JPH11309953A - 輻射線感応性平版印刷版 - Google Patents
輻射線感応性平版印刷版Info
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- JPH11309953A JPH11309953A JP3637899A JP3637899A JPH11309953A JP H11309953 A JPH11309953 A JP H11309953A JP 3637899 A JP3637899 A JP 3637899A JP 3637899 A JP3637899 A JP 3637899A JP H11309953 A JPH11309953 A JP H11309953A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像書き込み後、湿式現像処理やこすり等の
特別な処理を必要としない、かつ地汚れが少ないことと
感度が高いという択一的な２つの要請をともに満たす輻
射線感応性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 水不溶性粒子とその表面を覆う結着剤と
よりなる構造体を支持体上に設けた輻射線感応性平版印
刷版であって、上記結着剤が架橋されており、かつ少な
くとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱
により発生した酸の作用により親水性が変化するもので
あることを特徴とし、前記構造体が前記結着剤で覆われ
た粒子の間に空隙が存在するもの、前記親水性の変化に
より前記空隙の間に存在しうる水の量が変化するもの、
前記各粒子が前記結着剤を通して部分的に結着したもの
であることが好ましい。
特別な処理を必要としない、かつ地汚れが少ないことと
感度が高いという択一的な２つの要請をともに満たす輻
射線感応性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 水不溶性粒子とその表面を覆う結着剤と
よりなる構造体を支持体上に設けた輻射線感応性平版印
刷版であって、上記結着剤が架橋されており、かつ少な
くとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱
により発生した酸の作用により親水性が変化するもので
あることを特徴とし、前記構造体が前記結着剤で覆われ
た粒子の間に空隙が存在するもの、前記親水性の変化に
より前記空隙の間に存在しうる水の量が変化するもの、
前記各粒子が前記結着剤を通して部分的に結着したもの
であることが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも輻射線
もしくは熱または輻射線もしくは熱により発生した酸に
感応性を有する輻射線感応性平版印刷版に関する。その
中でも、ディジタル信号に基づいて可視光もしくは赤外
線などの各種のレーザ、あるいはサーマルヘッドなどの
感熱記録装置を操作することにより直接製版可能であ
り、且つ水現像可能あるいは現像することなしにそのま
ま印刷機に装着し、印刷することができる輻射線感応性
平版印刷版に関し、特に無処理刷版製造に適した輻射線
感応性の平版印刷版に関する。
もしくは熱または輻射線もしくは熱により発生した酸に
感応性を有する輻射線感応性平版印刷版に関する。その
中でも、ディジタル信号に基づいて可視光もしくは赤外
線などの各種のレーザ、あるいはサーマルヘッドなどの
感熱記録装置を操作することにより直接製版可能であ
り、且つ水現像可能あるいは現像することなしにそのま
ま印刷機に装着し、印刷することができる輻射線感応性
平版印刷版に関し、特に無処理刷版製造に適した輻射線
感応性の平版印刷版に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＳ版による印刷版の製造には、
露光工程の後に、支持体表面の上に設けられた感光層を
画像状に除去するための湿式による現像工程や現像処理
された印刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有
するリンス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂
化液で処理する後処理工程が含まれる。一方近年の製
版、印刷業界では現像廃液がアルカリ性であるため環境
問題が生じてきている。また製版作業の合理化が進めら
れており、上記のような複雑な湿式現像処理を必要とせ
ず、露光後にそのまま印刷に使用できる印刷版用原版が
望まれている。
露光工程の後に、支持体表面の上に設けられた感光層を
画像状に除去するための湿式による現像工程や現像処理
された印刷版を水洗水で水洗したり、界面活性剤を含有
するリンス液、アラビアガム、澱粉誘導体を含む不感脂
化液で処理する後処理工程が含まれる。一方近年の製
版、印刷業界では現像廃液がアルカリ性であるため環境
問題が生じてきている。また製版作業の合理化が進めら
れており、上記のような複雑な湿式現像処理を必要とせ
ず、露光後にそのまま印刷に使用できる印刷版用原版が
望まれている。
【０００３】ＵＳ５，１０２，７７１号、ＵＳ５，２２
５，３１６号には酸感受性基を側鎖にもつポリマーと光
酸発生剤を組み合わせた感材が提示されており、無現像
システムが提案されている。この版材は発生する酸がカ
ルボン酸であるために、親水性の程度が低くなり汚れや
すく、版材の耐久性や印刷画像の鮮明さに劣る欠点を持
つ。ポジ型無処理平版印刷版材の製造に適した輻射線感
応性の画像形成材料としては、特開平７−１８６５６２
号公報に記載されたものが公知であり、特定のカルボン
酸エステル、もしくはスルホン酸エステル構造からなる
加熱もしくは酸の作用により疎水性から親水性に変化し
得る官能基と、トリメトキシシリル基からなる加水分解
重合性化合物と反応し得る官能基とを有する化合物が記
載されている。これらの化合物を用いると、露光後現像
処理なしでも印刷可能であり、満足できる印刷物を得る
ことができるが、さらに地汚れが生じやすい欠点を解決
して、耐刷性を向上させることが望まれていた。
５，３１６号には酸感受性基を側鎖にもつポリマーと光
酸発生剤を組み合わせた感材が提示されており、無現像
システムが提案されている。この版材は発生する酸がカ
ルボン酸であるために、親水性の程度が低くなり汚れや
すく、版材の耐久性や印刷画像の鮮明さに劣る欠点を持
つ。ポジ型無処理平版印刷版材の製造に適した輻射線感
応性の画像形成材料としては、特開平７−１８６５６２
号公報に記載されたものが公知であり、特定のカルボン
酸エステル、もしくはスルホン酸エステル構造からなる
加熱もしくは酸の作用により疎水性から親水性に変化し
得る官能基と、トリメトキシシリル基からなる加水分解
重合性化合物と反応し得る官能基とを有する化合物が記
載されている。これらの化合物を用いると、露光後現像
処理なしでも印刷可能であり、満足できる印刷物を得る
ことができるが、さらに地汚れが生じやすい欠点を解決
して、耐刷性を向上させることが望まれていた。
【０００４】地汚れを改善する手段としては、ＷＯ９７
／２８００７号及び特開平２−１３１９３３号に粒状物
を感光層中に分散させて添加する方法が開示されている
が、前者については感度の低下を伴うという欠点のほか
に、地汚れに関しても更なる改善が望まれている。後者
については、けい素系無機フィラーの添加のほかにさら
にスルフォン化などの煩雑な操作を必要とする難点があ
る。
／２８００７号及び特開平２−１３１９３３号に粒状物
を感光層中に分散させて添加する方法が開示されている
が、前者については感度の低下を伴うという欠点のほか
に、地汚れに関しても更なる改善が望まれている。後者
については、けい素系無機フィラーの添加のほかにさら
にスルフォン化などの煩雑な操作を必要とする難点があ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、画像書き込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な
処理を必要としない、かつ地汚れが少ないことと感度が
高いことという択一的な２つの要請をともに満たす、少
なくとも輻射線もしくは熱または輻射線もしくは熱によ
り発生した酸に感応性を有する輻射線感応性平版印刷版
を提供することである。特に、赤外線を輻射する固体レ
ーザまたは半導体レーザ等を用いて記録することによ
り、デジタルデータから直接製版可能である熱又は輻射
線感応性平版印刷版を提供することである。また、本発
明の他の目的は、耐刷性に優れ、さらに室温放置後の汚
れ性が良好な熱又は輻射線感応性平版印刷版を提供する
ことにある。
は、画像書き込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な
処理を必要としない、かつ地汚れが少ないことと感度が
高いことという択一的な２つの要請をともに満たす、少
なくとも輻射線もしくは熱または輻射線もしくは熱によ
り発生した酸に感応性を有する輻射線感応性平版印刷版
を提供することである。特に、赤外線を輻射する固体レ
ーザまたは半導体レーザ等を用いて記録することによ
り、デジタルデータから直接製版可能である熱又は輻射
線感応性平版印刷版を提供することである。また、本発
明の他の目的は、耐刷性に優れ、さらに室温放置後の汚
れ性が良好な熱又は輻射線感応性平版印刷版を提供する
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、下記輻射線感応性平版印刷版により上記目的を解
決するに至った。即ち、本発明は以下の通りである。 （１）水不溶性粒子とその表面を覆う結着剤とよりなる
構造体を支持体上に設けた輻射線感応性平版印刷版であ
って、上記結着剤が架橋されており、かつ少なくとも輻
射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱により発
生した酸の作用により親水性が変化するものであること
を特徴とする輻射線感応性平版印刷版。 （２）前記構造体が前記結着剤で覆われた粒子の間に空
隙が存在するものであることを特徴とする前記（１）記
載の輻射線感応性平版印刷版。 （３）前記親水性の変化により前記空隙の間に存在しう
る水の量が変化するものであることを特徴とする前記
（２）記載の輻射線感応性平版印刷版。 （４）前記各粒子が前記結着剤を通して部分的に結着し
たものであることを特徴とする前記（１）記載の輻射線
感応性平版印刷版。
結果、下記輻射線感応性平版印刷版により上記目的を解
決するに至った。即ち、本発明は以下の通りである。 （１）水不溶性粒子とその表面を覆う結着剤とよりなる
構造体を支持体上に設けた輻射線感応性平版印刷版であ
って、上記結着剤が架橋されており、かつ少なくとも輻
射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱により発
生した酸の作用により親水性が変化するものであること
を特徴とする輻射線感応性平版印刷版。 （２）前記構造体が前記結着剤で覆われた粒子の間に空
隙が存在するものであることを特徴とする前記（１）記
載の輻射線感応性平版印刷版。 （３）前記親水性の変化により前記空隙の間に存在しう
る水の量が変化するものであることを特徴とする前記
（２）記載の輻射線感応性平版印刷版。 （４）前記各粒子が前記結着剤を通して部分的に結着し
たものであることを特徴とする前記（１）記載の輻射線
感応性平版印刷版。
【０００７】（５）前記結着剤が、（イ）（ａ）少なく
とも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱に
より発生した酸の作用により親水性が変化する官能基並
びに（ｂ’）下記一般式（１）の化合物およびその加水
分解生成物の少なくともいずれかと反応する官能基を同
一分子内に有する化合物と、（ロ）下記一般式（１）で
表される加水分解重合性化合物との反応生成物を含有す
るものであることを特徴とする前記（１）記載の輻射線
感応性平版印刷版。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。
とも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱に
より発生した酸の作用により親水性が変化する官能基並
びに（ｂ’）下記一般式（１）の化合物およびその加水
分解生成物の少なくともいずれかと反応する官能基を同
一分子内に有する化合物と、（ロ）下記一般式（１）で
表される加水分解重合性化合物との反応生成物を含有す
るものであることを特徴とする前記（１）記載の輻射線
感応性平版印刷版。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。
【０００８】（６）前記結着剤が、（イ）スルホン酸エ
ステル基およびアルコキシアルキルエステル基から選ば
れる少なくとも１つの官能基と、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−
ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）
3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基
を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ
4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても
異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの
官能基とを同一分子内に有する化合物と、（ロ）一般式
（１）で表される加水分解重合性化合物との反応生成物
を含有するものであることを特徴とする前記（１）記載
の輻射線感応性平版印刷版。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。
ステル基およびアルコキシアルキルエステル基から選ば
れる少なくとも１つの官能基と、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−
ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）
3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基
を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ
4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても
異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの
官能基とを同一分子内に有する化合物と、（ロ）一般式
（１）で表される加水分解重合性化合物との反応生成物
を含有するものであることを特徴とする前記（１）記載
の輻射線感応性平版印刷版。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。
【０００９】（７）前記（１）〜（４）記載の結着剤が
光架橋反応により得られたものを含有するものであるこ
とを特徴とする前記（１）記載の輻射線感応性平版印刷
版。 （８）前記（１）〜（４）記載の結着剤が熱架橋反応に
より得られたものを含有するものであることを特徴とす
る前記（１）記載の輻射線感応性平版印刷版。 （９）親水性の変化が疎水性から親水性への変化である
ことを特徴とする前記（１）〜（８）のいずれかに記載
の輻射線感応性平版印刷版。 （１０）疎水性から親水性への変化がスルホン酸エステ
ル基またはアルコキシアルキルエステル基によるもので
あることを特徴とする前記（９）記載の輻射線感応性平
版印刷版。
光架橋反応により得られたものを含有するものであるこ
とを特徴とする前記（１）記載の輻射線感応性平版印刷
版。 （８）前記（１）〜（４）記載の結着剤が熱架橋反応に
より得られたものを含有するものであることを特徴とす
る前記（１）記載の輻射線感応性平版印刷版。 （９）親水性の変化が疎水性から親水性への変化である
ことを特徴とする前記（１）〜（８）のいずれかに記載
の輻射線感応性平版印刷版。 （１０）疎水性から親水性への変化がスルホン酸エステ
ル基またはアルコキシアルキルエステル基によるもので
あることを特徴とする前記（９）記載の輻射線感応性平
版印刷版。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
はじめに、本発明の基本的な技術思想に触れておく。本
発明は、水不溶性固体微粒子の層の特定の機能に着目し
て得られたものである。すなわち、支持体上に水不溶性
固体粒子を互いに接触するほど密に分散させかつ凹凸の
表面のある層を形成させると、粒子表面が親水性であれ
ば、粒子同志間の空隙部分に水分が保持されて親水性の
表面を形成し、粒子表面が疎水性であれば、粒子間の多
少の空隙には水がしみ込まず、粒子層は水反発性つまり
親油性の表面を形成する。水不溶性固体微粒子の層が画
像状に疎水性から親水性に変化する機能を有していれ
ば、この層を印刷面とすることによって印刷版を作るこ
とができる。
はじめに、本発明の基本的な技術思想に触れておく。本
発明は、水不溶性固体微粒子の層の特定の機能に着目し
て得られたものである。すなわち、支持体上に水不溶性
固体粒子を互いに接触するほど密に分散させかつ凹凸の
表面のある層を形成させると、粒子表面が親水性であれ
ば、粒子同志間の空隙部分に水分が保持されて親水性の
表面を形成し、粒子表面が疎水性であれば、粒子間の多
少の空隙には水がしみ込まず、粒子層は水反発性つまり
親油性の表面を形成する。水不溶性固体微粒子の層が画
像状に疎水性から親水性に変化する機能を有していれ
ば、この層を印刷面とすることによって印刷版を作るこ
とができる。
【００１１】この技術思想を実現するには、（ｉ）保水
性と水反発性を具現できるように粒子同士が高密度で接
してかつ表面凹凸性を有しながら、しかも層形成が可能
な高度の分散性を有する粒子分散物技術及び（ii) その
分散物に画像信号に感応して親水性が変化しうる機能を
具体化的に付与できる技術が必要である。本発明におい
ては、水不溶性の固体粒子表面に（ｉ）及び（ii) それ
ぞれを具現する機能をもつ化合物を保持させることによ
って技術思想の実現を図るものである。具体的には
（ｉ）に対しては隣接する粒子の表面にある官能基と反
応して架橋しうる官能基（ｂ）と、（ii) に対しては少
なくとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは
熱により発生した酸の作用により親水性が変化する官能
基（ａ）を有する結着剤を保持させ、この固体粒子分散
物から形成された構造体層を支持体表面に設けることに
よって発明目的とする輻射線感応性平版印刷版を実現さ
せている。
性と水反発性を具現できるように粒子同士が高密度で接
してかつ表面凹凸性を有しながら、しかも層形成が可能
な高度の分散性を有する粒子分散物技術及び（ii) その
分散物に画像信号に感応して親水性が変化しうる機能を
具体化的に付与できる技術が必要である。本発明におい
ては、水不溶性の固体粒子表面に（ｉ）及び（ii) それ
ぞれを具現する機能をもつ化合物を保持させることによ
って技術思想の実現を図るものである。具体的には
（ｉ）に対しては隣接する粒子の表面にある官能基と反
応して架橋しうる官能基（ｂ）と、（ii) に対しては少
なくとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは
熱により発生した酸の作用により親水性が変化する官能
基（ａ）を有する結着剤を保持させ、この固体粒子分散
物から形成された構造体層を支持体表面に設けることに
よって発明目的とする輻射線感応性平版印刷版を実現さ
せている。
【００１２】前記結着剤においては、少なくとも輻射線
もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱により発生し
た酸の作用により親水性が変化する官能基（ａ）が画像
信号感応機能を担っており、画像を直接光などの放射に
より、又は光によって生じた酸により、あるいは光・熱
変換による熱に感応して親水性が変化という形で画像信
号を分子内に記録する。
もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱により発生し
た酸の作用により親水性が変化する官能基（ａ）が画像
信号感応機能を担っており、画像を直接光などの放射に
より、又は光によって生じた酸により、あるいは光・熱
変換による熱に感応して親水性が変化という形で画像信
号を分子内に記録する。
【００１３】それに加えて本発明者達による驚くべき発
見は、前記結着剤に保持されて取り囲まれた水不溶性固
体粒子（ハ）は、結着剤の存在下、組成物の塗布層を多
孔質の構造に変化させる（蛇足ながら付言するなら、冒
頭の本発明の技術思想において固体微粒子の高密度層が
保水可能の空隙部分を有すると述べたのは、この発見に
よる後付け説明であり、既知のことではない）。したが
って、少なくとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線
もしくは熱により発生した酸の作用によって前記官能基
（ａ）の親水性が変化した部分では、多孔質構造の空隙
部分が更なる保水空間を提供して親水性部分と疎水性部
分とのディスクリミネーションが一層向上さる。
見は、前記結着剤に保持されて取り囲まれた水不溶性固
体粒子（ハ）は、結着剤の存在下、組成物の塗布層を多
孔質の構造に変化させる（蛇足ながら付言するなら、冒
頭の本発明の技術思想において固体微粒子の高密度層が
保水可能の空隙部分を有すると述べたのは、この発見に
よる後付け説明であり、既知のことではない）。したが
って、少なくとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線
もしくは熱により発生した酸の作用によって前記官能基
（ａ）の親水性が変化した部分では、多孔質構造の空隙
部分が更なる保水空間を提供して親水性部分と疎水性部
分とのディスクリミネーションが一層向上さる。
【００１４】なお、本明細書で用いている「輻射」とい
う用語は、ＪＩＳ規格用語や学術用語として用いられて
いる「放射」と同義であって紫外線、可視光線、赤外
線、Ｘ線、γ線などの電磁波及び粒子線を総称してい
る。しかしながら、場合によって、「輻射」を代表して
「光」と記す場合もある。また、「熱」は、画像状の接
触加熱による「熱」のほかに光モード感熱記録つまり放
射−熱エネルギー変換による「熱」をも含んでいる。本
発明の輻射線感応性平版印刷版は、所定の加熱手段によ
る熱、あるいは所定の酸発生手段による酸により、前記
結着剤が画像様に親水性の変化を生じ、画像形成後現像
処理することなく印刷可能であり、満足できる印刷物を
得ることができると共に、耐刷性にも優れ、さらに室温
放置後の汚れ性も良いものとなる。
う用語は、ＪＩＳ規格用語や学術用語として用いられて
いる「放射」と同義であって紫外線、可視光線、赤外
線、Ｘ線、γ線などの電磁波及び粒子線を総称してい
る。しかしながら、場合によって、「輻射」を代表して
「光」と記す場合もある。また、「熱」は、画像状の接
触加熱による「熱」のほかに光モード感熱記録つまり放
射−熱エネルギー変換による「熱」をも含んでいる。本
発明の輻射線感応性平版印刷版は、所定の加熱手段によ
る熱、あるいは所定の酸発生手段による酸により、前記
結着剤が画像様に親水性の変化を生じ、画像形成後現像
処理することなく印刷可能であり、満足できる印刷物を
得ることができると共に、耐刷性にも優れ、さらに室温
放置後の汚れ性も良いものとなる。
【００１５】本発明の輻射線感応性平版印刷版は、その
ままで感熱記録が可能なほか、光熱変換材料（赤外線吸
収剤）と組み合わせて赤外線レーザー感応性感熱ポジ型
無処理平版印刷版として用いることができる。また、前
記結着剤が紫外光域から可視光域に感光する化合物を含
んでいるならばそれ自体で、あるいは非感光性の化合物
を含んでいるならばそれ自体とこの領域に感光する酸発
生剤と組み合わせて紫外光域−可視光域感応性感熱ポジ
型無処理平版印刷用原版として用いることができる。ま
た、赤外線レーザーのほかに各種の感熱ヘッド例えばワ
ードプロセサーのような簡単でコンパクトな感熱プリン
ターや感熱ファクシミリなどを用いて製版することもで
きる。
ままで感熱記録が可能なほか、光熱変換材料（赤外線吸
収剤）と組み合わせて赤外線レーザー感応性感熱ポジ型
無処理平版印刷版として用いることができる。また、前
記結着剤が紫外光域から可視光域に感光する化合物を含
んでいるならばそれ自体で、あるいは非感光性の化合物
を含んでいるならばそれ自体とこの領域に感光する酸発
生剤と組み合わせて紫外光域−可視光域感応性感熱ポジ
型無処理平版印刷用原版として用いることができる。ま
た、赤外線レーザーのほかに各種の感熱ヘッド例えばワ
ードプロセサーのような簡単でコンパクトな感熱プリン
ターや感熱ファクシミリなどを用いて製版することもで
きる。
【００１６】前記少なくとも輻射線もしくは熱の作用ま
たは輻射線もしくは熱により発生した酸の作用により親
水性が変化する官能基（ａ）としては、特に限定されな
いが、疎水性から親水性に変化するものが好ましい。疎
水性から親水性に変化する官能基としては、後述する熱
もしくは酸分解によって親水性基に対する保護が外れる
ように設計された官能基、同じく後述する自ら光に感応
