JPH11311975A - 放電型平面表示装置 - Google Patents
放電型平面表示装置Info
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- JPH11311975A JPH11311975A JP10121141A JP12114198A JPH11311975A JP H11311975 A JPH11311975 A JP H11311975A JP 10121141 A JP10121141 A JP 10121141A JP 12114198 A JP12114198 A JP 12114198A JP H11311975 A JPH11311975 A JP H11311975A
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- discharge
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- discharge type
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Abstract
(57)【要約】
【課題】プラズマ放電型平面表示装置に係り、特に発光
効率を高め、画面輝度を向上する。 【解決手段】この発明の放電型平面表示装置は、互いに
対向された表示基板11および対向基板31間に主放電
ガスであるXeと放電制御ガスであるNeとが、例えば
Xeの分圧が20%となるよう混合された紫外線放電用
ガス71が所定の圧力で注入され、少なくとも一方の基
板に、表示すべき画像に対応するアドレスを与える電界
放出型冷陰極アレイ51を有する。また、表示電極13
および対向電極33には、13MHzより高く250M
Hzより低い周波数の高周波の電圧が印加される。これ
により、高速の画像表示が可能となる。
効率を高め、画面輝度を向上する。 【解決手段】この発明の放電型平面表示装置は、互いに
対向された表示基板11および対向基板31間に主放電
ガスであるXeと放電制御ガスであるNeとが、例えば
Xeの分圧が20%となるよう混合された紫外線放電用
ガス71が所定の圧力で注入され、少なくとも一方の基
板に、表示すべき画像に対応するアドレスを与える電界
放出型冷陰極アレイ51を有する。また、表示電極13
および対向電極33には、13MHzより高く250M
Hzより低い周波数の高周波の電圧が印加される。これ
により、高速の画像表示が可能となる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマ放電を
用いた放電型平面表示装置に関する。
用いた放電型平面表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】エレクトロルミネセンスパネル、発光ダ
イオードパネル、プラズマ放電型表示装置ディスプレ
イ、蛍光表示装置、液晶表示装置等の表示装置は、表示
部分を薄くできることから、携帯用および移動用の小型
機器、事務機器およびコンピュータ等の端末表示装置等
への用途が高まっている。
イオードパネル、プラズマ放電型表示装置ディスプレ
イ、蛍光表示装置、液晶表示装置等の表示装置は、表示
部分を薄くできることから、携帯用および移動用の小型
機器、事務機器およびコンピュータ等の端末表示装置等
への用途が高まっている。
【0003】なかでも、プラズマ放電型平面表示装置
は、視野角が広く、しかも光源や拡大または投影光学系
等を必要としないため、大画面テレビへの適用が実用化
されている。
は、視野角が広く、しかも光源や拡大または投影光学系
等を必要としないため、大画面テレビへの適用が実用化
されている。
【0004】プラズマ放電型平面表示装置は、互いに対
向される2枚の絶縁基板間に放電用ガスを充填し、両基
板間でガス放電により紫外線を発生させ、その紫外線を
用いて蛍光体を発光させて、画像を表示するものであ
る。
向される2枚の絶縁基板間に放電用ガスを充填し、両基
板間でガス放電により紫外線を発生させ、その紫外線を
用いて蛍光体を発光させて、画像を表示するものであ
る。
【0005】通常、放電用ガスとしては、Ne(ネオ
ン)とXe(キセノン)の混合ガスが利用される。な
お、それぞれの混合比率は、Neが9に対し、Xeが1
程度である。
ン)とXe(キセノン)の混合ガスが利用される。な
お、それぞれの混合比率は、Neが9に対し、Xeが1
程度である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たプラズマ放電型平面表示装置は、液晶表示装置に比較
して視野角を広くできるものの、CRT(カソード・レ
イ・チューブ、通常ブラウン管とよばれ、商用のテレビ
の受像管として利用されている陰極線管)に比較して画
面の明るさが暗い(すなわち発光効率が低い)問題があ
る。
たプラズマ放電型平面表示装置は、液晶表示装置に比較
して視野角を広くできるものの、CRT(カソード・レ
イ・チューブ、通常ブラウン管とよばれ、商用のテレビ
の受像管として利用されている陰極線管)に比較して画
面の明るさが暗い(すなわち発光効率が低い)問題があ
る。
【0007】また、画像を表示するための各画素の点灯
駆動においても、例えば点灯すべき画素に対応する放電
室で予め予備放電を行い、引き続く画像表示のための点
灯における放電開始電圧を低減したり、各放電室におい
て、画像を表示すべき時間内に、継続して維持放電を行
う等の工夫が必要である。
駆動においても、例えば点灯すべき画素に対応する放電
室で予め予備放電を行い、引き続く画像表示のための点
灯における放電開始電圧を低減したり、各放電室におい
て、画像を表示すべき時間内に、継続して維持放電を行
う等の工夫が必要である。
【0008】このため、駆動回路として、画像情報に応
じて、行(X方向)電極を駆動する行駆動回路および列
(Y方向)電極を駆動する列駆動回路と、予備放電のた
めの補助電極またはアドレス電極を駆動する補助電極駆
動回路が必要となり、さらにそれぞれの駆動回路から各
電極に出力される駆動信号の制御も非常に複雑となる問
題がある。
じて、行(X方向)電極を駆動する行駆動回路および列
(Y方向)電極を駆動する列駆動回路と、予備放電のた
めの補助電極またはアドレス電極を駆動する補助電極駆
動回路が必要となり、さらにそれぞれの駆動回路から各
電極に出力される駆動信号の制御も非常に複雑となる問
題がある。
【0009】また、現在利用されている駆動方式は、駆
動周波数が低いために、画素ピッチの細かい(解像度の
高い)ハイビジョンテレビ向けの大型パネルが実用化さ
れると、駆動信号が画像信号に追従できない問題があ
る。
動周波数が低いために、画素ピッチの細かい(解像度の
高い)ハイビジョンテレビ向けの大型パネルが実用化さ
れると、駆動信号が画像信号に追従できない問題があ
る。
【0010】この発明の目的は、高い発光効率を長期に
亘って維持可能で、高い表示輝度の画像の表示が可能な
放電型平面表示装置を提供することにある。
亘って維持可能で、高い表示輝度の画像の表示が可能な
放電型平面表示装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、対向配置される一対の基板
と、前記基板間に封入される放電用ガスと、前記一対の
基板間に配置され、前記放電用ガスを励起させて紫外線
を発生せしめる励起手段と、前記紫外線に基づいて所定
の可視光を放出せしめる光変換手段とを備えた放電型平
面表示装置において、前記励起手段として高周波の電力
を用いたことを特徴とする放電型平面表示装置を提供す
るものである。
に基づきなされたもので、対向配置される一対の基板
と、前記基板間に封入される放電用ガスと、前記一対の
基板間に配置され、前記放電用ガスを励起させて紫外線
を発生せしめる励起手段と、前記紫外線に基づいて所定
の可視光を放出せしめる光変換手段とを備えた放電型平
面表示装置において、前記励起手段として高周波の電力
を用いたことを特徴とする放電型平面表示装置を提供す
るものである。
【0012】またこの発明の表示装置は、励起手段であ
る電極構成が対向放電型であることを特徴とする。
る電極構成が対向放電型であることを特徴とする。
【0013】さらにこの発明の表示装置は、高周波放電
の放電周波数fが、13MHz <f ≦ 250MH
zの範囲であることを特徴とする。
の放電周波数fが、13MHz <f ≦ 250MH
zの範囲であることを特徴とする。
【0014】またさらにこの発明の表示装置は、励起手
段である高周波印加回路において、給電線を整合回路の
一部となるようにしたことを特徴とする。
段である高周波印加回路において、給電線を整合回路の
一部となるようにしたことを特徴とする。
【0015】さらにまたこの発明の表示装置は、励起手
段である高周波印加回路において、基板の背面側に整合
回路を設けたことを特徴とする。
段である高周波印加回路において、基板の背面側に整合
回路を設けたことを特徴とする。
【0016】またさらにこの発明の表示装置は、励起手
段である高周波印加回路において、基板の前面側もしく
は背面側に給電される電極と接地電位の電極を交互に配
置することを特徴とする。
段である高周波印加回路において、基板の前面側もしく
は背面側に給電される電極と接地電位の電極を交互に配
置することを特徴とする。
【0017】さらにまたこの発明の表示装置は、基板に
電磁波シールドを行ったことを特徴とする。
電磁波シールドを行ったことを特徴とする。
