JPH11284277A - Device and method for manufacturing laser diode - Google Patents

Device and method for manufacturing laser diode

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JPH11284277A
JPH11284277A JP8163398A JP8163398A JPH11284277A JP H11284277 A JPH11284277 A JP H11284277A JP 8163398 A JP8163398 A JP 8163398A JP 8163398 A JP8163398 A JP 8163398A JP H11284277 A JPH11284277 A JP H11284277A
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JP
Japan
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laser diode
cleavage
chip
bar
recognizing
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Application number
JP8163398A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Koizumi
洋 小泉
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and method for manufacturing a laser diode by which the spree factor is reduced by intensively arranging a series of devices from storage of laser diode bars to storage of laser diode chips, workability is improved by automating all operations and reliability of cleavage and productivity are improved. SOLUTION: The manufacturing device is comprised of a cleavage groove- forming unit 1 provided with a flat ring 6 for aligning and supporting multiple laser diode bars R in wafer form and a cleavage groove forming part 7 for forming cleavage grooves M on the laser diode bars at specified intervals, a cleaving unit 2 provided with a cleaving mechanism 8 for cutting the laser diode bars along the cleavage grooves into laser diode chips P, and a chip storing unit 3 provided with a chip transferring part 9 for taking out and transferring the laser diode chips and a tray 10 for storing the chips.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、バー状に形成され
るレーザダイオードをへき開してレーザダイオードチッ
プを得るレーザダイオードの製造装置および製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser diode manufacturing apparatus and method for cleaving a bar-shaped laser diode to obtain a laser diode chip.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザダイオードは、DVDやCD- R
OMドライバの光ピックアップヘッドなどに使用される
デバイスである。たとえば、600μm×300μm×
100μmの大きさに形成されており、波長650nm
で赤色可視光レーザを発光する。
2. Description of the Related Art Laser diodes are used for DVDs and CD-Rs.
This is a device used for an optical pickup head of an OM driver. For example, 600 μm × 300 μm ×
It is formed in a size of 100 μm and has a wavelength of 650 nm.
Emits a red visible light laser.

【0003】このレーザダイオードは、ガリウム砒素材
料からなる。図13に示すように、はじめ所定の直径の
円形ウエハWに形成されていて、これから、幅a:0.
6〜0.8mm、長さb:10〜25mm、厚さt:0.1
mmのレーザダイオードバーR(以下、LDバーと呼ぶ)
に加工される。
This laser diode is made of a gallium arsenide material. As shown in FIG. 13, first, a circular wafer W having a predetermined diameter is formed.
6 to 0.8 mm, length b: 10 to 25 mm, thickness t: 0.1
mm laser diode bar R (hereinafter referred to as LD bar)
Processed into

【0004】そして、このLDバーRに対して後述する
へき開加工をなすことで、先に説明した大きさのレーザ
ダイオードチップPを得られるようになっている。
The laser diode chip P having the above-described size can be obtained by subjecting the LD bar R to cleavage processing described later.

【0005】LDバーRをへき開加工してレーザダイオ
ードチップPを得るレーザダイオード製造装置として、
LDバーRをガラス板上に載置し、このLDバーRに対
して先端が鋭角状に形成されるへき開カッタを当てて切
断する装置である。
[0005] As a laser diode manufacturing apparatus for obtaining a laser diode chip P by cleaving the LD bar R,
This is a device in which the LD bar R is placed on a glass plate, and the LD bar R is cut by applying a cleavage cutter having a sharp tip to the LD bar R.

【0006】LDバーを構成するガリウム砒素材は脆性
材料であるため、バーの上下面全体に亘ってカッタを入
れる必要がなく、バーの厚さに対してわずかにカッタの
刃先を入れるだけで脆性材特有のへき開現象が生じてチ
ップを得られる。
[0006] Since the gallium arsenide material constituting the LD bar is a brittle material, it is not necessary to insert a cutter over the entire upper and lower surfaces of the bar. Cleaving phenomenon peculiar to the material occurs and a chip can be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は、図
14に示すようなレーザダイオード製造装置によってレ
ーザダイオードチップが加工されている。
Conventionally, a laser diode chip is processed by a laser diode manufacturing apparatus as shown in FIG.

【0008】すなわち、このレーザダイオード製造装置
は、レーザダイオードバーの、それぞれ一面に所定間隔
を存してへき開溝を形成するへき開溝形成装置と、これ
らレーザダイオードバーのへき開溝に沿ってカッタの刃
先を挿入しへき開加工である切断をなすへき開装置と、
得られたレーザダイオードチップを収容するチップ移載
機とから構成される。
That is, this laser diode manufacturing apparatus comprises a cleavage groove forming apparatus for forming cleavage grooves at predetermined intervals on one surface of a laser diode bar, and a cutting edge of a cutter along the cleavage grooves of the laser diode bar. A cleaving device that inserts and performs a cleaving process,
And a chip transfer device for accommodating the obtained laser diode chip.

【0009】各構成装置は、同図で示すような大きさ
(単位:mm)があり、かつ各装置間に作業者が入って
加工されたレーザダイオードバーもしくはレーザダイオ
ードチップを支持する手段であるフラットリングを搬送
するようになっている。
Each component device has a size (unit: mm) as shown in FIG. 1 and is means for supporting a laser diode bar or a laser diode chip processed by an operator between the devices. It is designed to transport flat rings.

【0010】したがって、装置全体としては極めて広い
占有面積を必要とするとともに、各装置にフラットリン
グをセットするのに長時間を要するので作業性が悪い。
しかも、作業者が錯誤によりフラットリングをセットミ
スする恐れもあり、生産性および信頼性低下の要因とな
っている。
Therefore, the entire apparatus requires an extremely large occupied area, and it takes a long time to set a flat ring in each apparatus, so that workability is poor.
In addition, there is a risk that the operator may mistakenly set the flat ring due to mistakes, which causes a reduction in productivity and reliability.

