、塗液がすぐ
につまって使用できなくなるおそれがあり、500μm
よりも大きいと、塗液の吐出を停止しているときに開口
部である孔から塗液がこぼれ落ちるおそれがある。貫通
孔83のノズル80長手方向のピッチは任意にとればよ
いが、プラズマディスプレイ用として使用する場合は、
0.3〜2mmが好ましい。
The diameter (d) of the through-hole (discharge hole) 83 is set in the range of 50 to 500 μm as described above, and the thickness (t) of the plate-like body 82 is set in the range of 0.5 to 10 d. Is set. The through holes 83 are formed at a constant pitch. If the pore diameter (d) is less than 50 μm, the coating liquid may be clogged immediately and become unusable,
If it is larger than this, there is a possibility that the coating liquid may spill out from the hole which is the opening when the discharge of the coating liquid is stopped. The pitch of the through holes 83 in the longitudinal direction of the nozzle 80 may be arbitrarily set, but when used for a plasma display,
0.3 to 2 mm is preferred.

【0067】また、厚さ(t)が0.5dよりも小さい
と、流線が形成されないので一定吐出速度での安定した
吐出ができなくなるおそれがあり、10dよりも大きい
と、上記で規定した小さい孔では加工が困難になるとと
もに、吐出圧力が飛躍的に増大して押し出しが困難にな
るおそれがある。
If the thickness (t) is smaller than 0.5 d, a streamline is not formed, so that stable discharge at a constant discharge speed may not be performed. With a small hole, processing becomes difficult, and the discharge pressure may increase dramatically, making extrusion difficult.

【0068】板状体82は、図4に示すように、板状体
82の塗液吐出側の面82aが断面でみて直線状の面で
あり、かつ、板状体82の厚みが均一である構成とされ
ている。この板状体82の厚みの均一度は±10%以下
であることが好ましい。
As shown in FIG. 4, the surface 82a of the plate 82 on the coating liquid discharge side is a linear surface when viewed in cross section, and the plate 82 has a uniform thickness. It has a certain configuration. It is preferable that the uniformity of the thickness of the plate member 82 is ± 10% or less.

【0069】このような先端部に均一な板厚の部材82
を有し、それに所定直径の孔を一定ピッチで設けるノズ
ル80は、たとえばパイプ状の部材を固定して吐出口を
形成するタイプのものより、開口部83の配置精度を高
くすることができる。また、板厚の均一化により、圧力
損失が均一にされ、吐出量が均一化される。したがっ
て、所望の塗液の塗布が、より高精度に行われる。
A member 82 having a uniform thickness is provided at such a tip end.
The nozzle 80 in which holes having a predetermined diameter are provided at a constant pitch in the nozzle 80 can improve the arrangement accuracy of the opening 83 compared to a type in which a discharge member is formed by fixing a pipe-shaped member, for example. Further, by making the plate thickness uniform, the pressure loss is made uniform, and the discharge amount is made uniform. Therefore, the application of the desired coating liquid is performed with higher accuracy.

【0070】図6および図7は、本発明の別の実施態様
に係るノズル90を示している。図6および図7に示す
タイプのノズル90は、2つのブロックを組み合わせて
(重ね合わせて)構成したもので、ブロック91、92
の合わせ面91a、92aのうち、片方のブロック91
の側に断面が長方形の溝93をノズル幅方向に一定ピッ
チで形成している。ブロック91、92の重ね合わせに
より、これらの溝93が開口部(貫通道)に形成され
る。ブロック91、92を分解すれば溝部分が露出する
ので、溝部分を直接洗浄することが可能となる。断面形
状は長方形の他、半円その他いかなる形状でもよい。9
4は、内部に塗液を一定量蓄積するための液だめ部とし
てのマニホールド、95は、ノズル90内への塗液の導
入口を、それぞれ示している。
FIGS. 6 and 7 show a nozzle 90 according to another embodiment of the present invention. A nozzle 90 of the type shown in FIGS. 6 and 7 is configured by combining (overlapping) two blocks, and includes blocks 91 and 92.
One of the mating surfaces 91a and 92a
Are formed at a constant pitch in the nozzle width direction. By overlapping the blocks 91 and 92, these grooves 93 are formed in the openings (through paths). When the blocks 91 and 92 are disassembled, the groove is exposed, so that the groove can be directly cleaned. The cross-sectional shape may be a rectangle, a semicircle, or any other shape. 9
Reference numeral 4 denotes a manifold as a reservoir for accumulating a predetermined amount of the coating liquid therein, and reference numeral 95 denotes an inlet of the coating liquid into the nozzle 90.

【0071】開口部93の断面を形成している溝部分の
塗液吐出方向の長さは、0.1〜20mm、より好まし
くは0.3〜20mm、さらに好ましくは0.3〜10
mmの範囲にあることが望ましい。これより小さいと溝
を均一長さで形成するのが困難であるとともに十分な流
線が形成されないために安定した吐出ができないし、シ
ール性も不十分である。またこの範囲より大きいと吐出
圧力が飛躍的に増大するために押し出しが困難となるお
それがある。
The length of the groove forming the cross section of the opening 93 in the coating liquid discharge direction is 0.1 to 20 mm, preferably 0.3 to 20 mm, and more preferably 0.3 to 10 mm.
mm. If it is smaller than this, it is difficult to form the grooves with a uniform length, and a sufficient streamline is not formed, so that stable discharge cannot be performed and the sealing property is also insufficient. On the other hand, if it is larger than this range, there is a possibility that the ejection pressure will be drastically increased and extrusion will be difficult.

【0072】溝の断面形状としては、長方形ならブロッ
ク重ね方向に50〜1000μm、ピッチ方向に50〜
500μm程度の範囲が望ましい。使用する塗液の粘度
が高くなるにしたがって、形状を大きくすることが好ま
しい。この溝93のノズル90長手方向のピッチは任意
にとればよいが、プラズマディスプレイ用として使用す
る場合は、0.3〜2mmが好ましい。
As for the cross-sectional shape of the groove, if it is rectangular, it is 50 to 1000 μm in the block overlapping direction, and 50 to 1000 in the pitch direction.
A range of about 500 μm is desirable. It is preferable to increase the shape as the viscosity of the coating liquid used increases. The pitch of the groove 93 in the longitudinal direction of the nozzle 90 may be arbitrarily set, but is preferably 0.3 to 2 mm when used for a plasma display.

【0073】なお、本実施例では片側のブロック91に
溝93を形成する構造としたが、両方のブロックに溝を
形成してもよい。たとえば、ブロックのあわせ面を中心
とした長方形形状や、円形形状断面をもつもの等として
もよい。
In this embodiment, the groove 93 is formed in the block 91 on one side, but the groove may be formed in both blocks. For example, the shape may be a rectangular shape centered on the mating surface of the blocks, or a shape having a circular cross section.

