JPH11296838A - 磁気テープ - Google Patents

磁気テープ

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JPH11296838A
JPH11296838A JP9635698A JP9635698A JPH11296838A JP H11296838 A JPH11296838 A JP H11296838A JP 9635698 A JP9635698 A JP 9635698A JP 9635698 A JP9635698 A JP 9635698A JP H11296838 A JPH11296838 A JP H11296838A
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JP
Japan
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layer
magnetic tape
magnetic layer
upper magnetic
back coat
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JP9635698A
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English (en)
Inventor
Sunao Ito
直 伊藤
Kunio Matsui
邦夫 松井
Tomoshi Ueno
智志 上野
Hidehiko Nakayama
英比古 中山
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 記録再生走行時に走行振れが少なく、走行安
定性に優れ、ドロップアウトの発生が低減された高出力
の磁気テープを提供すること。 【解決手段】 幅広の長尺状磁気テープ原反を、その長
手方向にスリットして得られる磁気テープ1における両
スリット面それぞれにおいて、該スリット面の最大凸部
Pと最大凹部Vとの中間高さを基準として磁気テープの
垂直方向に引かれた基準線Lよりも、バックコート層5
および上層磁性層4それぞれの凸部の最大高さを高く
し、且つ該バックコート層の凸部の最大高さ7を該上層
磁性層の凸部の最大高さ8よりも高くしたことを特徴と
する磁気テープ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、走行安定性および
電磁変換特性に優れ、高密度記録に適した薄型磁気テー
プに関するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
コンピューターで処理するデータ量が著しく増加し、デ
ータのバックアップ用磁気記録媒体の開発要求と開発速
度が高まっている。特に高記録密度化、高容量化に対す
る要求は高い。高記録密度化を達成するために、最上層
としての薄い磁性層と、その下に下層とを有する重層型
の磁気記録媒体が現在主流となっており、現在、上層磁
性層厚みが0.5μm以下のものが市販されている。こ
のような重層型の磁気記録媒体では、上層磁性層に含有
される強磁性粉末の粒径を小さくすることで一層の高記
録密度化が図られている。
【0003】上層磁性層が薄くなってくると、磁気テー
プと磁気ヘッドの間に生じるスペースロスが、これまで
以上に出力に大きな影響を与えるようになってくる。ス
ペースロスをなるべく小さくするには上層磁性層の表面
粗さRaをできる限り小さくすることが必要となり、R
aが6nm以下の低表面粗さの媒体が種々提案されてい
る。
【0004】また、出力向上の他のアプローチとして、
磁気ヘッドと磁気テープとの当たりを良好にするため
に、磁気テープを磁性層側にカッピングさせたり、磁気
テープの張り(テンション)を大きくして磁性層表面の
うねりを減らすなどの技術が考えられる。更には、これ
らの技術を組み合わせることでより出力向上を目指すこ
とができると考えられる。磁性層の表面粗さを小さく抑
える技術と、磁気テープを磁性層側にカッピングさせる
技術とを両立させることは、磁気テープの設計の問題で
あることから、その実現は可能であるといえる。しか
し、磁気テープのテンションを大きくする技術は記録再
生装置に負うところが大きいことから、磁気磁気テープ
そのものの開発面からはあまり考慮されていなかった。
また、テンションを大きくすると、せっかく磁性層側に
カッピングするように磁気テープの設計を行ってもその
効果が減じてしまうことがある。更には、テンションを
高くするには磁気テープの剛性と弾性とをバランス良く
設計する必要が生じ、そのために上層磁性層や下層の配
合組成を調整することによって出力特性を若干犠牲にす
る必要が生じることがある。
【0005】ところで、磁気テープのスリット面の形状
に関する従来の技術としては、例えば特開平8−279
