JPH1060034A - オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 - Google Patents

オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法

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JPH1060034A
JPH1060034A JP15892197A JP15892197A JPH1060034A JP H1060034 A JPH1060034 A JP H1060034A JP 15892197 A JP15892197 A JP 15892197A JP 15892197 A JP15892197 A JP 15892197A JP H1060034 A JPH1060034 A JP H1060034A
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JP
Japan
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group
bis
zirconium dichloride
rac
general formula
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Application number
JP15892197A
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English (en)
Inventor
Yasushi Doi
肥 靖 土
Junichi Imuda
淳 一 伊牟田
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Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication date
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  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】高活性であり、かつ高分子量の重合体が得られ
るようなオレフィン重合用触媒およびオレフィンの製造
方法を提供すること。 【解決手段】(A)第4族の遷移金属化合物と、(B)
式(I)で表されるイオン性化合物と、必要に応じて
(C)有機金属化合物とからなるオレフィン重合用触
媒。前記触媒の存在下にオレフィンを重合するオレフィ
ンの重合方法。 【化1】 (式中、A+ は、カルボニウムカチオン、アンモニウム
カチオン等を示し、Mは、ホウ素等を示し、R1 〜R5
は、ハロゲン原子、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化
炭化水素基、芳香環を有する基等を示し、そのうち少な
くとも1つがハロゲン化炭化水素基または芳香環を有す
る基であり、mは2、4または6。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィン重合用
触媒およびこの触媒を用いたオレフィンの重合方法に関
するものである。
【0002】
【発明の技術的背景】従来からエチレン重合体、プロピ
レン重合体、エチレン・プロピレン共重合体などのオレ
フィン重合体を製造するための触媒として、チタン化合
物と有機アルミニウム化合物とからなるチタン系触媒、
バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる
バナジウム系触媒などが知られている。
【0003】また、高い重合活性でオレフィン重合体を
製造することのできる触媒としてジルコノセンなどのメ
タロセン化合物と有機アルミニウムオキシ化合物(アル
ミノオキサン)とからなるチーグラー型触媒が知られて
いる。
【0004】さらにメタロセン化合物と、トリフェニル
カルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レートなどのホウ素原子を含むイオン性化合物とからな
るオレフィン重合用触媒が知られている。このようなメ
タロセン化合物とイオン性化合物とからなる触媒につい
て従来から研究がなされているが、高分子量のオレフィ
ン重合体が得られるようなイオン性化合物はあまり知ら
れていない。
【0005】本発明者はこのような従来技術に鑑み鋭意
検討した結果、イオン性化合物として特定の芳香環を有
する化合物を用いると、分子量が高い重合体が得られる
ことを見出して本発明を完成するに至った。
【0006】
【発明の目的】本発明は、分子量が高い重合体を得るこ
とができる、メタロセン化合物とイオン性化合物とから
なるオレフィン重合用触媒およびこの触媒を用いたオレ
フィンの重合方法を提供することを目的としている。
【0007】
【発明の概要】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、
(A)周期表第4族の遷移金属化合物と、(B)下記一
般式(I)で表されるイオン性化合物と
【0008】
【化7】
【0009】(式中、A+ は、カルボニウムカチオン、
オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホ
ニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオンま
たは遷移金属を有するフェロセニウムカチオンを示し、
Mは、周期表第13族または第15族の原子を示し、m
は、Mが周期表第13族の原子である場合は4であり、
Mが周期表第15族の原子である場合には2または6で
あり、R1 〜R5 は、互いに同一でも異なっていてもよ
く、ハロゲン原子、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化
炭化水素基、芳香環を有する基もしくはそのハロゲン化
された基、アルコキシ基含有基もしくはそのハロゲン化
された基、アルキルアミノ基またはケイ素含有基、ある
いはR1 〜R5 のうち隣接する2つの基から形成された
芳香環または脂肪族環を有する基もしくはそれらのハロ
ゲン化された基、またはR1 〜R5 のうち隣接する2つ
の基がそれぞれの基が結合する炭素原子とともに形成さ
れた芳香環、ハロゲン化された芳香環、脂肪族環もしく
はハロゲン化された脂肪族環を示す。ただし、R1 〜R
5 で示される基およびR1 〜R5のうち隣接する2つの
基から形成される基のうち少なくとも1つが芳香環を有
する基またはそのハロゲン化された基である。)から形
成されることを特徴としている。
【0010】前記一般式(I)で表されるイオン性化合
物(B)としては、たとえば、下記一般式(I')で表さ
れる化合物がある。
【0011】
【化8】
【0012】(式中、A+ およびMは前記一般式(I)
と同じであり、R1 〜R10は、互いに同一でも異なって
いてもよく、ハロゲン原子、水素原子、直鎖もしくは分
岐を有するアルキル基、直鎖もしくは分岐を有するハロ
ゲン化アルキル基、芳香環を有する基もしくはそのハロ
ゲン化された基、アルコキシ基もしくはそのハロゲン化
された基、アルキルアミノ基またはケイ素含有基、ある
いはR1 〜R10のうち隣接する2つの基から形成された
芳香環または脂肪族環を有する基もしくはそれらのハロ
ゲン化された基、またはR1 〜R10のうち隣接する2つ
の基がそれぞれの基が結合する炭素原子とともに形成さ
れた芳香環、ハロゲン化された芳香環、脂肪族環もしく
はハロゲン化された脂肪族環を示し、xおよびyは、M
の原子価が2の場合は、xが0または1、yが1または
2、かつx+y=2であり、Mの原子価が4の場合は、
xが0〜3の整数、yが1〜4の整数、かつx+y=4
であり、Mの原子価が6の場合は、xが0〜5の整数、
yが1〜6の整数、かつx+y=6であり、nは1〜5
の整数である。) また、前記一般式(I)で表されるイオン性化合物
(B)としては、たとえば、下記一般式(I'')で表さ
れる化合物がある。
【0013】
【化9】
【0014】(式中、A+ 、M、R1 〜R10、xおよび
yは、前記一般式(I)および(I')と同じである。) 本発明に係るオレフィン重合用触媒は、前記(A)周期
表第4族の遷移金属化合物と、前記(B)イオン性化合
物とに加えて(C)有機金属化合物を含むことができ
る。
【0015】本発明では、前記(B)イオン性化合物に
代えて、下記一般式(II)で表される化合物(B’)を
用いることができる。
【0016】
【化10】
【0017】(式中、MおよびR1 〜R5 は、前記一般
式(I)と同じであり、pは、Mが周期表第13族の原
子である場合は3であり、Mが周期表第15族の原子で
ある場合には5である。) 前記一般式(II)で表される化合物(B’)としては、
たとえば、下記一般式(II')で表される化合物があ
る。
【0018】
【化11】
【0019】(式中、Mは、前記一般式(I)と同じで
あり、R1 〜R10は、前記一般式(I')と同じであり、
pは、Mが周期表第13族の原子である場合は3であ
り、Mが周期表第15族の原子である場合には5であ
る。) また、前記一般式(II)で表される化合物(B’)とし
ては、たとえば、下記一般式(II'')で表される化合物
がある。
【0020】
【化12】
【0021】(式中、Mは、前記一般式(I)と同じで
あり、R1 〜R10は、前記一般式(I')と同じであり、
pは、Mが周期表第13族の原子である場合は3であ
り、Mが周期表第15族の原子である場合には5であ
る。) 本発明に係るオレフィンの重合方法は、前記オレフィン
重合用触媒の存在下にオレフィンを重合または共重合さ
せることを特徴としている。
【0022】本発明のオレフィン重合用触媒は、分子量
が高い重合体を得ることができ、かる高活性である。
【0023】
【発明の具体的説明】以下、本発明に係るオレフィン重
合用触媒およびオレフィンの重合方法について具体的に
説明する。
【0024】本発明のオレフィン重合用触媒は、(A)
周期表第4族の遷移金属化合物と、(B)下記一般式
(I)で表されるイオン性化合物と、必用に応じて、
(C)有機金属化合物から形成されている。
【0025】まず、本発明のオレフィン重合用触媒を形
成する各成分について具体的に説明する。(A)周期表第4族の遷移金属化合物 (A)遷移金属化合物としては、たとえば下記一般式
(III-1)で表される化合物が挙げられる。
【0026】M1 1 x … (III-1) 式中、M1 は周期表第4族の遷移金属原子を示し、具体
的には、ジルコニウム、チタンまたはハフニウムであ
り、好ましくはジルコニウムである。
【0027】xは遷移金属原子M1 の原子価であり、遷
移金属原子M1 に配位する配位子L 1 の個数を示す。L
1 は遷移金属原子に配位する配位子を示し、少なくとも
1個のL1 はシクロペンタジエニル骨格を有する配位子
であり、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外
のL1 は、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭素原
子数1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イ
オウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子または水素原
子である。
【0028】シクロペンタジエニル骨格を有する配位子
としては、たとえばシクロペンタジエニル基、メチルシ
クロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル
基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチル
シクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル基、エチルシクロペンタジエニル基、メチルエチ
ルシクロペンタジエニル基、プロピルシクロペンタジエ
ニル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、ブチ
ルシクロペンタジエニル基、メチルブチルシクロペンタ
ジエニル基、ヘキシルシクロペンタジエニル基などのア
ルキル置換シクロペンタジエニル基あるいはインデニル
基、4,5,6,7-テトラヒドロインデニル基、フルオレニル
基などを例示することができる。これらの基は、炭素原
子数が1〜20の(ハロゲン化)炭化水素基、酸素含有
基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子などで
置換されていてもよい。
【0029】上記一般式(III-1)で表される化合物が
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を2個以上含
む場合には、そのうち2個のシクロペンタジエニル骨格
を有する配位子同士は、(置換)アルキレン基、(置
換)シリレン基などの2価の結合基を介して結合されて
いてもよい。このような2個のシクロペンタジエニル骨
格を有する配位子が2価の結合基を介して結合されてい
る遷移金属化合物としては後述するような一般式(III-
3)で表される遷移金属化合物が挙げられる。
【0030】シクロペンタジエニル骨格を有する配位子
以外の配位子L1 としては、具体的に下記のようなもの
が挙げられる。炭素原子数が1〜20の炭化水素基とし
ては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
アリールアルキル基、アリール基などが挙げられ、より
具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキ
シル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどの
アルキル基;シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボ
ルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基;ビニ
ル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル
基;ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなど
のアリールアルキル基;フェニル、トリル、ジメチルフ
ェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピ
ルフェニル、ビフェニリル、ナフチル、メチルナフチ
ル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基が挙
げられる。
【0031】炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水
素基としては、前記炭素原子数が1〜20の炭化水素基
にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基とし
てはヒドロキシ基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシなどのアルコキシ基;フェノキシ、メチルフェ
ノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリー
ロキシ基;フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどの
アリールアルコキシ基などが挙げられる。
【0032】イオウ含有基としては前記酸素含有基の酸
素がイオウに置換した置換基、ならびにメチルスルフォ
ネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニル
スルフォネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエン
スルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、
トリイソブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベン
ゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォ
ネートなどのスルフォネート基;メチルスルフィネー
ト、フェニルスルフィネート、ベンゼンスルフィネー
ト、p-トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンス
ルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネート
などのスルフィネート基が挙げられる。
【0033】ケイ素含有基としてはメチルシリル、フェ
ニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル;ジメチルシ
リル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル;
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシ
リル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリ
ル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ
炭化水素置換シリル;トリメチルシリルエーテルなどの
炭化水素置換シリルのシリルエーテル;トリメチルシリ
ルメチルなどのケイ素置換アルキル基;トリメチルフェ
ニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【0034】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。このよ
うな遷移金属化合物は、たとえば遷移金属の原子価が4
である場合、より具体的には下記一般式(III-2)で示
される。
【0035】R111213141 … (III-2) 式中、M1 は、前記と同様の周期表第4族から選ばれる
遷移金属原子を示し、好ましくはジルコニウム原子であ
る。
【0036】R11は、シクロペンタジエニル骨格を有す
る基(配位子)を示し、R12、R13およびR14は、互い
に同一でも異なっていてもよく、シクロペンタジエニル
骨格を有する基(配位子)、炭素原子数が1〜20の
(ハロゲン化)炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有
基、ケイ素含有基、ハロゲン原子または水素原子を示
す。
【0037】本発明では上記一般式(III-2)で示され
る遷移金属化合物において、R12、R13およびR14のう
ち少なくとも1個がシクロペンタジエニル骨格を有する
基(配位子)である化合物、たとえばR11およびR12
シクロペンタジエニル骨格を有する基(配位子)である
化合物が好ましく用いられる。また、R11およびR12
シクロペンタジエニル骨格を有する基(配位子)である
場合、R13およびR14はシクロペンタジエニル骨格を有
する基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリーロキシ基、トリアルキルシリル基、スルフォネー
ト基、ハロゲン原子または水素原子であることが好まし
い。
【0038】以下に、前記一般式(III-1)で表され、
1 がジルコニウムである遷移金属化合物について具体
的な化合物を例示する。ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビ
ス(シクロペンタジエニル)メチルジルコニウムモノク
ロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムフ
ェノキシモノクロリド、ビス(メチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(エチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(プロピ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビ
ス(ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リド、ビス(ヘキシルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ビス(オクチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド、ビス(4,5,6,7-テトラヒドロイン
デニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(インデニル)
ジルコニウムジブロミド、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムメトキシクロリド、ビス(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムエトキシクロリド、ビス(フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムビス(メタンスルホナ
ト)、ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス
(p-トルエンスルホナト)、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナ
ト)、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、ビス(エチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(トリフル
オロメタンスルホナト)、ビス(プロピルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスル
ホナト)、ビス(ブチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、ビス
(ヘキシルシクロペンタジエニル)ジルコニウムビス
(トリフルオロメタンスルホナト)、ビス(ジメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムビス(トリフルオロ
メタンスルホナト)、ビス(メチルエチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスル
ホナト)、ビス(メチルプロピルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナ
ト)、ビス(メチルブチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、ビス
(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リド、ビス(メチルプロピルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ビス(メチルブチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(メチルヘ
キシルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ビス(エチルブチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ビス(トリメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(テトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス
(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、ビス(メチルベンジルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(エチルヘキシルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス
(メチルシクロヘキシルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、ビス(シクロペンタジエニル)エチ
ルジルコニウムモノクロリド、ビス(シクロペンタジエ
ニル)シクロヘキシルジルコニウムモノクロリド、ビス
(シクロペンタジエニル)フェニルジルコニウムモノク
ロリド、ビス(シクロペンタジエニル)ベンジルジルコ
ニウムモノクロリド、ビス(シクロペンタジエニル)メ
チルジルコニウムモノハイドライド、ビス(シクロペン
タジエニル)ジフェニルジルコニウム、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジベンジルジルコニウム、ビス(インデ
ニル)ジルコニウムビス(p-トルエンスルホナト)、ビ
ス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムエト
キシクロリド、ビス(メチルエチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(プロピルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(メチル
ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(メタ
ンスルフォネート)、ビス(トリメチルシリルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリドなど。
【0039】なお上記例示において、シクロペンタジエ
ニル環の二置換体は、1,2-および1,3-置換体を含み、三
置換体は、1,2,3-および1,2,4-置換体を含む。またプロ
ピル、ブチルなどのアルキル基は、n-、i-、sec-、tert
-などの異性体を含む。
【0040】また上記のようなジルコニウム化合物にお
いて、ジルコニウムを、チタンまたはハフニウムに置換
えた化合物を挙げることもできる。2個のシクロペンタ
ジエニル骨格を有する配位子が2価の結合基を介して結
合されている遷移金属化合物化合物としては、たとえば
下記式(III-3)で表される化合物が挙げられる。
【0041】
【化13】
【0042】式中、M1 は、周期表第4族の遷移金属原
子を示し、具体的には、ジルコニウム、チタニウムまた
はハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。
15、R16、R17およびR18は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭
素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含
有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含
有基、水素原子またはハロゲン原子を示す。R15
16、R17およびR18で示される基のうち、互いに隣接
する基の一部が結合してそれらの基が結合する炭素原子
とともに環を形成していてもよい。なお、R15、R16
17およびR18が各々2ヶ所に表示されているが、それ
ぞれたとえばR15とR15などは、同一の基でもよくまた
相異なる基でもよい。Rで示される基のうち同一のサフ
ィックスのものは、それらを継いで、環を形成する場合
の好ましい組み合せを示している。
【0043】炭素原子数が1〜20の炭化水素基として
はメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オク
チル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル
基;シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、
アダマンチルなどのシクロアルキル基;ビニル、プロペ
ニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基;ベンジ
ル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリール
アルキル基;フェニル、トリル、ジメチルフェニル、ト
リメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニ
ル、ビフェニリル、ナフチル、メチルナフチル、アント
リル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられ
る。
【0044】これらの炭化水素基が結合して形成する環
としてはベンゼン環、ナフタレン環、アセナフテン環、
インデン環などの縮環基、および前記縮環基上の水素原
子がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル
基で置換された基が挙げられる。
【0045】炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水
素基としては、前記炭素原子数が1〜20の炭化水素基
にハロゲンが置換した基が挙げられる。ケイ素含有基と
してはメチルシリル、フェニルシリルなどのモノ炭化水
素置換シリル;ジメチルシリル、ジフェニルシリルなど
のジ炭化水素置換シリル;トリメチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシ
リル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、
メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフ
チルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル;トリメチル
シリルエーテルなどの炭化水素置換シリルのシリルエー
テル;トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキ
ル基;トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリ
ール基などが挙げられる。
【0046】酸素含有基としてはヒドロキシ基;メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ
基;フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキ
シ、ナフトキシなどのアリーロキシ基;フェニルメトキ
シ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基など
が挙げられる。
【0047】イオウ含有基としては前記酸素含有基の酸
素がイオウに置換した置換基などが挙げられる。窒素含
有基としてはアミノ基;メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミ
ノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基;
フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、
ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリー
ルアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げ
られる。
【0048】リン含有基としてはジメチルフォスフィ
ノ、ジフェニルフォスフィノなどのフォスフィノ基など
が挙げられる。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
【0049】これらのうち炭素原子数が1〜20の炭化
水素基であることが好ましく、特にメチル、エチル、プ
ロピル、ブチルの炭素原子数が1〜4の炭化水素基、炭
化水素基が結合して形成されたベンゼン環、炭化水素基
が結合して形成されたベンゼン環上の水素原子がメチ
ル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、n-ブチル、is
o-ブチル、tert-ブチルなどのアルキル基で置換された
基であることが好ましい。
【0050】X1 およびX2 は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、炭素原子数1〜20の炭化水素基、炭素
原子数1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、
イオウ含有基、ケイ素含有基、水素原子またはハロゲン
原子を示す。
【0051】炭素原子数1〜20の炭化水素基、炭素原
子数1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基およ
びハロゲン原子としては、前記R15〜R18と同様の基お
よび原子を挙げることができる。
【0052】イオウ含有基としては、前記R15〜R18
同様の基、ならびにメチルスルフォネート、トリフルオ
ロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベ
ンジルスルフォネート、p-トルエンスルフォネート、ト
リメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベン
ゼンスルフォネート、p-クロルベンゼンスルフォネー
ト、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスル
フォネート基;メチルスルフィネート、フェニルスルフ
ィネート、ベンゼンスルフィネート、p-トルエンスルフ
ィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタ
フルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート
基が例示できる。
【0053】ケイ素含有基としては、前記R15〜R18
同様のケイ素置換アルキル基、ケイ素置換アリール基が
挙げられる。これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜20の炭化水素基またはスルフォネート基であるこ
とが好ましい。
【0054】Y1 は、炭素原子数が1〜20の2価の炭
化水素基、炭素原子数が1〜20の2価のハロゲン化炭
化水素基、2価のケイ素含有基、2価のゲルマニウム含
有基、2価のスズ含有基、−O−、−CO−、−S−、
−SO−、−SO2−、−Ge−、−Sn−、−NR19
−、−P(R19)−、−P(O)(R19)−、−BR 19
−または−AlR19−〔ただし、R19は、互いに同一で
も異なっていてもよく、炭素原子数が1〜20の炭化水
素基、炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基、
水素原子またはハロゲン原子である〕を示す。
【0055】炭素原子数が1〜20の2価の炭化水素基
として具体的には、メチレン、ジメチルメチレン、1,2-
エチレン、ジメチル-1,2-エチレン、1,3-トリメチレ
ン、1,4-テトラメチレン、1,2-シクロヘキシレン、1,4-
シクロヘキシレンなどのアルキレン基;ジフェニルメチ
レン、ジフェニル-1,2-エチレンなどのアリールアルキ
レン基などが挙げられる。
【0056】炭素原子数が1〜20の2価のハロゲン化
炭化水素基として具体的には、クロロメチレンなどの上
記炭素原子数が1〜20の2価の炭化水素基をハロゲン
化した基などが挙げられる。
【0057】2価のケイ素含有基としては、シリレン、
メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレ
ン、ジ(n-プロピル)シリレン、ジ(i-プロピル)シリ
レン、ジ(シクロヘキシル)シリレン、メチルフェニル
シリレン、ジフェニルシリレン、ジ(p-トリル)シリレ
ン、ジ(p-クロロフェニル)シリレンなどのアルキルシ
リレン基;アルキルアリールシリレン基;アリールシリ
レン基;テトラメチル-1,2-ジシリレン、テトラフェニ
ル-1,2-ジシリレンなどのアルキルジシリレン基;アル
キルアリールジシリレン基;アリールジシリレン基など
が挙げられる。
【0058】2価のゲルマニウム含有基としては、上記
2価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した
基などが挙げられる。2価のスズ含有基としては、上記
2価のケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基などが
挙げられる。
【0059】これらのうち、ジメチルシリレン、ジフェ
ニルシリレン、メチルフェニルシリレンなどの置換シリ
レン基が特に好ましい。また、R19は、前記R15〜R18
と同様のハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水
素基、炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基で
ある。
【0060】以下に、前記式(III-3)で表される遷移
金属化合物について具体的な化合物を例示する。エチレ
ン-ビス(インデニル)ジメチルジルコニウム、エチレ
ン-ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、エチ
レン-ビス(インデニル)ジルコニウムビス(トリフル
オロメタンスルホナト)、エチレン-ビス(インデニ
ル)ジルコニウムビス(メタンスルホナト)、エチレン
-ビス(インデニル)ジルコニウムビス(p-トルエンス
ルホナト)、エチレン-ビス(インデニル)ジルコニウ
ムビス(p-クロルベンゼンスルホナト)、エチレン-ビ
ス(4,5,6,7-テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、イソプロピ
リデン(シクロペンタジエニル)(メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン
-ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリレン-ビス(メチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビ
ス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、ジメチルシリレン-ビス(トリメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリ
レン-ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、ジ
メチルシリレン-ビス(インデニル)ジルコニウムビス
(トリフルオロメタンスルホナト)、ジメチルシリレン
-ビス(4,5,6,7-テトラヒドロインデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリレン(シクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、ジフェ
ニルシリレン-ビス(インデニル)ジルコニウムジクロ
リド、メチルフェニルシリレン-ビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
(2,3,5-トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス(2,4,7-ト
リメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス(2-メチル-4-tert-ブ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(3-
tert-ブチルシクロペンタジエニル)(インデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリデン(4-メチルシ
クロペンタジエニル)(3-メチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、イソプロピリデン(4-tert-ブチルシ
クロペンタジエニル)(3-メチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、イソプロピリデン(4-tert-ブチルシ
クロペンタジエニル)(3-tert-ブチルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(4-メチルシ
クロペンタジエニル)(3-メチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレン(4-tert-ブチルシ
クロペンタジエニル)(3-メチルインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリレン(4-tert-ブチルシ
クロペンタジエニル)(3-tert-ブチルインデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン(3-tert-ブ
チルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、イソプロピリデン(3-tert-ブチルシ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジ
クロリドなど。
【0061】また上記のような化合物中のジルコニウム
を、チタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げ
ることもできる。前記一般式(III-3)で表される遷移
金属化合物として、他の具体的な例としては下記一般式
(III-4)または(III-5)で表される遷移金属化合物が
ある。
【0062】
【化14】
【0063】式中、M1 は周期表第4族の遷移金属原子
を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウムまたは
ハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。R
21は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数
が1〜6の炭化水素基を示し、具体的には、メチル、エ
チル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネオペン
チル、n-ヘキシル、シクロヘキシルなどのアルキル基;
ビニル、プロペニルなどのアルケニル基などが挙げられ
る。
【0064】これらのうちインデニル基に結合した炭素
原子が1級のアルキル基が好ましく、さらに炭素原子数
が1〜4のアルキル基が好ましく、特にメチル基および
エチル基が好ましい。
【0065】R22、R24、R25およびR26は、互いに同
一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子ま
たはR21と同様の炭素原子数が1〜6の炭化水素基を示
す。R23は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子または炭素原子数が6〜16のアリール基を示し、
具体的には、フェニル、α-ナフチル、β-ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、ピレニル、アセナフチル、
フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフ
チル、インダニル、ビフェニリルなどが挙げられる。こ
れらのうちフェニル、ナフチル、アントリルまたはフェ
ナントリルであることが好ましい。
【0066】これらのアリール基は、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子;メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのアルキル基;ビニル、プロペニル、シクロ
ヘキセニルなどのアルケニル基;ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基;フ
ェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニリ
ル、α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、アント
リル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニル、
アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テ
トラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどの
アリール基などの炭素原子数が1〜20の炭化水素基;
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシ
リルなどの有機シリル基で置換されていてもよい。
【0067】X1 およびX2 は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、前記一般式(III-3)におけるX1 およ
びX2 と同じである。これらのうち、ハロゲン原子また
は炭素原子数が1〜20の炭化水素基であることが好ま
しい。
【0068】Y1 は、前記一般式(III-3)における、
1 と同じである。これらのうち、2価のケイ素含有
基、2価のゲルマニウム含有基であることが好ましく、
2価のケイ素含有基であることがより好ましく、アルキ
ルシリレン、アルキルアリールシリレンまたはアリール
シリレンであることがより好ましい。
【0069】以下に上記一般式(III-4)で表される遷
移金属化合物の具体的な例を示す。rac-ジメチルシリレ
ン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-
(2-メチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-
メチル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチ
ル-4-(1-アントリル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-
(2-アントリル)インデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(9-
アントリル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(9-フェ
ナントリル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-フル
オロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(ペ
ンタフルオロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-
4-(p-クロロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-
4-(m-クロロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-
4-(o-クロロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-
4-(o,p-ジクロロフェニル) フェニルインデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1
-(2-メチル-4-(p-ブロモフェニル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1
-(2-メチル-4-(p-トリル)インデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メ
チル-4-(m-トリル)インデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(o
-トリル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac
-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(o,o'-ジメ
チルフェニル)-1-インデニル) ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-
エチルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-i
-プロピルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-
(p-ベンジルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-
4-(p-ビフェニリル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-
(m-ビフェニリル)インデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p
-トリメチルシリレンフェニル)インデニル)}ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2
-メチル-4-(m-トリメチルシリレンフェニル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-フェニル-4-フェニルインデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス{1-
(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジ-(i-プロピル)シリレン-ビス{1-(2
-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジ-(n-ブチル)シリレン-ビス{1-(2-メチ
ル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジシクロヘキシルシリレン-ビス{1-(2-メチ
ル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-メチル-
4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニル
インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ(p-ト
リル)シリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ(p-クロロフ
ェニル)シリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルイン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビ
ス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-エチレン-ビス{1-(2-メチル-4-
フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルゲルミレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルイ
ンデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルス
タニレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコ
ニウムジブロミド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2
-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジメチ
ル、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェ
ニルインデニル)}ジルコニウムメチルクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルイン
デニル)}ジルコニウムクロリドSO2Me、rac-ジメ
チルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニ
ル)}ジルコニウムクロリドOSO2Me、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-フェニルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(α-ナフチル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(β-ナフチル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(2-メチル-1-ナフチル)イン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス{1-(2-エチル-4-(5-アセナフチル)インデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-アントリル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(9-フェナントリル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(o-メチルフェニル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(m-メチルフェニル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(p-メチルフェニル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-エチル-4-(2,3-ジメチルフェニル)イン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,4-ジメチルフェニル)
インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,5-ジメチルフェニ
ル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,4,6-トリメチ
ルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(o-クロ
ロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(m-クロ
ロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(p-クロ
ロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,3-ジ
クロロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,6
-ジクロロフェニル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-
(3,5-ジクロロフェニル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル
-4-(2-ブロモフェニル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル
-4-(3-ブロモフェニル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル
-4-(4-ブロモフェニル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル
-4-(4-ビフェニリル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4
-(4-トリメチルシリルフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-
(2-n-プロピル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロ
ピル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピ
ル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル
-4-(2-メチル-1-ナフチル)インデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プ
ロピル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-
プロピル-4-(9-アントリル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-
プロピル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-
(2-i-プロピル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロ
ピル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピ
ル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル
-4-(8-メチル-9-ナフチル)インデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プ
ロピル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-
プロピル-4-(9-アントリル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-
プロピル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-
(2-s-ブチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル
-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-
(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-(2
-メチル-1-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4
-(5-アセナフチル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4
-(9-アントリル)インデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-
(9-フェナントリル)インデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ペンチル
-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、r