【0074】このようなブロック重ね合わせタイプのノ
ズル90においては、分解により、開口部を直接効果的
にかつ容易に洗浄できるので、繰り返し長期にわたって
生産する場合にも、異物やカスの溜まりや付着を防止し
て、安定生産を持続することができる。
In the nozzle 90 of the block superposition type, the opening can be directly and effectively cleaned easily and easily by disassembly. Prevention and stable production can be maintained.

【0075】図8ないし図10は、本発明のさらに別の
実施態様に係るノズル100を示している。図に示すタ
イプのノズル100は、2つのブロック101、102
の間に板状シム103を挟み込み、これらを重ね合わせ
て構成したもので、板状シム103の下部に一定ピッチ
のスリット104を形成しておくことにより、このスリ
ット104を貫通道、つまり、開口部(吐出孔)として
構成するものである。105は、内部に塗液を一定量蓄
積するための液だめ部としてのマニホールド、106
は、ノズル100内への塗液の導入口を、それぞれ示し
ている。
FIGS. 8 to 10 show a nozzle 100 according to still another embodiment of the present invention. A nozzle 100 of the type shown in the figure comprises two blocks 101, 102
The plate-shaped shim 103 is sandwiched between them, and these are overlapped. By forming slits 104 at a constant pitch under the plate-shaped shim 103, the slits 104 are formed in a through path, that is, in an opening. (Discharge holes). 105 is a manifold as a reservoir for accumulating a fixed amount of coating liquid inside, 106
Indicates the inlet of the coating liquid into the nozzle 100.

【0076】板状シム103全体の面積はブロックの重
ね合わせる面の面積と同じにしてある。スリット104
の閉じている側はマニホールド105内まで達してお
り、少なくとも1mm以上はスリット104がマニホー
ルド部の液に接触している必要がある。そうでないと、
マニホールド105内の塗液がスリット104を通じて
外部に安定して吐出できない。
The entire area of the plate-shaped shim 103 is the same as the area of the overlapping surface of the blocks. Slit 104
Has reached the inside of the manifold 105, and the slit 104 needs to be in contact with the liquid in the manifold for at least 1 mm or more. Otherwise,
The coating liquid in the manifold 105 cannot be stably discharged outside through the slit 104.

【0077】スリット104の幅(ノズル幅方向)は5
0〜500μm、板状シム103の厚さは50μm〜1
mmが望ましい。各々の下限以下だと吐出圧が大きくな
って塗液の吐出が困難となるし、上限より大きいと停止
時に塗液がたれ落ちてしまうおそれがある。また、板状
シム103のスリット部104が2つのブロック10
1、102によって押しつけられ挟み込まれている部分
の長さ(塗液の流路が一番狭くなる部分(または開口部
断面)の塗液吐出方向の長さ)は、0.1〜20mmが
望ましく、より好ましくは0.3〜20mm、さらに好
ましくは0.3〜10mmである。これより小さいと吐
出孔を均一長さで形成するのが困難であるとともに十分
な流線が形成されないために安定した吐出ができない
し、シール性も不十分になるおそれがある。またこの範
囲より大きいと吐出圧力が飛躍的に増大するために押し
出しが困難となるおそれがある。さらに、スリット10
4のノズル100長手方向のピッチは任意にとればよい
が、プラズマディスプレイ用として使用する場合は、
0.3〜2mmが好ましい。
The width of the slit 104 (nozzle width direction) is 5
0 to 500 μm, the thickness of the plate-shaped shim 103 is 50 μm to 1
mm is desirable. Below the respective lower limits, the discharge pressure will increase, making it difficult to discharge the coating liquid, and above the upper limit, the coating liquid may drip and drop when stopped. Further, the slit portion 104 of the plate-shaped shim 103 has two blocks 10.
It is desirable that the length of the portion pressed and sandwiched by 1, 102 (the length of the portion where the coating liquid flow path becomes the narrowest (or the cross section of the opening) in the coating liquid discharge direction) is 0.1 to 20 mm. , More preferably 0.3 to 20 mm, even more preferably 0.3 to 10 mm. If the diameter is smaller than this, it is difficult to form the ejection holes with a uniform length, and a sufficient streamline is not formed, so that stable ejection cannot be performed and the sealing property may be insufficient. On the other hand, if it is larger than this range, there is a possibility that the ejection pressure will be drastically increased and extrusion will be difficult. Furthermore, the slit 10
The pitch in the longitudinal direction of the nozzle 100 may be arbitrarily set, but when used for a plasma display,
0.3 to 2 mm is preferred.

【0078】このような櫛状のスリット104を有する
板状シム103を挟み込んで形成したノズル100を用
いることにより、ノズル100を容易に分解できるよう
になり、分解により、開口部を直接効果的にかつ容易に
洗浄できるので、繰り返し長期にわたって生産する場合
にも、異物やカスの溜まりや付着を防止して、安定生産
を持続することができる。
By using the nozzle 100 formed by sandwiching the plate-shaped shim 103 having such a comb-shaped slit 104, the nozzle 100 can be easily disassembled. In addition, since cleaning can be easily performed, accumulation and adhesion of foreign matters and scum can be prevented, and stable production can be maintained even when production is repeatedly performed for a long period of time.

【0079】図13ないし図17は板状シム103の別
の実施態様例を示している。図14を見ると、シムA2
00は厚さは板状シム103と同じで、塗液吐出方向の
長さが異なる板片A206と板片B205をノズル10
0長手方向に互いに何組も重ね合わせることにより構成
されている。板片B205の方が板片A206よりも塗
液吐出方向の長さが短いので、塗液が通るスリット20
4が構成されることになる。板片A206と板片B20
5のノズル100長手方向の長さは、スリット204の
ノズル100の長手方向ピッチが所定のものになるよう
に定める。また、板片A206と板片B205は、ノズ
ル100長手方向へ重ね合わ後、接着等の接合手段によ
ってお互いに固定されている。
FIG. 13 to FIG. 17 show another embodiment of the plate-shaped shim 103. Referring to FIG. 14, the shim A2
No. 00 has the same thickness as the plate-shaped shim 103, and the plate piece A206 and the plate piece B205 having different lengths in the coating liquid discharge direction are
0 It is configured by overlapping several sets in the longitudinal direction. Since the plate piece B205 has a shorter length in the coating liquid discharge direction than the plate piece A206, the slit 20 through which the coating liquid passes
4 will be configured. Sheet A206 and Sheet B20
The length of the nozzle 100 in the longitudinal direction is determined so that the slit 204 has a predetermined pitch in the longitudinal direction of the nozzle 100. After the plate piece A206 and the plate piece B205 are overlapped in the longitudinal direction of the nozzle 100, they are fixed to each other by joining means such as adhesion.