して保護基を放出して親水性になるように設計された官
能基、ポリメタクリル酸エステルの熱分解、ポリカプロ
ラクタムからε−カプロラクタムへの酸分解、パラホル
ムアルデヒドからアルデヒドの生成に見られる酸、熱又
は光による解重合性の官能基、アジド化合物に見られる
光分解性の官能基などこの目的の機能を有する既知の官
能基の中から選択される。その中でも特に好ましい官能
基は、スルホン酸エステル、ジスルホン基、スルホンイ
ミド基およびアルコキシアルキルエステル基から選ばれ
る官能基である。
たは輻射線もしくは熱により発生した酸の作用により親
水性が変化する官能基（ａ）としては、特に限定されな
いが、疎水性から親水性に変化するものが好ましい。疎
水性から親水性に変化する官能基としては、後述する熱
もしくは酸分解によって親水性基に対する保護が外れる
ように設計された官能基、同じく後述する自ら光に感応
して保護基を放出して親水性になるように設計された官
能基、ポリメタクリル酸エステルの熱分解、ポリカプロ
ラクタムからε−カプロラクタムへの酸分解、パラホル
ムアルデヒドからアルデヒドの生成に見られる酸、熱又
は光による解重合性の官能基、アジド化合物に見られる
光分解性の官能基などこの目的の機能を有する既知の官
能基の中から選択される。その中でも特に好ましい官能
基は、スルホン酸エステル、ジスルホン基、スルホンイ
ミド基およびアルコキシアルキルエステル基から選ばれ
る官能基である。
【００１７】まず、スルホン酸エステル基、ジスルホン
基、スルホンイミド基またはアルコキシアルキルエステ
ル基から選ばれる少なくとも１つの官能基（以下、「官
能基Ｘ」という場合がある。）の具体例について詳細に
説明する。スルホン酸エステル基、ジスルホン基、スル
ホンイミド基はそれぞれ下記一般式（２）、（３）、
（４）で表すことができる。
基、スルホンイミド基またはアルコキシアルキルエステ
ル基から選ばれる少なくとも１つの官能基（以下、「官
能基Ｘ」という場合がある。）の具体例について詳細に
説明する。スルホン酸エステル基、ジスルホン基、スル
ホンイミド基はそれぞれ下記一般式（２）、（３）、
（４）で表すことができる。
【００１８】
【化１】
【００１９】式中、Ｌは一般式（２）、（３）、（４）
で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに必要な
多価の非金属原子から成る有機基を表し、Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒ3、Ｒ4 は置換若しくは無置換のアリール基、置換若
しくは無置換アルキル基又は環状イミド基を表す。
で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに必要な
多価の非金属原子から成る有機基を表し、Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒ3、Ｒ4 は置換若しくは無置換のアリール基、置換若
しくは無置換アルキル基又は環状イミド基を表す。
【００２０】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 がアリール基若し
くは置換アリール基を表わすとき、アリール基には炭素
環式アリール基と複素環式（ヘテロ）アリール基が含ま
れる。炭素環式アリール基としては、フェニル基、ナフ
チル基、アントラセニル基、ピレニル基等の炭素数６か
ら１９のものが用いられる。また、複素環式アリール基
としては、ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が
縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン
基、カルバゾール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数
１〜５を含むものが用いられる。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
4 がアルキル基若しくは置換アルキル基を表わすとき、
当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、
分岐状若しくは環状の炭素数１から２５までのものが用
いられる。
くは置換アリール基を表わすとき、アリール基には炭素
環式アリール基と複素環式（ヘテロ）アリール基が含ま
れる。炭素環式アリール基としては、フェニル基、ナフ
チル基、アントラセニル基、ピレニル基等の炭素数６か
ら１９のものが用いられる。また、複素環式アリール基
としては、ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が
縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン
基、カルバゾール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数
１〜５を含むものが用いられる。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
4 がアルキル基若しくは置換アルキル基を表わすとき、
当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、
分岐状若しくは環状の炭素数１から２５までのものが用
いられる。
【００２１】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 が置換アリール
基、置換ヘテロアリール基、置換アルキル基であると
き、置換基としてはメトキシ基、エトキシ基等の炭素数
１〜１０までのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ト
リクロロメチル基のようなハロゲン置換されたアルキル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ
−ブチルオキシカルボニル基、ｐ−クロロフェニルオキ
シカルボニル基等の炭素数２から１５までのアルコキシ
カルボニル基若しくはアリールオキシカルボニル基；水
酸基；アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−ジ
フェニルアミノベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ
基；ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシ基等のカルボネ
ート基；ｔ−ブチルオキシカルボニルメチルオキシ基、
２−ピラニルオキシ基等のエーテル基；アミノ基、ジメ
チルアミノ基、ジフェニルアミノ基、モルフォリノ基、
アセチルアミノ基等の置換、非置換のアミノ基；メチル
チオ基、フェニルチオ基等のチオエーテル基；ビニル
基、スチリル基等のアルケニル基；ニトロ基；シアノ
基；ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル
基；フェニル基、ナフチル基のようなアリール基；ピリ
ジル基のようなヘテロアリール基等を挙げることができ
る。またＲ1 〜Ｒ4 が置換アリール基、置換ヘテロアリ
ール基であるとき、置換基として前述の他にもメチル
基、エチル基等のアルキル基を用いることができる。
基、置換ヘテロアリール基、置換アルキル基であると
き、置換基としてはメトキシ基、エトキシ基等の炭素数
１〜１０までのアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ト
リクロロメチル基のようなハロゲン置換されたアルキル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ
−ブチルオキシカルボニル基、ｐ−クロロフェニルオキ
シカルボニル基等の炭素数２から１５までのアルコキシ
カルボニル基若しくはアリールオキシカルボニル基；水
酸基；アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−ジ
フェニルアミノベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ
基；ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシ基等のカルボネ
ート基；ｔ−ブチルオキシカルボニルメチルオキシ基、
２−ピラニルオキシ基等のエーテル基；アミノ基、ジメ
チルアミノ基、ジフェニルアミノ基、モルフォリノ基、
アセチルアミノ基等の置換、非置換のアミノ基；メチル
チオ基、フェニルチオ基等のチオエーテル基；ビニル
基、スチリル基等のアルケニル基；ニトロ基；シアノ
基；ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル
基；フェニル基、ナフチル基のようなアリール基；ピリ
ジル基のようなヘテロアリール基等を挙げることができ
る。またＲ1 〜Ｒ4 が置換アリール基、置換ヘテロアリ
ール基であるとき、置換基として前述の他にもメチル
基、エチル基等のアルキル基を用いることができる。
【００２２】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 が環状イミド基を
表すとき、環状イミドとしては、琥珀酸イミド、フタル
酸イミド、シクロヘキサンジカルボン酸イミド、ノルボ
ルネンジカルボン酸イミド等の炭素原子４〜２０までの
ものを用いることができる。上記のうちＲ1 、Ｒ2 、Ｒ
3 、Ｒ4 として特に好ましいものは、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール基、
ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換され
たアルキル基、２級若しくは３級の分岐状のアルキル
基、環状アルキル基及び環状イミドである。
表すとき、環状イミドとしては、琥珀酸イミド、フタル
酸イミド、シクロヘキサンジカルボン酸イミド、ノルボ
ルネンジカルボン酸イミド等の炭素原子４〜２０までの
ものを用いることができる。上記のうちＲ1 、Ｒ2 、Ｒ
3 、Ｒ4 として特に好ましいものは、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール基、
ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換され
たアルキル基、２級若しくは３級の分岐状のアルキル
基、環状アルキル基及び環状イミドである。
【００２３】Ｌで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０
個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１
個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。
結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０
個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１
個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。
【００２４】
【化２】
【００２５】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１から２０ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６
から１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数１から６までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数２から７までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
アルコキシアルキルエステル基は、下記一般式（５）で
表すことができる。
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１から２０ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６
から１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数１から６までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数２から７までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
アルコキシアルキルエステル基は、下記一般式（５）で
表すことができる。
【００２６】
【化３】
【００２７】式中Ｒ11は水素原子を表し、Ｒ12は水素原
子または炭素数１８個以下のアルキル基を表し、Ｒ13は
炭素数１８個以下のアルキル基を表す。また、Ｒ11、Ｒ
12およびＲ13の内の２つが結合して間を形成してもよ
い。特に、Ｒ12およびＲ13が結合して５または６員環を
形成することが好ましい。
子または炭素数１８個以下のアルキル基を表し、Ｒ13は
炭素数１８個以下のアルキル基を表す。また、Ｒ11、Ｒ
12およびＲ13の内の２つが結合して間を形成してもよ
い。特に、Ｒ12およびＲ13が結合して５または６員環を
形成することが好ましい。
【００２８】官能基Ｘとして以上の一般式（２）〜
（５）で表されるものが挙げられるが、好ましくは一般
式（２）で表されるスルホン酸エステル基と一般式
（５）で表されるアルコキシアルキルエステル基であ
り、特に好ましくは一般式（２）で表されるスルホン酸
エステル基である。一般式（２）〜（５）で表される官
能基の具体例を以下に示す。
（５）で表されるものが挙げられるが、好ましくは一般
式（２）で表されるスルホン酸エステル基と一般式
（５）で表されるアルコキシアルキルエステル基であ
り、特に好ましくは一般式（２）で表されるスルホン酸
エステル基である。一般式（２）〜（５）で表される官
能基の具体例を以下に示す。
【００２９】
【化４】
【００３０】
【化５】
【００３１】
【化６】
【００３２】官能基Ｘは、前記結着剤を加熱もしくは酸
の作用により疎水性から親水性へ変える働きを有するも
のである。特に、官能基Ｘは、前記結着剤の空中水滴接
触角を１５°以上低下させるものであることが好まし
い。即ち、前記結着剤としては、空中における水滴の接
触角が、加熱もしくは酸の作用により１５°以上低下し
て、当初は疎水性であったものが親水性になるようなも
のであることが好ましい。さらに、前記結着剤として
は、この空中水滴接触角が、４０°以上低下するもので
あることが好ましい。また、前記結着剤としては、具体
的には空中水滴接触角が、当初６０°以上であったもの
が、加熱もしくは酸の作用により２０°以下まで低下す
るものであることがが好ましい。
の作用により疎水性から親水性へ変える働きを有するも
のである。特に、官能基Ｘは、前記結着剤の空中水滴接
触角を１５°以上低下させるものであることが好まし
い。即ち、前記結着剤としては、空中における水滴の接
触角が、加熱もしくは酸の作用により１５°以上低下し
て、当初は疎水性であったものが親水性になるようなも
のであることが好ましい。さらに、前記結着剤として
は、この空中水滴接触角が、４０°以上低下するもので
あることが好ましい。また、前記結着剤としては、具体
的には空中水滴接触角が、当初６０°以上であったもの
が、加熱もしくは酸の作用により２０°以下まで低下す
るものであることがが好ましい。
【００３３】前記親水性が変化する官能基（ａ）を有
し、かつ架橋された結着剤の架橋方式としては、特に限
定されないが、ゾルゲル反応により得られるもの、光架
橋反応により得られるもの、熱架橋反応により得られる
もの等が挙げられる。ゾルゲル反応により得られる結着
剤について、以下に説明する。ゾルゲル反応により得ら
れる結着剤は、（イ）（ａ）少なくとも輻射線もしくは
熱の作用または輻射線もしくは熱により発生した酸の作
用により親水性が変化する官能基並びに（ｂ’）下記一
般式（１）の化合物およびその加水分解生成物の少なく
ともいずれかと反応する官能基を同一分子内に有する化
合物と、（ロ）下記一般式（１）で表される加水分解重
合性化合物との反応生成物である。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。
し、かつ架橋された結着剤の架橋方式としては、特に限
定されないが、ゾルゲル反応により得られるもの、光架
橋反応により得られるもの、熱架橋反応により得られる
もの等が挙げられる。ゾルゲル反応により得られる結着
剤について、以下に説明する。ゾルゲル反応により得ら
れる結着剤は、（イ）（ａ）少なくとも輻射線もしくは
熱の作用または輻射線もしくは熱により発生した酸の作
用により親水性が変化する官能基並びに（ｂ’）下記一
般式（１）の化合物およびその加水分解生成物の少なく
ともいずれかと反応する官能基を同一分子内に有する化
合物と、（ロ）下記一般式（１）で表される加水分解重
合性化合物との反応生成物である。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。
【００３４】この化合物（イ）においては、少なくとも
輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱により
発生した酸の作用により親水性が変化する官能基（ａ）
が、前述の通り、画像信号感応機能を担っており、画像
を直接光などの放射により、又は光によって生じた酸に
より、あるいは光・熱変換による熱に感応して親水性へ
の変化という形で画像信号を分子内に記録する。一方、
同一分子内に存在する官能基（ｂ’）は、化合物（イ）
を周囲のマトリックスと結合させる機能を有しており、
具体的には一般式（１）の加水分解重合性化合物（ロ）
又はその加水分解生成物と反応し、かつこの化合物
（ロ）が加水分解重合して無機酸化物の結合鎖で構成さ
れる画像記録性のマトリックスを塗布膜中に形成し、架
橋されるため、記録される画像の固定が強化される。
輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱により
発生した酸の作用により親水性が変化する官能基（ａ）
が、前述の通り、画像信号感応機能を担っており、画像
を直接光などの放射により、又は光によって生じた酸に
より、あるいは光・熱変換による熱に感応して親水性へ
の変化という形で画像信号を分子内に記録する。一方、
同一分子内に存在する官能基（ｂ’）は、化合物（イ）
を周囲のマトリックスと結合させる機能を有しており、
具体的には一般式（１）の加水分解重合性化合物（ロ）
又はその加水分解生成物と反応し、かつこの化合物
（ロ）が加水分解重合して無機酸化物の結合鎖で構成さ
れる画像記録性のマトリックスを塗布膜中に形成し、架
橋されるため、記録される画像の固定が強化される。
【００３５】一般式（１）の化合物（ロ）は、化合物
（イ）との反応による結合と加水分解重合に加えて、さ
らに後述の水不溶性の固体粒子（ハ）にも一部結合また
は吸着することができる官能基（ｂ）を有し、この官能
基（ｂ’）によってマトリックス構造を硬化させ、記録
画像の固定能力が一層強化され、画像のディスクリミネ
ーションが向上する。ここで固体粒子への結合または吸
着と呼んでいるのは、観察結果に基づいた表現で、化学
吸着、物理吸着又はその両方が働いているものと考えて
いる。
（イ）との反応による結合と加水分解重合に加えて、さ
らに後述の水不溶性の固体粒子（ハ）にも一部結合また
は吸着することができる官能基（ｂ）を有し、この官能
基（ｂ’）によってマトリックス構造を硬化させ、記録
画像の固定能力が一層強化され、画像のディスクリミネ
ーションが向上する。ここで固体粒子への結合または吸
着と呼んでいるのは、観察結果に基づいた表現で、化学
吸着、物理吸着又はその両方が働いているものと考えて
いる。
【００３６】次に、官能基（ｂ’）は、前記のように化
合物（１）のマトリックスとの結合を担う基で、一般式
（１）の化合物のアルキル基、アルコキシ基、その加水
分解による水酸基あるいは中心の金属原子と反応して結
合を形成する性質を有する官能基であって、かつ官能基
（ａ）を同一分子内に含ませることができる官能基であ
れば既知のいずれの官能基でもよい。とくに水酸基又は
アルコキシ基と加水分解して結合を形成する官能基が好
ましい。その中でも、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、
−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中Ｒ3 お
よびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら
官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ 4 の双方が存在
する場合には、これらは同じであっても異なっていても
よい。］から選ばれる官能基が本発明に適している。な
お、以下の記述では、官能基（ｂ）をさらに説明する必
要はなく、その具体型である官能基（ｂ’）について述
べるので、官能基（ｂ’）をその大概念である官能基
（ｂ）で表現する。
合物（１）のマトリックスとの結合を担う基で、一般式
（１）の化合物のアルキル基、アルコキシ基、その加水
分解による水酸基あるいは中心の金属原子と反応して結
合を形成する性質を有する官能基であって、かつ官能基
（ａ）を同一分子内に含ませることができる官能基であ
れば既知のいずれの官能基でもよい。とくに水酸基又は
アルコキシ基と加水分解して結合を形成する官能基が好
ましい。その中でも、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、
−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中Ｒ3 お
よびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、これら
官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ 4 の双方が存在
する場合には、これらは同じであっても異なっていても
よい。］から選ばれる官能基が本発明に適している。な
お、以下の記述では、官能基（ｂ）をさらに説明する必
要はなく、その具体型である官能基（ｂ’）について述
べるので、官能基（ｂ’）をその大概念である官能基
（ｂ）で表現する。
【００３７】したがって、化合物（イ）として好ましい
分子構造の化合物は、官能基（ａ）としてスルホン酸エ
ステル、ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコ
キシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つ、
および官能基（ｂ）として、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯ
ＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中
Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、
これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ4 の双方
が存在する場合には、これらは同じであっても異なって
いてもよい。］から選ばれる少なくとも１つ、を同一分
子内に有する化合物である（以下、「化合物Ａ」という
場合がある）。
分子構造の化合物は、官能基（ａ）としてスルホン酸エ
ステル、ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコ
キシアルキルエステル基から選ばれる少なくとも１つ、
および官能基（ｂ）として、−ＯＨ、−ＮＨ2 、−ＣＯ
ＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中
Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基を表し、
これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ4 の双方
が存在する場合には、これらは同じであっても異なって
いてもよい。］から選ばれる少なくとも１つ、を同一分
子内に有する化合物である（以下、「化合物Ａ」という
場合がある）。
【００３８】一般式（１）で表される加水分解重合性化
合物（ロ）又はその加水分解生成物は、加水分解重合し
て無機酸化物のマトリックスを塗布膜中に形成すると共
に、化合物（イ）とりわけ化合物Ａの官能基（ｂ）と反
応し、さらに後述の固体粒子（ハ）にも吸着することに
よって多孔性の有機無機複合体（反応生成物）を形成
し、前記した画像部と非画像部とのディスクリミナーシ
ョンの向上効果の外に、架橋構造が密となり、全体とし
て膜強度も向上させる。
合物（ロ）又はその加水分解生成物は、加水分解重合し
て無機酸化物のマトリックスを塗布膜中に形成すると共
に、化合物（イ）とりわけ化合物Ａの官能基（ｂ）と反
応し、さらに後述の固体粒子（ハ）にも吸着することに
よって多孔性の有機無機複合体（反応生成物）を形成
し、前記した画像部と非画像部とのディスクリミナーシ
ョンの向上効果の外に、架橋構造が密となり、全体とし
