JPH11293223A - 耐熱性接着剤およびそれを用いたフレキシブルプリント基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱性、接着性、柔軟性等に優れたフレキシ
ブルプリント基板用の接着剤、およびこれを用いたフレ
キシブルプリント基板を提供する。 【解決手段】 特定の構造を有する反復単位を構成成分
として含むポリイミド共重合体を主成分とする耐熱性接
着剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、接着性、
柔軟性等に優れるフレキシブルプリント基板用の接着剤
組成物、およびこれを用いた耐熱性、接着性、柔軟性、
加工性等に優れるフレキシブルプリント基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のフレキシブルプリント基板は、ポ
リイミドフイルムと金属箔とをエポキシ樹脂やアクリル
樹脂等の熱硬化型の接着剤によってはり合わせたもので
あった。しかし、接着剤の熱的特性がポリイミドフイル
ムの性能に比べて著しく劣るために、チップオンフレキ
等への適用が制限されたり、半田工程で「ふくれ」や
「剥がれ」を生ずるという問題点があった。また、加工
時、熱圧着等の熱履歴を加えると、基板のカールやねじ
れ等を生じて後の導体パターニングが不可能となる等の
欠点があった。

【０００３】これらを解決するために、接着剤なしで絶
縁基板に直接、金属箔を形成する技術が検討されてき
た。例えば、特開平０２−９８９９４号公報には、ポリ
イミドフィルムにスパッター法、特開昭６２−１８１４
８８号公報には蒸着法、特開昭５７−１８３５７号公報
にはイオンプレーティング法により、それぞれ金属層を
形成した後、回路パターンの形成を行う技術が提案され
ている。しかしながら、これらの方法は導体との接着性
に、依然として、問題を残しているのが実情である。す
なわち、形成パターンの強度を上げる目的で行うパター
ン上への電解メッキ工程におけるパターン剥離や、１０
０℃程度の温度に長時間さらすと導体とポリイミドフイ
ルムの接着性が著しく低下する等という欠点がある。

【０００４】特開昭５６−２３７９１号公報や特開昭５
７−５０６７０号公報においては、ポリアミドイミド溶
液を金属箔に直接塗布、また、特開昭６０−１５７２８
号公報や特開昭６０−２４３１２０号公報等において
は、ポリイミド溶液やポリイミド前駆体溶液を金属箔に
直接塗布することで接着剤層のないフレキシブルプリン
ト基板を成型する方法が提案されているが、しかしなが
ら、この方法においても接着力やさらには基材フイルム
の引き裂き強度等が不十分であるという問題点がある。

【０００５】上記のような問題を解決するために、ポリ
イミドフイルムと金属箔を貼り合わせる耐熱性の接着剤
の検討も行われている。耐熱性の接着剤としてはビスマ
レイミド系の接着剤がよく知られているが、これらの硬
化皮膜は脆いためにフレキシブルプリント基板用として
は適していない。

【０００６】特開昭６２−２３２４７５号公報、特開昭
６２−２３５２８２号公報、特開平２−１３８７８９号
公報等においては、この欠点を改良する方法として、ビ
スマレイミドと芳香族ポリイミドの混合物から接着フィ
ルムを形成し、これをポリイミドフィルムと金属箔との
間に挟み込んで熱圧着する方法が提案されているが、熱
圧着の条件が２６０〜３００℃の高温下でしかも５０ｋ
ｇ／ｃｍ² 程度の高圧力が必要であり、実用上加工性に
問題点がある。また、特開平５−１１２７６８号公報や
特開平５−１７９２２４号公報においては、熱圧着でき
る熱可塑性ポリイミド接着剤も提案されているが、特開
昭６２−２３２４７５号公報等と同様に、接着に高温、
長時間を要するため実用的ではない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の課題を解決するべく、金属箔とポリイミドフイルムの
接着剤として有用な耐熱性に優れ、しかも、接着性、柔
軟性、加工性に優れたフレキシブルプリント基板用の接
着剤、およびこれを用いたフレキシブルプリント基板を
提供しようとするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に鑑み鋭意研究した結果、金属箔とポリイミドフイルム
の接着剤として、特定構造を有するポリイミド共重合体
を用いることにより、耐熱性、接着性、柔軟性に優れ、
しかも低温、短時間で接着可能なフレキシブルプリント
基板を得られることを見出し、本発明に到達した。即
ち、本発明は、以下のような構成からなる。

