JPH11291657A - 平版印刷版用支持体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 強固な感光層と支持体の密着力によりよ
り高感度でかつ、酸性プレートクリーナーで版面のイン
キを除去しても又多量の印刷を行っても細線やハイライ
トが飛ばず、耐刷性にも優れ、更に汚れない直接レーザ
ー書き込み可能なネガ型光重合性平版印刷版用の支持体
の製造方法を提供する。 【解決手段】 上記課題は、粗面化したアルミニウム板
を第一段階として陽極酸化処理した後、第二段階として
第一段階の陽極酸化皮膜のマイクロポアよりもポア径が
小さくなる条件にて再び陽極酸化処理することを特徴と
する平版印刷版用支持体の製造方法によって解決され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体の製造方法に関するものである。特に、可視光領域の
光線に対して高感度でかつ調子再現性が良好な光重合組
成物を用いた直接製版可能なネガ型平版印刷版用支持体
の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ネガ型平版印刷版は広く知ら
れており、種々な型の感光層がある。例えば、ジアゾ樹
脂含有型、光重合型、光架橋型等がある。このような平
版印刷版を作成するには、これらの平版印刷版上に透明
のネガフィルム原稿（リスフィルム）をのせ、紫外線を
用いて画像露光するのが一般的であり、そのため作業に
非常に手間隙がかかっていた。

【０００３】近年、画像形成技術の発展に伴い、可視領
域の光線に対し高い感光性を有するフォトポリマーが要
請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版
や可視光レーザー製版等に適合した感光材料であり、光
重合系が最も高感度で有望である。該可視光レーザーと
してはＡｒレーザーの４８８、５１４．５ｎｍ光、半導
体レーザーの第２高調波光（ＳＨＧ−ＬＤ、３５０〜６
００ｎｍ）、ＳＨＧ−ＹＡＧレーザーの５３２ｎｍ光な
どが、有望視されている。

【０００４】そこで感光層にある種の高感度な光重合性
感光層を用いる事で、細くビームを絞ったレーザー光を
その版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿などを直接
版面上に形成させ、フィルム原稿を用いず直接製版が可
能となる。例えば、特公昭６１−９６２１号公報、特開
昭６３−１７８０５号公報、特開平２−２４４０５０号
公報等に記載の感光性組成物の使用により、フィルム原
稿を用いず直接製版が可能である。

【０００５】しかしながら、従来のこうした高感度光重
合性の印刷版は感光層と支持体の密着力が必ずしも強力
ではないため、高速で大部数の印刷に使用すると、ベタ
画像が抜けたり、細線やハイライト部が飛んだりする不
具合を生じる。

【０００６】そのため高感度光重合系においては支持体
と感光層の接着性は重要なファクターであり、数多く研
究、開発されている。

【０００７】例えば、特開平７−１５９９８３号公報で
は、ラジカルによる付加反応を起こし得る官能基を支持
体表面上に共有結合により植え付け、光重合性感光層と
の接着力を持たせようとした。

【０００８】また、感光層と支持体の密着力を更に強力
にするために、感光層のアンカー効果を強化する目的で
支持体の表面処理として燐酸陽極酸化皮膜を使用するこ
とが公知である。確かにこの方法に依れば、ハイライト
の密着性は向上するものの同時にインキ払い（非画像部
についたインキが印刷に伴い払われていく時にインキが
完全に取れるまでの損紙の枚数）が劣化してしまう欠点
がある。

【０００９】一方、支持体表面の粗面を粗くすることも
考えられる。確かにこれによって密着力は向上し画像の
耐久性は向上する。しかしながら、その反面印刷時の感
光層の磨耗の影響がでやすく、アルミニウムの親水面が
表面に出やすいため欠陥のある印刷物となったり、非画
像部の親水性が低下し、印刷に汚れを生じる結果とな
る。

【００１０】印刷時汚れが生じると印刷機上で版面をプ
レートクリーナーで拭き、インキを除去する。感光層と
支持体の密着力が弱いと、アルカリ性のプレートクリー
ナーでは問題ないが、特に酸性のプレートクリーナーで
はハイライト部が飛ぶという問題があった。そのため印
刷時プレートクリーナーをユーザーが使用する印刷版に
より数種類も準備しなければならなかった。更に印刷枚
数が多い場合、感光層と支持体の密着力が弱いと版面を
酸性のプレートクリーナーで拭いた場合と同様に細線や
ハイライト部が徐々に飛ぶという問題があった。

【００１１】ところが最近の市場動向として、生産性の
向上のため露光時間の短縮化や、レーザーの長寿命化の
ためになるべく低出力で使用したいなどの要求が強く、
直接製版可能な平版印刷版の更なる高感度化は永遠の課
題である。しかしながら、感光層と支持体の密着力を十
分に出し、印刷途中版面をプレートクリーナー等で拭い
ても、又数十万枚印刷しても、スタート時の印刷物と調
子再現性が同じで、かつ汚れない更なる高感度な光重合
性平版印刷版は非常に難しい状況にあった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、強固
な感光層と支持体の密着力によりより高感度でかつ、酸
性プレートクリーナーで版面のインキを除去しても又多
量の印刷を行っても細線やハイライトが飛ばず、耐刷性
にも優れ、更に汚れない直接レーザー書き込み可能なネ
ガ型光重合性平版印刷版用の支持体の製造方法を提供す
ることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意研究の結果、アルミニウム板を粗面化し
その表面を第一段階として陽極酸化処理した後、第二段
階として第一段階の陽極酸化皮膜のマイクロポアよりも
ポア径が小さくなる条件にて再び陽極酸化処理すること
により平版印刷版用支持体の製造方法によって、かかる
目的を達成することができたものである。

【００１４】この目的は、第一段階の陽極酸化皮膜量が
第二段階の皮膜量よりも同等量以下とすることによっ
て、第一段階の陽極酸化処理が硫酸浴によるものであ
り、第一段階の陽極酸化皮膜をアルカリ水溶液にて処理
することによって溶解し該皮膜に存在するマイクロポア
を拡げた後、第二段階の陽極酸化処理を硫酸浴によって
行うことによって、また、第一段階が燐酸浴又は蓚酸浴
による陽極酸化処理であり、第二段階が硫酸浴による陽
極酸化処理であることによってより好ましく達成するこ
とができる。

【００１５】こうして得られる平版印刷版用支持体はそ
の上にフィルム原稿を用いずレーザー光走査により直接
版面上に画像形成できる感光層を形成させることによっ
て得られる平版印刷版が、インキ払いを劣化させずに、
感光層の密着性を向上させることができるものである。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。

【００１７】［アルミ支持体］本発明に用いられるアル
ミ支持体としては、寸度的に安定なアルミニウムを主成
分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム
合金からなる。純アルミニウム板の他、アルミニウムを
主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニ
ウム（合金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチ
ックフィルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭４
８−１８３２７号公報に記載されているようなポリエチ
レンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが
結合された複合体シートでもかまわない。