【0011】本発明は上記事情に着目してなされたもの
であり、その目的とするところは、レーザダイオードバ
ーの収納からレーザダイオードチップの収納に至るまで
の一連の装置を集約して占有スペースの低減をなすとと
もに、全ての作業を自動化して作業性の向上を図り、へ
き開加工の信頼性と生産性の向上に繋がるレーザダイオ
ードの製造装置および製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to integrate a series of devices from housing a laser diode bar to housing a laser diode chip to reduce the occupied space. It is an object of the present invention to provide a laser diode manufacturing apparatus and a manufacturing method that reduce the number of times and automate all operations to improve workability, thereby improving the reliability and productivity of cleavage processing.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を満足するため
に、第1の発明のレーザダイオードの製造装置は、請求
項1として、ウエハから分割されたレーザダイオードバ
ーに所定間隔を存してへき開溝を設ける機能を備えたへ
き開溝形成ユニットと、このへき開溝形成ユニットによ
って形成されたへき開溝に沿ってレーザダイオードバー
を切断してレーザダイオードチップを得る機能を備えた
へき開ユニットと、このへき開ユニットによって得られ
るレーザダイオードチップを取出して収納する機能を備
えたチップ収納ユニットとを具備したことを特徴とす
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a laser diode manufacturing apparatus which cleaves a laser diode bar separated from a wafer at a predetermined interval. A cleavage groove forming unit having a function of providing a groove, a cleavage unit having a function of obtaining a laser diode chip by cutting a laser diode bar along the cleavage groove formed by the cleavage groove forming unit, and a cleavage unit And a chip storage unit having a function of taking out and storing the laser diode chip obtained by the method.

【0013】請求項2として、請求項1記載のレーザダ
イオードの製造装置において上記へき開溝形成ユニット
は、複数のレーザダイオードバーを整列して支持する支
持手段およびこの支持手段に収容されるレーザダイオー
ドバーに対して所定間隔を存してへき開溝を設けるへき
開溝形成手段を備え、上記へき開ユニットは、へき開溝
が形成されたレーザダイオードバーを整列して支持する
支持手段およびへき開溝に沿ってレーザダイオードバー
をへき開してレーザダイオードチップにするへき開手段
を備え、上記チップ収納ユニットは、支持手段上のレー
ザダイオードチップを取出して搬送するチップ搬送手段
および取出されたチップを収容する収納手段を備えたこ
とを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the apparatus for manufacturing a laser diode according to the first aspect, the cleavage groove forming unit includes a support means for aligning and supporting a plurality of laser diode bars and a laser diode bar housed in the support means. A cleavage groove forming means for providing a cleavage groove at a predetermined interval with respect to the cleavage groove unit, wherein the cleavage unit comprises: a supporting means for aligning and supporting the laser diode bar having the cleavage groove formed therein; and a laser diode along the cleavage groove. Cleaving means for cleaving the bar to form a laser diode chip, wherein the chip storage unit includes a chip transfer means for taking out and transferring the laser diode chip on the support means, and a storage means for housing the taken out chip. It is characterized by.

【0014】請求項3として、請求項2記載のレーザダ
イオードの製造装置において上記支持手段は、粘着シー
トが敷設されレーザダイオードバーを粘着支持するフラ
ットリングであることを特徴とする。
According to a third aspect, in the laser diode manufacturing apparatus according to the second aspect, the supporting means is a flat ring on which an adhesive sheet is laid and which adhesively supports the laser diode bar.

【0015】請求項4として、請求項2記載のレーザダ
イオードの製造装置において上記レーザダイオードバー
は、その一面がAu膜形成面であり、他面がAu−Sn
膜形成面であって、上記Au−Sn膜形成面を接地面と
して上記支持手段に支持され、上記へき開溝形成ユニッ
トは、レーザダイオードバーの上記Au−Sn膜形成面
を認識して、上記へき開溝形成手段に対するへき開溝形
成位置を設定する第1の認識手段を備えたことを特徴と
する。
According to a fourth aspect of the present invention, in the laser diode manufacturing apparatus according to the second aspect, the laser diode bar has one surface formed with an Au film and the other surface formed with Au-Sn.
The Au-Sn film-forming surface is supported by the support means with the Au-Sn film-forming surface as a ground surface. The cleavage groove forming unit recognizes the Au-Sn film-forming surface of the laser diode bar and performs the cleavage. A first recognition means for setting a cleavage groove forming position with respect to the groove forming means is provided.

【0016】請求項5として、請求項2記載のレーザダ
イオードの製造装置において上記へき開ユニットは、レ
ーザダイオードバーに形成された上記へき開溝を認識し
て、上記へき開手段に対するへき開加工位置を設定する
第2の認識手段を備えたことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the laser diode manufacturing apparatus according to the second aspect, the cleavage unit recognizes the cleavage groove formed in the laser diode bar and sets a cleavage processing position for the cleavage means. 2 is provided.

【0017】請求項6として、請求項2記載のレーザダ
イオードの製造装置において上記チップ収納ユニット
は、支持手段上のレーザダイオードチップを認識して、
上記チップ搬送手段に対するチップ位置を設定する第3
の認識手段を備えたことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the laser diode manufacturing apparatus according to the second aspect, the chip storage unit recognizes the laser diode chip on the support means,
Third to set the chip position with respect to the chip transport means
Is provided.

【0018】上記目的を満足するために、第2の発明の
レーザダイオードの製造装置は、請求項7として、その
一面がAu膜形成面であり、他面がAu−Sn膜形成面
に形成されるレーザダイオードバーをAu−Sn膜形成
面を接地面として支持する支持手段と、この支持手段に
支持されるレーザダイオードバーのAu−Sn膜形成面
を認識する第1の認識手段と、この第1の認識手段の信
号にもとづいてレーザダイオードバーのAu膜形成面に
所定間隔を存してへき開溝を設けるへき開溝形成手段
と、このへき開溝形成手段により形成された上記へき開
溝を認識する第2の認識手段と、この第2の認識手段の
信号にもとづいてレーザダイオードバーのへき開溝に沿
ってへき開しレーザダイオードチップを得るへき開手段
と、このレーザダイオードチップを認識する第3の認識
手段と、この第3の認識手段の信号にもとづいてレーザ
ダイオードチップを支持手段から取出してトレイに収容
するチップ搬送手段とを具備したことを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a laser diode, wherein one surface is an Au film forming surface and the other surface is an Au-Sn film forming surface. Means for supporting the laser diode bar with the Au-Sn film forming surface as a ground plane, first recognition means for recognizing the Au-Sn film forming surface of the laser diode bar supported by the supporting means, and A cleavage groove forming means for providing cleavage grooves at predetermined intervals on the Au film forming surface of the laser diode bar based on a signal of the recognition means of (1), and a cleavage groove formed by the cleavage groove forming means for recognizing the cleavage groove. A laser diode chip which is cleaved along a cleavage groove of a laser diode bar based on a signal from the second recognition means to obtain a laser diode chip; And third recognizing means for recognizing a Dochippu, characterized by comprising a chip conveying means for accommodating the tray is taken out of the laser diode chip from the support means on the basis of the signal of the third recognition unit.