て膜強度も向上させる。
【００３９】［化合物Ａ］前記ゾルゲル反応により得ら
れる結着剤に用いられる化合物Ａについて説明する。化
合物Ａとは、スルホン酸エステル、ジスルホン基、スル
ホンイミド基またはアルコキシアルキルエステル基から
選ばれる少なくとも１つの官能基、および、−ＯＨ、−
ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ4 ）3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリ
ール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 お
よびＲ4 の双方が存在する場合には、これらは同じであ
っても異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも
１つの官能基、を同一分子内に有する化合物である。
れる結着剤に用いられる化合物Ａについて説明する。化
合物Ａとは、スルホン酸エステル、ジスルホン基、スル
ホンイミド基またはアルコキシアルキルエステル基から
選ばれる少なくとも１つの官能基、および、−ＯＨ、−
ＮＨ2 、−ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（Ｏ
Ｒ4 ）3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリ
ール基を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 お
よびＲ4 の双方が存在する場合には、これらは同じであ
っても異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも
１つの官能基、を同一分子内に有する化合物である。
【００４０】まず、化合物Ａ中のスルホン酸エステル、
ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコキシアル
キルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基
（官能基Ｘ）の具体例は前記一般式（２）、（３）、
（４）および（５）で表した通りである。化合物Ａの合
成に好適に使用される、前記一般式（２）〜（５）で表
される官能基を有するモノマーの具体例を以下に示す。
ジスルホン基、スルホンイミド基またはアルコキシアル
キルエステル基から選ばれる少なくとも１つの官能基
（官能基Ｘ）の具体例は前記一般式（２）、（３）、
（４）および（５）で表した通りである。化合物Ａの合
成に好適に使用される、前記一般式（２）〜（５）で表
される官能基を有するモノマーの具体例を以下に示す。
【００４１】
【化７】
【００４２】
【化８】
【００４３】
【化９】
【００４４】官能基Ｘは、化合物Ａを加熱もしくは酸の
作用により疎水性から親水性へ変える働きを有するもの
である。特に、官能基Ｘは、化合物Ａの空中水滴接触角
を１５°以上低下させるものであることが好ましい。即
ち、化合物Ａとしては、空中における水滴の接触角が、
加熱もしくは酸の作用により１５°以上低下して、当初
は疎水性であったものが親水性になるようなものである
ことが好ましい。さらに、化合物Ａとしては、この空中
水滴接触角が、４０°以上低下する化合物であることが
好ましい。また、化合物Ａとしては、具体的には空中水
滴接触角が、当初６０°以上であったものが、加熱もし
くは酸の作用により２０°以下まで低下する化合物であ
ることが好ましい。
作用により疎水性から親水性へ変える働きを有するもの
である。特に、官能基Ｘは、化合物Ａの空中水滴接触角
を１５°以上低下させるものであることが好ましい。即
ち、化合物Ａとしては、空中における水滴の接触角が、
加熱もしくは酸の作用により１５°以上低下して、当初
は疎水性であったものが親水性になるようなものである
ことが好ましい。さらに、化合物Ａとしては、この空中
水滴接触角が、４０°以上低下する化合物であることが
好ましい。また、化合物Ａとしては、具体的には空中水
滴接触角が、当初６０°以上であったものが、加熱もし
くは酸の作用により２０°以下まで低下する化合物であ
ることが好ましい。
【００４５】次に、化合物Ａ中の−ＯＨ、−ＮＨ2 、−
ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）
3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基
を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ
4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても
異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの
官能基（以後官能基Ｙとも呼ぶ）の具体例について詳細
に説明する。
ＣＯＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）
3 ［式中Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基またはアリール基
を表し、これら官能基を有する化合物中にＲ3 およびＲ
4 の双方が存在する場合には、これらは同じであっても
異なっていてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの
官能基（以後官能基Ｙとも呼ぶ）の具体例について詳細
に説明する。
【００４６】官能基Ｙが−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 および／ま
たは−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 であるとき、Ｒ3 およびＲ4 と
しては、好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基また
は炭素数６〜２０のアリール基であり、これらはクロル
等のハロゲン、メトキシ基等のアルコキシ基、メトキシ
カルボニル基等のアルコキシカルボニル基等により置換
されていてもよい。−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 の具体例として
は、−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ3 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ2 Ｈ5 等
を挙げることができる。また、−Ｓｉ（ＯＲ4）3 の具
体例としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 、−Ｓｉ（ＯＣ2
Ｈ5 ）3 等を挙げることができる。
たは−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 であるとき、Ｒ3 およびＲ4 と
しては、好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基また
は炭素数６〜２０のアリール基であり、これらはクロル
等のハロゲン、メトキシ基等のアルコキシ基、メトキシ
カルボニル基等のアルコキシカルボニル基等により置換
されていてもよい。−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 の具体例として
は、−ＮＨ−ＣＯ−ＣＨ3 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ2 Ｈ5 等
を挙げることができる。また、−Ｓｉ（ＯＲ4）3 の具
体例としては、−Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 、−Ｓｉ（ＯＣ2
Ｈ5 ）3 等を挙げることができる。
【００４７】化合物Ａとしては、好ましくは前記一般式
（２）〜（５）で表される官能基を有するモノマーの
内、少なくともいずれか一つと、前述の官能基Ｙを有す
るモノマーとをラジカル重合することにより得られる高
分子化合物を使用する。このような化合物Ａとして、前
記一般式（２）〜（５）で表される官能基を有するモノ
マーの内一種のみと、前述の官能基Ｂを有するモノマー
の内一種のみと、を用いた共重合体を使用してもよい
が、両モノマーとも、あるいはどちらか一方のモノマー
について、２種以上を用いた共重合体やこれらのモノマ
ーと他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。
（２）〜（５）で表される官能基を有するモノマーの
内、少なくともいずれか一つと、前述の官能基Ｙを有す
るモノマーとをラジカル重合することにより得られる高
分子化合物を使用する。このような化合物Ａとして、前
記一般式（２）〜（５）で表される官能基を有するモノ
マーの内一種のみと、前述の官能基Ｂを有するモノマー
の内一種のみと、を用いた共重合体を使用してもよい
が、両モノマーとも、あるいはどちらか一方のモノマー
について、２種以上を用いた共重合体やこれらのモノマ
ーと他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。
【００４８】他のモノマーとしては、グリシジルメタク
リレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、２−イソ
シアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有する
モノマーが好ましい。また、共重合体に用いられる他の
モノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マ
レイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。
リレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、２−イソ
シアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有する
モノマーが好ましい。また、共重合体に用いられる他の
モノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マ
レイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。
【００４９】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又は
ｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−
又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又は
ｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−
又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。
【００５０】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ）エチルメタクリレート等が挙げられる。
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ）エチルメタクリレート等が挙げられる。
【００５１】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
【００５２】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
【００５３】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
【００５４】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アク
リル酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。
用されるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アク
リル酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。
【００５５】共重合体の合成に使用される前記一般式
（２）〜（５）で表される官能基を有するモノマーと、
官能基Ｙを有するモノマーと、の混合割合としては、重
量比で１０：９０〜９９：１とすることが好ましく、３
０：７０〜９７：３とすることがより好ましい。また、
他のモノマーとの共重合体とする場合には、共重合体の
合成に使用される前記一般式（２）〜（５）で表される
官能基を有するモノマーおよび官能基Ｙを有するモノマ
ーの合計に対する他のモノマーの割合は、５〜９９重量
％であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜９５
重量％である。
（２）〜（５）で表される官能基を有するモノマーと、
官能基Ｙを有するモノマーと、の混合割合としては、重
量比で１０：９０〜９９：１とすることが好ましく、３
０：７０〜９７：３とすることがより好ましい。また、
他のモノマーとの共重合体とする場合には、共重合体の
合成に使用される前記一般式（２）〜（５）で表される
官能基を有するモノマーおよび官能基Ｙを有するモノマ
ーの合計に対する他のモノマーの割合は、５〜９９重量
％であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜９５
重量％である。
【００５６】以下に、本発明に用いられる化合物Ａの具
体例を示す。なお、化学式中カッコの右下の数値は共重
合割合（モル比）を示す。
体例を示す。なお、化学式中カッコの右下の数値は共重
合割合（モル比）を示す。
【００５７】
【化１０】
【００５８】
【化１１】
【００５９】
【化１２】
【００６０】
【化１３】
【００６１】
【化１４】
【００６２】［加水分解重合性化合物］本発明において
用いられる下記一般式（１）で表される加水分解重合性
化合物（ロ）について説明する。 一般式（１） （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０〜２の整数を表
す。Ｒ1 またはＲ2 がアルキル基を表す場合に、炭素数
としては好ましくは１〜４である。また、アルキル基ま
たはアリール基は置換基を有していてもよい。なお、こ
の化合物は低分子化合物であり分子量１０００以下であ
ることが好ましい。
用いられる下記一般式（１）で表される加水分解重合性
化合物（ロ）について説明する。 一般式（１） （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０〜２の整数を表
す。Ｒ1 またはＲ2 がアルキル基を表す場合に、炭素数
としては好ましくは１〜４である。また、アルキル基ま
たはアリール基は置換基を有していてもよい。なお、こ
の化合物は低分子化合物であり分子量１０００以下であ
ることが好ましい。
【００６３】加水分解重合性化合物中にアルミニウムを
含むものとしては、例えば、トリメトキシアルミネー
ト、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミ
ネート、テトラエトキシアルミネート等を挙げることが
できる。チタンを含むものとしては、例えば、トリメト
キシチタネート、テトラメトキシチタネート、トリエト
キシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプ
ロポキシチタネート、クロロトリメトキシチタネート、
クロロトリエトキシチタネート、エチルトリメトキシチ
タネート、メチルトリエトキシチタネート、エチルトリ
エトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、
フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキ
シチタネート等を挙げることができる。ジルコニウムを
含むものとしては、例えば、前記チタンを含むものに対
応するジルコネートを挙げることができる。
含むものとしては、例えば、トリメトキシアルミネー
ト、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミ
ネート、テトラエトキシアルミネート等を挙げることが
できる。チタンを含むものとしては、例えば、トリメト
キシチタネート、テトラメトキシチタネート、トリエト
キシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプ
ロポキシチタネート、クロロトリメトキシチタネート、
クロロトリエトキシチタネート、エチルトリメトキシチ
タネート、メチルトリエトキシチタネート、エチルトリ
エトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、
フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキ
シチタネート等を挙げることができる。ジルコニウムを
含むものとしては、例えば、前記チタンを含むものに対
応するジルコネートを挙げることができる。
【００６４】加水分解重合性化合物中にケイ素を含むも
のとしては、例えば、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエ
トキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポ
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシラン等を挙げることができる。これらの内
特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン等を挙げることができる。
のとしては、例えば、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリプロポキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエ
トキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポ
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシラン等を挙げることができる。これらの内
特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエト
キシシラン等を挙げることができる。
【００６５】加水分解重合性化合物は、１種のみを使用
しても、２種以上を併用してもよい。また部分的に加水
分解後、脱水縮合していてもよい。なお、生成物の物性
を調整するために、必要に応じてトリアルキルモノアル
コキシシランを添加することができる。加水分解重合性
化合物は、本発明の画像形成材料中で無機相を構成する
化合物であるが、平版印刷用原版の基板に塗布する前の
画像形成材料の溶液の状態における保存安定性を高める
ために、該加水分解重合性化合物が部分加水分解重合し
た無機重合体の活性金属水酸基、例えば、シラノール基
（Ｓｉ−ＯＨ）を保護することが有効である。シラノー
ル基の保護は、ｔ−ブタノール、ｉ−プロピルアルコー
ル等の高級アルコールでシラノール基をエステル化（Ｓ
ｉ−ＯＲ）することにより達成することができる。具体
的には無機相に前記高級アルコールを添加することによ
り実施することができる。このとき無機相の性質によ
り、例えば、無機相を加熱して脱離した水を留去する等
の手段により無機相を脱水することにより保存安定性を
さらに向上させることができる。該加水分解重合の触媒
となり得る酸または塩基、例えば塩酸、アンモニア等が
無機相中に存在する場合には、これらの濃度を下げると
も一般的に有効である。これらは無機相を酸または塩基
により中和することにより容易に実施することができ
る。
しても、２種以上を併用してもよい。また部分的に加水
分解後、脱水縮合していてもよい。なお、生成物の物性
を調整するために、必要に応じてトリアルキルモノアル
コキシシランを添加することができる。加水分解重合性
化合物は、本発明の画像形成材料中で無機相を構成する
化合物であるが、平版印刷用原版の基板に塗布する前の
画像形成材料の溶液の状態における保存安定性を高める
ために、該加水分解重合性化合物が部分加水分解重合し
た無機重合体の活性金属水酸基、例えば、シラノール基
（Ｓｉ−ＯＨ）を保護することが有効である。シラノー
ル基の保護は、ｔ−ブタノール、ｉ−プロピルアルコー
ル等の高級アルコールでシラノール基をエステル化（Ｓ
ｉ−ＯＲ）することにより達成することができる。具体
的には無機相に前記高級アルコールを添加することによ
り実施することができる。このとき無機相の性質によ
り、例えば、無機相を加熱して脱離した水を留去する等
の手段により無機相を脱水することにより保存安定性を
さらに向上させることができる。該加水分解重合の触媒
となり得る酸または塩基、例えば塩酸、アンモニア等が
無機相中に存在する場合には、これらの濃度を下げると
も一般的に有効である。これらは無機相を酸または塩基
により中和することにより容易に実施することができ
る。
【００６６】上記加水分解重合性化合物は輻射線感応性
平版印刷版の感光層全固形分に対し、３〜９５重量％の
範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜
８０重量％の範囲である。
平版印刷版の感光層全固形分に対し、３〜９５重量％の
範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１０〜
８０重量％の範囲である。
【００６７】次に、光架橋または熱架橋反応により得ら
れる結着剤について説明する。光架橋には光二量化、光
ラジカル重合による方法がある。また熱架橋にはエポキ
シ架橋、イソシアネート架橋、メチロール架橋などの方
法がある。いずれもポリマーに架橋反応性基を組み込
み、それ自身、もしくはモノマーとの反応によって架橋
させる。光二量化反応はそれ自身の官能基の光吸収、も
しくは光増感剤を使用して光照射することにより架橋反
応を起こさせることが出来る。また光ラジカル重合架橋
はよく知られた光重合開始剤を使用して光照射すること
により架橋反応を起こさせることが出来る。エポキシ架
橋、イソシアネート架橋、メチロール架橋などの熱架橋
は酸、有機金属などの触媒を使用し、熱を加えることに
より架橋することが出来る。光架橋、熱架橋方法の内、
前者の方が加熱することなく架橋することが出来、少な
くとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱
により発生した酸の作用により親水性が変化する官能基
（ａ）を保護する意味でより有効である。
れる結着剤について説明する。光架橋には光二量化、光
ラジカル重合による方法がある。また熱架橋にはエポキ
シ架橋、イソシアネート架橋、メチロール架橋などの方
法がある。いずれもポリマーに架橋反応性基を組み込
み、それ自身、もしくはモノマーとの反応によって架橋
させる。光二量化反応はそれ自身の官能基の光吸収、も
しくは光増感剤を使用して光照射することにより架橋反
応を起こさせることが出来る。また光ラジカル重合架橋
はよく知られた光重合開始剤を使用して光照射すること
により架橋反応を起こさせることが出来る。エポキシ架
橋、イソシアネート架橋、メチロール架橋などの熱架橋
は酸、有機金属などの触媒を使用し、熱を加えることに
より架橋することが出来る。光架橋、熱架橋方法の内、
前者の方が加熱することなく架橋することが出来、少な
くとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱
により発生した酸の作用により親水性が変化する官能基
（ａ）を保護する意味でより有効である。
【００６８】光架橋反応により架橋される結着剤は光架
橋性官能基、別名、光硬化性官能基を有するモノマー
と、少なくとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線も
しくは熱により発生した酸の作用により親水性が変化す
る官能基（ａ）を有するモノマーとを共重合することで
得ることが出来る。また架橋反応により架橋される結着
剤は熱架橋基を有するモノマーと親水性が変化する基を
有するモノマーとを共重合することで得ることが出来
る。
橋性官能基、別名、光硬化性官能基を有するモノマー
と、少なくとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線も
しくは熱により発生した酸の作用により親水性が変化す
る官能基（ａ）を有するモノマーとを共重合することで
得ることが出来る。また架橋反応により架橋される結着
剤は熱架橋基を有するモノマーと親水性が変化する基を
有するモノマーとを共重合することで得ることが出来
る。
【００６９】「熱及び／又は光硬化性官能基」とは、熱
及び光のうちの少なくともいずれかにより樹脂の硬化反
応を行なう官能基をいう。光硬化性官能基として具体的
には，乾英夫、永松元太郎、「感光性高分子」（講談
社、1977年刊）、角田隆弘、「新感光性樹脂」（印刷学
会出版部、1981年刊）、G.E.Green and B.P.Strak, J.