ac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ペンチル-4-(α-
ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-フェニル
インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(α-ナフチル)イン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(β-ナフチル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチル)イン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(5-アセナフチル)イン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(9-アントリル)インデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(9-フェナントリル)イン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-フェニルインデニル)}
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
{1-(2-i-ブチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1
-(2-i-ブチル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-
i-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1
-(2-i-ブチル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1
-(2-i-ブチル-4-(9-アントリル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-
(2-i-ブチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1
-(2-ネオペンチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-ネ
オペンチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-
ヘキシル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ヘキシル
-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル
-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、r
ac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(α
-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、r
ac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-
アントリル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9
-フェナントリル)インデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-
フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-
ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(α-ナフチ
ル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジフ
ェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-アントリ
ル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジフ
ェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-フェナント
リル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
フェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(4-ビフェニ
リル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-メ
チレン-ビス{1-(2-エチル-4-フェニルインデニル)}
ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビス{1-(2-エ
チル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-エチレン-ビス{1-(2-エチル-4-フェニ
ルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-エチレ
ン-ビス{1-(2-エチル-4-(α-ナフチル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス{1
-(2-n-プロピル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルゲルミル-ビス{1-
(2-エチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルゲルミル-ビス{1-(2-エチル-4-
(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルゲルミル-ビス{1-(2-n-プロピル-4-
フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリドなど。
【0070】また上記のような化合物中のジルコニウム
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。本発明では、炭素原子数が3以上のオレ
フィンを重合する際には、前記一般式(III-4)で表さ
れる遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分として好まし
く用いられる。
【0071】このような一般式(III-4)で表される遷
移金属化合物は、Journal of Organometallic Chem.288
(1985)、第63〜67頁、ヨーロッパ特許出願公開第0,320,
762号明細書および実施例に準じて製造することができ
る。
【0072】次に、一般式(III-5)で表される遷移金
属化合物について説明する。
【0073】
【化15】
【0074】式中、M1 は周期表第4族の遷移金属原子
を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウムまたは
ハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。R
31およびR32は、互いに同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭素原子数が1〜
20のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有
基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、水素原子
またはハロゲン原子を示し、具体的には、前記R15〜R
18と同様の原子または基が挙げられる。
【0075】これらのうちR31は、炭素原子数が1〜2
0の炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エ
チル、プロピルの炭素原子数が1〜3の炭化水素基であ
ることが好ましい。
【0076】R32は、水素原子または炭素原子数が1〜
20の炭化水素基であることが好ましく、特に水素原子
あるいは、メチル、エチル、プロピルの炭素原子数が1
〜3の炭化水素基であることが好ましい。
【0077】R33およびR34は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、炭素原子数が1〜20のアルキル基を示
し、具体的にはメチル、エチル、n-プロピル、イソプロ
ピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチ
ル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、シクロヘ
キシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノ
ルボルニル、アダマンチルなどが挙げられる。
【0078】これらのうちR33は、2級または3級アル
キル基であることが好ましい。X1 およびX2 は、互い
に同一でも異なっていてもよく、前記一般式(III-3)
におけるX1 およびX2 と同じである。
【0079】Y1 は、前記一般式(III-3)における、
1 と同じである。以下に上記一般式(III-5)で表さ
れる遷移金属化合物の具体的な例を示す。rac-ジメチル
シリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-エチルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン
-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-n-プロピルインデニル)}
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス
{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-
(2,7-ジメチル-4-n-ブチルインデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-
ジメチル-4-sec-ブチルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメ
チル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-
n-ペンチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-n-ヘキ
シルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-シクロヘキシ
ルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-メチルシクロヘ
キシルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-フェニルエ
チルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-フェニルジク
ロロメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-クロロ
メチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-トリメチル
シリルメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-トリ
メチルシロキシメチルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチ
ル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジ(i-プロピル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジ
メチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジ(n-ブチル)シリレン-ビス{1-(2,7-
ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジ(シクロヘキシル)シリレン-ビス{1
-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1
-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1
-(2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,7
-ジメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメ
チル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチ
ル-4-エチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、r
ac-ジ(p-トリル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4
-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、r
ac-ジ(p-クロロフェニル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジ
メチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-
i-プロピル-7-エチルインデニル)}ジルコニウムジブ
ロミドrac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメ
チル-4-エチルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチ
ル-4-n-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチ
ル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac−ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリ
メチル-4-n-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメ
チル-4-sec-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメ
チル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチ
ル-4-n-ペンチルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチ
ル-4-n-ヘキシルインデニル)}ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチ
ル-4-シクロヘキシルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリ
メチル-4-メチルシクロヘキシルインデニル)}ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-
(2,3,7-トリメチル-4-トリメチルシリルメチルインデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-トリメチルシロキシ
メチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
メチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-フェニ
ルエチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-フェ
ニルジクロロメチルインデニル)}ジルコニウムジクロ
リド、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメ
チル-4-クロロメチルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリ
メチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジ(i-プロピル)シリレン-ビス{1-(2,
3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、rac-ジ(n-ブチル)シリレン-ビス{1
-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジル
コニウムジクロリド、rac-ジ(シクロヘキシル)シリレ
ン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシ
リレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルイン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニ
ルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルイ
ンデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニル
シリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルイン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシ
リレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルイン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシ
リレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ(p-トリル)シ
リレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルイン
デニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジ(p-クロロ
フェニル)シリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-
プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7
-メチルインデニル)}ジルコニウムジメチル、rac-ジ
メチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7-
メチルインデニル)}ジルコニウムメチルクロリド、ra
c-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル
-7-メチルインデニル)}ジルコニウム-ビス(メタンス
ルホナト)、rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチ
ル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}ジルコニウム
-ビス(p-フェニルスルフィナト)、rac-ジメチルシリ
レン-ビス{1-(2-メチル-3-メチル-4-i-プロピル-7-メ
チルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4,6-ジ-i-プロピル
インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス{1-(2-エチル-4-i-プロピル-7-メチル
インデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス{1-(2-フェニル-4-i-プロピル-7-メチ
ルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス{1-(2-メチルインデニル)}ジルコ
ニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス{1-(2,4,7-ト
リメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-
イソプロピリデン-ビス{1-(2,4,7-トリメチルインデ
ニル)}ジルコニウムジクロリドなど。
【0080】また上記のような化合物中のジルコニウム
をチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げる
こともできる。これらの中で、4位にi-プロピル、sec-
ブチル、tert-ブチル基などの分岐アルキル基を有する
ものが、特に好ましい。
【0081】本発明では、炭素原子数が3以上のオレフ
ィンを重合する際には、前記一般式(III-5)で表され
る遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分として好ましく
用いられる。
【0082】上記のような一般式(III-5)で表される
遷移金属化合物は、インデン誘導体から既知の方法たと
えば特開平4−268307号公報に記載されている方
法により合成することができる。
【0083】また、本発明では、(A)遷移金属化合物
として下記一般式(III-6)で表される化合物を用いる
こともできる。 L2 2 3 2 … (III-6) 式中、M2 は周期表第4族の遷移金属原子を示す。
【0084】L2 は、非局在化π結合基の誘導体であ
り、金属M2 活性サイトに拘束幾何形状を付与してお
り、X3 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素
原子、ハロゲン原子または20個以下の炭素原子、ケイ
素原子もしくはゲルマニウム原子を含有する炭化水素
基、シリル基もしくはゲルミル基である。
【0085】このような一般式(III-6)で表される化
合物のうちでは、下記一般式(III-7)で表される化合
物が好ましい。
【0086】
【化16】
【0087】式中、M2 は周期表第4族の遷移金属原子
を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニ
ウムであり、好ましくはジルコニウムである。Cpは、
2 にπ結合しており、かつ置換基Zを有する置換シク
ロペンタジエニル基またはその誘導体を示す。
【0088】Zは、酸素原子、イオウ原子、ホウ素原子
または周期表第14族の原子を含む配位子を示し、たと
えば−Si(R41 2)−、−C(R41 2)−、−Si(R
41 2)Si(R41 2)−、−C(R41 2)C(R41 2)−、
−C(R41 2)C(R41 2 )C(R41 2)−、−C
(R41)=C(R41)−、−C(R41 2)Si(R41 2
−、−Ge(R41 2)−などである。
【0089】Y2 は、窒素原子、リン原子、酸素原子ま
たはイオウ原子を含む配位子を示し、たとえば−N(R
42)−、−O−、−S−、−P(R42)−などである。
またZとY2 とで縮合環を形成してもよい。
【0090】上記R41は水素原子または20個までの非
水素原子をもつアルキル基、アリール基、シリル基、ハ
ロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基およびこれ
らの組合せから選ばれた基であり、R42は炭素原子数が
1〜10のアルキル、炭素原子数が6〜10のアリール
基もしくは炭素原子数が7〜10のアラルキル基である
か、または1個もしくはそれ以上のR41と30個までの
非水素原子の縮合環系を形成してもよい。
【0091】以下に上記一般式(III-7)で表される遷
移金属化合物の具体的な例を示す。(tert-ブチルアミ
ド)(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2-
エタンジイルジルコニウムジクロリド、(tert-ブチル
アミド)(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-
1,2-エタンジイルチタンジクロリド、(メチルアミド)
(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2-エタ
ンジイルジルコニウムジクロリド、(メチルアミド)
(テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル)-1,2-エタ
ンジイルチタンジクロリド、(エチルアミド)(テトラ
メチル-η5-シクロペンタジエニル)-メチレンチタンジ
クロリド、(tert-ブチルアミド)ジメチル(テトラメ
チル-η5-シクロペンタジエニル)シランチタンジクロ
リド、(tert-ブチルアミド)ジメチル(テトラメチル-
η5-シクロペンタジエニル)シランジルコニウムジクロ
リド、(ベンジルアミド)ジメチル-(テトラメチル-η
5-シクロペンタジエニル)シランチタンジクロリド、
(フェニルホスフィド)ジメチル(テトラメチル-η5-
シクロペンタジエニル)シランジルコニウムジベンジル
など。
【0092】このような遷移金属化合物は、単独でまた
は2種以上混合して用いることができる。(B)イオン性化合物 イオン性化合物としては、たとえば下記一般式(I)で
表される非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン
性化合物が挙げられる。
【0093】
【化17】
【0094】式中、A+ は、カルボニウムカチオン、オ
キソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニ
ウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、遷
移金属を有するフェロセニウムカチオンなどを示す。
【0095】カルボニウムカチオンとして具体的には、
トリフェニルカルボニウムカチオン、トリ(メチルフェ
ニル)カルボニウムカチオン、トリ(ジメチルフェニ
ル)カルボニウムカチオンなどの三置換カルボニウムカ
チオンなどが挙げられる。
【0096】前記アンモニウムカチオンとして具体的に
は、トリメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアン
モニウムカチオン、トリプロピルアンモニウムカチオ
ン、トリブチルアンモニウムカチオン、トリ(n-ブチ
ル)アンモニウムカチオンなどのトリアルキルアンモニ
ウムカチオン;N,N-ジエチルアニリニウムカチオン、N,
N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムカチオンなどのN,N-
ジアルキルアニリニウムカチオン;ジ(イソプロピル)
アンモニウムカチオン、ジシクロヘキシルアンモニウム
カチオンなどのジアルキルアンモニウムカチオンなどが
挙げられる。
【0097】前記ホスホニウムカチオンとして具体的に
は、トリフェニルホスホニウムカチオン、トリ(メチル
フェニル)ホスホニウムカチオン、トリ(ジメチルフェ
ニル)ホスホニウムカチオンなどのトリアリールホスホ
ニウムカチオンなどが挙げられる。
【0098】これらのなかでは、カルボニウムカチオ
ン、アンモニウムカチオンが好ましく、特にトリフェニ
ルカルボニウムカチオン、N,N-ジエチルアニリニウムカ
チオンが好ましい。
【0099】Mは、周期表第13族または第15族の原
子を示し、具体的には、アルミニウム、ホウ素、アンチ
モン、砒素、リンなどが挙げられ、これらの中ではホウ
素が好ましい。
【0100】mは、Mが周期表第13族の原子である場
合は4であり、Mが周期表第15族の原子である場合に
は2または6であり、R1 〜R5 は、互いに同一でも異
なっていてもよく、ハロゲン原子、水素原子、炭化水素
基、ハロゲン化炭化水素基、芳香環を有する基もしくは
そのハロゲン化された基、アルコキシ基含有基もしくは
そのハロゲン化された基、アルキルアミノ基またはケイ
素含有基、あるいはR1 〜R5 のうち隣接する2つの基
から形成された芳香環または脂肪族環を有する基もしく
はそれらのハロゲン化された基、またはR1 〜R5 のう
ち隣接する2つの基がそれぞれの基が結合する炭素原子
とともに形成された芳香環、ハロゲン化された芳香環、
脂肪族環もしくはハロゲン化された脂肪族環を示す。た
だし、R1 〜R5 で示される基およびR1 〜R5のうち
隣接する2つの基から形成される基のうち少なくとも1
つが芳香環を有する基またはそのハロゲン化された基で
ある。
【0101】ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。炭化水素
基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキ
シル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどの
アルキル基;シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボ
ルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基;ビニ
ル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基
などが挙げられる。
【0102】ハロゲン化炭化水素基としては、前記炭化
水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。芳香環を
有する基としては、ベンジル、フェニルエチル、フェニ
ルプロピルなどのアリールアルキル基;フェニル、トリ
ル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフ
ェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メ
チルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリ
ール基;ペンタフルオロビフェニル、ノナフルオロフェ
ニルなどの置換アリール基などが挙げられる。
【0103】アルコキシ基としては、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシなどが挙げられる。アルキル
アミノ基としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ
シクロヘキシルアミノなどが挙げられる。
【0104】ケイ素含有基としてはメチルシリル、フェ
ニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル;ジメチルシ
リル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル;
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシ
リル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリ
ル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリ
ル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ
炭化水素置換シリル;トリメチルシリルエーテルなどの
炭化水素置換シリルのシリルエーテル;トリメチルシリ
ルメチルなどのケイ素置換アルキル基;トリメチルフェ
ニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【0105】隣接する基が環を形成する態様としては、
ナフチル骨格、インデニル骨格、フルオレニル骨格を有
する基などが例示される。このような、前記一般式
(I)で表されるイオン性化合物としては、たとえば下
記一般式(I')で表される化合物がある。
【0106】
【化18】
【0107】式中、A+ およびMは前記一般式(I)と
同じであり、R1 〜R10は、互いに同一でも異なってい
てもよく、ハロゲン原子、水素原子、直鎖もしくは分岐
を有するアルキル基、直鎖もしくは分岐を有するハロゲ
ン化アルキル基、芳香環を有する基もしくはそのハロゲ
ン化された基、アルコキシ基もしくはそのハロゲン化さ
れた基、アルキルアミノ基またはケイ素含有基、あるい
はR1 〜R10のうち隣接する2つの基から形成された芳
香環または脂肪族環を有する基もしくはそれらのハロゲ
ン化された基、またはR1 〜R10のうち隣接する2つの
基がそれぞれの基が結合する炭素原子とともに形成され
た芳香環、ハロゲン化された芳香環、脂肪族環もしくは
ハロゲン化された脂肪族環を示す。
【0108】xおよびyは、Mの原子価が2の場合は、
xが0または1、yが1または2、かつx+y=2であ
り、Mの原子価が4の場合は、xが0〜3の整数、yが
1〜4の整数、かつx+y=4であり、Mの原子価が6
の場合は、xが0〜5の整数、yが1〜6の整数、かつ
x+y=6である。
【0109】直鎖もしくは分岐を有するアルキル基とし
ては、メチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、n-
ブチル、iso-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ヘキ
シル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどが
挙げられ、直鎖もしくは分岐を有するハロゲン化アルキ
ル基としては、トリフルオロメチルなど、またハロゲン
化されたアルコキシ含有基としては−C(CF3 )(O
CH3 )などが挙げられる。
【0110】nは1〜5の整数であり、好ましくは1ま
たは2である。さらに前記一般式(I)で表されるイオ
ン性化合物としては、たとえば下記一般式(I'')で表
される化合物がある。
【0111】
【化19】
【0112】式中、A+ 、M、R1 〜R10、xおよびy
は、前記一般式(I)および(I')と同じである。ま
た、本発明では前記一般式(I)で表されるイオン性化
合物(B)に代えて、下記一般式(II)で表される化合
物(B’)を用いることもできる。
【0113】
【化20】
【0114】(式中、MおよびR1 〜R5 は、前記一般
式(I)と同じであり、pは、Mが周期表第13族の原
子である場合は3であり、Mが周期表第15族の原子で
ある場合には5である。) 前記一般式(II)で表される化合物(B’)としては、
たとえば、下記一般式(II')で表される化合物があ
る。
【0115】
【化21】
【0116】(式中、Mは、前記一般式(I)と同じで
あり、R1 〜R10は、前記一般式(I')と同じであり、
pは、Mが周期表第13族の原子である場合は3であ
り、Mが周期表第15族の原子である場合には5であ
る。) また、前記一般式(II)で表される化合物(B’)とし
ては、たとえば、下記一般式(II'')で表される化合物
がある。
【0117】
【化22】
【0118】(式中、Mは、前記一般式(I)と同じで
あり、R1 〜R10は、前記一般式(I')と同じであり、
pは、Mが周期表第13族の原子である場合は3であ
り、Mが周期表第15族の原子である場合には5であ
る。) 前記一般式(I)、(I')、(I'')、(II)、(I
I')および(II'')において、
【0119】
【化23】
【0120】で示される置換基として具体的には、下記
のようなものが挙げられる。
【0121】
【化24】
【0122】
【化25】
【0123】
【化26】
【0124】前記一般式(I)で表される化合物のアニ
オン部分の例としては、下記のような例がある。
【0125】
【化27】
【0126】
【化28】
【0127】前記一般式(I)で表されるイオン性化合
物として具体的には、下記のような化合物が挙げられ
る。トリフェニルカルベニウムテトラキス(ノナフルオ
ロビフェニル)ホウ素、N,N-ジメチルアニリニウムテト
ラキス(ノナフルオロビフェニル)ホウ素など。
【0128】前記一般式(II)で表される化合物
(B’)の例としては、下記のような例がある。
【0129】
【化29】
【0130】上記のようなイオン性化合物は、単独でま
たは2種以上混合して用いることができる。本発明に係
るオレフィン重合用触媒は、前記(A)遷移金属化合物
と、前記(B)イオン性化合物とから形成されるが、必
要に応じて下記(C)有機金属化合物を含むことができ
る。
【0131】(C)有機金属化合物 本発明において、必要に応じて用いられる有機金属化合
物(C)として、具体的には下記のような周期表第1、
2族および第12、13族の有機金属化合物が挙げられ
る。
【0132】 (C-1) 一般式 Ra m Al(ORb n p q (式中、Ra およびRb は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の
炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<
m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0≦q
<3の数であり、かつm+n+p+q=3である。)で
表される有機アルミニウム化合物。
【0133】(C-2) 一般式 M3 AlRa 4 (式中、M3 はLi、Na、Kを示し、Ra は炭素原子
数が1〜15、好ましくは1〜4の炭化水素基を示
す。)で表される第1族金属とアルミニウムとの錯アル
キル化物。
【0134】(C-3) 一般式 Ra b 4 (式中、Ra およびRb は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の
炭化水素基を示し、M4 はMg、ZnまたはCdであ
る。)で表される第2族または第12族金属のジアルキ
ル化合物。
【0135】前記(C-1) に属する有機アルミニウム化合
物としては、次のような化合物などを例示できる。 一般式 Ra m Al(ORb3-m (式中、Ra およびRb は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の
炭化水素基を示し、mは好ましくは1.5≦m≦3の数
である。)で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ra m AlX3-m (式中、Ra は炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜
4の炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは
好ましくは0<m<3である。)で表される有機アルミ
ニウム化合物、 一般式 Ra m AlH3-m (式中、Ra は炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜
4の炭化水素基を示し、mは好ましくは2≦m<3であ
る。)で表される有機アルミニウム化合物、 一般式 Ra m Al(ORbnq (式中、Ra およびRb は、互いに同一でも異なってい
てもよく、炭素原子数が1〜15、好ましくは1〜4の
炭化水素基を示し、Xはハロゲン原子を示し、mは0<
m≦3、nは0≦n<3、qは0≦q<3の数であり、
かつm+n+q=3である。)で表される有機アルミニ
ウム化合物。
【0136】(C-1) に属するアルミニウム化合物として
より具体的にはトリエチルアルミニウム、トリn-ブチル
アルミニウムなどのトリn-アルキルアルミニウム;トリ
イソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ tert-ブチルア
ルミニウム、トリ2-メチルブチルアルミニウム、トリ3-