【0019】上記目的を満足するために、第3の発明の
レーザダイオードの製造方法は、請求項8として、その
一面がAu膜形成面であり、他面がAu−Sn膜形成面
に形成されるウエハ状のレーザダイオードバーを、Au
−Sn膜形成面を接地面として支持する支持手段と、こ
の支持手段に支持されるレーザダイオードバーのAu−
Sn膜形成面のへき開線を認識する第1の認識手段と、
この第1の認識手段の信号にもとづいて上記支持手段を
移動し、位置を設定する第1の位置調整手段と、この第
1の位置調整手段によって位置調整された上記支持手段
上のレーザダイオードバーに対し、このAu膜形成面に
所定間隔を存してへき開溝を設けるへき開溝形成手段
と、へき開溝が形成されたレーザダイオードバーを支持
する上記支持手段を所定位置へ搬送する搬送手段と、所
定位置における上記支持手段上のレーザダイオードバー
へき開溝を認識する第2の認識手段と、この第2の認識
手段の信号にもとづいて上記支持手段を移動し、位置を
調整する第2の位置調整手段と、この第2の位置調整手
段によって位置調整された上記支持手段上のレーザダイ
オードバーへき開溝に沿ってへき開しレーザダイオード
チップを得るへき開手段と、このレーザダイオードチッ
プを支持する上記支持手段を所定位置へ搬送する搬送手
段と、所定位置における上記支持手段上のレーザダイオ
ードチップを認識する第3の認識手段と、この第3の認
識手段の信号にもとづいてレーザダイオードチップを上
記支持手段から取出してトレイに収容するチップ搬送手
段とを具備したことを特徴とする。
In order to satisfy the above object, a method of manufacturing a laser diode according to a third aspect of the present invention is characterized in that, as claim 8, one surface is an Au film forming surface and the other surface is an Au—Sn film forming surface. The wafer-shaped laser diode bar is Au
A supporting means for supporting the Sn film forming surface as a ground plane, and an Au- of a laser diode bar supported by the supporting means;
First recognition means for recognizing a cleavage line on the Sn film forming surface;
A first position adjusting means for moving and setting the position of the supporting means based on a signal from the first recognizing means; and a laser diode bar on the supporting means adjusted in position by the first position adjusting means. On the other hand, a cleavage groove forming means for providing cleavage grooves at predetermined intervals on the Au film formation surface, a transportation means for transporting the support means for supporting the laser diode bar having the cleavage grooves to a predetermined position, Second recognition means for recognizing the cleavage of the laser diode bar on the support means at a predetermined position, and second position adjustment for moving the support means and adjusting the position based on a signal from the second recognition means. Means for cleaving along the cleavage groove of the laser diode bar on the support means, the cleaved groove being obtained by the second position adjustment means to obtain a laser diode chip. Step, transport means for transporting the support means supporting the laser diode chip to a predetermined position, third recognition means for recognizing the laser diode chip on the support means at a predetermined position, and third recognition means And a chip conveying means for taking out the laser diode chip from the supporting means based on the signal and storing the chip in a tray.

【0020】上記目的を満足するために、第4の発明の
レーザダイオードの製造方法は、請求項9として、ウエ
ハから分割されたレーザダイオードバーに対し所定間隔
を存してへき開溝を設ける工程と、形成されたレーザダ
イオードバーのへき開溝に沿ってへき開する工程と、へ
き開されたレーザダイオードチップを取出して収納する
工程とを具備したことを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a laser diode, comprising the steps of: forming a cleavage groove at a predetermined interval in a laser diode bar divided from a wafer; And a step of cleaving along the cleaved groove of the formed laser diode bar, and a step of taking out and storing the cleaved laser diode chip.

【0021】上記目的を満足するために、第5の発明の
レーザダイオードの製造方法は、請求項10として、A
u膜形成面を接地面として収納されるレーザダイオード
バーのAu- Sn膜形成面を認識する工程と、この認識
結果にもとづいて上記レーザダイオードバーのAu- S
n膜形成面にてへき開溝を設ける工程と、レーザダイオ
ードバーに形成された上記へき開溝を認識する工程と、
この認識結果にもとづいてレーザダイオードバーのへき
開溝に沿ってへき開しレーザダイオードチップを得る工
程と、このレーザダイオードチップを認識する工程と、
この認識結果にもとづいてレーザダイオードチップを取
出してトレイに収納する工程とを具備したことを特徴と
する。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a laser diode, wherein
a step of recognizing the Au-Sn film forming surface of the laser diode bar housed with the u film forming surface as a ground plane, and based on the recognition result, the Au-Sn of the laser diode bar.
providing a cleavage groove on the n-film formation surface, and recognizing the cleavage groove formed on the laser diode bar;
A step of cleaving along a cleavage groove of the laser diode bar based on the recognition result to obtain a laser diode chip, and a step of recognizing the laser diode chip;
Taking out the laser diode chip based on the recognition result and storing it in a tray.

【0022】このような課題を解決する手段を採用する
ことにより、第1の発明ないし第110の発明によれ
ば、レーザダイオードバーの収納からレーザダイオード
チップの収納に至るまでの一連の装置が集約されて占有
スペースが低減するとともに、全ての作業が自動化され
て作業性とへき開加工の信頼性が向上する。
According to the first to the eleventh aspects of the present invention, a series of devices from the storage of the laser diode bar to the storage of the laser diode chip are integrated by employing the means for solving the above problems. As a result, the occupied space is reduced, and all operations are automated, thereby improving workability and reliability of the cleavage processing.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ第1の発
明ないし第6の発明に係わる一実施の形態について説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment according to the first to sixth inventions will be described below with reference to the drawings.

【0024】図1は、レーザダイオード製造装置を示
す。
FIG. 1 shows a laser diode manufacturing apparatus.