【0080】図15、16のシムB210は、シムA2
00を一定厚さの基準板218上に固定したもので、図
15のF方向から板片A206と板片B205があると
ころの断面をみると各々図16の(イ)、(ロ)のよう
になる。この実施態様例では、基準板218を衝にして
より高い精度で板片A206と板片B205をノズル1
00長手方向に重ね合わせて、接着等で固定することが
できる。このシムB210では、塗液の貫通道はシムA
200の時のスリット204ではなく、溝214となる
が、スリット204と溝214は塗液の貫通道としては
全く同じ形状である。
The shim B210 in FIGS. 15 and 16 is a shim A2.
00 is fixed on a reference plate 218 having a constant thickness, and the cross section where the plate piece A206 and the plate piece B205 are located in the direction F in FIG. 15 is as shown in FIGS. become. In this embodiment, the plate piece A206 and the plate piece B205 are formed with higher accuracy by opposing the reference plate 218.
00 and can be fixed by bonding or the like. In this shim B210, the passage of the coating liquid is shim A
Instead of the slit 204 at the time of 200, it becomes a groove 214, but the slit 204 and the groove 214 have exactly the same shape as a passage of the coating liquid.

【0081】図17のシムC220は一定厚さの板から
シムA200のスリット204に相当する溝224を設
けたものであり、溝224は塗液の貫通道としてはスリ
ット204と全く同形状にしている。シムC220のよ
うに溝を設ける形態のものでは、シムの厚さを厚くする
ことができるので、スリットを設けたシムA200より
もはるかに丈夫なものにすることができ、折損等がな
く、繰り返しの使用に適する。溝を形成する板の厚さと
しては、0.3mm以上、より好ましくは0.5mm以
上である。
The shim C220 in FIG. 17 is provided with a groove 224 corresponding to the slit 204 of the shim A200 from a plate having a constant thickness. The groove 224 has the same shape as the slit 204 as a passage for the coating liquid. I have. In the form in which the groove is provided like the shim C220, the thickness of the shim can be increased, so that the shim can be made much more durable than the shim A200 provided with the slit. Suitable for use. The thickness of the plate forming the groove is 0.3 mm or more, and more preferably 0.5 mm or more.

【0082】なお、上記のシムの材質としては、ステン
レス等の金属部材の他、セラミックス等の硬度の高い材
料を用いることが好ましい。これは、塗液の中に蛍光体
等の粒子がある場合に、摩耗による発塵や寿命低下を防
止することができるからである。
As the material of the shim, it is preferable to use a material having high hardness such as ceramics in addition to a metal member such as stainless steel. This is because when particles such as phosphors are present in the coating liquid, dust generation and shortened life due to abrasion can be prevented.

【0083】図11および図12は、本発明のさらに別
の実施態様に係るノズル110を示している。図に示す
タイプのノズル110においては、内部に塗液を一定量
蓄積する液だめ部としてのマニホールド111が、外部
に連通する開口部112に向けて先細りの形状(先細り
形状部113)に形成されている。すなわち、マニホー
ルド111の形状を、開口部112に近づくにしたがっ
て収束するものにしたもので、これによって速度成分が
ゼロとなるところがなくなるので、滞留がなくなる。開
口部112に向かって収束する形状は、図のように3次
元的に形成することが好ましい。滞留によって塗液の品
質低下が著しいものはこのような形状のノズル110を
用いることが、特に望ましい。なお、114は、ノズル
110内への塗液の導入口を示している。
FIGS. 11 and 12 show a nozzle 110 according to still another embodiment of the present invention. In a nozzle 110 of the type shown in the figure, a manifold 111 serving as a reservoir for accumulating a predetermined amount of coating liquid therein is formed in a tapered shape (tapered portion 113) toward an opening 112 communicating with the outside. ing. That is, the shape of the manifold 111 is made to converge as it approaches the opening 112, and there is no place where the velocity component becomes zero, so that there is no stagnation. The shape converging toward the opening 112 is preferably formed three-dimensionally as shown. It is particularly desirable to use the nozzle 110 having such a shape when the quality of the coating liquid is significantly deteriorated due to stagnation. Reference numeral 114 denotes an inlet for introducing the coating liquid into the nozzle 110.

【0084】このような開口部112に近づくにしたが
って収束する形状のマニホールド111を有するノズル
110を用いることにより、滞留は生じなくなり、安定
した塗液の吐出状態が確保されるとともに、塗液の劣化
等が防止され、安定した所定の塗布品質が得られる。
By using the nozzle 110 having the manifold 111 having such a shape that converges as it approaches the opening 112, stagnation does not occur, a stable discharge state of the coating liquid is ensured, and deterioration of the coating liquid is prevented. Is prevented, and a stable predetermined coating quality is obtained.

【0085】図13は本発明のさらに別の実施態様に係
るノズル120を示している。図に示すタイプのノズル
120においては、ノズル120に、マニホールド12
1内に塗液を供給する塗液供給口122ととともに、供
給された塗液を加圧するための圧力流体(圧空)を供給
する圧力供給口123が設けられている。圧力供給口1
23は、塗液供給口122よりも重力方向において上部
に位置している。ノズル120に下部には、図4に示し
たと同様の開口部124が設けられており、該開口部1
24を通して塗液が吐出される。
FIG. 13 shows a nozzle 120 according to still another embodiment of the present invention. In a nozzle 120 of the type shown, the manifold 120 is
1, a coating liquid supply port 122 for supplying a coating liquid and a pressure supply port 123 for supplying a pressure fluid (pressurized air) for pressurizing the supplied coating liquid are provided. Pressure supply port 1
23 is located above the coating liquid supply port 122 in the direction of gravity. The lower portion of the nozzle 120 is provided with an opening 124 similar to that shown in FIG.
The coating liquid is discharged through 24.

【0086】圧力供給口123を、塗液供給口122よ
りも上位に位置させたことにより、供給した塗液が圧力
供給口123(エアー加圧口)から逆流することは防止
される。また、上記構造においては、塗液がノズル12
0内に充満されないでも、加圧・吐出することができる
ので、極く少量の塗液を吐出・塗布することができるよ
うになる。このような構造は、いかなる形状のノズルに
も適用できる。
Since the pressure supply port 123 is positioned higher than the coating liquid supply port 122, the supplied coating liquid is prevented from flowing backward from the pressure supply port 123 (air pressurizing port). In the above structure, the coating liquid is
Even if it is not filled within 0, it can be pressurized and discharged, so that a very small amount of the coating liquid can be discharged and applied. Such a structure can be applied to nozzles of any shape.

【0087】このような塗液供給口122と圧力供給口
123とを別々に設け、塗液をノズル120内に充満さ
せることなく極く少量づつ吐出するようにしたノズル1
20を用いることにより、ノズル120に必要最小限の
量の塗液を供給するだけなので、効率よく所望の塗布を
行うことができるようになり、塗布工程における使用塗
液量を必要最小限に抑制して、製造コストの低減をはか
ることができる。
The nozzle 1 is provided with such a coating liquid supply port 122 and a pressure supply port 123 separately so that the coating liquid is discharged little by little without filling the inside of the nozzle 120.
By using 20, only the minimum necessary amount of coating liquid is supplied to the nozzle 120, so that the desired coating can be performed efficiently and the amount of coating liquid used in the coating process is suppressed to the minimum necessary. Thus, the manufacturing cost can be reduced.