メチルブチルアルミニウム、トリ2-メチルペンチルアル
ミニウム、トリ3-メチルペンチルアルミニウム、トリ4-
メチルペンチルアルミニウム、トリ2-メチルヘキシルア
ルミニウム、トリ3-メチルヘキシルアルミニウム、トリ
2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキ
ルアルミニウム;トリシクロヘキシルアルミニウムなど
のトリシクロアルキルアルミニウム;トリフェニルアル
ミニウム、トリトリルアルミニウムなどのトリアリール
アルミニウム;ジイソブチルアルミニウムハイドライド
などのジアルキルアルミニウムハイドライド;トリイソ
プレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウ
ム;イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルア
ルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプ
ロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド;
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウ
ムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシ
ド;エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアル
ミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウム
セスキアルコキシド;Ra 2.5 Al(ORb 0.5 など
で表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化され
たアルキルアルミニウム;ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニ
ウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド;
エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウ
ムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミド
などのアルキルアルミニウムセスキハライド;エチルア
ルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリ
ド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアル
ミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたア
ルキルアルミニウム;ジエチルアルミニウムヒドリド、
ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミ
ニウムヒドリド;エチルアルミニウムジヒドリド、プロ
ピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウ
ムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキ
ルアルミニウム;エチルアルミニウムエトキシクロリ
ド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアル
ミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化
およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどを挙
げることができる。
【0137】また(C-1) に類似する化合物も使用するこ
とができ、たとえば窒素原子を介して2以上のアルミニ
ウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げる
ことができる。このような化合物として具体的には、 (C2 5 2 AlN(C2 5 )Al(C2 5 2 などを挙げることができる。
【0138】前記(C-2) に属する化合物としては、 LiAl(C2 5 4 LiAl(C7 154 などを挙げることができる。
【0139】その他にも、有機金属化合物(C)として
は、一般式 (i-C4 9 x Aly (C5 10z (式中、x、yおよびzは正の数であり、z≧2xであ
る。)で表されるイソプレニルアルミニウムを使用する
こともできる。
【0140】さらにその他にも、有機金属化合物(C)
としては、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピル
リチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミ
ド、メチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウム
ブロミド、エチルマグネシウムクロリド、プロピルマグ
ネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリド、ブ
チルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウムクロリ
ド、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジ
ブチルマグネシウム、ブチルエチルマグネシウムなどを
使用することもできる。
【0141】また重合系内で上記有機アルミニウム化合
物が形成されるような化合物、たとえばハロゲン化アル
ミニウムとアルキルリチウムとの組合せ、またはハロゲ
ン化アルミニウムとアルキルマグネシウムとの組合せな
どを使用することもできる。
【0142】本発明で用いる有機金属化合物(C)とし
ては、分岐鎖状のアルキル基を有する金属化合物が好ま
しく、特にエチル基、イソプロピル基、イソブチル基を
有する金属化合物、中でもトリイソブチル金属化合物が
好ましい。また金属としてはアルミニウムが好ましく、
トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム
が最も好ましい。
【0143】このような有機金属化合物は、単独でまた
は2種以上混合して用いることができる。また、本発明
に係るオレフィン重合用触媒は、必要に応じて下記
(D)フェノール誘導体を含むことができる。
【0144】(D)フェノール誘導体 本発明において、必要に応じて用いられるフェノール誘
導体(D)は、下記一般式(IV)で表される化合物であ
る。
【0145】
【化30】
【0146】式中、R44〜R48は互いに同一でも異なっ
ていてもよく、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、トリアリールシリル基、水素原子
またはハロゲン原子を示し、具体的には、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オ
クチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニ
ル、アダマンチルなどの炭素原子数が1〜20のアルキ
ル基;フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチ
ルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフ
ェニル、α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニ
ル、アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニ
ル、テトラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリル
などの炭素原子数が6〜20のアリール基;メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどの炭素原子数が1
〜20のアルコキシ基;フェノキシ、メチルフェノキ
シ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどの炭素原子数
が6〜20のアリーロキシ基;トリフェニルシリルなど
のトリアリールシリル基;前記と同様の、ハロゲン原子
が挙げられる。
【0147】このような前記一般式(III)で表される
フェノール誘導体として具体的には、以下のような化合
物が挙げられる。2-t-ブチルフェノールなどのモノアル
キル置換フェノール;2,6-ジメチルフェノール、2,4-ジ
-t-ブチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチルフェノール、3,
5-ジ-t-ブチルフェノール、2-t-ブチル-4-メチルフェノ
ール、2-t-ブチル-4,6-ジメチルフェノール、2,6-ジイ
ソプロピルフェノールなどのジアルキル置換フェノー
ル;2,6-ジメチル-4-t-ブチルフェノール、2,6-ジ-t-ブ
チル-4-メチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチル
フェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-n-ブチルフェノール、
2-(1-メチルシクロヘキシル)-4,6-ジメチルフェノー
ル、2-メチル-4,6-ジノニルフェノール、2,6-ジイソプ
ロピル-4-メチルフェノールなどのトリアルキル置換フ
ェノール;2-フェニルフェノール、3-フェニルフェノー
ル、4-フェニルフェノールなどのモノアリール置換フェ
ノール;2,6-ジフェニルフェノールなどのジアリール置
換フェノール;2,6-ジメチル-4-フェニルフェノールな
どのジアルキルモノアリール置換フェノール;2,6-ジフ
ェニル-4-メチルフェノールなどのモノアルキルジアリ
ール置換フェノール;2-t-ブチル-4-メトキシフェノー
ルなどのモノアルキルモノアルコキシ置換フェノール;
2,6-ジ-t-ブチル-4-メトキシフェノールなどのジアルキ
ルモノアルコキシ置換フェノール;2-フェニル-4-メト
キシフェノールなどのモノアリールモノアルコキシ置換
フェノール;2,6-ジ-トリフェニルシリルフェノールな
どのジ(トリアリールシリル)置換フェノール;2,6-ジ
-トリフェニルシリル-4-メチルフェノールなどのアルキ
ルジ(トリアリールシリル)置換フェノールなど。
【0148】これらの中では、R44、R46およびR48
うち少なくとも1個が炭素原子数1〜12の炭化水素基
で置換されたフェノール誘導体が好ましい。このような
フェノール誘導体は、単独でまたは2種以上混合して用
いることができる。
【0149】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、上
記のような(A)遷移金属化合物、(B)イオン性化合
物(または前記一般式(II)で表される化合物
(B’))、(C)有機金属化合物および(D)フェノ
ール誘導体の一部または全部を下記のような担体に担持
した固体触媒として使用することもできる。
【0150】(E)担体 (E)担体としては、無機あるいは有機の化合物であっ
て、粒径が10〜300μm、好ましくは20〜200
μmの顆粒状ないしは微粒子状の固体が使用される。こ
のうち無機担体としては多孔質酸化物が好ましく、具体
的にはSiO2、Al23、MgO、ZrO2、Ti
2、B23、CaO、ZnO、BaO、ThO2 など
またはこれらを含む混合物、たとえばSiO2-MgO、
SiO2-Al 23、SiO2-TiO2、SiO2-V
25、SiO2-Cr23、SiO2-TiO2-MgOなど
を例示することができる。これらの中でSiO2 および
Al23 からなる群から選ばれた少なくとも1種の成
分を主成分とするものが好ましい。
【0151】なお、上記無機酸化物には少量のNa2
3、K2CO3、CaCO3、MgCO3、Na2SO4
Al2(SO43、BaSO4、KNO3、Mg(NO3
2、Al(NO33、Na2O、K2O、Li2Oなどの炭
酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していても差
しつかえない。
【0152】このような(E)担体はその種類および製
法により性状は異なるが、本発明で好ましく用いられる
担体は、比表面積が50〜1000m2/g、好ましく
は100〜700m2/gであり、細孔容積が0.3〜
2.5cm3/gであることが望ましい。該担体は、必
要に応じて100〜1000℃、好ましくは150〜7
00℃で焼成して用いられる。
【0153】さらに、(E)担体としては、粒径が10
〜300μmである有機化合物の顆粒状ないしは微粒子
状固体を挙げることができる。これら有機化合物として
は、エチレン、プロピレン、1-ブテン、4-メチル-1-ペ
ンテンなどの炭素原子数が2〜14のα-オレフィンを
主成分として生成される(共)重合体あるいはビニルシ
クロヘキサン、スチレンを主成分として生成される重合
体もしくは共重合体を例示することができる。
【0154】オレフィン重合用触媒 本発明に係るオレフィン重合用触媒は、前記のような
(A)遷移金属化合物、および(B)イオン性化合物
(または前記一般式(II)で表される化合物
(B’))、必要に応じて(C)有機金属化合物および
/または(D)フェノール誘導体から形成されている。
【0155】前記各成分は重合器に個別に供給してもよ
く、また前記各成分から選ばれる任意の2成分以上を予
め重合器外で接触させてから重合器に供給してもよい。
この場合、(A)遷移金属化合物と、(B)イオン性化
合物とを予め重合器外で接触させて予備接触触媒を調製
した後、該予備接触触媒と、(C)有機金属化合物およ
び(D)フェノール誘導体を重合器に供給することが好
ましい。
【0156】前記各成分を重合器に別個に供給する場合
には、供給順序は特に限定されないが、(C)有機金属
化合物、(D)フェノール誘導体、(A)遷移金属化合
物、(B)イオン性化合物の順序で供給することが好ま
しい。また、前記のように予備接触触媒を調製した場合
には、供給順序は特に限定されないが、(C)有機金属
化合物、(D)フェノール誘導体、予備接触触媒の順序
で重合器に供給することが好ましい。
【0157】予備接触触媒を調製するときには、アルキ
ルリチウム化合物、アルキルマグネシウム化合物、アル
キルアルミニウム化合物などの周期表第1〜3族および
第11〜13族の有機金属化合物を用いることができ
る。
【0158】アルキルリチウム化合物としては、メチル
リチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、ブチル
リチウムなどが挙げられる。アルキルマグネシウム化合
物としては、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグ
ネシウムブロミド、エチルマグネシウムクロリド、エチ
ルマグネシウムブロミド、プロピルマグネシウムクロリ
ド、プロピルマグネシウムブロミド、ブチルマグネシウ
ムクロリド、ブチルマグネシウムブロミドなどが挙げら
れる。
【0159】アルキルアルミニウム化合物としては、ト
リメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ
イソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリオクチルアルミニウム、トリ(2-エチルヘキシ
ル)アルミニウム、トリデシルアルミニウムなどが挙げ
られる。
【0160】本発明に係るオレフィン重合用触媒は、前
記各成分の一部または全部が前記(E)担体に担持され
た固体触媒であってもよく、前記固体触媒(成分)にオ
レフィンが予備重合された予備重合触媒であってもよ
い。
【0161】固体触媒(成分)は、たとえば前記(E)
担体と(A)遷移金属化合物および/または(B)イオ
ン性化合物、必要に応じて(C)有機金属化合物および
/または(D)フェノール誘導体を不活性溶媒中で混合
接触させることにより調製することができる。また、予
備重合触媒は、たとえば前記(A)遷移金属化合物、
(B)イオン性化合物および(E)担体、必要に応じて
(C)有機金属化合物および/または(D)フェノール
誘導体の存在下、不活性炭化水素溶媒中にオレフィンを
導入することにより調製することができる。なお、固体
触媒(成分)、予備重合触媒の調製時に(C)有機金属
化合物および/または(D)フェノール誘導体を用いな
かった場合には、(C)有機金属化合物および/または
(D)フェノール誘導体は、固体触媒(成分)または予
備重合触媒とともに重合器に添加される。
【0162】前記一般式(II)で表される化合物
(B’)は、(B)イオン性化合物と同様に用いられ
る。図1に、本発明に係るオレフィン重合用触媒の調製
工程を示す。
【0163】本発明のオレフィン重合用触媒により重合
することができるオレフィンとしては、炭素原子数が2
〜20のα−オレフィン、たとえばエチレン、プロピレ
ン、1-ブテン、1-ペンテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘ
キセン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、
1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、
1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセン;炭素
原子数が3〜20の環状オレフィン、たとえばシクロペ
ンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、5-メチル-2-
ノルボルネン、テトラシクロドデセン、2-メチル-1,4,
5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロナフタ
レンなどを挙げることができる。さらにスチレン、ビニ
ルシクロヘキサン、ジエンなどが挙げられる。
【0164】オレフィンの重合方法 本発明では、オレフィンの重合は、気相重合法あるいは
懸濁重合法、溶液重合法などの液相重合法のいずれでも
行うことができる。重合溶媒としては、不活性炭化水素
を用いることができ、オレフィン自体を溶媒とすること
もできる。
【0165】このような不活性炭化水素溶媒として具体
的には、ブタン、イソブタン、ペンタン、ヘキサン、オ
クタン、デカン、ドデカン、ヘキサデカン、オクタデカ
ンなどの脂肪族系炭化水素;シクロペンタン、メチルシ
クロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタンなどの
脂環族系炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族系炭化水素;ガソリン、灯油、軽油などの石油
留分などが挙げられる。これら不活性炭化水素媒体のう
ち脂肪族系炭化水素、脂環族系炭化水素、石油留分など
が好ましい。
【0166】重合に際して、(A)遷移金属化合物は、
重合系内の(A)遷移金属化合物中の遷移金属原子の濃
度として、重合容積1リットル当り10-8〜10-3グラ
ム原子、好ましくは10-7〜10-4グラム原子となるよ
うな量で用いられる。(B)イオン性化合物は、該
(B)イオン性化合物と(A)遷移金属化合物とのモル
比〔(B)/(A)〕が、0.01〜10、好ましくは
0.5〜5の範囲となるような量で用いられる。
【0167】必要に応じて用いられる有機金属化合物
(C)は、該(C)有機金属化合物中の周期表第13族
の原子(M)と、(A)遷移金属化合物中の遷移金属と
の原子比(M/遷移金属)が、通常5〜50000、好
ましくは10〜20000の範囲となるような量で用い
られる。また、必要に応じて用いられる(D)フェノー
ル誘導体は、(B)イオン性化合物1モルに対し、0.