【0018】またさらにこの発明の表示装置は、電磁波
シールドとして、前面側に透明な導電性膜を設けたこと
を特徴とする。
シールドとして、前面側に透明な導電性膜を設けたこと
を特徴とする。
【0019】さらにまたこの発明の表示装置は、電磁波
シールドとして、細いワイヤーを格子状に配置したこと
を特徴とする。
シールドとして、細いワイヤーを格子状に配置したこと
を特徴とする。
【0020】またさらにこの発明の表示装置は、電磁波
シールドである細いワイヤーの一部もしくは全ては、基
板を前面側から見た状態で、基板間に位置される隔壁と
重なるように配置されていることを特徴とする。
シールドである細いワイヤーの一部もしくは全ては、基
板を前面側から見た状態で、基板間に位置される隔壁と
重なるように配置されていることを特徴とする。
【0021】さらにまたこの発明の表示装置は、基板間
に封入された放電用ガスを予備電離させ、または放電維
持のために、電子を注入するための電子源が基板に配置
されていることを特徴とする。
に封入された放電用ガスを予備電離させ、または放電維
持のために、電子を注入するための電子源が基板に配置
されていることを特徴とする。
【0022】またさらにこの発明の表示装置は、電子源
として、電界放出型冷陰極構造を基板の背面側に一体に
設けたことを特徴とする。
として、電界放出型冷陰極構造を基板の背面側に一体に
設けたことを特徴とする。
【0023】さらにまたこの発明の表示装置は、電子源
である電界放出型冷陰極構造に用いられる制御信号線と
電磁波シールドに用いられるワイヤ部材と、高周波印加
回路において、基板の背面側に設けられる整合回路の少
なくとも一部を共用する構造としたことを特徴とする。
である電界放出型冷陰極構造に用いられる制御信号線と
電磁波シールドに用いられるワイヤ部材と、高周波印加
回路において、基板の背面側に設けられる整合回路の少
なくとも一部を共用する構造としたことを特徴とする。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながらこの発
明の実施の形態について詳細に説明する。
明の実施の形態について詳細に説明する。
【0025】図1は、この発明の実施の形態が適用され
る放電型平面表示装置すなわち対向放電型プラズマ放電
平面表示装置の一例を示す概略図である。
る放電型平面表示装置すなわち対向放電型プラズマ放電
平面表示装置の一例を示す概略図である。
【0026】図1に示されるように、対向放電型プラズ
マ放電平面表示装置(以下、単に、放電型表示装置と示
す)1は、耐熱性が高く光を透過する例えばガラス等に
より形成され、入力された画像信号に対応する表示光
(可視光)を放射する前面基板11、前面基板11に対
して所定の間隔、例えば200マイクロメートル(以
下、μmと示す)の間隔で対向され、前面基板11が表
示する表示光に対応する可視光を発生する発光基板(背
面板)31とを有している。なお、背面板31の前面基
板11と反対の側(外側)となる面には、図3および図
4を用いて後段に詳述する電子注入機構51が設けられ
ている。
マ放電平面表示装置(以下、単に、放電型表示装置と示
す)1は、耐熱性が高く光を透過する例えばガラス等に
より形成され、入力された画像信号に対応する表示光
(可視光)を放射する前面基板11、前面基板11に対
して所定の間隔、例えば200マイクロメートル(以
下、μmと示す)の間隔で対向され、前面基板11が表
示する表示光に対応する可視光を発生する発光基板(背
面板)31とを有している。なお、背面板31の前面基
板11と反対の側(外側)となる面には、図3および図
4を用いて後段に詳述する電子注入機構51が設けられ
ている。
【0027】前面基板11と背面板31との間には、主
放電ガスであるXe(キセノン)と放電制御ガスである
Ne(ネオン)とが所定の比率で混合された紫外線放電
用の混合ガス71が、所定圧力Pで注入されている。な
お、キセノンガスの分圧は、図7を用いて後段に詳述す
るように、好ましくは15%より高く設定される。ま
た、混合ガス71の圧力Pは、前面基板11の背面板3
1に面する側の面と背面板31の前面基板11に面する
側の面との間の距離をdとするとき、 P・d ≧ 7.5 (torr・cm)、 を満足するよう設定されている。詳細には、混合ガス7
1の圧力Pは、例えば、760torrより低い圧力、
好ましくは、500torrに設定される。
放電ガスであるXe(キセノン)と放電制御ガスである
Ne(ネオン)とが所定の比率で混合された紫外線放電
用の混合ガス71が、所定圧力Pで注入されている。な
お、キセノンガスの分圧は、図7を用いて後段に詳述す
るように、好ましくは15%より高く設定される。ま
た、混合ガス71の圧力Pは、前面基板11の背面板3
1に面する側の面と背面板31の前面基板11に面する
側の面との間の距離をdとするとき、 P・d ≧ 7.5 (torr・cm)、 を満足するよう設定されている。詳細には、混合ガス7
1の圧力Pは、例えば、760torrより低い圧力、
好ましくは、500torrに設定される。
【0028】前面基板11の背面板31に面する側の面
には、第1の方向(X軸方向とする)に、所定ピッチで
複数本延出された表示電極13が所定間隔で配列されて
いる。
には、第1の方向(X軸方向とする)に、所定ピッチで
複数本延出された表示電極13が所定間隔で配列されて
いる。
【0029】前面基板11の背面板31に面する側の面
にはまた、表示電極13および前面基板11を覆うよう
に設けられた誘電体層15が設けられている。すなわ
ち、表示電極13の背面板31に面する側の面は、誘電
体層15により、放電の際に生じる紫外線から保護され
ている。なお、表示電極13には、例えばMgO(酸化
マグネシウム)を含み、表示電極13を放電から保護す
る保護膜17が設けられている。また、表示電極13
は、図3および図4に詳述する電子注入機構51に対す
る加速電極(アノード)として機能する。
にはまた、表示電極13および前面基板11を覆うよう
に設けられた誘電体層15が設けられている。すなわ
ち、表示電極13の背面板31に面する側の面は、誘電
体層15により、放電の際に生じる紫外線から保護され
ている。なお、表示電極13には、例えばMgO(酸化
マグネシウム)を含み、表示電極13を放電から保護す
る保護膜17が設けられている。また、表示電極13
は、図3および図4に詳述する電子注入機構51に対す
る加速電極(アノード)として機能する。
【0030】前面基板11の背面板31に面する側の面
には、必要に応じてYF3 (フッ化イットリウム)を含
み、保護膜17および誘電体層15を覆う紫外線反射コ
ーティング(以下、UV(ウルトラ・バイオレット)反
射層と略称する)19が設けられる。すなわち、保護膜
17は、少なくとも表示電極13の背面板31側に設け
られ、UV反射膜19は、保護膜17が設けられていな
い誘電体層15の露出部に設けら得る。なお、UV反射
膜19は、保護膜17を覆ってもよい。この場合、保護
膜17の厚さは、例えば100nm以上、1000nm
以下に、より好ましくは、500nm以上に、形成され
る。
には、必要に応じてYF3 (フッ化イットリウム)を含
み、保護膜17および誘電体層15を覆う紫外線反射コ
ーティング(以下、UV(ウルトラ・バイオレット)反
射層と略称する)19が設けられる。すなわち、保護膜
17は、少なくとも表示電極13の背面板31側に設け
られ、UV反射膜19は、保護膜17が設けられていな
い誘電体層15の露出部に設けら得る。なお、UV反射
膜19は、保護膜17を覆ってもよい。この場合、保護
膜17の厚さは、例えば100nm以上、1000nm
以下に、より好ましくは、500nm以上に、形成され
る。
【0031】背面板31の前面基板11と対向する面に
は、前面基板11の表示電極13と平行な方向(すなわ
ちX軸方向)に複数本延出され、表示電極13との間に
所定の電圧が印加されることで背面板31と前面基板に
注入された混合ガス71から紫外線を発生させるための
表示電極(対向電極)33が設けられている。
は、前面基板11の表示電極13と平行な方向(すなわ
ちX軸方向)に複数本延出され、表示電極13との間に
所定の電圧が印加されることで背面板31と前面基板に
注入された混合ガス71から紫外線を発生させるための
表示電極(対向電極)33が設けられている。
【0032】図2は、図1に示した放電型表示装置1の
1画素を拡大した部分断面図である(図1を用いて説明
した構成と同一の構成には、同一の符号を付して詳細な
説明を省略する)。
1画素を拡大した部分断面図である(図1を用いて説明
した構成と同一の構成には、同一の符号を付して詳細な
説明を省略する)。
【0033】図2に示されるように、前面基板11は、
X軸方向に延出された表示電極13、誘電体層15、保
護膜17およびUV反射層19からなる。また、誘電体
層15内の所定の位置には、前面基板11の表示面11
a側に高電圧が漏洩することを防止するための電磁シー
ルドに利用されるワイヤ21が所定の間隔で配列されて
いる。なお、ワイヤ21は、複数のワイヤが所定の間隔
で配列されたワイヤ列を格子状に配列したものでもよ
い。
X軸方向に延出された表示電極13、誘電体層15、保
護膜17およびUV反射層19からなる。また、誘電体
層15内の所定の位置には、前面基板11の表示面11
a側に高電圧が漏洩することを防止するための電磁シー
ルドに利用されるワイヤ21が所定の間隔で配列されて