【００１８】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる板をアルミニウ
ム板と総称する。前記アルミニウム合金に含まれる異元
素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、ク
ロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、
合金中の異元素の含有量は１０重量％以下である。本発
明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋な
アルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のもの、例えばＪ
ＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳ Ａ １１００、ＪＩＳ Ａ ３
１０３、ＪＩＳ Ａ ３００５などを適宜利用することが
出来る。

【００１９】また、本発明に用いられるアルミニウム板
は通常ウェブ状で連続走行させながら処理され、その幅
は４００ｍｍ〜２０００ｍｍ程度、厚みは、およそ０．
１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度である。この厚み印刷機の大き
さ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更
することができる。

【００２０】アルミニウム板には適宜後述の基板表面処
理が施される。

【００２１】［砂目立て処理］砂目立て処理方法は、特
開昭５６−２８８９３号公報に開示されているような機
械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどが
ある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂
目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム
表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン
法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てする
ボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂
目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法
を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは
組み合わせて用いることもできる。

【００２２】その中でも本発明に有用に使用される表面
粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に
砂目立てする電気化学的方法であり、適する電気量は５
０〜４００Ｃ／ｄｍ²、好ましくは１００〜３００Ｃ／
ｄｍ²の範囲である。さらに具体的には、０．０１〜５
０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の塩酸または
硝酸を含む電解液中、温度２０〜１００℃、好ましくは
３０〜７０℃、時間１秒〜３０分、好ましくは２秒〜１
分、電流密度１００〜４００Ａ／ｄｍ²、好ましくは１
０〜５０Ａ／ｄｍ²の条件で電解を行うことが好まし
い。

【００２３】このように砂目立て処理したアルミニウム
板は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされ
る。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を
破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用する
に際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤とし
て用いることにより改善できる。

【００２４】本発明において好適に用いられるアルカリ
剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メ
タケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸
化リウチム等を用い、濃度と温度の好ましい範囲はそれ
ぞれ１〜５０重量％、特に２〜２０重量％、２０〜１０
０℃、特に３０〜７０℃であり、Ａｌの溶解量が０．１
〜２０ｇ／ｍ²、特に０．３〜２ｇ／ｍ²となるような条
件が好ましい。

【００２５】エッチングのあと表面に残留する汚れ（ス
マット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられ
る酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフ
ッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理
後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭
５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜
９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸と接触させる方
法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されている
アルカリエッチングする方法が挙げられる。

【００２６】［第一段階の陽極酸化処理］以上のように
して処理されたアルミニウム板に、陽極酸化処理が施さ
れる。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている
方法で行うことができる。具体的には、硫酸またはリン
酸、シュウ酸、等の水溶液が主に電解浴として用いられ
る。場合によってはクロム酸、スルファミン酸、ベンゼ
ンスルフォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わ
せた水溶液または非水溶液を用いる場合もある。上記の
ような電解浴中でアルミニウムに直流または交流を流す
とアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成するこ
とができる。

【００２７】陽極酸化処理の条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般
的には電解液の濃度が１〜８０重量％、好ましくは５〜
２０％、液温５〜７０℃、好ましくは１０〜６０℃、電
流密度０.５〜６０Ａ／ｄｍ²、好ましくは１〜３０Ａ／
ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、好ましくは５〜５０Ｖ、電
解時間１〜１００秒、好ましくは５〜６０秒の範囲が適
当である。

【００２８】これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国
特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を
電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。

【００２９】本発明においては、第一段階の陽極酸化皮
膜は０.１〜５ｇ／ｍ²であり、好ましくは、０.２〜２
ｇ／ｍ²である。この陽極酸化皮膜の表面には多数の凹
み（ポア）が形成されている。このポアは１０⁵〜１０⁷
個／ｍｍ²程度、深さが０.１〜２μｍ程度である。ポア
径は平均で１〜５０ｎｍ程度、通常４〜２０ｎｍ程度で
ある。

【００３０】第一段階の陽極酸化処理をした後、場合に
よってはアルカリ処理によりマイクロポアを拡げること
ができる。アルカリ処理条件は第一段階のマイクロポア
をｐＨ１１〜１３の水溶液で０.１〜０．５ｇ／ｍ²溶解
できればいかなる条件でも構わないが、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムその他でｐ
Ｈ＝１１〜１３に調整した後、１０℃から７０℃、好ま
しくは２０〜５０℃で、１〜３００秒、好ましくは５〜
１００秒処理することが適当である。この際アルカリ処
理液中に炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩等の多価弱酸の金属塩
を含んでもよい。この処理によって拡げられたマイクロ
ポアの径は平均で５〜２００ｎｍ程度、通常１０〜１０
０ｎｍ程度になる。第二段階で基準となる第一段階のマ
イクロポアの径は、アルカリ処理後その後水洗する。

【００３１】［第二段階の陽極酸化処理］上記のような
該アルカリ処理をした後又は該アルカリ処理をせずに、
第二段階の陽極酸化処理を行う。電解浴の種類、濃度、
液温、電流密度、電圧、電解時間等は、第一段階と基本
的には同様でよいが、第二段階で形成される陽極酸化皮
膜のマイクロポア径が第一段階のものより小さくなる条
件で行う。すなわち、電解浴の濃度、液温を上げ、電流
密度を下げてポア径の減少を図る。第一段階のマイクロ
ポアよりも第二段階のマイクロポアが大きくなってしま
うと印刷時に非画像部が汚れ易くなってしまう問題があ
るからである。第二段階の酸化皮膜にも多数のポアが形
成されている。ポアの数は１０⁵〜１０⁷個／ｍｍ²程度
であり、深さは０．２〜５μｍ程度である。マイクロポ
アの径は第一段階のマイクロポアの径の８０％〜５％程
度、特に６０％〜１０％程度であることが好ましい。ま
た、第一段階の皮膜量が第二段階の皮膜量よりも多くな
ると密着性向上効果が無くなるので、第一段階の皮膜量
が第二段階の皮膜量よりも同等量以下、すなわち、第二
段階の皮膜量を第一段階の皮膜量と同等量以上とするこ
とが好ましい。好ましい第二段階の皮膜量は第一段階の
１〜１００倍程度、特に１〜１０倍程度である。

【００３２】また、第一段階を第二段階を合わせたトー
タルの陽極酸化皮膜量としては、０.５〜１０ｇ／ｍ²、
好ましくは１〜５ｇ／ｍ²である。その後水洗し、熱風
(５０〜２００℃）又は冷風自然乾燥法等で乾燥する。

