JPH11302312A - オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 - Google Patents
オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法Info
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- JPH11302312A JPH11302312A JP11511298A JP11511298A JPH11302312A JP H11302312 A JPH11302312 A JP H11302312A JP 11511298 A JP11511298 A JP 11511298A JP 11511298 A JP11511298 A JP 11511298A JP H11302312 A JPH11302312 A JP H11302312A
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- bis
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- zirconium dichloride
- rac
- dimethylsilylene
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 芳香族炭化水素を含まず、かつ重合活性が従
来と同等の固体状イオン性ホウ素化合物成分を含むオレ
フィン重合用触媒およびこの触媒を用いたオレフィンの
重合方法を提供すること。 【解決手段】 オレフィン重合用触媒は、（Ａ）遷移金
属化合物成分と、（Ｂ）比表面積が１．６ｍ2／ｇ以上
の固体状イオン性ホウ素化合物成分とからなる。前記
（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物は、脂肪族炭化水素
スラリー又は脂環族炭化水素スラリーとして用いること
が好ましい。前記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物
は、粉砕により得られたものであることが好ましい。
来と同等の固体状イオン性ホウ素化合物成分を含むオレ
フィン重合用触媒およびこの触媒を用いたオレフィンの
重合方法を提供すること。 【解決手段】 オレフィン重合用触媒は、（Ａ）遷移金
属化合物成分と、（Ｂ）比表面積が１．６ｍ2／ｇ以上
の固体状イオン性ホウ素化合物成分とからなる。前記
（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物は、脂肪族炭化水素
スラリー又は脂環族炭化水素スラリーとして用いること
が好ましい。前記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物
は、粉砕により得られたものであることが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィン重合用
触媒およびオレフィンの重合方法に関し、さらに詳しく
は、特定のイオン性ホウ素化合物を含むオレフィン重合
用触媒およびこの触媒を用いたオレフィンの重合方法に
関するものである。
触媒およびオレフィンの重合方法に関し、さらに詳しく
は、特定のイオン性ホウ素化合物を含むオレフィン重合
用触媒およびこの触媒を用いたオレフィンの重合方法に
関するものである。
【０００２】
【発明の技術的背景】従来からエチレン重合体、エチレ
ン・α−オレフィン共重合体、エチレン・α−オレフィ
ン・ポリエン共重合体、α−オレフィン重合体などのオ
レフィン（共）重合体を製造するための触媒として、遷
移金属化合物と、有機アルミニウムオキシ化合物（アル
ミノオキサン）またはイオン性ホウ素化合物と、必要に
応じてアニオン性水素および／またはアニオン性炭化水
素基を有する化合物とからなる遷移金属系触媒が知られ
ている。
ン・α−オレフィン共重合体、エチレン・α−オレフィ
ン・ポリエン共重合体、α−オレフィン重合体などのオ
レフィン（共）重合体を製造するための触媒として、遷
移金属化合物と、有機アルミニウムオキシ化合物（アル
ミノオキサン）またはイオン性ホウ素化合物と、必要に
応じてアニオン性水素および／またはアニオン性炭化水
素基を有する化合物とからなる遷移金属系触媒が知られ
ている。
【０００３】ところで上記遷移金属系触媒で用いられる
イオン性ホウ素化合物は、通常トルエンなどの芳香族炭
化水素の溶液として用いられる。しかしながら芳香族炭
化水素を使用することは、作業環境衛生の面での問題が
発生することがあり、得られたオレフィン重合体の臭気
の問題が発生することもある。また、芳香族炭化水素を
用いない場合には、充分な活性を発現しない。
イオン性ホウ素化合物は、通常トルエンなどの芳香族炭
化水素の溶液として用いられる。しかしながら芳香族炭
化水素を使用することは、作業環境衛生の面での問題が
発生することがあり、得られたオレフィン重合体の臭気
の問題が発生することもある。また、芳香族炭化水素を
用いない場合には、充分な活性を発現しない。
【０００４】このため芳香族炭化水素を含まず、しかも
芳香族炭化水素を用いたときと同等の重合活性を発現す
るオレフィン重合用触媒が求められている。
芳香族炭化水素を用いたときと同等の重合活性を発現す
るオレフィン重合用触媒が求められている。
【０００５】
【発明の目的】本発明は上記のような従来技術に鑑みて
なされたものであって、芳香族炭化水素を含まず、しか
も芳香族炭化水素を用いたときと同等の重合活性を発現
するイオン性ホウ素化合物を一成分とするオレフィン重
合用触媒および該触媒を用いたオレフィンの重合方法を
提供することを目的としている。
なされたものであって、芳香族炭化水素を含まず、しか
も芳香族炭化水素を用いたときと同等の重合活性を発現
するイオン性ホウ素化合物を一成分とするオレフィン重
合用触媒および該触媒を用いたオレフィンの重合方法を
提供することを目的としている。
【０００６】
【発明の概要】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、
（Ａ）遷移金属化合物成分と、（Ｂ）比表面積が１．６
ｍ2／ｇ以上の固体状イオン性ホウ素化合物成分とから
なることを特徴としている。
（Ａ）遷移金属化合物成分と、（Ｂ）比表面積が１．６
ｍ2／ｇ以上の固体状イオン性ホウ素化合物成分とから
なることを特徴としている。
【０００７】前記（Ａ）遷移金属化合物成分としては、
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期表
第４族の遷移金属化合物が挙げられる。本発明では、前
記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物成分が、固体状イ
オン性ホウ素化合物の脂肪族炭化水素スラリーまたは脂
環族炭化水素スラリーであることが好ましい。また、前
記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物成分が、粉砕によ
り固体状イオン性ホウ素化合物の比表面積を１．６ｍ2
／ｇ以上としたものであることが好ましい。
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期表
第４族の遷移金属化合物が挙げられる。本発明では、前
記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物成分が、固体状イ
オン性ホウ素化合物の脂肪族炭化水素スラリーまたは脂
環族炭化水素スラリーであることが好ましい。また、前
記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物成分が、粉砕によ
り固体状イオン性ホウ素化合物の比表面積を１．６ｍ2
／ｇ以上としたものであることが好ましい。
【０００８】本発明に係るオレフィンの重合方法は、前
記オレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合ま
たは共重合することを特徴としている。
記オレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合ま
たは共重合することを特徴としている。
【０００９】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係るオレフィン重
合用触媒およびオレフィンの重合方法について具体的に
説明する。
合用触媒およびオレフィンの重合方法について具体的に
説明する。
【００１０】なお、本明細書において「重合」という語
は、単独重合だけでなく、共重合をも包含した意味で用
いられることがあり、「重合体」という語は、単独重合
体だけでなく、共重合体をも包含した意味で用いられる
ことがある。
は、単独重合だけでなく、共重合をも包含した意味で用
いられることがあり、「重合体」という語は、単独重合
体だけでなく、共重合体をも包含した意味で用いられる
ことがある。
【００１１】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、
（Ａ）遷移金属化合物成分と、（Ｂ）固体状イオン性ホ
ウ素化合物成分とからなる。
（Ａ）遷移金属化合物成分と、（Ｂ）固体状イオン性ホ
ウ素化合物成分とからなる。
【００１２】なお、本発明に係るオレフィン重合用触媒
には、必要に応じてアニオン性水素および／またはアニ
オン性炭化水素基を有する化合物を用いてもよい。ま
ず、本発明のオレフィン重合用触媒を形成する各触媒成
分について説明する。
には、必要に応じてアニオン性水素および／またはアニ
オン性炭化水素基を有する化合物を用いてもよい。ま
ず、本発明のオレフィン重合用触媒を形成する各触媒成
分について説明する。
【００１３】（Ａ）遷移金属化合物成分 本発明で用いられる（Ａ）遷移金属化合物成分は、下記
一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物である。
一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物である。
【００１４】ＭＬx … （Ｉ） 式中、Ｍは遷移金属原子を示す。ｘは遷移金属原子Ｍの
原子価を満たす数であり、遷移金属原子Ｍに配位する配
位子Ｌの個数を示す。
原子価を満たす数であり、遷移金属原子Ｍに配位する配
位子Ｌの個数を示す。
【００１５】Ｌは遷移金属原子に配位する配位子を示
す。このような一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物
としては、後述するようなシクロペンタジエニル骨格を
有する配位子を含む周期表第４族の遷移金属化合物、遷
移金属アミド化合物などがある。
す。このような一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物
としては、後述するようなシクロペンタジエニル骨格を
有する配位子を含む周期表第４族の遷移金属化合物、遷
移金属アミド化合物などがある。
【００１６】次に、シクロペンタジエニル骨格を有する
配位子を含む周期表第４族の遷移金属化合物について説
明する。本発明で遷移金属化合物成分として用いられる
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期表
第４族の遷移金属化合物は、下記一般式（Ｉ）で表され
る遷移金属化合物である。
配位子を含む周期表第４族の遷移金属化合物について説
明する。本発明で遷移金属化合物成分として用いられる
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期表
第４族の遷移金属化合物は、下記一般式（Ｉ）で表され
る遷移金属化合物である。
【００１７】Ｍ1 Ｌ1 x … （Ｉ-1） 式中、Ｍ1 は周期表第４族から選ばれる遷移金属原子を
示し、具体的には、ジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。
示し、具体的には、ジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。
【００１８】ｘは遷移金属原子Ｍ1 の原子価を満たす数
であり、遷移金属原子Ｍ1 に配位する配位子Ｌ1 の個数
を示す。Ｌ1 は遷移金属原子に配位する配位子を示し、
少なくとも１個のＬ1 はシクロペンタジエニル骨格を有
する配位子であり、シクロペンタジエニル骨格を有する
配位子以外のＬ1 は、炭素原子数が１〜２０の炭化水素
基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素
含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子、
水素原子などである。
であり、遷移金属原子Ｍ1 に配位する配位子Ｌ1 の個数
を示す。Ｌ1 は遷移金属原子に配位する配位子を示し、
少なくとも１個のＬ1 はシクロペンタジエニル骨格を有
する配位子であり、シクロペンタジエニル骨格を有する
配位子以外のＬ1 は、炭素原子数が１〜２０の炭化水素
基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素
含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子、
水素原子などである。
【００１９】Ｌ1 が示すシクロペンタジエニル骨格を有
する配位子としては、たとえばシクロペンタジエニル
基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペ
ンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、
テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシ
クロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル
基、メチルエチルシクロペンタジエニル基、プロピルシ
クロペンタジエニル基、メチルプロピルシクロペンタジ
エニル基、ブチルシクロペンタジエニル基、メチルブチ
ルシクロペンタジエニル基、ヘキシルシクロペンタジエ
ニル基などのアルキル置換シクロペンタジエニル基また
はインデニル基、4,5,6,7-テトラヒドロインデニル基、
フルオレニル基などを例示することができる。これらの
基は、炭素原子数が１〜２０の（ハロゲン化）炭化水素
基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲ
ン原子などで置換されていてもよい。
する配位子としては、たとえばシクロペンタジエニル
基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペ
ンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、
テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシ
クロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル
基、メチルエチルシクロペンタジエニル基、プロピルシ
クロペンタジエニル基、メチルプロピルシクロペンタジ
エニル基、ブチルシクロペンタジエニル基、メチルブチ
ルシクロペンタジエニル基、ヘキシルシクロペンタジエ
ニル基などのアルキル置換シクロペンタジエニル基また
はインデニル基、4,5,6,7-テトラヒドロインデニル基、
フルオレニル基などを例示することができる。これらの
基は、炭素原子数が１〜２０の（ハロゲン化）炭化水素
基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲ
ン原子などで置換されていてもよい。
【００２０】上記一般式（Ｉ-1）で表される遷移金属化
合物がシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を２個
以上含む場合には、そのうち２個のシクロペンタジエニ
ル骨格を有する配位子同士は、（置換）アルキレン基、
（置換）シリレン基などの２価の結合基を介して結合さ
れていてもよい。このような２個のシクロペンタジエニ
ル骨格を有する配位子が２価の結合基を介して結合され
ている遷移金属化合物としては後述するような一般式
（Ｉ-3）で表される遷移金属化合物が挙げられる。
合物がシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を２個
以上含む場合には、そのうち２個のシクロペンタジエニ
ル骨格を有する配位子同士は、（置換）アルキレン基、
（置換）シリレン基などの２価の結合基を介して結合さ
れていてもよい。このような２個のシクロペンタジエニ
ル骨格を有する配位子が２価の結合基を介して結合され
ている遷移金属化合物としては後述するような一般式
（Ｉ-3）で表される遷移金属化合物が挙げられる。
【００２１】シクロペンタジエニル骨格を有する配位子
以外の配位子Ｌ1 としては、具体的に下記のようなもの
が挙げられる。炭素原子数が１〜２０の炭化水素基とし
ては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
アリールアルキル基、アリール基などが挙げられ、より
具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキ
シル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどの
アルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボ
ルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニ
ル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル
基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなど
のアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフ
ェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピ
ルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、
アントリル、フェナントリルなどのアリール基が挙げら
れる。
以外の配位子Ｌ1 としては、具体的に下記のようなもの
が挙げられる。炭素原子数が１〜２０の炭化水素基とし
ては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
アリールアルキル基、アリール基などが挙げられ、より
具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキ
シル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどの
アルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボ
ルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニ
ル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル
基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなど
のアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフ
ェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピ
ルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、
アントリル、フェナントリルなどのアリール基が挙げら
れる。
【００２２】炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水
素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基
にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基とし
てはヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェ
ノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリー
ロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどの
アリールアルコキシ基などが挙げられる。
素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基
にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基とし
てはヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェ
ノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリー
ロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどの
アリールアルコキシ基などが挙げられる。
【００２３】イオウ含有基としては前記酸素含有基の酸
素がイオウに置換した置換基、ならびにメチルスルフォ
ネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニル
スルフォネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエン
スルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、
トリイソブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベン
ゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォ
ネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネー
ト、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネー
ト、p-トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンス
ルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネート
などのスルフィネート基が挙げられる。
素がイオウに置換した置換基、ならびにメチルスルフォ
ネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニル
スルフォネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエン
スルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、
トリイソブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベン
ゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォ
ネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネー
ト、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネー
ト、p-トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンス
ルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネート
などのスルフィネート基が挙げられる。
【００２４】ケイ素含有基としてはメチルシリル、フェ
ニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル；ジメチルシ
リル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル；
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシ
リル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリ
ル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ
炭化水素置換シリル；トリメチルシリルエーテルなどの
炭化水素置換シリルのシリルエーテル；トリメチルシリ
ルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリ
ルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられ
る。
ニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル；ジメチルシ
リル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル；
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシ
リル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリ
ル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ
炭化水素置換シリル；トリメチルシリルエーテルなどの
炭化水素置換シリルのシリルエーテル；トリメチルシリ
ルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリ
ルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられ
る。
【００２５】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。このよ
うな遷移金属化合物は、たとえば遷移金属の原子価が４
である場合、より具体的には下記一般式（Ｉ-2）で示さ
れる。
原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。このよ
うな遷移金属化合物は、たとえば遷移金属の原子価が４
である場合、より具体的には下記一般式（Ｉ-2）で示さ
れる。
【００２６】Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 Ｍ1 … （Ｉ-2) 式中、Ｍ1 は、前記と同様の周期表第４族から選ばれる
遷移金属原子を示し、好ましくはチタンまたはハフニウ
ムである。
遷移金属原子を示し、好ましくはチタンまたはハフニウ
ムである。
【００２７】Ｒ1 は、シクロペンタジエニル骨格を有す
る基（配位子）を示し、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は、互い
に同一でも異なっていてもよく、シクロペンタジエニル
骨格を有する基（配位子）、炭素原子数が１〜２０の
（ハロゲン化）炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有
基、ケイ素含有基、ハロゲン原子、水素原子などを示
す。
る基（配位子）を示し、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は、互い
に同一でも異なっていてもよく、シクロペンタジエニル
骨格を有する基（配位子）、炭素原子数が１〜２０の
（ハロゲン化）炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有
基、ケイ素含有基、ハロゲン原子、水素原子などを示
す。
【００２８】本発明では上記一般式（Ｉ-2) で示される
遷移金属化合物において、Ｒ2 、Ｒ 3 およびＲ4 のうち
少なくとも１個がシクロペンタジエニル骨格を有する基
（配位子）である化合物、たとえばＲ1 およびＲ2 がシ
クロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）である化
合物が好ましく用いられる。また、Ｒ1 およびＲ2 がシ
クロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）である場
合、Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリーロキシ基、トリアルキルシリル基、ス
ルフォネート基、ハロゲン原子または水素原子であるこ
とが好ましい。
遷移金属化合物において、Ｒ2 、Ｒ 3 およびＲ4 のうち
少なくとも１個がシクロペンタジエニル骨格を有する基
（配位子）である化合物、たとえばＲ1 およびＲ2 がシ
クロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）である化
合物が好ましく用いられる。また、Ｒ1 およびＲ2 がシ
クロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）である場
合、Ｒ3 およびＲ4 はアルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリーロキシ基、トリアルキルシリル基、ス
ルフォネート基、ハロゲン原子または水素原子であるこ
とが好ましい。
【００２９】以下に、前記一般式（Ｉ-2）で表され、Ｍ
1 がジルコニウムである遷移金属化合物について具体的
な化合物を例示する。ビス（インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニウムジブロミ
ド、ビス（インデニル）ジルコニウムビス（p-トルエン
スルフォネート）、ビス（4,5,6,7-テトラヒドロインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（フルオレニル）
ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジブロミド、ビス（シクロペンタジ
エニル）メチルジルコニウムモノクロリド、ビス（シク
ロペンタジエニル）エチルジルコニウムモノクロリド、
ビス（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルジルコニ
ウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）フェ
ニルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジ
エニル）ベンジルジルコニウムモノクロリド、ビス（シ
クロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロリドモノハ
イドライド、ビス（シクロペンタジエニル）メチルジル
コニウムモノハイドライド、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジメチルジルコニウム、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジフェニルジルコニウム、ビス（シクロペンタジエ
ニル）ジベンジルジルコニウム、ビス（シクロペンタジ
エニル）ジルコニウムメトキシクロリド、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロリド、ビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンス
ルフォネート）、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムビス（p-トルエンスルフォネート）、ビス（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメ
タンスルフォネート）、ビス（メチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ジメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロ
リド、ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムビス（トリフルオロメタンスルフォネート）、ビス
（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、ビス（プロピルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルプロピルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス
（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、ビス（メチルブチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムビス（メタンスルフォネート）、
ビス（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロリド、ビス（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ペンタメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ヘ
キシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロリドなど。
1 がジルコニウムである遷移金属化合物について具体的
な化合物を例示する。ビス（インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニウムジブロミ
ド、ビス（インデニル）ジルコニウムビス（p-トルエン
スルフォネート）、ビス（4,5,6,7-テトラヒドロインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（フルオレニル）
ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジブロミド、ビス（シクロペンタジ
エニル）メチルジルコニウムモノクロリド、ビス（シク
ロペンタジエニル）エチルジルコニウムモノクロリド、
ビス（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルジルコニ
ウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）フェ
ニルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジ
エニル）ベンジルジルコニウムモノクロリド、ビス（シ
クロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロリドモノハ
イドライド、ビス（シクロペンタジエニル）メチルジル
コニウムモノハイドライド、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジメチルジルコニウム、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジフェニルジルコニウム、ビス（シクロペンタジエ
ニル）ジベンジルジルコニウム、ビス（シクロペンタジ
エニル）ジルコニウムメトキシクロリド、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロリド、ビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンス
ルフォネート）、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムビス（p-トルエンスルフォネート）、ビス（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメ
タンスルフォネート）、ビス（メチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ジメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロ
リド、ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムビス（トリフルオロメタンスルフォネート）、ビス
（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、ビス（プロピルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルプロピルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス
（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、ビス（メチルブチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムビス（メタンスルフォネート）、
ビス（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロリド、ビス（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ペンタメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ヘ
キシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロリドなど。
【００３０】なお上記例示において、シクロペンタジエ
ニル環の二置換体は、1,2-および1,3-置換体を含み、三
置換体は、1,2,3-および1,2,4-置換体を含む。またプロ
ピル、ブチルなどのアルキル基は、n-、i-、sec-、tert
-などの異性体を含む。
ニル環の二置換体は、1,2-および1,3-置換体を含み、三
置換体は、1,2,3-および1,2,4-置換体を含む。またプロ
ピル、ブチルなどのアルキル基は、n-、i-、sec-、tert
-などの異性体を含む。
【００３１】また上記のようなジルコニウム化合物にお
いて、ジルコニウムを、チタンまたはハフニウムに置換
えた化合物を挙げることもできる。２個のシクロペンタ
ジエニル骨格を有する配位子が２価の結合基を介して結
合されている遷移金属化合物としては、たとえば下記式
（Ｉ-3）で表される化合物が挙げられる。
いて、ジルコニウムを、チタンまたはハフニウムに置換
えた化合物を挙げることもできる。２個のシクロペンタ
ジエニル骨格を有する配位子が２価の結合基を介して結
合されている遷移金属化合物としては、たとえば下記式
（Ｉ-3）で表される化合物が挙げられる。
【００３２】
【化１】
【００３３】式中、Ｍ1 は、周期表第４族の遷移金属原
子を示し、具体的には、ジルコニウム、チタンまたはハ
フニウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムで
ある。
子を示し、具体的には、ジルコニウム、チタンまたはハ
フニウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムで
ある。
【００３４】Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は、互いに同
一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭
化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素
基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、窒素含
有基、リン含有基、ハロゲン原子または水素原子を示
す。Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 で示される基のうち、
互いに隣接する基の一部が結合してそれらの基が結合す
る炭素原子とともに環を形成していてもよい。なお、Ｒ
5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 が各々２ヶ所に表示されてい
るが、それぞれたとえばＲ5 とＲ5 などは、同一の基で
もよくまた相異なる基でもよい。Ｒで示される基のうち
同一の符号のものは、それらを継いで、環を形成する場
合の好ましい組み合せを示している。
一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭
化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素
基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、窒素含
有基、リン含有基、ハロゲン原子または水素原子を示
す。Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 で示される基のうち、
互いに隣接する基の一部が結合してそれらの基が結合す
る炭素原子とともに環を形成していてもよい。なお、Ｒ
5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 が各々２ヶ所に表示されてい
るが、それぞれたとえばＲ5 とＲ5 などは、同一の基で
もよくまた相異なる基でもよい。Ｒで示される基のうち
同一の符号のものは、それらを継いで、環を形成する場
合の好ましい組み合せを示している。
【００３５】炭素原子数が１〜２０の炭化水素基として
は、前記Ｌ1 と同様のアルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基などが
挙げられる。
は、前記Ｌ1 と同様のアルキル基、シクロアルキル基、
アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基などが
挙げられる。
【００３６】これらの炭化水素基が結合して形成する環
としてはベンゼン環、ナフタレン環、アセナフテン環、
インデン環などの縮環基、および前記縮環基上の水素原
子がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル
基で置換された基が挙げられる。
としてはベンゼン環、ナフタレン環、アセナフテン環、
インデン環などの縮環基、および前記縮環基上の水素原
子がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル
基で置換された基が挙げられる。
【００３７】炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水
素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基
にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基とし
てはヒドロキシ基および前記Ｌ1 と同様のアルコキシ
基、アリーロキシ基、アリールアルコキシ基などが挙げ
られる。
素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基
にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基とし
てはヒドロキシ基および前記Ｌ1 と同様のアルコキシ
基、アリーロキシ基、アリールアルコキシ基などが挙げ
られる。
【００３８】イオウ含有基としては前記酸素含有基の酸
素がイオウに置換した置換基などが挙げられる。ケイ素
含有基としては、前記Ｌ1 と同様のモノ炭化水素置換シ
リル、ジ炭化水素置換シリル、トリ炭化水素置換シリ
ル、炭化水素置換シリルのシリルエーテル、ケイ素置換
アルキル基、ケイ素置換アリール基などが挙げられる。
素がイオウに置換した置換基などが挙げられる。ケイ素
含有基としては、前記Ｌ1 と同様のモノ炭化水素置換シ
リル、ジ炭化水素置換シリル、トリ炭化水素置換シリ
ル、炭化水素置換シリルのシリルエーテル、ケイ素置換
アルキル基、ケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【００３９】窒素含有基としてはアミノ基；メチルアミ
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミ
ノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのア
ルキルアミノ基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、
ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルア
ミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールア
ミノ基などが挙げられる。
ノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミ
ノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのア
ルキルアミノ基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、
ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルア
ミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールア
ミノ基などが挙げられる。
【００４０】リン含有基としてはジメチルフォスフィ
ノ、ジフェニルフォスフィノなどのフォスフィノ基など
が挙げられる。ハロゲン原子としては、前記Ｌ1 と同様
のものが挙げられる。
ノ、ジフェニルフォスフィノなどのフォスフィノ基など
が挙げられる。ハロゲン原子としては、前記Ｌ1 と同様
のものが挙げられる。
【００４１】これらのうち炭素原子数が１〜２０の炭化
水素基または水素原子であることが好ましく、特にメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルの炭素原子数が１〜４の
炭化水素基、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン
環、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン環上の水
素原子がメチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、
n-ブチル、iso-ブチル、tert-ブチルなどのアルキル基
で置換された基であることが好ましい。
水素基または水素原子であることが好ましく、特にメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルの炭素原子数が１〜４の
炭化水素基、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン
環、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン環上の水
素原子がメチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、
n-ブチル、iso-ブチル、tert-ブチルなどのアルキル基
で置換された基であることが好ましい。
【００４２】Ｘ1 およびＸ2 は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、前記Ｌと同様の炭素原子数１〜２０の炭
化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素
基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲ
ン原子、または水素原子を示す。
ていてもよく、前記Ｌと同様の炭素原子数１〜２０の炭
化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素
基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲ
ン原子、または水素原子を示す。
【００４３】これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数
１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基であるこ
とが好ましい。Ｙ1 は、炭素原子数が１〜２０の２価の
炭化水素基、炭素原子数が１〜２０の２価のハロゲン化
炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム
含有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ
−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−Ｎ
Ｒ9−、−Ｐ（Ｒ9)−、−Ｐ（Ｏ)(Ｒ9)−、−ＢＲ9−ま
たは−ＡｌＲ9−〔ただし、Ｒ9 は、互いに同一でも異
なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素
基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、水
素原子またはハロゲン原子である〕を示す。
１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基であるこ
とが好ましい。Ｙ1 は、炭素原子数が１〜２０の２価の
炭化水素基、炭素原子数が１〜２０の２価のハロゲン化
炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム
含有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ
−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−Ｎ
Ｒ9−、−Ｐ（Ｒ9)−、−Ｐ（Ｏ)(Ｒ9)−、−ＢＲ9−ま
たは−ＡｌＲ9−〔ただし、Ｒ9 は、互いに同一でも異
なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素
基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、水
素原子またはハロゲン原子である〕を示す。
【００４４】Ｙ1 が示す炭素原子数が１〜２０の２価の
炭化水素基として具体的には、メチレン、ジメチルメチ
レン、1,2-エチレン、ジメチル-1,2-エチレン、1,3-ト
リメチレン、1,4-テトラメチレン、1,2-シクロヘキシレ
ン、1,4-シクロヘキシレンなどのアルキレン基；ジフェ
ニルメチレン、ジフェニル-1,2-エチレンなどのアリー
ルアルキレン基などが挙げられる。
炭化水素基として具体的には、メチレン、ジメチルメチ
レン、1,2-エチレン、ジメチル-1,2-エチレン、1,3-ト
リメチレン、1,4-テトラメチレン、1,2-シクロヘキシレ
ン、1,4-シクロヘキシレンなどのアルキレン基；ジフェ
ニルメチレン、ジフェニル-1,2-エチレンなどのアリー
ルアルキレン基などが挙げられる。
【００４５】炭素原子数が１〜２０の２価のハロゲン化
炭化水素基として具体的には、クロロメチレンなどの上
記炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基をハロゲン
化した基などが挙げられる。
炭化水素基として具体的には、クロロメチレンなどの上
記炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基をハロゲン
化した基などが挙げられる。
【００４６】２価のケイ素含有基としては、シリレン、
メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレ
ン、ジ（n-プロピル）シリレン、ジ（i-プロピル）シリ
レン、ジ（シクロヘキシル）シリレン、メチルフェニル
シリレン、ジフェニルシリレン、ジ（p-トリル）シリレ
ン、ジ（p-クロロフェニル）シリレンなどのアルキルシ
リレン基；アルキルアリールシリレン基；アリールシリ
レン基；テトラメチル-1,2-ジシリレン、テトラフェニ
ル-1,2-ジシリレンなどのアルキルジシリレン基；アル
キルアリールジシリレン基；アリールジシリレン基など
が挙げられる。
メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレ
ン、ジ（n-プロピル）シリレン、ジ（i-プロピル）シリ
レン、ジ（シクロヘキシル）シリレン、メチルフェニル
シリレン、ジフェニルシリレン、ジ（p-トリル）シリレ
ン、ジ（p-クロロフェニル）シリレンなどのアルキルシ
リレン基；アルキルアリールシリレン基；アリールシリ
レン基；テトラメチル-1,2-ジシリレン、テトラフェニ
ル-1,2-ジシリレンなどのアルキルジシリレン基；アル
キルアリールジシリレン基；アリールジシリレン基など
が挙げられる。
【００４７】２価のゲルマニウム含有基としては、上記
２価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した
基などが挙げられる。２価のスズ含有基としては、上記
２価のケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基などが
挙げられる。
２価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した
基などが挙げられる。２価のスズ含有基としては、上記
２価のケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基などが
挙げられる。
【００４８】また、Ｒ9 は、前記Ｌ1 と同様の炭素原子
数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハ
ロゲン化炭化水素基またはハロゲン原子である。これら
のうち、ジメチルシリレン、ジフェニルシリレン、メチ
ルフェニルシリレンなどの置換シリレン基が特に好まし
い。
数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハ
ロゲン化炭化水素基またはハロゲン原子である。これら
のうち、ジメチルシリレン、ジフェニルシリレン、メチ
ルフェニルシリレンなどの置換シリレン基が特に好まし
い。
【００４９】以下に、前記式（Ｉ-3）で表される遷移金
属化合物について具体的な化合物を例示する。エチレン
-ビス（インデニル）ジメチルジルコニウム、エチレン-
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレン
-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（トリフルオロ
メタンスルフォネート）、エチレン-ビス（インデニ
ル）ジルコニウムビス（メタンスルフォネート）、エチ
レン-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（p-トルエ
ンスルフォネート）、エチレン-ビス（インデニル）ジ
ルコニウムビス（p-クロルベンゼンスルフォネート）、
エチレン-ビス（4,5,6,7-テトラヒドロインデニル）ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリデン-ビス（シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル）ジルコニウムジクロ
リド、イソプロピリデン-ビス（シクロペンタジエニル)
(メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレン-ビス（シクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス（メ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレン-ビス（ジメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス
（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリレン-ビス（インデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス（インデニ
ル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルフォネ
ート）、ジメチルシリレン-ビス（4,5,6,7-テトラヒド
ロインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レン-ビス（シクロペンタジエニル)(フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレン-ビス（イ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、メチルフェニルシ
リレン-ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、r
ac-ジメチルシリレン-ビス（2,3,5-トリメチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス（2,4,7-トリメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-
ビス（2-メチル-4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン-(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレン-(3-tert-ブチルシクロペンタジ
エニル)(インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプ
ロピリデン-(4-メチルシクロペンタジエニル)(3-メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデ
ン-(4-tert-ブチルシクロペンタジエニル)(3-メチルイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
-(4-tert-ブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ン-(4-メチルシクロペンタジエニル)(3-メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-(4-te
rt-ブチルシクロペンタジエニル)(3-メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-(4-te
rt-ブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチルインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-(3-
tert-ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリデン-(3-tert-ブ
チルシクロペンタジエニル)(フルオレニル）ジルコニウ
ムジクロリドなど。
属化合物について具体的な化合物を例示する。エチレン
-ビス（インデニル）ジメチルジルコニウム、エチレン-
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレン
-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（トリフルオロ
メタンスルフォネート）、エチレン-ビス（インデニ
ル）ジルコニウムビス（メタンスルフォネート）、エチ
レン-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（p-トルエ
ンスルフォネート）、エチレン-ビス（インデニル）ジ
ルコニウムビス（p-クロルベンゼンスルフォネート）、
エチレン-ビス（4,5,6,7-テトラヒドロインデニル）ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリデン-ビス（シク
ロペンタジエニル)(フルオレニル）ジルコニウムジクロ
リド、イソプロピリデン-ビス（シクロペンタジエニル)
(メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレン-ビス（シクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス（メ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレン-ビス（ジメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス
（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリレン-ビス（インデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス（インデニ
ル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルフォネ
ート）、ジメチルシリレン-ビス（4,5,6,7-テトラヒド
ロインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レン-ビス（シクロペンタジエニル)(フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレン-ビス（イ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、メチルフェニルシ
リレン-ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、r
ac-ジメチルシリレン-ビス（2,3,5-トリメチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス（2,4,7-トリメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-
ビス（2-メチル-4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン-(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル）ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレン-(3-tert-ブチルシクロペンタジ
エニル)(インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプ
ロピリデン-(4-メチルシクロペンタジエニル)(3-メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデ
ン-(4-tert-ブチルシクロペンタジエニル)(3-メチルイ
ンデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン
-(4-tert-ブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ン-(4-メチルシクロペンタジエニル)(3-メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-(4-te
rt-ブチルシクロペンタジエニル)(3-メチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-(4-te
rt-ブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチルインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-(3-
tert-ブチルシクロペンタジエニル)(フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリデン-(3-tert-ブ
チルシクロペンタジエニル)(フルオレニル）ジルコニウ
ムジクロリドなど。
【００５０】また上記のような化合物中のジルコニウム
を、チタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げ
ることもできる。本発明では、前記式（Ｉ-3）で表され
る遷移金属化合物としてより具体的には下記一般式（Ｉ
-4）または（Ｉ-5）で表される遷移金属化合物が挙げら
れる。
を、チタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げ
ることもできる。本発明では、前記式（Ｉ-3）で表され
る遷移金属化合物としてより具体的には下記一般式（Ｉ
-4）または（Ｉ-5）で表される遷移金属化合物が挙げら
れる。
【００５１】
【化２】
【００５２】式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子
を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。Ｒ11は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素
原子数が１〜６の炭化水素基を示し、具体的には、メチ
ル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イ
ソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネ
オペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシルなどのアルキ
ル基；ビニル、プロペニルなどのアルケニル基などが挙
げられる。
を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。Ｒ11は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素
原子数が１〜６の炭化水素基を示し、具体的には、メチ
ル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イ
ソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネ
オペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシルなどのアルキ
ル基；ビニル、プロペニルなどのアルケニル基などが挙
げられる。
【００５３】これらのうちインデニル基に結合した炭素
原子が１級のアルキル基が好ましく、さらに炭素原子数
が１〜４のアルキル基が好ましく、特にメチル基および
エチル基が好ましい。
原子が１級のアルキル基が好ましく、さらに炭素原子数
が１〜４のアルキル基が好ましく、特にメチル基および
エチル基が好ましい。
【００５４】Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は、互いに同
一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子ま
たはＲ11と同様の炭素原子数が１〜６の炭化水素基を示
す。Ｒ13は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子または炭素原子数が６〜１６のアリール基を示し、
具体的には、フェニル、α-ナフチル、β-ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、ピレニル、アセナフチル、
フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフ
チル、インダニル、ビフェニリルなどが挙げられる。こ
れらのうちフェニル、ナフチル、アントリル、フェナン
トリルであることが好ましい。
一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子ま
たはＲ11と同様の炭素原子数が１〜６の炭化水素基を示
す。Ｒ13は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子または炭素原子数が６〜１６のアリール基を示し、
具体的には、フェニル、α-ナフチル、β-ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、ピレニル、アセナフチル、
フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフ
チル、インダニル、ビフェニリルなどが挙げられる。こ
れらのうちフェニル、ナフチル、アントリル、フェナン
トリルであることが好ましい。
【００５５】これらのアリール基は、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロ
ヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フ
ェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、
α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、アントリ
ル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニル、ア
セナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テト
ラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどのア
リール基などの炭素原子数が１〜２０の炭化水素基；ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリ
ルなどの有機シリル基で置換されていてもよい。
素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロ
ヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フ
ェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、
α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、アントリ
ル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニル、ア
セナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テト
ラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどのア
リール基などの炭素原子数が１〜２０の炭化水素基；ト
リメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリ
ルなどの有機シリル基で置換されていてもよい。
【００５６】Ｘ1 およびＸ2 は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、前記一般式（Ｉ-3）中のＸ1 およびＸ2
と同様である。これらのうち、ハロゲン原子または炭素
原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。
ていてもよく、前記一般式（Ｉ-3）中のＸ1 およびＸ2
と同様である。これらのうち、ハロゲン原子または炭素
原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。
【００５７】Ｙ1 は、前記一般式（Ｉ-3）中のＹ1 と同
様である。これらのうち、２価のケイ素含有基、２価の
ゲルマニウム含有基であることが好ましく、２価のケイ
素含有基であることがより好ましく、アルキルシリレ
ン、アルキルアリールシリレンまたはアリールシリレン
であることがより好ましい。
様である。これらのうち、２価のケイ素含有基、２価の
ゲルマニウム含有基であることが好ましく、２価のケイ
素含有基であることがより好ましく、アルキルシリレ
ン、アルキルアリールシリレンまたはアリールシリレン
であることがより好ましい。
【００５８】以下に上記一般式（Ｉ-4）で表される遷移
金属化合物の具体的な化合物を例示する。rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-（2-メチル-4-(β-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2-メチル-4-(1-アントリル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(2-アントリル）インデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
(9-フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
(p-フルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4-(ペンタフルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(p-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(m-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(o-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(o,p-ジクロロフェニル) フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-ブロモフェニル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-トリル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-メチル-4-(m-トリル）インデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-(o-トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
(o,o'-ジメチルフェニル)-1-インデニル) ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(p-エチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(p-i-プロピルフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(p-ベンジルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-メチル-4-(p-ビフェニル）インデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-(m-ビフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4-(p-トリメチルシリレンフェニル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-メチル-4-(m-トリメチルシリレンフェニル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-フェニル-4-フェニルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス
｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジ-(i-プロピル）シリレン-ビス｛1
-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジ-(n-ブチル）シリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジシクロヘキシルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-ト
リル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフ
ェニル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビ
ス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルゲルミレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルス
タニレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコ
ニウムジブロミド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジメチ
ル、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェ
ニルインデニル）｝ジルコニウムメチルクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムクロリドＳＯ2Ｍｅ、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムクロリドＯＳＯ2Ｍｅ、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-エチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-（2-エチル-4-(β-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2-エチル-4-(2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-（2-エチル-4-(5-アセナフチル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-エチル-4-(9-アントリル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(9-フェナントリル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(o-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(m-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(p-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(2,3-ジメチルフェニル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-エチル-4-(2,4-ジメチルフェニル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-エチル-4-(2,5-ジメチルフェニル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2,4,6-トリメチルフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(o-クロロフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(m-クロロフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(p-クロロフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2,3-ジクロロフェ
ニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2,6-ジクロロフ
ェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(3,5-ジクロロ
フェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2-ブロモフ
ェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(3-ブロモフェ
ニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-ブロモフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-ビフェニリル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-トリメチルシリルフ
ェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-フェニル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(α-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(β-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(2-メチル-1-
ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(5-アセ
ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(9-アン
トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(9-フェナ
ントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-フェニ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(α-ナフチル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(β-ナフチル）イ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(8-メチル-9-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(5-アセナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(9-アントリ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(9-フェナント
リル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(α-ナフチル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(β-ナフチル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(5-アセナフチル）インデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(9-アントリル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(9-フェナントリル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-n-ペンチル-4-フェニルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-(2-n-ペンチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
(2-n-ブチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル
-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-
(β-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-(2-
メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4
-(5-アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-
(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-(9-
フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-フ
ェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(α-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(β-ナフチル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(5-アセナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(9-アントリル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(9-フェナントリル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-ネオペンチル-4-フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-ネオペンチル-4-(α-ナフチル）インデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-n-ヘキシル-4-フェニルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-(2-n-ヘキシル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-
ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-(9-フェナントリル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル
-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-
(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(9-
フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-
ビフェニリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-メチレン-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビ
ス｛1-(2-エチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-(2-エチル
-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、r
ac-エチレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(α-ナフチル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビ
ス｛1-(2-n-プロピル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルゲルミル-ビス
｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-エチル
-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-n-プロピル-4
-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリドな
ど。
金属化合物の具体的な化合物を例示する。rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-（2-メチル-4-(β-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2-メチル-4-(1-アントリル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(2-アントリル）インデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
(9-フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
(p-フルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4-(ペンタフルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(p-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(m-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(o-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(o,p-ジクロロフェニル) フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-ブロモフェニル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-トリル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-メチル-4-(m-トリル）インデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-(o-トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
(o,o'-ジメチルフェニル)-1-インデニル) ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(p-エチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(p-i-プロピルフェニル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-(p-ベンジルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-メチル-4-(p-ビフェニル）インデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-(m-ビフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4-(p-トリメチルシリレンフェニル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-メチル-4-(m-トリメチルシリレンフェニル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-フェニル-4-フェニルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス
｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジ-(i-プロピル）シリレン-ビス｛1
-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジ-(n-ブチル）シリレン-ビス｛1-（2-
メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジシクロヘキシルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-
4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-ト
リル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフ
ェニル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビ
ス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-（2-メチル-4-
フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルゲルミレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルス
タニレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコ
ニウムジブロミド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジメチ
ル、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェ
ニルインデニル）｝ジルコニウムメチルクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムクロリドＳＯ2Ｍｅ、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムクロリドＯＳＯ2Ｍｅ、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-エチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-（2-エチル-4-(β-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2-エチル-4-(2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-（2-エチル-4-(5-アセナフチル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-エチル-4-(9-アントリル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(9-フェナントリル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(o-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(m-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(p-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2
-エチル-4-(2,3-ジメチルフェニル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2-エチル-4-(2,4-ジメチルフェニル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-エチル-4-(2,5-ジメチルフェニル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2,4,6-トリメチルフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(o-クロロフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(m-クロロフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(p-クロロフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2,3-ジクロロフェ
ニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2,6-ジクロロフ
ェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(3,5-ジクロロ
フェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(2-ブロモフ
ェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(3-ブロモフェ
ニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-ブロモフェニ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-ビフェニリル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-トリメチルシリルフ
ェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-フェニル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(α-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(β-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(2-メチル-1-
ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(5-アセ
ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(9-アン
トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-(9-フェナ
ントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-フェニ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(α-ナフチル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(β-ナフチル）イ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(8-メチル-9-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(5-アセナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(9-アントリ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-(9-フェナント
リル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(α-ナフチル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(β-ナフチル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(5-アセナフチル）インデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(9-アントリル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-(9-フェナントリル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-(2-n-ペンチル-4-フェニルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-(2-n-ペンチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
(2-n-ブチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル
-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-
(β-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-(2-
メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4
-(5-アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-
(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-(9-
フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-フ
ェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(α-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(β-ナフチル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(5-アセナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(9-アントリル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-(9-フェナントリル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-ネオペンチル-4-フェニルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-ネオペンチル-4-(α-ナフチル）インデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-n-ヘキシル-4-フェニルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
｛1-(2-n-ヘキシル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-
ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-(9-フェナントリル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル
-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-
(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(9-
フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(4-
ビフェニリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-メチレン-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビ
ス｛1-(2-エチル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-(2-エチル
-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、r
ac-エチレン-ビス｛1-(2-エチル-4-(α-ナフチル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビ
ス｛1-(2-n-プロピル-4-(α-ナフチル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルゲルミル-ビス
｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-エチル
-4-(α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-n-プロピル-4
-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリドな
ど。
【００５９】また上記のような化合物中のジルコニウム
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。本発明では、通常前記一般式（Ｉ-4）で
表される遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分として用
いられるが、Ｒ型またはＳ型を用いることもできる。
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。本発明では、通常前記一般式（Ｉ-4）で
表される遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分として用
いられるが、Ｒ型またはＳ型を用いることもできる。
【００６０】このような一般式（Ｉ-4）で表される遷移
金属化合物は、Journal of Organometallic Chem.288(1
985)、第63〜67頁、ヨーロッパ特許出願公開第0,320,76
2 号明細書および実施例に準じて製造することができ
る。
金属化合物は、Journal of Organometallic Chem.288(1
985)、第63〜67頁、ヨーロッパ特許出願公開第0,320,76
2 号明細書および実施例に準じて製造することができ
る。
【００６１】次に、一般式（Ｉ-5）で表される遷移金属
化合物について説明する。
化合物について説明する。
【００６２】
【化３】
【００６３】式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子
を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。Ｒ21およびＲ22は、互いに同一でも異なっていても
よく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数
が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオ
ウ含有基、ケイ素含有基、窒素含有基、リン含有基、ハ
ロゲン原子または水素原子を示し、具体的には、前記Ｒ
5 〜Ｒ8 と同様の原子または基が挙げられる。
を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。Ｒ21およびＲ22は、互いに同一でも異なっていても
よく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数
が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオ
ウ含有基、ケイ素含有基、窒素含有基、リン含有基、ハ
ロゲン原子または水素原子を示し、具体的には、前記Ｒ
5 〜Ｒ8 と同様の原子または基が挙げられる。
【００６４】これらのうちＲ21は、炭素原子数が１〜２
０の炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エ
チル、プロピルの炭素原子数が１〜３の炭化水素基であ
ることが好ましい。
０の炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エ
チル、プロピルの炭素原子数が１〜３の炭化水素基であ
ることが好ましい。
【００６５】Ｒ22は、水素原子または炭素原子数が１〜
２０の炭化水素基であることが好ましく、特に水素原子
または、メチル、エチル、プロピルの炭素原子数が１〜
３の炭化水素基であることが好ましい。
２０の炭化水素基であることが好ましく、特に水素原子
または、メチル、エチル、プロピルの炭素原子数が１〜
３の炭化水素基であることが好ましい。
【００６６】Ｒ23およびＲ24は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、炭素原子数が１〜２０のアルキル基を示
し、具体的にはメチル、エチル、n-プロピル、イソプロ
ピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチ
ル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、シクロヘ
キシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなど
のアルキル基；ノルボルニル、アダマンチルなどのシク
ロアルキル基などが挙げられる。
ていてもよく、炭素原子数が１〜２０のアルキル基を示
し、具体的にはメチル、エチル、n-プロピル、イソプロ
ピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチ
ル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、シクロヘ
キシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなど
のアルキル基；ノルボルニル、アダマンチルなどのシク
ロアルキル基などが挙げられる。
【００６７】これらのうちＲ23は、２級または３級アル
キル基であることが好ましい。Ｘ1 およびＸ2 は、互い
に同一でも異なっていてもよく、前記一般式（Ｉ-3）中
のＸ1 およびＸ2 と同様である。
キル基であることが好ましい。Ｘ1 およびＸ2 は、互い
に同一でも異なっていてもよく、前記一般式（Ｉ-3）中
のＸ1 およびＸ2 と同様である。
【００６８】Ｙ1 は、前記一般式（Ｉ-3）中のＹ1 と同
様である。以下に上記一般式（Ｉ-5）で表される遷移金
属化合物の具体的な化合物を例示する。
様である。以下に上記一般式（Ｉ-5）で表される遷移金
属化合物の具体的な化合物を例示する。
【００６９】rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジ
メチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-
n-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロ
ピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-n-ブチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-sec-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2,7-ジメチル-4-n-ペンチルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7
-ジメチル-4-n-ヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメ
チル-4-シクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメ
チル-4-メチルシクロヘキシルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7
-ジメチル-4-フェニルエチルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-
ジメチル-4-フェニルジクロロメチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2,7-ジメチル-4-クロロメチルインデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2,7-ジメチル-4-トリメチルシリルメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-トリメチルシロキシメチル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチル
シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（i-プロピ
ル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（n-ブチ
ル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（シクロ
ヘキシル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロ
ピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチ
ルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロ
ピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチ
ルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェ
ニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシ
リレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレ
ン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-エチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-
ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）
シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-エチルインデ
ニル）｝ジルコニウムジブロミド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-sec-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ペンチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ヘキシルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-シクロヘキシルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-メチルシクロヘキシ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-トリメチル
シリルメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-
トリメチルシロキシメチルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-フェニルエチルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,
3,7-トリメチル-4-フェニルジクロロメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-クロロメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（i-プロピル）
シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（n-ブチ
ル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（シ
クロヘキシル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-
4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメ
チル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7
-トリメチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7
-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）シリレン-ビ
ス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジメチル、rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニ
ル）｝ジルコニウムメチルクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルイン
デニル）｝ジルコニウム-ビス（メタンスルフォネー
ト）、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-
プロピル-7-メチルインデニル）｝ジルコニウム-ビス
（p-フェニルスルフィナト）、rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチル-3-メチル-4-i-プロピル-7-メチル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4,6-ジ-i-プロピルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-エチル-4-i-プロピル-7-メチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-フェニル-4-i-プロピル-7-メチルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-（2-メチルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-（2,4,7-トリメ
チルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-イソ
プロピリデン-ビス｛1-（2,4,7-トリメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリドなど。
メチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-
n-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロ
ピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-n-ブチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-sec-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2,7-ジメチル-4-n-ペンチルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7
-ジメチル-4-n-ヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメ
チル-4-シクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメ
チル-4-メチルシクロヘキシルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7
-ジメチル-4-フェニルエチルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-
ジメチル-4-フェニルジクロロメチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1
-（2,7-ジメチル-4-クロロメチルインデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2,7-ジメチル-4-トリメチルシリルメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-トリメチルシロキシメチル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチル
シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（i-プロピ
ル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（n-ブチ
ル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（シクロ
ヘキシル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロ
ピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチ
ルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロ
ピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチ
ルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェ
ニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシ
リレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレ
ン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-エチルインデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-
ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）
シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-エチルインデ
ニル）｝ジルコニウムジブロミド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-sec-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ペンチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ヘキシルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-シクロヘキシルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-メチルシクロヘキシ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-トリメチル
シリルメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-
トリメチルシロキシメチルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-フェニルエチルインデニル）｝ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,
3,7-トリメチル-4-フェニルジクロロメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-クロロメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン
-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（i-プロピル）
シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（n-ブチ
ル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（シ
クロヘキシル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-
4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメ
チル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-
トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7
-トリメチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7
-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）シリレン-ビ
ス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジメチル、rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニ
ル）｝ジルコニウムメチルクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルイン
デニル）｝ジルコニウム-ビス（メタンスルフォネー
ト）、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-
プロピル-7-メチルインデニル）｝ジルコニウム-ビス
（p-フェニルスルフィナト）、rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチル-3-メチル-4-i-プロピル-7-メチル
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4,6-ジ-i-プロピルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-エチル-4-i-プロピル-7-メチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2-フェニル-4-i-プロピル-7-メチルイ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシ
リレン-ビス｛1-（2-メチルインデニル）｝ジルコニウ
ムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-（2,4,7-トリメ
チルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-イソ
プロピリデン-ビス｛1-（2,4,7-トリメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリドなど。
【００７０】また上記のような化合物中のジルコニウム
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。これらの中で、４位にi-プロピル，sec-
ブチル，tert-ブチル基などの分岐アルキル基を有する
ものが、特に好ましい。
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。これらの中で、４位にi-プロピル，sec-
ブチル，tert-ブチル基などの分岐アルキル基を有する
ものが、特に好ましい。
【００７１】本発明では、通常前記一般式（Ｉ-5）で表
される遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分として用い
られるが、Ｒ型またはＳ型を用いることもできる。上記
のような一般式（Ｉ-5）で表される遷移金属化合物は、
インデン誘導体から既知の方法たとえば特開平４−２６
８３０７号公報に記載されている方法により合成するこ
とができる。
される遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分として用い
られるが、Ｒ型またはＳ型を用いることもできる。上記
のような一般式（Ｉ-5）で表される遷移金属化合物は、
インデン誘導体から既知の方法たとえば特開平４−２６
８３０７号公報に記載されている方法により合成するこ
とができる。
【００７２】また、本発明では、（Ａ）遷移金属化合物
成分として下記式（II-1）で表される化合物を用いるこ
ともできる。 Ｌ2 Ｍ1 Ｘ3 2 …（II-1） 式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子を示す。
成分として下記式（II-1）で表される化合物を用いるこ
ともできる。 Ｌ2 Ｍ1 Ｘ3 2 …（II-1） 式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子を示す。
【００７３】Ｌ2 は、非局在化π結合基の誘導体であ
り、金属Ｍ1 活性サイトに拘束幾何形状を付与してお
り、Ｘ3 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子または２０個以下の炭素原子、ケイ
素原子もしくはゲルマニウム原子を含有する炭化水素
基、シリル基もしくはゲルミル基である。
り、金属Ｍ1 活性サイトに拘束幾何形状を付与してお
り、Ｘ3 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子または２０個以下の炭素原子、ケイ
素原子もしくはゲルマニウム原子を含有する炭化水素
基、シリル基もしくはゲルミル基である。
【００７４】このような一般式（II-1）で表される化合
物のうちでは、下記式（II-2）で表される化合物が好ま
しい。
物のうちでは、下記式（II-2）で表される化合物が好ま
しい。
【００７５】
【化４】
【００７６】式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子
を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。Ｃｐは、Ｍ1 にπ結合しており、かつ置換基Ｚ1 を
有する置換シクロペンタジエニル基またはその誘導体を
示す。
を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはチタンまたはハフニウムであ
る。Ｃｐは、Ｍ1 にπ結合しており、かつ置換基Ｚ1 を
有する置換シクロペンタジエニル基またはその誘導体を
示す。
【００７７】Ｚ1 は、酸素原子、イオウ原子、ホウ素原
子または周期表第１４族の元素を含む配位子を示し、た
とえば−Ｓｉ（Ｒ25 2)−、−Ｃ（Ｒ25 2)−、−Ｓｉ（Ｒ
25 2)Ｓｉ（Ｒ25 2)−、−Ｃ（Ｒ25 2)Ｃ（Ｒ25 2)−、−Ｃ
（Ｒ25 2)Ｃ（Ｒ25 2)Ｃ（Ｒ25 2)−、−Ｃ（Ｒ25）＝Ｃ
（Ｒ25）−、−Ｃ（Ｒ25 2)Ｓｉ（Ｒ25 2)−、−Ｇｅ（Ｒ
25 2)−などである。
子または周期表第１４族の元素を含む配位子を示し、た
とえば−Ｓｉ（Ｒ25 2)−、−Ｃ（Ｒ25 2)−、−Ｓｉ（Ｒ
25 2)Ｓｉ（Ｒ25 2)−、−Ｃ（Ｒ25 2)Ｃ（Ｒ25 2)−、−Ｃ
（Ｒ25 2)Ｃ（Ｒ25 2)Ｃ（Ｒ25 2)−、−Ｃ（Ｒ25）＝Ｃ
（Ｒ25）−、−Ｃ（Ｒ25 2)Ｓｉ（Ｒ25 2)−、−Ｇｅ（Ｒ
25 2)−などである。
【００７８】Ｙ2 は、窒素原子、リン原子、酸素原子ま
たはイオウ原子を含む配位子を示し、たとえば−Ｎ（Ｒ