【０００９】下記一般式（１）で示される反復単位
と、下記一般式（２）および／または一般式（３）で示
される反復単位を構成成分として含むポリイミド共重合
体からなることを特徴とする耐熱性接着剤。 に記載の耐熱性接着剤を積層し、かつ、該耐熱性接
着剤面に金属箔を積層したことを特徴とするフレキシブ
ルプリント基板。

【００１０】

【化２】

【００１１】式（１）〜（３）において、ｍ、ｎは１以
上の整数であって、同じであっても異なっていてもよ
く、Ａｒ¹ はトリカルボン酸の３個のカルボキシル基を
除いた三価の残基、Ａｒ² はジアミン化合物の２個のア
ミノ基を除いた二価の残基を示し、Ｒ¹ は炭素数１〜２
０のアルキレン基、Ｒ² は炭素数１〜２０のアルキレン
基もしくはフェニレン基を示し、Ｒ³ およびＲ⁴ は水素
もしくは炭素数１〜４のアルキル基を示し、互いに同じ
であっても異なっていてもよい。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明に用いられるポリイミド共
重合体の製造は通常の方法で合成することができる。例
えば、イソシアネート法、酸クロリド法などがあるが、
工業的にはイソシアネート法が重合ドープがそのまま使
えるという点で適している。

【００１３】重合溶媒としては、例えば、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピ
ロリドン、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、
スルホラン、テトラメチルウレア、γ−ブチロラクト
ン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどを用いる
ことができる。これらの一部をトルエン、キシレンなど
の炭化水素系有機溶媒、ジグライム、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル系有機溶媒、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトンなどのケトン系有機溶媒などで置
き換えることも可能である。なかでも、ジグライム、メ
チルイソブチルケトン等を用いることが、重合性の点か
ら好ましい。

【００１４】反応温度は、５０〜２００℃が好ましい。
また、反応は３級アミン類、アルカリ金属化合物、アル
カリ土類金属化合物などの触媒下で行ってもよい。重合
濃度は通常１０〜５０重量％である。

【００１５】前記一般式（１）で示される反復単位を共
重合体中に含めるために使用する原料としては、酸成分
（Ａｒ¹ ）として、例えば、トリメリット酸無水物、ジ
フェニルエーテル−３，３’，４’−トリカルボン酸無
水物、ジフェニルスルホン−３，３’，４’−トリカル
ボン酸無水物、ベンゾフェノン−３，３’，４’−トリ
カルボン酸無水物、ナフタレン−１，２，４−トリカル
ボン酸、ブタン−１，２、４−トリカルボン酸無水物な
どのトリカルボン酸無水物、イソシアネート成分（Ａｒ
² ）として、例えば、Ｏ−トリジンジイソシアネート、
４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，
４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、２，４’
−トリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイ
ソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−
フェニレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタン
ジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシ
アネート等が挙げられる。なかでも、トリメリット酸水
物、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート等を
用いることが、耐熱性、接着性および柔軟性の点から好
ましい。

【００１６】また、前記一般式（２）および／または
（３）で示される反復単位を共重合体中に含めるために
は、下記一般式（４）のジオール、および／または下記
一般式（５）のジカルボン酸を上記ジイソシアネート類
と反応させて得ることができる。

【００１７】

【化３】

【００１８】式（４）〜（５）において、ｍ、ｎは１以
上の整数であって、同じであっても異なっていてもよ
く、Ａｒ¹ はトリカルボン酸の３個のカルボキシル基を
除いた三価の残基、Ａｒ² はジアミン化合物の２個のア
ミノ基を除いた二価の残基を示し、Ｒ¹ は炭素数１〜２
０のアルキレン基、Ｒ² は炭素数１〜２０のアルキレン
基もしくはフェニレン基を示し、Ｒ³ およびＲ⁴ は水素
もしくは炭素数１〜４のアルキル基を示し、互いに同じ
であっても異なっていてもよい。

【００１９】前記一般式（１）で示される反復単位と、
前記一般式（２）および／または（３）で示される反復
単位の構成割合は、全ポリマー中における前記一般式
（２）および／または（３）で示される反復単位の重量
比で１〜８０重量％、好ましくは５〜３０重量％であ
る。前記一般式（２）および／または（３）で示される
反復単位が５重量％以下では、熱圧着に高温、長時間を
要するため、柔軟性およびと加工性に乏しく、また、３
０重量％以上では、耐熱性が不十分である。