Macro. Sci. Reas. Macro. Chem., C21(2)、187〜273(1
981〜82）、C.G.Rattey「Photopolymerization of Surf
ace Coatings」(A.Wiley Inter Science Pub. 1982年
刊）等の総説に引例された光硬化性樹脂として従来公知
の感光性樹脂等に用いられる官能基が用いられる。ま
た、本発明における「熱硬化性官能基」としては、例え
ば、遠藤剛、「熱硬化性高分子の精密化」(C.M.C.
(株）、1986年刊）、原崎勇次「最新バインダー技術便
覧」第II−Ｉ章（総合技術センター、1985年刊）、大津
隆行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」（中部
経営開発センター出版部、1985年刊）、大森英三「機能
性アクリル系樹脂」（テクノシステム、1985年刊）等の
総説に引例の官能基を用いることができる。
及び光のうちの少なくともいずれかにより樹脂の硬化反
応を行なう官能基をいう。光硬化性官能基として具体的
には，乾英夫、永松元太郎、「感光性高分子」（講談
社、1977年刊）、角田隆弘、「新感光性樹脂」（印刷学
会出版部、1981年刊）、G.E.Green and B.P.Strak, J.
Macro. Sci. Reas. Macro. Chem., C21(2)、187〜273(1
981〜82）、C.G.Rattey「Photopolymerization of Surf
ace Coatings」(A.Wiley Inter Science Pub. 1982年
刊）等の総説に引例された光硬化性樹脂として従来公知
の感光性樹脂等に用いられる官能基が用いられる。ま
た、本発明における「熱硬化性官能基」としては、例え
ば、遠藤剛、「熱硬化性高分子の精密化」(C.M.C.
(株）、1986年刊）、原崎勇次「最新バインダー技術便
覧」第II−Ｉ章（総合技術センター、1985年刊）、大津
隆行「アクリル樹脂の合成・設計と新用途開発」（中部
経営開発センター出版部、1985年刊）、大森英三「機能
性アクリル系樹脂」（テクノシステム、1985年刊）等の
総説に引例の官能基を用いることができる。
【００７０】例えば−ＣＯＯＨ基、−ＰＯ3Ｈ2基、−Ｓ
Ｏ2Ｈ基、−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＮＨ2基、−ＮＨＲ34
基｛Ｒ34は炭化水素基を表わし、例えば炭素数１〜８の
アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−クロロエチル
基、２−メトキシエチル基、２−シアノエチル基等）が
挙げられる。｝、環状酸無水物含有基、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ
基、ブロック化イソシアナート基、−ＣＯＮＨＣＨ2Ｏ
Ｒ35｛Ｒ35は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基
（具体的にはＲ34のアルキル基と同一内容）を表わ
す。｝、重合性二重結合基、光架橋性二重結合基、エポ
キシ基、イソシアネート基、メチロール基等を挙げるこ
とができる。
Ｏ2Ｈ基、−ＯＨ基、−ＳＨ基、−ＮＨ2基、−ＮＨＲ34
基｛Ｒ34は炭化水素基を表わし、例えば炭素数１〜８の
アルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−クロロエチル
基、２−メトキシエチル基、２−シアノエチル基等）が
挙げられる。｝、環状酸無水物含有基、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ
基、ブロック化イソシアナート基、−ＣＯＮＨＣＨ2Ｏ
Ｒ35｛Ｒ35は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基
（具体的にはＲ34のアルキル基と同一内容）を表わ
す。｝、重合性二重結合基、光架橋性二重結合基、エポ
キシ基、イソシアネート基、メチロール基等を挙げるこ
とができる。
【００７１】
【化１５】
【００７２】環状酸無水物含有基とは、少なくとも１つ
の環状酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸
無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジ
カルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸無
水物の例としては、コハク酸無水物環、グルタコン酸無
水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン−１，２
−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−１，２−ジ
カルボン酸無水物環、シクロヘキセン−１，２−ジカル
ボン酸無水物環、２，３−ビシクロ〔２．２．２〕オク
タンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環
は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基
等が置換されていてもよい。
の環状酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸
無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジ
カルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸無
水物の例としては、コハク酸無水物環、グルタコン酸無
水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン−１，２
−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−１，２−ジ
カルボン酸無水物環、シクロヘキセン−１，２−ジカル
ボン酸無水物環、２，３−ビシクロ〔２．２．２〕オク
タンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環
は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基
等が置換されていてもよい。
【００７３】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトキシ基等）等が置換されていてもよい。
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトキシ基等）等が置換されていてもよい。
【００７４】ブロック化イソシアナート基としては、イ
ソシアナート基と活性水素化合物との付加体で熱により
分解してイソシアナート基を生成する官能基が挙げられ
る。例えば活性水素化合物としては、２，２，２−トリ
フロロエタノール、２，２，２，２′，２′，２′−ヘ
キサフロロイソプロピルアルコールフェノール類（フェ
ノール、クロロフェノール、シアノフェノール、クレゾ
ール、メトキシフェノール等）、活性メチレン化合物
（アセチルアセトン、アセト酢酸エステル類、マロン酸
ジエステル類、マロンジニトリル等）、環状窒素原子含
有化合物（例えばイミダゾール、ピペラジン、モルホリ
ン等）等が挙げられる。
ソシアナート基と活性水素化合物との付加体で熱により
分解してイソシアナート基を生成する官能基が挙げられ
る。例えば活性水素化合物としては、２，２，２−トリ
フロロエタノール、２，２，２，２′，２′，２′−ヘ
キサフロロイソプロピルアルコールフェノール類（フェ
ノール、クロロフェノール、シアノフェノール、クレゾ
ール、メトキシフェノール等）、活性メチレン化合物
（アセチルアセトン、アセト酢酸エステル類、マロン酸
ジエステル類、マロンジニトリル等）、環状窒素原子含
有化合物（例えばイミダゾール、ピペラジン、モルホリ
ン等）等が挙げられる。
【００７５】該重合性二重結合基として、具体的にはＣ
Ｈ2＝ＣＨ−、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ
−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ−、Ｃ（ＣＨ3)Ｈ＝ＣＨ
ＣＯＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3)
ＣＯＮＨ−、Ｃ（ＣＨ3)Ｈ＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ2＝
ＣＨＯＣＯ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3)ＯＣＯ−、ＣＨ2＝Ｃ
ＨＣＨ2ＯＣＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＮＨＣＯ−、ＣＨ2＝Ｃ
ＨＣＨ2ＮＨＣＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＳＯ2−、ＣＨ2＝ＣＨ
ＣＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＳ−、で示され
る基等、を挙げることができる。光架橋性二重結合基と
して、具体的には−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ3)＝Ｃ
（ＣＨ3)−を挙げることができる。
Ｈ2＝ＣＨ−、ＣＨ2＝ＣＨＣＨ2−、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ
−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ−、Ｃ（ＣＨ3)Ｈ＝ＣＨ
ＣＯＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3)
ＣＯＮＨ−、Ｃ（ＣＨ3)Ｈ＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ2＝
ＣＨＯＣＯ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3)ＯＣＯ−、ＣＨ2＝Ｃ
ＨＣＨ2ＯＣＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＮＨＣＯ−、ＣＨ2＝Ｃ
ＨＣＨ2ＮＨＣＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＳＯ2−、ＣＨ2＝ＣＨ
ＣＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＯ−、ＣＨ2＝ＣＨＳ−、で示され
る基等、を挙げることができる。光架橋性二重結合基と
して、具体的には−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ（ＣＨ3)＝Ｃ
（ＣＨ3)−を挙げることができる。
【００７６】
【化１６】
【００７７】光架橋性二重結合基としては、特に以下の
一般式（Ａ）で示されるマレイミド基が好ましい。
一般式（Ａ）で示されるマレイミド基が好ましい。
【００７８】
【化１７】
【００７９】〔式（Ａ）中、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ水素
原子、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、Ｒ2とＲ3と
が一緒になって５員環又は６員環を形成していてもよ
い。〕ここで、Ｒ2およびＲ3のアルキル基としては、炭
素数１〜４のものが好ましく、特に好ましいのはメチル
基である。また、Ｒ2とＲ3とが一緒になって６員環を形
成しているのも好ましい。ハロゲン原子としては、塩素
原子、臭素原子又は沃素原子が好ましい。
原子、ハロゲン原子又はアルキル基を示し、Ｒ2とＲ3と
が一緒になって５員環又は６員環を形成していてもよ
い。〕ここで、Ｒ2およびＲ3のアルキル基としては、炭
素数１〜４のものが好ましく、特に好ましいのはメチル
基である。また、Ｒ2とＲ3とが一緒になって６員環を形
成しているのも好ましい。ハロゲン原子としては、塩素
原子、臭素原子又は沃素原子が好ましい。
【００８０】このマレイミド基の具体例としては、例え
ば、特開昭５２−９８８号（対応米国特許第４，０７
９，０４１号）公報、西独特許第２，６２６，７６９号
明細書、ヨーロッパ特許第２１，０１９号明細書、ヨー
ロッパ特許第３，５５２号明細書やジ・アンゲバンテ・
マクロモレクラエ・ケミ（Die Angewandte Mackromolek
ulare Chemi）１１５（１９８３）の１６３〜１８１ペ
ージ、特開昭４９−１２８９９１号〜同４９−１２８９
９３号、同５０−５３７６号〜同５０−５３８０号、同
５３−５２９８号〜同５３−５３００号、同５０−５０
１０７号、同５１−４７９４０号、同５２−１３９０７
号、同５０−４５０７６号、同５２−１２１７００号、
同５０−１０８８４号、同５０−４５０８７号、同５８
−４３９５１号の各公報、西独特許第２，３４９，９４
８号、同２，６１６，２７６号の各公報に記載されてい
る。
ば、特開昭５２−９８８号（対応米国特許第４，０７
９，０４１号）公報、西独特許第２，６２６，７６９号
明細書、ヨーロッパ特許第２１，０１９号明細書、ヨー
ロッパ特許第３，５５２号明細書やジ・アンゲバンテ・
マクロモレクラエ・ケミ（Die Angewandte Mackromolek
ulare Chemi）１１５（１９８３）の１６３〜１８１ペ
ージ、特開昭４９−１２８９９１号〜同４９−１２８９
９３号、同５０−５３７６号〜同５０−５３８０号、同
５３−５２９８号〜同５３−５３００号、同５０−５０
１０７号、同５１−４７９４０号、同５２−１３９０７
号、同５０−４５０７６号、同５２−１２１７００号、
同５０−１０８８４号、同５０−４５０８７号、同５８
−４３９５１号の各公報、西独特許第２，３４９，９４
８号、同２，６１６，２７６号の各公報に記載されてい
る。
【００８１】本発明では、これらのうち、例えば、下記
の一般式（Ｂ）〜（Ｄ）で表されるモノマーを用いるこ
とができる。
の一般式（Ｂ）〜（Ｄ）で表されるモノマーを用いるこ
とができる。
【００８２】
【化１８】
【００８３】
【化１９】
【００８４】〔式（Ｂ）〜（Ｄ）中、Ｒ2及びＲ3は一般
式（Ａ）のＲ2及びＲ3と同じ意味を有し、Ｒ4は水素原
子またはメチル基を表し、ｎ1、ｎ2及びｎ3は整数を示
し、好ましくは１から６である。〕
式（Ａ）のＲ2及びＲ3と同じ意味を有し、Ｒ4は水素原
子またはメチル基を表し、ｎ1、ｎ2及びｎ3は整数を示
し、好ましくは１から６である。〕
【００８５】なお、光ラジカル重合架橋で使用できるモ
ノマーとしては、付加重合可能な二重結合を含む化合物
であり、詳しくは、末端エチレン性不飽和結合を少なく
とも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任
意に選択することができる。例えばモノマー、プレポリ
マー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、また
はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学
的形態をもつものである。モノマーおよびその共重合体
の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロ
トン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合
物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン
化合物とのアミド等があげられる。
ノマーとしては、付加重合可能な二重結合を含む化合物
であり、詳しくは、末端エチレン性不飽和結合を少なく
とも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任
意に選択することができる。例えばモノマー、プレポリ
マー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、また
はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学
的形態をもつものである。モノマーおよびその共重合体
の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロ
トン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合
物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン
化合物とのアミド等があげられる。
【００８６】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリレ−
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、テトラメチロールメタンテトラ
アクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等
がある。
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリレ−
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、テトラメチロールメタンテトラ
アクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等
がある。
【００８７】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリト−ルペンタメタアクリレ
−ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリト−ルペンタメタアクリレ
−ト、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。
【００８８】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
【００８９】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。
【００９０】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式（Ｅ）で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられ
る。
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式（Ｅ）で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられ
る。
【００９１】 ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ5 ）ＣＯＯＣＨ2 ＣＨ（Ｒ6 ）ＯＨ （Ｅ）
【００９２】（ただし、Ｒ5 およびＲ6 はＨあるいはＣ
Ｈ3 を示す。） また、特開昭５１−３７１９３号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３
号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９
０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートをあげることができる。さらに日本接
着協会誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ
（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものも使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対して５〜７０重量％
（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜５０％であ
る。
Ｈ3 を示す。） また、特開昭５１−３７１９３号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３
号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９
０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートをあげることができる。さらに日本接
着協会誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ
（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものも使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対して５〜７０重量％
（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜５０％であ
る。
【００９３】本発明で用いられる光重合性感光層（組成
物）に含まれる光重合開始剤としては、使用する光源の
波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始
剤、あるいは２種以上の光重合開始剤の併用系（光重合
開始系）を適宜選択して使用することができる。例えば
４００ｎｍ付近の光を光源として用いる場合、ベンジ
ル、ベンゾインエーテル、ミヒラーズケトン、アントラ
キノン、チオキサントン、アクリジン、フェナジン、ベ
ンゾフェノン等が広く使用されている。
物）に含まれる光重合開始剤としては、使用する光源の
波長により、特許、文献等で公知である種々の光開始
剤、あるいは２種以上の光重合開始剤の併用系（光重合
開始系）を適宜選択して使用することができる。例えば
４００ｎｍ付近の光を光源として用いる場合、ベンジ
ル、ベンゾインエーテル、ミヒラーズケトン、アントラ
キノン、チオキサントン、アクリジン、フェナジン、ベ
ンゾフェノン等が広く使用されている。
【００９４】なお、前述の光増感剤としては、EP591786
およびA.Reiser,"Photoreactive polymers" Wiley Inte
rsciennce,(1989)などに記載の光二量化型の増感剤を使
用することができる。以下に、光架橋または熱架橋によ
り得られる結着剤（ポリマー）の例を挙げる。
およびA.Reiser,"Photoreactive polymers" Wiley Inte
rsciennce,(1989)などに記載の光二量化型の増感剤を使
用することができる。以下に、光架橋または熱架橋によ
り得られる結着剤（ポリマー）の例を挙げる。
【００９５】
【化２０】
【００９６】
【化２１】
【００９７】次に本発明で用いる架橋された結着剤（ポ
リマー）の合成例を挙げる。 〔ポリマーＩ−１１の合成〕スチレンスルホン酸−１−
メチル−２−メトキシエチルエステル（０．４モル）、
３−トリメトキシシリルプロピルメタクリル酸（０．１
モル）およびメチルエチルケトン２０３ｇを三口フラス
コに入れ、６５℃窒素気流下アゾビスジメチルバレロニ
トリルを２．４４ｇ添加した。同温度で５時間攪拌した
後、メチルエチルケトンを減圧で留去し、固体を得た。
ＧＰＣ（ポリスチレン標準）により平均分子量２１，０
００のポリマーであることが判った。
リマー）の合成例を挙げる。 〔ポリマーＩ−１１の合成〕スチレンスルホン酸−１−
メチル−２−メトキシエチルエステル（０．４モル）、
３−トリメトキシシリルプロピルメタクリル酸（０．１
モル）およびメチルエチルケトン２０３ｇを三口フラス
コに入れ、６５℃窒素気流下アゾビスジメチルバレロニ