148号公報や特開平9−153212号公報に記載の
もの等が知られている。しかしながら、これらの公報に
記載の技術は、スリット面を特定の形状にすることによ
って、スリット面の削れ性を改善し磁性層表面への粉落
ち及びそれに伴う磁気ヘッドと磁性層表面との間の目詰
まりを防止することを目的としており、磁気テープのカ
ッピングや走行安定性については何ら考慮されていな
い。
【0006】従って、本発明の目的は、記録再生走行時
に走行振れが少なく、走行安定性に優れ、ドロップアウ
トの発生が低減された高出力の磁気テープを提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、磁気テープのスリット面を特定の形状となすこ
とによって、上記目的を達成しうる磁気テープが得られ
ることを知見した。
【0008】本発明は上記知見に基づきなされたもの
で、支持体の一方の面上に粉末を結合剤中に分散させて
なる乾燥厚み0.5〜3.0μmの下層と、強磁性粉末
を結合剤中に分散させてなる乾燥厚み0.3μm以下の
上層磁性層とがこの順で設けられていると共に、他方の
面上に粉末を結合剤中に分散させてなる乾燥厚み0.8
μm以下のバックコート層が設けられている幅広の長尺
状磁気テープ原反を、その長手方向にスリットして得ら
れる磁気テープにおいて、両スリット面それぞれにおい
て、該スリット面の最大凸部と最大凹部との中間高さを
基準として上記磁気テープの垂直方向に引かれた基準線
よりも、上記バックコート層および上記上層磁性層それ
ぞれの凸部の最大高さを高くし、且つ該バックコート層
の凸部の最大高さを該上層磁性層の凸部の最大高さより
も高くしたことを特徴とする磁気テープを提供すること
により上記目的を達成したものである。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気テープの好ま
しい実施形態を、図面を参照して説明する。ここで、図
1は、本発明の磁気テープの一方のスリット面を拡大し
模式的に示した図である。尚、以下の説明は、磁気テー
プの二つのスリット面における一方のスリット面に関し
てのものであるが、他方のスリット面に関しても同様の
説明が適用される。
【0010】図1に示す磁気テープ1では、支持体2の
一方の面上において、該支持体2上に下層3が、そして
該下層3に隣接して最上層としての上層磁性層4が設け
られている。また、該支持体2の他方の面上にバックコ
ート層5が設けられている。磁気テープ1のスリット面
6は、最大凸部Pと最大凹部Vとの中間高さを基準とし
て磁気テープ1の垂直方向に引かれた基準線Lよりも、
バックコート層5の凸部の最大高さ7及び上層磁性層4
の凸部の最大高さ8が何れも高い。更に、バックコート
層5の凸部の最大高さ7は、上層磁性層4の凸部の最大
高さ8よりも高い。スリット面6をこの様な形状とする
ことで、磁気テープの走行中に、スリット面6からの粉
落ちが防止され、ドロップアウトの増加が抑えられる。
また、幅方向への振れが抑えられ、走行安定性が向上
し、出力変動の発生や出力低下が防止される。
【0011】詳細には、図2(a)に示すように、磁気
テープ1は通常、磁気ヘッドとの当たりを良好にするた
めに上層磁性層4の側にカッピングするようになされて
おり、カッピングした状態で記録再生ドライブにおける
ガイド部9上を走行する。この場合、スリット面におい
て、バックコート層の凸部の最大高さ及び/又は上層磁
性層の凸部の最大高さが基準線よりも低かったり、或い
はバックコート層の凸部の最大高さが、上層磁性層の凸
部の最大高さよりも低いと、図2(b)に示すように、
スリット面における上層磁性層またはバックコート層の
部分のみが、ガイド部9における規制フランジ10に片
当たりして削られてしまい、これらの層からの粉落ちが
発生する。更に、片当たりに伴い、磁気テープの幅方向
への振れも発生する。これに対し、本発明の磁気テープ
においては、スリット面を上述した形状とすることによ
って、スリット面が、その全面において規制フランジ1
0に当接することから、上述のような片当たりの発生お
よびそれに伴う粉落ちが防止される。その結果、磁気ヘ
ッドと上層磁性層との間での目詰まりが減少し、ドロッ
プアウトの発生が抑えられる。更に、スリット面と規制
フランジとの接触面積が増加することにより、磁気テー
プの幅方向への振れが抑えられ、出力変動が防止され、
走行安定性が改善される。その上、テープ幅の変動やテ
ープのうねり等に起因する、規制フランジ10による磁
気テープの挫屈が抑えられることから、上層磁性層が磁
気ヘッドと離れてスペースロスが増大することが抑えら
れ、出力低下も防止される。
【0012】図1に示す磁気テープ1のスリット面6に
ついて更に説明すると、このスリット面6における最大
凸部Pはバックコート層5に存在しており、最大凹部V
は支持体2に存在している。最大凸部Pと最大凹部Vと