【0088】なお、前述の塗液塗布装置の全体構成にお
いて、高さセンサー40としては、レーザ、超音波等を
利用した非接触測定形式のもの、ダイヤルゲージ、差動
トランス等を利用した接触測定形式のもの等、測定可能
な原理のものならいかなるものを用いてもよい。
In the above-described overall configuration of the coating liquid application apparatus, the height sensor 40 may be a non-contact measurement type using a laser, an ultrasonic wave or the like, or a contact measurement using a dial gauge, a differential transformer or the like. Any type of measurable principle such as a type may be used.

【0089】また、塗液吐出装置の開口部の凹部に対す
る相対位置を検知する検知手段は、基材の凹部とノズル
の孔を各々別個に検知するカメラを用いた画像処理装置
により構成してもよい。
Further, the detecting means for detecting the relative position of the opening of the coating liquid discharge device with respect to the concave portion may be constituted by an image processing device using a camera for separately detecting the concave portion of the base material and the nozzle hole. Good.

【0090】さらにまた、前記実施態様では基材はX軸
方向に移動し、ノズルがY軸、Z軸方向に移動する場合
での適用例について記述したが、ノズル20と基材4が
相対的に3次元的に移動できる構造、形式のものである
のなら、テーブル、ノズルの移動形式はいかなるもので
もよい。
Further, in the above embodiment, an application example in which the substrate moves in the X-axis direction and the nozzle moves in the Y-axis and Z-axis directions has been described. The table and the nozzle may be moved in any manner as long as the table and the nozzle can be moved three-dimensionally.

【0091】また、前述の実施態様では、塗布はテーブ
ルの移動、凹凸のピッチ方向への移動は、ノズルの移動
によって行う例を示したが、塗布をノズルの移動、凹凸
のピッチ方向への移動をテーブルの移動で行ってもよ
い。
In the above-described embodiment, the application is performed by moving the table and the unevenness in the pitch direction is moved by moving the nozzle. However, the application is performed by moving the nozzle and moving the unevenness in the pitch direction. May be performed by moving the table.

【0092】さらに、本発明における基材としては、ガ
ラス板の他、鉄板、アルミ板等、枚葉状のものならどの
ようなものでもよい。また、一種類の塗液を塗布する場
合について詳しく言及したが、赤、青、緑等の3色の蛍
光体を同時に塗布する場合にも本発明は適用できる。
Further, the substrate in the present invention may be any sheet-like material such as an iron plate and an aluminum plate, in addition to a glass plate. Further, the case where one type of coating liquid is applied has been described in detail, but the present invention can be applied to a case where phosphors of three colors such as red, blue, and green are applied simultaneously.

【0093】[0093]

【実施例】幅340mm×440mm×厚さ2.8mm
のソーダガラス基板上の全面に感光性銀ペーストを5μ
mの厚みにスクリーン印刷した後で、フォトマスクを用
いて露光し、現像および焼成の各工程を経て、ピッチ2
20μmでストライプ状の1920本の銀電極を形成し
た。その電極上に、ガラスとバインダーからなるガラス
ペーストをスクリーン印刷機で塗布した後に、焼成して
誘電体層を形成した。次にガラス粉末と感光性有機成分
からなる感光性ガラスペーストを、塗布厚さ200μm
でスクリーン印刷機を用いて塗布した。ついで輻射ヒー
タを用いた乾燥炉で乾燥後、塗布厚み分布を基板幅方向
にわたって測定したところ、140μm±3μmの範囲
に収まった。この後、隣あった電極間に隔壁が形成され
るように設計されたフォトマスクを用いて露光し、現像
と焼成を行って隔壁を形成した。隔壁の形状はピッチ2
20μm、線幅30μm、高さ130μmであり、隔壁
本数は1921本であった。次に、各色蛍光体粉末40
gをエチルセルロース10g、テルピネオール10g、
及びベンジンアルコール40gとを混合した後、セラミ
ックス製の3本ローラで混練して、R、G、B各色の蛍
光体ペーストを作製した。
[Example] width 340 mm x 440 mm x thickness 2.8 mm
5μ of photosensitive silver paste on the entire surface of soda glass substrate
After screen printing to a thickness of m, exposure is performed using a photomask, development and baking are performed, and the pitch 2
1920 silver electrodes having a stripe shape of 20 μm were formed. A glass paste composed of glass and a binder was applied on the electrode by a screen printer, and then fired to form a dielectric layer. Next, a photosensitive glass paste composed of glass powder and a photosensitive organic component was applied to a thickness of 200 μm.
Was applied using a screen printing machine. Then, after drying in a drying oven using a radiation heater, the coating thickness distribution was measured in the width direction of the substrate and found to be within 140 μm ± 3 μm. Thereafter, exposure was performed using a photomask designed to form a partition between adjacent electrodes, and development and baking were performed to form a partition. The shape of the partition is pitch 2.
The thickness was 20 μm, the line width was 30 μm, and the height was 130 μm, and the number of partition walls was 1921. Next, each color phosphor powder 40
g of ethyl cellulose 10 g, terpineol 10 g,
After mixing with 40 g of benzene alcohol, the mixture was kneaded with three ceramic rollers to produce phosphor pastes of R, G, and B colors.