トリルを２．４４ｇ添加した。同温度で５時間攪拌した
後、メチルエチルケトンを減圧で留去し、固体を得た。
ＧＰＣ（ポリスチレン標準）により平均分子量２１，０
００のポリマーであることが判った。
【００９８】〔ポリマーＫＰ−１の合成〕３−トリメト
キシシリルプロピルメタクリル酸に代えて２ーメタクリ
ロイルーオキシエチルイソシアネートを使用した以外
は、前記ポリマーＩ−１１の合成と同様に合成した。
平均分子量は１８，０００であった。
キシシリルプロピルメタクリル酸に代えて２ーメタクリ
ロイルーオキシエチルイソシアネートを使用した以外
は、前記ポリマーＩ−１１の合成と同様に合成した。
平均分子量は１８，０００であった。
【００９９】〔ポリマーＫＰ−７の合成〕スチレンスル
ホン酸−１−メチル−２−メトキシエチルエステル
（０．４モル）、Ｎ−［（３−メタクロイルオキシ）プ
ロピル］ー２，３ージメチルマレイミド（０．１モル）
およびメチルエチルケトン２０３ｇを三口フラスコに入
れ、６５℃窒素気流下アゾビスジメチルバレロニトリル
を２．４４ｇ添加した。同温度で５時間攪拌した後、メ
チルエチルケトンを減圧で留去し、固体を得た。ＧＰＣ
（ポリスチレン標準）により平均分子量２５，０００の
ポリマーであることが判った。
ホン酸−１−メチル−２−メトキシエチルエステル
（０．４モル）、Ｎ−［（３−メタクロイルオキシ）プ
ロピル］ー２，３ージメチルマレイミド（０．１モル）
およびメチルエチルケトン２０３ｇを三口フラスコに入
れ、６５℃窒素気流下アゾビスジメチルバレロニトリル
を２．４４ｇ添加した。同温度で５時間攪拌した後、メ
チルエチルケトンを減圧で留去し、固体を得た。ＧＰＣ
（ポリスチレン標準）により平均分子量２５，０００の
ポリマーであることが判った。
【０１００】〔ポリマーＫＰ−８、９の合成〕Ｎ−
［（３−メタクロイルオキシ）プロピル］ー２，３ージ
メチルマレイミドに代えてＮ−［（６−メタクロイルオ
キシ）ヘキシル］ー２，３ージメチルマレイミドあるい
はアリルメタクリル酸を使用した以外は、前記ポリマー
ＫＰ−７の合成と同様に合成した。なお、ポリマーＫＰ
−８はスチレンスルホン酸エステルとして、スチレンス
ルホン酸シクロヘキシルを使用した。ポリマーＫＰ−８
の平均分子量は５６，０００、ポリマーＫＰ−９の平均
分子量は１９，０００であった。
［（３−メタクロイルオキシ）プロピル］ー２，３ージ
メチルマレイミドに代えてＮ−［（６−メタクロイルオ
キシ）ヘキシル］ー２，３ージメチルマレイミドあるい
はアリルメタクリル酸を使用した以外は、前記ポリマー
ＫＰ−７の合成と同様に合成した。なお、ポリマーＫＰ
−８はスチレンスルホン酸エステルとして、スチレンス
ルホン酸シクロヘキシルを使用した。ポリマーＫＰ−８
の平均分子量は５６，０００、ポリマーＫＰ−９の平均
分子量は１９，０００であった。
【０１０１】〔ポリマーＫＰ−３の合成〕上記のポリマ
ーＫＰ−１をまず合成し、それにモノマーを付加させて
合成する。Ｎ−［（３−メタクロイルオキシ）プロピ
ル］ー２，３ージメチルマレイミドに代えて２ーメタク
リローオキシエチルイソシアネートを使用した以外は、
前記ポリマーＫＰ−７の合成と同様に重合を行った。次
に反応液にアクリル酸（０．１モル）を加え、さらに８
時間加熱攪拌した。反応後、メチルエチルケトンを減圧
で留去し、固体を得た。ＧＰＣ（ポリスチレン標準）に
より平均分子量２３，０００のポリマーであることが判
った。
ーＫＰ−１をまず合成し、それにモノマーを付加させて
合成する。Ｎ−［（３−メタクロイルオキシ）プロピ
ル］ー２，３ージメチルマレイミドに代えて２ーメタク
リローオキシエチルイソシアネートを使用した以外は、
前記ポリマーＫＰ−７の合成と同様に重合を行った。次
に反応液にアクリル酸（０．１モル）を加え、さらに８
時間加熱攪拌した。反応後、メチルエチルケトンを減圧
で留去し、固体を得た。ＧＰＣ（ポリスチレン標準）に
より平均分子量２３，０００のポリマーであることが判
った。
【０１０２】〔ポリマーＫＰ−５の合成〕アクリル酸を
メタアクリル酸に代えた他は上記ポリマーＫＰ−３と同
じ方法にて合成した。平均分子量は２３，０００であっ
た。上記以外の合成したポリマーのＧＰＣ（ポリスチレ
ン標準）による平均分子量は、ポリマーＫＰ−２：３
４，０００、ポリマーＫＰ−４：２２，０００、ポリマ
ーＫＰ−６：３５，０００であった。
メタアクリル酸に代えた他は上記ポリマーＫＰ−３と同
じ方法にて合成した。平均分子量は２３，０００であっ
た。上記以外の合成したポリマーのＧＰＣ（ポリスチレ
ン標準）による平均分子量は、ポリマーＫＰ−２：３
４，０００、ポリマーＫＰ−４：２２，０００、ポリマ
ーＫＰ−６：３５，０００であった。
【０１０３】〔水不溶性粒子〕次に、本発明に使用され
る無機粒子、有機粒子及び金属粒子から選択される少な
くとも１種の水不溶性粒子（以下、単に固体粒子ともい
う）について説明する。固体粒子は、前述の架橋された
結着剤への親和性及び付着性がよく、その保水性を向上
させる粒子が粒状物として好ましい。分散性を改良する
ために表面処理された粒子でもよい。これらの無機粒
子、金属粒子及び有機粒子は適宜組合わせて用いてもよ
い。
る無機粒子、有機粒子及び金属粒子から選択される少な
くとも１種の水不溶性粒子（以下、単に固体粒子ともい
う）について説明する。固体粒子は、前述の架橋された
結着剤への親和性及び付着性がよく、その保水性を向上
させる粒子が粒状物として好ましい。分散性を改良する
ために表面処理された粒子でもよい。これらの無機粒
子、金属粒子及び有機粒子は適宜組合わせて用いてもよ
い。
【０１０４】無機粒子としては、例えば酸化亜鉛、二酸
化チタン、酸化鉄、ジルコニアなどの金属酸化物；無水
ケイ酸、含水ケイ酸カルシウム及び含水ケイ酸アルミニ
ウムなどそれ自体は可視域に吸収を持たないホワイトカ
ーボンとも呼ばれている珪素含有酸化物；クレー、タル
ク、カオリン、ふっ石などの粘土鉱物粒子等が使用でき
る。また金属粒子としては、例えばアルミニウム、銅、
ニッケル、銀、鉄等が使用できる。無機粒子又は金属粒
子は１０μｍ以下、好ましくは０．０１〜１０μｍ、よ
り好ましくは０．１〜５μｍ、更に好ましくは１〜５μ
ｍの平均粒径を有する。無機粒子又は金属粒子の平均粒
径が０．０１μｍを下回るとレーザー照射部分の保水性
が不十分となり、地汚れが生じ易くなる。１０μｍを上
回ると印刷物の解像度が悪くなったり、支持体との接着
性が悪くなったり、表面付近の粒子が取れ易くなったり
する。
化チタン、酸化鉄、ジルコニアなどの金属酸化物；無水
ケイ酸、含水ケイ酸カルシウム及び含水ケイ酸アルミニ
ウムなどそれ自体は可視域に吸収を持たないホワイトカ
ーボンとも呼ばれている珪素含有酸化物；クレー、タル
ク、カオリン、ふっ石などの粘土鉱物粒子等が使用でき
る。また金属粒子としては、例えばアルミニウム、銅、
ニッケル、銀、鉄等が使用できる。無機粒子又は金属粒
子は１０μｍ以下、好ましくは０．０１〜１０μｍ、よ
り好ましくは０．１〜５μｍ、更に好ましくは１〜５μ
ｍの平均粒径を有する。無機粒子又は金属粒子の平均粒
径が０．０１μｍを下回るとレーザー照射部分の保水性
が不十分となり、地汚れが生じ易くなる。１０μｍを上
回ると印刷物の解像度が悪くなったり、支持体との接着
性が悪くなったり、表面付近の粒子が取れ易くなったり
する。
【０１０５】無機粒子又は金属粒子は全組成物を基準に
して１０〜９５体積％、好ましくは２０〜９５体積％、
更に好ましくは４０〜９０体積％の量で記録層中に含有
させる。粒子の含有量が１０体積％を下回ると記録層表
面のレーザー照射部分において保水性が不十分となり、
地汚れが生じ易くなる。９５体積％を上回ると記録層の
強度が低下して耐刷性が低下し、また、支持体と記録層
との接着性が低下する。粒状物として無機粒子又は金属
粒子以外に有機粒子も使用できる。有機粒子は保水性を
高めるものであれば特に限定はしないが粒状物の有機粒
子としては樹脂粒子が使用できる。使用の際に次ぎの注
意を払うことが必要である。樹脂粒子を分散させる際に
溶剤を用いるときはその溶剤に溶解しない樹脂粒子を選
択するか、樹脂粒子を溶解しない溶剤を選択する必要が
ある。また、樹脂粒子を熱可塑性ポリマーと熱により分
散させる際には樹脂粒子が分散させるときの熱により溶
融したり、変形したり、分解しないような物を選択する
必要がある。
して１０〜９５体積％、好ましくは２０〜９５体積％、
更に好ましくは４０〜９０体積％の量で記録層中に含有
させる。粒子の含有量が１０体積％を下回ると記録層表
面のレーザー照射部分において保水性が不十分となり、
地汚れが生じ易くなる。９５体積％を上回ると記録層の
強度が低下して耐刷性が低下し、また、支持体と記録層
との接着性が低下する。粒状物として無機粒子又は金属
粒子以外に有機粒子も使用できる。有機粒子は保水性を
高めるものであれば特に限定はしないが粒状物の有機粒
子としては樹脂粒子が使用できる。使用の際に次ぎの注
意を払うことが必要である。樹脂粒子を分散させる際に
溶剤を用いるときはその溶剤に溶解しない樹脂粒子を選
択するか、樹脂粒子を溶解しない溶剤を選択する必要が
ある。また、樹脂粒子を熱可塑性ポリマーと熱により分
散させる際には樹脂粒子が分散させるときの熱により溶
融したり、変形したり、分解しないような物を選択する
必要がある。
【０１０６】これらの注意点を軽減する物としては架橋
された樹脂粒子が好ましく使用することができる。有機
粒子は０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．０５〜１０
μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍ、更に好ましくは
１〜５μｍの平均粒径を有する。有機粒子の平均粒径が
０．０１μｍを下回るとレーザー照射部分の保水性が不
十分となり、地汚れが生じ易くなる。１０μｍを上回る
と印刷物の解像度がわるくなったり、支持体との接着性
がわるくなったり、表面付近の粒子が取れ易くなったり
する。
された樹脂粒子が好ましく使用することができる。有機
粒子は０．０１〜１０μｍ、好ましくは０．０５〜１０
μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍ、更に好ましくは
１〜５μｍの平均粒径を有する。有機粒子の平均粒径が
０．０１μｍを下回るとレーザー照射部分の保水性が不
十分となり、地汚れが生じ易くなる。１０μｍを上回る
と印刷物の解像度がわるくなったり、支持体との接着性
がわるくなったり、表面付近の粒子が取れ易くなったり
する。
【０１０７】有機粒子は全組成物を基準にして２〜９０
体積％、好ましくは５〜８０体積％、更に好ましくは１
０〜５０体積％の量で記録層中に含有させる。粒子の含
有量が２体積％を下回ると記録層表面のレーザー照射部
分において保水性が不十分となり、地汚れが生じ易くな
る。９０体積％を上回ると記録層の強度が低下して耐刷
性が低下し、また、支持体と記録層との接着性が低下す
る。
体積％、好ましくは５〜８０体積％、更に好ましくは１
０〜５０体積％の量で記録層中に含有させる。粒子の含
有量が２体積％を下回ると記録層表面のレーザー照射部
分において保水性が不十分となり、地汚れが生じ易くな
る。９０体積％を上回ると記録層の強度が低下して耐刷
性が低下し、また、支持体と記録層との接着性が低下す
る。
【０１０８】有機粒子としては、ポリスチレン粒子（粒
径４〜１０μｍ）、シリーコン樹脂粒子（粒径２〜４μ
ｍ）等が挙げられる。架橋された樹脂粒子としては、例
えば、２種以上のエチレン性不飽和モノマーからなるマ
イクロゲル（粒径０．０１〜１μｍ）、スチレンとジビ
ニルベンゼンとからなる架橋樹脂粒子（粒径４〜１０μ
ｍ）、メチルメタクリレートとジエチレングリコールジ
メタクリレートとからなる架橋樹脂粒子（粒径４〜１０
μｍ）等、つまり、アクリル樹脂のマイクロゲル、架橋
ポリスチレン及び架橋メチルメタクリレート等が挙げら
れる。これらは乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、
シード乳化重合法、分散重合法、懸濁重合法などの一般
的な方法で調製される。
径４〜１０μｍ）、シリーコン樹脂粒子（粒径２〜４μ
ｍ）等が挙げられる。架橋された樹脂粒子としては、例
えば、２種以上のエチレン性不飽和モノマーからなるマ
イクロゲル（粒径０．０１〜１μｍ）、スチレンとジビ
ニルベンゼンとからなる架橋樹脂粒子（粒径４〜１０μ
ｍ）、メチルメタクリレートとジエチレングリコールジ
メタクリレートとからなる架橋樹脂粒子（粒径４〜１０
μｍ）等、つまり、アクリル樹脂のマイクロゲル、架橋
ポリスチレン及び架橋メチルメタクリレート等が挙げら
れる。これらは乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、
シード乳化重合法、分散重合法、懸濁重合法などの一般
的な方法で調製される。
【０１０９】また、溶液から無機粒子を調製することも
可能である。例えば、エタノールなどの溶剤中に金属低
級アルコキシドを加え、水および酸もしくはアルカリの
存在下により、該金属を含む無機粒子が得られる。でき
た無機粒子溶液を溶剤可溶の熱可塑性ポリマー溶液に加
えて無機粒子分散溶液をつくることができる。あるいは
金属低級アルコキシドをさきに熱可塑性ポリマー溶液に
加えてから水および酸もしくはアルカリを添加し、該金
属を含む無機粒子を得ることも可能である。熱可塑性ポ
リマーの前駆体溶液に金属低級アルコキシドを添加して
無機粒子を作製する場合はポリマー前駆体を熱により熱
可塑性ポリマーにするときにポリマーと無機の複合体の
ものが得られる。金属低級アルコキシドとしてはテトラ
エトキシシラン、テトラエトキシチタンなどが使用でき
る。
可能である。例えば、エタノールなどの溶剤中に金属低
級アルコキシドを加え、水および酸もしくはアルカリの
存在下により、該金属を含む無機粒子が得られる。でき
た無機粒子溶液を溶剤可溶の熱可塑性ポリマー溶液に加
えて無機粒子分散溶液をつくることができる。あるいは
金属低級アルコキシドをさきに熱可塑性ポリマー溶液に
加えてから水および酸もしくはアルカリを添加し、該金
属を含む無機粒子を得ることも可能である。熱可塑性ポ
リマーの前駆体溶液に金属低級アルコキシドを添加して
無機粒子を作製する場合はポリマー前駆体を熱により熱
可塑性ポリマーにするときにポリマーと無機の複合体の
ものが得られる。金属低級アルコキシドとしてはテトラ
エトキシシラン、テトラエトキシチタンなどが使用でき
る。
【０１１０】［酸発生手段］本発明の輻射線感応性平版
印刷版において、酸発生剤は必ずしも必須ではない。た
だし必要な場合には、酸発生剤として、光または熱の作
用により酸を発生させる公知の化合物を選択して用いる
ことができる。
印刷版において、酸発生剤は必ずしも必須ではない。た
だし必要な場合には、酸発生剤として、光または熱の作
用により酸を発生させる公知の化合物を選択して用いる
ことができる。
【０１１１】たとえば S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.E
ng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(198
0) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６
９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１
４０，１４０号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker
etal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,T
eh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)
、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，
０５６号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello eta
l,Macromolecules,10(6),1307(1977) 、Chem.&Eng.New
s,Nov.28,p31(1988) 、欧州特許第１０４，１４３号、
米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号、
特開平２−１５０，８４８号、特開平２−２９６，５１
４号等に記載のヨードニウム塩、
ng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(198
0) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６
９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１
４０，１４０号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker
etal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,T
eh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)
、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，
０５６号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello eta
l,Macromolecules,10(6),1307(1977) 、Chem.&Eng.New
s,Nov.28,p31(1988) 、欧州特許第１０４，１４３号、
米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号、
特開平２−１５０，８４８号、特開平２−２９６，５１
４号等に記載のヨードニウム塩、
【０１１２】J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73(198
5) 、J.V.Crivello etal.J.Org.Chem.,43,3055(197
8)、W.R.Watt etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,
22,1789(1984) 、J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,1
4,279(1985)、J.V.Crivello etal,Macromolecules,14
(5),1141(1981) 、J.V.Crivello etal,J.Polymer Sci.,
PolymerChem.Ed.,17,2877(1979) 、欧州特許第３７０，
６９３号、米国特許３，９０２，１１４号、欧州特許第
２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４
４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同４１０，
２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３
号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７
号、獨国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，
５８０号、同３，６０４，５８１号等に記載のスルホニ
ウム塩、J.V.Crivello etal,Macromolecules,10(6),130
7(1977) 、J.V.Crivello etal,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed., 17,1047(1979)等に記載のセレノニウム塩、
C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 To
kyo,Oct(1988) 等に記載のアルソニウム塩等のオニウム
塩、
5) 、J.V.Crivello etal.J.Org.Chem.,43,3055(197
8)、W.R.Watt etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,
22,1789(1984) 、J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,1
4,279(1985)、J.V.Crivello etal,Macromolecules,14
(5),1141(1981) 、J.V.Crivello etal,J.Polymer Sci.,
PolymerChem.Ed.,17,2877(1979) 、欧州特許第３７０，
６９３号、米国特許３，９０２，１１４号、欧州特許第
２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４
４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同４１０，
２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３
号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７
号、獨国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，
５８０号、同３，６０４，５８１号等に記載のスルホニ
ウム塩、J.V.Crivello etal,Macromolecules,10(6),130
7(1977) 、J.V.Crivello etal,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed., 17,1047(1979)等に記載のセレノニウム塩、
C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 To
kyo,Oct(1988) 等に記載のアルソニウム塩等のオニウム
塩、
【０１１３】米国特許第３，９０５，８１５号、特公昭
４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭
５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特
開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７
号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４
０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９
８３３９号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier et
al,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.Gill etal,Inor
g.Chem.,19,3007(1980) 、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19
(12),377(1896) 、特開平２−１６１４４５号等に記載
の有機金属／有機ハロゲン化物、
４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭
５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特
開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７