1〜2.9モル、好ましくは0.4〜2.5モル、特に
好ましくは0.7〜2モルの範囲となるように用いられ
る。
【0168】前記一般式(II)で表される化合物
(B’)は、(B)イオン性化合物と同様に用いられ
る。重合温度は、通常−50〜200℃、好ましくは0
〜180℃の範囲であり、重合圧力は、通常常圧ないし
100kg/cm2 、好ましくは常圧〜50kg/cm
2 の条件下である。
【0169】重合は、回分式、半連続式、連続式のいず
れの方式においても行うことができ、さらに重合を反応
条件の異なる2段以上に分けて行うことも可能である。
【0170】
【発明の効果】本発明のオレフィン重合用触媒は、
(A)遷移金属化合物と、(B)イオン性化合物(また
は前記一般式(II)で表される化合物(B’))と、必
要に応じて(C)有機金属化合物とから形成されている
ので分子量が高い重合体を得ることができる。また、本
発明のオレフィン重合用触媒は、オレフィン重合活性が
高い。
【0171】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
【0172】
【合成例1】4-ヒドラジノノナフルオロビフェニル(NH2-NH-C6F4-C6
F5)の合成 200mlナスフラスコにデカフルオロビフェニル2
0.0g(59.86ミリモル)、ヒドラジン・1水和
物3.0g(59.93ミリモル)とエタノール100
mlをいれ、加熱還流を6時間行った。この後、溶媒の
エタノールを留去し、ジエチルエーテルと水を各々50
0mlずつ加え、10分間攪拌し、有機層を分取した。
この有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、象牙色の固体(4-ヒド
ラジノノナフルオロビフェニル)を20.0g(収率9
6.2%)で得た。
【0173】4-ハイドロノナフルオロビフェニル(C6F4
H-C6F5)の合成 反応に使用するフェーリング溶液(溶液、)を調製
した。調製法は以下の通りである。
【0174】溶液:硫酸銅・5水和物79.7gを水
1150mlに溶解させる。 溶液:酒石酸ナトリウムカリウム・4水和物398.
0gと水酸化ナトリウム150.0gを水1150ml
に溶解させる。
【0175】上記溶液を用いて反応を行った。5リット
ルのナスフラスコに4-ヒドラジノノナフルオロビフェニ
ル20.0gと、上記で調製したフェーリング溶液、
を全量加え加熱還流を4時間行った。反応溶液中にあ
る茶色の固体を吸引濾過により除去し、溶液を250m
lのジエチルエーテルで3回抽出し、有機層をあわせて
水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去して茶色固体を得た。この固体をカラム
クロマトグラフィーで精製分離して白色固体(4-ハイド
ロノナフルオロビフェニル)を11.0g(収率60.
2%、ガスクロ純度99%以上)で得た。構造の同定は
FD−MS、GC−MSにより行った。
【0176】リチウムテトラキス(ノナフルオロビフェ
ニル)ホウ素〔LiB(C6F4-C6F5)4〕の合成 充分窒素置換した100mlの三ツ口反応器(スターラ
チップ、コンデンサー、滴下ロート、温度計付)に上記
で合成した4-ハイドロノナフルオロビフェニルと無水ヘ
キサン50ml、無水ジエチルエーテル5mlを加え、
−78℃冷却下で1.60Mのn-ブチルリチウムのヘキ
サン溶液4.16ml(6.65ミリモル)をゆっくり
滴下した。滴下後、−78℃で6時間反応させた。−7
8℃のこの反応溶液に三臭化ホウ素0.15ml(1.
58ミリモル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、攪拌
を継続しながら、−78℃で5時間反応させた。その
後、攪拌を継続しながら、終夜放置をし、更に24時間
室温で攪拌した。この黄白色スラリー溶液をグラスフィ
ルターで濾過し、濾物を無水ヘキサン50mlで3回洗
浄した。これにより、白色固体(リチウムテトラキス
(ノナフルオロビフェニル)ホウ素)を2.0g(収率
90.1%)で得た。
【0177】トリフェニルカルベニウムテトラキス(ノ
ナフルオロビフェニル)ホウ素〔Ph3CB(C6F4-C6F5)4
の合成 50mlナスフラスコにリチウムテトラキス(ノナフル
オロビフェニル)ホウ素0.20g(0.1423ミリ
モル)とヘキサン30mlを入れ、室温下で攪拌し、こ
れにトリフェニルクロロメタン0.04g(0.143
4ミリモル)を加えて4時間攪拌した。これをグラスフ
ィルターで濾過し、ヘキサン50mlで洗浄した。この
濾物をジクロロメタン20mlで抽出し、有機層を濃縮
し、ヘキサン20mlでリスラリーし、グラスフィルタ
ーで濾過後、減圧下で乾燥させることによりオレンジ固
体を0.17g(収率78.9%)で得た。構造の同定
1H−NMR、13C−NMRにより行った。図2に 1
H−NMRのチャートを、図3に13C−NMRのチャー
トを示す。
【0178】
【合成例2】N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ノナフルオロビ
フェニル)ホウ素〔PhNMe2HB(C6F4-C6F5)4〕の合成 50mlナスフラスコにN,N-ジメチルアニリン0.02
g(0.165ミリモル)と水10mlを入れ室温で攪
拌し、これに0.1N塩酸水溶液3.3ml(0.33
ミリモル)を加え、室温で30分間攪拌して、N,N-ジメ
チルアニリン塩酸塩を調製した。もう一方で50mlナ
スフラスコにリチウムテトラキス(ノナフルオロビフェ
ニル)ホウ素0.20g(0.1423ミリモル)と水
10mlを入れ、室温で30分間攪拌させておく。これ
に先程調製したN,N-ジメチルアニリン塩酸塩を加え、室
温で1日攪拌した。この白色スラリーをグラスフィルタ
ーで濾過し、水50mlで洗浄し、得られた固体を減圧
下で乾燥させることにより白色固体を0.134g(収
率61.4%)で得た。構造の同定は 1H−NMR、13
C−NMRにより行った。図4に 1H−NMRのチャー
トを、図5に13C−NMRのチャートを示す。
【0179】エチレン重合
【0180】
【実施例1】充分に窒素置換した内容量500mlのガ
ラス製オートクレーブにトルエン400mlを装入し、
エチレンを100リットル/時間の量で流通させ、75
℃で10分間保持した。これに、トリイソブチルアルミ
ニウムを0.144ミリモル添加し、次いでエチレン-
ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド0.000
8ミリモルを加え、最後にトリフェニルカルベニウムテ
トラキス(ノナフルオロビフェニル)ホウ素0.001
6ミリモルを添加し、重合を開始した。エチレンガスを
100リットル/時間の量で連続的に供給し、常圧下、
75℃で6分間重合を行った後、少量のメタノールを添
加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノー
ルに加え、ポリマーを析出させ、80℃で12時間、減
圧乾燥を行った結果、ポリマー11.20gが得られ
た。重合活性は140kg-PE/mM-Zr・hrであ
り、得られたポリマーの極限粘度[η]は2.02であ
った。
【0181】
【実施例2】充分に窒素置換した内容量500mlのガ
ラス製オートクレーブにトルエン400mlを装入し、
エチレンを100リットル/時間の量で流通させ、75
℃で10分間保持した。これに、トリイソブチルアルミ
ニウムを0.800ミリモル添加し、次いでエチレン-
ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド0.000
8ミリモルを加え、最後にN,N-ジメチルアニリニウムテ
トラキス(ノナフルオロビフェニル)ホウ素0.001
6ミリモルを添加し、重合を開始した。エチレンガスを
100リットル/時間の量で連続的に供給し、常圧下、
75℃で6分間重合を行った後、少量のメタノールを添
加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノー
ルに加え、ポリマーを析出させ、80℃で12時間、減
圧乾燥を行った結果、ポリマー12.40gが得られ
た。重合活性は155kg-PE/mM-Zr・hrであ
り、得られたポリマーの極限粘度[η]は1.29であ
った。
【0182】
【実施例3】実施例1においてエチレン-ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、ビス(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを用
いた以外は実施例1と同様にしてエチレンを重合した。
結果を表1に示す。
【0183】
【実施例4】実施例2においてエチレン-ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、ビス(ジメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドを用
いた以外は実施例2と同様にしてエチレンを重合した。
結果を表1に示す。
【0184】
【実施例5】実施例1においてエチレン-ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、ジメチルシリ
レン−ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}
ジルコニウムジクロリドを用いた以外は実施例1と同様
にしてエチレンを重合した。結果を表1に示す。
【0185】
【実施例6】実施例2においてエチレン-ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、ジメチルシリ
レン−ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}
ジルコニウムジクロリドを用いた以外は実施例2と同様
にしてエチレンを重合した。結果を表1に示す。
【0186】
【実施例7】実施例1においてエチレン-ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、ジメチルシリ
レン−ビス{1-(2-メチル-4,5-ベンゾインデニル)}
ジルコニウムジクロリドを用いた以外は実施例1と同様
にしてエチレンを重合した。結果を表1に示す。
【0187】
【実施例8】実施例2においてエチレン-ビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、ジメチルシリ
レン−ビス{1-(2-メチル-4,5-ベンゾインデニル)}
ジルコニウムジクロリドを用いた以外は実施例2と同様
にしてエチレンを重合した。結果を表1に示す。
【0188】
【表1】
【0189】プロピレン重合
【0190】
【実施例9】充分に窒素置換した内容量500mlのガ
ラス製オートクレーブにトルエン400mlを装入し、
プロピレンを100リットル/時間の量で流通させ、5
0℃で20分間保持した。これに、トリイソブチルアル
ミニウムを0.144ミリモル添加し、次いでrac-ジメ
チルシリレンービス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド0.0008ミリモルを
加え、最後にトリフェニルカルベニウムテトラキス(ノ
ナフルオロビフェニル)ホウ素0.0016ミリモルを
添加し、重合を開始した。プロピレンガスを100リッ
トル/時間の量で連続的に供給し、常圧下、50℃で1
0分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合
を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加
え、ポリマーを析出させ、80℃で12時間、減圧乾燥
を行った結果、ポリマー12.80gが得られた。重合
活性は96kg-PP/mM-Zr・hrであった。得ら
れたポリマーの極限粘度[η]は2.38であった。
【0191】
【実施例10】充分に窒素置換した内容量500mlの
ガラス製オートクレーブにトルエン400mlを装入
し、プロピレンを100リットル/時間の量で流通さ
せ、50℃で20分間保持した。これに、トリイソブチ
ルアルミニウムを0.800ミリモル添加し、次いでra
c-ジメチルシリレンービス{1-(2-メチル-4-フェニルイ