いる。なお、ワイヤ21は、複数のワイヤが所定の間隔
で配列されたワイヤ列を格子状に配列したものでもよ
い。
【0034】背面板31の対向電極33は、前面基板1
1を表示面11a側から見た状態で前面基板11の表示
電極13と交差する点に位置する各ドットの対応表示色
(R,G,Bのいづれか)を選択的に駆動する。なお、
対向電極33は、カラー画像を表示可能とするために、
1画素あたり、R(赤)表示用、G(緑)表示用および
B(青)表示用である3本ずつ配置される。
1を表示面11a側から見た状態で前面基板11の表示
電極13と交差する点に位置する各ドットの対応表示色
(R,G,Bのいづれか)を選択的に駆動する。なお、
対向電極33は、カラー画像を表示可能とするために、
1画素あたり、R(赤)表示用、G(緑)表示用および
B(青)表示用である3本ずつ配置される。
【0035】背面板31の前面基板11に面する側の面
にはまた、対向電極33および背面板31を覆うように
設けられた誘電体層35が設けられている。すなわち、
対向電極33の前面基板11に面する側の面は、誘電体
層35により、放電の際に生じる紫外線から保護されて
いる。
にはまた、対向電極33および背面板31を覆うように
設けられた誘電体層35が設けられている。すなわち、
対向電極33の前面基板11に面する側の面は、誘電体
層35により、放電の際に生じる紫外線から保護されて
いる。
【0036】背面板31の前面基板11と対向する面に
はさらに、対向電極33と平行に、且つ所定の間隔とな
るよう配列された複数の隔壁(リブ)37が設けられて
いる。
はさらに、対向電極33と平行に、且つ所定の間隔とな
るよう配列された複数の隔壁(リブ)37が設けられて
いる。
【0037】背面板31の前面基板11と対向する面に
はまた、1本の対向電極33と対向電極33を挟む2つ
のリブ37からなる放電室39が形成されている。この
放電室39の内壁には、Xeが発生する紫外線により励
起されることで可視光を放射する蛍光層41が形成され
ている。
はまた、1本の対向電極33と対向電極33を挟む2つ
のリブ37からなる放電室39が形成されている。この
放電室39の内壁には、Xeが発生する紫外線により励
起されることで可視光を放射する蛍光層41が形成され
ている。
【0038】蛍光層41は、平均粒径が3μm以下、好
ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下の球形
に形成された複数の球状蛍光体を所定の厚さに配列した
ものであって、蛍光層41の蛍光体の厚さは、上述した
粒径の蛍光体を用いることにより、例えば5μmに設定
される。また、カラー画像を表示可能とするために、放
電室39毎に、R(赤)表示用、G(緑)表示用および
B(青)表示用の異なる発光特性の蛍光体41(R,G
およびB)が、用いられる。
ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下の球形
に形成された複数の球状蛍光体を所定の厚さに配列した
ものであって、蛍光層41の蛍光体の厚さは、上述した
粒径の蛍光体を用いることにより、例えば5μmに設定
される。また、カラー画像を表示可能とするために、放
電室39毎に、R(赤)表示用、G(緑)表示用および
B(青)表示用の異なる発光特性の蛍光体41(R,G
およびB)が、用いられる。
【0039】放電室39の内壁と蛍光層41との間に
は、蛍光層41が発生する可視光を前面基板11に向け
て反射する可視光反射層43が形成されている。なお、
蛍光層41の放電室側の面は、例えばMgOとMgF2
を含む蛍光層保護膜45により覆われている。
は、蛍光層41が発生する可視光を前面基板11に向け
て反射する可視光反射層43が形成されている。なお、
蛍光層41の放電室側の面は、例えばMgOとMgF2
を含む蛍光層保護膜45により覆われている。
【0040】可視光反射層43は、蛍光層41により発
生された可視光が背面板31を通り抜けて(前面基板1
1の)表示面11aと逆向きの方向に放射されることを
防止することにより前面基板11の表示面11aから目
視可能な表示光の光量を増大させるもので、例えばAl
2 O3 (アルミナ)などの微小粒子反射材が利用され
る。なお、可視光反射層43の厚さは、例えば100n
mより厚い場合に50%以上を確保できるので、可視光
の中心波長が概ね550nmである場合、可視光反射層
43の厚さを2λとすれば、1.1μmであり、反射層
43を構成する反射材の粒径を詳述しない微小粒子製造
方法により、例えば550nmとすることで可視光反射
層43の厚さを薄くすることができ、放電室39の放電
空間を増大するために有益である。
生された可視光が背面板31を通り抜けて(前面基板1
1の)表示面11aと逆向きの方向に放射されることを
防止することにより前面基板11の表示面11aから目
視可能な表示光の光量を増大させるもので、例えばAl
2 O3 (アルミナ)などの微小粒子反射材が利用され
る。なお、可視光反射層43の厚さは、例えば100n
mより厚い場合に50%以上を確保できるので、可視光
の中心波長が概ね550nmである場合、可視光反射層
43の厚さを2λとすれば、1.1μmであり、反射層
43を構成する反射材の粒径を詳述しない微小粒子製造
方法により、例えば550nmとすることで可視光反射
層43の厚さを薄くすることができ、放電室39の放電
空間を増大するために有益である。
【0041】可視光反射層43と誘電体35との間に
は、また、必用に応じて、所定厚さのMgO層が設けら
れてもよい。すなわち、MgOは、放電電圧を低下する
作用を有することから、背面板31の放電室側にもMg
O層を設けることで、発光効率をさらに、高めることが
できる。
は、また、必用に応じて、所定厚さのMgO層が設けら
れてもよい。すなわち、MgOは、放電電圧を低下する
作用を有することから、背面板31の放電室側にもMg
O層を設けることで、発光効率をさらに、高めることが
できる。
【0042】背面板31の前面基板11と反対側に位置
する面すなわち背面板31の外側に面する側の面には、
図3および図4を用いて以下に説明する電子注入機構5
1が設けられている。
する面すなわち背面板31の外側に面する側の面には、
図3および図4を用いて以下に説明する電子注入機構5
1が設けられている。
【0043】図3は、図1および図2に示した放電型表
示装置1に適用可能な電子注入機構すなわち背面板31
の前面基板11と反対側の面に設けられる電子注入機構
すなわち電界放出型冷陰極アレイ51を示す概略図であ
る。
示装置1に適用可能な電子注入機構すなわち背面板31
の前面基板11と反対側の面に設けられる電子注入機構
すなわち電界放出型冷陰極アレイ51を示す概略図であ
る。
【0044】図3に示すように、電界放出型冷陰極アレ
イ51は、表示装置1の背面板31の前面基板11と反
対側に位置する面に設けられたゲート電極部53、ゲー
ト電極部53(背面板31)に対向配置され、任意の駆
動信号が印加されることで所定の電界を放出するもの
で、以下に詳述する電界放出型冷陰極部55からなる。
なお、ゲート電極部53は、第1の方向(X軸方向)に
延出された第1の給電線53aと、第1の給電線53a
に接続されたゲート電極53bからなる。また、第1の
給電線53aおよびゲート電極53bは、例えばTa
(タンタル)またはMo(モリブデン)等からなる金属
薄膜を周知の薄膜形成技術により200nm程度の厚さ
に堆積し、周知のフォトリソグラフィ法を用いてパター
ニングすることにより形成される。この場合、ゲート電
極53bには、以下に説明する絶縁層59と一体に形成
され、以下に説明するカソード導電体57bと各放電室
39を介在させた状態で前面基板11の表示電極13と
の間の放電開始電圧を所定電圧以下に低下させることの
できる開口が形成される。なお、開口部の径は、例えば
1.5μmである。
イ51は、表示装置1の背面板31の前面基板11と反
対側に位置する面に設けられたゲート電極部53、ゲー
ト電極部53(背面板31)に対向配置され、任意の駆
動信号が印加されることで所定の電界を放出するもの
で、以下に詳述する電界放出型冷陰極部55からなる。
なお、ゲート電極部53は、第1の方向(X軸方向)に
延出された第1の給電線53aと、第1の給電線53a
に接続されたゲート電極53bからなる。また、第1の
給電線53aおよびゲート電極53bは、例えばTa
(タンタル)またはMo(モリブデン)等からなる金属
薄膜を周知の薄膜形成技術により200nm程度の厚さ
に堆積し、周知のフォトリソグラフィ法を用いてパター
ニングすることにより形成される。この場合、ゲート電
極53bには、以下に説明する絶縁層59と一体に形成
され、以下に説明するカソード導電体57bと各放電室
39を介在させた状態で前面基板11の表示電極13と
の間の放電開始電圧を所定電圧以下に低下させることの
できる開口が形成される。なお、開口部の径は、例えば
1.5μmである。
【0045】電界放出型冷陰極部55は、背面板31の
所定の間隔をおいて配置された絶縁基板51aを含み、
基板51a上にX軸方向と直交する第2の方向に所定の
間隔で設けられた第2の給電線57aと第2の給電線5
7aに接続されたカソード導電体57b上に、(直接あ
るいは図示しない抵抗層を介して)電界放出型冷陰極5
5aが形成されたものである。なお、電界放出型冷陰極
部55とゲート電極部53との間には、例えばSiO2
等により構成され、厚さが1μm程度の絶縁層59が設