の距離、即ち、最大深さPVは、10〜600nm、特
に200〜400nmとなされていることが好ましい。
【0013】バックコート層5の凸部の最大高さ7(こ
れは最大凸部Pでもある)及び上層磁性層4の凸部の最
大高さ8は、最大凸部Pと最大凹部Vとの中間高さを基
準として磁気テープ1の垂直方向に引かれた基準線Lよ
りも何れも高い。バックコート層5の凸部の最大高さ7
は、基準線Lから50〜400nm高いことが好まし
く、150〜300nm高いことが一層好ましい。一
方、上層磁性層4の凸部の最大高さ8は、基準線Lから
5〜200nm高いことが好ましく、100〜150n
m高いことが一層好ましい。両層における凸部の最大高
さを斯かる範囲内とすることによって、カッピングして
いる磁気テープと規制フランジとの接触面積を増す事と
なるので好ましい。
【0014】バックコート層5の凸部の最大高さ7と上
層磁性層4の凸部の最大高さ8との差は、10〜300
nm、特に60〜200nmとすることが好ましい。こ
の差が10nmに満たないと磁性層のみ規制フランジへ
の片当りが生じて磁気テープの挫屈が生じ、不具合が起
こることがあり、300nmを超えるとバックコート層
の削れが生じ、磁性層表面への粉落ち及びそれに伴う磁
気ヘッドと磁性層表面との間の目詰まりが生じて不具合
となることがあるので上記範囲内とすることが好まし
い。
【0015】また、支持体2の凸部の最大高さ11より
も、バックコート層5および上層磁性層4の凸部の最大
高さを何れも高くすることが、カッピング時に規制フラ
ンジとの接触点が増す事により磁気テープの挫屈が抑え
られることから好ましい。この場合、支持体2の凸部の
最大高さ11と、バックコート層5の凸部の最大高さ7
との差は10〜300nm、特に100〜200nmと
することが好ましい。一方、支持体2の凸部の最大高さ
11と、上層磁性層4の凸部の最大高さ8との差は5〜
200nm、特に50〜150nmとなすことが好まし
い。
【0016】支持体2の凸部の最大高さ11は、基準線
Lよりも高くてもよく或いは低くてもよいが、最大高さ
11から基準線Lにおろした垂線の長さは、1/2PV
以内であることが好ましい。この場合、支持体2の凸部
の最大高さと、基準線Lとの距離を0〜200nm、特
に100〜150nmとすることが好ましい。
【0017】スリット面6を上述した好ましい形状とな
すための方法には、例えば磁気テープ1並びにそれを構
成する各層および支持体の機械的特性(例えば後述する
弾性率や押し込み硬度)をコントロールしたり、スリッ
ト条件をコントロール方法があるが、これらに限定され
るものではない。
【0018】特に、上層磁性層4の長手方向の弾性率
を、600〜1500kgf/mm2、特に650〜1
300kgf/mm2 とすることが、スリット面6を上
述した好ましい形状にし易くなり好ましい。更に、バッ
クコート層5の長手方向の弾性率を、200〜700k
gf/mm2 、特に300〜500kgf/mm2 とす
ることも同様の理由から好ましい。とりわけ、磁気テー
プ1自体の長手方向の弾性率を600〜1500kgf
/mm2 、特に800〜1200kgf/mm2とする
ことが好ましい。上層磁性層4及びバックコート層5の
弾性率を斯かる好ましい範囲とするためには、例えばガ
ラス転移点の高い結合剤を使用する、これらの層に含有
される粉末の分散性を高める、結合剤の十分な架橋反応
を行う、ピグメントと結合剤との比率を調整する等の方
法が用いられる。
【0019】弾性率は、テンシロンを用い、スパン20
cm、引張速度5mm/分の条件で引張試験を行い、初
期弾性カーブより求める。具体的には、上層磁性層4の
ヤング率は、下層および上層磁性層のみが形成された支
持体、及び下層のみが形成された支持体各々の弾性率を
測定し、両者の値から計算で求める。同様に、バックコ
ート層5のヤング率は、バックコート層のみが形成され
た支持体および支持体単体各々の弾性率を測定し、両者
の値から計算で求める。
【0020】上層磁性層4の押し込み硬度を0.3〜
1.5GPa、特に0.5〜1.2GPaとすると、上
述した好ましい形状のスリット面6が得易くなり好まし
い。詳細には、上層磁性層4の押し込み硬度が上記範囲
外であると、上層磁性層4の剛性値が、スリット後に適
切な値とならない場合がある。更に、下層3の押し込み
硬度を0.3〜1.2GPa、特に0.3〜1.0GP
aとなすことも同様の理由から好ましい。詳細には、下
層3の押し込み硬度が0.3GPaに満たないと、スリ
ットの際に上層磁性層4が刃によって押し付けられてそ
の圧力を下層3が受けたときに、該下層3が圧力を受け
た方向に沈むので、比較的高硬度の上層磁性層4に局所
的に歪みが生じて破損しやすくなり、好ましいスリット
面が得られないことがある。1.2GPaを超えると、
刃による上層磁性層4の押し付けを下層3が緩衝しにく