【0094】続いて図1に示す装置にて塗布を行うため
に、ピッチ660μmで平均口径150μmの吐出口を
厚さ400μmの板に160個設けたものを、マニホー
ルドを構成している本体部材に接着して製作したノズル
を、図1のノズル20の代わりに取り付け、隔壁まで形
成された基板を長さ340mmの辺が走行方向(X方
向)と平行となるようにテーブルに取付け吸着保持し
た。そして上記ノズルの吐出口部を基板上の隔壁の溝に
あわせた後に、テーブルの上面を基準にした溝の底面の
高さをレーザ変位計によって測定し、この測定値に溝の
高さ130μm、ノズル20の吐出口〜隔壁頂上部まで
の間隙100μmを加算してノズルが下降すべき位置を
求めて、その位置にノズルを下降させた。引き続いて基
板を長さ340mmの辺に平行にテーブルを走行させ、
塗布速度の3m/分に達した基板端部から10mmの位
置で2.6kg/cm2 の圧力をR色のペーストに付加
して、ノズルからR色のペーストを隔壁の溝160個に
吐出して塗布を開始した。基板端部から320mmの位
置に到達したところでバルブを閉じてペーストの吐出を
停止するとともに、330mmの位置に達したところで
ノズルを引き上げて、残存しているペーストを断ち切っ
て塗布を終了させた。次にノズルを図1のY方向に10
5.6mm移動するとともに、基板もX方向のもとの位
置に戻して、同様の塗布を合計4回行わせることによっ
てR色ペーストの塗布を完了し、80℃15分で乾燥を
行った。以降B、G色についても同様に塗布、乾燥を行
って、隔壁溝にR、G、B3色ペーストが充填された部
材を作製し、最後に460℃15分の焼成を行って、プ
ラズマディスプレイ背面板まで作製した。得られたプラ
ズマディスプレイ背面板の表面品位は申し分ないもので
あった。次にこのプラズマディスプレイ背面板と前面板
とを合わせ、封着後、Xe5%、Ne95%の混合ガス
を封入し、駆動回路を接続してプラズマディスプレイを
得た。
Subsequently, in order to carry out coating with the apparatus shown in FIG. 1, 160 discharge ports having a pitch of 660 μm and an average diameter of 150 μm were provided on a plate having a thickness of 400 μm, and these were provided on a main body member constituting a manifold. The nozzle manufactured by bonding was attached in place of the nozzle 20 of FIG. 1, and the substrate formed up to the partition wall was attached and held on a table such that the side having a length of 340 mm was parallel to the running direction (X direction). Then, after aligning the discharge port of the nozzle with the groove of the partition wall on the substrate, the height of the bottom of the groove with respect to the upper surface of the table was measured with a laser displacement meter, and the measured value was 130 μm in height of the groove. The gap from the discharge port of the nozzle 20 to the top of the partition wall of 100 μm was added to determine the position where the nozzle should descend, and the nozzle was lowered to that position. Subsequently, the table is run on the table in parallel with the side having a length of 340 mm,
A pressure of 2.6 kg / cm 2 is applied to the R-color paste at a position 10 mm from the end of the substrate when the coating speed reaches 3 m / min, and the R-color paste is discharged from the nozzle into 160 grooves of the partition walls. Coating was started. When the position reached 320 mm from the end of the substrate, the discharge of the paste was stopped by closing the valve, and when the position reached 330 mm, the nozzle was pulled up to cut off the remaining paste and terminate the application. Next, the nozzle is moved 10 times in the Y direction in FIG.
The substrate was moved 5.6 mm, the substrate was returned to the original position in the X direction, and the same application was performed four times in total, thereby completing the application of the R-color paste and drying at 80 ° C. for 15 minutes. Thereafter, coating and drying are performed in the same manner for B and G colors to produce a member in which R, G, and B color pastes are filled in the partition grooves. A face plate was manufactured. The surface quality of the obtained plasma display back plate was satisfactory. Next, the rear plate and the front plate of the plasma display were joined together, and after sealing, a mixed gas of Xe 5% and Ne 95% was sealed, and a driving circuit was connected to obtain a plasma display.

【0095】[0095]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の凹凸基材
への塗液の塗布装置および方法によれば、複数の開口部
から吐出される塗液の各吐出孔間の吐出量ばらつきを小
さくすることができ、かつ安定して吐出できるので、被
塗布物の品質を向上できるともに、長時間にわたって安
定で均一な塗布が可能となる。
As described above in detail, according to the apparatus and method for applying a coating liquid to an uneven substrate according to the present invention, the variation in the discharge amount between the respective discharge holes of the coating liquid discharged from a plurality of openings. Can be reduced and stable ejection can be performed, so that the quality of the object to be coated can be improved, and stable and uniform coating can be performed for a long time.

【0096】また、開口部を形成する部材を分解可能と
したので、開口部を直接洗浄することが可能となり、メ
ンテナンスが容易になるとともに、繰り返し同じノズル
を使用することができるので、コスト低減や品質向上に
貢献できる。
Further, since the member forming the opening can be disassembled, the opening can be directly cleaned, maintenance can be facilitated, and the same nozzle can be used repeatedly. Contribute to quality improvement.

【0097】また、マニホールドから開口部に向かって
流路が収束する形状にして、速度ゼロのところができな
いようにしたので、ノズル内部に滞留部分が生じない。
これによって滞留による塗液の劣化を防ぐことができ、
品質が向上する。
Further, since the flow path is converged from the manifold toward the opening so that the speed cannot be reduced to zero, there is no stagnation in the nozzle.
This can prevent deterioration of the coating liquid due to stagnation,
Quality is improved.

【0098】さらに、ノズルに塗液の供給口と加圧の供
給口を設けたので、ノズルに必要最小限度の塗液を供給
しても加圧により吐出して塗布できるようになった。こ
れによって塗液の切替が早くできるようになり、多品種
のものを少量生産する時に大きな効果を発揮する。ま
た、無駄になる塗液を最小限度まで低下できるので、コ
スト削減に大きく寄与できる。
Further, since the supply port for the coating liquid and the supply port for the pressurization are provided in the nozzle, even if the minimum necessary amount of the coating liquid is supplied to the nozzle, it is possible to discharge and apply by pressurization. This makes it possible to quickly switch the coating liquid, which is very effective when a large number of products are produced in small quantities. In addition, since the amount of wasted coating liquid can be reduced to the minimum, it can greatly contribute to cost reduction.

【0099】本発明のプラズマディスプレイおよびプラ
ズマディスプレイ用部材の製造装置および方法によれ
ば、上記凹凸基材への塗液の塗布装置および方法を使用
しているので、品質の高いプラズマディスプレイおよび
プラズマディスプレイ用部材を、高い生産性で安価に製
造することが可能となる。
According to the apparatus and method for manufacturing a plasma display and a member for a plasma display of the present invention, since the apparatus and method for applying a coating liquid to the uneven substrate are used, a high quality plasma display and a plasma display are provided. Member can be manufactured with high productivity at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施態様に係る塗液の塗布装置の全
体斜視図である。
FIG. 1 is an overall perspective view of a coating liquid application apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の装置のテーブルとノズル周りの構成を示
す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration around a table and a nozzle of the apparatus shown in FIG. 1;

【図3】図1の装置におけるノズルを下側からみた拡大
平面図である。
FIG. 3 is an enlarged plan view of the nozzle in the apparatus of FIG. 1 as viewed from below.

【図4】本発明の一実施態様に係るノズルの縦断面図で
ある。
FIG. 4 is a longitudinal sectional view of a nozzle according to an embodiment of the present invention.

【図5】図4のノズルの、図4とは直角の方向における
縦断面図である。
5 is a longitudinal sectional view of the nozzle of FIG. 4 in a direction perpendicular to FIG. 4;

【図6】本発明の別の実施態様に係るノズルの縦断面図
である。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a nozzle according to another embodiment of the present invention.

【図7】図6のノズルの底面図である。FIG. 7 is a bottom view of the nozzle of FIG. 6;

【図8】本発明のさらに別の実施態様に係るノズルの縦
断面図である。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view of a nozzle according to still another embodiment of the present invention.