26）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ（Ｒ26）−などである。
またＺ1 とＹ2 とで縮合環を形成してもよい。
たはイオウ原子を含む配位子を示し、たとえば−Ｎ（Ｒ
26）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ（Ｒ26）−などである。
またＺ1 とＹ2 とで縮合環を形成してもよい。
【００７９】上記Ｒ25は水素原子または２０個までの非
水素原子をもつアルキル、アリール、シリル、ハロゲン
化アルキル、ハロゲン化アリール基またびそれらの組合
せから選ばれた基であり、Ｒ26は炭素原子数１〜１０の
アルキル、炭素原子数６〜１０のアリール基若しくは炭
素原子数７〜１０のアラルキル基であるか、または１個
若しくはそれ以上のＲ25と３０個までの非水素原子の縮
合環系を形成してもよい。
水素原子をもつアルキル、アリール、シリル、ハロゲン
化アルキル、ハロゲン化アリール基またびそれらの組合
せから選ばれた基であり、Ｒ26は炭素原子数１〜１０の
アルキル、炭素原子数６〜１０のアリール基若しくは炭
素原子数７〜１０のアラルキル基であるか、または１個
若しくはそれ以上のＲ25と３０個までの非水素原子の縮
合環系を形成してもよい。
【００８０】以下に上記一般式（II-2）で表される遷移
金属化合物の具体的な化合物を例示する。(tert-ブチル
アミド)(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2
-エタンジイルジルコニウムジクロリド、(tert-ブチル
アミド)(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2
-エタンジイルチタンジクロリド、（メチルアミド)(テ
トラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2-エタンジ
イルジルコニウムジクロリド、（メチルアミド)(テトラ
メチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2-エタンジイル
チタンジクロリド、（エチルアミド)(テトラメチル-η5
-シクロペンタジエニル)-メチレンチタンジクロリド、
(tert-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シ
クロペンタジエニル）シランチタンジクロリド、(tert-
ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シクロペ
ンタジエニル）シランジルコニウムジクロリド、（ベン
ジルアミド）ジメチル-(テトラメチル-η5-シクロペン
タジエニル）シランチタンジクロリド、（フェニルホス
フィド）ジメチル（テトラメチル-η5-シクロペンタジ
エニル）シランジルコニウムジベンジルなど。
金属化合物の具体的な化合物を例示する。(tert-ブチル
アミド)(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2
-エタンジイルジルコニウムジクロリド、(tert-ブチル
アミド)(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2
-エタンジイルチタンジクロリド、（メチルアミド)(テ
トラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2-エタンジ
イルジルコニウムジクロリド、（メチルアミド)(テトラ
メチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2-エタンジイル
チタンジクロリド、（エチルアミド)(テトラメチル-η5
-シクロペンタジエニル)-メチレンチタンジクロリド、
(tert-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シ
クロペンタジエニル）シランチタンジクロリド、(tert-
ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シクロペ
ンタジエニル）シランジルコニウムジクロリド、（ベン
ジルアミド）ジメチル-(テトラメチル-η5-シクロペン
タジエニル）シランチタンジクロリド、（フェニルホス
フィド）ジメチル（テトラメチル-η5-シクロペンタジ
エニル）シランジルコニウムジベンジルなど。
【００８１】本発明で遷移金属化合物成分として用いら
れる遷移金属アミド化合物は、下記一般式（III）で表
される化合物である。 （Ｒ2 Ｎ）k Ｍ2 Ｘ4 j-k …（III） 式中、Ｍ2 は、周期表第３〜６族の遷移金属原子を示
し、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどの周期表第
４族の遷移金属原子であることが好ましい。
れる遷移金属アミド化合物は、下記一般式（III）で表
される化合物である。 （Ｒ2 Ｎ）k Ｍ2 Ｘ4 j-k …（III） 式中、Ｍ2 は、周期表第３〜６族の遷移金属原子を示
し、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどの周期表第
４族の遷移金属原子であることが好ましい。
【００８２】ｊは遷移金属原子Ｍ2 の価数を表す。ｋは
１〜ｊの整数を表す。Ｒは、互いに同一でも異なってい
てもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素
基、有機シリル基または、窒素、酸素、リン、イオウお
よびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有する
置換基を示す。
１〜ｊの整数を表す。Ｒは、互いに同一でも異なってい
てもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素
基、有機シリル基または、窒素、酸素、リン、イオウお
よびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有する
置換基を示す。
【００８３】炭化水素基として具体的には、メチル、エ
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、デシル、オクタデシルなどの炭素原子数が１
〜２０の直鎖または分岐状のアルキル基；フェニル、ナ
フチルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これ
らのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル
基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基；シ
クロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、
シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェ
ニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル
基などが挙げられる。
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、
オクチル、デシル、オクタデシルなどの炭素原子数が１
〜２０の直鎖または分岐状のアルキル基；フェニル、ナ
フチルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これ
らのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル
基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基；シ
クロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、
シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェ
ニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル
基などが挙げられる。
【００８４】ハロゲン化炭化水素基としては、前記炭化
水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。有機シリ
ル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリ
ル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げ
られる。
水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。有機シリ
ル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリ
ル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げ
られる。
【００８５】窒素、酸素、リン、イオウおよびケイ素か
ら選ばれる少なくとも１種の元素を有する置換基として
は、前記炭化水素基に、−ＣＯＯＣＨ3 、−Ｎ（Ｃ
Ｈ3 ）Ｃ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＣＮ、
−Ｎ（Ｃ2 Ｈ5 ）2 、−Ｎ（ＣＨ 3 ）Ｓ（Ｏ2 ）Ｃ
Ｈ3 、−Ｐ（Ｃ6 Ｈ5 ）2 などの窒素、酸素、リン、イ
オウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を
有する置換基が置換した基が挙げられる。
ら選ばれる少なくとも１種の元素を有する置換基として
は、前記炭化水素基に、−ＣＯＯＣＨ3 、−Ｎ（Ｃ
Ｈ3 ）Ｃ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＣＮ、
−Ｎ（Ｃ2 Ｈ5 ）2 、−Ｎ（ＣＨ 3 ）Ｓ（Ｏ2 ）Ｃ
Ｈ3 、−Ｐ（Ｃ6 Ｈ5 ）2 などの窒素、酸素、リン、イ
オウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を
有する置換基が置換した基が挙げられる。
【００８６】これらのなかでは、有機シリル基が好まし
く、特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフ
ェニルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル基が好まし
い。同一の窒素原子に結合するＲで示される基は、互い
に連結して脂肪族環などの環を形成していてもよい。
く、特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフ
ェニルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル基が好まし
い。同一の窒素原子に結合するＲで示される基は、互い
に連結して脂肪族環などの環を形成していてもよい。
【００８７】ｋが２以上の場合、異なる窒素原子に結合
するＲで示される基は、互いに同一でも異なっていても
よく、また互いに連結して２個の窒素原子を結合する結
合基を形成していてもよい。
するＲで示される基は、互いに同一でも異なっていても
よく、また互いに連結して２個の窒素原子を結合する結
合基を形成していてもよい。
【００８８】Ｘ4 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原
子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
ゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素
含有基を示し、具体的には前記一般式（Ｉ-1）中のＸ1
およびＸ2 と同じである。これらのうち、ハロゲン原子
またはスルフォネート基であることが好ましい。
子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
ゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素
含有基を示し、具体的には前記一般式（Ｉ-1）中のＸ1
およびＸ2 と同じである。これらのうち、ハロゲン原子
またはスルフォネート基であることが好ましい。
【００８９】なお、ｊ−ｋが２以上の場合には、複数の
Ｘ4 は互いに同一でも異なっていてもよい。以下に、前
記一般式（III）で表される遷移金属アミド化合物の具
体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
ビス（ジメチルアミド）チタニウムジクロリド、ビス
（ジエチルアミド）チタニウムジクロリド、ビス（ジプ
ロピルアミド）チタニウムジクロリド、ジイソプロピル
アミドチタニウムトリクロリド、ビス（ジイソプロピル
アミド）チタニウムジクロリド、トリス（ジイソプロピ
ルアミド）チタニウムクロリド、テトラキス（ジイソプ
ロピルアミド）チタニウム、ジブチルアミドチタニウム
トリクロリド、ビス（ジブチルアミド）チタニウムジク
ロリド、トリス（ジブチルアミド）チタニウムクロリ
ド、テトラキス（ジブチルアミド）チタニウム、ビス
（ジイソブチルアミド）チタニウムジクロリド、ビス
（ジヘキシルアミド）チタニウムジクロリド、ジオクチ
ルアミドチタニウムトリクロリド、ビス（ジオクチルア
ミド）チタニウムジクロリド、トリス（ジオクチルアミ
ド）チタニウムクロリド、テトラキス（ジオクチルアミ
ド）チタニウム、ビス（ジデシルアミド）チタニウムジ
クロリド、ビス（ジオクタデシルアミド）チタニウムジ
クロリド、ビス（ジエチルアミド）ビス[ビス（トリメ
チルシリル）アミド]チタニウム、ビス［ビス（トリメ
チルシリル）アミド］チタニウムジクロリド、トリス
［ビス（トリメチルシリル）アミド］チタニウムクロリ
ド、テトラキス［ビス（トリメチルシリル）アミド］チ
タニウムなど。
Ｘ4 は互いに同一でも異なっていてもよい。以下に、前
記一般式（III）で表される遷移金属アミド化合物の具
体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
ビス（ジメチルアミド）チタニウムジクロリド、ビス
（ジエチルアミド）チタニウムジクロリド、ビス（ジプ
ロピルアミド）チタニウムジクロリド、ジイソプロピル
アミドチタニウムトリクロリド、ビス（ジイソプロピル
アミド）チタニウムジクロリド、トリス（ジイソプロピ
ルアミド）チタニウムクロリド、テトラキス（ジイソプ
ロピルアミド）チタニウム、ジブチルアミドチタニウム
トリクロリド、ビス（ジブチルアミド）チタニウムジク
ロリド、トリス（ジブチルアミド）チタニウムクロリ
ド、テトラキス（ジブチルアミド）チタニウム、ビス
（ジイソブチルアミド）チタニウムジクロリド、ビス
（ジヘキシルアミド）チタニウムジクロリド、ジオクチ
ルアミドチタニウムトリクロリド、ビス（ジオクチルア
ミド）チタニウムジクロリド、トリス（ジオクチルアミ
ド）チタニウムクロリド、テトラキス（ジオクチルアミ
ド）チタニウム、ビス（ジデシルアミド）チタニウムジ
クロリド、ビス（ジオクタデシルアミド）チタニウムジ
クロリド、ビス（ジエチルアミド）ビス[ビス（トリメ
チルシリル）アミド]チタニウム、ビス［ビス（トリメ
チルシリル）アミド］チタニウムジクロリド、トリス
［ビス（トリメチルシリル）アミド］チタニウムクロリ
ド、テトラキス［ビス（トリメチルシリル）アミド］チ
タニウムなど。
【００９０】上記以外にも、前記一般式（III）で表さ
れる遷移金属アミド化合物として、上記化合物中のチタ
ンがジルコニウムまたはハフニウムに置き代わった化合
物などが挙げられる。
れる遷移金属アミド化合物として、上記化合物中のチタ
ンがジルコニウムまたはハフニウムに置き代わった化合
物などが挙げられる。
【００９１】前記一般式（III）で表される遷移金属ア
ミド化合物のうち、異なる窒素原子に結合する２個のＲ
が互いに結合して２個の窒素原子を結合する結合基を形
成している化合物としては、下記一般式（III-1）で表
される化合物を挙げることができる。
ミド化合物のうち、異なる窒素原子に結合する２個のＲ
が互いに結合して２個の窒素原子を結合する結合基を形
成している化合物としては、下記一般式（III-1）で表
される化合物を挙げることができる。
【００９２】
【化５】
【００９３】式中、Ｍ2 は、前記一般式（III）におけ
るＭ2 と同じであり、チタン、ジルコニウム、ハフニウ
ムなどの周期表第４族の遷移金属原子であることが好ま
しく、特にチタンが好ましい。
るＭ2 と同じであり、チタン、ジルコニウム、ハフニウ
ムなどの周期表第４族の遷移金属原子であることが好ま
しく、特にチタンが好ましい。
【００９４】Ｒ’およびＲ''は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化
水素基、有機シリル基または、窒素、酸素、リン、イオ
ウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有
する置換基を示し、具体的には、前記一般式（III）中
のＲと同様の基が挙げられる。
ていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化
水素基、有機シリル基または、窒素、酸素、リン、イオ
ウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有
する置換基を示し、具体的には、前記一般式（III）中
のＲと同様の基が挙げられる。
【００９５】ｍは、０〜２の整数である。ｎは、１〜５
の整数である。Ａは、周期表第１３〜１６族の原子を示
し、具体的には、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸
素原子、ケイ素原子、リン原子、イオウ原子、ゲルマニ
ウム原子、セレン原子、スズ原子などが挙げられ、炭素
原子またはケイ素原子であることが好ましい。ｎが２以
上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なってい
てもよい。
の整数である。Ａは、周期表第１３〜１６族の原子を示
し、具体的には、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸
素原子、ケイ素原子、リン原子、イオウ原子、ゲルマニ
ウム原子、セレン原子、スズ原子などが挙げられ、炭素
原子またはケイ素原子であることが好ましい。ｎが２以
上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なってい
てもよい。
【００９６】Ｅは、炭素、水素、酸素、ハロゲン、窒
素、イオウ、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる少
なくとも１種の元素を有する置換基である。Ｅで示され
る基が複数存在する場合は、Ｅで示される複数の基は、
互いに同一でも異なっていてもよく、またＥで示される
２個以上の基が互いに連結して環を形成していてもよ
い。
素、イオウ、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる少
なくとも１種の元素を有する置換基である。Ｅで示され
る基が複数存在する場合は、Ｅで示される複数の基は、
互いに同一でも異なっていてもよく、またＥで示される
２個以上の基が互いに連結して環を形成していてもよ
い。
【００９７】このような−（（Ｅm ）Ａ）n −で示され
る２個の窒素原子を結合する結合基として具体的には以
下のような基などが挙げられる。−ＣＨ2 −、−Ｃ（Ｍ
ｅ)2−、−Ｃ（Ｐｈ)2−、−Ｓｉ（Ｍｅ)2−、−Ｓｉ
（Ｐｈ)2−、−Ｓｉ（Ｍｅ)(Ｐｈ）−、−ＣＨ2 ＣＨ2
−、−ＣＨ2 Ｓｉ（Ｍｅ)2−、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｅ
ｔ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（nＰｒ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 Ｃ（iＰｒ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（nＢｕ)2ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（iＢｕ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（sＢ
ｕ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（cＰｅｎ)2ＣＨ2 −、−Ｃ
Ｈ2 Ｃ（cＨｅｘ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｐｈ)2ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)(Ｅｔ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ
（Ｍｅ)(iＰｒ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)(iＢｕ）
ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)(tＢｕ）ＣＨ2 −、−Ｃ
Ｈ2 Ｃ（Ｍｅ)(iＰｅｎ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)
(Ｐｈ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｅｔ)(iＰｒ）ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｅｔ)(iＢｕ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2Ｃ
（Ｅｔ)(iＰｅｎ）ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ(iＰｒ)(iＢｕ）
ＣＨ2−、−ＣＨ2 Ｃ（i Ｐｒ)(i Ｐｅｎ）ＣＨ2 −、
−ＣＨ2 Ｓｉ（Ｍｅ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓｉ（Ｅｔ)2
ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓｉ（n-Ｂｕ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2
Ｓｉ（Ｐｈ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2 ＣＨ（Ｍ
ｅ）−、−ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ2 ＣＨ（Ｐｈ）−、−Ｓｉ
（Ｍｅ)2ＯＳｉ（Ｍｅ)2−、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −、−Ｓｉ（Ｍｅ)2ＣＨ2 ＣＨ2 Ｓｉ（Ｍｅ)2−、
る２個の窒素原子を結合する結合基として具体的には以
下のような基などが挙げられる。−ＣＨ2 −、−Ｃ（Ｍ
ｅ)2−、−Ｃ（Ｐｈ)2−、−Ｓｉ（Ｍｅ)2−、−Ｓｉ
（Ｐｈ)2−、−Ｓｉ（Ｍｅ)(Ｐｈ）−、−ＣＨ2 ＣＨ2
−、−ＣＨ2 Ｓｉ（Ｍｅ)2−、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｅ
ｔ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（nＰｒ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ
2 Ｃ（iＰｒ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（nＢｕ)2ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（iＢｕ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（sＢ
ｕ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（cＰｅｎ)2ＣＨ2 −、−Ｃ
Ｈ2 Ｃ（cＨｅｘ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｐｈ)2ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)(Ｅｔ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ
（Ｍｅ)(iＰｒ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)(iＢｕ）
ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)(tＢｕ）ＣＨ2 −、−Ｃ
Ｈ2 Ｃ（Ｍｅ)(iＰｅｎ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｍｅ)
(Ｐｈ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｅｔ)(iＰｒ）ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｅｔ)(iＢｕ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2Ｃ
（Ｅｔ)(iＰｅｎ）ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ(iＰｒ)(iＢｕ）
ＣＨ2−、−ＣＨ2 Ｃ（i Ｐｒ)(i Ｐｅｎ）ＣＨ2 −、
−ＣＨ2 Ｓｉ（Ｍｅ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓｉ（Ｅｔ)2
ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓｉ（n-Ｂｕ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ2
Ｓｉ（Ｐｈ)2ＣＨ2 −、−ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2 ＣＨ（Ｍ
ｅ）−、−ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ2 ＣＨ（Ｐｈ）−、−Ｓｉ
（Ｍｅ)2ＯＳｉ（Ｍｅ)2−、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −、−Ｓｉ（Ｍｅ)2ＣＨ2 ＣＨ2 Ｓｉ（Ｍｅ)2−、
【００９８】
【化６】
【００９９】
【化７】
【０１００】
【化８】
【０１０１】
【化９】
【０１０２】
【化１０】
【０１０３】なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示
し、Ｅｔはエチル基を示し、ｎＰｒはn-プロピル基を示
し、ｉＰｒはイソプロピル基を示し、ｎＢｕはn-ブチル
基を示し、ｉＢｕはイソブチル基を示し、ｓＢｕはsec-
ブチル基を示し、t-Ｂｕはtert-ブチル基を示し、ｉＰ
ｅｎはイソペンチル基を示し、ｃＰｅｎはシクロペンチ
ル基を示し、ｃＨｅｘはシクロヘキシル基を示し、Ｐｈ
はフェニル基を示す。
し、Ｅｔはエチル基を示し、ｎＰｒはn-プロピル基を示
し、ｉＰｒはイソプロピル基を示し、ｎＢｕはn-ブチル
基を示し、ｉＢｕはイソブチル基を示し、ｓＢｕはsec-
ブチル基を示し、t-Ｂｕはtert-ブチル基を示し、ｉＰ
ｅｎはイソペンチル基を示し、ｃＰｅｎはシクロペンチ
ル基を示し、ｃＨｅｘはシクロヘキシル基を示し、Ｐｈ
はフェニル基を示す。
【０１０４】ｐは、０〜４の整数である。Ｘ4 は、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素
基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素
含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、具体
的には、前記一般式（III）中のＸ4 と同じである。な
お、ｐが２以上の場合には、Ｘ4 で示される複数の基
は、互いに同一でも異なっていてもよい。
原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素
基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素
含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、具体
的には、前記一般式（III）中のＸ4 と同じである。な
お、ｐが２以上の場合には、Ｘ4 で示される複数の基
は、互いに同一でも異なっていてもよい。
【０１０５】これらのうち、ハロゲン原子またはスルフ
ォネート基であることが好ましい。前記一般 以下に、
上記一般式（III-1）で表される遷移金属アミド化合物
の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではな
い。
ォネート基であることが好ましい。前記一般 以下に、
上記一般式（III-1）で表される遷移金属アミド化合物
の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではな
い。
【０１０６】
【化１１】
【０１０７】
【化１２】
【０１０８】
【化１３】
【０１０９】
【化１４】
【０１１０】
【化１５】
【０１１１】なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示
し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはイソプロピル基を
示し、ｔＢｕは tert-ブチル基を示す。本発明では、上
記のような化合物において、チタンをジルコニウム、ハ
フニウムに置き換えた遷移金属アミド化合物を用いるこ
ともできる。
し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはイソプロピル基を
示し、ｔＢｕは tert-ブチル基を示す。本発明では、上
記のような化合物において、チタンをジルコニウム、ハ
フニウムに置き換えた遷移金属アミド化合物を用いるこ
ともできる。
【０１１２】本発明では、前記一般式（II-1）で表され
る遷移金属アミド化合物のうち、Ｒ’とＲ''が、アルキ
ル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基で
ある、下記一般式（II-2）で表される遷移金属アミド化
合物を用いることが望ましい。
る遷移金属アミド化合物のうち、Ｒ’とＲ''が、アルキ
ル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基で
ある、下記一般式（II-2）で表される遷移金属アミド化
合物を用いることが望ましい。
【０１１３】
【化１６】
【０１１４】式中、Ｍ2 は、前記一般式（III）におけ
るＭ2 と同じであり、チタン、ジルコニウム、ハフニウ
ムなどの周期表第４族の遷移金属原子であることが好ま
しく、特にチタンが好ましい。
るＭ2 と同じであり、チタン、ジルコニウム、ハフニウ
ムなどの周期表第４族の遷移金属原子であることが好ま
しく、特にチタンが好ましい。
【０１１５】Ｒ11〜Ｒ20は、互いに同一でも異なってい
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロ
ゲン化炭化水素基、有機シリル基、アルコキシ基、アリ
ーロキシ基、−ＣＯＯＲ21、−Ｎ（Ｒ22）Ｃ（Ｏ）
Ｒ23、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ24、−ＣＮ、−ＮＲ25 2 または−
Ｎ（Ｒ26）Ｓ（Ｏ2 ）Ｒ27（ただし、Ｒ21〜Ｒ27は炭素
原子数が１〜５のアルキル基を示す。）を示す。ただ
し、Ｒ11〜Ｒ15のうち少なくとも１つは水素以外の基で
あり、かつＲ16〜Ｒ20のうち少なくとも１つは水素以外
の基である。
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロ
ゲン化炭化水素基、有機シリル基、アルコキシ基、アリ
ーロキシ基、−ＣＯＯＲ21、−Ｎ（Ｒ22）Ｃ（Ｏ）
Ｒ23、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ24、−ＣＮ、−ＮＲ25 2 または−
Ｎ（Ｒ26）Ｓ（Ｏ2 ）Ｒ27（ただし、Ｒ21〜Ｒ27は炭素
原子数が１〜５のアルキル基を示す。）を示す。ただ
し、Ｒ11〜Ｒ15のうち少なくとも１つは水素以外の基で
あり、かつＲ16〜Ｒ20のうち少なくとも１つは水素以外
の基である。
【０１１６】ハロゲン原子としては、前記一般式（II
I）中のＸ4 と同じであり、炭化水素基、ハロゲン化炭