号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４
０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９
８３３９号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier et
al,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.Gill etal,Inor
g.Chem.,19,3007(1980) 、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19
(12),377(1896) 、特開平２−１６１４４５号等に記載
の有機金属／有機ハロゲン化物、
【０１１４】S.Hayase etal,J.Polymer Sci.,25,753(19
87)、E.Reichmanis etal,J.Pholymer Sci.,Polymer Che
m.Ed.,23,1(1985)、 Q.Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,85,
39,317(1987)、 B.Amit etal,Tetrahedron Lett.,(24)22
05(1973)、 D.H.R.Barton etal,J.Chem Soc.,3571(196
5)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Perkin I,1695(197
5)、M.Rudinstein etal,Tetrahedron Lett.,(17),1445(1
975)、J.W.Walker etal,J.Am.Chem.Soc.,110,7170(198
8)、 S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,11(4),191(1
985)、 H.M.Houlihan etal,Macormolecules,21,2001(198
8)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,532
(1972)、S.Hayase etal,Macromolecules,18,1799(1985)、
E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Solid State S
ci.Technol.,130(6)、 F.M.Houlihan etal,Macromolcule
s,21,2001(1988)、欧州特許第０２９０，７５０号、同０
４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５
１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０
１，７１０号、同４，１８１，５３１号、特開昭６０−
１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号等に記載
のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、
87)、E.Reichmanis etal,J.Pholymer Sci.,Polymer Che
m.Ed.,23,1(1985)、 Q.Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,85,
39,317(1987)、 B.Amit etal,Tetrahedron Lett.,(24)22
05(1973)、 D.H.R.Barton etal,J.Chem Soc.,3571(196
5)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Perkin I,1695(197
5)、M.Rudinstein etal,Tetrahedron Lett.,(17),1445(1
975)、J.W.Walker etal,J.Am.Chem.Soc.,110,7170(198
8)、 S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,11(4),191(1
985)、 H.M.Houlihan etal,Macormolecules,21,2001(198
8)、 P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,532
(1972)、S.Hayase etal,Macromolecules,18,1799(1985)、
E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Solid State S
ci.Technol.,130(6)、 F.M.Houlihan etal,Macromolcule
s,21,2001(1988)、欧州特許第０２９０，７５０号、同０
４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５
１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０
１，７１０号、同４，１８１，５３１号、特開昭６０−
１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号等に記載
のｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、
【０１１５】M.TUNOOKA etal,Polymer Preprints Japa
n,35(8)、 G.Berner etal,J.Rad.Curing,13(4)、 W.J.Mij
s etal,Coating Technol.,55(697),45(1983),Akzo、 H.A
dachi etal,Polymer Preprints,Japan,37(3)、欧州特許
第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６
７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、
米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０
５号、同４，４３１，７７４号、特開昭６４−１８１４
３号、特開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１
０９号等に記載のイミノスルフォネート等に代表される
光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−
１６６５４４号等に記載のジスルホン化合物、特開昭５
０−３６２０９号（米国特許第３９６９１１８号）記載
のｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハライ
ド、特開昭５５−６２４４４号（英国特許第２０３８８
０１号）記載あるいは特公平１−１１９３５号記載のｏ
−ナフトキノンジアジド化合物を挙げることができる。
n,35(8)、 G.Berner etal,J.Rad.Curing,13(4)、 W.J.Mij
s etal,Coating Technol.,55(697),45(1983),Akzo、 H.A
dachi etal,Polymer Preprints,Japan,37(3)、欧州特許
第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６
７２号、同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、
米国特許第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０
５号、同４，４３１，７７４号、特開昭６４−１８１４
３号、特開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１
０９号等に記載のイミノスルフォネート等に代表される
光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−
１６６５４４号等に記載のジスルホン化合物、特開昭５
０−３６２０９号（米国特許第３９６９１１８号）記載
のｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハライ
ド、特開昭５５−６２４４４号（英国特許第２０３８８
０１号）記載あるいは特公平１−１１９３５号記載のｏ
−ナフトキノンジアジド化合物を挙げることができる。
【０１１６】その他の酸発生剤としては、シクロヘキシ
ルシトレート、ｐ−アセトアミノベンゼンスルホン酸シ
クロヘキシルエステル、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸
シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステ
ル、本発明者らが先に出願した特開平１０−２８２６７
２号に記載の下記構造式で表されるアルキルスルホン酸
エステル等を用いることができる。
ルシトレート、ｐ−アセトアミノベンゼンスルホン酸シ
クロヘキシルエステル、ｐ−ブロモベンゼンスルホン酸
シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステ
ル、本発明者らが先に出願した特開平１０−２８２６７
２号に記載の下記構造式で表されるアルキルスルホン酸
エステル等を用いることができる。
【０１１７】
【化２２】
【０１１８】これらの酸発生剤の含有量は、輻射線感応
性平版印刷版の感光層全固形分に対して通常０．１〜３
０重量％、より好ましくは１〜１５重量％である。０．
１重量％より少ないと感度が低くなり、３０重量％より
多いと画像強度が落ちる可能性がある。
性平版印刷版の感光層全固形分に対して通常０．１〜３
０重量％、より好ましくは１〜１５重量％である。０．
１重量％より少ないと感度が低くなり、３０重量％より
多いと画像強度が落ちる可能性がある。
【０１１９】［光熱変換物質］本発明の輻射線感応性平
版印刷版を赤外線照射により画像を形成する平版印刷用
原版として用いる場合には、輻射線感応性平版印刷版の
感光層中に光熱変換物質を添加する。本発明において使
用される光熱変換物質としては、紫外線、可視光線、赤
外線、白色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質な
らば全て使用でき、例えば、カーボンブラック、黒鉛粉
末、酸化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、
硫化クロム等が挙げられる。特に好ましいのは、波長７
６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染
料、顔料、または金属である。
版印刷版を赤外線照射により画像を形成する平版印刷用
原版として用いる場合には、輻射線感応性平版印刷版の
感光層中に光熱変換物質を添加する。本発明において使
用される光熱変換物質としては、紫外線、可視光線、赤
外線、白色光線等の光を吸収して熱に変換し得る物質な
らば全て使用でき、例えば、カーボンブラック、黒鉛粉
末、酸化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、
硫化クロム等が挙げられる。特に好ましいのは、波長７
６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染
料、顔料、または金属である。
【０１２０】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、金属チオレート錯体などの染料が挙げられる。好
ましい染料としては例えば特開昭５８−１２５２４６
号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８
２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されている
シアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５
８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に
記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３
号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１
８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２
９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されてい
るナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３
４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができ
る。
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、金属チオレート錯体などの染料が挙げられる。好
ましい染料としては例えば特開昭５８−１２５２４６
号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８
２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されている
シアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５
８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に
記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３
号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１
８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２
９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されてい
るナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許第４３
４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができ
る。
【０１２１】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。
【０１２２】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものはカーボンブラックである。
市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものはカーボンブラックである。
【０１２３】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。
【０１２４】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光性組成物の塗布液中での安
定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると塗
布後の画像記録層の均一性の点で好ましくない。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられる公知の分散技術が使用できる。分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載がある。
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光性組成物の塗布液中での安
定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると塗
布後の画像記録層の均一性の点で好ましくない。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられる公知の分散技術が使用できる。分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載がある。
【０１２５】特殊な赤外線吸収剤の例としては、バイン
ダー中に分散された微細な銀粒子が挙げられる。好まし
い銀微粒子分散物は、撮影用カラー写真感光材料のイエ
ローフィルターに用いられるコロイド銀微粒子や、アン
チハレーション用に用いられる中性色の銀微粒子分散物
である。前者は、ゼラチン、カルボキシメチルセルロー
ズなどのセルローズ誘導体、ポリビニルピロリドンなど
の親水性高分子などの重合物を分散媒として硝酸銀など
の水溶性銀塩を水性媒体中で澱粉、グルコース、ハイド
ロキノン、フォルムアルデヒド、デキストリンなどで還
元して得られる。後者もほぼ同様の方法で得られるが、
還元剤は、ハイドロキノン、ｐ−アミノフェノ−ル誘導
体などをより活性な条件で用いることによって得られ
る。また、その際に１−メルカプトベンゾイミダゾール
や６−ニトロインダゾ−ルなどの色調剤を添加して吸光
度を高めることもできる。また、ハロゲン化銀乳剤粒子
に写真現像液を添加して銀微粒子分散物を得てもよい。
ダー中に分散された微細な銀粒子が挙げられる。好まし
い銀微粒子分散物は、撮影用カラー写真感光材料のイエ
ローフィルターに用いられるコロイド銀微粒子や、アン
チハレーション用に用いられる中性色の銀微粒子分散物
である。前者は、ゼラチン、カルボキシメチルセルロー
ズなどのセルローズ誘導体、ポリビニルピロリドンなど
の親水性高分子などの重合物を分散媒として硝酸銀など
の水溶性銀塩を水性媒体中で澱粉、グルコース、ハイド
ロキノン、フォルムアルデヒド、デキストリンなどで還
元して得られる。後者もほぼ同様の方法で得られるが、
還元剤は、ハイドロキノン、ｐ−アミノフェノ−ル誘導
体などをより活性な条件で用いることによって得られ
る。また、その際に１−メルカプトベンゾイミダゾール
や６−ニトロインダゾ−ルなどの色調剤を添加して吸光
度を高めることもできる。また、ハロゲン化銀乳剤粒子
に写真現像液を添加して銀微粒子分散物を得てもよい。
【０１２６】銀微粒子の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍ
の範囲にあることが好ましく、微細であるほど最大吸光
度は高くなるが、赤外線の分光波長域の吸収が低下する
ので、より好ましい粒径は０．０２〜１μｍである。イ
エローフィルターに用いられるコロイド銀微粒子の粒径
は０．０２〜０．０６μｍであり、アンチハレーション
用の中性色の銀微粒子分散物の粒径は０．０５〜０．２
μｍ、さらにハロゲン化銀乳剤を還元した銀微粒子の粒
径は０．１〜２．０μｍであり、赤外線吸収剤として十
分に機能する。
の範囲にあることが好ましく、微細であるほど最大吸光
度は高くなるが、赤外線の分光波長域の吸収が低下する
ので、より好ましい粒径は０．０２〜１μｍである。イ
エローフィルターに用いられるコロイド銀微粒子の粒径
は０．０２〜０．０６μｍであり、アンチハレーション
用の中性色の銀微粒子分散物の粒径は０．０５〜０．２
μｍ、さらにハロゲン化銀乳剤を還元した銀微粒子の粒
径は０．１〜２．０μｍであり、赤外線吸収剤として十
分に機能する。
【０１２７】これらの染料、顔料あるいは銀微粒子は、
輻射線感応性平版印刷版の感光層の組成物全固形分に対
し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１０重量
％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０重量％、顔
料の場合特に好ましくは１．０〜１０重量％、銀微粒子
の場合特に好ましくは０．２〜３重量％の割合で添加す
ることができる。顔料、染料、銀微粒子などの添加量が
０．０１重量％未満であると感度が低くなり、また５０
重量％を越えると印刷時非画像部に汚れが発生しやす
い。
輻射線感応性平版印刷版の感光層の組成物全固形分に対
し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１０重量
％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０重量％、顔
料の場合特に好ましくは１．０〜１０重量％、銀微粒子
の場合特に好ましくは０．２〜３重量％の割合で添加す
ることができる。顔料、染料、銀微粒子などの添加量が
０．０１重量％未満であると感度が低くなり、また５０
重量％を越えると印刷時非画像部に汚れが発生しやす
い。
【０１２８】［その他の成分］本発明では、以上の成分
が必要に応じて用いられるが、さらに必要に応じてこれ
ら以外に種々の化合物を添加しても良い。例えば、前述
の酸発生剤が可視域にまで感度を持たない場合、可視光
域の光に対して酸発生剤を活性にするために種々の酸発
生剤の増感色素が用いられる。このような増感色素の例
としてはＵＳ５２３８７８２記載のピラン系色素、ＵＳ
４９９７７４５号記載のシアニン色素、およびスクアリ
ュウム系色素、ＵＳ５２６２２７６記載のメロシアニン
系色素、特公平８−２０７３２号記載のピリリュウム色
素、その他、ミヒラーズケトン、チオキサントン、ケト
クマリン色素、９−フェニルアクリジンなどを有効なも
のとして用いることができる。またそのほかにもＵＳ４
９８７２３０記載のビスベンジリデンケトン色素、９，
１０−ジフェニルアントラセンのような多環芳香族化合
物などを用いることができる。
が必要に応じて用いられるが、さらに必要に応じてこれ
ら以外に種々の化合物を添加しても良い。例えば、前述
の酸発生剤が可視域にまで感度を持たない場合、可視光
域の光に対して酸発生剤を活性にするために種々の酸発
生剤の増感色素が用いられる。このような増感色素の例
としてはＵＳ５２３８７８２記載のピラン系色素、ＵＳ
４９９７７４５号記載のシアニン色素、およびスクアリ
ュウム系色素、ＵＳ５２６２２７６記載のメロシアニン
系色素、特公平８−２０７３２号記載のピリリュウム色
素、その他、ミヒラーズケトン、チオキサントン、ケト
クマリン色素、９−フェニルアクリジンなどを有効なも
のとして用いることができる。またそのほかにもＵＳ４
９８７２３０記載のビスベンジリデンケトン色素、９，
１０−ジフェニルアントラセンのような多環芳香族化合
物などを用いることができる。
【０１２９】そのほかの成分としては例えば、可視光域
に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用する
ことができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）
製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２
５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１
４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２００
０）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）など、あるい
は特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５
１４５号に記載されている染料を挙げることができる。
尚、添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形