【００２０】また、本発明に用いられるポリイミド共重
合体の分子量は、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中、３０
℃での対数粘度値で０．１〜２．５ｄｌ／ｇ、好ましく
は０．２〜１．０ｄｌ／ｇとなるものである。対数粘度
が０．２ｄｌ／ｇ以下では柔軟性が不十分であり、ま
た、１．０ｄｌ／ｇ以上では溶液粘度が高くなり、成型
加工が困難となる。

【００２１】前記一般式（１）で示される反復単位と、
前記一般式（２）および／または（３）で示される反復
単位を構成成分として含むポリイミド共重合体の酸成
分、アミン成分（Ａｒ² 成分）において、他の共重合可
能な構造単位を形成することができる単量体を酸成分、
アミン成分の形で以下に例示する。アミン成分としてこ
れらのイソシアネート、酸成分としてこれらの酸無水物
や酸塩化物が利用できる。

【００２２】酸成分としては、例えば、シュウ酸、マロ
ン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカ
ン二酸、ドデカン二酸、エイコ酸二酸、テトラデカン、
ジフエニルメタン−３００’−ジカルボン酸、ジフエニ
ルメタン−２，４’−ジカルボン酸、ジフエニルメタン
−３，４’−ジカルボン酸、ジフエニルメタン−３，
３’−ジカルボン酸、１，２−６フェニルエタン−４，
４’−ジカルボン酸、１，２−ジフェニルエタン−２，
４’−ジカルボン酸、１，２−ジフェニルエタン−３，
４’−ジカルボン酸、１、２−ジフェニルエタン−３、
３’−ジカルボン酸、２，２−ビス（４−カルボキシフ
ェニル）プロパン、２−（２−カルボキシフェニル）２
−（４−カルボキシフェニル）プロパン、２−（３−カ
ルボキシフェニル）２−（４−カルボキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３−カルボキシフェニル）プロ
パン、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸、
ジフェニルエーテル−２，４’−ジカルボン酸、ジフェ
ニルエーテル−３，４’−ジカルボン酸、ジフェニルエ
ーテル−３，３’−ジカルボン酸、ジフェニルスルフィ
ド−４，４’−ジカルボン酸、ジフェニルスルフィド−
２，４’−ジカルボン酸 ジフェニルスルフィド−３，
４’−ジカルボン酸、ジフェニルスルフィド−３，３’
−ジカルボン酸、ジフェニルスルホン−４，４’−ジカ
ルボン酸、ジフェニルスルホン−２，４’−ジカルボン
酸、ジフェニルスルホン−３、４’−ジカルボン酸、ジ
フェニルスルホン−３，３’−ジカルボン酸、ベンゾフ
ェノン−４，４’−ジカルボン酸、ベンゾフェノン−
２，４’−ジカルボン酸、シクロヘキサン−４，４’−
ジカルボン酸、シクロヘキサン−２，４’−ジカルボン
酸、シクロヘキサン−３，４’−ジカルボン酸、シクロ
ヘキサン−３，３’−ジカルボン酸、トリメリット酸、
ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、シクロブ
タン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、ピロメリッ
ト酸、ベンゾフェノン−３，３’，４，４’−テトラカ
ルボン酸、ジフェニルエーテル−３，３’，４，４’−
テトラカルボン酸、ベンゼン−１，２，３，４−テトラ
カルボン酸、ビフェニル−３，３’，４，４’−テトラ
カルボン酸、ビフェニル−２，２’，３，３’−テトラ
カルボン酸、ナフタレン−２，３，６，７−テトラカル
ボン酸、ナフタレン−１，２，４，５−テトラカルボン
酸、ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸、
デカヒドロナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボ
ン酸、４，８−ジメチル−１，２，３，５，６，７−ヘ
キサヒドロナフタレン−１，２，５，６−テトラカルボ
ン酸、２，６−ジクロロナフタレン−１，４，５，８−
テトラカルボン酸、２，７−ジクロロナフタレン−１，
４，５，８−テトラカルボン酸、２，３，６，７−テト
ラクロロナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン
酸、フェナントレン−１，３，９，１０−テトラカルボ
ン酸、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン
酸、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン、ビ
ス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン、１，１−
ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン、１，１
−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン、２，
２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、
ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン、ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル、シクロペ
ンタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、ピロリジ
ン−２，３，４，５−テトラカルボン酸、ピラジン−
２，３，５，６−テトラカルボン酸、チオフェン−２，
３，４，５−テトラカルボン酸、２，３，５−トリカル
ボキシシクロペンチル酢酸、ビシクロ−（２，２，２）
−オクト−７−エン−２：３：５：６−テトラカルボン
酸などのポリカルボン酸、およびこれらの一無水物、二
無水物などが挙げられる。これらは単独あるいは２種以
上の混合物として用いられる。