くなり、結果として上層磁性層4に局所的な歪みが生じ
て破損しやすくなり、やはり好ましいスリット面が得ら
れないことがある。また、同様の理由から、下層3の押
し込み硬度が上層押し込み硬度の50〜100%、特に
60〜80%であることも好ましい。上層磁性層4や下
層3の押し込み硬度を斯かる好ましい範囲とするために
は、例えば上述した弾性率を好ましい範囲とするための
方法と同様の方法を用いることができる。
【0021】本発明において「押し込み硬度」は、下記
の手順で測定される値として定義される。 (1)薄膜硬度計により、圧子を一定の押し込み速度で
上層磁性層4に垂直に押し込み、その際、圧子に加えた
押し込み荷重P(mN)及び押し込み深さD(μm)を
連続的に測定する。この様子を図3に模式的に示した。
図3では、圧子6に加えられた押し込み荷重Pにより、
圧子16の先端は、上層磁性層4と下層3との境界17
を越えて下層3の領域に到達している。 (2)D2 をx軸、Pをy軸として、(1)で測定され
たデータに基づきカーブを描く。上層磁性層4表面から
下層3の境界までのカーブの平均傾きをk1 、境界から
下層3内0.5μmの深さまでのカーブの平均傾きをk
2 としたときの平均傾きk1 及びk2 を最小自乗法で求
める。図4は、平均傾きk1 、k2 を求める方法を模式
的に示した図である。図4に示すカーブにおいて、上層
磁性層4表面に相当する原点Oと境界17との間におけ
るD2 とPとの関係を示すカーブの平均傾きがk1 であ
り、境界17から0.5μm下層内に押し込んだ間にお
けるD2 とPとの関係を示すカーブの平均傾きがk2
ある。 (3)(2)で求めたk1 とk2 から下記式に従って、
上層磁性層4の押し込み硬度H1 及び下層3の押し込み
硬度H2 を算出する。 H1 (GPa)=α・k12 (GPa)=α・k2 ここで、αは、圧子の固有の定数であり、値を正しく補
正するためのものである。
【0022】本発明において用いた薄膜硬度計は、NE
C社製 HMA−400であり、圧子は、対稜角が80
°であり、先端半径が100nmである三角圧子であ
る。また、押し込み速度は10.5nm/secであ
る。
【0023】次に、図1に示す磁気テープ1を構成する
各層および支持体について説明する。
【0024】上層磁性層4は、強磁性粉末を結合剤中に
分散させて構成されている。該強磁性粉末としては、強
磁性金属粉末、強磁性酸化鉄系粉末、強磁性六方晶系フ
ェライト粉末などが挙げられる。上記強磁性粉末は、針
状や紡錘状の場合には、長軸長が100nm以下、針状
比2〜10、特に長軸長80nm以下、針状比2〜8で
あることが好ましい。板状の場合には、板径10〜90
nm、板状比2〜15、特に板径15〜70nm、板状
比2〜10であることが好ましい。これら強磁性粉末の
具体例としては、特開平9−35246号公報の第3欄
40行〜第4欄8行に記載のもの等が挙げられる。
【0025】結合剤としては公知のものが使用でき、具
体的には特開平9−35246号公報の第4欄第25〜
32行に記載のものが挙げられる。これらのうち、分子
内にスルホ基、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基等
の極性基を有するポリウレタン系樹脂および塩化ビニル
系樹脂ならびにニトロセルロース系樹脂が好適に使用さ
れる。該結合剤の配合量は、上記強磁性粉末100重量
部に対して1〜50重量部、特に5〜30重量部である
ことが好ましい。特に、上記ポリウレタン系樹脂と上記
塩化ビニル系樹脂とを併用し且つ両者の比率(前者/後
者)を20/80〜70/30とすることが、上層磁性
層4の弾性率や押し込み硬度を上述した好ましい範囲内
とし得る点から好ましい。
【0026】上層磁性層4に、上記成分に加えて脂肪酸
や脂肪酸エステル等の潤滑剤、α−アルミナ及び酸化ク
ロム等のモース硬度が8以上の研磨材、カーボンブラッ
ク、イソシアネート系化合物等の硬化剤などを任意に含
有させることにより、磁気テープ1の性能を一層向上さ
せることができる。これらの成分の好ましい添加量は、
強磁性粉末100重量部に対してそれぞれ以下の通りで
ある。 ・潤滑剤:0.1〜5重量部、特に、0.5〜2重量部 ・研磨材:2〜20重量部、特に3〜15重量部 ・カーボンブラック:0.1〜15重量部、特に0.1
〜8重量部 ・硬化剤:5重量部以下、特に2重量部以下
【0027】上層磁性層4は、上述の各成分が溶剤に分
散されてなる上層磁性層用塗料を下層3上に塗布し乾燥
させることにより形成されている。そして上層磁性層4
の乾燥厚みは0.3μm以下となされており、好ましく
は0.01〜0.2μm、特に好ましくは0.01〜
0.15μmとなされている。即ち、上層磁性層4は極
めて薄型の磁性層である。上層磁性層4をこのように薄
型となすことによって、自己減磁を起こりにくくし、電
