JPH11307987A - 電磁波フィルタ - Google Patents

電磁波フィルタ

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JPH11307987A
JPH11307987A JP10106610A JP10661098A JPH11307987A JP H11307987 A JPH11307987 A JP H11307987A JP 10106610 A JP10106610 A JP 10106610A JP 10661098 A JP10661098 A JP 10661098A JP H11307987 A JPH11307987 A JP H11307987A
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wave filter
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Toshiaki Anzaki
俊明 安崎
Etsuo Ogino
悦男 荻野
Teruo Kunisada
照男 國定
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラズマディスプレイパネルが画像を表示し
ているとき、プラズマ放電により放射される近赤外線に
より、パネル周辺にある電気製品のリモコンスイッチが
誤動作をするという現象が発生していた。この誤動作を
防止させるために、プラズマディスプレイパネル前面に
設けられる電磁波フイルタとして、誤動作を確実に防止
する近赤外線域の波長を効率よく遮断し、かつ、光透過
性が高いものはなかった。 【解決手段】 ガラス基板上に、屈折率が１．６〜２．
８の誘電体層と０．１原子％以上０．５原子％未満のパ
ラジウムを含有する銀層とを、この順に交互に積層した
７層の積層体からなる電磁波遮断膜を被覆し、電磁波遮
断膜の銀層の厚みを５〜２５ｎｍ、シート抵抗を３Ω／
□以下とすることにより、波長８５０ｎｍにおける近赤
外線透過率を２０％以下とする。そしてこの電磁波遮断
膜にＰＥＴフイルムを粘着材により貼り付ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの前面に設置してプラズマ放電により放出さ
れる電磁波をカットするのに好適に用いられる電磁波フ
ィルタに関し、本来の電磁波遮断性とともに高い可視光
線透過率と低い近赤外透過率を併せ有し、かつ実用に耐
える耐久性を有する電磁波フィルタに関する。また本発
明は、陰極線管（ＣＲＴ）やフィールドエミッションデ
ィスプレイ（ＦＥＤ）が放出する電磁波をカットするの
に用いることもできる。
【０００２】
【従来の技術】ガラス板の如き透明基板の主表面上に電
磁波遮断膜が被覆された可視域で透明な電磁波フィルタ
としては、基板側から誘電体層と金属層とがこの順に交
互に積層された電磁波フィルタが知られている。この目
的のために用いられる電磁波遮蔽膜は、電磁波の遮蔽を
行うために導電性の（小さい面積抵抗を有する）物質を
基板上に塗布あるいは被覆したものが用いられ、高い可
視光線透過率を確保しながら低い抵抗を有する導電体層
として、透明金属酸化物で例示できる誘電体薄膜層と銀
の薄膜層との積層体が知られている。
【０００３】特開平５−４２６２４号公報には、銀層を
誘電体層ではさんだ構造の熱線遮断膜が被覆されたガラ
ス板が開示されており、銀層を保護する誘電体層として
酸化亜鉛層と酸化錫層の２層以上の積層体を用いたもの
が開示され、この熱線遮断膜は、窓や電子部品に用いら
れて電磁波遮断膜として使用できることが記載されてい
る。
【０００４】特開平９−８５８９３号公報のガラス板上
に被覆されている積層体は、金属層としてパラジウムを
０．３原子％以上含有させた銀層を用いること、誘電体
層として酸化亜鉛層にアルミニウム等の金属を添加させ
てその内部応力を低減させ、銀層との密着性を向上させ
ることが記載されており、耐湿熱性が改善された５層構
成（銀層を２層用いる）の積層体が開示されている。
【０００５】特開平８−１０４５４７号公報には、断熱
複層ガラスの熱線遮断膜として、酸化錫層および酸化亜
鉛層を誘電体層とし、銀層を金属層とする５層構成（銀
層を２層用いる）の積層体が開示されており、ガラス窓
としての透過色および反射色を無彩色にするための誘電
体層の厚みを調整することが記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
パネルは大型の画像表示として知られているが、その高
輝度の表示を実現するために強力なプラズマ放電を必要
とする。このため放電領域からプラズマディスプレイパ
ネルの前方に向かって、電磁波とともに近赤外線が放出
される。放出される電磁波は、人体に悪影響を及ぼす恐
れがあるとされ、また放出される近赤外線は、プラズマ
ディスプレイパネルの近くにある家電製品のリモコン受
光部で検知され、そのスイッチをオン状態に誤動作させ
るという問題点があり、これを防止する方法が種々検討
されている。
【０００７】上記目的を達成するために、プラズマディ
スプレイパネル前面に電磁波遮断性能を有する透明体を
設けることが提案されており、そのために誘電体層と銀
層を交互に積層した電磁波フィルタをプラズマディスプ
レイ前面に貼り付ける方法が検討されている。このよう
な電磁波フィルタは、次の性能が要求される。 １）電磁波遮断能がある。 ２）リモコンスイッチによる遠隔操作に用いられる近赤
外線域（８００〜９００ｎｍ域）の熱線に対して透過率
が小さく、周辺の家電製品の誤動作防止能がある。 ３）明るい画像表示を維持するために可視光線透過率が
高い。 ４）空気中に暴露された状態で使用されるので、耐湿熱
性などの耐久性能がある
【０００８】ここで、上記２）と３）の性能を同時に満
足させるには、可視域で高透過、近赤外域で低透過の特
性、すなわち可視域と近赤外域の境界で急速に透過率が
低くなる、いわゆる光学ローパスフィルタとしての特性