けられている。また、絶縁基板51aとしては、例えば
厚さ1mmの板ガラスが用いられ、第2の給電線57a
およびカソード導電体ゲート電極57bは、例えばTa
またはMo等の金属薄膜を周知の薄膜形成技術により1
00nm程度の厚さに堆積したものを周知のフォトリソ
グラフィ法を用いてパターニングすることにより形成さ
れ、電界放出型冷陰極55aは、カソード導電体57b
の開口内に、周知の回転蒸着法等により、Mo等を、底
部の径が0.8μm、高さが0.8μm、冷陰極55a
の先端とゲート電極53bとの間の距離が0.2μm程
度となるようなコーン状に形成したものである。
所定の間隔をおいて配置された絶縁基板51aを含み、
基板51a上にX軸方向と直交する第2の方向に所定の
間隔で設けられた第2の給電線57aと第2の給電線5
7aに接続されたカソード導電体57b上に、(直接あ
るいは図示しない抵抗層を介して)電界放出型冷陰極5
5aが形成されたものである。なお、電界放出型冷陰極
部55とゲート電極部53との間には、例えばSiO2
等により構成され、厚さが1μm程度の絶縁層59が設
けられている。また、絶縁基板51aとしては、例えば
厚さ1mmの板ガラスが用いられ、第2の給電線57a
およびカソード導電体ゲート電極57bは、例えばTa
またはMo等の金属薄膜を周知の薄膜形成技術により1
00nm程度の厚さに堆積したものを周知のフォトリソ
グラフィ法を用いてパターニングすることにより形成さ
れ、電界放出型冷陰極55aは、カソード導電体57b
の開口内に、周知の回転蒸着法等により、Mo等を、底
部の径が0.8μm、高さが0.8μm、冷陰極55a
の先端とゲート電極53bとの間の距離が0.2μm程
度となるようなコーン状に形成したものである。
【0046】上述したカソード導電体57bおよびゲー
ト電極53bは、詳細には、画素を構成する単位、すな
わちX軸方向に関しては背面板31の前面基板11と面
する側に形成されている3つの放電室39R,39Gお
よび39B毎に、Y軸方向に関しては、前面基板11の
表示電極13で区分されるブロック毎に、例えば島状に
形成されている。なお、電界放出型冷陰極55aは、図
3では省略しているが、カソード導電体57bの全てに
同様に形成されており、またゲート電極53bの全てに
電界放出型冷陰極55aに対応する開口部が設けられて
いる。
ト電極53bは、詳細には、画素を構成する単位、すな
わちX軸方向に関しては背面板31の前面基板11と面
する側に形成されている3つの放電室39R,39Gお
よび39B毎に、Y軸方向に関しては、前面基板11の
表示電極13で区分されるブロック毎に、例えば島状に
形成されている。なお、電界放出型冷陰極55aは、図
3では省略しているが、カソード導電体57bの全てに
同様に形成されており、またゲート電極53bの全てに
電界放出型冷陰極55aに対応する開口部が設けられて
いる。
【0047】このように構成された電界放出型冷陰極ア
レイ(電子注入機構)51は、前面基板11の表示電極
13をアノード電極として図5を用いて後段に詳述する
駆動回路により、放電室39R,39Gおよび39Bの
それぞれを選択的に発光可能となる。なお、一例として
は、背面板31と絶縁基板51aとの間の空間を10-9
Torrとした高真空下で、ゲート電極53bに85V
の電圧を印加することで、任意の放電室39R,39G
および39Bの蛍光面から可視光を出力可能である。ま
た、条件の最適化により、真空度を10-6Torr程度
に下げることも可能である。
レイ(電子注入機構)51は、前面基板11の表示電極
13をアノード電極として図5を用いて後段に詳述する
駆動回路により、放電室39R,39Gおよび39Bの
それぞれを選択的に発光可能となる。なお、一例として
は、背面板31と絶縁基板51aとの間の空間を10-9
Torrとした高真空下で、ゲート電極53bに85V
の電圧を印加することで、任意の放電室39R,39G
および39Bの蛍光面から可視光を出力可能である。ま
た、条件の最適化により、真空度を10-6Torr程度
に下げることも可能である。
【0048】図5は、図1および図2に示した放電型表
示装置1に、画像を表示させる駆動回路の一例を示すブ
ロック図である。
示装置1に、画像を表示させる駆動回路の一例を示すブ
ロック図である。
【0049】図5に示されるように、放電型表示装置1
には、表示電極13に所定の電圧を供給する分配器10
1、対向電極33に所定の電圧を供給する分配器10
3、冷陰極アレイ51のゲート電極53bおよびカソー
ド導電体57bに所定電圧を供給する電子供給機構駆動
回路105、および外部からの画像信号に対応して各放
電室39を選択的に放電させるために、電子供給機構駆
動回路105に向けて画像信号に対応する制御信号を出
力する画像信号処理回路107とが接続されている。な
お、画像信号処理回路107には、外部からの画像信号
を受け入れるビデオインタフェイス109を経由して画
像信号が入力される。
には、表示電極13に所定の電圧を供給する分配器10
1、対向電極33に所定の電圧を供給する分配器10
3、冷陰極アレイ51のゲート電極53bおよびカソー
ド導電体57bに所定電圧を供給する電子供給機構駆動
回路105、および外部からの画像信号に対応して各放
電室39を選択的に放電させるために、電子供給機構駆
動回路105に向けて画像信号に対応する制御信号を出
力する画像信号処理回路107とが接続されている。な
お、画像信号処理回路107には、外部からの画像信号
を受け入れるビデオインタフェイス109を経由して画
像信号が入力される。
【0050】主発振回路111は、例えば13ないし2
50MHzの周波数の信号のうちの任意の周波数を出力
可能に形成されている。なお、主発振回路111は、表
示電極(X軸)用と、対向電極(Y軸)用に、2系統用
意されてもよい。
50MHzの周波数の信号のうちの任意の周波数を出力
可能に形成されている。なお、主発振回路111は、表
示電極(X軸)用と、対向電極(Y軸)用に、2系統用
意されてもよい。
【0051】ところで、主発振回路111が出力する出
力(RF)周波数の下限値は、図6(a)に示す等価回
路を考えるとき、以下に説明するように、放電のシース
の厚さに起因して生じる損失の大きさに基づいて規定さ
れるもので、損失の許容値を10%とすると、好ましく
は13.56MHz以上の周波数が必要となる。なお、
図6(b)は、損失の大きさと、高周波(RF)出力の
周波数の関係を説明するグラフである。
力(RF)周波数の下限値は、図6(a)に示す等価回
路を考えるとき、以下に説明するように、放電のシース
の厚さに起因して生じる損失の大きさに基づいて規定さ
れるもので、損失の許容値を10%とすると、好ましく
は13.56MHz以上の周波数が必要となる。なお、
図6(b)は、損失の大きさと、高周波(RF)出力の
周波数の関係を説明するグラフである。
【0052】図6(a)に示した等価回路において、入
力端の端子電圧をV1 、出力端の端子電圧をV2 、損失
により生じる電圧降下をVx とすると、
力端の端子電圧をV1 、出力端の端子電圧をV2 、損失
により生じる電圧降下をVx とすると、
【数1】
【0053】(1)式において、αを、√rcos
{(θ/2)+πk}、βを、√rcos{(θ/2)
+πk}、kを、k=0.2とし、rを、
{(θ/2)+πk}、βを、√rcos{(θ/2)
+πk}、kを、k=0.2とし、rを、
【数2】
【0054】θを、
【数3】
【0055】として、インピーダンスの整合を取るため
に、1/ωL1 =ωCを満足するよう、αとβを、 α=β=(ωL2 /2R)1/2 と設定すると、V1 =1、および
に、1/ωL1 =ωCを満足するよう、αとβを、 α=β=(ωL2 /2R)1/2 と設定すると、V1 =1、および
【数4】
【0056】が求められる。
【0057】なお、lを、放電電極の長辺もしくはパネ
ルの長辺の長さ、 L1 =200nH/cm(ナノヘンリ/センチメート
ル) R=3.5kΩcm C=6pF/cm(ピコファラド/センチメートル) ω=2πfrad/sec L2 =2.4nH/cm とすると、 |V2 |/|V1 | ≧ 0.9 を満足するRF出力の周波数fの下限値は、図6(b)
にも示したように、13.56MHzとなる。
ルの長辺の長さ、 L1 =200nH/cm(ナノヘンリ/センチメート
ル) R=3.5kΩcm C=6pF/cm(ピコファラド/センチメートル) ω=2πfrad/sec L2 =2.4nH/cm とすると、 |V2 |/|V1 | ≧ 0.9 を満足するRF出力の周波数fの下限値は、図6(b)
にも示したように、13.56MHzとなる。
【0058】一方、主発振回路111が出力する出力周
波数の上限値は、表示装置1の大きさ、特に長さ方向の
最大値に起因して生じる定在波の影響をさけるために、
表示装置の1辺の長さの最大値を例えば1.2mとした
ときの波長から求められ、この例では、250MHzと
なる。
波数の上限値は、表示装置1の大きさ、特に長さ方向の
最大値に起因して生じる定在波の影響をさけるために、
表示装置の1辺の長さの最大値を例えば1.2mとした
ときの波長から求められ、この例では、250MHzと
なる。
【0059】従って、利用可能なRF出力の周波数f
は、13.56MHz〜250MHzの範囲に定義され
る。
は、13.56MHz〜250MHzの範囲に定義され
る。
【0060】なお、主発振回路111が出力する高周波
(RF)出力は、デューティ比を20%以下としたパル