【００３３】上記の如く形成された支持体上に、必要に
応じて後述する接着層を設けても構わない。その後、後
述される光重合性組成物からなる感光層を形成すること
で、本発明が対象としている光重合性平版印刷版が形成
するが、感光層を塗設する前に、接着層を形成する場合
にはその接着層生成の前もしくは後に必要に応じて有機
下塗層が設けてもかまわない。水溶性の樹脂、たとえば
ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重
合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩
（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等を
下塗りしたものも好適である。

【００３４】この有機下塗層に用いられる有機化合物と
しては、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホ
ン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有しもよいフェニルリン酸、ナフチルリン
酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリ
セロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンや
β−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノール
アミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの
塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いても
よい。

【００３５】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記有
機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、
乾燥して有機溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、
バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン
塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方
法では、溶液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましく
は０．０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０
℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１
秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。

【００３６】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１
〜１２の範囲で使用することもできる。また、光重合性
平版印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加
することもできる。

【００３７】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２０
０ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ
／ｍ²である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²より少ないと
十分な耐刷性が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²よ
り大きくても同様である。

【００３８】またアルミニウム支持体は、途中更に弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理などの表面処理がなされてもかまわない。

【００３９】［接着層］陽極酸化処理後ポアワイド処理
した後、必要に応じて更にその表面にラジカルによって
付加反応を起こし得る官能基（以下、付加反応性官能基
と呼ぶ）を有するシリコーン化合物を含む接着層が塗設
されてもよい。

【００４０】この付加反応性官能基を有するシリコーン
化合物を含む層の塗設は、有機シリコーン化合物を原料
として用いる方法によるのが好ましい。具体的には、付
加反応性官能基をＲ¹と表した時、下記式(１)： Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ (１) （式中、−ＯＲ²は加水分解可能なアルコキシ基又は−
ＯＣＯＣＨ₃基である。）で示される有機シリコーン化
合物(１)を用いてアルミニウム基板を処理することによ
り、基板表面の金属、金属酸化物、水酸化物、−ＯＨ
基、又は基板の化成処理によって形成されたシラノール
基などと反応させて基板表面と共有結合を形成させ、下
記式(２)： （Ｒ³Ｏ）₂（Ｒ¹）Ｓｉ− (２) で表される官能基を基板表面に結合（又は植え付け）さ
せればよい。式中、Ｒ³はＲ²と同種もしくは異種のアル
キル基又は水素原子、もしくは隣接する別のＳｉ原子と
の結合を表す。

【００４１】上記において、付加反応性官能基（Ｒ¹）
が中央のＳｉ原子に２個以上結合し た下記式（１ａ）又は（１ｂ）： （Ｒ¹）₂Ｓｉ（ＯＲ²）₂ （１ａ） （Ｒ¹）₃ＳｉＯＲ² （１ｂ）で表される
有機シリコーン化合物（１ａ），（１ｂ）を用いること
もできる。

【００４２】また、付加反応性官能基（Ｒ¹）が−Ｏ−
を介して中央のＳｉ原子に結合する官能基である場合
は、 （Ｒ¹）₄Ｓｉ （１ｃ） で表される有機シリコーン化合物（１ｃ）を用いること
もできる。

【００４３】有機シリコーン化合物(１)は、中央のＳｉ
原子に結合する４個のＲ¹のうち少なくとも１個が加水
分解されずに残っている状態の時に平版印刷版用支持体
に塗布される。

【００４４】有機シリコーン化合物(１)を平版印刷版用
支持体に塗設する際、このものを単独で用いてもよく、
又は適当な溶媒で希釈して用いてもよい。平版印刷版用
支持体で有機シリコーン化合物(１)をより強固に結合さ
せるために、水及び／又は触媒を加えることができる。
溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキシレ
ングリコール等のアルコール類が好ましく、触媒として
は塩酸、酢酸、リン酸、硫酸などの酸、又はアンモニ
ア、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの塩基
が使用できる。平版印刷版用支持体上の付加反応性官能
基の量は、結合させる付加反応性官能基の種類によって
異なるが、１０ｎｍ²当り一般に０．０１〜１０００
個、好ましくは０．０５〜２００個、更に好ましくは
０．１〜５０個とすることが適当である。付加反応性官
能基量が１０ｎｍ²当り０.０１個より少ないと十分な光
接着強度が得られ難い。有機シリコーン化合物（１）を
厚く塗り重ねることによって、 １０ｎｍ²当りの付加反
応性官能基量を実質的に幾らでも多くすることが可能で
あるが、最表面に顔を出す付加反応性官能基量は１０ｎ
ｍ²当り高々１０個であるので、厚く塗り過ぎても無駄
になる。付加反応性官能基量が多過て、ＰＳ板として使
用した時の非画像部の親水性が不足しないためには、１
０ｎｍ²当りの付加反応性官能基の量は１０００個以内
とするのが好ましい。

【００４５】従って、有機シリコーン化合物を用いて平
版印刷版用支持体表面に付加反応性官能基を結合する
（植え付ける）際は、有機シリコーン化合物を希釈する
溶媒の種類と量、基板表面上での加水分解用に加える水
の量（加える場合）、支持体表面上での加水分解を促進
するための触媒の種類と量(加える場合)、有機シリコー
ン化合物の溶液を支持体上に施用する方法、支持体に施
用した後の乾燥雰囲気、乾燥温度、乾燥時間等のプロセ
スパラメータを種々変更し、支持体表面に保持される付
加反応性官能基量が上記の量の範囲内となるように制御
することが必要である。

【００４６】平版印刷版用支持体表面に保持される付加
反応性官能基の量は、処理後の支持体表面を適当な方
法、例えばケイ光Ｘ線分析法、赤外線吸収法等の方法で
測定し、表面にあるＳｉ原子量の定量、炭素−炭素の多
重結合量の定量等を行なうことによって決定することが
できる。

【００４７】但し、この支持体(付加反応性支持体)を用
いてＰＳ版を構成する場合、式(１)の有機シリコーン化
合物のみを用いて平版印刷版用支持体の処理をしただけ
では印刷汚れを生じる場合がある。即ち、付加反応性官
能基を結合してなる支持体上に光重合性の感光性組成物
を塗布して感光層を設け、これに像様露光して画像通り
の界面光接着を起させ、現像液で未露光部を取り去るこ
とにより、支持体上には光のパターン通りの光重合密着
膜が残る。そして、これにインクと水を塗ると、インク
は光重合接着した像様露光部へ、水は未露光部へそれぞ
れ付着して印刷版となるが、上記有機シリコーン化合物
を単独で使用した場合には、水が付着するべき未露光部
に過剰の有機官能基が存在することがあり、水の他にイ
ンクも付着して印刷物上に汚れとなって観察されること
がある。