【0025】この装置は、レーザダイオード(以下、L
Dと呼ぶ)バーに所定間隔を存してへき開溝を設けるへ
き開溝形成ユニット1と、このへき開溝形成ユニット1
によって形成されたへき開溝に沿ってLDバーをへき開
(切断)してレーザダイオードチップ(以下、LDチッ
プと呼ぶ)を得るへき開ユニット2と、このへき開ユニ
ット2によって得られるLDチップを取出して収納する
チップ収納ユニット3および、電源スイッチなどを備え
た操作盤やモニタなどからなる電装部4とが一体に構成
されている。(なお、LDバーと、へき開溝およびLD
チップについては後述する)上記へき開溝形成ユニット
1は、複数のLDバーを整列して支持する支持手段であ
るところのフラットリング6およびこのフラットリング
6に収容されるLDバーに対して所定間隔を存してへき
開溝を設けるへき開溝形成手段であるへき開溝形成部7
を備えている。
This device uses a laser diode (hereinafter referred to as L
C) A cleavage groove forming unit 1 for providing cleavage grooves at predetermined intervals in a bar, and a cleavage groove forming unit 1
A cleavage unit 2 for cleaving (cutting) the LD bar along the cleavage groove formed by the above to obtain a laser diode chip (hereinafter referred to as an LD chip), and taking out and storing the LD chip obtained by the cleavage unit 2. The chip storage unit 3 and the electrical unit 4 including an operation panel and a monitor provided with a power switch and the like are integrally formed. (Note that the LD bar, cleavage groove and LD
The cleavage groove forming unit 1 is provided with a predetermined interval with respect to the flat ring 6 which is a support means for aligning and supporting a plurality of LD bars and the LD bars accommodated in the flat ring 6. Cleaved groove forming section 7 which is a cleaved groove forming means for providing a cleaved groove
It has.

【0026】上記へき開ユニット2は、へき開溝が形成
されたLDバーを整列して支持するフラットリング6お
よびへき開溝に沿ってLDバーを切断してLDチップに
するへき開手段であるへき開機構部8を備えている。
The cleavage unit 2 includes a flat ring 6 for aligning and supporting the LD bar having the cleavage groove formed therein, and a cleavage mechanism 8 as a cleavage means for cutting the LD bar along the cleavage groove to form an LD chip. It has.

【0027】上記チップ収納ユニット3は、フラットリ
ング6上のLDチップを取出すチップ搬送手段であるチ
ップ搬送部9および取出されたLDチップを収容するチ
ップ収納手段であるトレイ10を備えている。
The chip storage unit 3 includes a chip transfer section 9 as chip transfer means for picking up LD chips on the flat ring 6 and a tray 10 as chip storage means for storing the picked-up LD chips.

【0028】なお、それぞれのユニット1〜3における
フラットリング6はすべて同一のものであり、各ユニッ
ト間に亘って設けられるフラットリング搬送手段である
フラットリング搬送部11によって順次搬送されるよう
になっている。
The flat rings 6 in each of the units 1 to 3 are all the same, and are sequentially conveyed by a flat ring conveying unit 11 which is a flat ring conveying means provided between the units. ing.

【0029】また、へき開溝形成ユニット1には、第1
の認識手段であるLDバー認識部12が配置され、へき
開ユニット2には第2の認識手段であるへき開溝認識部
13が配置され、チップ収納ユニット3には第3の認識
手段であるLDチップ認識部14が配置される。
The cleavage groove forming unit 1 has the first
The cleavage unit 2 is provided with a cleavage groove recognition unit 13 serving as a second recognition unit, and the chip storage unit 3 is provided with an LD chip serving as a third recognition unit. A recognition unit 14 is provided.

【0030】以下、各ユニットの詳細を別図にもとづい
て説明する。
The details of each unit will be described below with reference to another drawing.

【0031】図3および図4は、へき開溝形成ユニット
1の詳細である。
FIGS. 3 and 4 show details of the cleavage groove forming unit 1.

【0032】フラットリング6はフラットリングホルダ
15に支持されているとともに、その上面周端に沿って
二分割されたリング押え17によって固定保持されてい
る。また、フラットリング6は周端部を除いて透明な粘
着シートから構成されていて、ここに縦横整列状態で複
数のLDバーRが載置されている。
The flat ring 6 is supported by a flat ring holder 15 and fixedly held by a ring holder 17 divided into two along the peripheral edge of the upper surface. The flat ring 6 is formed of a transparent pressure-sensitive adhesive sheet except for a peripheral end portion, and a plurality of LD bars R are placed on the flat ring 6 in a vertically and horizontally aligned state.

【0033】このようなフラットリング6は第1の位置
調整手段をなすX軸18aとY軸18bとからなるフラ
ットリング移載軸部18に支持されていて、フラットリ
ング全体をX方向とY方向に位置調整するようになって
いる。
Such a flat ring 6 is supported by a flat ring transfer shaft portion 18 composed of an X axis 18a and a Y axis 18b serving as first position adjusting means, and the entire flat ring is moved in the X and Y directions. Position adjustment.

【0034】また、フラットリング6の下方部位にはフ
ラットリング押えデバイス19が配置される一方、フラ
ットリング6の上方部位にはZ軸をなすスクライバ駆動
デバイス20に支持されたスクライバ21が配置されて
いて、後述するようにLDバーRにへき開溝を形成する
ようになっている。
A flat ring holding device 19 is arranged below the flat ring 6, while a scriber 21 supported by a scriber driving device 20 forming the Z axis is arranged above the flat ring 6. Thus, a cleavage groove is formed in the LD bar R as described later.

【0035】フラットリングの下方部位に配置される上
記LDバー認識部12は、そのレンズ面をフラットリン
グ6を介してLDバーRに向けており、LDバーRを高
倍率に拡大し映像を取り込む認識用顕微鏡22と、この
顕微鏡22に取り込まれたLDバーRの映像を画像とし
て処理する画像処理ユニット23と、顕微鏡22とは光
ファイバ24を介して連通されLDバーRの映像を取り
込む際に用いられる照明装置25で構成されている。
The LD bar recognition section 12 disposed below the flat ring has its lens surface directed to the LD bar R via the flat ring 6, and enlarges the LD bar R at a high magnification to capture an image. The microscope 22 for recognition, the image processing unit 23 for processing the image of the LD bar R captured by the microscope 22 as an image, and the microscope 22 are communicated via the optical fiber 24 to capture the image of the LD bar R. The lighting device 25 is used.