磁変換特性の高い高記録密度の磁気テープとなすことが
できる。
【0028】下層3は、各種粉末を結合剤中に分散させ
て構成されており、磁性を有していてもよく或いは非磁
性でもよい。該粉末としては、強磁性粉末、非磁性粉
末、研磨材、カーボンブラック等が用いられる。
【0029】上記強磁性粉末としては、上層磁性層に用
いられる強磁性金属粉末、強磁性酸化鉄系粉末、強磁性
六方晶系フェライト粉末などと同様もの、及び金属軟磁
性粉末や酸化物軟磁性粉末等が挙げられる。
【0030】上記非磁性粉末は、下層3の静磁気特性を
制御したり或いは膜剛性を制御するために用いられる。
非磁性粉末の具体例としては特開平9−35246号公
報の第9欄第44行〜第10欄7行に記載されているモ
ース硬度が8未満の無機粉末等を挙げることができる。
該無機粉末としては、α−酸化鉄、酸化チタン、炭酸カ
ルシウムが好ましい。該無機粉末は、針状の形状を有す
ることが好ましく、粒径は0.005〜0.1μmであ
ることが好ましい。下層3が磁性を有する層である場
合、即ち、下層3に上記強磁性粉末が含有される場合、
該強磁性粉末と該非磁性粉末とは、20/80〜80/
20の重量比で配合されることが好ましい。強磁性粉末
の配合量との関係で非磁性粉末の配合量を上記範囲内と
することにより、下層3における強磁性粉末間の凝集が
抑制され、下層3からの磁束の漏れを良好なものとする
ことができ、出力向上の効果が大きくなると共に下層3
と上層磁性層4との界面の乱れを抑制できる。
【0031】下層3に含有される他の粉末としては、上
層磁性層4の場合と同様に、研磨材およびカーボンブラ
ック等がある。更に、下層3には、これらの粉末成分の
他に結合剤、潤滑剤、硬化剤等の成分が含有される。こ
れら各種成分については、上層磁性層4に含有される当
該成分と同様のものが使用できる。従って、ここではこ
れらの成分の詳細については特に説明しないが、上層磁
性層4に含有される成分に関して詳述した説明が適宜適
用される。特に、結合剤として上層磁性層4の説明に関
して例示した上記ポリウレタン系樹脂と上記塩化ビニル
系樹脂との組み合わせを用いることが、下層3の押し込
み硬度を上述した好ましい範囲内とし得る点から好まし
い。これらの成分の好ましい配合量は、非磁性粉末10
0重量部または強磁性粉末と非磁性粉末との合計量10
0重量部に対してそれぞれ以下の通りである。 ・結合剤:1〜50重量部、特に2〜25重量部 ・潤滑剤:1〜20重量部、特に3〜10重量部 ・研磨材:1〜30重量部、特に1〜12重量部 ・カーボンブラック:0.5〜30重量部、特に1〜2
0重量部 ・硬化剤:0〜12重量部、特に0〜8重量部
【0032】下層3は、上述の各成分が溶剤に分散され
てなる下層用塗料を支持体2上に塗布し乾燥させること
により形成されている。そして下層3の乾燥厚みは上述
の通り0.5〜3.0μmとなされており、好ましくは
1.0〜2.5μmとなされている。乾燥厚みが0.5
μmに満たないと上層磁性層4のカレンダー特性の劣化
や接着性、対衝撃性、耐久性等の劣化がみられる場合が
あり、3.0μmを超えると過剰なカッピングの問題が
生じたり、更には不必要に下層3を厚く塗布することに
よりコストアップとなってしまう。
【0033】バックコート層5は、主として結合剤およ
び粉末(例えばカーボンブラックや各種無機粉末)を含
むバックコート塗料を、支持体2の裏面上に塗布し乾燥
させることによって形成されている。該結合剤およびカ
ーボンブラックとしては、上層磁性層4や下層3で使用
されるものと同様のものを使用することができる。特
に、結合剤として上層磁性層4の説明に関して例示した
上記ポリウレタン系樹脂と上記塩化ビニル系樹脂との組
み合わせを用いることが、バックコート層5の弾性率を
上述した好ましい範囲内とし得る点から好ましい。更
に、カーボンブラックとして、平均粒径が1〜50nm
のものと平均粒径が50〜700nmのものの二種類を
併用することも好ましい。また、平均粒径が50〜70
0nmのカーボンブラックと共に又は該カーボンブラッ
クに代えて、平均粒径が50〜700nmの無機粉末を
含有させることも好ましい。該無機粉末としては、Ti
2 、ZrO2 、CaCO3 、TiO、α−Fe
2 3 、BaCO3 、BaSO4 、Fe3 4 、α−A
2 3 、γ−Al2 3 、Cr2 3 、ZnO、Zn
SO4等が挙げられる。これらの粉末の全配合量は、バ
ックコート層5に含有される全結合剤量100重量部に
対して5〜100重量部、特に10〜70重量部である
ことが好ましい。平均粒径が1〜50nmの粉末と、平
均粒径が50〜700nmの粉末との重量比は100:
50〜100:0.5、特に100:30〜100:
1.0であることが好ましい。
【0034】バックコート層の厚みは、上層磁性層4及
び下層3の厚みを考慮し、磁気テープ1が上層磁性層4