【００４８】そこで、この印刷汚れを防ぐために、平版
印刷版用支持体表面上に付加反応性官能基（Ｒ¹）の他
にＯＨ基を多く固定して親水性を強くすることが好まし
い。

【００４９】好ましくは、支持体表面への付加反応性官
能基の結合において、式(１)：Ｒ¹Ｓｉ(ＯＲ²)₃で表わ
される有機シリコーン化合物（１）の他に、式（３）：
Ｓｉ(ＯＲ⁴）₄（式中、−ＯＲ⁴は加水分解可能なアルコ
キシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基又
は−ＯＣＯＣＨ₃基であり、 Ｒ⁴はＲ²と同じであっても
異なってもよい。）で表わされる有機シリコーン化合物
（３）を併用し、基板表面に前述の式（２）で示される
反応サイトを結合すると同時に、式（４）： （Ｒ³Ｏ）₂（ＯＨ）Ｓｉ− （４） で示される親水性サイトを結合することが好ましい。こ
こで、式中、Ｒ³はアルキル基、水素原子、又は隣接す
る別のＳｉ原子との結合を表わすが、Ｒ³が水素原子で
あることが親水性の面からは最も好ましい。なお、Ｒ³
が水素原子以外のもののときは、必要に応じて、表面を
アルカリ溶液で洗うことによって、親水性を高めること
ができる。

【００５０】式（１）の有機シリコーン化合物(１)と式
(３)の有機シリコーン化合物（３）との混合比は、支持
体の性状によってそれぞれのものの支持体表面への結合
（植えつけ）効率が変動するため、一概に好適な範囲を
決めることができない。しかし、具体的には、両者の比
を種々に変えて支持体処理を行ない、付加反応性官能基
Ｒ¹に基づく光接着性と、式(４）で示される部分構造に
由来する親水性とが両立する条件を実験的に確定して使
用することになる。いずれにしても、付加反応性官能基
の密度が前記範囲内になるようにすればよい。具体的に
は、有機シリコーン化合物（１）に対する有機シリコー
ン化合物(３)の混合モル比は０．０５〜５００が適当で
あるが、好ましくは０．２〜２００、更に好ましくは１
〜１００である。

【００５１】またこの範囲内で、式（３）の有機シリコ
ーン化合物（３）に由来する親水性基の量を多くすれば
するほど非画像部の親水性が増す。

【００５２】ただし、親水性基の密度が低い場合でも、
付加反応性官能基を親水化処理することによって親水性
基の密度を向上させることができる。

【００５３】平版印刷版用支持体表面への付加反応性官
能基の結合には、大別すると、有機シリコーン化合物を
そのまま用いることからなる上述の方法（以下、ＳＣ法
と呼ぶ。）の他に、有機シリコーン化合物を加水分解す
るとともに重縮合させて得られた−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結
合を含む無機高分子に付加反応性官能基が固定された形
の有機無機複合体を用いることからなる方法(以下、Ｓ
Ｇ法と呼ぶ。)がある。

【００５４】この有機無機複合体をアルミニウム基板に
塗布して乾燥させると、無機高分子部分が支持体と密着
し、付加反応性官能基はそのまま支持体表面上に残る。

【００５５】ＳＣ法の場合、平版印刷版用支持体表面に
おける付加反応性官能基の結合位置は支持体表面上の特
定の性質をもった位置となりやすく、支持体表面上に一
様に分布させるのが困難な場合がある。つまり、特定の
酸点や塩基点においてのみＳｉ原子との間の共有結合が
形成され、付加反応性官能基の分布が平板印刷版用支持
体表面の酸点や塩基点の分布に支配されやすい。従っ
て、光接着強度や非画像部親水性にムラを生じる場合が
ある。こうした状況の時はＳＧ法に従うのが有利であ
る。細かく見れば、ＳＣ法、ＳＧ法の他に、中間の態
様、例えば式（１）の有機シリコーン化合物（１）：Ｒ
¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃中のＯＲ²の一部もしくは全部が加水分
解して２分子又は３分子が結合した形の有機シリコーン
化合物を出発原料として用いる処理も可能である。

【００５６】ＳＧ法による付加反応性官能基の結合法に
従えば、式（１）の有機シリコーン化合物（１）を、場
合により式（３）の有機シリコーン化合物（３）と所望
の混合比に混合し、液中で、必要により触媒の存在下
で、 付加反応性官能基Ｒ¹では反応を起さずに−ＯＲ²
及び−ＯＲ⁴で加水分解させるとともに重縮合反応を行
なわせて、中心のＳｉ原子が−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合で
つながった無機高分子を含む液状組成物として、これを
平版印刷版用支持体表面に塗布し、場合により乾燥させ
ることによって、支持体上に付加反応性官能基を結合す
る。

【００５７】ＳＧ法を用いると、平版印刷版用支持体表
面上に結合固定される付加反応性官能基の分布が支持体
表面の酸点や塩基点などの化学的な性質の分布に左右さ
れることが少ない。また、出発原料として有機シリコー
ン化合物（１）の他に有機シリコーン化合物（３）を併
用する場合、上記式（２）で示される付加反応性官能基
サイトと上記式（４）で示される親水性サイトとの相対
比が有機シリコーン化合物（１）及び化合物（３）の仕
込み比でほぼ決められるため、最適表面を得るための処
方決定の道筋がＳＣ法よりも整然とする利点がある。

【００５８】本発明で使用する上記式（１）で示される
有機シリコーン化合物（１）の具体例として、以下のも
のを挙げることができる。

【００５９】ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＮＨ（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＣＨ
₃）₃ ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＣ₂
Ｈ₅）₃ ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ−（ＣＨ₂）₄−Ｓｉ（ＯＣＨ
₃）₃ ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ−（ＣＨ₂ ）₅−Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ₂）₄−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ （ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ−（ＣＨ₂）₃）₂−Ｓｉ
（ＯＣＨ₃）₂ ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ＝ＣＨ₂）−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨ−ＳＯ₂ＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨ−ｐｈ−Ｏ−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨ−ｐｈ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨ−ｐｈ−ＣＨ₂ＮＨ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ₃）₃ ｐｈ：ベンゼン環を示す ＨＣ≡Ｃ−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ＣＨ₃Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃

【化１】 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ （ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ）₄Ｓｉ ＨＯ−ＣＨ₂−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＯ−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＳ−（ＣＨ₂）₃−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ−（ＣＨ₂）₂−ＳＣＨ₂−Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ₃）₃ ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓ−（ＣＨ₂）₃−Ｓ−Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃ （ＣＨ₃）₃ＣＣＯ−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃ （ＣＨ₂＝ＣＨ）₂Ｎ−（ＣＨ₂）₂−ＳＣＨ₂−Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ₃）₃ ＣＨ₃ＣＯＣＨ＝Ｃ（ＣＨ₃）−Ｏ−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃

【００６０】また、式（３）で示される有機シリコーン
化合物（３）の具体例としてはテトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、
テトラ（ｎ−プロポキシ）シラン、テトラ（ｎ−ブトキ
シ）シラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラ
ン、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）シラン、
テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラフ
ェノキシシラン、テトラアセトキシシランなどを挙げる
ことができ、中でもテトラエトキシシランが好ましい。