【0036】なお、LDバーRは、図15に示すよう
に、その表面がAu膜蒸着面( 以下、Au面と称する)
となっていて、裏面がAu−Sn膜蒸着面( 以下、Au
−Sn面と称する) に形成される。
As shown in FIG. 15, the surface of the LD bar R has an Au film deposition surface (hereinafter referred to as an Au surface).
And the back surface is an Au-Sn film deposition surface (hereinafter referred to as Au).
-Sn plane).

【0037】Au−Sn面には所定間隔を存して複数の
へき開線H(Au−Sn面をエッチングして露出させた
Ga−As(ガリウム砒素) で形成される)が描かれてい
る。このへき開線Hは、LDバーRの長手方向に0.3
mmピッチでかつ0.1mm幅で描かれていて、へき開
線H相互間の幅寸法は0.2mmになる。
On the Au-Sn surface, a plurality of cleavage lines H (formed of Ga-As (gallium arsenide) exposed by etching the Au-Sn surface) are drawn at predetermined intervals. The cleavage line H is 0.3 mm in the longitudinal direction of the LD bar R.
It is drawn at a pitch of 0.1 mm and a width of 0.1 mm, and the width between cleavage lines H is 0.2 mm.

【0038】LDバーRは、ベース面( 接地面) として
フラットリング6に支持されるところから、上記顕微鏡
22はLDバーRのAu−Sn面を認識する。すなわ
ち、認識用顕微鏡22はAu−Sn面に描かれるへき開
線Hを下部側から認識することになる。
Since the LD bar R is supported by the flat ring 6 as a base surface (ground surface), the microscope 22 recognizes the Au-Sn surface of the LD bar R. That is, the recognition microscope 22 recognizes the cleavage line H drawn on the Au-Sn surface from below.

【0039】図5は、上記へき開形成ユニット2の詳細
である。
FIG. 5 shows the details of the cleavage forming unit 2.

【0040】フラットリング6は、先に説明したものと
全く同一であるので、ここでは同番号を付して新たな説
明は省略する。
Since the flat ring 6 is exactly the same as that described above, the same numbers are given here and a new description is omitted.

【0041】このフラットリング6は、第2の位置調整
手段をなすX軸26aとY軸26bとからなるフラット
リング移載軸部26に支持されていて、フラットリング
6をX方向とY方向に位置調整するようになっている。
The flat ring 6 is supported by a flat ring transfer shaft portion 26 composed of an X axis 26a and a Y axis 26b serving as second position adjusting means, and moves the flat ring 6 in the X and Y directions. The position is adjusted.

【0042】また、フラットリング6の下方部位には上
記へき開機構部8が配置されていて、Z軸をなすカッタ
駆動機構27に支持された、たとえばダイヤモンド材や
セラミック微粒子超硬材からなるカッタKが対向して配
置されている。後述するように、LDバーRのへき開溝
と対向する部位にカッタKを押し当てることにより、L
DバーRを切断(へき開)するようになっている。
The cleavage mechanism 8 is disposed below the flat ring 6, and is supported by a cutter driving mechanism 27 forming the Z-axis. Are arranged facing each other. As described later, the cutter K is pressed against a portion of the LD bar R which faces the cleavage groove, so that
The D bar R is cut (cleaved).

【0043】フラットリング6の上方部位に配置される
上記へき開溝認識部13は、そのレンズ面をフラットリ
ング上のLDバーRに向けており、このLDバーRを高
倍率に拡大し映像を取り込む認識用顕微鏡28と、この
顕微鏡28に取り込まれたLDバーRの映像を画像とし
て処理する画像処理ユニット29と、顕微鏡28とは光
ファイバ30を介して連通されLDバーRの映像を取り
込む際に用いられる照明装置31で構成されている。
The cleavage groove recognizing portion 13 disposed above the flat ring 6 has its lens surface directed toward the LD bar R on the flat ring, and enlarges the LD bar R at a high magnification to capture an image. The microscope 28 for recognition, an image processing unit 29 for processing the image of the LD bar R captured by the microscope 28 as an image, and the microscope 28 are communicated via the optical fiber 30 to capture the image of the LD bar R. The lighting device 31 is used.

【0044】図6は、上記チップ収納ユニット3の詳細
である。
FIG. 6 shows the details of the chip storage unit 3.

【0045】フラットリング6は、先に説明したものと
まったく同一であるので、ここでは同番号を付して新た
な説明は省略する。
Since the flat ring 6 is exactly the same as that described above, the same numbers are given here and a new description is omitted.

【0046】このフラットリング6の上方部位には、上
記チップ搬送部9を構成する吸着ノズル32が対向して
配置される。この吸着ノズル32は、ここでは図示しな
いホースを介して真空源に連通され、実際に吸着作用を
なす開口端はフラットリング6上のFLチップPに対向
している。
Above the flat ring 6, suction nozzles 32 constituting the chip transfer section 9 are arranged to face each other. The suction nozzle 32 is connected to a vacuum source via a hose (not shown), and the opening end that actually performs the suction action faces the FL chip P on the flat ring 6.

【0047】そして、吸着ノズル32はノズル上下軸部
33に支持されてZ方向への移動が可能であり、かつホ
ルダ34を介してLDチップ移載軸部35に支持されY
方向への移動が可能である。
The suction nozzle 32 is supported by a nozzle vertical shaft portion 33 and can move in the Z direction. The suction nozzle 32 is supported by an LD chip transfer shaft portion 35 via a holder 34 and has a Y axis.
Movement in the direction is possible.

【0048】上記LDチップ移載軸部35の一方の端部
近傍には、LDチップ収納ステージ36が配置されてい
て、これは複数の上記トレイ10を備えたトレイストッ
カ37がトレイストッカ駆動機構38に支持されてな
る。
In the vicinity of one end of the LD chip transfer shaft 35, an LD chip storage stage 36 is disposed, which is constituted by a tray stocker 37 having a plurality of trays 10 and a tray stocker driving mechanism 38. Be supported by.