ス状出力である。また、デューティ比は、好ましくは1
0%以下、より好ましくは1%以下であって、表示装置
1の画面の大きさに基づいて、例えば0.0001%よ
りも大きく設定される。これにより、RF出力の1周期
において、電荷の移動速度よりも高速のパルス状の駆動
信号がえられる。
(RF)出力は、デューティ比を20%以下としたパル
ス状出力である。また、デューティ比は、好ましくは1
0%以下、より好ましくは1%以下であって、表示装置
1の画面の大きさに基づいて、例えば0.0001%よ
りも大きく設定される。これにより、RF出力の1周期
において、電荷の移動速度よりも高速のパルス状の駆動
信号がえられる。
【0061】次に、図5に示した駆動回路を用いて、表
示装置1に任意の画像を表示させる方法を簡単に説明す
る。
示装置1に任意の画像を表示させる方法を簡単に説明す
る。
【0062】第1に、主発振回路111の出力信号を、
X軸側分配器113およびY軸側分配器115により、
表示電極13および対向電極33のそれぞれに分配して
供給する。この場合、両電極間には、各放電室39のそ
れぞれでの放電を可能とする放電開始電圧よりも僅かに
低いか概ね等しい電圧であって、上述した13.56な
いし250MHzのうちの任意の周波数の電圧が印加さ
れる。
X軸側分配器113およびY軸側分配器115により、
表示電極13および対向電極33のそれぞれに分配して
供給する。この場合、両電極間には、各放電室39のそ
れぞれでの放電を可能とする放電開始電圧よりも僅かに
低いか概ね等しい電圧であって、上述した13.56な
いし250MHzのうちの任意の周波数の電圧が印加さ
れる。
【0063】次に、電子注入機構(冷陰極アレイ)51
のゲート電極53bおよびカソード導電体57bを電子
供給機構駆動回路105により駆動して各放電室39に
対し、アドレスを書き込む。これにより、任意の画素の
各放電室39R,39Gおよび39Bで、選択的にまた
は所定の範囲で同時に放電が行れ、対応する放電室から
所定の色の画像光が発光される。
のゲート電極53bおよびカソード導電体57bを電子
供給機構駆動回路105により駆動して各放電室39に
対し、アドレスを書き込む。これにより、任意の画素の
各放電室39R,39Gおよび39Bで、選択的にまた
は所定の範囲で同時に放電が行れ、対応する放電室から
所定の色の画像光が発光される。
【0064】以下、画像信号処理回路107により次の
画面に対応する制御信号が出力され、引き続く画像が順
に表示される。
画面に対応する制御信号が出力され、引き続く画像が順
に表示される。
【0065】図7は、図1ないし図5に示した放電型表
示装置1において、各放電室37内で発生される紫外線
の波長分布を示すグラフである。なお、図7において、
強度を示すスケールは、ピーク値を1として正規化した
ものである。
示装置1において、各放電室37内で発生される紫外線
の波長分布を示すグラフである。なお、図7において、
強度を示すスケールは、ピーク値を1として正規化した
ものである。
【0066】図7から明らかなように、図1ないし図5
に示した放電型表示装置1においては、Xeの分圧すな
わち放電制御ガスNeに対する主放電ガスXeの比率が
15%ないし100%の範囲で高めたことにより、周知
の放電型表示装置において発生される紫外線の内のXe
* 共鳴線である147ナノメートル(以下、nmと示
す)の波長の紫外線に加えて、Xe2 *エキシマ発光によ
る172nmの波長の紫外線が発生される。
に示した放電型表示装置1においては、Xeの分圧すな
わち放電制御ガスNeに対する主放電ガスXeの比率が
15%ないし100%の範囲で高めたことにより、周知
の放電型表示装置において発生される紫外線の内のXe
* 共鳴線である147ナノメートル(以下、nmと示
す)の波長の紫外線に加えて、Xe2 *エキシマ発光によ
る172nmの波長の紫外線が発生される。
【0067】すなわち、混合ガスG中のXeの分圧を高
めることにより、従来は、 e + Xe → e +Xe* Xe* → Xe + 波長147nmの紫外線 により、147nmの波長の紫外線を得ていたが、 Xe* + 2Xe → Xe2 * + Xe Xe2 * → 2Xe + 波長172nmの紫外線 により、172nmの波長の紫外線が得られる。
めることにより、従来は、 e + Xe → e +Xe* Xe* → Xe + 波長147nmの紫外線 により、147nmの波長の紫外線を得ていたが、 Xe* + 2Xe → Xe2 * + Xe Xe2 * → 2Xe + 波長172nmの紫外線 により、172nmの波長の紫外線が得られる。
【0068】蛍光層41の蛍光体を励起するエネルギー
は、Xe2 *エキシマ発光により発生される波長172n
mの紫外線の方が147nmの紫外線に比較して低いこ
とから、発光効率が増大される。なお、図7に示される
ように、Xeの分圧が10%である場合には、172n
mの波長の紫外線も発生されるが147nmの紫外線も
多く含まれるので、Xeの分圧としては20%以上が好
ましい。
は、Xe2 *エキシマ発光により発生される波長172n
mの紫外線の方が147nmの紫外線に比較して低いこ
とから、発光効率が増大される。なお、図7に示される
ように、Xeの分圧が10%である場合には、172n
mの波長の紫外線も発生されるが147nmの紫外線も
多く含まれるので、Xeの分圧としては20%以上が好
ましい。
【0069】ところで、図7に示した放電ガス中のXe
の分圧と図5に示した駆動回路から供給される高周波出
力との間には、発光効率に関して相関が得られることが
認められる。すなわち、図8に示すように、Xeの分圧
が低い場合(10%)には、RF出力の大きさ(電力)
を増大させても発光効率が向上することがなく、Xeの
分圧が高い場合(20%)には、RF出力の大きさをX
eの分圧を10%とした場合と同一とした場合であって
も、発光効率を概ね2倍に改善できる。しかも、Xeの
分圧が高い場合(20%)には、RF出力の大きさを増
大させることによる発光効率の低下が少ない。この結
果、放電室当たりの発光強度(輝度)は、RF出力の大
きさと発光効率の低下の関係を最適に設定することで、
Xeの分圧が10%である場合に比較して、概ね3倍に
増大させることができる。
の分圧と図5に示した駆動回路から供給される高周波出
力との間には、発光効率に関して相関が得られることが
認められる。すなわち、図8に示すように、Xeの分圧
が低い場合(10%)には、RF出力の大きさ(電力)
を増大させても発光効率が向上することがなく、Xeの
分圧が高い場合(20%)には、RF出力の大きさをX
eの分圧を10%とした場合と同一とした場合であって
も、発光効率を概ね2倍に改善できる。しかも、Xeの
分圧が高い場合(20%)には、RF出力の大きさを増
大させることによる発光効率の低下が少ない。この結
果、放電室当たりの発光強度(輝度)は、RF出力の大
きさと発光効率の低下の関係を最適に設定することで、
Xeの分圧が10%である場合に比較して、概ね3倍に
増大させることができる。
【0070】図9は、図5に示した駆動回路において、
高周波(RF)出力を供給する際に問題となるインピー
ダンスの整合を考慮したインピーダンス整合回路の一例
を示す概略図である。
高周波(RF)出力を供給する際に問題となるインピー
ダンスの整合を考慮したインピーダンス整合回路の一例
を示す概略図である。
【0071】図5に示した駆動回路においては、表示電
極および対向電極に印加されるRF出力の周波数は、既
に説明したように、13ないし250MHzの高周波で
あることから、主発振回路111と分配器103および
101と分配器103および101とそれぞれの電極と
の間の給電線におけるインピーダンスをマッチングする
必要が生じる。
極および対向電極に印加されるRF出力の周波数は、既
に説明したように、13ないし250MHzの高周波で
あることから、主発振回路111と分配器103および
101と分配器103および101とそれぞれの電極と
の間の給電線におけるインピーダンスをマッチングする
必要が生じる。
【0072】このため、各給電線に、例えばチップコン
デンサあるいはチップインダクタ等の結合用の受動素子
121a,・・・,121nおよび123a,・・・,
123nを挿入することで、各給電線におけるインピー
ダンスを整合できる。
デンサあるいはチップインダクタ等の結合用の受動素子
121a,・・・,121nおよび123a,・・・,
123nを挿入することで、各給電線におけるインピー
ダンスを整合できる。
【0073】これにより、表示装置1上の電極(画素)
位置に起因して発光輝度、すなわち画面の明るさが部分
的に変動することが防止できる。
位置に起因して発光輝度、すなわち画面の明るさが部分
的に変動することが防止できる。
【0074】なお、図10に示すように、図9で各給電
線に挿入した結合用受動素子に代えて、例えばストリッ
プ線路131a,・・・,131nおよび133a,・
・・,133nを各給電線に並列に挿入してもよい。こ
の方法によれば、ストリップ線路と給電線を同一の工程
で製造可能となる。
線に挿入した結合用受動素子に代えて、例えばストリッ
プ線路131a,・・・,131nおよび133a,・
・・,133nを各給電線に並列に挿入してもよい。こ
の方法によれば、ストリップ線路と給電線を同一の工程
で製造可能となる。
【0075】また、図11に示すように、表示電極13