ンデニル)}ジルコニウムジクロリド0.0008ミリ
モルを加え、最後にN,N-ジメチルアニリニウムテトラキ
ス(ノナフルオロビフェニル)ホウ素0.0016ミリ
モルを添加し、重合を開始した。プロピレンガスを10
0リットル/時間の量で連続的に供給し、常圧下、50
℃で30分間重合を行った後、少量のメタノールを添加
し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノール
に加え、ポリマーを析出させ、80℃で12時間、減圧
乾燥を行った結果、ポリマー5.20gが得られた。重
合活性は13kg-PP/mM-Zr・hrであった。得
られたポリマーの極限粘度[η]は3.43であった。
【0192】
【実施例11】実施例9においてrac-ジメチルシリレン
ービス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコ
ニウムジクロリドに代えて、rac-ジメチルシリレンービ
ス{1-(2-n-プロピル-4-(9-フェナントリル)インデ
ニル)}ジルコニウムジクロリドを用いた以外は実施例
9と同様にしてプロピレンを重合した。結果を表2に示
す。
【0193】
【実施例12】実施例10においてrac-ジメチルシリレ
ンービス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジル
コニウムジクロリドに代えて、rac-ジメチルシリレンー
ビス{1-(2-n-プロピル-4-(9-フェナントリル)イン
デニル)}ジルコニウムジクロリドを用いた以外は実施
例10と同様にしてプロピレンを重合した。結果を表2
に示す。
【0194】
【実施例13】実施例9においてrac-ジメチルシリレン
ービス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコ
ニウムジクロリドに代えて、rac-ジメチルシリレンービ
ス{1-(2-メチル-4,5-ベンゾインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリドを用いた以外は実施例9と同様にしてプ
ロピレンを重合した。結果を表2に示す。
【0195】
【実施例14】実施例10においてrac-ジメチルシリレ
ンービス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジル
コニウムジクロリドに代えて、rac-ジメチルシリレンー
ビス{1-(2-メチル-4,5-ベンゾインデニル)}ジルコ
ニウムジクロリドを用いた以外は実施例10と同様にし
てプロピレンを重合した。結果を表2に示す。
【0196】
【表2】
【0197】エチレン・プロピレン共重合
【0198】
【実施例15】充分に窒素置換した内容量500mlの
ガラス製オートクレーブにトルエン400mlを装入
し、エチレンを40リットル/時間、プロピレン60リ
ットル/時間の量で流通させ、50℃で20分間保持し
た。これに、トリイソブチルアルミニウムを0.144
ミリモル添加し、次いでビス(ジメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド0.0008ミリモル
を加え、最後にトリフェニルカルベニウムテトラキス
(ノナフルオロビフェニル)ホウ素0.0016ミリモ
ルを添加し、重合を開始した。エチレンを40リットル
/時間、プロピレン60リットル/時間の量で連続的に
供給し、常圧下、50℃で30分間重合を行った後、少
量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液
を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、1
30℃で12時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー
3.0gが得られた。重合活性は7.5kg-ポリマー
/mM-Zr・hrであった。得られたポリマーの極限
粘度[η]は1.44であった。
【0199】
【実施例16】充分に窒素置換した内容量500mlの
ガラス製オートクレーブにトルエン400mlを装入
し、エチレンを40リットル/時間、プロピレン60リ
ットル/時間の量で流通させ、50℃で20分間保持し
た。これに、トリイソブチルアルミニウムを0.800
ミリモル添加し、次いでビス(ジメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド0.0008ミリモル
を加え、最後にN,N-ジメチルアニリニウムテトラキス
(ノナフルオロビフェニル)ホウ素0.0016ミリモ
ルを添加し、重合を開始した。エチレンを40リットル
/時間、プロピレン60リットル/時間の量で連続的に
供給し、常圧下、50℃で30分間重合を行った後、少
量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液
を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、1
30℃で12時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー
0.88gが得られた。重合活性は2.2kg-ポリマ
ー/mM-Zr・hrであった。
【0200】
【実施例17】実施例15においてビス(ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、
エチレンービス(インデニル)ジルコニウムジクロリド
を用いた以外は実施例15と同様にしてエチレンとプロ
ピレンとを重合した。結果を表3に示す。
【0201】
【実施例18】実施例16においてビス(ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドに代えて、
エチレンービス(インデニル)ジルコニウムジクロリド
を用いた以外は実施例16と同様にしてエチレンとプロ
ピレンとを重合した。結果を表3に示す。
【0202】
【表3】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るオレフィン重合用触媒の調製工程
を示す説明図である。
【図2】合成例1で得られた生成物の 1H−NMRのチ
ャートである。
【図3】合成例1で得られた生成物の13C−NMRのチ
ャートである。
【図4】合成例2で得られた生成物の 1H−NMRのチ
ャートである。
【図5】合成例2で得られた生成物の13C−NMRのチ
ャートである。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)周期表第4族の遷移金属化合物と、
    (B)下記一般式(I)で表されるイオン性化合物とか
    ら形成されることを特徴とするオレフィン重合用触媒; 【化1】 (式中、A+ は、カルボニウムカチオン、オキソニウム
    カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオ
    ン、シクロヘプチルトリエニルカチオンまたは遷移金属
    を有するフェロセニウムカチオンを示し、 Mは、周期表第13族または第15族の原子を示し、 mは、Mが周期表第13族の原子である場合は4であ
    り、Mが周期表第15族の原子である場合には2または
    6であり、 R1 〜R5 は、互いに同一でも異なっていてもよく、ハ
    ロゲン原子、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水
    素基、芳香環を有する基もしくはそのハロゲン化された
    基、アルコキシ基含有基もしくはそのハロゲン化された
    基、アルキルアミノ基またはケイ素含有基、あるいはR
    1 〜R5 のうち隣接する2つの基から形成された芳香環
    または脂肪族環を有する基もしくはそれらのハロゲン化
    された基、またはR1 〜R5 のうち隣接する2つの基が
    それぞれの基が結合する炭素原子とともに形成された芳
    香環、ハロゲン化された芳香環、脂肪族環もしくはハロ
    ゲン化された脂肪族環を示す。ただし、R1 〜R5 で示
    される基およびR1 〜R5のうち隣接する2つの基から
    形成される基のうち少なくとも1つが芳香環を有する基
    またはそのハロゲン化された基である。)
  2. 【請求項2】 前記一般式(I)で表されるイオン性化
    合物(B)が、下記一般式(I')で表される化合物であ
    る請求項1に記載のオレフィン重合用触媒; 【化2】 (式中、A+ およびMは前記一般式(I)と同じであ
    り、 R1 〜R10は、互いに同一でも異なっていてもよく、ハ
    ロゲン原子、水素原子、直鎖もしくは分岐を有するアル
    キル基、直鎖もしくは分岐を有するハロゲン化アルキル
    基、芳香環を有する基もしくはそのハロゲン化された
    基、アルコキシ基もしくはそのハロゲン化された基、ア
    ルキルアミノ基またはケイ素含有基、あるいはR1 〜R
    10のうち隣接する2つの基から形成された芳香環または
    脂肪族環を有する基もしくはそれらのハロゲン化された
    基、またはR1 〜R10のうち隣接する2つの基がそれぞ
    れの基が結合する炭素原子とともに形成された芳香環、
    ハロゲン化された芳香環、脂肪族環もしくはハロゲン化
    された脂肪族環を示し、 xおよびyは、Mの原子価が2の場合は、xが0または
    1、yが1または2、かつx+y=2であり、Mの原子
    価が4の場合は、xが0〜3の整数、yが1〜4の整
    数、かつx+y=4であり、Mの原子価が6の場合は、
    xが0〜5の整数、yが1〜6の整数、かつx+y=6
    であり、 nは1〜5の整数である。)
  3. 【請求項3】 前記一般式(I)で表される化合物
    (B)が、下記一般式(I'')で表される化合物である
    請求項1に記載のオレフィン重合用触媒; 【化3】 (式中、A+ 、M、R1 〜R10、xおよびyは、前記一
    般式(I)および(I')と同じである。)
  4. 【請求項4】 前記(A)周期表第4族の遷移金属化合
    物と、前記(B)化合物とに加えて(C)有機金属化合
    物を含む請求項1〜3のいずれかに記載のオレフィン重
    合用触媒。
  5. 【請求項5】(A)周期表第4族の遷移金属化合物と、
    (B’)下記一般式(II)で表される化合物とから形成
    されることを特徴とするオレフィン重合用触媒; 【化4】 (式中、MおよびR1 〜R5 は、前記一般式(I)と同
    じであり、 pは、Mが周期表第13族の原子である場合は3であ
    り、Mが周期表第15族の原子である場合には5であ
    る。)
  6. 【請求項6】 前記一般式(II)で表される化合物
    (B’)が、下記一般式(II')で表される化合物であ
    る請求項5に記載のオレフィン重合用触媒; 【化5】 (式中、Mは、前記一般式(I)と同じであり、 R1 〜R10は、前記一般式(I')と同じであり、 pは、Mが周期表第13族の原子である場合は3であ
    り、Mが周期表第15族の原子である場合には5であ
    る。)
  7. 【請求項7】 前記一般式(II)で表される化合物
    (B’)が、下記一般式(II'')で表される化合物であ
    る請求項5に記載のオレフィン重合用触媒; 【化6】 (式中、Mは、前記一般式(I)と同じであり、 R1 〜R10は、前記一般式(I')と同じであり、 pは、Mが周期表第13族の原子である場合は3であ
    り、Mが周期表第15族の原子である場合には5であ
    る。)
  8. 【請求項8】 前記(A)周期表第4族の遷移金属化合
    物と、前記(B’)化合物とに加えて(C)有機金属化
    合物を含む請求項5〜7のいずれかに記載のオレフィン
    重合用触媒。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載のオレフ
    ィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合または共重
    合させることを特徴とするオレフィンの重合方法。
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