【0049】上記トレイストッカ駆動機構38は、トレ
イストッカ37を周方向(Q方向)に回動可能となって
いて、このことからノズル上下軸部33と、LDチップ
移載軸部35とともに吸着チップ32に吸着したLDチ
ップPをトレイ10上に位置調整したうえで収納するよ
うになっている。
The tray stocker driving mechanism 38 is capable of rotating the tray stocker 37 in the circumferential direction (Q direction). Accordingly, the suction tip together with the nozzle vertical shaft 33 and the LD chip transfer shaft 35 are provided. The position of the LD chip P adsorbed on the tray 32 is adjusted on the tray 10 and then stored.

【0050】また、図9に示すように、フラットリング
6の下部側にLDチップ突き上げホルダ40が配置され
ていて、LDチップPを介して上記吸着ノズル32と対
向している。この突き上げホルダ40は上端面が開口す
る筒状体からなっていて、内部に上下方向に移動する突
き上げピン41を備えている。
As shown in FIG. 9, an LD chip push-up holder 40 is disposed below the flat ring 6 and faces the suction nozzle 32 via the LD chip P. The push-up holder 40 is formed of a cylindrical body having an open upper end surface, and has a push-up pin 41 that moves vertically in the interior.

【0051】再び図6に示すように、フラットリング6
の上方部位に配置される上記LDチップ認識部14は、
そのレンズ面をフラットリング6上のLDチップPに向
けており、LDチップPを高倍率に拡大し映像を取り込
む認識用顕微鏡42と、この顕微鏡42に取り込まれた
LDチップRの映像を画像として処理する画像処理ユニ
ット43と、顕微鏡42とは光ファイバ44を介して連
通されLDバーRの映像を取り込む際に用いられる照明
装置45で構成されている。
As shown in FIG. 6 again, the flat ring 6
The LD chip recognition unit 14 disposed above the
The lens surface is directed to the LD chip P on the flat ring 6, and the LD chip P is magnified at a high magnification to capture an image. The recognition microscope 42 captures an image of the LD chip R captured by the microscope 42 as an image. The image processing unit 43 for processing and the microscope 42 are connected to each other via an optical fiber 44, and are constituted by an illumination device 45 used when capturing an image of the LD bar R.

【0052】図7は、上記フラットリング搬送部11の
詳細である。
FIG. 7 shows the details of the flat ring transport section 11.

【0053】すなわち、X軸であるフラットリング移載
軸部46が備えられ、この移載軸部46に所定間隔を存
して複数のフラットリング上下軸部47が移載軸部46
に対して同時に、かつ同方向に移動するように取付けら
れる。
That is, a flat ring transfer shaft portion 46 which is an X axis is provided, and a plurality of flat ring upper and lower shaft portions 47 are provided at a predetermined interval on the transfer shaft portion 46.
To be moved simultaneously and in the same direction.

【0054】なお、フラットリング上下軸部47は、そ
れぞれが独立して上下方向に移動可能である。これら上
下軸部47の端部には、それぞれフラットリングクラン
パ48が設けられていて、フラットリング6をクランプ
したまま各へき開溝形成部部7と、へき開機構部8と、
LDチップ搬送部10に亘って移動し、かつ必要に応じ
て解放できるようになっている。
The flat ring upper and lower shaft portions 47 are independently movable in the vertical direction. Flat ring clampers 48 are provided at the ends of the upper and lower shaft portions 47, respectively, and while the flat ring 6 is clamped, each cleavage groove forming portion 7, the cleavage mechanism portion 8,
It can move across the LD chip transport section 10 and can be released as needed.

【0055】次に、このようにして構成されたレーザダ
イオード製造装置の作用について説明する。
Next, the operation of the laser diode manufacturing apparatus thus configured will be described.

【0056】はじめに、図10から模式的に示すと、同
図(A)に示すように、へき開溝形成ユニット1におい
てフラットリング6上のLDバーRにへき開溝であるへ
き開溝Mを形成する。つぎに、同図(B)に示すよう
に、へき開ユニット2において上記へき開溝形成ユニッ
ト1において形成されたLDバーRのへき開溝Mに沿っ
てへき開加工をなし切断してレーザダイオードチップP
を得る。最後に、同図(C)に示すように、チップ収納
ユニット3において上記へき開ユニット2において形成
されたLDチップPを取出して搬送し、かつトレイ10
上に収納する一連の作業を自動的に行う。
First, as schematically shown in FIG. 10, as shown in FIG. 10A, a cleavage groove M, which is a cleavage groove, is formed in the LD bar R on the flat ring 6 in the cleavage groove forming unit 1. Next, as shown in FIG. 2B, the laser diode chip P is cut by cleaving along the cleavage groove M of the LD bar R formed in the cleavage groove forming unit 1 in the cleavage unit 2.
Get. Finally, as shown in FIG. 4C, the LD chip P formed in the cleavage unit 2 is taken out from the chip storage unit 3, transported, and
Automatically perform a series of work to store on top.

【0057】さらに詳細に説明する。This will be described in more detail.

【0058】予め、フラットリング6上には複数のLD
バーRが縦横左右に整列した状態で載置されていて、こ
のフラットリング6をへき開溝形成部7にセットする。
ここでセットされたフラットリング6上のLDバーR
は、Au−Sn面に所定幅を有して形成されたへき開線
HをLDバー認識部12によって認識され、その信号に
もとづいてフラットリング移載軸部18が作用しスクラ
イバ21に対して位置調整される。
A plurality of LDs are previously placed on the flat ring 6.
The bars R are placed in a state where they are aligned vertically, horizontally and horizontally, and the flat ring 6 is set in the cleavage groove forming portion 7.
LD bar R on flat ring 6 set here
The LD bar recognition unit 12 recognizes the cleavage line H formed with a predetermined width on the Au-Sn surface, and based on the signal, the flat ring transfer shaft 18 acts to position the scriber 21 with respect to the scriber 21. Adjusted.

【0059】つぎに、このスクライバ21によってLD
バーRのAu面のAu−Sn面上のへき開線Hが形成さ
れた領域と対向する範囲内にへき開溝であるへき開溝M
が形成される。なお、このへき開溝M加工はフラットリ
ング6にLDバーRを載置した状態のまま行う。すなわ
ち、フラットリング6のLDバー支持部分が粘着シート
で形成されるところから、LDバーRにかかる衝撃を吸
収して曲げ応力を低減し、よってLDバーの異常加工が
生じない。
Next, the scriber 21 makes the LD
A cleavage groove M which is a cleavage groove within a range opposed to a region where the cleavage line H on the Au-Sn surface of the Au surface of the bar R is formed.
Is formed. The processing of the cleavage groove M is performed while the LD bar R is placed on the flat ring 6. That is, since the LD bar supporting portion of the flat ring 6 is formed of the pressure-sensitive adhesive sheet, the impact applied to the LD bar R is absorbed to reduce the bending stress, so that abnormal processing of the LD bar does not occur.