の側に適切にカッピングするように(即ち、上層磁性層
4の側に向けて磁気テープが凸となるように)なすた
め、0.8μm以下となされており、好ましくは0.0
5〜0.8μm、更に好ましくは0.1〜0.7μmと
なされている。
【0035】支持体2は磁気記録媒体用であれば公知の
支持体が使用でき、具体的には特開平9−35246号
公報の第2欄30〜42行に記載のものが使用できる。
これらのうちでも、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアミ
ド(PA)の非磁性材料が好適である。支持体2の厚み
は、8μm以下、特に6μm以下であることが、磁気テ
ープの高容量化のために好ましい。また、支持体2の表
面に易接着層を設け、下層3やバックコート層5との接
着性を高めてもよい。
【0036】特に支持体2として、長手方向の弾性率が
400〜1400kgf/mm2 、特に500〜130
0kgf/mm2 であるものを用いることが、磁気テー
プ1自体の弾性率を上述した好ましい範囲となし得るこ
とから好ましい。
【0037】次に図1に示す磁気磁気テープ1の好まし
い製造方法の概略を説明する。まず、支持体2上にバッ
クコート塗料を塗布し所定温度で乾燥させてバックコー
ト層5を形成する。次いで、支持体2の反対側の面上
に、上層磁性層4を形成する上層磁性層用塗料と下層3
を形成する下層用塗料とを、各層が所定の厚みとなるよ
うにウエット・オン・ウエット方式により同時重層塗布
を行い、上層磁性層4および下層3の塗膜を形成する。
即ち、上層磁性層4は、下層3の湿潤時に塗設・形成さ
れることが好ましい。次いで、これらの塗膜に対して磁
場配向処理を行った後に乾燥処理を行い巻き取る。この
後、カレンダー処理を行い、幅広の長尺状磁気テープ原
反を得る。或いは下層3及び上層磁性層4を形成した後
にバックコート層5を形成してもよい。次いで、40〜
80℃下で6〜100時間エージング処理し、上記原反
をその長手方向に沿って所定幅にスリットする。
【0038】スリットの方法にはシアーカット(剪断切
り)、レザーカット(剃刀切り)及びスコアーカット
(押し切り)等があり、本発明においては、スリット幅
の精度の高さ、スリットされた磁気テープの蛇行の抑制
およびスリット面の仕上がりの良好さからシアーカット
を用いることが好ましい。
【0039】シアーカットを用いた磁気テープ原反のス
リットについて、図5を参照して説明する。ここで、図
5は、本発明の磁気テープの製造に好ましく用いられる
スリット装置を示す模式図である。
【0040】図5に示すスリット装置30は、同期回転
式ロータリーカッターであり、筒体31の幅方向に所定
間隔を置いて配置された複数の丸刃32を有する上刃3
3と、筒体34の幅方向に所定間隔を置いて配置され且
つ上刃33における対応する丸刃32と共に裁断部を構
成する複数の受け刃35を有する下刃36とを備えてい
る。上刃33及び下刃36はそれぞれ、図中、矢印で示
す方向に回転可能となされている。そして、上刃33と
下刃36との間に幅広の長尺状磁気テープ原反37が挿
入されると、該原反37は下刃36に抱かれて上下の刃
の接点でスリットされるようになされている。この場
合、上刃33が、原反37における上層磁性層4の側か
らバックコート層5の側へ進入するようにスリットする
ことが好ましい。
【0041】上刃33と下刃36との回転速度比を適切
な範囲にコントロールすることは、スリット面を上述し
た好ましい形状となすための一要因である。両者の回転
速度比は、下刃36の回転速度に対して上刃33の回転
速度が0.1〜2.0、特に0.5〜1.5であること
が好ましい。
【0042】更に、上刃33における丸刃32の厚みも
スリット面の形状に影響を及ぼす。本発明においては、
丸刃32として厚みが0.3〜2.5mm、特に0.5
〜2.0mmのものを用いることが好ましい。
【0043】以上、本発明の磁気テープをその好ましい
実施形態に基づき説明したが、本発明は、上記実施形態
に制限されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において
種々の変更が可能である。例えば、図1に示す実施形態
の磁気テープ1には、更に、支持体2と下層3又はバッ
クコート層5との間にプライマー層を設けたり、長波長
信号を使用するハードシステムに対応してサーボ信号等
を記録するための他の磁性層やその他の層を設けてもよ
い。また、スリット装置として図5に示すもの以外のも
のを用いてもよい。
【0044】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
すると共にその有効性を例証する。しかしながら、本発
明の範囲はかかる実施例に制限されるものではない。
尚、以下の例中、「部」及び「%」は特に断らない限り
「重量部」及び「重量%」をそれぞれ意味する。