を有するように電磁波遮断膜を設計することにより、本
発明の課題を解決する着想を得たのである。
【０００９】特開平５−４２６２４号公報に記載のガラ
ス板上の熱線遮断膜は、保護層となるべき誘電体層を酸
化亜鉛層と酸化錫層の２層以上の積層体としているの
で、耐湿熱性で代表される耐久性は優れているが、銀を
１層としているので電磁波遮断性能が十分でなく、プラ
ズマディスプレイの前面に用いても近赤外域の熱線の透
過率が高く、上記のリモコンの誤動作を防止することが
困難であるという問題点があった。
【００１０】また、特開平９−８５８９３号公報のガラ
ス板上に被覆されている積層体は、金属層としてパラジ
ウムを０．３原子％以上含有させた銀層を用いたこと、
誘電体層として酸化亜鉛層にアルミニウム等の金属を添
加させてその内部応力を低減させ、銀層との密着性を向
上させたことにより、耐湿熱性が改善されているが、銀
層を２層（５層構成）としているため、プラズマディス
プレイパネルとして要求される上記２）と３）の要求特
性を得ることは困難である。
【００１１】さらに、特開平８−１０４５４７号公報に
開示されている熱線遮断膜についても、銀層を２層とす
る５層構成の積層体であるので、前述の通り、上記２）
と３）の要求特性を得ることは困難である。
【００１２】本発明は、プラズマディスプレイパネルの
前面から放出される電磁波およびリモコンスイッチ制御
用の赤外線を遮断する機能と高い可視光線透過率を維持
し、かつ、実用的な耐久性能を有する電磁波フィルタを
提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明基板の一
方の面に透光性の電磁波遮断膜が被覆された電磁波遮断
板と、前記電磁波遮断膜の面に貼られた樹脂フィルムの
保護膜とを含む電磁波フィルタであって、前記電磁波遮
断膜を、透明基板側から５５０ｎｍの波長における屈折
率が１．６〜２．８の誘電体層と銀主成分層とをこの順
に交互に積層した７層の積層体とし、銀主成分層を銀に
対して０．１原子％以上０．５原子％未満のパラジウム
を含有させたものとし、かつ、その各層の厚みを５〜２
５ｎｍとすることにより、前記電磁波遮断膜のシート抵
抗を３Ω／□以下とし、かつ、波長８５０ｎｍにおける
近赤外線透過率を２０％以下としたことを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタである。
【００１４】本発明は、鋭意研究した結果、上記構成を
採用することにより、すなわち銀主成分層については３
層に分割すること、銀層にパラジウムを所定範囲量添加
することにより、プラズマディスプレイパネルの前面電
磁波フィルタとして必要な電磁波遮断膜の抵抗値、近赤
外域（約８５０ｎｍ）での透過率および実用的な耐湿熱
性強度が得られることを見出したことによりなされたも
のである。
【００１５】本発明の銀主成分層には、パラジウムが銀
に対して原子％で０．１以上０．５未満の範囲内で含有
される。パラジウムの下限値は、実用的な耐湿熱性を確
保するために定められ、上限値はリモコンスイッチの誤
動作を防ぐために必要な近赤外域の遮断性能を確保する
ことから定められる。
【００１６】本発明者は、高輝度のプラズマディスプレ
イパネルから発生する近赤外線を８０％以上遮断するこ
とにより、上記の目的が達成されることを実用試験から
見いだした。すなわち、この遮断性能は、銀層のパラジ
ウム含有量が増加すると単調に低下することを、また赤
外線の透過率を２０％以下となるようにするためには、
銀主成分中に含有させるパラジウムの上限値を０．５原
子％未満とすることが必要であることを見いだした。一
方、電磁波遮断膜の実用的な耐湿熱性を良くするために
は、銀主成分層中のパラジウム量を、０．１原子％以上
含有させることが必要であることを見いだした。
【００１７】より耐湿熱性を強くするには、パラジウム
含有量を、０．１５原子％以上とするのが好ましく、さ
らに０．２原子％以上とするのが好ましい。また、近赤
外線の遮断性能を大きくするには０．４原子％以下とす
るのが好ましく、さらに０．３５原子％以下とするのが
好ましい。
【００１８】可視光線透過率（本発明においてはＣｅａ
ｌａｂ座標系（Ｄ６５光源）での視感度透過率Ｙで定義
される）が高いことを重視し、その値を６０％よりかな
り高くするには、銀主成分層の厚みを５〜１０ｎｍとす
るのが好ましく、近赤外線の透過率が低いこと（シート
抵抗値が低くなる）を重視するには、１０ｎｍより厚く
するのが好ましい。
【００１９】また、本発明においては、３つの銀主成分
層をほぼ同じ厚みとしてよいが、透明基板から数えた第
２層の厚みを第１層および第３層の厚みより厚くするの
が、透過帯域を狭くした状態で可視光線透過率を高くす
る上で好ましい。
【００２０】この場合、銀主成分層の第２層の厚みは、
第１層や第３層の厚みよりも５０％を超えない範囲で厚
くするのが好ましい。上記の値を越えて厚くすると、透
過光で見て緑に着色するので好ましくない。また、上記
のほぼ同じ厚みとは、一方の層の厚みが他方の層の厚み
の±１５％の範囲内であることをいう。
【００２１】本発明の誘電体層のうち、透明基板から数
えた第２層と第３層のそれぞれの厚みを、第１層の厚み
と第４層のそれぞれの厚みより大きくするのが好まし
い。その理由は、光の干渉を効率よく利用した可視光域
の透過フィルタとするためである。
【００２２】また、誘電体層のうち、透明基板から数え
た第１層と第４層の厚みをほぼ同じとし、第２層と第３
層の厚みをほぼ同じとし、第２層と第３層の厚みを第１
層および第４層のそれぞれの厚みの１．３〜１．９倍と
するのが好ましい。これにより、プラズマディスプレイ
の前面の電磁波フィルタとして好ましいフィルタとする
ことができる。ここでほぼ同じ厚みとは、一方の層の厚
みが他方の層の厚みの±１５％の範囲内であることをい
う。
【００２３】上記倍率の範囲内で、誘電体層の第２層お
よび第３層の厚みをそれぞれ５５〜７５ｎｍとし、第１
層および第４層の厚みをそれぞれ３０〜６０ｎｍの範囲
内で定めるのが好ましい。
