JPH11292631A - 炭化けい素粉末の低温焼結方法 - Google Patents

炭化けい素粉末の低温焼結方法

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JPH11292631A
JPH11292631A JP10122860A JP12286098A JPH11292631A JP H11292631 A JPH11292631 A JP H11292631A JP 10122860 A JP10122860 A JP 10122860A JP 12286098 A JP12286098 A JP 12286098A JP H11292631 A JPH11292631 A JP H11292631A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 非酸化物系の焼結助剤を用いたSiC焼結体
を製造する技術に関して、焼結温度が高いことと材料が
脆いという欠点を解決するために、焼結温度を低め、柱
状あるいは板状の結晶粒子形状を持つ焼結体を合成する
こと。 【解決手段】 炭化けい素粉末に対して、硼素または非
酸化物硼素化合物が硼素に換算して0.2重量%以上
2.0重量%以下、アルミニウム金属あるいは非酸化物
アルミニウム化合物がアルミニウムに換算して0.2以
上2.5重量%以下、および、炭素を1から2重量%と
なる割合の原料粉末を混合し、成形し、不活性雰囲気で
1950℃以下で加熱し、Al8 4 7 を主成分とす
る液相を生成させて、粉末を常圧焼結する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、炭化けい素(以下
「SiC」と称す)に関し、特に、破壊靱性値、耐食性
と耐磨耗性に優れたSiC焼結体材料の合成法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】緻密なSiC焼結体は、高い強度と硬
さ、優れた耐熱性、耐腐食性と耐磨耗性を持ち、機械部
品として広く応用されている。SiC粉末の焼結には助
剤が必要である。助剤は大別して、酸化アルミニウム
(Al23 )を代表とする酸化物系と、硼素(B)あ
るいはアルミニウム(Al)と炭素(C)を代表とする
非酸化物系がある。焼結のしやすさ、焼結体の強度や耐
磨耗性を考えると、非酸化物系助剤によるSiC焼結体
が最も優れている。
【0003】この有用なSiC焼結体は現在大量に製造
されているが、そのSiC焼結体のほとんどはBとCを
助剤として使用し、SiC粉末を2100℃以上で焼結
して製造している。しかし、改良すべき問題点が主に2
つある。1つは焼結温度が2100℃を越え、安価に製
造できないことであり、2つは材料が大変に脆いことで
ある。即ち、破壊靱性が2〜3MPam1/2 程度であ
り、割れやすく、応用に制限がある。後者の脆さについ
ては、焼結体の粒子の形状が柱状あるいは板状に成長し
たほうが破壊靱性値や強度が大きくなることが判ってい
る。
【0004】炭素源、アルミニウム源、硼素源を添加し
て焼結する方法は、特開平9−268062号公報、同
9−175864号公報、同9−183659号公報、
同9−175865号公報等で開示されているが、最前
者は酸化アルミニウム(Al23 )を使用しており、
酸化物による焼結で、常圧焼結後にHIP処理が必要で
ある。第二、三者は−Si−O−を骨格構造とするオル
ガノポリシロキサンを使用しているので、加熱中に二酸
化けい素(SiO2 )を生成する。これらの方法では、
酸化物が存在するので、焼結中にAl847 は生成
されない。最後者は硼素とアルミニウムを同時添加し
て、焼結を促進することを目的とした方法であり、焼結
温度が高く、炭素量が少いことからも、Al847
による液相焼結ではなく、焼結温度の低温化は達成でき
ていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】SiC結晶には結晶構
造からα型(4H、6H、15R等の六方晶)とβ型
(3Cの立方晶)がある。粉末もα型とβ型が製造され
ている。α型のSiC粉末を焼結すると、焼結体の粒子
は等方的な多面体の粒子になり、β型の粉末を焼結する
と柱状の粒子になる。従って、破壊靱性値はβ型の焼結
体の方がやや優れる。α型SiC粉末はβ型より安価で
あり、工業的なSiC焼結体部品もα型が多い。
【0006】本発明は、非酸化物系の焼結助剤を用いた
SiC焼結体を製造する技術に関して、焼結温度が高い
ことと材料が脆いという欠点を解決するために、焼結温
度を低め、柱状あるいは板状の結晶粒子形状を持つ焼結
体を合成する方法を提供することを目的とするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】SiC粉末は通常0.3
から0.5重量%のBあるいは炭化ほう素(B4 C)と
1〜2重量%のCを添加して2150℃で焼結している
が、本発明者は、これらの助剤に加えて金属化合物を添
加物として、SiC粉末の焼結挙動を研究した結果、A
l金属または非酸化物Al化合物を加えると、焼結温度
が1800〜1950℃に低下し、かつ焼結体の結晶粒
子形状が柱状あるいは板状に成長することを発見した。
焼結体の組織観察やX線回折によって詳細に解析する
と、焼結中に1800℃以下の温度でAl847
合物を中心とした液相が発生し、これが焼結温度を低め
ていることが判った。また、この液相は、α(6H)型
やβ(3C)型のSiC粒子の一部を4Hの結晶構造に
変化させ、その結果、結晶粒子を板状または棒状に成長
させることも判り、本発明に至った。
【0008】すなわち、本発明は、α型あるいはβ型の
SiC粉末に、Bに換算して0.2〜2.0重量%のB
またはB4 Cと、Alに換算して0.1〜2.5重量%
のAl化合物と、1〜2重量%の炭素を添加して、18
00℃〜1950℃の低温で焼結し、1800℃以下で
Al847 化合物を主成分とする液相を生じさせ
て、結晶粒子の一部が板状または柱状に成長したSiC
焼結体を得ることを特徴とする焼結方法である。
【0009】
【発明の実施の形態】SiC粉末として平均粒径が0.