【００６１】平版印刷版用支持体表面へ付加反応性官能
基を結合するのにＳＣ法を用いる場合もＳＧ法を用いる
場合も、溶媒の種類、支持体への施用方法、乾燥方法等
は共通であるが、ＳＧ法の場合、付加反応性官能基が保
持された無機高分子組成物を予かじめ調液しておく必要
がある。以下にその好ましい具体例を示す。

【００６２】式（１）及び（３）で表わされる有機シリ
コーン化合物（１）及び(３)を加水分解とともに重縮合
させてＳＧ法に好適な組成物とするのに使用できる溶媒
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール
等のアルコール類である。

【００６３】溶媒の使用量は、使用する有機シリコーン
化合物（１）及び（３）の総重量に基づいて、一般に
０．２〜５００倍、好ましくは０．５〜１００倍、更に
好ましくは１〜２０倍である。使用量が０．２倍より少
ないと反応液が経時でゲル化しやすく不安定となり好ま
しくない。また、５００倍より多いと、反応が数日を要
するようになり好ましくない。

【００６４】有機シリコーン化合物を加水分解するため
に加える水の量は、一般に有機シリコーン化合物１モル
当り０.１〜１０００モル、好ましくは０.５〜２００モ
ル、更に好ましくは１．５〜１００モルである。水の量
が有機シリコーン化合物１モル当り、０．１モルより少
ない時は、加水分解とそれに続く重縮合反応の進行が非
常に遅くなり、安定な表面処理が可能となるまでに数日
を要し好ましくない。一方、水の量が有機シリコーン化
合物１モル当り１０００モルより多くなると、生成した
組成物を金属表面に塗設した場合密着不良を起す他、組
成物の経時安定性が悪く、すぐにゲル化してしまうこと
が多いため、塗布作業を安定して行ないにくくなる。

【００６５】ＳＧ法に好適な組成物を調液するための反
応温度は室温〜１００℃程度が常用されるが、以下に述
べる触媒の種類によっては室温以下あるいは１００℃以
上の温度を用いることもできる。溶媒の沸点よりも高い
温度で反応させることも可能であり、必要に応じて反応
器に還流冷却器を付設するのがよい。

【００６６】必要に応じて使用される触媒としては、塩
酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、リンゴ酸、シュウ酸な
どの酸、又はアンモニア、テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの
塩基が使用できる。

【００６７】触媒の添加量は、有機シリコーン化合物
（１）及び場合により追加される有機シリコーン化合物
(３)の合計量を基準として、有機シリコーン化合物１モ
ル当り０.００１〜１モル、好ましくは０.００２〜０.
７モル、更に好ましくは０.００３〜０．４モルであ
る。触媒添加量を１モルより多くしても、その添加効果
に比べて経済的に特に利益があるわけではない。

【００６８】酢酸、リンゴ酸等の弱酸を触媒として使用
する時は、反応温度を４０℃〜１００℃の範囲とするの
が有利であるが、硫酸、硝酸等の強酸を触媒として使用
する時は１０℃〜６０℃の範囲がよい。リン酸を触媒と
して用いる場合は１０℃〜９０℃で反応を行なわせるこ
とができる。

【００６９】ＳＧ法に用いる組成物の調液工程、及びこ
れをアルミニウム基板に塗布し乾燥する工程で、多くの
場合熱が加えられるが、揮発性の酸を触媒として使用す
ると、周囲の装置に揮発して付着し、これを腐食させる
場合がある。主として鉄を素材として用いる工程で本方
法を使用する場合は、不揮発性の硫酸及び／又はリン酸
を触媒として用いるのが好ましい。

【００７０】以上述べたように、式（１）及び(３)で表
わされる有機シリコーン化合物と、有機溶媒、水、及び
場合により触媒からなる組成物を、適当な反応温度、反
応時間、及び場合により適当な攪拌条件を選んで反応さ
せると、加水分解とともに重縮合反応が起りＳｉ−Ｏ−
Ｓｉ結合を含む高分子又はコロイド状高分子が生成し、
液状組成物の粘度が上昇し、ゾル化する。

【００７１】式（１）及び（３）で表わされる有機シリ
コーン化合物を両方使用してゾル液を調製する場合、両
方の有機シリコーン化合物を反応の最初から反応容器内
に装荷してもよく、あるいは一方のみで加水分解と重縮
合反応をある程度進めた後に他方の有機シリコーン化合
物を加え、反応を終了させてもよい。

【００７２】ＳＧ法で用いる上記ゾル液は、室温で放置
すると重縮合反応が引き続き進行しゲル化することがあ
る。従って、一度上記の方法で調液したゾル液を、アル
ミニウム基板への塗布時に希釈のために使用する予定の
溶媒で予じめ希釈して、ゾル液のゲル化を防止ないし遅
延させることができる。

【００７３】ＳＣ法及びＳＧ法のいずれにおいても、支
持体上に目的量の有機シリコーン化合物もしくは付加反
応性官能基を結合するために、また支持体上での有機シ
リコーン化合物もしくは付加反応性官能基の分布ムラが
無いようにするために、これらの処理液を支持体に塗布
する前に溶媒を加えて濃度調整を行なうことが好まし
い。この目的に使用する溶媒としてはアルコール類、殊
にメタノールが好適であるが、他の溶剤、有機化合物、
無機添加剤、界面活性剤などを加えることもできる。

【００７４】他の溶剤の例としては、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルア
セテート、１−メトキシー２−プロピルアセテート、ジ
メトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、アセチルア
セトン、エチレングリコール等を挙げることができる。

【００７５】添加することのできる有機化合物の例とし
ては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、
ウレタン樹脂、ノボラック樹脂、ピロガロール−アセト
ン樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルメチルエーテル、ポリプロピレングリコ
ール等が挙げられる。

【００７６】無機添加剤の例としては、コロイダルシリ
カ、コロイダルアルミナなどを挙げることができる。

【００７７】エチレングリコール、エチレングリコール
モノメチルエーテル等の高沸点溶剤は、支持体に塗布す
る濃度にまで希釈された液の安定性を高め、支持体に結
合された付加反応性官能基の反応再現性を保証する働き
がある。ノボラック樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂
等の有機化合物も同様の効果を有するが、得られる支持
体の表面の親水性を低下させる副作用があり、添加量を
細かく調整する必要がある。

【００７８】ＳＧ法に好適なゾル液もしくは液状組成物
は、平版印刷版用支持体表面に塗設後、風乾ないし加熱
乾燥させると、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合からなる無機高分子
がゲル化すると同時に基板表面と共有結合する。乾燥は
溶媒、残留水及び場合により触媒を揮散させるために行
なうものであるが、処理後の基板の使用目的によっては
工程を省くこともできる。ＳＣ法においても、この乾燥
工程は溶媒、残留水等の揮散という意味の他に、有機シ
リコーン化合物平版印刷版用支持体との密着を確実にす
るという意味を有する。