【００２４】可視光線透過率は、明るい画像表示を損な
わないために６０％以上とするのが好ましい。そのため
に上記銀層を３層に分割するとともに、銀層を挟んで積
層される誘電体層の５５０ｎｍの波長における屈折率を
１．６〜２．８として、その厚みが調整される。
【００２５】本発明の誘電体層に用いられる透明金属酸
化物としては、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム、酸
化チタニウム、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル等が
例示できる。またこれらの混合物も用いることができ
る。たとえば酸化亜鉛と酸化インジウムの混合物やＩＴ
Ｏを用いることができる。これらの透明金属酸化物の２
種以上を積層して多層構成の誘電体層とすることができ
る。
【００２６】なかでも導電性である酸化亜鉛は、銀主成
分層に下地として積層すると、酸化亜鉛の結晶格子のピ
ッチが銀のそれと非常に近いため、比抵抗が小さい（結
晶性を高くすると小さくなる）銀の膜成長に適している
ので好ましい。また酸化亜鉛は、雰囲気中の銀に対する
腐食性ガスに含まれる硫黄成分などを吸着して、硫黄成
分の銀層への直接到達を妨げ、銀層を保護するので好ま
しい。また、酸化亜鉛にアルミニウムやガリウムなどの
金属を少量含有させた酸化亜鉛主成分層は、導電性が増
加するので、また後述する成膜時において利点があるの
で好ましい。
【００２７】酸化錫やインジウムと亜鉛の複合酸化物は
導電性があり、かつ非晶質の膜とすることができるの
で、前記の腐食性ガスに対するガスバリヤ性が高く、電
磁波遮断膜の耐湿熱性を向上させるので好ましい。これ
らの酸化物は、大気などの環境中の腐食性ガス、たとえ
ばＨ2Ｓ、ＳＯ2、ＮＯx、ＨＣlなどから銀層を保護する
点でも好ましい。
【００２８】上記理由から、本発明の誘電体層につい
て、その最表面層または各層を酸化錫と酸化亜鉛あるい
は酸化錫とアルミニウム含有酸化亜鉛（ＺＡＯと略記す
る）の２層構成とするのが好ましい。この場合、銀層に
下地として接する膜を酸化亜鉛系の膜とするのが、上記
結晶格子の関係から好ましい。
【００２９】本発明に用いられる樹脂フィルムは、電磁
波遮断膜を大気雰囲気の外部環境から化学的、物理的に
保護する目的で設けられる。このフィルムの５５０ｎｍ
の波長における屈折率は、電磁波遮断膜との界面反射光
の整合性の観点から１．５８〜１．７０とするのが好ま
しい。屈折率が１．７０を越すと、このフィルムと電磁
波遮断膜との屈折率差が大きくなり、この界面で起きる
光の反射が強くなり、電磁波フィルタの透過率を大きく
下げてしまうので好ましくなく、１．５８より小さいと
フィルタの使用者側から見た反射色が中性色から大きく
外れてしまうので外観上好ましくない。
【００３０】樹脂フィルムの厚さは、５μｍ〜５ｍｍの
範囲のものが好んで用いられる。本発明に用いることの
できるフィルムの材質としては、ＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレート）、ＰＥ（ポリエステル）、ＴＡＣ（ト
リアセチルセルロース）、ＰＷ（ポリウレタン）を例示
できる。
【００３１】本発明では、上記の樹脂フィルムを電磁波
遮断膜に、粘着層を介して接着するのが好ましい。粘着
層を形成する材料としては、アクリル樹脂系粘着剤が耐
久性がよいことから好ましい。
【００３２】この粘着層の厚さは、１０〜５００μｍと
するのが好ましい。１０μｍより薄いと、貼り付け時に
異物を噛み込んだときに生じる段差を吸収しづらくな
り、目視で判別出来る製品欠陥を生じやすくなるからで
ある。また５００μｍより厚いと、外部環境からの水分
の浸入などを抑制し難くなるため、電磁波遮断膜の耐久
性を損ねることになるからである。さらに好ましくは約
１００μｍの厚みがよい。
【００３３】本発明に用いることのできる透明基板とし
ては、ソーダライムシリカ組成のガラスや硼珪酸ガラ
ス、無アルカリガラスなどの公知のガラス基板、ＰＥ
Ｔ、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＴＡＣなどのプラスチック
基板を例示することができる。
【００３４】本発明の誘電体層および銀主成分層は、公
知の真空成膜法で成膜される。とりわけスパッタリング
による成膜が好ましい。誘電体層のうちでもアルミニウ
ム含有酸化亜鉛の層は、酸化アルミニウムを数％含有す
る酸化亜鉛の微粉末焼結体をターゲットとする直流スパ
ッタリングで、安定放電状態下で成膜できるので好まし
い。
【００３５】成膜は通常室温で行うことができ、また銀
の結晶性を飛躍的に改善するため約３００℃以下の温度
で適時基板を加熱しながら行ってもよい。また、室温で
成膜した後、得られた積層膜を大気中または窒素雰囲気
中で約３００℃までの温度で加熱処理を施すことによ
り、誘電体層中の光吸収を解消し、かつ銀層の比抵抗を
改善することができる。
【００３６】本発明においては、電磁波遮断膜の表面、
樹脂フィルムの外側表面あるいは内側表面、透明基板の
電磁波遮断膜を被覆しない表面などに反射防止処理を施
し、可視光線透過率を７０％以上に向上させることがで
きる。
【００３７】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の電磁波フィルタ
５の一実施例の断面図で、透明基板１の表面に被覆され
た電磁波遮断膜２は、粘着層３によって樹脂フィルム４
に接着され、大気中に触れないように保護されている。
透明基板１の周辺部には、透明基板１の表面と電磁波遮
蔽膜２の間にその一部が介在するように設けられたアー
ス取り出し用の銀ペーストからなるブスバー８が設けら
れている。
【００３８】図２は、本発明の電磁波遮断膜の一実施例
の層構成を説明するための断面図で、透明基板１上に被
覆された電磁波遮断膜２は、誘電体層１０と銀主成分層
９とが交互に７層（銀主成分層が３層）積層されてい
る。誘電体層１０は上述の透明金属酸化物から選んだ単