を予め2本ずつ並列に配列し、高周波(RF)出力を、
1本おきに給電してもよい。この場合、特に各放電室に
おける放電の広がりが抑えられることから、アドレスが
明確化される。なお、高周波(RF)出力が印加されな
い表示電極(ダミー電極)は、接地するものとする。
を予め2本ずつ並列に配列し、高周波(RF)出力を、
1本おきに給電してもよい。この場合、特に各放電室に
おける放電の広がりが抑えられることから、アドレスが
明確化される。なお、高周波(RF)出力が印加されな
い表示電極(ダミー電極)は、接地するものとする。
【0076】しかしながら、図10および図11に示す
ように、ストリップ線路(あるいは平行のダミーの表示
電極)を各給電線(またはダミーの表示電極)に並列に
配列することは、前面基板11の表示面11aの側から
表示装置1を見た場合に表示の明るさを支配する開口率
を制限することに他ならないことから、図12に示すよ
うに、ストリップ線路あるいは平行(ダミー)給電線
を、背面板31の背後に配列してもよい。この場合、ス
トリップ線路あるいは平行(ダミー)表示電極の材質、
厚さおよび幅を最適化することで、背面板31に一体に
設けられる電子注入機構(電界放出型冷陰極アレイ)5
1のゲート電極53bと共用することもできる。
ように、ストリップ線路(あるいは平行のダミーの表示
電極)を各給電線(またはダミーの表示電極)に並列に
配列することは、前面基板11の表示面11aの側から
表示装置1を見た場合に表示の明るさを支配する開口率
を制限することに他ならないことから、図12に示すよ
うに、ストリップ線路あるいは平行(ダミー)給電線
を、背面板31の背後に配列してもよい。この場合、ス
トリップ線路あるいは平行(ダミー)表示電極の材質、
厚さおよび幅を最適化することで、背面板31に一体に
設けられる電子注入機構(電界放出型冷陰極アレイ)5
1のゲート電極53bと共用することもできる。
【0077】図13は、図5に示した駆動回路の別の例
を説明するブロック図である。なお、図5に示したと同
一の構成には、同じ符号を付して詳細な説明を省略す
る。
を説明するブロック図である。なお、図5に示したと同
一の構成には、同じ符号を付して詳細な説明を省略す
る。
【0078】図13に示されるように、駆動回路201
は、表示電極13に所定のタイミングで駆動電圧を印加
する列駆動回路211、対向電極33に所定のタイミン
グで駆動電圧を印加する行駆動回路213のそれぞれ
は、例えば100メガヘルツ(MHz)の高周波信号を
発生する主発振回路111から出力されたRF出力を、
表示電極13(X軸方向)および対向電極33(Y軸方
向)のそれぞれに分配する分配器221および223と
それぞれの分配器と各電極との間に電極毎に設けられた
スイッチ回路231a,・・・,231nおよび233
a,・・・,233nを含み、画像信号処理回路107
の制御により、各スイッチ回路231a,・・・,23
1nおよび233a,・・・,233nが選択的にオン
されることで、各放電室39に画像信号に対応した放電
を引き起こす。なお、それぞれのスイッチ回路231
a,・・・,231nおよび233a,・・・,233
nには、主発振回路111が出力する高周波出力をスト
レスなく通過可能な高周波対応型のスイッチ回路が用い
られる。
は、表示電極13に所定のタイミングで駆動電圧を印加
する列駆動回路211、対向電極33に所定のタイミン
グで駆動電圧を印加する行駆動回路213のそれぞれ
は、例えば100メガヘルツ(MHz)の高周波信号を
発生する主発振回路111から出力されたRF出力を、
表示電極13(X軸方向)および対向電極33(Y軸方
向)のそれぞれに分配する分配器221および223と
それぞれの分配器と各電極との間に電極毎に設けられた
スイッチ回路231a,・・・,231nおよび233
a,・・・,233nを含み、画像信号処理回路107
の制御により、各スイッチ回路231a,・・・,23
1nおよび233a,・・・,233nが選択的にオン
されることで、各放電室39に画像信号に対応した放電
を引き起こす。なお、それぞれのスイッチ回路231
a,・・・,231nおよび233a,・・・,233
nには、主発振回路111が出力する高周波出力をスト
レスなく通過可能な高周波対応型のスイッチ回路が用い
られる。
【0079】この方法によれば、表示電極13と対向電
極33のそれぞれにRF出力を印加するタイミングを画
像信号処理回路107により最適化することで、RF信
号が任意の放電室39を挟んで印加された瞬間に、その
放電室で放電を行わせることから、高速度で画像を表示
できる。
極33のそれぞれにRF出力を印加するタイミングを画
像信号処理回路107により最適化することで、RF信
号が任意の放電室39を挟んで印加された瞬間に、その
放電室で放電を行わせることから、高速度で画像を表示
できる。
【0080】図14は、図5に示した駆動回路のさらに
別の例を説明するブロック図である。なお、図5に示し
たと同一の構成には、同じ符号を付して詳細な説明を省
略する。
別の例を説明するブロック図である。なお、図5に示し
たと同一の構成には、同じ符号を付して詳細な説明を省
略する。
【0081】図14に示されるように、駆動回路301
は、表示電極13に所定のタイミングで駆動電圧を印加
するX軸方向発振回路311および対向電極33に所定
のタイミングで駆動電圧を印加するY軸方向発振回路3
13を有している。
は、表示電極13に所定のタイミングで駆動電圧を印加
するX軸方向発振回路311および対向電極33に所定
のタイミングで駆動電圧を印加するY軸方向発振回路3
13を有している。
【0082】それぞれの発振回路311および313
は、各表示電極13に高周波のRF出力を供給する複数
の自己励振式発振器321a,・・・,321nおよび
323a,・・・,323nを含み、画像信号処理回路
107の制御により、各発振器321a,・・・,32
1nおよび323a,・・・,323nから、選択的に
RF出力が所定時間出力されることで、各放電室39に
画像信号に対応した放電を引き起こす。
は、各表示電極13に高周波のRF出力を供給する複数
の自己励振式発振器321a,・・・,321nおよび
323a,・・・,323nを含み、画像信号処理回路
107の制御により、各発振器321a,・・・,32
1nおよび323a,・・・,323nから、選択的に
RF出力が所定時間出力されることで、各放電室39に
画像信号に対応した放電を引き起こす。
【0083】この方法によれば、図13に示した例と同
様に、表示電極13と対向電極33のそれぞれにRF出
力を印加するタイミングを画像信号処理回路107によ
り最適化することで、RF信号が任意の放電室39を挟
んで印加された瞬間に、その放電室で放電を行わせるこ
とから、高速度で画像を表示できる。
様に、表示電極13と対向電極33のそれぞれにRF出
力を印加するタイミングを画像信号処理回路107によ
り最適化することで、RF信号が任意の放電室39を挟
んで印加された瞬間に、その放電室で放電を行わせるこ
とから、高速度で画像を表示できる。
【0084】図15は、図14に示した駆動回路の変形
例を説明するブロック図である。なお、図5に示したと
同一の構成には、同じ符号を付して詳細な説明を省略す
る。
例を説明するブロック図である。なお、図5に示したと
同一の構成には、同じ符号を付して詳細な説明を省略す
る。
【0085】図15に示されるように、駆動回路401
は、表示電極13に所定のタイミングで駆動電圧を印加
するX軸方向(表示電極)駆動回路411および対向電
極33に所定のタイミングで駆動電圧を印加するY軸方
向(対向電極)駆動回路413を有している。
は、表示電極13に所定のタイミングで駆動電圧を印加
するX軸方向(表示電極)駆動回路411および対向電
極33に所定のタイミングで駆動電圧を印加するY軸方
向(対向電極)駆動回路413を有している。
【0086】それぞれの発振回路411および413
は、各表示電極13に高周波のRF出力を供給する複数
のインバータスイッチ回路421a,・・・,421n
および423a,・・・,423nを含み、画像信号処
理回路107の制御により、各インバータスイッチ回路
421a,・・・,421nおよび423a,・・・,
423nから、選択的にRF出力が所定時間出力される
ことで、各放電室39に画像信号に対応した放電を引き
起こす。
は、各表示電極13に高周波のRF出力を供給する複数
のインバータスイッチ回路421a,・・・,421n
および423a,・・・,423nを含み、画像信号処
理回路107の制御により、各インバータスイッチ回路
421a,・・・,421nおよび423a,・・・,
423nから、選択的にRF出力が所定時間出力される
ことで、各放電室39に画像信号に対応した放電を引き
起こす。
【0087】この方法によれば、図13および図14に
示した例と同様に、表示電極13と対向電極33のそれ
ぞれにRF出力を印加するタイミングを画像信号処理回
路107により最適化することで、RF信号が任意の放
電室39を挟んで印加された瞬間に、その放電室で放電
を行わせることから、高速度で画像を表示できる。
示した例と同様に、表示電極13と対向電極33のそれ
ぞれにRF出力を印加するタイミングを画像信号処理回
路107により最適化することで、RF信号が任意の放
電室39を挟んで印加された瞬間に、その放電室で放電
を行わせることから、高速度で画像を表示できる。
【0088】図16は、図1および図2に示した表示パ