3〜0.5μmのα型とβ型SiC粉末を用いる。これ
にB4 C、Al43 とCを添加する。非酸化物アルミ
ニウム化合物(Al43 やAlB2 等)をAlに換算
して0.15重量%以上で2.5重量%以下、非酸化物
硼素化合物(B4 CやAlB2 等)をBに換算して0.
2重量%以上で2重量%以下、炭素を1重量%以上で2
重量%以下の範囲でSiC粉末に添加し、混合と成形
後、1800℃から2000℃で30分から1時間焼結
すると焼結中にAl847 を主成分とする液相が生
成し、緻密でしかも結晶粒子の一部が柱状に伸びた焼結
体が得られる。
【0010】原料粉末には、通常SiO2 ,Al23
やB23 などの酸化物不純物が少量含まれる。これら
はAl847 の生成と焼結に悪影響を及ぼすので、
1500℃まで真空加熱し、その温度に20分から1時
間保持してそれらをCと反応させ除去する。このように
して、アルミニウム化合物、硼素化合物と炭素からAl
847 が生成し、液相を介して焼結を促進すること
ができる。1500℃以上の温度で真空に加熱すると、
SiCやAl化合物が分解し揮発するので焼結が進まな
くなるので好ましくない。
【0011】このように、SiC粉末はC、B4 CとA
43 を加えると、1800℃から2000℃で緻密
化する。B4 CとAl43 の代わりにAlB2 を用い
ても同様の効果が得られる。すなわち、AlB2 とCを
添加すれば、焼結温度で、Al487 の液相とBが
生成し、同様の効果が得られる。Al化合物とB化合物
の添加は高温で各々とCが反応してAl487 が生
成する化合物であればよい。
【0012】2000℃で焼結すると十分に緻密化はす
るが、焼結温度が高すぎて結晶粒子が異常成長して、焼
結体の結晶粒子が100μm以上の大きさになる。この
ような焼結体は強度が著しく低く実用材料にならない。
また、1800℃より低い温度で1時間熱処理しても十
分に緻密化しない。この材料も強度が低く実用材料に適
さない。ただし、1800℃以下で長時間、例えば、2
〜4時間処理すれば、密度は90%を越えるようになる
が、長時間の熱処理は経済的ではない。B4 CとAl4
3 のいずれかを2.0重量%及び2.5重量%を越え
て添加すると、約1800℃で過剰の液相が発生し、S
iCの粒子は焼結中に異常に成長を起こし、好ましい結
果は得られない。
【0013】
【実施例】焼結体番号と添加物の混合量を表1の1から
5列に示す。助剤を添加したSiC粉末を、SiC製の
ボールミルで、エチルアルコールを媒体にして毎分15
0回転し、8時間混合した。混合後に粉末を乾燥して解
砕し、150μmの篩を通した。これを金型に充填して
棒状にした後、ゴムのカプセルに入れ、2000kg/
cm2 の静水圧で成形した。棒状の成形体を、黒鉛抵抗
加熱炉に入れ、室温から1500℃までを真空中で加熱
し、30分保持した。1500℃からは大気圧のアルゴ
ンを導入しながら、昇温速度8℃/分で、1800℃か
ら2000℃の所定の温度に加熱し、1時間保持して常
圧で焼結した。
【0014】表1は、SiC粉末と焼結助剤の混合割合
および1800℃〜2000℃で焼結した後の到達密度
を示す。焼結した後の密度を表1の6から10列に記載
した。この他に、Al43 とB4 Cの代わりにAlB
2 を添加して焼結することも行った(焼結体番号A1
8)。その結果、上記の焼結条件で、総ての試料で密度
が理論値の90%以上に達した。特に1850℃以上で
は、ほぼ理論密度まで緻密化した。表において、焼結時
間は1時間(焼結温度が2000℃では30分)であ
る。焼結体A1〜A16、A18では原料のSiC粉末
にα(6H)型を、焼結体B17ではSiC粉末にβ
(3C)型を用い、焼結体A18では焼結助剤のAlと
BをAlB2 で加えた。焼結体の理論密度は焼結助剤の
添加量に依存するが3.15〜3.18である。
【0015】
【表1】
【0016】焼結体を粉末X線回折分析すると、SiC
からの回折ピークの他に格子面間隔が0.2962n
m、0.2912nm、0.2571nm、0.200
4nm、0.1709nmの回折ピークが現れ、Al8
47 が生成していることがわかった。この化合物は
1800℃以下で液相になる。(Al847 化合物
と液相の存在は既に「窯業協会誌」88巻、353〜3
55頁、1980年に報告されている。)。また、原料
のα(6H)型とβ(3C)型粉末は、焼結中に、粒成
長を伴って一部が4H型に転移を起こしたこともわかっ
た。焼結体の組織を観察すると、α型SiC焼結体では
一部の粒子が柱状あるいは板状に成長していた。また、
β型SiCでは一部の粒子が針状に大きく成長した。S
iC粒子の一部が焼結中に4Hに転移をおこし、粒子の
形状が柱状あるいは針状になったものと判断した。
【0017】焼結体の破壊靱性値をJIS−R1607