層体または上述の２種以上から選ばれた透明酸化物の混
合物の単層体とすることができる。さらに上述の２種以
上の金属酸化物層の多層積層体とすることもできる。
【００３９】図３は、本発明の電磁波フィルタ５が用い
られる状態を説明する概略断面図で、電磁波フィルタ５
はプラズマディスプレイパネル６の前面に枠体７により
保持され固定される。
【００４０】以下に本発明を実施例と比較例により説明
する。 表１、２の説明 ・ガラス板：厚み２ｍｍのソーダライムシリカ組成のガ
ラス板。 ・ＺＡＯ：アルミニウムを含有する酸化亜鉛。 ・ＡｇＰｄ０．４：銀に対してパラジウムを０．４原子
％含有する意。 ・（ ）内の数値は厚みで、電磁波遮断膜はｎｍ単位、
粘着層および樹脂フィルムはμｍ単位で表示。 ・誘電体層の積層は、透明基板に近い順に上から下へ記
載されている。表３、４の説明 ・耐湿熱性：温度６０℃、湿度９０％に維持したとき
に、目視でヒロックやピンホール、曇りなどの発生が認
められる時間で表示。 ・近赤外線透過率：波長８５０ｎｍにおける透過率。 ・透過色調ａ*，ｂ*：透過光についてのＣｅａｌａｂ色
座標系での各２軸の値。
【００４１】サンプルの評価方法 ・シート抵抗：３．０Ω／□以下を○、３．０Ω／□を
越えるものを×で表示。 ・近赤外線透過率：２０％以下を○、２０％を越えるも
のを×で表示。 ・耐湿熱性：上記評価法で５００時間以上を○、５００
時間未満を×で表示。 ・透過色調ａ*，ｂ*：ともに−４〜＋４の範囲内を○、
それ以外を×で表示。 ・光透過率：４５０、５５０、６５０ｎｍにおける透過
率がいずれも６０％以上を○、それ以外を×で表示。
【００４２】実施例１ ２ｍｍ厚の透明ガラス板上に、表１に示した積層体を大
型インライン型スパッタリング装置で成膜した。このと
きＳｎＯ2層はＳｎメタルターゲットを酸素との反応性
スパッタリングで、ＺＡＯ層はＺｎ（９４重量％）Ａｌ
（６重量％）のメタルターゲットを酸素との反応性スパ
ッタリングで、銀主成分層はＡｇ（９９．６重量％）Ｐ
ｄ（０．４重量％）のメタルターゲットをアルゴンガス
によるスパッタリングで成膜した。
【００４３】その後、この積層体を大気中２００℃で３
０分間熱処理を行い、誘電体層の光吸収を解消し、かつ
銀層の結晶性を向上させた。さらに、その表面に粘着層
を有したＡＲ（反射防止）処理つきＰＥＴフィルムを貼
り付け、電磁波遮断膜の保護とガラスの割れ飛散防止を
行った。以上により製造した電磁波フィルタの各特性を
表３と表４に示す。
【００４４】実施例２および実施例３ 実施例１とは、銀主成分層のパラジウム含有量、誘電体
層の積層の仕方およびその厚みを変えてサンプルを作成
した。得られたサンプルの積層構成を表１に性能特性を
表３と表４に示す。
【００４５】実施例１〜３で得られた電磁波フィルタ
は、シート抵抗および耐湿熱性で表せる耐久性について
の実用要求特性をいずれも満足し、また可視域の光学特
性も高く、プラズマディスプレイの明るい表示を大きく
低下させないことが分かった。
【００４６】
【表１】 表１ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 構成 実施例１ 実施例２ 実施例３ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 透明基板 カ゛ラス板 カ゛ラス板 カ゛ラス板 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 電磁波遮断膜 第１層 SnO2（34） ZAO（41） SnO2（32） ZAO（7） ZAO（6） 第２層 AgPd0.4（8） AgPd0.4（7） AgPd0.3（12） 第３層 ZAO（7） ZAO（63） ZAO（6） SnO2（50） SnO2（48） ZAO（7） ZAO（6） 第４層 AgPd0.4（9） AgPd0.4（9） AgPd0.3（14） 第５層 ZAO（7） ZAO（66） ZAO（6） SnO2（52） SnO2（50） ZAO（7） ZAO（6） 第６層 AgPd0.4（7） AgPd0.4（8） AgPd0.3（12） 第７層 ZAO（7） ZAO（42） ZAO（6） SnO2（35） SnO2（33） −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 粘着層 （50） （100） （100） −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 樹脂フィルム PET(50) PET（75） PET（50） ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００４７】
【表２】 表２ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 構成 比較例１ 比較例２ 比較例３ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 透明基板 カ゛ラス板 カ゛ラス板 カ゛ラス板 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 電磁波遮断膜 第１層 SnO2（34） SnO2（34） SnO2（36） ZAO（6） ZAO（7） ZAO（7） 第２層 AgPd1.0（7） AgPd0.05（8） AgPd0.4（11） 第３層 ZAO（7） ZAO（7） ZAO（7） SnO2（51） SnO2（51） SnO2（53） ZAO（7） ZAO（6） ZAO（6） 第４層 AgPd1.0（9） AgPd0.05（9） AgPd0.4（13） 第５層 ZAO（7） ZAO（7） ZAO（7） SnO2（50） SnO2（53） SnO2（36） ZAO（6） ZAO（7） 第６層 AgPd1.0（8） AgPd0.05（8） 第７層 ZAO（7） ZAO（7） SnO2（35） SnO2（35） −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 粘着層 （50） （50） （75） −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 樹脂フィルム PET（50） PET（50） TAC（100） ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００４８】実施例４ 銀主成分中のパラジウムの含有量が与える波長８５０ｎ