【0045】〔実施例1〕下記の配合成分(硬化剤を除
く)を、それぞれニーダーにて混練し、次いで攪拌機に
て分散し、更にサンドミルにて微分散し、1μmのフィ
ルターにて濾過後、硬化剤を最後に添加して、上層磁性
層用塗料、下層用塗料及びバックコート塗料をそれぞれ
調製した。
【0046】 <上層磁性層用塗料> ・針状Fe系強磁性金属粉末 100部 (長軸長:75nm、BET比表面積:51m2 /g、Al3%含有、保磁力: 150kA/m、飽和磁化:130Am2 /kg) ・カーボンブラック(平均粒径:40nm) 1部 ・α−アルミナ(平均粒径:240nm) 5部 ・塩化ビニル系樹脂 8部 (平均重合度:280、エポキシ基含有量:1.2%、スルホ基含有量:8×1 0-5モル/g) ・ポリウレタン系樹脂 7部 (数平均分子量:25000、スルホ基含有量:1.2×10-4モル/g) ・ブチルパルミテート 2部 ・ステアリン酸 3部 ・メチルエチルケトン 150部 ・トルエン 150部 ・シクロヘキサノン 150部
【0047】 <下層用塗料> ・針状α−Fe2 3 100部 (長軸長:65nm、BET比表面積:47m2 /g) ・カーボンブラック(平均粒径:25nm) 3部 ・α−アルミナ(平均粒径:200nm) 10部 ・塩化ビニル系樹脂 8部 (平均重合度:280、エポキシ基含有量:1.2%、スルホ基含有量:8×1 0-5モル/g) ・ポリウレタン系樹脂 7部 (数平均分子量:25000、スルホ基含有量:1.2×10-4モル/g) ・ブチルパルミテート 2部 ・ステアリン酸 5部 ・メチルエチルケトン 150部 ・トルエン 150部 ・シクロヘキサノン 150部
【0048】 <バックコート塗料> ・カーボンブラック(平均粒径:20nm) 50部 ・カーボンブラック(平均粒径:90nm) 5部 ・塩化ビニル系樹脂 35部 (平均重合度:280、エポキシ基含有量:1.2%、スルホ基含有量:8×1 0-5モル/g) ・ポリウレタン系樹脂 45部 (数平均分子量:25000、スルホ基含有量:1.2×10-4モル/g) ・ブチルパルミテート 1部 ・ステアリン酸 1部 ・メチルエチルケトン 150部 ・トルエン 150部 ・シクロヘキサノン 150部
【0049】得られたバックコート塗料を厚み5μmの
PET支持体上(長手方向の弾性率700kgf/mm
2)に塗布し90℃で乾燥させて乾燥厚みが0.5μmの
バックコート層を形成した。次いで、支持体の反対の面
上に、下層用塗料および上層磁性層用塗料を、下層乾燥
厚みが1.2μm、上層磁性層乾燥厚みが0.15μm
となるように、ダイコーターにて同時重層塗布を行っ
た。次いで、上層磁性層が湿潤状態から乾燥状態になる
間で、400kA/mの磁場強度のソレノイドにより磁
場配向処理をした。更に、乾燥炉中にて、70℃の温風
を10m/分の速度で塗膜に吹きつけて乾燥した。乾燥
後カレンダー処理し、次いで12.7mm(1/2イン
チ)幅にスリットして、図1に示す構造を有する磁気テ
ープを製造した。スリットには、図5に示す装置を用
い、上刃を上層磁性層側からバックコート層側に向けて
進入させた。上刃における丸刃の幅は0.1mmで、下
刃の回転速度に対する上刃の回転速度比は1であった。
【0050】〔実施例2〜5〕実施例1におけるスリッ
ト条件に代えて表1に示すスリット条件を用いる以外は
実施例1と同様にして磁気テープを得た。
【0051】〔実施例6〕実施例1の上層磁性層用塗料
において、ポリウレタン系樹脂の配合量を5部、α−ア
ルミナの配合量を7部とし、下層用塗料において、針状
α−酸化鉄の配合量を50部に減らし、板状の六方晶系
バリウムフェライト(板径:50nm、板状比:5、保
磁力:110kA/m、飽和磁化:75Am2 /kg)
50部を新たに配合し、且つ支持体としてポリアミド
(長手方向の弾性率1050kgf/mm2 )を用いる
以外は実施例1と同様にして磁気テープを得た。
【0052】〔実施例7〕実施例1のバックコート塗料
において、平均粒径20nmのカーボンブラックの配合
量を35部に減らし、且つCaCO3 (平均粒径100
nm)10部およびTiO2 (平均粒径80nm)を1
0部を新たに配合する以外は実施例1と同様にして磁気
テープを得た。
【0053】〔実施例8〕実施例1の上層磁性層用塗料
において、α−アルミナを配合しない以外は実施例1と
同様にして磁気テープを得た。
【0054】〔比較例1〕実施例1におけるスリット工
程で、上刃をバックコート層側から上層磁性層側に向け
て進入させる以外は実施例1と同様にして磁気テープを
得た。
【0055】〔比較例2〕実施例1において、下層を設
けず且つ上層磁性層の乾燥厚みを1.5μmとする以外
は実施例1と同様にして磁気テープを得た。
【0056】〔比較例3〕実施例1において、バックコ
ート層の乾燥厚みを1μmとし且つ上層磁性層の乾燥厚