ネルの別の実施の形態を示す概略図である。なお、図1
および図2に示した表示パネルと同一の構成には同じ符
号を付して詳細な説明を省略する。
ネルの別の実施の形態を示す概略図である。なお、図1
および図2に示した表示パネルと同一の構成には同じ符
号を付して詳細な説明を省略する。
【0089】図16に示されるように、表示装置501
は、入力された画像信号に対応する可視光を放射する前
面基板511、前面基板511に対して、例えば200
μmの間隔で対向され、前面基板511が表示する表示
光に対応する可視光を発生する背面板31とを有してい
る。なお、背面板31の前面基板511と反対の側とな
る面には、図3および図4を用いて説明した51が設け
られている(省略)。
は、入力された画像信号に対応する可視光を放射する前
面基板511、前面基板511に対して、例えば200
μmの間隔で対向され、前面基板511が表示する表示
光に対応する可視光を発生する背面板31とを有してい
る。なお、背面板31の前面基板511と反対の側とな
る面には、図3および図4を用いて説明した51が設け
られている(省略)。
【0090】前面基板511には、X軸方向に延出され
た表示電極13、誘電体層15、保護膜17、UV反射
層19および前面基板511の表示面11a側に高電圧
が漏洩することを防止するための電磁シールドに利用さ
れるITO(酸化インジウム薄膜)電極521が所定の
間隔で配列されている。なお、ITO電極521は、格
子状に配列されてもよい。
た表示電極13、誘電体層15、保護膜17、UV反射
層19および前面基板511の表示面11a側に高電圧
が漏洩することを防止するための電磁シールドに利用さ
れるITO(酸化インジウム薄膜)電極521が所定の
間隔で配列されている。なお、ITO電極521は、格
子状に配列されてもよい。
【0091】背面板31には、1画素あたりに、R
(赤)表示用、G(緑)表示用およびB(青)表示用の
3本ずつの対向電極33が配置されている。
(赤)表示用、G(緑)表示用およびB(青)表示用の
3本ずつの対向電極33が配置されている。
【0092】対向電極33は、誘電体層35により覆わ
れている。
れている。
【0093】対向電極33はまた、対向電極33と平行
に、且つ所定の間隔となるよう配列された複数のリブ3
7により、R,GおよびBのそれぞれの放電室39R,
39Gおよび39Bに、1本ずつ収容されている。この
放電室39の内壁には、Xeが発生する紫外線により励
起されることで可視光を放射する蛍光層41が形成され
ている。
に、且つ所定の間隔となるよう配列された複数のリブ3
7により、R,GおよびBのそれぞれの放電室39R,
39Gおよび39Bに、1本ずつ収容されている。この
放電室39の内壁には、Xeが発生する紫外線により励
起されることで可視光を放射する蛍光層41が形成され
ている。
【0094】放電室39の内壁と蛍光層41との間に
は、蛍光層41が発生する可視光を前面基板11に向け
て反射する可視光反射層43が、蛍光層41の放電室側
の面には、例えばMgOとMgF2 を含む蛍光層保護膜
45が、それぞれ所定の厚さに堆積されている。
は、蛍光層41が発生する可視光を前面基板11に向け
て反射する可視光反射層43が、蛍光層41の放電室側
の面には、例えばMgOとMgF2 を含む蛍光層保護膜
45が、それぞれ所定の厚さに堆積されている。
【0095】図16に示した構成によれば、前面基板5
11の表示面11aの側からパネル501を見た場合に
表示の明るさを支配する開口率が低減されることが防止
できることから、表示面11aから見た明るさが増大さ
れる。
11の表示面11aの側からパネル501を見た場合に
表示の明るさを支配する開口率が低減されることが防止
できることから、表示面11aから見た明るさが増大さ
れる。
【0096】図17は、図1および図2に示した表示パ
ネルのさらに別の実施の形態を示す概略図である。な
お、図1および図2に示した表示パネルと同一の構成に
は同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
ネルのさらに別の実施の形態を示す概略図である。な
お、図1および図2に示した表示パネルと同一の構成に
は同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
【0097】図17に示されるように、表示装置601
は、入力された画像信号に対応する可視光を放射する前
面基板611、前面基板611に対して、例えば200
μmの間隔で対向され、前面基板611が表示する表示
光に対応する可視光を発生する背面板31とを有してい
る。なお、背面板31の前面基板511と反対の側とな
る面には、図3および図4を用いて説明した51が設け
られている(省略)。
は、入力された画像信号に対応する可視光を放射する前
面基板611、前面基板611に対して、例えば200
μmの間隔で対向され、前面基板611が表示する表示
光に対応する可視光を発生する背面板31とを有してい
る。なお、背面板31の前面基板511と反対の側とな
る面には、図3および図4を用いて説明した51が設け
られている(省略)。
【0098】前面基板611には、X軸方向に延出され
た表示電極13、誘電体層15、保護膜17、UV反射
層19、および表示面11a側から見た状態で背面板3
1のリブ37上に位置するよう、かつリブ37に対して
概ね平行に設けられ、表示面11a側に高電圧が漏洩す
ることを防止するためのシールド電極621が配列され
ている。なお、シールド電極621の表示面11a側に
は、表示面11aから見た状態で、表示面11a側に生
じることのある乱反射を低減するために、図示しない黒
色のカバー部材が設けられてもよい。また、シールド電
極621に、反射率の低い、図示しない例えば黒色の外
被部材を設けてもよい。
た表示電極13、誘電体層15、保護膜17、UV反射
層19、および表示面11a側から見た状態で背面板3
1のリブ37上に位置するよう、かつリブ37に対して
概ね平行に設けられ、表示面11a側に高電圧が漏洩す
ることを防止するためのシールド電極621が配列され
ている。なお、シールド電極621の表示面11a側に
は、表示面11aから見た状態で、表示面11a側に生
じることのある乱反射を低減するために、図示しない黒
色のカバー部材が設けられてもよい。また、シールド電
極621に、反射率の低い、図示しない例えば黒色の外
被部材を設けてもよい。
【0099】背面板31には、1画素あたりに、R
(赤)表示用、G(緑)表示用およびB(青)表示用の
3本ずつの対向電極33が配置されている。
(赤)表示用、G(緑)表示用およびB(青)表示用の
3本ずつの対向電極33が配置されている。
【0100】対向電極33は、誘電体層35により覆わ
れている。
れている。
【0101】対向電極33はまた、対向電極33と平行
に、且つ所定の間隔となるよう配列された複数のリブ3
7により、R,GおよびBのそれぞれの放電室39R,
39Gおよび39Bに、1本ずつ収容されている。この
放電室39の内壁には、Xeが発生する紫外線により励
起されることで可視光を放射する蛍光層41が形成され
ている。
に、且つ所定の間隔となるよう配列された複数のリブ3
7により、R,GおよびBのそれぞれの放電室39R,
39Gおよび39Bに、1本ずつ収容されている。この
放電室39の内壁には、Xeが発生する紫外線により励
起されることで可視光を放射する蛍光層41が形成され
ている。
【0102】放電室39の内壁と蛍光層41との間に
は、蛍光層41が発生する可視光を前面基板11に向け
て反射する可視光反射層43が、蛍光層41の放電室側
の面には、例えばMgOとMgF2 を含む蛍光層保護膜
45が、それぞれ所定の厚さに堆積されている。
は、蛍光層41が発生する可視光を前面基板11に向け
て反射する可視光反射層43が、蛍光層41の放電室側
の面には、例えばMgOとMgF2 を含む蛍光層保護膜
45が、それぞれ所定の厚さに堆積されている。
【0103】図17に示した構成によれば、前面基板6
11の表示面11aの側からパネル601を見た場合に
表示の明るさを支配する開口率が低減されることがない
ため、表示面11aから見た明るさが増大される。
11の表示面11aの側からパネル601を見た場合に
表示の明るさを支配する開口率が低減されることがない
ため、表示面11aから見た明るさが増大される。
【0104】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のプラズ
マ放電型平面表示装置は、前面基板側に、放電により生
じる紫外線を背面板に設けられている蛍光体に向けて反
射する紫外線反射膜を有し、放電ガス中のXeの分圧を
15%ないし20%とし、表示電極を対向配置したこと
により、13MHzよりも高い周波数の電圧により駆動
することにより、発光効率が向上できる。
マ放電型平面表示装置は、前面基板側に、放電により生
じる紫外線を背面板に設けられている蛍光体に向けて反
射する紫外線反射膜を有し、放電ガス中のXeの分圧を
15%ないし20%とし、表示電極を対向配置したこと
により、13MHzよりも高い周波数の電圧により駆動
することにより、発光効率が向上できる。
【0105】また、放電室の背面に電界放出型冷陰極を
設けたことにより、任意の画素を、高速で選択的に発光
させることができる。
設けたことにより、任意の画素を、高速で選択的に発光
させることができる。
【0106】従って、発光効率および画面輝度が高く、