【図9】図6のノズルの板状シムの正面図である。FIG. 9 is a front view of a plate-shaped shim of the nozzle of FIG. 6;

【図10】図6のノズルの底面図である。FIG. 10 is a bottom view of the nozzle of FIG. 6;

【図11】本発明のさらに別の実施態様に係るノズルの
縦断面図である。
FIG. 11 is a longitudinal sectional view of a nozzle according to still another embodiment of the present invention.

【図12】図11のノズルの、図11とは直角の方向に
おける縦断面図である。
12 is a longitudinal sectional view of the nozzle of FIG. 11 in a direction perpendicular to FIG.

【図13】本発明のさらに別の実施態様に係るノズルの
縦断面図である。
FIG. 13 is a longitudinal sectional view of a nozzle according to still another embodiment of the present invention.

【図14】本発明の別の実施態様に係るシムの正面図で
ある。
FIG. 14 is a front view of a shim according to another embodiment of the present invention.

【図15】本発明のさらに別の実施態様に係るシムの正
面図である。
FIG. 15 is a front view of a shim according to still another embodiment of the present invention.

【図16】図15のシムの、図15とは直角の方向にお
ける縦断面図である。
FIG. 16 is a longitudinal sectional view of the shim of FIG. 15 in a direction perpendicular to FIG. 15;

【図17】本発明のさらに別の実施態様に係るシムの正
面図である。
FIG. 17 is a front view of a shim according to still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 基台 4 基材 6 テーブル 8 ガイド溝レール 10 フィードスクリュー 16 ACサーボモータ 20 ノズル 26 リニアアクチュエータ 30 昇降機構 36 幅方向移動機構 40 高さセンサー 42 塗液 44 開口部(吐出孔) 45 開口部面 50 供給ユニット 56 塗液タンク 58 供給装置コントローラ 60 全体コントローラ 66 センサー 72 カメラ 80、90、100、110、120 ノズル 81、94、105、111、121 マニホールド
(液だめ部) 82 先端の板状体部 82a 板状体の塗液吐出側の面 83、112、124 貫通孔(吐出孔) 84、93、106、114、122 塗液の供給口 92 溝(貫通道) 103 板状シム 104 スリット(吐出孔) 113 先細り部 123 圧力供給口 200 シムA 210 シムB 220 シムC
2 Base 4 Base 6 Table 8 Guide groove rail 10 Feed screw 16 AC servomotor 20 Nozzle 26 Linear actuator 30 Lifting mechanism 36 Width moving mechanism 40 Height sensor 42 Coating liquid 44 Opening (discharge hole) 45 Opening surface Reference Signs List 50 supply unit 56 coating liquid tank 58 supply device controller 60 general controller 66 sensor 72 camera 80, 90, 100, 110, 120 nozzle 81, 94, 105, 111, 121 manifold (liquid reservoir) 82 plate-shaped body at the tip 82a Surface of plate-like body on coating liquid discharge side 83, 112, 124 Through-hole (discharge hole) 84, 93, 106, 114, 122 Supply port of coating liquid 92 Groove (through path) 103 Plate-shaped shim 104 Slit (discharge) Hole) 113 Tapered portion 123 Pressure supply port 200 Shim A 210 Shim B 220 Shim C

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01J 11/02 H01J 11/02 B ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01J 11/02 H01J 11/02 B