のIF法により室温で測定した。その結果を表2に示し
た。破壊靱性は3.0〜4.3MPam1/2 で、現在工
業的に製造されているBとCの添加によるSiC焼結体
より大きい値を示した。このように、本発明によれば焼
結の温度を著しく低下でき、破壊靱性値の優れたSiC
焼結体を製造できる。表2は、焼結体の焼結温度、焼結
密度および破壊靱性値を示す。
【0018】
【表2】
【0019】比較例 現在の工業的なSiC焼結体製造方法に準じて、以下の
ようにSiCの焼結を行った。上記に使用したα型Si
C粉末に0.5重量%のBと2重量%のCを加え、上記
と同様の方法で混合し成形した。成形体を黒鉛抵抗加熱
炉に入れ、1500℃までを真空中で加熱し、30分保
持した。1500℃からは大気圧のアルゴンを導入しな
がら、昇温速度8℃/分で2000℃から2150℃ま
で加熱した。その結果、2000℃では密度は理論密度
の88.1%、2100℃で95.4%、2150℃で
99.2%に焼結した。最後者の緻密化した試料の破壊
靱性値をJIS−R1607のIF法で測定すると2.
6MPam1/2 であった。また、β型SiC粉末に0.
5重量%のBと2重量%のCを加え、同様に2150℃
まで焼結した結果、1850℃で理論密度の79%、1
900℃で90%、2050℃で99%、2150℃で
100%に焼結した。緻密化した焼結体の破壊靱性値は
JIS−R1607のSEPB法で測定すると2.2〜
2.6MPam1 /2 であった。
【0020】
【発明の効果】以上記述したように、本発明によれば、
SiC焼結体を従来の工業的方法より200〜300℃
の低温で焼結でき、しかも、破壊靱性値に優れた材料を
供給できる。SiC焼結体は耐腐食性と耐磨耗性に優れ
ているから、化学的に腐食されやすい環境に用いる部品
や、メカニカルシールを例とする耐磨耗性部品に応用さ
れている。本発明を利用すれば、安価にSiC焼結体を
製造することが可能であり、SiC焼結体の機械部品を
製造する方法として、本発明が広く応用されることが期
待できる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 炭化けい素粉末に対して、硼素または非
    酸化物硼素化合物が硼素に換算して0.2重量%以上
    2.0重量%以下、アルミニウム金属あるいは非酸化物
    アルミニウム化合物がアルミニウムに換算して0.1以
    上2.5重量%以下、および、炭素を1から2重量%と
    なる割合の原料粉末を混合し、成形し、不活性雰囲気で
    1950℃以下で加熱し、Al84 C7 を主成分とす
    る液相を生成させて、粉末を常圧焼結することを特徴と
    するSiC粉末の焼結方法。
  2. 【請求項2】 前記非酸化物アルミニウム化合物が炭化
    アルミニウム(Al43 )、ほう化アルミニウム(A
    lB2 )、または高温で硼素または硼素化合物及び炭素
    と化学反応してAl847 を生成する化合物である
    請求項1に記載の焼結方法。
  3. 【請求項3】 前記非酸化物硼素化合物が炭化硼素(B
    4 C)、ほう化アルミニウム(AlB2 )または高温で
    アルミニウム金属またはアルミニウム化合物及び炭素と
    反応してAl847 を生成する化合物である請求項
    1に記載の焼結方法。
  4. 【請求項4】 前記焼結方法が、真空中で1500℃ま
    で加熱し、20〜60分間保持し、1500℃から焼結
    温度までは1気圧の不活性雰囲気中で加熱し、焼結温度
    が1800℃から1950℃である請求項1に記載の焼
    結方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005314157A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 National Institute For Materials Science 炭化珪素焼結体およびこれを用いた半導体および液晶製造装置用部材
JP2008050179A (ja) * 2006-08-22 2008-03-06 National Institute For Materials Science 高密度のAlN−SiC−MeB複合焼結体を製造する方法
JP2009057259A (ja) * 2007-09-03 2009-03-19 National Institute For Materials Science 炭化ケイ素焼結体の製造方法
CN107673774A (zh) * 2017-11-03 2018-02-09 江苏高淳陶瓷股份有限公司 一种Al8B4C7增强的碳化硅蜂窝陶瓷及其制备方法

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