【００７９】従って、目的によっては、乾燥終了後にも
更に温度をかけ、加熱を継続してもよい。

【００８０】乾燥及び場合により継続されるその後の加
熱における最高温度は付加反応性官能基Ｒ¹が分解しな
い範囲にあることが好ましい。従って、使用できる乾燥
温度条件は室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０
℃、更に好ましくは室温〜１２０℃である。

【００８１】乾燥時間は一般に１秒〜３０分間、好まし
くは５秒〜１０分間、更に好ましくは１０秒〜３分間で
ある。

【００８２】本発明において用いられる液状組成物（有
機シリコーン化合物もしくはその溶液又はゾル液）の施
工方法は、ハケ塗り、浸漬塗布、アトマイジング、スピ
ンコーティング、ドクターブレード塗布等、各種のもの
も使用することができ、平版印刷版用支持体表面の形状
や必要とする処理膜厚等を勘案して決められる。

【００８３】［光重合性感光層］本発明の支持体上に設
けられる光重合性感光層の主な成分は、付加重合可能な
エチレン性二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機
高分子結合剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、
熱重合禁止剤等の種々の化合物が添加される。

【００８４】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましく
は２個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。

【００８５】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。

【００８６】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等があげられる。

【００８７】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコ−ルジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。

【００８８】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス［ｐ−(３−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロポキシ)フェニル］ジメチル
メタン、ビス−［ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フ
ェニル］ジメチルメタン等がある。

【００８９】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【００９０】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。

【００９１】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。

【００９２】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。

【００９３】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
もあげることができる。

【００９４】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。

【００９５】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられ
る。 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ⁵）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ⁶）ＯＨ （Ａ） （ただし、Ｒ⁵およびＲ⁶はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【００９６】また、特開昭５１−３７１９３号公報に記
載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４
８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭
５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリ
エステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリ
ル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能の
アクリレートやメタクリレートをあげることができる。
さらに日本接着協会誌ｖｏｌ.２０，Ｎｏ.７，３００〜
３０８ページ(１９８４年）に光硬化性モノマーおよび
オリゴマーとして紹介されているものも使用することが
できる。なお、これらの使用量は、全成分に対して５〜
７０重量％（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜
５０％である。

【００９７】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適
宜選択して使用することができる。

【００９８】例えば４００ｎｍ付近の光を光源として用
いる場合、ベンジル、ベンゾインエーテル、ミヒラーズ
ケトン、アントラキノン、チオキサントン、アクリジ
ン、フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用されてい
る。

【００９９】また、４００ｎｍ以上の可視光線、Ａｒレ
ーザー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧ
レーザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案
されており、例えば、米国特許第２，８５０，４４５号
に記載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガ
ル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開
始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの
複合開始系（特公昭４４−２０１８９号公報）、ヘキサ
アリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併
用系(特公昭４５−３７３７７号公報)、ヘキサアリール
ビイミダゾールとｐ−ジアルキルアミノベンジリデンケ
トンの系（特公昭４７−２５２８号公報、特開昭５４−
１５５２９２号公報）、環状シス−α−ジカルボニル化
合物と染料の系（特開昭４８−８４１８３号公報）、環
状トリアジンとメロシアニン色素の系（特開昭５４−１
５１０２４号公報）、３−ケトクマリンと活性剤の系
（特開昭５２−１１２６８１号公報、特開昭５８−１５
５０３号公報）、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チ
オールの系（特開昭５９−１４０２０３号公報）、有機
過酸化物と色素の系（特開昭５９−１５０４号公報、特
開昭５９−１４０２０３号公報、特開昭５９−１８９３
４０号公報、特開昭６２−１７４２０３号公報、特公昭
６２−１６４１号公報、米国特許第４７６６０５５
号）、染料と活性ハロゲン化合物の系（特開昭６３−１
７１８１０５号公報、特開昭６３−２５８９０３号公
報、特開平２−６３０５４号公報など）染料とボレート
化合物の系（特開昭６２−１４３０４４号公報、特開昭
６２−１５０２４２号公報、特開昭６４−１３１４０号
公報、特開昭６４−１３１４１号公報、特開昭６４−１
３１４２号公報、特開昭６４−１３１４３号公報、特開
昭６４−１３１４４号公報、特開昭６４−１７０４８号
公報、特開平１−２２９００３号公報、特開平１−２９
８３４８号公報、特開平１−１３８２０４号公報など）
ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系（特開
平２−１７９６４３号公報、特開平２−２４４０５０号
公報）、チタノセンと３−ケトクマリン色素の系（特開
昭６３−２２１１１０号公報）、チタノセンとキサンテ
ン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重
合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系（特
開平４−２２１９５８号公報、特開平４−２１９７５６
号公報）、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系
（特開平６−２９５０６１号公報）、チタノセンとベン
ゾピラン環を有する色素の系（特願平７−１６４５８３
号公報）等をあげることができる。

【０１００】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物１００重量部に対し、０．０５〜１０
０重量部、好ましくは０．１〜７０重量部、更に好まし
くは０．２〜５０重量部の範囲で用いることができる。

【０１０１】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て有機高分子重合体を含有するが、このような有機高分
子重合体としては、光重合可能なエチレン性不飽和化合
物と相溶性を有している有機高分子重合体である限り、
どれを使用してもかまわない。好ましくは水現像或いは
弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水
可溶性又は膨潤性である有機高分子重合体が選択され
る。有機高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤として
だけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤と
しての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性
有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この
様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を
有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、
特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７
号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２
３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０
４８号公報に記載されているもの、すなわち、メタクリ
ル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。

【０１０２】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で［ベンジル（メタ）アクリレー
ト／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー］共重合体及び［アリル（メタ）ア
クリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー］共重合体が好適である。こ
の他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドン
やポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和
させることができる。しかし９０重量％を超える場合に
は形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えな
い。好ましくは１０〜９０％、より好ましくは３０〜８
０％である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物
と有機高分子重合体は、重量比で１／９〜９／１の範囲
とするのが好ましい。より好ましい範囲は２／８〜８／
２であり、更に好ましくは３／７〜７／３である。

【０１０３】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、ｐ−
メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４,４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、２,２'−メチレンビス（４−メチル−６−
ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロ
キシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシルアミンアルミニウム塩等があげられる。熱重
合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０
１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素によ
る重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミド
のような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥
の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸
誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が
好ましい。

【０１０４】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料（Ｃ.Ｉ.Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：
３，１５：４,１５：６など)、アゾ系顔料、カーボンブ
ラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、
クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系
染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の添加量
は全組成物の約０．５％〜約２０％が好ましい。