【００２３】アミン成分としては、例えば、１，３−ビ
ス（アミノメチル）シクヘキサン、１，４−ビス（アミ
ノメチル）シクヘキサン、３，４’−ジアミノジフェニ
ルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、
３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジ
アミノビフェニル、３，３’−ジアミノビフェニル、
３，３’−ジアミノベンズアニリド、４，４’−ジアミ
ノベンズアニリド、４，４’−ジアミノベンゾフェノ
ン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジ
アミノベンゾフェノン、２，６−トリレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−
ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジ
フェニルプロパン、３，３’−ジアミノジフェニルプロ
パン、４，４’−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプ
ロパン、３，３’−ジアミノジフェニルヘキサフルオロ
プロパン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，
４’−ジアミノジフェニルヘキサフルオロイソプロピリ
デン、α，α’−ジアミノ−ｐ−キシレン、α、α’−
ジアミノ−ｍ−キシレン、１，４−ナフタレンジアミ
ン、２，６−ナフタレンジアミン、２，７−ナフタレン
ジアミン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）プロ
パン、２，２’−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、１，３−ビス（３−アミノフェノキ
シ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）
ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベン
ゼン、４，４’−［１、３−フェニレンビス（１−メチ
ルエチリデン）］ビスアニリン、４，４’−［１，４−
フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスアニリ
ン、３，３’−［１，３−フェニレンビス（１−メチル
エチリデン）］ビスアニリン、２，２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス
［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、
ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパ
ン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ヘ
キサフルオロプロパン、４，４’−ビス（４−アミノフ
ェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフ
ェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミ
ノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、５
−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，
３’−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−
アミノフェニル）−１，３，３’−トリメチルインダ
ン、５−ニトロ−メタフェニレンジアミン、５−クロロ
−メタフェニレンジアミン、テトラメチレンジアミン、
あるいはこれらに対応するジイソシアネート等を単独あ
るいは２種以上の混合物として共重合してもよい。

【００２４】上記のようにして得られたポリイミド共重
合体溶液は、そのまま金属箔あるいはポリイミドフイル
ムに塗布することができる。また、塗工性を考慮して、
同じ溶媒、あるいは他の溶媒を用いて希釈し、塗工液を
調整することもできる。溶液粘度としては１〜１０００
ポイズが好ましい。

【００２５】ポリイミドフイルムの厚みに制限はない
が、例えば５〜１２５μｍのフィルムを用いることがで
きる。また、金属箔としては、銅箔、アルミニウム箔、
スチール箔およびニッケル箔等を使用することができ、
これらを複合した複合金属箔や亜鉛やクロムなどの他の
金属で処理した金属箔を用いることもできる。金属箔の
厚みも特に限定はなく、例えば３〜５０μｍの金属箔を
用いることができる。

【００２６】塗工方法としては、特に限定される物では
なく、従来からよく知られている方法を適用させること
が可能であり、例えば、ロールコーター、ナイフコータ
ー、ドクター、ブレードコーターなどにより塗工するこ
とができる。乾燥は、塗布層を６０〜２００℃の温度
で、０．５〜１００分間程度行うことにより溶媒を除去
することができる。乾燥後の塗膜の厚みは３〜１５０μ
ｍが好ましく、さらに好ましくは１０〜６０μｍであ
る。１０μｍ以下では接着性が不十分であり、６０μｍ
以上では柔軟性が不十分である。また、塗工および乾燥
を複数回繰り返し重ね塗りしてもよい。

【００２７】ポリイミドフイルムと金属箔を接合させて
フレキシブルプリント基板を形成するには、ポリイミド
フイルムまたは金属箔に塗工した接着剤面を乾燥後、接
着剤層を介してポリイミドフイルムと金属箔を重ね合わ
せ、１００℃〜２５０℃の温度で１０秒〜５分程度熱圧
着する事で容易に製造できる。圧力は５〜４０ｋｇ／ｃ
ｍ² 程度である。熱圧着の方法としては、従来より知ら
れている方法を適用させることができ、例えばロールラ
ミネーション、プレスラミネーション等の方法を利用す
る事ができる。また、積層体を巻き取った状態で加熱す
ることによりラミネートしてもよい。