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成されて
いる基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面し
て複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装置
に塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装置
を3次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸基
材への塗液の塗布装置において、塗液吐出装置は内部に
塗液を一定量蓄積する液だめ部を有するとともに、開口
部は直径dが50〜500μmの範囲にある孔が一定ピ
ッチにて厚さtが0.5〜10dの範囲にある板状体を
貫通することにより形成されていることを特徴とする、
凹凸基材への塗液の塗布装置。
1. A table for fixing a base material having irregularities formed on the surface thereof at a constant pitch, a coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the concave and convex portions of the base material, and a coating liquid discharge device And a moving means for three-dimensionally moving the table and the coating liquid ejecting apparatus, the coating liquid ejecting apparatus has an internal coating liquid ejecting apparatus. In addition to having a reservoir for accumulating a fixed amount of liquid, the opening has a hole having a diameter d in the range of 50 to 500 μm and a plate having a constant pitch t and a thickness t in the range of 0.5 to 10 d. Characterized by being formed by
Apparatus for applying coating liquid to uneven substrates.
【請求項2】 開口部が形成されている板状体の塗液吐
出側の面が断面でみて直線状の面であり、かつ、板状体
の厚みが均一である、請求項1に記載の凹凸基材への塗
液の塗布装置。
2. The plate-like body in which the opening is formed, the surface of the plate-like body on the coating liquid discharge side is a linear surface when viewed in cross section, and the thickness of the plate-like body is uniform. Coating device for coating liquid on uneven substrate.
【請求項3】 板状体の厚みの均一度が±10%以下で
ある、請求項2に記載の凹凸基材への塗液の塗布装置。
3. The apparatus for applying a coating liquid to an uneven substrate according to claim 2, wherein the uniformity of the thickness of the plate-like body is ± 10% or less.
【請求項4】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成されて
いる基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面し
て複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装置
に塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装置
を3次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸基
材への塗液の塗布装置において、塗液吐出装置は、開口
部の配列方向に対し垂直な方向に2つのブロックを重ね
合わせたものからなり、内部に塗液を一定量蓄積する液
だめ部を有するとともに、2つのブロックの重ね合わせ
面に液だめ部と外部とを連通する複数の貫通道をブロッ
クの重ね方向とは垂直な方向に一定ピッチで設けること
により開口部を形成し、かつ、前記貫通道の塗液吐出方
向の長さが0.1〜20mmの範囲にあることを特徴と
する、凹凸基材への塗液の塗布装置。
4. A table for fixing a base material having irregularities formed on the surface thereof at a constant pitch, a coating liquid ejection device having a plurality of openings facing the irregularities of the substrate, and a coating liquid ejection device. A coating liquid supplying apparatus for supplying a coating liquid to the substrate, and a moving means for moving the table and the coating liquid discharging apparatus relative to each other three-dimensionally. It consists of two blocks superimposed in the direction perpendicular to the arrangement direction, has a liquid reservoir for accumulating a certain amount of coating liquid inside, and a liquid reservoir and the outside on the superimposed surface of the two blocks. The openings are formed by providing a plurality of through passages communicating with each other at a constant pitch in a direction perpendicular to the stacking direction of the blocks, and the length of the through passage in the coating liquid discharge direction is 0.1 to 20 mm. To the uneven substrate, characterized by being in the range Coating liquid coating device.
【請求項5】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成されて
いる基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面し
て複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装置
に塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装置
を3次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸基
材への塗液の塗布装置において、塗液吐出装置は、2つ
のブロックの間に板状シムを重ね合わせたものからな
り、内部に塗液を一定量蓄積する液だめ部を有するとと
もに、板状シムに液だめ部と外部とを連通する複数のス
リットをブロックの長手方向に一定ピッチで設けること
により開口部を形成し、かつ、板状シムのスリット部の
前記2つのブロックで挟み込まれる部分の塗液吐出方向
の長さが0.1〜20mmの範囲にあることを特徴とす
る、凹凸基材への塗液の塗布装置。
5. A table for fixing a base material having irregularities formed on the surface thereof at a constant pitch, a coating liquid ejection device having a plurality of openings facing the irregularities of the substrate, and a coating liquid ejection device. A coating liquid applying device for supplying a coating liquid to a substrate, and a moving device for moving the table and the coating liquid discharging device three-dimensionally relative to each other. It consists of a stack of plate-shaped shims between the blocks, has a reservoir for accumulating a certain amount of coating liquid inside, and a plurality of slits that connect the reservoir and the outside to the plate-shaped shim. An opening is formed by providing the same at a constant pitch in the longitudinal direction, and the length of the slit portion of the plate-shaped shim sandwiched between the two blocks is in the range of 0.1 to 20 mm in the coating liquid discharge direction. Coating liquid for uneven substrate characterized by the following: Coating equipment.
【請求項6】 板状シムは、前記2つのブロックで挟み
こまれる厚さが同じで塗液吐出方向に長さが異なる2種
類の板をブロックの長手方向に一定ピッチで重ね合わせ
て、複数のスリットを形成する構成を有することを特徴
とする請求項5に記載の凹凸基材への塗液の塗布装置。
6. A plate-shaped shim is formed by stacking two types of plates sandwiched between the two blocks and having the same thickness and different lengths in the coating liquid discharge direction at a constant pitch in the longitudinal direction of the block. The coating device for applying a coating liquid to an uneven substrate according to claim 5, characterized in that the coating device has a configuration in which a slit is formed.
【請求項7】 板状シムは、一枚の基準板上で前記2種
類の板が重ね合わせられている構成を有することを特徴
とする請求項6に記載の凹凸基材への塗液の塗布装置。
7. The method of claim 6, wherein the plate-shaped shim has a configuration in which the two types of plates are overlapped on a single reference plate. Coating device.
【請求項8】 板状シムは、一定厚さの板状体に液だめ
部と外部とを連通する複数のスリットに相当する一定深
さの溝をブロックの長手方向に一定ピッチで設けたもの
であることを特徴とする請求項5に記載の凹凸基材への
塗液の塗布装置。
8. The plate-shaped shim is a plate-shaped body having a fixed thickness, and grooves having a fixed depth corresponding to a plurality of slits communicating the liquid reservoir and the outside are provided at a constant pitch in the longitudinal direction of the block. The apparatus for applying a coating liquid to the uneven substrate according to claim 5, wherein:
【請求項9】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成されて
いる基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面し
て複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装置
に塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装置
を3次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸基
材への塗液の塗布装置において、塗液吐出装置は内部に
塗液を一定量蓄積する液だめ部を有するとともに、液だ
め部が外部に連通する開口部に向けて先細りの形状を有
することを特徴とする、凹凸基材への塗液の塗布装置。
9. A table for fixing a substrate having irregularities formed on the surface thereof at a constant pitch, a coating liquid ejecting apparatus having a plurality of openings facing the irregularities of the substrate, and a coating liquid ejecting apparatus. And a moving means for three-dimensionally moving the table and the coating liquid ejecting apparatus, the coating liquid ejecting apparatus has an internal coating liquid ejecting apparatus. An apparatus for applying a coating liquid to an uneven base material, comprising: a reservoir for accumulating a fixed amount of liquid; and wherein the reservoir has a tapered shape toward an opening communicating with the outside.
【請求項10】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材を固定するテーブルと、基材の凹凸部と対面
して複数の開口部を有する塗液吐出装置と、塗液吐出装
置に塗液を供給する供給手段と、テーブルと塗液吐出装
置を3次元的に相対移動させる移動手段とを備えた凹凸
基材への塗液の塗布装置において、塗液吐出装置はさら
に塗液が供給される塗液供給口と供給された塗液を加圧
する圧力供給口を有し、圧力供給口は塗液供給口よりも
重力方向において上部に配されていることを特徴とす
る、凹凸基材への塗液の塗布装置。
10. A table for fixing a base material having irregularities formed on the surface thereof at a constant pitch, a coating liquid ejection device having a plurality of openings facing the irregularities of the substrate, and a coating liquid ejection device. A coating liquid applying device for supplying a coating liquid to a substrate, and a moving device for three-dimensionally moving the table and the coating liquid discharging device relative to each other. Having a coating liquid supply port to which the liquid is supplied and a pressure supply port for pressurizing the supplied coating liquid, wherein the pressure supply port is disposed above the coating liquid supply port in the direction of gravity. Apparatus for applying a coating liquid to a substrate.
【請求項11】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を
有する塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記
塗液吐出装置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出
し、基材の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、