化水素基および有機シリル基としては、前記一般式（II
I-1）中のＲ’およびＲ''と同じである。
I）中のＸ4 と同じであり、炭化水素基、ハロゲン化炭
化水素基および有機シリル基としては、前記一般式（II
I-1）中のＲ’およびＲ''と同じである。
【０１１７】アルコキシ基として具体的には、メトキ
シ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブト
キシ、イソブトキシ、tert-ブトキシなどが挙げられ
る。アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、2,
6-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシな
どが挙げられる。
シ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブト
キシ、イソブトキシ、tert-ブトキシなどが挙げられ
る。アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、2,
6-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシな
どが挙げられる。
【０１１８】−ＣＯＯＲ21、−Ｎ（Ｒ22）Ｃ（Ｏ）
Ｒ23、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ24、−ＣＮ、−ＮＲ25 2 または−
Ｎ（Ｒ26）Ｓ（Ｏ2)Ｒ27（ただし、Ｒ21〜Ｒ27は炭素原
子数が１〜５のアルキル基を示す。）で示される基とし
ては、−ＣＯＯＣＨ3 、−Ｎ（ＣＨ3)Ｃ（Ｏ）ＣＨ3 、
−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＣＮ、−Ｎ（Ｃ2Ｈ5)2 、−Ｎ
（ＣＨ3)Ｓ（Ｏ2)ＣＨ3 などが挙げられる。
Ｒ23、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ24、−ＣＮ、−ＮＲ25 2 または−
Ｎ（Ｒ26）Ｓ（Ｏ2)Ｒ27（ただし、Ｒ21〜Ｒ27は炭素原
子数が１〜５のアルキル基を示す。）で示される基とし
ては、−ＣＯＯＣＨ3 、−Ｎ（ＣＨ3)Ｃ（Ｏ）ＣＨ3 、
−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＣＮ、−Ｎ（Ｃ2Ｈ5)2 、−Ｎ
（ＣＨ3)Ｓ（Ｏ2)ＣＨ3 などが挙げられる。
【０１１９】またＲ11〜Ｒ15で示される基のうちの２個
以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結してそれ
ぞれが結合する炭素原子とともに芳香族環、脂肪族環な
どの環を形成していてもよく、Ｒ16〜Ｒ20で示される基
のうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに
連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに芳香族
環、脂肪族環などの環を形成していてもよい。
以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結してそれ
ぞれが結合する炭素原子とともに芳香族環、脂肪族環な
どの環を形成していてもよく、Ｒ16〜Ｒ20で示される基
のうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに
連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに芳香族
環、脂肪族環などの環を形成していてもよい。
【０１２０】ｍは、０〜２の整数である。ｎは、１〜５
の整数である。Ａは、前記一般式（III-1）におけるＡ
と同じであり、炭素原子またはケイ素原子であることが
好ましい。ｎが２以上の場合には、複数のＡは、互いに
同一でも異なっていてもよい。
の整数である。Ａは、前記一般式（III-1）におけるＡ
と同じであり、炭素原子またはケイ素原子であることが
好ましい。ｎが２以上の場合には、複数のＡは、互いに
同一でも異なっていてもよい。
【０１２１】Ｅは、前記一般式（III-1）におけるＥと
同じであり、好ましくは炭素、水素、窒素およびケイ素
から選ばれる少なくとも１種の元素を含有する置換基で
ある。Ｅで示される基が複数存在する場合は、Ｅで示さ
れる複数の基は、互いに同一でも異なっていてもよく、
またＥで示される２個以上の基が互いに連結して環を形
成していてもよい。
同じであり、好ましくは炭素、水素、窒素およびケイ素
から選ばれる少なくとも１種の元素を含有する置換基で
ある。Ｅで示される基が複数存在する場合は、Ｅで示さ
れる複数の基は、互いに同一でも異なっていてもよく、
またＥで示される２個以上の基が互いに連結して環を形
成していてもよい。
【０１２２】このような−（（Ｅm ）Ａ）n −で示され
る２個の窒素原子を結合する結合基として具体的には前
記と同様の基などが挙げられる。ｐは、０〜４の整数で
ある。
る２個の窒素原子を結合する結合基として具体的には前
記と同様の基などが挙げられる。ｐは、０〜４の整数で
ある。
【０１２３】Ｘ4 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原
子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０の
ハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基また
はケイ素含有基を示し、具体的には、前記一般式（II
I）におけるＸと同じである。
子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０の
ハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基また
はケイ素含有基を示し、具体的には、前記一般式（II
I）におけるＸと同じである。
【０１２４】これらのうち、ハロゲン原子またはスルフ
ォネート基であることが好ましい。ｐが２以上の場合に
はＸ4 で示される複数の基は、互いに同一でも異なって
いてもよい。
ォネート基であることが好ましい。ｐが２以上の場合に
はＸ4 で示される複数の基は、互いに同一でも異なって
いてもよい。
【０１２５】以下に、上記一般式（III-2）で表される
遷移金属アミド化合物の具体的な例を示すが、これらに
限定されるものではない。
遷移金属アミド化合物の具体的な例を示すが、これらに
限定されるものではない。
【０１２６】
【化１７】
【０１２７】
【化１８】
【０１２８】
【化１９】
【０１２９】
【化２０】
【０１３０】
【化２１】
【０１３１】
【化２２】
【０１３２】
【化２３】
【０１３３】
【化２４】
【０１３４】
【化２５】
【０１３５】
【化２６】
【０１３６】
【化２７】
【０１３７】
【化２８】
【０１３８】
【化２９】
【０１３９】なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示
し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはiso-プロピル基を
示し、ｎＰｒはn-プロピル基を示し、ｎＢｕはn-ブチル
基、ｓＢｕはsec-ブチル基、t Ｂｕは tert-ブチル基、
ｎＯctはn-オクチル基を示す。
し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはiso-プロピル基を
示し、ｎＰｒはn-プロピル基を示し、ｎＢｕはn-ブチル
基、ｓＢｕはsec-ブチル基、t Ｂｕは tert-ブチル基、
ｎＯctはn-オクチル基を示す。
【０１４０】本発明では、上記のような化合物におい
て、チタンをジルコニウム、ハフニウムに置き換えた遷
移金属アミド化合物を用いることもできる。これらの遷
移金属アミド化合物の中では、前記一般式（III）にお
いて、Ｍ2がジルコニウムであり、Ｒが有機シリル基で
ある化合物または、前記一般式（III-2）において、Ｍ
2 がチタンであり、２個の窒素原子を結合する基のＡが
炭素またはケイ素であり、ｎが２または３である化合物
が好ましい。
て、チタンをジルコニウム、ハフニウムに置き換えた遷
移金属アミド化合物を用いることもできる。これらの遷
移金属アミド化合物の中では、前記一般式（III）にお
いて、Ｍ2がジルコニウムであり、Ｒが有機シリル基で
ある化合物または、前記一般式（III-2）において、Ｍ
2 がチタンであり、２個の窒素原子を結合する基のＡが
炭素またはケイ素であり、ｎが２または３である化合物
が好ましい。
【０１４１】上記の遷移金属化合物は、１種単独でまた
は２種以上組合わせて用いることができる。また上記の
遷移金属化合物は、脂肪族または脂環族炭化水素の溶液
またはスラリーとして用いることができる。
は２種以上組合わせて用いることができる。また上記の
遷移金属化合物は、脂肪族または脂環族炭化水素の溶液
またはスラリーとして用いることができる。
【０１４２】（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物成分 本発明で用いられる（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物
成分は、前記遷移金属化合物と反応してイオン対を形成
する化合物を含む成分である。
成分は、前記遷移金属化合物と反応してイオン対を形成
する化合物を含む成分である。
【０１４３】イオン性ホウ素化合物は、カチオンとホウ
素化合物アニオンとからなる塩である。ホウ素化合物ア
ニオンは前記遷移金属化合物と反応することにより遷移
金属化合物をカチオン化し、イオン対を形成することに
より遷移金属カチオン種を安定化させる働きがある。そ
のようなホウ素化合物アニオンとしては、有機ホウ素化
合物アニオンなどの比較的嵩高で遷移金属カチオン種を
安定化させるものが好ましい。カチオンとしては、金属
カチオン、有機金属カチオン、カルボニウムカチオン、
トリピウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニ
ウムカチオン、ホスホニウムカチオン、アンモニウムカ
チオンなどが挙げられる。さらに詳しくはトリフェニル
カルベニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオ
ン、N,N-ジメチルアンモニウムカチオン、フェロセニウ
ムカチオンなどである。
素化合物アニオンとからなる塩である。ホウ素化合物ア
ニオンは前記遷移金属化合物と反応することにより遷移
金属化合物をカチオン化し、イオン対を形成することに
より遷移金属カチオン種を安定化させる働きがある。そ
のようなホウ素化合物アニオンとしては、有機ホウ素化
合物アニオンなどの比較的嵩高で遷移金属カチオン種を
安定化させるものが好ましい。カチオンとしては、金属
カチオン、有機金属カチオン、カルボニウムカチオン、
トリピウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニ
ウムカチオン、ホスホニウムカチオン、アンモニウムカ
チオンなどが挙げられる。さらに詳しくはトリフェニル
カルベニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオ
ン、N,N-ジメチルアンモニウムカチオン、フェロセニウ
ムカチオンなどである。
【０１４４】イオン性ホウ素化合物として具体的には、
トリエチルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、ト
リプロピルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、ト
リ（n-ブチル）アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ
素、トリメチルアンモニウムテトラ（p-トリル）ホウ
素、トリメチルアンモニウムテトラ（o-トリル）ホウ
素、トリブチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフ
ェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（o,
p-ジメチルフェニル）ホウ素、トリブチルアンモニウム
テトラ（m,m-ジメチルフェニル）ホウ素、トリブチルア
ンモニウムテトラ（p-トリフルオロメチルフェニル）ホ
ウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテトラ（o-トリ
ル）ホウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテトラ（4-
フルオロフェニル）ホウ素などのトリアルキル置換アン
モニウム塩；N,N-ジメチルアニリニウムテトラ（フェニ
ル）ホウ素、N,N-ジエチルアニリニウムテトラ（フェニ
ル）ホウ素、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテト
ラ（フェニル）ホウ素などのN,N-ジアルキルアニリニウ
ム塩；ジ（n-プロピル）アンモニウムテトラ（ペンタフ
ルオロフェニル）ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウ
ムテトラ（フェニル）ホウ素などのジアルキルアンモニ
ウム塩；トリフェニルホスフォニウムテトラ（フェニ
ル）ホウ素、トリ（メチルフェニル）ホスフォニウムテ
トラ（フェニル）ホウ素、トリ（ジメチルフェニル）ホ
スフォニウムテトラ（フェニル）ホウ素などのトリアリ
ールホスフォニウム塩などが挙げられる。
トリエチルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、ト
リプロピルアンモニウムテトラ（フェニル）ホウ素、ト
リ（n-ブチル）アンモニウムテトラ（フェニル）ホウ
素、トリメチルアンモニウムテトラ（p-トリル）ホウ
素、トリメチルアンモニウムテトラ（o-トリル）ホウ
素、トリブチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフ
ェニル）ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ（o,
p-ジメチルフェニル）ホウ素、トリブチルアンモニウム
テトラ（m,m-ジメチルフェニル）ホウ素、トリブチルア
ンモニウムテトラ（p-トリフルオロメチルフェニル）ホ
ウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテトラ（o-トリ
ル）ホウ素、トリ（n-ブチル）アンモニウムテトラ（4-
フルオロフェニル）ホウ素などのトリアルキル置換アン
モニウム塩；N,N-ジメチルアニリニウムテトラ（フェニ
ル）ホウ素、N,N-ジエチルアニリニウムテトラ（フェニ
ル）ホウ素、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテト
ラ（フェニル）ホウ素などのN,N-ジアルキルアニリニウ
ム塩；ジ（n-プロピル）アンモニウムテトラ（ペンタフ
ルオロフェニル）ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウ
ムテトラ（フェニル）ホウ素などのジアルキルアンモニ
ウム塩；トリフェニルホスフォニウムテトラ（フェニ
ル）ホウ素、トリ（メチルフェニル）ホスフォニウムテ
トラ（フェニル）ホウ素、トリ（ジメチルフェニル）ホ
スフォニウムテトラ（フェニル）ホウ素などのトリアリ
ールホスフォニウム塩などが挙げられる。
【０１４５】さらにイオン性ホウ素化合物として、トリ
フェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェロセニウム
テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートも挙げるこ
とができる。
フェニルカルベニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェロセニウム
テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートも挙げるこ
とができる。
【０１４６】またイオン性ホウ素化合物として、以下の
ような化合物も例示できる。（なお、以下に列挙するイ
オン性化合物において対向イオンはトリ（n-ブチル）ア
ンモニウムであるがこれに限定されない。） ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ノナボレート、
ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］デカボレート、
ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ウンデカボレー
ト、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ドデカボレ
ート、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］デカクロ
ロデカボレート、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウ
ム］ドデカクロロドデカボレート、トリ（n-ブチル）ア
ンモニウム-1-カルバデカボレート、トリ（n-ブチル）
アンモニウム-1-カルバウンデカボレート、トリ（n-ブ
チル）アンモニウム-1-カルバドデカボレート、トリ（n
-ブチル）アンモニウム-1-トリメチルシリル-1-カルバ
デカボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウムブロモ-1
-カルバドデカボレート；デカボラン（14）、7,8-ジカ
ルバウンデカボラン（13）、2,7-ジカルバウンデカボラ
ン（13）、ウンデカハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジ
カルバウンデカボラン、ドデカハイドライド-11-メチル
-2,7-ジカルバウンデカボラン、トリ（n-ブチル）アン
モニウム6-カルバデカボレート（14）、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウム6-カルバデカボレート（12）、トリ
（n-ブチル）アンモニウム7-カルバウンデカボレート
（13）、トリ（n-ブチル）アンモニウム7,8-ジカルバウ
ンデカボレート（12）、トリ（n-ブチル）アンモニウム
2,9-ジカルバウンデカボレート（12）、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムドデカハイドライド-8-メチル7,9-ジ
カルバウンデカボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウ
ムウンデカハイドライド8-エチル-7,9-ジカルバウンデ
カボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウムウンデカハ
イドライド-8-ブチル-7,9-ジカルバウンデカボレート、
トリ（n-ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド-8
-アリル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムウンデカハイドライド-9-トリメチル
シリル-7,8-ジカルバウンデカボレート、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムウンデカハイドライド-4,6-ジブロモ-
7-カルバウンデカボレート；4-カルバノナボラン（1
4）、1,3-ジカルバノナボラン（13）、6,9-ジカルバデ
カボラン（14）、ドデカハイドライド-1-フェニル-1,3-
ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド-1-メチル-1,
3-ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド-1,3-ジ
メチル-1,3-ジカルバノナボランなどが挙げられる。
ような化合物も例示できる。（なお、以下に列挙するイ
オン性化合物において対向イオンはトリ（n-ブチル）ア
ンモニウムであるがこれに限定されない。） ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ノナボレート、
ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］デカボレート、
ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ウンデカボレー
ト、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ドデカボレ
ート、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］デカクロ
ロデカボレート、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウ
ム］ドデカクロロドデカボレート、トリ（n-ブチル）ア
ンモニウム-1-カルバデカボレート、トリ（n-ブチル）
アンモニウム-1-カルバウンデカボレート、トリ（n-ブ
チル）アンモニウム-1-カルバドデカボレート、トリ（n
-ブチル）アンモニウム-1-トリメチルシリル-1-カルバ
デカボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウムブロモ-1
-カルバドデカボレート；デカボラン（14）、7,8-ジカ
ルバウンデカボラン（13）、2,7-ジカルバウンデカボラ
ン（13）、ウンデカハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジ
カルバウンデカボラン、ドデカハイドライド-11-メチル
-2,7-ジカルバウンデカボラン、トリ（n-ブチル）アン
モニウム6-カルバデカボレート（14）、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウム6-カルバデカボレート（12）、トリ
（n-ブチル）アンモニウム7-カルバウンデカボレート
（13）、トリ（n-ブチル）アンモニウム7,8-ジカルバウ
ンデカボレート（12）、トリ（n-ブチル）アンモニウム
2,9-ジカルバウンデカボレート（12）、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムドデカハイドライド-8-メチル7,9-ジ
カルバウンデカボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウ
ムウンデカハイドライド8-エチル-7,9-ジカルバウンデ
カボレート、トリ（n-ブチル）アンモニウムウンデカハ
イドライド-8-ブチル-7,9-ジカルバウンデカボレート、
トリ（n-ブチル）アンモニウムウンデカハイドライド-8
-アリル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムウンデカハイドライド-9-トリメチル
シリル-7,8-ジカルバウンデカボレート、トリ（n-ブチ
ル）アンモニウムウンデカハイドライド-4,6-ジブロモ-
7-カルバウンデカボレート；4-カルバノナボラン（1
4）、1,3-ジカルバノナボラン（13）、6,9-ジカルバデ
カボラン（14）、ドデカハイドライド-1-フェニル-1,3-
ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド-1-メチル-1,
3-ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド-1,3-ジ
メチル-1,3-ジカルバノナボランなどが挙げられる。
【０１４７】さらにイオン性ホウ素化合物として、以下
のような金属カルボランの塩、金属ボランアニオンなど
も例示できる。（なお、以下に列挙するイオン性化合物
において対向イオンはトリ（n-ブチル）アンモニウムで
あるがこれに限定されない。） トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド
-1,3-ジカルバノナボレート）コバルテート（III）、ト
リ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライ
ド-7,8-ジカルバウンデカボレート）フェレート（鉄酸
塩）（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウ
ンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート）
コバルテート（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウム
ビス（ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボ
レート）ニッケレート（III）、トリ（n-ブチル）アン
モニウムビス（ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウ
ンデカボレート）キュブレート（銅酸塩）（III）、ト
リ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライ
ド-7,8-ジカルバウンデカボレート）アウレート（金属
塩）（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ノ
ナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボ
レート）フェレート（III）、トリ（n-ブチル）アンモ
ニウムビス（ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカ
ルバウンデカボレート）クロメート（クロム酸塩）（II
I）、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（トリブロモ
オクタハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート）
コバルテート（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウム
ビス（ドデカハイドライドジカルバドデカボレート）コ
バルテート（III）、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニ
ウム］ビス（ドデカハイドライドドデカボレート）ニッ
ケレート（III）、トリス［トリ（n-ブチル）アンモニ
ウム］ビス（ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカ
ボレート）クロメート（III）、ビス［トリ（n-ブチ
ル）アンモニウム］ビス（ウンデカハイドライド-7-カ
ルバウンデカボレート）マンガネート（IV）、ビス［ト
リ（n-ブチル）アンモニウム］ビス（ウンデカハイドラ
イド-7-カルバウンデカボレート）コバルテート（II
I）、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ビス（ウ
ンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート）ニッ
ケレート（IV）など。
のような金属カルボランの塩、金属ボランアニオンなど
も例示できる。（なお、以下に列挙するイオン性化合物
において対向イオンはトリ（n-ブチル）アンモニウムで
あるがこれに限定されない。） トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ノナハイドライド
-1,3-ジカルバノナボレート）コバルテート（III）、ト
リ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライ
ド-7,8-ジカルバウンデカボレート）フェレート（鉄酸
塩）（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウ
ンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート）
コバルテート（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウム
ビス（ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボ
レート）ニッケレート（III）、トリ（n-ブチル）アン
モニウムビス（ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウ
ンデカボレート）キュブレート（銅酸塩）（III）、ト
リ（n-ブチル）アンモニウムビス（ウンデカハイドライ
ド-7,8-ジカルバウンデカボレート）アウレート（金属
塩）（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（ノ
ナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボ
レート）フェレート（III）、トリ（n-ブチル）アンモ
ニウムビス（ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカ
ルバウンデカボレート）クロメート（クロム酸塩）（II
I）、トリ（n-ブチル）アンモニウムビス（トリブロモ
オクタハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート）
コバルテート（III）、トリ（n-ブチル）アンモニウム
ビス（ドデカハイドライドジカルバドデカボレート）コ
バルテート（III）、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニ
ウム］ビス（ドデカハイドライドドデカボレート）ニッ
ケレート（III）、トリス［トリ（n-ブチル）アンモニ
ウム］ビス（ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカ
ボレート）クロメート（III）、ビス［トリ（n-ブチ
ル）アンモニウム］ビス（ウンデカハイドライド-7-カ
ルバウンデカボレート）マンガネート（IV）、ビス［ト
リ（n-ブチル）アンモニウム］ビス（ウンデカハイドラ
イド-7-カルバウンデカボレート）コバルテート（II
I）、ビス［トリ（n-ブチル）アンモニウム］ビス（ウ
ンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート）ニッ
ケレート（IV）など。
【０１４８】上記の固体状イオン性ホウ素化合物は、１
種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。本発明
で用いられる固体状イオン性ホウ素化合物は、比表面積
が１．６〜１００ｍ2／ｇ、好ましくは２．０〜１０．
０ｍ2／ｇの範囲にあることが望ましい。
種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。本発明
で用いられる固体状イオン性ホウ素化合物は、比表面積
が１．６〜１００ｍ2／ｇ、好ましくは２．０〜１０．
０ｍ2／ｇの範囲にあることが望ましい。
【０１４９】このような固体状イオン性ホウ素化合物
は、たとえば市販のイオン性ホウ素化合物を機械的に粉
砕することにより得ることができる。ここで工業的な粉
砕手段としては、ボールミル、バイブロミル等を用いる
方法が挙げられる。また、フラスコスケールの粉砕方法
としては乳鉢による粉砕が挙げられる。
は、たとえば市販のイオン性ホウ素化合物を機械的に粉
砕することにより得ることができる。ここで工業的な粉
砕手段としては、ボールミル、バイブロミル等を用いる
方法が挙げられる。また、フラスコスケールの粉砕方法
としては乳鉢による粉砕が挙げられる。
【０１５０】上記固体状イオン性ホウ素化合物は、その
まま触媒成分として使用することができるが、脂肪族炭
化水素のスラリーまたは脂環族炭化水素のスラリーとし
て触媒成分として使用することが好ましい。
まま触媒成分として使用することができるが、脂肪族炭
化水素のスラリーまたは脂環族炭化水素のスラリーとし
て触媒成分として使用することが好ましい。
【０１５１】その他の成分 本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上記（Ａ）遷移
金属化合物と（Ｂ）イオン性ホウ素化合物とから形成さ
れるが、必要に応じてアニオン性水素および／またはア
ニオン性炭化水素基を有する化合物成分を用いることが
できる。
金属化合物と（Ｂ）イオン性ホウ素化合物とから形成さ
れるが、必要に応じてアニオン性水素および／またはア
ニオン性炭化水素基を有する化合物成分を用いることが
できる。
【０１５２】アニオン性水素および／またはアニオン性
炭化水素基を有する化合物成分の例としては、有機アル
ミニウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化
合物、有機ケイ素化合物、水酸化ホウ素化合物等、およ
びこれらの化合物中の有機基の一部または全てが水素で
ある化合物が挙げられる。また、アニオン性水素および
／またはアニオン性炭化水素基を有する化合物成分とし
てアート錯体を用いることもできる。
炭化水素基を有する化合物成分の例としては、有機アル
ミニウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化
合物、有機ケイ素化合物、水酸化ホウ素化合物等、およ
びこれらの化合物中の有機基の一部または全てが水素で
ある化合物が挙げられる。また、アニオン性水素および
／またはアニオン性炭化水素基を有する化合物成分とし
てアート錯体を用いることもできる。
【０１５３】アニオン性水素および／またはアニオン性
炭化水素基を有する化合物成分として用いられる有機ア
ルミニウム化合物成分は、たとえば下記一般式（ｉ）で
表される有機アルミニウム化合物である。
炭化水素基を有する化合物成分として用いられる有機ア
ルミニウム化合物成分は、たとえば下記一般式（ｉ）で
表される有機アルミニウム化合物である。
【０１５４】Ｒa nＡｌＸ3-n … （ｉ） （式中、Ｒa は炭素原子数が１〜１２の炭化水素基であ
り、Ｘはハロゲン原子または水素原子であり、ｎは１〜
３である。） 上記式（ｉ）において、Ｒa は炭素原子数が１〜１２の
炭化水素基、たとえばアルキル基、シクロアルキル基ま
たはアリ−ル基であるが、具体的には、メチル基、エチ
ル基、n-プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基などであ
る。
り、Ｘはハロゲン原子または水素原子であり、ｎは１〜
３である。） 上記式（ｉ）において、Ｒa は炭素原子数が１〜１２の
炭化水素基、たとえばアルキル基、シクロアルキル基ま
たはアリ−ル基であるが、具体的には、メチル基、エチ
ル基、n-プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基などであ
る。
【０１５５】このような有機アルミニウム化合物の具体
例としては、以下のような化合物が挙げられる。トリメ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソ
プロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアル
ミニウムなどのトリアルキルアルミニム；イソプレニル
アルミニウムなどのアルケニルアルミニウム；ジメチル
アルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソブチ
ルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブロミ
ドなどのジアルキルアルミニウムハライド；メチルアル
ミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキク
ロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリド、ブ
チルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウム
セスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハラ
イド；メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニ
ウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアル
ミニウムジハライド；ジエチルアルミニウムハイドライ
ド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのアル
キルアルミニウムハイドライド。
例としては、以下のような化合物が挙げられる。トリメ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソ
プロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアル
ミニウムなどのトリアルキルアルミニム；イソプレニル
アルミニウムなどのアルケニルアルミニウム；ジメチル
アルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソブチ
ルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブロミ
ドなどのジアルキルアルミニウムハライド；メチルアル
ミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキク
ロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリド、ブ
チルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウム
セスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハラ
イド；メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニ
ウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジクロリ
ド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアル
ミニウムジハライド；ジエチルアルミニウムハイドライ
ド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのアル
キルアルミニウムハイドライド。
【０１５６】また有機アルミニウム化合物として、下記
一般式（ii）で表わされる化合物を用いることもでき
る。 Ｒa n ＡｌＹ3-n … （ii） （式中、Ｒa は上記と同様であり、Ｙは−ＯＲb 基、−
ＯＳｉＲc 3 基、−ＯＡｌＲd 2 基、−ＮＲe 2 基、−Ｓ
ｉＲf 3 基または−Ｎ（Ｒg ）ＡｌＲh 2 基であり、ｎは
１〜２であり、Ｒb 、Ｒc 、Ｒd およびＲh はメチル
基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、シクロ
ヘキシル基、フェニル基などであり、Ｒe は水素、メチ
ル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、トリメ
チルシリル基などであり、Ｒf およびＲg はメチル基、
エチル基などである。） このような有機アルミニウム化合物としては、具体的に
は、以下のような化合物が挙げられる。 （１）Ｒa n Ａｌ（ＯＲb)3-nで表わされる化合物、たと
えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミ
ニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシ
ドなど。 （２）Ｒa n Ａｌ（ＯＳｉＲc 3)3-n で表わされる化合
物、たとえば（Ｃ2Ｈ5)2 Ａｌ（ＯＳｉ（ＣＨ3)3)、（i
so-Ｃ4Ｈ9)2 Ａｌ（ＯＳｉ（ＣＨ3)3)、（iso-Ｃ4Ｈ9)
2 Ａｌ（ＯＳｉ（Ｃ2Ｈ5)3) など。 （３）Ｒa n Ａｌ（ＯＡｌＲd 2)3-n で表わされる化合
物、たとえば（Ｃ2Ｈ5)2 Ａｌ（ＯＡｌ（Ｃ2Ｈ5)2)、
（iso-Ｃ4Ｈ9)2Ａｌ（ＯＡｌ（iso-Ｃ4Ｈ9)2) など。 （４）Ｒa n Ａｌ（ＮＲe 2)3-n で表わされる化合物、た
とえば（ＣＨ3)2 Ａｌ（Ｎ（Ｃ2Ｈ5)2)、（Ｃ2Ｈ5)2 Ａ
ｌ（ＮＨ（ＣＨ3)）、（ＣＨ3)2 Ａｌ（ＮＨ（Ｃ
2Ｈ5)）、（Ｃ2Ｈ5)2 Ａｌ［Ｎ（Ｓｉ（ＣＨ3)3)2］、
（iso-Ｃ4Ｈ9)2 Ａｌ［Ｎ（Ｓｉ（ＣＨ3)3)2］など。 （５）Ｒa n Ａｌ（ＳｉＲf 3)3-n で表わされる化合物、
たとえば（iso-Ｃ4Ｈ9)2 Ａｌ（Ｓｉ（ＣＨ3)3) など。
一般式（ii）で表わされる化合物を用いることもでき
る。 Ｒa n ＡｌＹ3-n … （ii） （式中、Ｒa は上記と同様であり、Ｙは−ＯＲb 基、−
ＯＳｉＲc 3 基、−ＯＡｌＲd 2 基、−ＮＲe 2 基、−Ｓ
ｉＲf 3 基または−Ｎ（Ｒg ）ＡｌＲh 2 基であり、ｎは
１〜２であり、Ｒb 、Ｒc 、Ｒd およびＲh はメチル
基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、シクロ
ヘキシル基、フェニル基などであり、Ｒe は水素、メチ
ル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、トリメ
チルシリル基などであり、Ｒf およびＲg はメチル基、
エチル基などである。） このような有機アルミニウム化合物としては、具体的に
は、以下のような化合物が挙げられる。 （１）Ｒa n Ａｌ（ＯＲb)3-nで表わされる化合物、たと
えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミ
ニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシ
ドなど。 （２）Ｒa n Ａｌ（ＯＳｉＲc 3)3-n で表わされる化合
物、たとえば（Ｃ2Ｈ5)2 Ａｌ（ＯＳｉ（ＣＨ3)3)、（i
so-Ｃ4Ｈ9)2 Ａｌ（ＯＳｉ（ＣＨ3)3)、（iso-Ｃ4Ｈ9)
2 Ａｌ（ＯＳｉ（Ｃ2Ｈ5)3) など。 （３）Ｒa n Ａｌ（ＯＡｌＲd 2)3-n で表わされる化合
物、たとえば（Ｃ2Ｈ5)2 Ａｌ（ＯＡｌ（Ｃ2Ｈ5)2)、
（iso-Ｃ4Ｈ9)2Ａｌ（ＯＡｌ（iso-Ｃ4Ｈ9)2) など。 （４）Ｒa n Ａｌ（ＮＲe 2)3-n で表わされる化合物、た
とえば（ＣＨ3)2 Ａｌ（Ｎ（Ｃ2Ｈ5)2)、（Ｃ2Ｈ5)2 Ａ
ｌ（ＮＨ（ＣＨ3)）、（ＣＨ3)2 Ａｌ（ＮＨ（Ｃ
2Ｈ5)）、（Ｃ2Ｈ5)2 Ａｌ［Ｎ（Ｓｉ（ＣＨ3)3)2］、
（iso-Ｃ4Ｈ9)2 Ａｌ［Ｎ（Ｓｉ（ＣＨ3)3)2］など。 （５）Ｒa n Ａｌ（ＳｉＲf 3)3-n で表わされる化合物、
たとえば（iso-Ｃ4Ｈ9)2 Ａｌ（Ｓｉ（ＣＨ3)3) など。
【０１５７】本発明では、これらのうちでもＲa 3 Ａ
ｌ、Ｒa n Ａｌ（ＯＲb)3-n、Ｒa n Ａｌ（ＯＡｌＲd 2)
3-n で表わされる有機アルミニウム化合物を好適な例と
して挙げることができ、Ｒa がイソアルキル基であり、
ｎ＝２である化合物が特に好ましい。
ｌ、Ｒa n Ａｌ（ＯＲb)3-n、Ｒa n Ａｌ（ＯＡｌＲd 2)
3-n で表わされる有機アルミニウム化合物を好適な例と
して挙げることができ、Ｒa がイソアルキル基であり、
ｎ＝２である化合物が特に好ましい。
【０１５８】アニオン性水素および／またはアニオン性
炭化水素基を有する化合物成分として用は、有機アルミ
ニウムオキシ化合物を用いることもできる。有機アルミ
ニウムオキシ化合物としては、従来公知のアルミノキサ
ンであってもよく、また特開平２−７８６８７号公報に
例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウ
ムオキシ化合物であってもよい。
炭化水素基を有する化合物成分として用は、有機アルミ
ニウムオキシ化合物を用いることもできる。有機アルミ
ニウムオキシ化合物としては、従来公知のアルミノキサ
ンであってもよく、また特開平２−７８６８７号公報に
例示されているようなベンゼン不溶性の有機アルミニウ
ムオキシ化合物であってもよい。
【０１５９】従来公知のアルミノキサンは、たとえば下
記のような方法によって製造することができ、通常、炭
化水素溶媒の溶液として得られる。 （１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する
塩類、たとえば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和
物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩
化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、ト
リアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化
合物とを反応させる方法。 （２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒ
ドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウム
などの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸
気を作用させる方法。 （３）デカン、ベンゼン、トルエンなどの媒体中でトリ
アルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシドなど
の有機スズ酸化物を反応させる方法。
記のような方法によって製造することができ、通常、炭
化水素溶媒の溶液として得られる。 （１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する
塩類、たとえば塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和
物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩
化第１セリウム水和物などの炭化水素媒体懸濁液に、ト
リアルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化
合物とを反応させる方法。 （２）ベンゼン、トルエン、エチルエーテル、テトラヒ
ドロフランなどの媒体中で、トリアルキルアルミニウム
などの有機アルミニウム化合物に直接水、氷または水蒸
気を作用させる方法。 （３）デカン、ベンゼン、トルエンなどの媒体中でトリ
アルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシドなど
の有機スズ酸化物を反応させる方法。
【０１６０】なお該アルミノキサンは、少量の有機金属
成分を含有してもよい。また回収された上記のアルミノ
キサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化
合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解またはアルミ
ノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。
成分を含有してもよい。また回収された上記のアルミノ
キサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化
合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解またはアルミ
ノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。
【０１６１】アルミノキサンを調製する際に用いられる
有機アルミニウム化合物として具体的には、上述した有
機アルミニウム化合物を挙げることができる。これらの
うち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキル
アルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特
に好ましい。
有機アルミニウム化合物として具体的には、上述した有
機アルミニウム化合物を挙げることができる。これらの
うち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキル
アルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特
に好ましい。
【０１６２】上記のような有機アルミニウム化合物は、
１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。アル
ミノキサンの調製に用いられる溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族
炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの
脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シ
クロオクタン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化
水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分または上記
芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハ
ロゲン化物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水
素溶媒が挙げられる。さらにエチルエーテル、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類を用いることもできる。こ
れらの溶媒のうち特に芳香族炭化水素または脂肪族炭化
水素が好ましい。
１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられる。アル
ミノキサンの調製に用いられる溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クメン、シメンなどの芳香族
炭化水素、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカンなどの
脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、シ
クロオクタン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化
水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分または上記
芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素のハ
ロゲン化物とりわけ、塩素化物、臭素化物などの炭化水
素溶媒が挙げられる。さらにエチルエーテル、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類を用いることもできる。こ
れらの溶媒のうち特に芳香族炭化水素または脂肪族炭化
水素が好ましい。
【０１６３】また本発明で用いられるベンゼン不溶性の
有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに
溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で通常１０％以下、好
ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下であり、ベ
ンゼンに対して不溶性または難溶性である。
有機アルミニウムオキシ化合物は、６０℃のベンゼンに
溶解するＡｌ成分がＡｌ原子換算で通常１０％以下、好
ましくは５％以下、特に好ましくは２％以下であり、ベ
ンゼンに対して不溶性または難溶性である。
【０１６４】本発明で用いられる有機アルミニウムオキ
シ化合物としては、下記一般式（iii）で表されるボロ
ンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物を挙げること
もできる。
シ化合物としては、下記一般式（iii）で表されるボロ
ンを含んだ有機アルミニウムオキシ化合物を挙げること
もできる。
【０１６５】
【化３０】
【０１６６】式中、Ｒ31は炭素原子数が１〜１０の炭化
水素基を示す。Ｒ32は、互いに同一でも異なっていても
よく、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１〜
１０の炭化水素基を示す。
水素基を示す。Ｒ32は、互いに同一でも異なっていても
よく、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１〜
１０の炭化水素基を示す。
【０１６７】前記一般式（iii）で表されるボロンを含
んだ有機アルミニウムオキシ化合物は、下記一般式（i
v）で表されるアルキルボロン酸と Ｒ31−Ｂ−（ＯＨ）2 … （iv） （式中、Ｒ31は前記と同じ基を示す。） 有機アルミニウム化合物とを、不活性ガス雰囲気下に不
活性溶媒中で、−８０℃〜室温の温度で１分〜２４時間
反応させることにより製造できる。
んだ有機アルミニウムオキシ化合物は、下記一般式（i
v）で表されるアルキルボロン酸と Ｒ31−Ｂ−（ＯＨ）2 … （iv） （式中、Ｒ31は前記と同じ基を示す。） 有機アルミニウム化合物とを、不活性ガス雰囲気下に不
活性溶媒中で、−８０℃〜室温の温度で１分〜２４時間
反応させることにより製造できる。
【０１６８】前記一般式（iv）で表されるアルキルボロ
ン酸の具体的なものとしては、メチルボロン酸、エチル
ボロン酸、イソプロピルボロン酸、n-プロピルボロン
酸、n-ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、n-ヘキシ
ルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸、フェニルボロン
酸、3,5-ジフルオロボロン酸、ペンタフルオロフェニル
ボロン酸、3,5-ビス（トリフルオロメチル）フェニルボ
ロン酸などが挙げられる。これらの中では、メチルボロ
ン酸、n-ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、3,5-ジ
フルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボ
ロン酸が好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上
組み合わせて用いられる。
ン酸の具体的なものとしては、メチルボロン酸、エチル
ボロン酸、イソプロピルボロン酸、n-プロピルボロン
酸、n-ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、n-ヘキシ
ルボロン酸、シクロヘキシルボロン酸、フェニルボロン
酸、3,5-ジフルオロボロン酸、ペンタフルオロフェニル
ボロン酸、3,5-ビス（トリフルオロメチル）フェニルボ
ロン酸などが挙げられる。これらの中では、メチルボロ
ン酸、n-ブチルボロン酸、イソブチルボロン酸、3,5-ジ
フルオロフェニルボロン酸、ペンタフルオロフェニルボ
ロン酸が好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上
組み合わせて用いられる。
【０１６９】このようなアルキルボロン酸と反応させる
有機アルミニウム化合物として具体的には、上述した有
機アルミニウム化合物を挙げることができる。これらの
うち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキル
アルミニウムが好ましく、特にトリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組
み合わせて用いられる。
有機アルミニウム化合物として具体的には、上述した有
機アルミニウム化合物を挙げることができる。これらの
うち、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキル
アルミニウムが好ましく、特にトリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムが好ましい。これらは１種単独でまたは２種以上組
み合わせて用いられる。
【０１７０】上記のような有機アルミニウムオキシ化合
物は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられ
る。上記のアニオン性水素および／またはアニオン性炭
化水素基を有する化合物成分は、２種以上組合わせて用
いることもできる。また上記のアニオン性水素および／
またはアニオン性炭化水素基を有する化合物成分は、脂
肪族または脂環族炭化水素の溶液またはスラリーとして
用いることができる。
物は、１種単独でまたは２種以上組み合せて用いられ
る。上記のアニオン性水素および／またはアニオン性炭
化水素基を有する化合物成分は、２種以上組合わせて用
いることもできる。また上記のアニオン性水素および／
またはアニオン性炭化水素基を有する化合物成分は、脂
肪族または脂環族炭化水素の溶液またはスラリーとして
用いることができる。
【０１７１】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上
記のような遷移金属化合物成分（Ａ）と、固体状イオン
性ホウ素化合物成分（Ｂ）と、必要に応じてアニオン性
水素および／またはアニオン性炭化水素基を有する化合
物成分とからなる。図１に本発明に係るオレフィン重合
用触媒の調製工程の一例を示す。
記のような遷移金属化合物成分（Ａ）と、固体状イオン
性ホウ素化合物成分（Ｂ）と、必要に応じてアニオン性
水素および／またはアニオン性炭化水素基を有する化合
物成分とからなる。図１に本発明に係るオレフィン重合
用触媒の調製工程の一例を示す。
【０１７２】本発明に係るオレフィンの重合方法では、
上記のようなオレフィン重合触媒の存在下に、オレフィ
ンを重合または共重合することによりオレフィン重合体
を得る。重合の際には、各成分の添加順序は任意に選ば
れる。また、各成分は予め接触させてから重合系に添加
してもよく、このときの接触順序は任意に選ばれる。
上記のようなオレフィン重合触媒の存在下に、オレフィ
ンを重合または共重合することによりオレフィン重合体
を得る。重合の際には、各成分の添加順序は任意に選ば
れる。また、各成分は予め接触させてから重合系に添加
してもよく、このときの接触順序は任意に選ばれる。
【０１７３】本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合な
どの液相重合法または気相重合法いずれにおいても実施
できる。液相重合法において用いられる不活性炭化水素
媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯
油などの脂肪族炭化水素；シクロヘキサン、シクロヘプ
タンなどの脂環族炭化水素などを好ましく挙げることが
できる。また、重合に用いるα−オレフィン、脂環族ビ
ニル化合物、環状オレフィン自身を溶媒として用いるこ
とができる。
どの液相重合法または気相重合法いずれにおいても実施
できる。液相重合法において用いられる不活性炭化水素
媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯
油などの脂肪族炭化水素；シクロヘキサン、シクロヘプ
タンなどの脂環族炭化水素などを好ましく挙げることが
できる。また、重合に用いるα−オレフィン、脂環族ビ
ニル化合物、環状オレフィン自身を溶媒として用いるこ
とができる。
【０１７４】上記のようなオレフィン重合用触媒を用い
て、オレフィンを重合するに際して、成分（Ａ）は、反
応容積１リットル当り、通常１０-8〜１０-3モル、好ま
しくは１０-7〜１０-4モルとなるような量で用いられ
る。
て、オレフィンを重合するに際して、成分（Ａ）は、反
応容積１リットル当り、通常１０-8〜１０-3モル、好ま
しくは１０-7〜１０-4モルとなるような量で用いられ
る。
【０１７５】成分（Ｂ）は、成分（Ｂ）と成分（Ａ）中
の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ）／Ｍ〕が、通
常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で用いら
れる。
の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｂ）／Ｍ〕が、通
常１〜１０、好ましくは１〜５となるような量で用いら
れる。
【０１７６】また、このようなオレフィン重合用触媒を
用いたオレフィンの重合温度は、通常−５０〜２００
℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。重合圧力
は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ2 、好ましくは常圧〜
５０ｋｇ／ｃｍ2 の条件下であり、重合反応は、回分
式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うこ
とができる。さらに重合を反応条件の異なる２段以上に
分けて行うことも可能である。
用いたオレフィンの重合温度は、通常−５０〜２００
℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。重合圧力
は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ2 、好ましくは常圧〜
５０ｋｇ／ｃｍ2 の条件下であり、重合反応は、回分
式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うこ
とができる。さらに重合を反応条件の異なる２段以上に
分けて行うことも可能である。
【０１７７】得られるオレフィン重合体の分子量は、重
合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させ
ることによって調節することができる。このようなオレ
フィン重合用触媒により重合することができるオレフィ
ンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペン
テン、1-ヘキセン、3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペ
ンテン、3-エチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、
4-メチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ヘキセン、4,4-
ジメチル-1-ペンテン、4-エチル-1-ヘキセン、3-エチル
-1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-
テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エ
イコセンなどの炭素原子数が２〜２０のα−オレフィ
ン；スチレン、ジメチルスチレン類、アリルベンゼン、
アリルトルエン類、ビニルナフタレン類、アリルナフタ
レン類などの芳香族ビニル化合物；ビニルシクロヘキサ
ン、ビニルシクロペンタン、ビニルシクロヘプタン、ア
リルノルボルナンなどの脂環族ビニル化合物；シクロペ
ンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、5-メチル-2-
ノルボルネン、テトラシクロドデセン、2-メチル-1,4,
5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロナフタ
レンンなどの環状オレフィン；1,4-ペンタジエン、1,5-
ヘキサジエン、1,4-ヘキサジエン、1,5,9-デカトリエン
などの炭素原子数が４〜２０の鎖状ポリエン；5-エチリ
デンノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどの環状ポ
リエンなどを挙げることができる。
合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させ
ることによって調節することができる。このようなオレ
フィン重合用触媒により重合することができるオレフィ
ンとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペン
テン、1-ヘキセン、3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペ
ンテン、3-エチル-1-ペンテン、4-メチル-1-ペンテン、
4-メチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ヘキセン、4,4-
ジメチル-1-ペンテン、4-エチル-1-ヘキセン、3-エチル
-1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-
テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エ
イコセンなどの炭素原子数が２〜２０のα−オレフィ
ン；スチレン、ジメチルスチレン類、アリルベンゼン、
アリルトルエン類、ビニルナフタレン類、アリルナフタ
レン類などの芳香族ビニル化合物；ビニルシクロヘキサ
ン、ビニルシクロペンタン、ビニルシクロヘプタン、ア