【００２８】また、本発明においては、フレキシブルプ
リント基板の諸特性、例えば、機械特性、電気特性、滑
り性などを改良する目的で他の樹脂や有機化合物、およ
び無機化合物を混合させたり、あるいは反応させて併用
してもよい。例えば、シリコーン化合物、フッ素化合物
のような樹脂や有機化合物、酸化珪素、酸化チタン、炭
酸カルシウム等の無機化合物をこの発明の目的を阻害し
ない範囲で併用することが可能である。

【００２９】以下、実施例により、本発明をさらに詳し
く説明する。なお、本発明は実施例により何ら制限され
るものではない。また、各実施例における特性値の評価
方法は以下に示す通りである。

【００３０】対数粘度 ポリマーを濃度が０．５ｇ／ｄｌとなるように、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドンに溶解し、その溶液の溶液粘度及
び溶媒粘度を３０℃で、ウベローゼ粘度管を用いて測定
して、下記の式で計算した。

【００３１】

【数１】

【００３２】ガラス転移点（Ｔｇ） ＤＵＥレオスペククラー（レオロジー（株）製）によ
り、昇温速度５℃／分、周波数１１０Ｈｚで測定した。

【００３３】接着強度 ＪＩＳ−Ｃ−５０１６に基づいて測定した。

【００３４】耐折性 ＪＩＳ−Ｃ−５０１６に基づいて屈曲半径０．３８Ｒで
測定した。

【００３５】耐半田性 ３００℃の半田浴に２０秒間侵漬し、外観上の変色、ふ
くれ、はがれ等を観察した。

【００３６】

【実施例】（実施例１）反応容器に無水トリメリット酸
１６３ｇ、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト２５０ｇ、および下記式（６）の化合物８５ｇ（約２
０重量％）、ジメチルアセトアミド１ｋｇを加え、撹拌
しながら、１３０℃まで１時間で昇温し、さらに１３０
℃で５時間反応させた。得られた樹脂溶液を２５μｍの
厚みのカプトンＨフイルム上に乾燥後の厚みが２０μｍ
になるようにドクターブレードで塗布し、塗布層を６０
℃で１０分、１６０℃で１０分乾燥した。次いで、この
カプトンＨフイルムの接着剤塗布面に３５μｍの電解銅
箔を重ね合わせ、温度２３０℃、圧力５ｋｇ／ｃｍ² の
条件で６０秒間熱圧着した。上記のようにして得られた
ポリイミド共重合体、およびフレキシブルプリント基板
について表１に示す項目について評価を行った。

【００３７】

【化４】

【００３８】（実施例２）反応容器に無水トリメリット
酸１７２ｇ、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート２５０ｇ、および下記式（７）の化合物６９ｇ（約
１７重量％）、ジメチルアセトアミド１ｋｇを加え、撹
拌しながら、１３０℃まで１時間で昇温し、さらに１３
０℃で５時間反応させた。得られた樹脂溶液を２５μｍ
の厚みのカプトンＨフイルム上に乾燥後の厚みが２０μ
ｍになるようにドクターブレードで塗布し、塗布層を６
０℃で１０分、１６０℃で１０分乾燥した。次いで、こ
のカプトンＨフイルムの接着剤塗布面に３５μｍの電解
銅箔を重ね合わせ、温度２３０℃、圧力５ｋｇ／ｃｍ²
の条件で６０秒間熱圧着した。上記のようにして得られ
たポリイミド共重合体およびフレキシブルプリント基板
について表１に示す項目について評価を行った。

【００３９】

【化５】

【００４０】（実施例３）反応容器に無水トリメリット
酸１６９ｇ、Ｏ−トリジンジイソシアネート２６４ｇ、
および下記式（８）の化合物９０ｇ（約２０重量％）、
ジメチルホルムアミド１ｋｇを加え撹拌しながら、１３
０℃まで１時間で昇温し、さらに１３０℃で５時間反応
させた。得られた樹脂溶液を２５μｍの厚みのカプトン
Ｈフイルム上に乾燥後の厚みが２０μｍになるようにド
クターブレードで塗布し、塗布層を６０℃で１０分、１
６０℃で１０分乾燥した。次いで、このカプトンＨフイ
ルムの接着剤塗布面に３５μｍの電解銅箔を重ね合わ
せ、温度２３０℃、圧力５ｋｇ／ｃｍ² の条件で６０秒
間熱圧着した。上記のようにして得られたポリイミド共
重合体、およびフレキシブルプリント基板について表１
に示す項目について評価を行った。