塗液吐出装置に、内部に塗液を一定量蓄積する液だめ部
を有するとともに、開口部が、直径dが50〜500μ
mの範囲にある孔が一定ピッチにて厚さtが0.5〜1
0dの範囲にある板状体を貫通することにより形成され
ているものを用いて塗布することを特徴とする、凹凸基
材への塗液の塗布方法。
11. A base material having uneven portions formed on the surface thereof at a constant pitch, and a coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the uneven portions of the base material, and A coating method for supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device, discharging the coating liquid from an opening, and applying a predetermined thickness to a concave portion of the base material,
The coating liquid discharge device has a liquid reservoir in which a predetermined amount of the coating liquid is accumulated, and the opening has a diameter d of 50 to 500 μm.
m having a constant pitch and a thickness t of 0.5 to 1
A method for applying a coating liquid to an uneven base material, wherein the coating liquid is applied by using a material formed by penetrating a plate-like body in a range of 0d.
【請求項12】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を
有する塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記
塗液吐出装置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出
し、基材の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、
塗液吐出装置に、開口部の配列方向に対し垂直な方向に
2つのブロックを重ね合わせたものからなり、内部に塗
液を一定量蓄積する液だめ部を有するとともに、2つの
ブロックの重ね合わせ面に液だめ部と外部とを連通する
複数の貫通道をブロックの重ね方向とは垂直な方向に一
定ピッチで設けることにより開口部を形成し、かつ、前
記貫通道の塗液吐出方向の長さが0.1〜20mmの範
囲にあるものを用いて塗布することを特徴とする、凹凸
基材への塗液の塗布方法。
12. A base material having uneven portions formed at a constant pitch on the surface thereof, and a coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the uneven portions of the base material, and A coating method for supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device, discharging the coating liquid from an opening, and applying a predetermined thickness to a concave portion of the base material,
The coating liquid discharging device is composed of two blocks superposed in a direction perpendicular to the arrangement direction of the openings, and has a reservoir for accumulating a fixed amount of the coating liquid therein, and the two blocks are superposed. An opening is formed by providing a plurality of through-holes communicating the liquid reservoir and the outside at a constant pitch in a direction perpendicular to the direction in which the blocks overlap, and the length of the through-hole in the coating liquid discharge direction is increased. A method for applying a coating liquid to an uneven base material, wherein the coating liquid is applied using a material having a thickness of 0.1 to 20 mm.
【請求項13】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を
有する塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記
塗液吐出装置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出
し、基材の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、
塗液吐出装置に、2つのブロックの間に板状シムを重ね
合わせたものからなり、内部に塗液を一定量蓄積する液
だめ部を有するとともに、板状シムに液だめ部と外部と
を連通する複数のスリットをブロックの長手方向に一定
ピッチで設けることにより開口部を形成し、かつ、板状
シムのスリット部の前記2つのブロックで挟み込まれる
部分の塗液吐出方向の長さが0.1〜20mmの範囲に
あるものを用いて塗布することを特徴とする、凹凸基材
への塗液の塗布方法。
13. A base material having irregularities formed on the surface thereof at a constant pitch, and a coating liquid discharge device having a plurality of openings facing the irregularities of the base material, and relatively moving; A coating method for supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device, discharging the coating liquid from an opening, and applying a predetermined thickness to a concave portion of the base material,
The coating liquid discharge device is composed of a plate-shaped shim overlapped between two blocks, and has a reservoir for accumulating a certain amount of coating liquid inside. An opening is formed by providing a plurality of communicating slits at a constant pitch in the longitudinal direction of the block, and the length of the slit part of the plate-shaped shim sandwiched between the two blocks in the coating liquid discharge direction is zero. A method for applying a coating liquid to an uneven substrate, characterized in that the coating is performed using an object having a thickness in the range of 1 to 20 mm.
【請求項14】 板状シムは、前記2つのブロックで挟
みこまれる厚さが同じで塗液吐出方向に長さが異なる2
種類の板をブロック長手方向に一定ピッチで重ね合わせ
て、複数のスリットを形成しているものであることを特
徴とする請求項13に記載の凹凸基材への塗液の塗布方
法。
14. The plate-shaped shim has the same thickness sandwiched between the two blocks and has different lengths in the coating liquid discharge direction.
14. The method of applying a coating liquid to an uneven substrate according to claim 13, wherein a plurality of slits are formed by stacking different types of plates at a constant pitch in the block longitudinal direction.
【請求項15】 板状シムは、一定厚さの板状体に液だ
め部と外部とを連通する複数のスリットに相当する一定
深さの溝をブロックの長手方向に一定ピッチで設けてい
るものであることを特徴とする請求項13に記載の凹凸
基材への塗液の塗布方法。
15. The plate-shaped shim is provided with grooves of a fixed depth corresponding to a plurality of slits communicating the liquid reservoir and the outside at a constant pitch in the longitudinal direction of the block on a plate of a constant thickness. The method for applying a coating liquid to an uneven substrate according to claim 13, wherein the coating liquid is applied.
【請求項16】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を
有する塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記
塗液吐出装置に塗液を供給して開口部より塗液を吐出
し、基材の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であって、
塗液吐出装置に、内部に塗液を一定量蓄積する液だめ部
を有するとともに、液だめ部が外部に連通する開口部に
向けて先細りの形状を有するものを用いて塗布すること
を特徴とする、凹凸基材への塗液の塗布方法。
16. A base material having irregularities formed at a constant pitch on a surface thereof, and a coating liquid ejection apparatus having a plurality of openings facing the irregularities of the base material, and relatively moving; A coating method for supplying a coating liquid to the coating liquid discharge device, discharging the coating liquid from an opening, and applying a predetermined thickness to a concave portion of the base material,
The coating liquid discharging apparatus has a liquid reservoir in which a predetermined amount of the coating liquid is accumulated inside, and the liquid reservoir is coated using a tapered shape toward an opening communicating with the outside. To apply the coating liquid to the uneven substrate.
【請求項17】 表面に一定ピッチで凹凸部が形成され
ている基材と、基材の凹凸部と対面して複数の開口部を
有する塗液吐出装置とを相対的に移動させ、かつ、前記
塗液吐出装置に塗液を供給すると共に開口部より塗液を
吐出し、基材の凹部に所定厚さ塗布する塗布方法であっ
て、前記塗液吐出装置内には、塗液と加圧用気体を混在
させ、加圧用気体の圧力により開口部から塗液を吐出し
て塗布することを特徴とする、凹凸基材への塗液の塗布
方法。
17. A base material having uneven portions formed at a constant pitch on a surface thereof, and a coating liquid ejection device having a plurality of openings facing the uneven portions of the base material, and A coating method in which a coating liquid is supplied to the coating liquid discharge device, the coating liquid is discharged from an opening, and the coating liquid is applied to a concave portion of the base material to a predetermined thickness. A method for applying a coating liquid to an uneven base material, comprising mixing a pressure gas and discharging and applying the coating liquid from an opening by the pressure of the pressurizing gas.
【請求項18】 塗液が赤色、緑色、青色のいずれかの
色に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、請求
項1ないし10のいずれかに記載の塗液の塗布装置を用
いたことを特徴とする、プラズマディスプレイ用部材の
製造装置。
18. The coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits light of any one of red, green and blue colors, wherein the coating liquid coating apparatus according to claim 1 is used. An apparatus for manufacturing a member for a plasma display, comprising:
【請求項19】 塗液が赤色、緑色、青色のいずれかの
色に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、請求
項11ないし17のいずれかに記載の塗液の塗布方法を
用いることを特徴とする、プラズマディスプレイ用部材
の製造方法。
19. The method for applying a coating liquid according to claim 11, wherein the coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits light in any one of red, green, and blue colors. A method for producing a member for a plasma display, comprising:
【請求項20】 塗液が赤色、緑色、青色のいずれかの
色に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、請求
項1ないし10のいずれかに記載の塗液の塗布装置を用
いたことを特徴とする、プラズマディスプレイの製造装
置。
20. A paste containing a phosphor powder that emits light of any one of red, green and blue colors, wherein the coating liquid coating apparatus according to claim 1 is used. An apparatus for manufacturing a plasma display, comprising:
【請求項21】 塗液が赤色、緑色、青色のいずれかの
色に発光する蛍光体粉末を含むペーストであって、請求
項11ないし17のいずれかに記載の塗液の塗布方法を
用いることを特徴とする、プラズマディスプレイの製造
方法。
21. The method for applying a coating liquid according to claim 11, wherein the coating liquid is a paste containing a phosphor powder that emits light in any one of red, green, and blue colors. A method for manufacturing a plasma display, comprising:
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