【0060】このようにして、対象とするLDバーRを
複数回、繰り返して認識してはLDバーRの位置を調整
し複数のへき開溝Mを形成する。加工の終わったLDバ
ーRには正確に所定間隔を存して複数のへき開溝Mが形
成される。
In this way, the target LD bar R is repeatedly recognized a plurality of times, and the position of the LD bar R is adjusted to form a plurality of cleavage grooves M. A plurality of cleavage grooves M are formed on the processed LD bar R at exactly predetermined intervals.

【0061】フラットリング6上の全てのLDバーRに
対するへき開溝Mの形成加工が終了したら、フラットリ
ング搬送部11が作用してそのフラットリング6をへき
開ユニット2のへき開機構部8に搬送する。
When the formation processing of the cleavage grooves M for all the LD bars R on the flat ring 6 is completed, the flat ring transfer section 11 operates to transfer the flat ring 6 to the cleavage mechanism section 8 of the cleavage unit 2.

【0062】フラットリング6上のセットされたLDバ
ーRは、このユニット2に配置されるへき開溝認識部1
3によって認識され、その信号にもとづいてフラットリ
ング移載軸部26が作用しカッタKに対する位置が調整
される。
The set LD bar R on the flat ring 6 is placed on the cleavage groove recognition section 1 of the unit 2.
3 and the flat ring transfer shaft 26 acts on the basis of the signal to adjust the position with respect to the cutter K.

【0063】つぎに、図8に示すように、フラットリン
グ6にLDバーRを載置した状態のままカッタKによる
LDバー切断(へき開)加工が行われる。すなわち、L
DバーRの上方からへき開溝認識用顕微鏡28がLDバ
ーRに形成されるへき開溝Mを認識し、その都度、移載
軸部26がフラットリング6をXY方向に移動調整す
る。
Next, as shown in FIG. 8, the LD bar is cut (cleaved) by the cutter K while the LD bar R is placed on the flat ring 6. That is, L
The cleavage groove recognizing microscope 28 recognizes the cleavage groove M formed on the LD bar R from above the D-bar R, and each time the transfer shaft 26 moves and adjusts the flat ring 6 in the XY directions.

【0064】そして、フラットリング6の位置が定まっ
た状態で、カッタ駆動機構27が作動してカッタKを突
き上げ駆動する。カッタKの刃先はへき開溝Mの対向位
置にフラットリング6を介して当接し、脆性材特有のへ
き開現象によりLDバーRを切断してLDチップPが得
られる。
Then, with the position of the flat ring 6 determined, the cutter driving mechanism 27 operates to drive the cutter K up. The cutting edge of the cutter K abuts on the position facing the cleavage groove M via the flat ring 6, and cuts the LD bar R by the cleavage phenomenon peculiar to the brittle material to obtain the LD chip P.

【0065】上述したとおり、1本のLDバーRに複数
のへき開溝Mを形成したところから、へき開溝Mの認識
とカッタKの作動を複数回繰り返して行う。すべてのへ
き開溝Mを複数回、繰り返して認識してはLDバーRの
位置を調整し複数のLDチップPを形成する。
As described above, after the plurality of cleavage grooves M are formed in one LD bar R, the recognition of the cleavage grooves M and the operation of the cutter K are repeated a plurality of times. When all the cleavage grooves M are repeatedly recognized a plurality of times, the position of the LD bar R is adjusted to form a plurality of LD chips P.

【0066】フラットリング6上の全てのLDバーRに
対するLDチップPの形成加工が終了したら、フラット
リング搬送部11が作用して、そのままフラットリング
6を収納ユニット3に搬送する。
When the processing of forming the LD chips P on all the LD bars R on the flat ring 6 is completed, the flat ring transfer section 11 operates to transfer the flat ring 6 to the storage unit 3 as it is.

【0067】収納ユニット3では、チップ搬送部9が作
用してフラットリング6上の全てのLDチップPをトレ
イ10上に取出して収納する。
In the storage unit 3, all the LD chips P on the flat ring 6 are taken out and stored on the tray 10 by the operation of the chip transfer section 9.

【0068】すなわち、フラットリング6の上方からL
Dチップ認識部14がLDチップPを認識し、その都
度、吸着ノズル32を下降させる。この吸着ノズル32
に連通する真空源は作動して負圧をかけ、対向するLD
チップPを吸着する。
That is, L from above the flat ring 6
The D chip recognition unit 14 recognizes the LD chip P, and lowers the suction nozzle 32 each time. This suction nozzle 32
The vacuum source communicating with the LD operates to apply a negative pressure, and the opposite LD
The chip P is sucked.

【0069】つぎにノズル上下軸部33を作動して一旦
吸着ノズル32を上昇させ、さらにLDチップ移載軸部
35を作動して吸着ノズル32をトレイストッカ37上
に移動させる。この吸着ノズル32の位置と、トレイス
トッカ駆動機構38の作用によって吸着ノズル32に吸
着されたLDチップPは空きのあるトレイ10上に整然
と並べられた状態で収容される。
Next, the suction nozzle 32 is once raised by operating the nozzle vertical shaft portion 33, and the LD chip transfer shaft portion 35 is further operated to move the suction nozzle 32 onto the tray stocker 37. The LD chips P sucked by the suction nozzle 32 by the position of the suction nozzle 32 and the operation of the tray stocker driving mechanism 38 are stored in a state where they are arranged neatly on the empty tray 10.

【0070】図11は、LDチップ搬送部9におけるフ
ローチャートを示す。
FIG. 11 shows a flowchart in the LD chip transport section 9.

【0071】以下に説明すると、ステップT1でスター
トし、ステップT2でLDチップ認識部14がLDチッ
プPを認識し、その有無を判断する。LDチップPの認
識がなされない場合(NO)は、ステップT3でLDチ
ップPの認識を継続する。
In the following, the process starts at step T1, and at step T2, the LD chip recognizing section 14 recognizes the LD chip P and determines whether or not the chip P is present. If the LD chip P is not recognized (NO), the recognition of the LD chip P is continued in step T3.