【００４１】

【化６】

【００４２】（比較例１）反応容器に無水トリメリット
酸１９２ｇ、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート２５０ｇ、およびジメチルアセトアミド１ｋｇを加
え撹拌しながら、１３０℃まで１時間で昇温し、さらに
１３０℃で５時間反応させた。得られた樹脂溶液を２５
μｍの厚みのカプトンＨフイルム上に乾燥後の厚みが２
０μｍになるようにドクターブレードで塗布し、塗布層
を６０℃で１０分、１６０℃で１０分乾燥した。次い
で、このカプトンＨフイルムの接着剤塗布面に３５μｍ
の電解銅箔を重ね合わせ、温度２３０℃、圧力５ｋｇ／
ｃｍ² の条件で６０秒間熱圧着した。上記のようにして
得られたポリイミド共重合体、およびフレキシブルプリ
ント基板について表１に示す項目について評価を行っ
た。

【００４３】（比較例２）反応容器に無水トリメリット
酸９６ｇ、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト２５０ｇ、および下記式（８）の化合物３７８ｇ（約
６０重量％）、ジメチルアセトアミド１．５ｋｇを加え
撹拌しながら、１３０℃まで１時間で昇温し、さらに１
３０℃で５時間反応させた。得られた樹脂溶液を２５μ
ｍの厚みのカプトンＨフイルム上に乾燥後の厚みが２０
μｍになるようにドクターブレードで塗布し、塗布層を
６０℃で１０分、１６０℃で１０分乾燥した。次いで、
このカプトンＨフイルムの接着剤塗布面に３５μｍの電
解銅箔を重ね合わせ、温度２３０℃、圧力５ｋｇ／ｃｍ
² の条件で６０秒間熱圧着した。上記のようにして得ら
れたポリイミド共重合体、およびフレキシブルプリント
基板について表１に示す項目について評価を行った。

【００４４】（比較例３）反応容器に無水トリメリット
酸２０７ｇ、Ｏ−トリジンジイソシアネート２６４ｇ、
および下記式（８）の化合物９０ｇ（約２０重量％）、
ジメチルホルムアミド１ｋｇを加え撹拌しながら、１３
０℃まで１時間で昇温し、さらに１３０℃で５時間反応
させた。得られた樹脂溶液を２５μｍの厚みのカプトン
Ｈフイルム上に乾燥後の厚みが２０μｍになるようにド
クターブレードで塗布し、塗布層を６０℃で１０分、１
６０℃で１０分乾燥した。次いで、このカプトンＨフィ
ルムの接着剤塗布面に３５μｍの電解銅箔を重ね合わ
せ、温度２３０℃、圧力５ｋｇ／ｃｍ² の条件で６０秒
間熱圧着した。上記のようにして得られたポリイミド共
重合体、およびフレキシブルプリント基板について表１
に示す項目について評価を行った。

【００４５】

【表１】

【００４６】

【発明の効果】上述したように、本発明の耐熱性接着剤
は、一般式（１）で示される反復単位と、一般式（２）
および／または一般式（３）で示される反復単位を有す
る構造のポリイミド共重合体を主成分とすることによ
り、穏和な加工条件で耐熱性、柔軟性、接着性に優れる
フレキシブルプリント基板を得ることができるものであ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 裕樹 滋賀県大津市堅田二丁目１番１号 東洋紡 績株式会社総合研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）で示される反復単位と、一
   般式（２）および／または一般式（３）で示される反復
   単位を構成成分として含まれるポリイミド共重合体を主
   成分とすることを特徴とする耐熱性接着剤。 【化１】 （式（１）〜（３）において、ｍ、ｎは１以上の整数で
   あって、同じであっても異なっていてもよく、Ａｒ¹ は
   トリカルボン酸の３個のカルボキシル基を除いた三価の
   残基、Ａｒ² はジアミン化合物の２個のアミノ基を除い
   た二価の残基を示し、Ｒ¹ は炭素数１〜２０のアルキレ
   ン基、Ｒ² は炭素数１〜２０のアルキレン基もしくはフ
   ェニレン基を示し、Ｒ³ およびＲ⁴ は水素もしくは炭素
   数１〜４のアルキル基を示し、互いに同じであっても異
   なっていてもよい）
2. 【請求項２】 フイルムの少なくとも一方の面に請求項
   １記載の耐熱性接着剤を積層し、かつ、該耐熱性接着剤
   面に金属箔を積層したことを特徴とするフレキシブルプ
   リント基板。