リルノルボルナンなどの脂環族ビニル化合物；シクロペ
ンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、5-メチル-2-
ノルボルネン、テトラシクロドデセン、2-メチル-1,4,
5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロナフタ
レンンなどの環状オレフィン；1,4-ペンタジエン、1,5-
ヘキサジエン、1,4-ヘキサジエン、1,5,9-デカトリエン
などの炭素原子数が４〜２０の鎖状ポリエン；5-エチリ
デンノルボルネン、ジシクロペンタジエンなどの環状ポ
リエンなどを挙げることができる。
【０１７８】これらのオレフィンは、単独であるいは２
種以上組み合わせて用いることができる。
種以上組み合わせて用いることができる。
【０１７９】
【発明の効果】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、
芳香族炭化水素を含まない特定の固体状イオン性ホウ素
化合物を用いているので、作業環境衛生の面での問題が
少なく、かつ得られたオレフィン重合体は臭気が少な
い。
芳香族炭化水素を含まない特定の固体状イオン性ホウ素
化合物を用いているので、作業環境衛生の面での問題が
少なく、かつ得られたオレフィン重合体は臭気が少な
い。
【０１８０】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
【０１８１】なお、固体状イオン性ホウ素化合物の比表
面積は、ユアサアイオニクス社製ＦＬＯＷＳＯＲＢ１１
３２００により（１点法ＢＥＴ比表面積）以下の条件で
求めた。
面積は、ユアサアイオニクス社製ＦＬＯＷＳＯＲＢ１１
３２００により（１点法ＢＥＴ比表面積）以下の条件で
求めた。
【０１８２】吸着質：窒素 脱気条件：１００℃×３０分
【０１８３】
【調製例１】窒素下、直径９５ｍｍのメノウ乳鉢に４５
０ｍｇのＭｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ 5 ）4 （旭硝子社
製、比表面積：０．６ｍ2／ｇ、粒径１５μｍ以下の粒
子の個数割合が３／１０）をとり、直径２５ｍｍの乳棒
で５分間粉砕した。その結果、比表面積が１．８ｍ2／
ｇであり、粒径１５μｍ以下の粒子の割合が８／１０の
Ｍｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 （粉砕物１）が得られ
た。
０ｍｇのＭｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ 5 ）4 （旭硝子社
製、比表面積：０．６ｍ2／ｇ、粒径１５μｍ以下の粒
子の個数割合が３／１０）をとり、直径２５ｍｍの乳棒
で５分間粉砕した。その結果、比表面積が１．８ｍ2／
ｇであり、粒径１５μｍ以下の粒子の割合が８／１０の
Ｍｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 （粉砕物１）が得られ
た。
【０１８４】
【調製例２】窒素下、直径９５ｍｍのメノウ乳鉢に４５
０ｍｇのＰｈ3 ＣＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4（旭硝子社製、比表
面積：１．１ｍ2／ｇ、粒径１５μｍ以下の粒子の個数
の割合が１／１０）をとり、直径２５ｍｍの乳棒で５分
間粉砕した。その結果、比表面積が２．４ｍ2／ｇであ
り、粒径１５μｍ以下の粒子の割合が８／１０のＰｈ3
ＣＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 （粉砕物２）が得られた。
０ｍｇのＰｈ3 ＣＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4（旭硝子社製、比表
面積：１．１ｍ2／ｇ、粒径１５μｍ以下の粒子の個数
の割合が１／１０）をとり、直径２５ｍｍの乳棒で５分
間粉砕した。その結果、比表面積が２．４ｍ2／ｇであ
り、粒径１５μｍ以下の粒子の割合が８／１０のＰｈ3
ＣＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 （粉砕物２）が得られた。
【０１８５】
【実施例１】充分に窒素置換した２３℃の２リットルの
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン９５０ｍｌと1-オクテン５０ｍｌを仕込み、このオ
ートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったとこ
ろで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-Gとなるようエチレンで加圧
した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミ
ニウムを圧入し、続いて０．００２ｍｍｏｌ／ｍｌの
（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シク
ロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキサン
溶液０．１５ｍｌ（０．０００３ｍｍｏｌ）と０．００
２５ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物１のヘキサンスラリー０．
２４ｍｌ（０．０００６ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧
入した。オートクレーブ中のトルエン濃度は０である。
粉砕物１を圧入した後、１０分間重合を行った。圧力は
エチレン加圧により圧入直後の圧力を維持した。重合中
温度は８４℃まで上昇した。規定時間後オートクレーブ
にメタノール３ｍｌを窒素で圧入し、重合を停止した。
この結果、密度が０．８７３ｇ／ｃｍ3 、メルトフロー
レート（ＭＦＲ）が０．１９ｇ／10分であるエチレン・
1-オクテン共重合体２７ｇが得られた。
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン９５０ｍｌと1-オクテン５０ｍｌを仕込み、このオ
ートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったとこ
ろで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-Gとなるようエチレンで加圧
した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミ
ニウムを圧入し、続いて０．００２ｍｍｏｌ／ｍｌの
（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シク
ロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキサン
溶液０．１５ｍｌ（０．０００３ｍｍｏｌ）と０．００
２５ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物１のヘキサンスラリー０．
２４ｍｌ（０．０００６ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧
入した。オートクレーブ中のトルエン濃度は０である。
粉砕物１を圧入した後、１０分間重合を行った。圧力は
エチレン加圧により圧入直後の圧力を維持した。重合中
温度は８４℃まで上昇した。規定時間後オートクレーブ
にメタノール３ｍｌを窒素で圧入し、重合を停止した。
この結果、密度が０．８７３ｇ／ｃｍ3 、メルトフロー
レート（ＭＦＲ）が０．１９ｇ／10分であるエチレン・
1-オクテン共重合体２７ｇが得られた。
【０１８６】
【比較例１】充分に窒素置換した２３℃の２リットルの
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン９５０ｍｌと1-オクテン５０ｍｌを仕込み、このオ
ートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったとこ
ろで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-Gとなるようエチレンで加圧
した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミ
ニウムを圧入し、続いて０．００２ｍｍｏｌ／ｍｌの
（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シク
ロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキサン
溶液０．１５ｍｌ（０．０００３ｍｍｏｌ）と０．００
２５ｍｍｏｌ／ｍｌのＭｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4
（旭硝子社製、比表面積：０．６ｍ2／ｇ、粒径１５μ
ｍ以下の粒子の割合が３／１０）のヘキサンスラリー
０．２４ｍｌ（０．０００６ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別
に圧入した。オートクレーブ中のトルエン濃度は０であ
る。Ｍｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 を圧入した後、１
０分間重合を行った。圧力はエチレン加圧により圧入直
後の圧力を維持した。重合中温度は８１℃まで上昇し
た。規定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒
素で圧入し、重合を停止した。この結果、密度が０．８
７３ｇ／ｃｍ3 、ＭＦＲが０．１３ｇ／10分であるエチ
レン・1-オクテン共重合体１５ｇが得られた。
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン９５０ｍｌと1-オクテン５０ｍｌを仕込み、このオ
ートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったとこ
ろで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-Gとなるようエチレンで加圧
した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミ
ニウムを圧入し、続いて０．００２ｍｍｏｌ／ｍｌの
（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シク
ロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキサン
溶液０．１５ｍｌ（０．０００３ｍｍｏｌ）と０．００
２５ｍｍｏｌ／ｍｌのＭｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4
（旭硝子社製、比表面積：０．６ｍ2／ｇ、粒径１５μ
ｍ以下の粒子の割合が３／１０）のヘキサンスラリー
０．２４ｍｌ（０．０００６ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別
に圧入した。オートクレーブ中のトルエン濃度は０であ
る。Ｍｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 を圧入した後、１
０分間重合を行った。圧力はエチレン加圧により圧入直
後の圧力を維持した。重合中温度は８１℃まで上昇し
た。規定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒
素で圧入し、重合を停止した。この結果、密度が０．８
７３ｇ／ｃｍ3 、ＭＦＲが０．１３ｇ／10分であるエチ
レン・1-オクテン共重合体１５ｇが得られた。
【０１８７】
【比較例２】充分に窒素置換した２３℃の２リットルの
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン９５０ｍｌと1-オクテン５０ｍｌを仕込み、このオ
ートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったとこ
ろで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-Gとなるようエチレンで加圧
した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミ
ニウムを圧入し、続いて０．００２ｍｍｏｌ／ｍｌの
（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シク
ロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキサン
溶液０．１５ｍｌ（０．０００３ｍｍｏｌ）と０．００
２５ｍｍｏｌ／ｍｌのＭｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4
（旭硝子社製）のトルエン溶液０．２４ｍｌ（０．００
０６ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧入した。オートクレ
ーブ中のトルエン濃度は２４０ｐｐｍである。Ｍｅ2 Ｐ
ｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 のトルエン溶液を圧入した後、
１０分間重合を行った。圧力はエチレン加圧により圧入
直後の圧力を維持した。重合中温度は８４℃まで上昇し
た。規定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒
素で圧入し、重合を停止した。この結果、密度が０．８
７４ｇ／ｃｍ3 、ＭＦＲが０．１９ｇ／10分であるエチ
レン・1-オクテン共重合体２６ｇが得られた。
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン９５０ｍｌと1-オクテン５０ｍｌを仕込み、このオ
ートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったとこ
ろで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-Gとなるようエチレンで加圧
した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミ
ニウムを圧入し、続いて０．００２ｍｍｏｌ／ｍｌの
（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シク
ロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキサン
溶液０．１５ｍｌ（０．０００３ｍｍｏｌ）と０．００
２５ｍｍｏｌ／ｍｌのＭｅ2 ＰｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4
（旭硝子社製）のトルエン溶液０．２４ｍｌ（０．００
０６ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧入した。オートクレ
ーブ中のトルエン濃度は２４０ｐｐｍである。Ｍｅ2 Ｐ
ｈＮＨＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 のトルエン溶液を圧入した後、
１０分間重合を行った。圧力はエチレン加圧により圧入
直後の圧力を維持した。重合中温度は８４℃まで上昇し
た。規定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒
素で圧入し、重合を停止した。この結果、密度が０．８
７４ｇ／ｃｍ3 、ＭＦＲが０．１９ｇ／10分であるエチ
レン・1-オクテン共重合体２６ｇが得られた。
【０１８８】
【実施例２】充分に窒素置換した２３℃の２リットルの
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン７５０ｍｌと1-オクテン２５０ｍｌを仕込み、この
オートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったと
ころで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-G となるようエチレンで加
圧した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアル
ミニウムを圧入し、続いて０．００１ｍｍｏｌ／ｍｌの
ジメチルシリレン（（2-メチル-4,5-ベンゾ）-1-インデ
ニル-9-（2,7-ジt-ブチル）フルオレニル）ジルコニウ
ムジクロリドのヘキサン溶液０．５ｍｌ（０．０００５
ｍｍｏｌ）と０．００２５ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物１の
ヘキサンスラリー０．２４ｍｌ（０．０００６ｍｍｏ
ｌ）をそれぞれ個別に圧入した。オートクレーブ中のト
ルエン濃度は０である。粉砕物１を圧入した後、１０分
間重合を行った。圧力はエチレン加圧により圧入直後の
圧力を維持した。重合中温度は９１℃まで上昇した。規
定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒素で圧
入し、重合を停止した。この結果、密度が０．８５３ｇ
／ｃｍ3 、ＭＦＲが０．４２ｇ／10分であるエチレン・
1-オクテン共重合体６１ｇが得られた。
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン７５０ｍｌと1-オクテン２５０ｍｌを仕込み、この
オートクレーブを８０℃まで加熱し、８０℃となったと
ころで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-G となるようエチレンで加
圧した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチルアル
ミニウムを圧入し、続いて０．００１ｍｍｏｌ／ｍｌの
ジメチルシリレン（（2-メチル-4,5-ベンゾ）-1-インデ
ニル-9-（2,7-ジt-ブチル）フルオレニル）ジルコニウ
ムジクロリドのヘキサン溶液０．５ｍｌ（０．０００５
ｍｍｏｌ）と０．００２５ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物１の
ヘキサンスラリー０．２４ｍｌ（０．０００６ｍｍｏ
ｌ）をそれぞれ個別に圧入した。オートクレーブ中のト
ルエン濃度は０である。粉砕物１を圧入した後、１０分
間重合を行った。圧力はエチレン加圧により圧入直後の
圧力を維持した。重合中温度は９１℃まで上昇した。規
定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒素で圧
入し、重合を停止した。この結果、密度が０．８５３ｇ
／ｃｍ3 、ＭＦＲが０．４２ｇ／10分であるエチレン・
1-オクテン共重合体６１ｇが得られた。
【０１８９】
【実施例３】充分に窒素置換した２３℃の２リットルの
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン８８４ｍｌとエチリデンノルボルネン（ＥＮＢ）１
６ｍｌを仕込んだ。このオートクレーブにプロピレン１
７N-リットルを仕込み、８０℃まで加熱し、８０℃とな
ったところで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-G となるようエチレ
ンで加圧した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチ
ルアルミニウムを圧入し、続いて０．０１ｍｍｏｌ／ｍ
ｌの（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-
シクロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキ
サン溶液０．１ｍｌ（０．００１ｍｍｏｌ）と０．００
５ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物２のヘキサンスラリー０．２
５ｍｌ（０．００２ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧入し
た。オートクレーブ中のトルエン濃度は０である。粉砕
物２を圧入した後、２０分間重合を行った。圧力はエチ
レン加圧により圧入直後の圧力を維持し、温度は８０℃
に維持した。規定時間後オートクレーブにメタノール３
ｍｌを窒素で圧入し、重合を停止した。この結果、エチ
レン含量が６２モル％、ヨウ素価が２３ｇ／１００ｇ、
極限粘度が３．１ｄｌ／ｇであるエチレン・プロピレン
・ＥＮＢ共重合体５０ｇが得られた。
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン８８４ｍｌとエチリデンノルボルネン（ＥＮＢ）１
６ｍｌを仕込んだ。このオートクレーブにプロピレン１
７N-リットルを仕込み、８０℃まで加熱し、８０℃とな
ったところで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-G となるようエチレ
ンで加圧した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチ
ルアルミニウムを圧入し、続いて０．０１ｍｍｏｌ／ｍ
ｌの（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-
シクロペンタジエニル）シランチタンジクロリドのヘキ
サン溶液０．１ｍｌ（０．００１ｍｍｏｌ）と０．００
５ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物２のヘキサンスラリー０．２
５ｍｌ（０．００２ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧入し
た。オートクレーブ中のトルエン濃度は０である。粉砕
物２を圧入した後、２０分間重合を行った。圧力はエチ
レン加圧により圧入直後の圧力を維持し、温度は８０℃
に維持した。規定時間後オートクレーブにメタノール３
ｍｌを窒素で圧入し、重合を停止した。この結果、エチ
レン含量が６２モル％、ヨウ素価が２３ｇ／１００ｇ、
極限粘度が３．１ｄｌ／ｇであるエチレン・プロピレン
・ＥＮＢ共重合体５０ｇが得られた。
【０１９０】
【比較例３】充分に窒素置換した２３℃の２リットルの
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン８８４ｍｌとＥＮＢ１６ｍｌを仕込んだ。このオー
トクレーブにプロピレン１７N-リットルを仕込み、８０
℃まで加熱し、８０℃となったところで全圧が８ｋｇ／
ｃｍ2-G となるようエチレンで加圧した。次に先ず０．
２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミニウムを圧入し、続
いて０．０１ｍｍｏｌ／ｍｌの（t-ブチルアミド）ジメ
チル（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シラ
ンチタンジクロリドのヘキサン溶液０．１ｍｌ（０．０
０１ｍｍｏｌ）と０．００５ｍｍｏｌ／ｍｌのＰｈ3 Ｃ
Ｂ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 （旭硝子社製、比表面積：１．１ｍ2
／ｇ、粒径１５μｍ以下の粒子の割合が１／１０）のヘ
キサンスラリー０．２５ｍｌ（０．００２ｍｍｏｌ）を
それぞれ個別に圧入した。オートクレーブ中のトルエン
濃度は０である。Ｐｈ3 ＣＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 を圧入した
後、２０分間重合を行った。圧力はエチレン加圧により
圧入直後の圧力を維持し、温度は８０℃に維持した。規
定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒素で圧
入し、重合を停止した。この結果、エチレン含量が５９
モル％、ヨウ素価が２５ｇ／１００ｇ、極限粘度が２．
７ｄｌ／ｇであるエチレン・プロピレン・ＥＮＢ共重合
体３８ｇが得られた。
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン８８４ｍｌとＥＮＢ１６ｍｌを仕込んだ。このオー
トクレーブにプロピレン１７N-リットルを仕込み、８０
℃まで加熱し、８０℃となったところで全圧が８ｋｇ／
ｃｍ2-G となるようエチレンで加圧した。次に先ず０．
２ｍｍｏｌのトリイソブチルアルミニウムを圧入し、続
いて０．０１ｍｍｏｌ／ｍｌの（t-ブチルアミド）ジメ
チル（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シラ
ンチタンジクロリドのヘキサン溶液０．１ｍｌ（０．０
０１ｍｍｏｌ）と０．００５ｍｍｏｌ／ｍｌのＰｈ3 Ｃ
Ｂ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 （旭硝子社製、比表面積：１．１ｍ2
／ｇ、粒径１５μｍ以下の粒子の割合が１／１０）のヘ
キサンスラリー０．２５ｍｌ（０．００２ｍｍｏｌ）を
それぞれ個別に圧入した。オートクレーブ中のトルエン
濃度は０である。Ｐｈ3 ＣＢ（Ｃ6 Ｆ5 ）4 を圧入した
後、２０分間重合を行った。圧力はエチレン加圧により
圧入直後の圧力を維持し、温度は８０℃に維持した。規
定時間後オートクレーブにメタノール３ｍｌを窒素で圧
入し、重合を停止した。この結果、エチレン含量が５９
モル％、ヨウ素価が２５ｇ／１００ｇ、極限粘度が２．
７ｄｌ／ｇであるエチレン・プロピレン・ＥＮＢ共重合
体３８ｇが得られた。
【０１９１】
【実施例４】充分に窒素置換した２３℃の２リットルの
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン８８４ｍｌとエチリデンノルボルネン（ＥＮＢ）１
６ｍｌを仕込んだ。このオートクレーブにプロピレン１
７N-リットルを仕込み、８０℃まで加熱し、８０℃とな
ったところで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-G となるようエチレ
ンで加圧した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチ
ルアルミニウムを圧入し、続いて０．０１ｍｍｏｌ／ｍ
ｌの（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-
シクロペンタジエニル）シランチタンジメチルのヘキサ
ン溶液０．１ｍｌ（０．００１ｍｍｏｌ）と０．００５
ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物２のヘキサンスラリー０．２５
ｍｌ（０．００２ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧入し
た。オートクレーブ中のトルエン濃度は０である。粉砕
物２を圧入した後、２０分間重合を行った。圧力はエチ
レン加圧により圧入直後の圧力を維持し、温度は８０℃
に維持した。規定時間後オートクレーブにメタノール３
ｍｌを窒素で圧入し、重合を停止した。この結果、エチ
レン含量が６２モル％、ヨウ素価が２４ｇ／１００ｇ、
極限粘度が３．０ｄｌ／ｇであるエチレン・プロピレン
・ＥＮＢ共重合体５０ｇが得られた。
ステンレス製オートクレーブに、不純物を除去したヘプ
タン８８４ｍｌとエチリデンノルボルネン（ＥＮＢ）１
６ｍｌを仕込んだ。このオートクレーブにプロピレン１
７N-リットルを仕込み、８０℃まで加熱し、８０℃とな
ったところで全圧が８ｋｇ／ｃｍ2-G となるようエチレ
ンで加圧した。次に先ず０．２ｍｍｏｌのトリイソブチ
ルアルミニウムを圧入し、続いて０．０１ｍｍｏｌ／ｍ
ｌの（t-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-
シクロペンタジエニル）シランチタンジメチルのヘキサ
ン溶液０．１ｍｌ（０．００１ｍｍｏｌ）と０．００５
ｍｍｏｌ／ｍｌの粉砕物２のヘキサンスラリー０．２５
ｍｌ（０．００２ｍｍｏｌ）をそれぞれ個別に圧入し
た。オートクレーブ中のトルエン濃度は０である。粉砕
物２を圧入した後、２０分間重合を行った。圧力はエチ
レン加圧により圧入直後の圧力を維持し、温度は８０℃
に維持した。規定時間後オートクレーブにメタノール３
ｍｌを窒素で圧入し、重合を停止した。この結果、エチ
レン含量が６２モル％、ヨウ素価が２４ｇ／１００ｇ、
極限粘度が３．０ｄｌ／ｇであるエチレン・プロピレン
・ＥＮＢ共重合体５０ｇが得られた。
【０１９２】以上の結果を表１に示す。
【０１９３】
【表１】
【図１】本発明に係るオレフィン重合用触媒の調製工程
を示す説明図である。
を示す説明図である。
Claims (5)
- 【請求項１】（Ａ）遷移金属化合物成分と、（Ｂ）比表
面積が１．６ｍ2／ｇ以上の固体状イオン性ホウ素化合
物成分とからなることを特徴とするオレフィン重合用触
媒。 - 【請求項２】 前記（Ａ）遷移金属化合物成分が、シク
ロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期表第４
族の遷移金属化合物である請求項１に記載のオレフィン
重合用触媒。 - 【請求項３】 前記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物
成分が、固体状イオン性ホウ素化合物の脂肪族炭化水素
スラリーまたは脂環族炭化水素スラリーである請求項１
または２に記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項４】 前記（Ｂ）固体状イオン性ホウ素化合物
成分が、粉砕により固体状イオン性ホウ素化合物の比表
面積を１．６ｍ2／ｇ以上としたものである請求項１な
いし３のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載のオレフ
ィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合または共重
合することを特徴とするオレフィンの重合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11511298A JPH11302312A (ja) | 1998-04-24 | 1998-04-24 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11511298A JPH11302312A (ja) | 1998-04-24 | 1998-04-24 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006147245A Division JP2006219683A (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11302312A true JPH11302312A (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=14654546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11511298A Pending JPH11302312A (ja) | 1998-04-24 | 1998-04-24 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11302312A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013161833A1 (ja) * | 2012-04-26 | 2013-10-31 | 三井化学株式会社 | オレフィン重合体の製造方法 |
-
1998
- 1998-04-24 JP JP11511298A patent/JPH11302312A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013161833A1 (ja) * | 2012-04-26 | 2013-10-31 | 三井化学株式会社 | オレフィン重合体の製造方法 |
| JP5795119B2 (ja) * | 2012-04-26 | 2015-10-14 | 三井化学株式会社 | オレフィン重合体の製造方法 |
| US9340628B2 (en) | 2012-04-26 | 2016-05-17 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing olefin polymer |
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|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20060228 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060329 |