【０１０５】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。

【０１０６】これらの添加量は全組成物の１０％以下が
好ましい。

【０１０７】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、エチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがる。これらの溶媒は、単独あるいは混合
して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形
分の濃度は、１〜５０重量％が適当である。

【０１０８】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
ある。

【０１０９】その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／
ｍ²〜約１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましく
は０．３〜５ｇ／ｍ²である。更に好ましくは０.５〜３
ｇ／ｍ²である。

【０１１０】［酸素遮断性保護層］本発明では、支持体
上に上記感光層を設けた後必要に応じて酸素遮断性保護
層をその上に設ける。この酸素遮断性保護層に含まれる
水溶性ビニル重合体としては、ポリビニルアルコール、
およびその部分エステル、エーテル、およびアセター
ル、またはそれらに必要な水溶性を有せしめるような実
質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するその共
重合体があげられる。ポリビニルアルコールとしては、
７１〜１００％加水分解され、重合度が３００〜２４０
０の範囲のものがあげられる。具体的には株式会社クラ
レ製ＰＶＡ−１０５，ＰＶＡ−１１０，ＰＶＡ−１１
７，ＰＶＡ−１１７Ｈ ＰＶＡ−１２０，ＰＶＡ−１２
４，ＰＶＡ−１２４Ｈ，ＰＶＡ−ＣＳ，ＰＶＡ−ＣＳ
Ｔ，ＰＶＡ−ＨＣ，ＰＶＡ−２０３，ＰＶＡ−２０４，
ＰＶＡ−２０５，ＰＶＡ−２１０，ＰＶＡ−２１７，Ｐ
ＶＡ−２２０,ＰＶＡ−２２４,ＰＶＡ−２１７ＥＥ,Ｐ
ＶＡ−２２０,ＰＶＡ−２２４，ＰＶＡ−２１７ＥＥ，
ＰＶＡ−２１７Ｅ,ＰＶＡ−２２０Ｅ,ＰＶＡ−２２４
Ｅ，ＰＶＡ−４０５，ＰＶＡ−４２０，ＰＶＡ−６１
３，Ｌ−８等があげられる。上記の共重合体としては、
８８〜１００％加水分解されたポリビニルアセテートク
ロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホル
マールおよびポリビニルアセタールおよびそれらの共重
合体があげられる。その他有用な重合体としてはポリビ
ニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴム、があげ
られ、これらは単独または、併用してもちいても良い。

【０１１１】本発明の酸素遮断性保護層を塗布する際用
いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エ
タノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして
塗布溶液中の固形分の濃度は１〜２０重量％が適当であ
る。

【０１１２】本発明の酸素遮断性保護層にはさらに塗布
性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良す
るための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。

【０１１３】水溶性の可塑剤としてはたとえばプロピオ
ンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソル
ビトール等がある。また、水溶性の（メタ）アクリル系
ポリマーなどを添加しても良い。

【０１１４】その被服量は乾燥後の重量で約０．１／ｍ
²〜約１５／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは
１．０／ｍ²〜約５．０／ｍ²である。

【０１１５】かくして得られた感光性平版印刷版は、Ａ
ｒレーザー、半導体レーザーの第２高調波（ＳＨＧ−Ｌ
Ｄ、３５０〜６００ｎｍ）、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザーに
より直接露光された後、現像処理される。

【０１１６】かかる現像処理に使用される現像液として
は従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。
例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同ア
ンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機ア
ルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメ
チルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルア
ミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミ
ン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパ
ノールアン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤
も用いられる。

【０１１７】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。

【０１１８】上記のアルカリ水溶液の内、本発明による
効果が一段と発揮される現像液はアルカリ金属ケイ酸塩
を含有するｐＨ１２以上の水溶液である。アルカリ金属
ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素Ｓ
ｉＯ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂Ｏの比率(一般に［Ｓｉ
Ｏ₂］／［Ｍ₂Ｏ］のモル比で表す）と濃度によって現像
性の調節が可能であり、例えば、特開昭５４−６２００
４号公報に開示されているような、ＳｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏの
モル比が１．０〜１．５（即ち［ＳｉＯ₂］／［Ｎａ
₂Ｏ］が１.０〜１.５であって、ＳｉＯ₂の含有量が１〜
４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭５７−
７４２７号公報に記載されているような、［ＳｉＯ₂］
／［Ｍ］が０.５〜０.７５（即ち［ＳｉＯ₂］／［Ｍ
₂Ｏ］が１.０〜１.５）であって、ＳｉＯ₂の濃度が１〜
４重量％であり、かつ該現像液がその中に存在する全ア
ルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも２０％
のカリウムを含有していることとからなるアルカリ金属
ケイ酸塩が好適に用いられる。

【０１１９】更に、自動現像機を用いて、該感光性平版
印刷版を現像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の
高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、
長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量の
感光性平版印刷版を処理することができることが知られ
ている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用
される。例えば、特開昭５４−６２００４号公報に開示
されているような現像液の［ＳｉＯ₂］／［Ｎａ₂Ｏ］の
モル比が１．０〜１．５（即ち［ＳｉＯ₂］／［Ｎａ
₂Ｏ］が１.０〜１.５）であって、ＳｉＯ₂の含有量が１
〜４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、しか
もポジ型感光性平版印刷版の処理量に応じて連続的また
は断続的にＳｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモル比が０.５〜１.５
（即ち［ＳｉＯ₂］／［Ｎａ₂Ｏ］が０．５〜１．５）の
ケイ酸ナトリウム水溶液（補充液）を現像液に加える方
法、更には、特公昭５７−７４２７号公報に開示されて
いる、［ＳｉＯ₂］／［Ｍ］が０.５〜０.７５(即ち、
［ＳｉＯ₂］／［Ｍ₂Ｏ］が１．０〜１．５）であって、
ＳｉＯ₂の濃度が１〜４重量％であるアルカリ金属ケイ
酸塩の現像液を用い、補充液として用いるアルカリ金属
ケイ酸塩の［ＳｉＯ₂］／［Ｍ］が０．２５〜０．７５
（即ち［ＳｉＯ₂］／［Ｍ₂Ｏ］が０．５〜１．５）であ
り、かつ該現像液および該補充液のいずれもがその中に
存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少な
くとも２０％のカリウムを含有していることとからなる
現像方法が好適に用いられる。

【０１２０】このようにして現像処理された感光性平版
印刷版は特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４
５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されてい
るように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、
アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理
される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれら
の処理を種々組み合わせて用いることができる。