分に対し、０．０１〜１０重量％の割合である。
に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用する
ことができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）
製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２
５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１
４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２００
０）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）など、あるい
は特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５
１４５号に記載されている染料を挙げることができる。
尚、添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形
分に対し、０．０１〜１０重量％の割合である。
【０１３０】また、本発明の輻射線感応性平版印刷版の
感光層中には、印刷条件に対する安定性を広げるため、
特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５
１４号公報に記載されているような非イオン界面活性
剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３
１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤を
添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例と
しては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノ
パルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等が挙げられる。
感光層中には、印刷条件に対する安定性を広げるため、
特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５
１４号公報に記載されているような非イオン界面活性
剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３
１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤を
添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例と
しては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノ
パルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸
モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテル等が挙げられる。
【０１３１】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商
品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の画
像形成材料全固形物中に占める割合は、０．０５〜１５
重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％で
ある。
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商
品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の画
像形成材料全固形物中に占める割合は、０．０５〜１５
重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％で
ある。
【０１３２】更に本発明の輻射線感応性平版印刷版の感
光層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するため
に可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が
用いられる。
光層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するため
に可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が
用いられる。
【０１３３】本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層
は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上
に塗布することにより製造することができる。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ
エチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに
限定されるものではない。
は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上
に塗布することにより製造することができる。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ
エチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに
限定されるものではない。
【０１３４】これらの溶媒は単独あるいは混合して使用
される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の
濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、
乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、一般
的に０．５〜５．０ｇ／ｍ2が好ましい。塗布する方法
としては、種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の
濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、
乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、一般
的に０．５〜５．０ｇ／ｍ2が好ましい。塗布する方法
としては、種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
【０１３５】本発明の輻射線感応性平版印刷版の感光層
中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特
開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているような
フッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい
添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に
対し、０．０１〜１重量％さらに好ましくは０．０５〜
０．５重量％である。
中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特
開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているような
フッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい
添加量は、輻射線感応性平版印刷版の感光層全固形分に
対し、０．０１〜１重量％さらに好ましくは０．０５〜
０．５重量％である。
【０１３６】本発明の輻射線感応性平版印刷版に使用さ
れる支持体（基板）は、寸度的に安定な板状物であり、
これ迄印刷版の支持体として使用されたものが含まれ、
好適に使用することができる。かかる支持体としては、
紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、アル
ミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸
酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックスのフィルム、上記のような金属がラ
ミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフ
ィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好まし
い。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニ
ウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々
のものが使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなど
の金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組
成物は、いくらかの鉄およびチタン、あるいはその他無
視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
れる支持体（基板）は、寸度的に安定な板状物であり、
これ迄印刷版の支持体として使用されたものが含まれ、
好適に使用することができる。かかる支持体としては、
紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、アル
ミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸
酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックスのフィルム、上記のような金属がラ
ミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフ
ィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好まし
い。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニ
ウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々
のものが使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなど
の金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組
成物は、いくらかの鉄およびチタン、あるいはその他無
視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【０１３７】支持体は、必要に応じて表面処理、例え
ば、支持体の表面に、砂目立てなどの親水化処理、陽極
酸化処理、有機下塗層の塗設が行われる。また、支持体
の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。
かかるバックコートとしては特開平５−４５８８５号公
報記載の有機高分子化合物および特開平６−３５１７４
号公報記載の有機または無機金属化合物を加水分解およ
び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好
ましく用いられる。 これらの被覆層のうち、Ｓi(ＯＣ
Ｈ3)4 、Ｓi(ＯＣ2 Ｈ5)4 、Ｓi(ＯＣ3 Ｈ7)4 、Ｓi(Ｏ
Ｃ4 Ｈ9)4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手
し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が親水性
に優れており特に好ましい。
ば、支持体の表面に、砂目立てなどの親水化処理、陽極
酸化処理、有機下塗層の塗設が行われる。また、支持体
の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。
かかるバックコートとしては特開平５−４５８８５号公
報記載の有機高分子化合物および特開平６−３５１７４
号公報記載の有機または無機金属化合物を加水分解およ
び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好
ましく用いられる。 これらの被覆層のうち、Ｓi(ＯＣ
Ｈ3)4 、Ｓi(ＯＣ2 Ｈ5)4 、Ｓi(ＯＣ3 Ｈ7)4 、Ｓi(Ｏ
Ｃ4 Ｈ9)4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手
し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が親水性
に優れており特に好ましい。
【０１３８】以上のようにして、本発明の輻射線感応性
平版印刷版を作製することができる。この輻射線感応性
平版印刷版は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像
様に感熱記録を施されたり、あるいは、波長７６０ｎｍ
〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザーまたは
半導体レーザーにより画像露光される。本発明において
は、感熱記録後またはレーザー照射後に水現像し、さら
に必要であればガム引きを行ったのち、印刷機に版を装
着し印刷を行う、あるいは、感熱記録後またはレーザー
照射後ただちに印刷機に版を装着し印刷を行う。場合に
よっては感熱記録後またはレーザー照射後に加熱処理を
行ってもよい。加熱処理の条件は、８０°Ｃ〜１５０°
Ｃの範囲内で１０秒〜５分間行うことが好ましい。この
加熱処理により、感熱記録時またはレーザー照射時、記
録に必要な熱またはレーザーエネルギーを減少させるこ
とができる。
平版印刷版を作製することができる。この輻射線感応性
平版印刷版は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像
様に感熱記録を施されたり、あるいは、波長７６０ｎｍ
〜１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザーまたは
半導体レーザーにより画像露光される。本発明において
は、感熱記録後またはレーザー照射後に水現像し、さら
に必要であればガム引きを行ったのち、印刷機に版を装
着し印刷を行う、あるいは、感熱記録後またはレーザー
照射後ただちに印刷機に版を装着し印刷を行う。場合に
よっては感熱記録後またはレーザー照射後に加熱処理を
行ってもよい。加熱処理の条件は、８０°Ｃ〜１５０°
Ｃの範囲内で１０秒〜５分間行うことが好ましい。この
加熱処理により、感熱記録時またはレーザー照射時、記
録に必要な熱またはレーザーエネルギーを減少させるこ
とができる。
【０１３９】この様な処理によって得られた平版印刷版
は水現像されるかあるいはそのままオフセット印刷機等
にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
は水現像されるかあるいはそのままオフセット印刷機等
にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１４０】実施例を示すに先立って、ここで本発明の
一例であるゾルゲル反応により架橋される接着剤を用い
て水不溶性構造体を形成させるいくつかの経路のスキー
ムを下記の模式図を用いて例示しておくこととする。
一例であるゾルゲル反応により架橋される接着剤を用い
て水不溶性構造体を形成させるいくつかの経路のスキー
ムを下記の模式図を用いて例示しておくこととする。
【０１４１】
【化２３】
【０１４２】
【化２４】
【０１４３】模式図において、スキーム１及び２は、化
合物（イ）、（ロ）及び固体粒子（ハ）を同時に介在さ
せて多孔質構造の層を作り上げる例であり、１は固体粒
子（ハ）としてシリカ粒子を用いた場合、２は固体粒子
（ハ）として予め表面修飾したシリカ粒子を用いた場合
である。なお、この模式図においてＲは、単にそれぞれ
の化合物や固体への修飾基などの置換基を意味するもの
であり、各Ｒは、それぞれ異なる場合もある。スキーム
３及び４は、シリカ粒子へあらかじめシランカップリン
グ剤（化合物（ロ））を作用させてから、さらに異なっ
てもよい化合物（ロ）を加えて多孔質構造への反応を行
う例で、３では重合性のモノマーが粒子表面に修飾され
る。５においては、乳化又は分散共重合によって有機ポ
リマー粒子がまず形成される。
合物（イ）、（ロ）及び固体粒子（ハ）を同時に介在さ
せて多孔質構造の層を作り上げる例であり、１は固体粒
子（ハ）としてシリカ粒子を用いた場合、２は固体粒子
（ハ）として予め表面修飾したシリカ粒子を用いた場合
である。なお、この模式図においてＲは、単にそれぞれ
の化合物や固体への修飾基などの置換基を意味するもの
であり、各Ｒは、それぞれ異なる場合もある。スキーム
３及び４は、シリカ粒子へあらかじめシランカップリン
グ剤（化合物（ロ））を作用させてから、さらに異なっ
てもよい化合物（ロ）を加えて多孔質構造への反応を行
う例で、３では重合性のモノマーが粒子表面に修飾され
る。５においては、乳化又は分散共重合によって有機ポ
リマー粒子がまず形成される。
【０１４４】より詳しくは、スキーム３では、化合物
（ロ）のシランカップリング剤を用い重合性基を有する
粒子表面を作成し、その後、感応性基を有する化合物と
反応性感応基を有する粒子を作成、その後化合物（ロ）
を用いて、多孔質を作る。スキーム４では、シランカッ
プリング剤を用い直接感応性粒子を作成し、その後化合
物（ロ）を用いて多孔質とする。本発明は以上のいずれ
の態様をとることもできるが、これらに限定されるもの
でもない。また、図１は２種の上記構造体を支持体表面
に有する本発明の輻射線感応性平版印刷版の表面の電子
顕微鏡写真である。
（ロ）のシランカップリング剤を用い重合性基を有する
粒子表面を作成し、その後、感応性基を有する化合物と
反応性感応基を有する粒子を作成、その後化合物（ロ）
を用いて、多孔質を作る。スキーム４では、シランカッ
プリング剤を用い直接感応性粒子を作成し、その後化合
物（ロ）を用いて多孔質とする。本発明は以上のいずれ
の態様をとることもできるが、これらに限定されるもの
でもない。また、図１は２種の上記構造体を支持体表面
に有する本発明の輻射線感応性平版印刷版の表面の電子
顕微鏡写真である。
【０１４５】
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 〔実施例１〜４〕実施例１〜４では、それぞれ例示化合
物のポリマーを下記表のように選んでその０．４ｇ、テ
トラエトキシシラン（架橋剤）０．４ｇ、ＩＲＧ２２
（赤外線吸収染料、日本化薬製）４０mg、およびメチル
エチルケトン１．６ｇから成る液に、５０％リン酸水溶
液４０mgを加えて１０分間攪拌した。その後、この分散
液に、さらにガラスビーズを用いペイントシェイカーで
分散したシリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５、
富士シリシア化学社製、コールカウンター法による測定
で求めた粒径が３．５μ）の１０％メチルエチルケトン
分散液４ｇを加えて塗布液とし、ロッドバー＃２０を用
いて表面をコロナ帯電処理したＰＥＴ基板に塗布した。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 〔実施例１〜４〕実施例１〜４では、それぞれ例示化合
物のポリマーを下記表のように選んでその０．４ｇ、テ
トラエトキシシラン（架橋剤）０．４ｇ、ＩＲＧ２２
（赤外線吸収染料、日本化薬製）４０mg、およびメチル
エチルケトン１．６ｇから成る液に、５０％リン酸水溶
液４０mgを加えて１０分間攪拌した。その後、この分散
液に、さらにガラスビーズを用いペイントシェイカーで
分散したシリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５、
富士シリシア化学社製、コールカウンター法による測定
で求めた粒径が３．５μ）の１０％メチルエチルケトン
分散液４ｇを加えて塗布液とし、ロッドバー＃２０を用
いて表面をコロナ帯電処理したＰＥＴ基板に塗布した。
【０１４６】得られた感熱性印刷原版にPearl setter
(Presstek社製、発振波長が９０８nmの赤外線レーザ、
出力１．２ｗ）を用いて主走査速度２m/sec で画像露光
を行った後、１２時間室温放置後なんら後処理すること
なく印刷機にかけ印刷を行った。印刷機としてはRyoubi
3200 を、また湿し水にはＥＵ−３の１：１００希釈液
を、インキにはインキＦグロス墨を用いた。使用した４
種の例示化合物のいずれについても１０００枚印刷して
も汚れのない鮮明な印刷物が得られた。
(Presstek社製、発振波長が９０８nmの赤外線レーザ、
出力１．２ｗ）を用いて主走査速度２m/sec で画像露光
を行った後、１２時間室温放置後なんら後処理すること
なく印刷機にかけ印刷を行った。印刷機としてはRyoubi
3200 を、また湿し水にはＥＵ−３の１：１００希釈液
を、インキにはインキＦグロス墨を用いた。使用した４
種の例示化合物のいずれについても１０００枚印刷して
も汚れのない鮮明な印刷物が得られた。
【０１４７】
【０１４８】〔比較例１〜４〕実施例１〜４のそれぞれ
に対して、比較例１〜４として、シリカゲル粒子を添加
しなかった以外はそれぞれ実施例１〜４と同様に感材を
作成し印刷を行った。１〜４のいずれも、印刷物は印刷
開始後１００枚程度は汚れなかったが、１０００枚する
とすでに汚れが生じた。
に対して、比較例１〜４として、シリカゲル粒子を添加
しなかった以外はそれぞれ実施例１〜４と同様に感材を
作成し印刷を行った。１〜４のいずれも、印刷物は印刷
開始後１００枚程度は汚れなかったが、１０００枚する
とすでに汚れが生じた。
【０１４９】〔実施例５−８〕例示化合物のポリマーＩ
−１１の０．４ｇ、テトラエトキシシラン（架橋剤）
０．４ｇ、ＩＲＧ２２（ＩＲ染料、日本化薬製）４０m
g、およびメチルエチルケトン１．６ｇから成る液に、
５０％リン酸水溶液４０mgを添加して、１０分間攪拌し
た。その後、この分散液にガラスビーズを用いペイント
シェイカーで分散した下記表の粒子（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）
の１０％メチルエチルケトン分散液４ｇを加えてと塗布
液とし、ロッドバー＃２０を用いてコロナ帯電処理した
ＰＥＴ基板に塗布した。得られた感熱性印刷版を実施例
１−４と同様に露光し現像することなく印刷を行った。
１０００枚印刷を行った結果を以下に示す。
−１１の０．４ｇ、テトラエトキシシラン（架橋剤）
０．４ｇ、ＩＲＧ２２（ＩＲ染料、日本化薬製）４０m
g、およびメチルエチルケトン１．６ｇから成る液に、
５０％リン酸水溶液４０mgを添加して、１０分間攪拌し
た。その後、この分散液にガラスビーズを用いペイント
シェイカーで分散した下記表の粒子（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）
の１０％メチルエチルケトン分散液４ｇを加えてと塗布
液とし、ロッドバー＃２０を用いてコロナ帯電処理した
ＰＥＴ基板に塗布した。得られた感熱性印刷版を実施例
１−４と同様に露光し現像することなく印刷を行った。
１０００枚印刷を行った結果を以下に示す。
【０１５０】
【０１５１】〔比較例５〜８〕比較例５〜８では、実施
例５〜８においてテトラエトキシシランと粒子を添加し