その反面消費電力が少なく、しかも表示画像の明るさが
均一で寿命の長い放電型平面表示装置が提供される。
その反面消費電力が少なく、しかも表示画像の明るさが
均一で寿命の長い放電型平面表示装置が提供される。
【図1】この発明のプラズマ放電型平面表示装置を示す
概略図。
概略図。
【図2】図1に示した表示装置の単位画素を概略的に示
す部分断面図。
す部分断面図。
【図3】図1に示した表示装置に適用される電子注入機
構の一例を示す概略図。
構の一例を示す概略図。
【図4】図3に示した電子注入機構の構成を説明する概
略図。
略図。
【図5】図1および図2に示した表示装置の駆動回路の
一例を示すブロック図。
一例を示すブロック図。
【図6】図1ないし図5に示した表示装置の駆動電圧の
周波数と損失の関係を説明する概略図。
周波数と損失の関係を説明する概略図。
【図7】図1ないし図5に示した表示装置の各放電室で
発生される紫外線の波長分布を示すグラフ。
発生される紫外線の波長分布を示すグラフ。
【図8】図1ないし図5に示した表示装置の各放電室か
ら放射される可視光の発光効率と、放電室内に満たされ
る放電ガスのXeの分圧およびRF出力との関係を示す
グラフ。
ら放射される可視光の発光効率と、放電室内に満たされ
る放電ガスのXeの分圧およびRF出力との関係を示す
グラフ。
【図9】図5に示した駆動回路に適用可能なインピーダ
ンス整合回路の一例を示す概略図。
ンス整合回路の一例を示す概略図。
【図10】図9に示したインピーダンス整合回路の別の
例を示す概略図。
例を示す概略図。
【図11】図9に示したインピーダンス整合回路の別の
例を示す概略図。
例を示す概略図。
【図12】図9に示したインピーダンス整合回路の別の
例を示す概略図。
例を示す概略図。
【図13】図5に示した駆動回路の別の実施の形態を説
明するブロック図。
明するブロック図。
【図14】図5に示した駆動回路のさらに別の実施の形
態を説明するブロック図。
態を説明するブロック図。
【図15】図14に示した駆動回路の変形例を説明する
ブロック図。
ブロック図。
【図16】図1および図2に示した表示パネルの別の実
施の形態を説明する概略図。
施の形態を説明する概略図。
【図17】図1および図2に示した表示パネルの別の実
施の形態を説明する概略図。
施の形態を説明する概略図。
1 …放電型表示装置(プラズマ放電型平面表示装
置)、 11 …前面基板、 13 …表示電極、 15 …誘電体層、 17 …保護層、 19 …UV反射層(紫外線反射膜)、 31 …背面板、 33 …対向電極(表示電極)、 35 …誘電体層、 37 …リブ(障壁)、 39 …放電室、 41 …蛍光層、 43 …可視光反射層、 45 …保護膜、 51 …電界放出型冷陰極アレイ、 53a…第1の給電線、 53b…ゲート電極、 55 …電界放出型冷陰極部、 57a…第2の給電線、 57b…カソード導電体、 59 …絶縁層、 101 …分配器、 103 …分配器、 105 …電子注入機構駆動回路、 107 …画像信号処理回路、 109 …ビデオインタフェース、 111 …主発振回路。
置)、 11 …前面基板、 13 …表示電極、 15 …誘電体層、 17 …保護層、 19 …UV反射層(紫外線反射膜)、 31 …背面板、 33 …対向電極(表示電極)、 35 …誘電体層、 37 …リブ(障壁)、 39 …放電室、 41 …蛍光層、 43 …可視光反射層、 45 …保護膜、 51 …電界放出型冷陰極アレイ、 53a…第1の給電線、 53b…ゲート電極、 55 …電界放出型冷陰極部、 57a…第2の給電線、 57b…カソード導電体、 59 …絶縁層、 101 …分配器、 103 …分配器、 105 …電子注入機構駆動回路、 107 …画像信号処理回路、 109 …ビデオインタフェース、 111 …主発振回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 隆昭 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 寺井 清寿 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 新海 健 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 沖田 裕二 東京都府中市晴見町2丁目24番地の1 東 芝エフエーシステムエンジニアリング株式 会社内
Claims (15)
- 【請求項1】対向配置される一対の基板と、前記基板間
に封入される放電用ガスと、前記一対の基板間に配置さ
れ、前記放電用ガスを励起させて紫外線を発生せしめる
励起手段と、前記紫外線に基づいて所定の可視光を放出
せしめる光変換手段とを備えた放電型平面表示装置にお
いて、 前記励起手段として高周波の電力を用いたことを特徴と
する放電型平面表示装置。 - 【請求項2】前記励起手段である電極構成が対向配置さ
れた少なくとも一対の電極からなる対向放電型であるこ
とを特徴とする請求項1項記載の放電型平面表示装置。 - 【請求項3】前記高周波放電の放電周波数fが、13M
Hz < f ≦ 250MHzの範囲であることを特
徴とする請求項1または2項記載の放電型平面表示装
置。 - 【請求項4】前記励起手段である高周波印加回路におい
て、給電線を整合回路の一部となるようにしたことを特
徴とする請求項1ないし3項のいづれかに記載の放電型
平面表示装置。 - 【請求項5】前記励起手段である高周波印加回路におい
て、前記基板の背面側に整合回路を設けたことを特徴と
する請求項1ないし4項のいづれかに記載の放電型平面
表示装置。 - 【請求項6】前記励起手段である高周波印加回路におい
て、前記基板の前面側もしくは背面側に給電される電極
と接地電位の電極を交互に配置することを特微とする請
求項1ないし5項のいづれかに記載の放電型平面表示装
置。 - 【請求項7】前記基板に電磁波シールドを行ったことを
特徴とする請求項1ないし6項のいづれかに記載の放電
型平面表示装置。 - 【請求項8】前記電磁波シールドとして、前面側に透明
な導電性膜を設けたことを特徴とする請求項7項記載の
放電型平面表示装置。 - 【請求項9】前記電磁波シールドとして、細いワイヤー
を格子状に配置したことを特微とする請求項7または8
項記載の放電型平面表示装置。 - 【請求項10】前記電磁波シールドである細いワイヤー
の一部もしくは全ては、前記基板を前面側から見た状態
で、前記基板間に位置される隔壁と重なるように配置さ
れていることを特徴とする請求項7ないし9項のいづれ
かに記載の放電型平面表示装置。 - 【請求項11】前記基板間に封入された放電用ガスを予
備電離させ、または放電維持のために、電子を注入する
ための電子源が前記基板に配置されていることを特徴と
する請求項1ないし10項のいづれかに記載の放電型平
面表示装置。 - 【請求項12】前記電子源として、電界放出型冷陰極構
造を前記基板の背面側に一体に設けたことを特徴とする
請求項11項記載の放電型平面表示装置。 - 【請求項13】前記電子源である電界放出型冷陰極構造
に用いられる制御信号線と前記電磁波シールドに用いら
れるワイヤ部材と、前記高周波印加回路において、前記
基板の背面側に設けられる整合回路の少なくとも一部を
共用する構造としたことを特徴とする請求項11項記載
の放電型平面表示装置。 - 【請求項14】前記励起手段は、補助励起手段をさらに
有することを特徴とする請求項2項記載の放電型平面表
示装置。 - 【請求項15】前記補助励起手段は、前記基板間に封入
された放電用ガスを予備電離させ、または放電維持のた
めに、電子を注入する電界放出型冷陰極構造であって、
前記基板の背面側に一体に設けられることを特徴とする
請求項14項記載の放電型平面表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10121141A JPH11311975A (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 放電型平面表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10121141A JPH11311975A (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 放電型平面表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11311975A true JPH11311975A (ja) | 1999-11-09 |
Family
ID=14803884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10121141A Pending JPH11311975A (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 放電型平面表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11311975A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-04-30 JP JP10121141A patent/JPH11311975A/ja active Pending
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