みを0.5μmとする以外は実施例1と同様にして磁気
テープを得た。
【0057】<性能評価>実施例および比較例で得られ
た磁気テープをレーザーナイフを用いて幅方向に切断し
た後、スリット面を走査型電子顕微鏡(倍率:5000倍)
で観察した。観察により得られたスリット面における諸
元を表1に示す。また、上層磁性層、バックコート層、
支持体および磁気テープ自体の長手方向の弾性率を上述
した測定条件で測定した。更に、上層磁性層および下層
の押し込み硬度を上述した測定条件で測定した。更に、
磁気テープの出力および出力変動を、ヘッドテスター法
を用い、記録波長0.6μmの信号を記録して測定し
た。更に、ドロップアウトの発生についても測定した。
ドロップアウトは、リード・バック・シグナル振幅の損
失で表わされ、リード・バック・シグナル振幅が、記録
波長0.9μmの校正中に設定されたリード・バック・
シグナル振幅の平均値の25%未満になるものをカウン
トしたものである。これらの結果を表1に示す。尚、出
力は比較例1を基準とした相対値として表した。また、
各層の凸部の最大高さの値は、該凸部が基準線Rよりも
外側に位置する場合をプラスと定義し、内側に位置する
場合をマイナスと定義する。
【0058】
【表1】
【0059】表1に示す結果から明らかなように、実施
例の磁気テープ(本発明品)は、比較例の磁気テープに
比して、出力が高く、出力変動が小さく、且つドロップ
アウトの発生が低減されたものであることが判る。尚、
実施例の磁気テープにおけるスリット面の最大凸部はバ
ックコート層に存し、最大凹部は支持体に存していた。
【0060】
【発明の効果】以上、詳述した通り、本発明によれば、
走行中の幅方向への振れが抑えられ、走行安定性が改善
され、出力変動の発生や出力低下が防止された磁気テー
プが得られる。更に、本発明によれば、走行中に、スリ
ット面からの粉落ちが防止され、ドロップアウトの発生
が抑えられた磁気テープが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気テープのスリット面を拡大し模式
的に示した図である。
【図2】図2(a)は、図1に示す磁気テープの走行中
の状態を示す模式図であり、図2(b)は、比較の磁気
テープの走行中の状態を示す模式図である。
【図3】薄膜硬度計の圧子の先端が上層磁性層および下
層に押し込まれて行く様子を模式的に示す概略断面図で
ある。
【図4】測定された押し込み深さDと荷重Pについて、
2 をx軸、Pをy軸としてプロットした曲線の一例を
示すグラフである。
【図5】本発明の磁気テープの製造に好ましく用いられ
るスリット装置を示す模式図である。
【符号の説明】
1 磁気テープ 2 支持体 3 下層 4 上層磁性層 5 バックコート層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 英比古 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体の一方の面上に粉末を結合剤中に
    分散させてなる乾燥厚み0.5〜3.0μmの下層と、
    強磁性粉末を結合剤中に分散させてなる乾燥厚み0.3
    μm以下の上層磁性層とがこの順で設けられていると共
    に、他方の面上に粉末を結合剤中に分散させてなる乾燥
    厚み0.8μm以下のバックコート層が設けられている
    幅広の長尺状磁気テープ原反を、その長手方向にスリッ
    トして得られる磁気テープにおいて、 両スリット面それぞれにおいて、該スリット面の最大凸
    部と最大凹部との中間高さを基準として上記磁気テープ
    の垂直方向に引かれた基準線よりも、上記バックコート
    層および上記上層磁性層それぞれの凸部の最大高さを高
    くし、且つ該バックコート層の凸部の最大高さを該上層
    磁性層の凸部の最大高さよりも高くしたことを特徴とす
    る磁気テープ。
  2. 【請求項2】 上記上層磁性層の長手方向の弾性率を6
    00〜1500kgf/mm2 とし、且つ上記バックコ
    ート層の長手方向の弾性率を200〜700kgf/m
    2 としたことを特徴とする請求項1記載の磁気テー
    プ。
  3. 【請求項3】 上記上層磁性層の押し込み硬度を0.3
    〜1.5GPaとし、且つ上記下層の押し込み硬度を
    0.3〜1.2GPaとしたことを特徴とする請求項1
    又は2記載の磁気テープ。
  4. 【請求項4】 上記バックコート層の凸部の最大高さと
    上記上層磁性層の凸部の最大高さの差を10〜500n
    mとしたことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載
    の磁気テープ。
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