【０１２１】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用い
られる。

【０１２２】印刷時、版上の汚れ除去のため使用すプレ
ートクレーナーとしては、従来より知られているＰＳ版
用プレートクレーナーが使用され、例えば、ＣＬ−１，
ＣＬ−２，ＣＰ，ＣＮ−４，ＣＧ−１，ＰＣ−１，Ｓ
Ｒ，ＩＣ，（富士写真フイルム株式会社製）等があげら
れる。

【０１２３】以下実施例をもって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【０１２４】

【実施例】厚さ０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム
板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのパミストン
の水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水
で洗浄した。１０％水酸化ナトリウム水溶液に７０℃で
６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、２
０％硝酸水溶液で中和洗浄、水洗した。これをＶＡ＝１
２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％
硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ²の陽極時電気量
で電解粗面化処理を行った。 その表面粗さを測定した
ところ０．４５μ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて
３０％の硝酸水溶液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマ
ットした後、第一段階および第二段階の陽極酸化処理を
（表１）のようにおこなった。

【０１２５】次に下記の手順によりＳＧ法の液状組成物
（ゾル液）を調整した。

【０１２６】ビーカーに下記組成物を秤量し、２５℃で
２０分間攪拌した。 Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄ ３８ｇ ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン １３ｇ ８５％リン酸水溶液 １２ｇ イオン交換水 １５ｇ メタノール １００ｇ

【０１２７】その溶液を三口フラスコに移し、還流冷却
器を取り付け三口フラスコを室温のオイルバスに浸し
た。三口フラスコの内容物をマグネティックスターラー
で攪拌しながら、３０分間で５０℃まで上昇させた。浴
温を５０℃に保ったまま、更に１時間反応させ液水組成
物（ゾル液）を得た。

【０１２８】このゾル液をメタノール／エチレングリコ
ール＝２０／１（重量比）で０．５重量％になるように
希釈してアルミニウム板にホイラー塗布し、１００℃１
分間乾燥させた。その時の塗布量は４ｍｇ／ｍ²であた
あ。この塗布量もケイ光Ｘ線分析法によりＳｉ元素量を
求め、それを塗布量とした。

【０１２９】このように処理されたアルミニウム板上
に、下記組成の高感度光重合性組成物１を乾燥塗布重量
が１.５／ｍ²となるように塗布し、１００℃で１分間乾
燥させ、感光層を形成した。

【０１３０】 光重合成組成物１ テトラメチロールメタンテトラアクリレート １．５ｇ 線状有機高分子重合体（Ｂ１） ２．０ｇ

【化２】 増感剤（Ｃ１） ０．１５ｇ

【化３】 （λｍａｘＴＨＦ ４７９ｎｍ，ε＝６．９×１０⁴） 光開始剤（Ｄ１） ０．２ｇ

【化４】 ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７(Ｅ１)(Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製) ０.４ｇ

【化５】 ε−フタロシアニン／（Ｂ１）分散物 ０．２ｇ フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックＦ１７７ ０．０３ｇ （大日本インキ化学工業（株）製） メチルエチルケトン ９．０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７．５ｇ トルエン １１．０ｇ

【０１３１】この感光層上にポリビニルアルコール（ケ
ン化度９８モル％、重合度５００）の３重量％の水溶液
を乾燥塗布重量が２.５ｇ／ｍ²となるように塗布し、１
２０℃で３分間乾燥させ、光重合性平版印刷版を得た。

【０１３２】これらの版をオプトロニクス社製ＸＬＰ４
０００（Ａｒレーザー７５ｍＷ、４８８ｎｍ)を用い種
々のエネルギーで、４０００ｄｐｉ １７５線／インチ
の条件で１％きざみで１〜９９％をそれぞれ２個所づつ
露光した。その後１２０℃に２０秒間さらし、後加熱処
理を施した。

【０１３３】現像は、下記の現像液に２５℃で、３０秒
間浸漬して行った。 （現像液） １Ｋケイ酸カリウム ３０ｇ 水酸化カリウム １５ｇ 下記化合物 ３ｇ

【化６】 水 １０００ｇ

【０１３４】次にＧＵ−７（富士写真フイルム（株）
製）ガム液を水で２倍に希釈し版面を処理した。

【０１３５】印刷評価には印刷機としてハイデルベルグ
社製ＳＯＲＫＺを使用し、インキとしては、大日本イン
キ社製クラフＧ（Ｎ）を使用した。プレートクレーナー
としては、酸性のＰＳプレートクレーナーＣＬ−２(富
士写真フイルム(株)製)を用いた。印刷スタートから５
０００枚目にＣＬ−２を印刷用スポンジにしみこませ、
網点部をふき版面のインキを洗浄した。その後１０,０
００枚毎に１９５,０００枚目まで同様にＣＬ−２で版
面のインキを洗浄し、１５０，０００枚印刷した。得ら
れた印刷物上でハイライトの再現性を目視評価した。各
サンプルそ同様に露光現像し印刷し、非画像部の汚れ
（インキ払い）性も目視評価した。また、印刷版支持体
の重量変化から陽極酸化皮膜の溶解量を算出し、一方、
マイクロポアのポア径は、日立製作所製走査電子顕微鏡
Ｓ−９００にて加速電圧１２ＫＶ、蒸着無しの条件で、
陽極酸化皮膜の破談面を観察しマイクロポアの平均ポア
径を求めた。以上の結果を表１に示す。

【０１３６】

【表１】

【０１３７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
感光層と支持体とが強固に密着し、高感度で酸性のプレ
ートクリーナーで版面のインキを除去しても又多量の印
刷を行ってもハイライトが飛ばず、シャドー再現性にも
優れ、耐刷性があり、強制的に経時させても汚れないレ
ーザー書き込み可能な光重合性平版印刷版を提供するこ
とができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粗面化したアルミニウム板を第一段階と
   して陽極酸化処理した後、第二段階として第一段階の陽
   極酸化皮膜のマイクロポアよりもポア径が小さくなる条
   件にて再び陽極酸化処理することを特徴とする平版印刷
   版用支持体の製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、第一段階の陽極酸化
   皮膜量が第二段階の陽極酸化皮膜量よりも同等量以下で
   あることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。
3. 【請求項３】 請求項２において、第一段階の陽極酸化
   処理が硫酸浴によるものであり、第一段階の陽極酸化皮
   膜をアルカリ水溶液で処理することによって溶解し該皮
   膜に存在するマイクロポアを拡げた後、第二段階の陽極
   酸化処理を硫酸浴によって行うことを特徴とする平版印
   刷版用支持体の製造方法。
4. 【請求項４】 請求項２において、第一段階の陽極酸化
   処理が燐酸浴又は蓚酸浴によるものであり、第二段階の
   陽極酸化処理が硫酸浴によるものであることを特徴とす
   る平版印刷版用支持体の製造方法。
5. 【請求項５】 平版印刷版用支持体が光重合組成物を感
   光層として積層されるものである請求項１、２、３又は
   ４記載の平版印刷版用支持体の製造方法。