ｍにおける透過率への影響を、実施例１と同じ７層の積
層体（３つの銀主成分層のパラジウム含有層は同じ）に
ついて調べた。各層の成膜は、実施例１と同様に行っ
た。銀主成分層のパラジウム含有量が変わることによ
り、銀主成分層の比抵抗および可視光線域での透過率が
微妙に変化したので、７層からなる電磁波遮断膜のシー
ト抵抗が３．０Ω／□以下となるように、また可視光線
透過率が６５％以上となるように、銀主成分層の膜厚に
ついて微小調整をした。ここで、銀主成分層中のパラジ
ウム含有量は、スパッタリングターゲット中のパラジウ
ム含有量を変更することにより変更した。
【００４９】得られた結果を表５に示す。表５から、銀
主成分層中のパラジウム含有量が０．５０原子％以上で
あると、８５０ｎｍにおける透過率を２０％以下にする
ことができないことが分かる。すなわち、シート抵抗を
低く可視光線の透過率を高く維持した状態で８５０ｎｍ
の透過率を２０％以下とするには、銀主成分中のパラジ
ウム含有量を少なく含ませるとよいことが分かる。
【００５０】
【表３】 表３ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 赤外線遮断能および耐久性 例 シート抵抗（Ω／□） 近赤外線透過率（％） 耐湿熱性 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ ２．５（○） １２（○） ６７２（○） 実施例２ ２．４（○） １１（○） ６２０（○） 実施例３ １．４（○） １０（○） ５９０（○） 比較例１ ３．１（×） ２４（×） ６９６（○） 比較例２ ２．３（○） ８（○） ３６０（×） 比較例３ ２．７（○） ３９（×） ６４８（○） ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００５１】比較例１〜３ 実施例１と同様の方法で、表２に示す電磁波遮断膜を有
する電磁波フィルタの比較サンプルを作成した。得られ
たサンプルの構成を表２に、性能特性を表３と表４に示
す。これらの表から、比較例のいずれのサンプルについ
ても、上記シート抵抗、近赤外線遮断性能、耐湿熱性の
すべてを満足する（○評価となる）ものは得られなかっ
た。
【００５２】
【表４】 表４ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 例 透過色調 光透過率％（波長ｎｍ） ａ* ｂ* ４５０ ５５０ ６５０ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ −２．０ ０．１（○） ６６ ６８ ６１（○） 実施例２ −２．２ ０．０（○） ６６ ６８ ５９（○） 実施例３ −３．８ ０．２（○） ５８ ５３ ４７（○） 比較例１ −１．８ １．９（○） ５７ ５８ ５６（×） 比較例２ −２．７ ２．６（○） ７１ ７４ ６３（○） 比較例３ −１．５ １．４（○） ７２ ７４ ６９（○） ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝
【００５３】上記の実施例および比較例に示すように、
本発明の実施例においては、プラズマディスプレイの前
面電磁波フィルタとして要求される性能について、いず
れも○評価となり、実用的な性能を有することが分か
る。
【００５４】
【表５】
【００５５】
【発明の効果】本発明によれば、電磁波遮断膜を透明基
板側から５５０ｎｍの波長における屈折率が１．６〜
２．８の誘電体層と銀主成分層とをこの順に交互に積層
した７層の積層体とし、かつ銀主成分層を銀に対して
０．１原子％以上０．５原子％未満のパラジウムを含有
させて、その各層の厚みを５〜２５ｎｍとし、電磁波遮
断膜のシート抵抗を３Ω／□以下で、かつ、波長８５０
ｎｍにおける近赤外線透過率を２０％以下としたので、
これをプラズマディスプレイパネルの前面に設置する
と、プラズマディスプレイパネルの近傍に設置された電
気製品のリモコンスイッチが誤動作するのを防止するこ
とができる。
【００５６】また、本発明は、上記の所定量のパラジウ
ムが銀主成分層に含有されているので、上記の誤動作防
止の効果に加えて、耐湿熱性を実用的レベルに確保する
ことができる。
【００５７】また、本発明においては、誘電体層の厚み
を調整することにより、可視光線透過率を６０％以上に
することができ、プラズマディスプレイパネルの明るい
画像表示を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の概略断面図である。
【図２】本発明の電磁波遮断膜の層構成を説明するため
の断面図である。
【図３】本発明の電磁波フィルタの使用状態を説明する
ための概略断面図である。
【符号の説明】
１：透明基板 ２：電磁波遮断膜 ３：粘着層 ４：ＰＥＴフィルム ５：電磁波フィルタ ６：プラズマディスプレイパネル ７：枠体 ８：ブスバー ９：銀主成分層 10：誘電体層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｅ

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 透明基板の一方の面に透光性の電磁波遮
    断膜が被覆された電磁波遮断板と、前記電磁波遮断膜の
    面に貼られた樹脂フィルムの保護膜とを含む電磁波フィ
    ルタであって、前記電磁波遮断膜を、透明基板側から５
    ５０ｎｍの波長における屈折率が１．６〜２．８の誘電