なかった以外は実施例５〜８と同様に感材を作成し印刷
を行った。印刷開始後５００枚程度の汚れのない印刷物
が得られたが、その後感材の基板からの膜が生じ、印刷
不能となった。
例５〜８においてテトラエトキシシランと粒子を添加し
なかった以外は実施例５〜８と同様に感材を作成し印刷
を行った。印刷開始後５００枚程度の汚れのない印刷物
が得られたが、その後感材の基板からの膜が生じ、印刷
不能となった。
【０１５２】〔実施例９、１０及び比較例９、１０〕 ［支持体の作製］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄し
た。この板を４５°Ｃの２５％水酸化ナトリウム水溶液
に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更に２％Ｈ
ＮＯ 3 に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て
表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2 であった。次にこの
板を７％Ｈ2 ＳＯ4 を電解液として電流密度１５Ａ／ｄ
ｍ2 で２. ４ｇ／ｍ2 の直流陽極酸化皮膜を設けた後、
水洗乾燥した。
（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄し
た。この板を４５°Ｃの２５％水酸化ナトリウム水溶液
に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、更に２％Ｈ
ＮＯ 3 に２０秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て
表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ2 であった。次にこの
板を７％Ｈ2 ＳＯ4 を電解液として電流密度１５Ａ／ｄ
ｍ2 で２. ４ｇ／ｍ2 の直流陽極酸化皮膜を設けた後、
水洗乾燥した。
【０１５３】［画像形成材料の塗布液の調製］テトラエ
トキシシラン４ｇとメチルエチルケトン１０ｇを反応容
器に入れた後、１．４ｇの０．０５Ｎ塩酸を添加し３０
分間激しく撹拌し、部分加水分解重合させて均一溶液の
無機成分を得た。この溶液のそれぞれに下記成分を加え
溶解し、実施例９および１０用の塗布液を得た。
トキシシラン４ｇとメチルエチルケトン１０ｇを反応容
器に入れた後、１．４ｇの０．０５Ｎ塩酸を添加し３０
分間激しく撹拌し、部分加水分解重合させて均一溶液の
無機成分を得た。この溶液のそれぞれに下記成分を加え
溶解し、実施例９および１０用の塗布液を得た。
【０１５４】 ・例示化合物Ｉ−１１又はＩ−１８ ３ ｇ ・赤外線吸収剤ＩＲ１２５（和光純薬製） ０．１５ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ ・γ−ブチロラクトン ６ ｇ ・シリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５） １０％メチルエチルケトン分散液 ４０ ｇ
【０１５５】さらに、比較例として、シリカゲル粒子を
添加しなかったこと以外は実施例９および１０用の塗布
液と同様にして比較例９及び１０用の塗布液を得た。
添加しなかったこと以外は実施例９および１０用の塗布
液と同様にして比較例９及び１０用の塗布液を得た。
【０１５６】［平版印刷用原版の作製］次に得られた塗
布液を上記支持体上に塗布し、８０°Ｃで３分間乾燥し
て実施例９、１０及び比較例９、１０の平版印刷用原版
を得た。乾燥後の塗膜の被覆重量は各々１．０ｇ／ｍ2
であった。なお、各平版印刷用原版の露光前後の空中水
滴接触角の値を下記表１に示す。この空中水滴接触角
は、協和界面化学（株）製ＣＯＮＴＡＣＴ ＡＮＧＬＥ
ＭＥＴＥＲ ＣＡ−Ｚを用いて測定した。
布液を上記支持体上に塗布し、８０°Ｃで３分間乾燥し
て実施例９、１０及び比較例９、１０の平版印刷用原版
を得た。乾燥後の塗膜の被覆重量は各々１．０ｇ／ｍ2
であった。なお、各平版印刷用原版の露光前後の空中水
滴接触角の値を下記表１に示す。この空中水滴接触角
は、協和界面化学（株）製ＣＯＮＴＡＣＴ ＡＮＧＬＥ
ＭＥＴＥＲ ＣＡ−Ｚを用いて測定した。
【０１５７】［印刷試験］得られた４通りの平版印刷用
原版を、波長１０６４ｎｍの赤外線を発するＹＡＧレー
ザーで像様露光した。露光後の平版印刷用原版をそのま
ま印刷機をハリス、インキをグロス墨（ＤＩＣ社製）、
湿し水を１０％ＩＰＡ（イソプロパノール）含有水によ
って印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生
しているかどうかを観察した。いずれも初期においては
非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。また、
多数枚の印刷を行い、非画像部に汚れが発生することな
く印刷することができた印刷物の枚数を確認し、これを
耐刷枚数とした。得られた結果を下記表１に示す。この
表から支持体を陽極酸化アルミニウム板に代えた試験で
も、固体粒子を含有させた本発明の構成の感光性組成物
を用いた印刷原版は、固体粒子を含まない比較例よりも
明らかに画像部と非画像部の接触角の差が増大し、耐刷
性も向上した。さらに室温放置後の汚れ性も良好であっ
た。
原版を、波長１０６４ｎｍの赤外線を発するＹＡＧレー
ザーで像様露光した。露光後の平版印刷用原版をそのま
ま印刷機をハリス、インキをグロス墨（ＤＩＣ社製）、
湿し水を１０％ＩＰＡ（イソプロパノール）含有水によ
って印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生
しているかどうかを観察した。いずれも初期においては
非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。また、
多数枚の印刷を行い、非画像部に汚れが発生することな
く印刷することができた印刷物の枚数を確認し、これを
耐刷枚数とした。得られた結果を下記表１に示す。この
表から支持体を陽極酸化アルミニウム板に代えた試験で
も、固体粒子を含有させた本発明の構成の感光性組成物
を用いた印刷原版は、固体粒子を含まない比較例よりも
明らかに画像部と非画像部の接触角の差が増大し、耐刷
性も向上した。さらに室温放置後の汚れ性も良好であっ
た。
【０１５８】
【表１】
【０１５９】 〔実施例１１〜１２〕 ・例示化合物Ｉ−９またはＩ−１０ ３ ｇ ・テトラメトキシシラン １ ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ
【０１６０】上記組成からなる溶液中に、水／８５％リ
ン酸（１／１重量比混合液）０．３ｇを添加し、室温で
１時間反応させた。次にこの溶液に
ン酸（１／１重量比混合液）０．３ｇを添加し、室温で
１時間反応させた。次にこの溶液に
【０１６１】 ・酸発生剤：４−［４−｛（Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノ｝ −２−クロロ−フェニル］−２，６−ビス−トリクロ ロメチル−Ｓ−トリアジン ０．１５ｇ ・メチルエチルケトン ９ ｇ ・γ−ブチロラクトン ６ ｇ ・シリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５） １０％メチルエチルケトン分散液 ４ ｇ
【０１６２】を添加し、撹拌混合して、均一な実施例１
１および１２用の塗布液を得た。得られた塗布液を、実
施例９で得られた支持体と同じ支持体に、実施例９と同
様の方法でそれぞれ塗布して、平版印刷用原版を得た。
乾燥後の塗膜の被覆重量は各々１．０ｇ／ｍ2 であっ
た。なお、各平版印刷用原版の露光前後の空中水滴接触
角の値を下記表２に示す。この空中水滴接触角の測定装
置は、実施例９と同様である。得られた４種の平版印刷
用原版を、メタルハライドランプを光源とするＰＳ版の
露光機を用いて像様に紫外線露光した。露光後の平版印
刷用原版を１００°Ｃ３分間加熱処理した後、実施例１
と同様の方法で多数枚の印刷および評価を行った。得ら
れた結果を下記表２に示す。実施例１〜１０と同様の効
果が得られた。
１および１２用の塗布液を得た。得られた塗布液を、実
施例９で得られた支持体と同じ支持体に、実施例９と同
様の方法でそれぞれ塗布して、平版印刷用原版を得た。
乾燥後の塗膜の被覆重量は各々１．０ｇ／ｍ2 であっ
た。なお、各平版印刷用原版の露光前後の空中水滴接触
角の値を下記表２に示す。この空中水滴接触角の測定装
置は、実施例９と同様である。得られた４種の平版印刷
用原版を、メタルハライドランプを光源とするＰＳ版の
露光機を用いて像様に紫外線露光した。露光後の平版印
刷用原版を１００°Ｃ３分間加熱処理した後、実施例１
と同様の方法で多数枚の印刷および評価を行った。得ら
れた結果を下記表２に示す。実施例１〜１０と同様の効
果が得られた。
【０１６３】
【表２】
【０１６４】〔実施例１３〕赤外線染料ＩＲＧ２２を加
えず、スルホン酸発生高分子化合物としては具体例化合
物（Ｉ）−１１を使用した以外は、実施例１と同じ方法
で作製した感光材料をワードプロセサー（シャープ
（株）製、書院）を用いてサーマルヘッドで印字を行
い、実施例１と同じ印刷機を用いて印刷して評価を行っ
た。１０００枚印刷を行っても印刷物に汚れが生じなか
った。
えず、スルホン酸発生高分子化合物としては具体例化合
物（Ｉ）−１１を使用した以外は、実施例１と同じ方法
で作製した感光材料をワードプロセサー（シャープ
（株）製、書院）を用いてサーマルヘッドで印字を行
い、実施例１と同じ印刷機を用いて印刷して評価を行っ
た。１０００枚印刷を行っても印刷物に汚れが生じなか
った。
【０１６５】〔実施例１４〜１７〕下記表に示す成分の
分散液を作成し、この分散液に、実施例１と同様に、さ
らにガラスビーズを用いペイントシェイカーで分散した
シリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５、富士シリ
シア化学社製、コールカウンター法による測定で求めた
粒径が３．５μ）の１０％メチルエチルケトン分散液４
ｇを加えて塗布液とし、ロッドバー＃２０を用いて表面
をコロナ帯電処理したＰＥＴ基板に塗布した。次に、こ
の塗布物にＵＶ露光（メタハライド使用、１０００カウ
ント）して光架橋した感光層を有する平版印刷用原版を
得た。
分散液を作成し、この分散液に、実施例１と同様に、さ
らにガラスビーズを用いペイントシェイカーで分散した
シリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５、富士シリ
シア化学社製、コールカウンター法による測定で求めた
粒径が３．５μ）の１０％メチルエチルケトン分散液４
ｇを加えて塗布液とし、ロッドバー＃２０を用いて表面
をコロナ帯電処理したＰＥＴ基板に塗布した。次に、こ
の塗布物にＵＶ露光（メタハライド使用、１０００カウ
ント）して光架橋した感光層を有する平版印刷用原版を
得た。
【０１６６】 〔実施例〕 使用 添加 増感剤 光熱変換 塗布溶媒 ポリマー モノマー (重合開始剤) 材料 １４ KP-7 0.4g なし 下記式(I)0.04g IRG22 0.04g MEK 1.6g １５ KP-9 0.4g なし 下記式(I)0.04g IRG22 0.04g MEK 1.6g １６ KP-3 0.4g ATMMT 0.2g DMAB 0.04g IRG22 0.04g MEK 1.6g １７ KP-8 0.4g ATMMT 0.2g DMAB 0.04g IRG22 0.04g MEK 1.6g （註）ＭＥＫ ：メチルエチルケトン ＡＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート ＤＭＡＢ ：4,4'ジメチルアミノベンゾフェノン
【０１６７】
【化２５】
【０１６８】実施例１と同様に、得られた平版印刷用原
版にPearl setter (Presstek社製、発振波長が９０８nm
の赤外線レーザ、出力１．２ｗ）を用いて主走査速度２
m/sec で画像露光を行った後、１２時間室温放置後なん
ら後処理することなく印刷機にかけ印刷を行った。印刷
機としてはRyoubi 3200 を、また湿し水にはＥＵ−３の
１：１００希釈液を、インキにはインキＦグロス墨を用
いた。使用した４種の例示化合物のいずれについても１
０００枚印刷しても汚れのない鮮明な印刷物が得られ
た。
版にPearl setter (Presstek社製、発振波長が９０８nm
の赤外線レーザ、出力１．２ｗ）を用いて主走査速度２
m/sec で画像露光を行った後、１２時間室温放置後なん
ら後処理することなく印刷機にかけ印刷を行った。印刷
機としてはRyoubi 3200 を、また湿し水にはＥＵ−３の
１：１００希釈液を、インキにはインキＦグロス墨を用
いた。使用した４種の例示化合物のいずれについても１
０００枚印刷しても汚れのない鮮明な印刷物が得られ
た。
【０１６９】 〔実施例〕〔具体例の化合物〕〔汚れ〕 １４ ＫＰ−７ なし １５ ＫＰ−９ なし １６ ＫＰ−３ なし １７ ＫＰ−８ なし
【０１７０】〔実施例１８〜２１〕下記表に示す成分の
分散液を作成し、この分散液に、実施例１と同様に、さ
らにガラスビーズを用いペイントシェイカーで分散した
シリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５、富士シリ
シア化学社製、コールカウンター法による測定で求めた
粒径が３．５μ）の１０％メチルエチルケトン分散液４
ｇを加えて塗布液とし、ロッドバー＃２０を用いて表面
をコロナ帯電処理したＰＥＴ基板に塗布した。次に、こ
の塗布物に１００℃、１０分の加熱を行い、熱架橋した
感光層を有する平版印刷用原版を得た。
分散液を作成し、この分散液に、実施例１と同様に、さ
らにガラスビーズを用いペイントシェイカーで分散した
シリカゲル粒子（商品名サイリシア＃４４５、富士シリ
シア化学社製、コールカウンター法による測定で求めた
粒径が３．５μ）の１０％メチルエチルケトン分散液４
ｇを加えて塗布液とし、ロッドバー＃２０を用いて表面
をコロナ帯電処理したＰＥＴ基板に塗布した。次に、こ
の塗布物に１００℃、１０分の加熱を行い、熱架橋した
感光層を有する平版印刷用原版を得た。
【０１７１】 〔実施例〕 使用 添加 増感剤 光熱変換 塗布溶媒 ポリマー モノマー (重合開始剤) 材料 １８ KP-1 0.4g なし DMAB 0.04g IRG22 0.04g MEK 1.6g １９ KP-4 0.4g なし DMAB 0.04g IRG22 0.04g MEK 1.6g ２０ KP-2 0.4g なし FA IRG22 0.04g MEK 1.6g ２１ KP-6 0.4g なし FA IRG22 0.04g MEK 1.6g （註）ＤＢＴ：ジブチル錫ラウリン酸 ＦＡ ：無水フタル酸 0.005g、オルトクロロフェノール 0.001g
【０１７２】実施例１と同様に、得られた平版印刷用原
版にPearl setter (Presstek社製、発振波長が９０８nm
の赤外線レーザ、出力１．２ｗ）を用いて主走査速度２
m/sec で画像露光を行った後、１２時間室温放置後なん
ら後処理することなく印刷機にかけ印刷を行った。印刷
機としてはRyoubi 3200 を、また湿し水にはＥＵ−３の
１：１００希釈液を、インキにはインキＦグロス墨を用
いた。使用した４種の例示化合物のいずれについても１
０００枚印刷しても汚れのない鮮明な印刷物が得られ
た。
版にPearl setter (Presstek社製、発振波長が９０８nm
の赤外線レーザ、出力１．２ｗ）を用いて主走査速度２
m/sec で画像露光を行った後、１２時間室温放置後なん
ら後処理することなく印刷機にかけ印刷を行った。印刷
機としてはRyoubi 3200 を、また湿し水にはＥＵ−３の
１：１００希釈液を、インキにはインキＦグロス墨を用
いた。使用した４種の例示化合物のいずれについても１
０００枚印刷しても汚れのない鮮明な印刷物が得られ
た。
【０１７３】 〔実施例〕〔具体例の化合物〕〔汚れ〕 １８ ＫＰ−１ なし １９ ＫＰ−４ なし ２０ ＫＰ−２ なし ２１ ＫＰ−６ なし
【０１７４】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、画像書き
込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な処理を必要と
しない、しかも地汚れの少ない、輻射線感応性平版印刷
版を提供することができる。特に、本発明によれば、赤
外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザ等を用い
て記録することにより、ディジタルデータから直接製版
可能である輻射線感応性平版印刷版を提供することがで
きる。また、輻射線のみでなく、各種の感熱ヘッド（感
熱プリンターや感熱ファクシミリ）を用いて印刷するこ
ともできる。本発明によれば、耐刷性に優れ、さらに室
温放置後の汚れ性が良好な輻射線感応性平版印刷版を提
供することができる。
込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な処理を必要と
しない、しかも地汚れの少ない、輻射線感応性平版印刷
版を提供することができる。特に、本発明によれば、赤
外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザ等を用い
て記録することにより、ディジタルデータから直接製版
可能である輻射線感応性平版印刷版を提供することがで
きる。また、輻射線のみでなく、各種の感熱ヘッド（感
熱プリンターや感熱ファクシミリ）を用いて印刷するこ
ともできる。本発明によれば、耐刷性に優れ、さらに室
温放置後の汚れ性が良好な輻射線感応性平版印刷版を提
供することができる。
【図１】本発明の輻射線感応性平版印刷版の表面の電子
顕微鏡写真である。
顕微鏡写真である。
Claims (10)
- 【請求項１】 水不溶性粒子とその表面を覆う結着剤と
よりなる構造体を支持体上に設けた輻射線感応性平版印
刷版であって、上記結着剤が架橋されており、かつ少な
くとも輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱
により発生した酸の作用により親水性が変化するもので
あることを特徴とする輻射線感応性平版印刷版。 - 【請求項２】 前記構造体が前記結着剤で覆われた粒子
の間に空隙が存在するものであることを特徴とする請求
項１記載の輻射線感応性平版印刷版。 - 【請求項３】 前記親水性の変化により前記空隙の間に
存在しうる水の量が変化するものであることを特徴とす
る請求項２記載の輻射線感応性平版印刷版。 - 【請求項４】 前記各粒子が前記結着剤を通して部分的
に結着したものであることを特徴とする請求項１記載の
輻射線感応性平版印刷版。 - 【請求項５】 前記結着剤が、（イ）（ａ）少なくとも
輻射線もしくは熱の作用または輻射線もしくは熱により
発生した酸の作用により親水性が変化する官能基並びに
（ｂ’）下記一般式（１）の化合物およびその加水分解
生成物の少なくともいずれかと反応する官能基を同一分
子内に有する化合物と、（ロ）下記一般式（１）で表さ
れる加水分解重合性化合物との反応生成物を含有するも
のであることを特徴とする請求項１記載の輻射線感応性
平版印刷版。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。 - 【請求項６】 前記結着剤が、（イ）スルホン酸エステ
ル基およびアルコキシアルキルエステル基から選ばれる
少なくとも１つの官能基と、−ＯＨ、−ＮＨ 2 、−ＣＯ
ＯＨ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ3 、−Ｓｉ（ＯＲ4 ）3 ［式中
Ｒ3 およびＲ 4 はアルキル基またはアリール基を表し、
これら官能基を有する化合物中にＲ3およびＲ4 の双方
が存在する場合には、これらは同じであっても異なって
いてもよい。］から選ばれる少なくとも１つの官能基と
を同一分子内に有する化合物と、（ロ）一般式（１）で
表される加水分解重合性化合物との反応生成物を含有す
るものであることを特徴とする請求項１記載の輻射線感
応性平版印刷版。 （Ｒ1 ）n −Ｘ−（ＯＲ2 ）4-n （１） 式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一であっても異なっていても
よく、アルキル基またはアリール基を表し、ＸはＳｉ、
Ａｌ、ＴｉまたはＺｒを表し、ｎは０，１又は２を表
す。 - 【請求項７】 請求項１〜４記載の結着剤が光架橋反応
により得られたものを含有するものであることを特徴と
する請求項１記載の輻射線感応性平版印刷版。 - 【請求項８】 請求項１〜４記載の結着剤が熱架橋反応
により得られたものを含有するものであることを特徴と
する請求項１記載の輻射線感応性平版印刷版。 - 【請求項９】 親水性の変化が疎水性から親水性への変
化であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記
載の輻射線感応性平版印刷版。 - 【請求項１０】 疎水性から親水性への変化がスルホン
酸エステル基またはアルコキシアルキルエステル基によ
るものであることを特徴とする請求項９記載の輻射線感
応性平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3637899A JP4338251B2 (ja) | 1998-02-25 | 1999-02-15 | 輻射線感応性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-43921 | 1998-02-25 | ||
| JP4392198 | 1998-02-25 | ||
| JP3637899A JP4338251B2 (ja) | 1998-02-25 | 1999-02-15 | 輻射線感応性平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11309953A true JPH11309953A (ja) | 1999-11-09 |
| JP4338251B2 JP4338251B2 (ja) | 2009-10-07 |
Family
ID=26375420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3637899A Expired - Fee Related JP4338251B2 (ja) | 1998-02-25 | 1999-02-15 | 輻射線感応性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4338251B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002287339A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-10-03 | Kansai Research Institute | 活性成分及びそれを用いた感光性樹脂組成物 |
-
1999
- 1999-02-15 JP JP3637899A patent/JP4338251B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002287339A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-10-03 | Kansai Research Institute | 活性成分及びそれを用いた感光性樹脂組成物 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4338251B2 (ja) | 2009-10-07 |
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