    体層と銀主成分層とをこの順に交互に積層した７層の積
    層体とし、銀主成分層を銀に対して０．１原子％以上
    ０．５原子％未満のパラジウムを含有させたものとし、
    かつ、その各層の厚みを５〜２５ｎｍとすることによ
    り、前記電磁波遮断膜のシート抵抗を３Ω／□以下と
    し、かつ、波長８５０ｎｍにおける近赤外線透過率を２
    ０％以下としたことを特徴とするプラズマディスプレイ
    パネル用の電磁波フィルタ。
  2. 【請求項２】 可視光線透過率を６０％以上となるよう
    に、前記誘電体層の厚みを調整したことを特徴とする請
    求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用の電磁波
    フィルタ。
  3. 【請求項３】 前記銀主成分層の各層の厚みを５〜１６
    ｎｍとしたことを特徴とする請求項１または２に記載の
    プラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。
  4. 【請求項４】 前記銀主成分の層のうち、透明基板から
    数えた第２層の厚みを第１層および第３層の厚みより厚
    くしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
    のプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。
  5. 【請求項５】 前記誘電体層のうち、透明基板から数え
    た第２層と第３層のそれぞれの厚みを、第１層の厚みと
    第４層のそれぞれの厚みより大きくしたことを特徴とす
    る請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレ
    イパネル用の電磁波フィルタ。
  6. 【請求項６】 前記誘電体層のうち、透明基板から数え
    た第１層と第４層の厚みをほぼ同じとし、第２層と第３
    層の厚みをほぼ同じとし、第２層と第３層の厚みを第１
    層または第４層の厚みの１．３〜１．９倍としたことを
    特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネ
    ル用の電磁波フィルタ。
  7. 【請求項７】 前記誘電体層を酸化亜鉛主成分層とした
    請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
    パネル用の電磁波フィルタ。
  8. 【請求項８】 前記誘電体層の少なくとも最外層を、酸
    化錫層と酸化亜鉛主成分層の多層積層体としたことを特
    徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディ
    スプレイパネル用の電磁波フィルタ。
  9. 【請求項９】 各誘電体層を、酸化錫層と酸化亜鉛主成
    分層の多層積層体とし、銀主成分層に接する層を酸化亜
    鉛主成分層としたことを特徴とする請求項８に記載のプ
    ラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。
  10. 【請求項１０】 前記樹脂フィルムの５５０ｎｍの波長
    における屈折率を、１．５９〜１．６９としたことを特
    徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のプラズマディ
    スプレイパネル用の電磁波フィルタ。
  11. 【請求項１１】 前記樹脂フィルムを粘着剤で電磁波遮
    断膜に貼り付け、粘着層の厚みを１０〜５００μｍとし
    たことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の
    プラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。
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KR1019990013306A KR100587200B1 (ko) 1998-04-16 1999-04-15 플라즈마 디스플레이 패널용 전자기파 필터

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003037056A1 (fr) * 2001-10-26 2003-05-01 Central Glass Company, Limited Substrat dote d'un film de protection electromagnetique
KR100406442B1 (ko) * 2001-05-17 2003-11-19 한국과학기술연구원 파장선택형 다층 구조의 투명 도전막
WO2006059448A1 (ja) * 2004-11-30 2006-06-08 Asahi Glass Company, Limited 導電性積層体、プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽フィルムおよび保護板
KR100662297B1 (ko) * 2002-10-18 2007-01-02 엘지전자 주식회사 유기 ｅｌ 소자
KR100726747B1 (ko) 2003-08-25 2007-06-11 아사히 가라스 가부시키가이샤 전자파 차폐 적층체 및 이를 이용한 디스플레이 장치
KR101316536B1 (ko) * 2012-06-21 2013-10-15 충북대학교 산학협력단 저방사용 다층막

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000294980A (ja) 1999-04-06 2000-10-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法
JP2001034177A (ja) * 1999-07-16 2001-02-09 Nitto Denko Corp 透明電磁波シ―ルドフイルムの貼り合わせ方法
US6522069B1 (en) * 1999-08-05 2003-02-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Plasma display panel
JP3477148B2 (ja) * 1999-12-02 2003-12-10 カーディナル・シージー・カンパニー 耐曇り性透明フィルム積層体
JP2001249221A (ja) * 1999-12-27 2001-09-14 Nitto Denko Corp 透明積層体とその製造方法およびプラズマデイスプレイパネル用フイルタ
JP5007777B2 (ja) * 2000-05-21 2012-08-22 Ｔｄｋ株式会社 透明導電積層体
US7879448B2 (en) * 2000-07-11 2011-02-01 Guardian Industires Corp. Coated article with low-E coating including IR reflecting layer(s) and corresponding method
US7462398B2 (en) * 2004-02-27 2008-12-09 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with zinc oxide over IR reflecting layer and corresponding method
US6869644B2 (en) * 2000-10-24 2005-03-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of making coated articles and coated articles made thereby
US7311961B2 (en) * 2000-10-24 2007-12-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Method of making coated articles and coated articles made thereby
US20030228476A1 (en) * 2001-10-22 2003-12-11 Harry Buhay Methods of changing the visible light transmittance of coated articles and coated articles made thereby
US7232615B2 (en) * 2001-10-22 2007-06-19 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating stack comprising a layer of barrier coating
US20030142401A1 (en) * 2002-01-25 2003-07-31 Tominari Araki Optical member
KR100578633B1 (ko) * 2002-12-12 2006-05-11 삼성코닝 주식회사 투과율이 우수한 ｐｄｐ용 전면 필터
ES2402411T3 (es) * 2002-12-27 2013-05-03 3M Innovative Properties Company Revestimiento para aislamiento y otras aplicaciones
US20040151922A1 (en) * 2002-12-27 2004-08-05 Cohen Lewis S. Facing having increased stiffness for insulation and other applications
US20040126597A1 (en) * 2002-12-27 2004-07-01 Cohen Lewis S. Facing for insulation and other applications
US20040161615A1 (en) * 2002-12-27 2004-08-19 Cohen Lewis S. Facing having increased stiffness for insulation and other applications
KR100764761B1 (ko) * 2003-02-12 2007-10-11 엘지전자 주식회사 전면필터
FR2856677B1 (fr) * 2003-06-27 2006-12-01 Saint Gobain Substrat revetu d'une couche dielectrique et procede pour sa fabrication
FR2857467B1 (fr) * 2003-07-09 2005-08-19 Saint Gobain Dispositif electrocommandable a proprietes optiques et/ou energetiques variables
FR2859721B1 (fr) * 2003-09-17 2006-08-25 Saint Gobain Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces pour un blindage electromagnetique
FR2862961B1 (fr) 2003-11-28 2006-02-17 Saint Gobain Substrat transparent utilisable alternativement ou cumulativement pour le controle thermique, le blindage electromagnetique et le vitrage chauffant.
US7199763B2 (en) * 2004-05-03 2007-04-03 Lockheed Martin Corporation Ground proximity antenna system
JP2006154829A (ja) * 2004-12-01 2006-06-15 Lg Electronics Inc プラズマディスプレイパネル
ATE526151T1 (de) * 2005-02-17 2011-10-15 Asahi Glass Co Ltd Leitfähiger laminierter körper, folie zur abschirmung von elektromagnetischen wellen für plasmaanzeige und schutzplatte für plasmaanzeige
EP1860930A4 (en) * 2005-02-25 2009-12-23 Asahi Glass Co Ltd ELECTROMAGNETIC SHIELDING LAMINATE AND DISPLAY THEREOF
DE602006012817D1 (de) * 2005-03-31 2010-04-22 Cardinal Cg Co Gegen anlaufen beständige beschichtungen mit geringem emissionsvermögen
EP1909552A1 (en) * 2005-07-07 2008-04-09 Asahi Glass Company, Limited Electromagnetic wave shielding film and protective plate for plasma display panel
WO2007028060A2 (en) * 2005-09-02 2007-03-08 Southwall Technologies, Inc. Durable near-infrared blocking and emi shielding film for display filter
US7339728B2 (en) * 2005-10-11 2008-03-04 Cardinal Cg Company Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient
US7342716B2 (en) * 2005-10-11 2008-03-11 Cardinal Cg Company Multiple cavity low-emissivity coatings
US7572511B2 (en) * 2005-10-11 2009-08-11 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings
JP5098182B2 (ja) * 2006-02-03 2012-12-12 株式会社日立製作所 プラズマディスプレイ装置
US20090153989A1 (en) * 2007-12-14 2009-06-18 Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd. Optical filter for display device
US8314991B2 (en) * 2008-10-31 2012-11-20 Cpfilms Inc. Variable transmission composite interference filter
BE1019345A3 (fr) * 2010-05-25 2012-06-05 Agc Glass Europe Vitrage de controle solaire a faible facteur solaire.
GB201017855D0 (en) * 2010-10-22 2010-12-01 Pilkington Group Ltd Coating glass
US10942302B2 (en) * 2015-09-16 2021-03-09 Vitro Flat Glass Llc Solar mirrors and methods of making solar mirrors having improved properties
JP6706053B2 (ja) * 2015-12-04 2020-06-03 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5944993B2 (ja) * 1978-07-11 1984-11-02 帝人株式会社 積層体
JP3053669B2 (ja) 1990-11-27 2000-06-19 旭硝子株式会社 熱線遮断膜
JPH08104547A (ja) * 1994-08-01 1996-04-23 Nippon Sheet Glass Co Ltd 断熱ガラス
JP3431391B2 (ja) * 1995-04-24 2003-07-28 松下電器産業株式会社 画像表示装置及びその製造方法
MY114783A (en) * 1995-04-24 2003-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd Image display apparatus with flat screen
JPH0985893A (ja) * 1995-06-26 1997-03-31 Asahi Glass Co Ltd 積層体
JP3004222B2 (ja) * 1996-05-28 2000-01-31 三井化学株式会社 透明積層体およびそれを用いたディスプレイ用フィルター
TW446637B (en) * 1996-05-28 2001-07-21 Mitsui Chemicals Inc Transparent laminates and optical filters for displays using the same

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100406442B1 (ko) * 2001-05-17 2003-11-19 한국과학기술연구원 파장선택형 다층 구조의 투명 도전막
WO2003037056A1 (fr) * 2001-10-26 2003-05-01 Central Glass Company, Limited Substrat dote d'un film de protection electromagnetique
KR100662297B1 (ko) * 2002-10-18 2007-01-02 엘지전자 주식회사 유기 ｅｌ 소자
KR100726747B1 (ko) 2003-08-25 2007-06-11 아사히 가라스 가부시키가이샤 전자파 차폐 적층체 및 이를 이용한 디스플레이 장치
WO2006059448A1 (ja) * 2004-11-30 2006-06-08 Asahi Glass Company, Limited 導電性積層体、プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽フィルムおよび保護板
EP1819210A1 (en) * 2004-11-30 2007-08-15 Asahi Glass Company, Limited Electroconductive laminate, and electromagnetic wave shielding film and protective plate for plasma display
EP1819210A4 (en) * 2004-11-30 2009-07-01 Asahi Glass Co Ltd ELECTROCONDUCTIVE LAMINATE, AND ELECTROMAGNETIC WAVE PROTECTIVE FILM, AND PLATE FOR PLASMA DISPLAY
US8040062B2 (en) 2004-11-30 2011-10-18 Asahi Glass Company, Limited Electroconductive laminate, and electromagnetic wave shielding film and protective plate for plasma display
KR101316536B1 (ko) * 2012-06-21 2013-10-15 충북대학교 산학협력단 저방사용 다층막

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