【0072】LDチップP有りの認識をなしたとき(Y
ES)は、ステップT4でLDチップ移載軸部35を駆
動して吸着ノズル32をY方向に移動させる。ついで、
ステップT5においてノズル上下軸部33を駆動して吸
着ノズル32を下降させる。すなわち、吸着ノズル32
をフラットリング6上のLDチップPに接触させること
になる。
When it is recognized that the LD chip P is present (Y
ES) drives the LD chip transfer shaft 35 to move the suction nozzle 32 in the Y direction in step T4. Then
In step T5, the nozzle vertical shaft 33 is driven to lower the suction nozzle 32. That is, the suction nozzle 32
Is brought into contact with the LD chip P on the flat ring 6.

【0073】そして、ステップT6において吸着ノズル
32はLDチップPを吸着する。ステップT7に移って
上下軸部33を駆動して吸着ノズル32を上昇させる。
ステップ8でLDチップ移載軸部35を駆動してLDチ
ップPを吸着した吸着ノズル32をトレイ10側へ移動
する。
Then, in step T6, the suction nozzle 32 sucks the LD chip P. In step T7, the vertical shaft portion 33 is driven to raise the suction nozzle 32.
In step 8, the LD chip transfer shaft 35 is driven to move the suction nozzle 32 that has sucked the LD chip P to the tray 10 side.

【0074】ステップT9において上下軸部33を再び
下降させ、吸着ノズル32を下降する。そして、ステッ
プT10においてトレイ10上に吸着してきたLDチッ
プPを解放し、ステップT11において上下軸部33を
駆動して吸着ノズル32を上昇させて、ステップT12
におけるエンドに至る。
In step T9, the vertical shaft 33 is lowered again, and the suction nozzle 32 is lowered. Then, in step T10, the LD chip P sucked onto the tray 10 is released, and in step T11, the vertical shaft portion 33 is driven to raise the suction nozzle 32, and in step T12
To the end.

【0075】上述したとおり、フラットリング6には多
数のLDチップPが支持されるところから、以上のフロ
ーが複数回繰り返して行なわれることとなる。
As described above, since a large number of LD chips P are supported on the flat ring 6, the above flow is repeated a plurality of times.

【0076】図12は、フラットリング搬送部11によ
るフラットリング搬送工程のフローチャート図であり、
以下詳細に説明する。
FIG. 12 is a flowchart of a flat ring transfer process by the flat ring transfer unit 11.
This will be described in detail below.

【0077】ステップS1においてスタートしたあと、
ステップS2においてフラットリング6のへき開溝形成
作業と、へき開作業の終了が判断される。各作業が終了
していなければ(NO)、ステップS3に移ってへき開
溝形成作業と、へき開作業が継続され、先に説明したよ
うな作業が繰り返される。
After starting in step S1,
In step S2, it is determined whether the cleaving groove is formed in the flat ring 6 and the cleaving operation is completed. If each operation is not completed (NO), the process proceeds to step S3, where the cleavage groove forming operation and the cleavage operation are continued, and the operation described above is repeated.

【0078】各作業が終了していれば(YES)、ステ
ップS4においてへき開溝形成部7と、へき開機構部8
におけるフラットリング6をフラットリングホルダ15
に押圧固定するフラットリング押え17の作用を解除す
る。
If each operation has been completed (YES), in step S4, the cleavage groove forming section 7 and the cleavage mechanism section 8
The flat ring 6 in the flat ring holder 15
The action of the flat ring presser 17 which presses and fixes the flat ring is released.

【0079】つぎに、ステップS5においてフラットリ
ング上下軸部47を降下させたあと、ステップS6にお
いて各部7,8におけるフラットリング移載軸部18,
26のY軸18b,26bを作用させてフラットリング
6をクランプ位置まで移動する。
Next, after lowering the flat ring vertical shaft portion 47 in step S5, the flat ring transfer shaft portion 18, in each portion 7, 8 in step S6.
The flat ring 6 is moved to the clamp position by operating the 26 Y-axes 18b and 26b.

【0080】ステップS7において各クランパ48が作
動してフラットリング6をクランプする。ステップS8
においてフラットリング上下軸部47を駆動してクラン
パ48とともにフラットリング6を上昇させる。
In step S7, each clamper 48 operates to clamp the flat ring 6. Step S8
Then, the flat ring 6 is moved up together with the clamper 48 by driving the flat ring vertical shaft portion 47.

【0081】つぎに、ステップS9においてフラットリ
ング移載軸部46が駆動してフラットリング6をX軸方
向に移載し、軸部の端部において停止する。ステップS
10においてフラットリング上下軸部47が駆動してク
ランパ48を降下させる。
Next, in step S9, the flat ring transfer shaft 46 is driven to transfer the flat ring 6 in the X-axis direction, and stops at the end of the shaft. Step S
At 10, the flat ring vertical shaft portion 47 is driven to lower the clamper 48.

【0082】ステップS11においてクランパ48のフ
ラットリング6に対するクランプを解除し、ステップS
12において各部7,8におけるフラットリング移載軸
部18,26のY軸18b,26bを移動してフラット
リング6を解除位置まで移動する。
In step S11, the clamp of the clamper 48 with respect to the flat ring 6 is released.
At 12, the Y-axes 18b and 26b of the flat ring transfer shaft portions 18 and 26 in the respective portions 7 and 8 are moved to move the flat ring 6 to the release position.

【0083】そして、ステップS13においてフラット
リング上下軸部47が上昇し、ステップS14において
フラットリング移載軸部18,26が移動して待機位置
において停止し、ステップS15のエンドになる。
Then, in step S13, the flat ring vertical shaft portion 47 is raised, and in step S14, the flat ring transfer shaft portions 18, 26 move and stop at the standby position, and the end of step S15 is reached.

【0084】[0084]

【発明の効果】以上説明したように、第1の発明および
第6の発明のレーザダイオードの製造装置および製造方
法によれば、LDバーに対するへき開溝の形成加工と、
へき開加工、さらにはフラットリングの搬送およびLD
チップの収納などの全ての工程を自動化して人手作業に
よる製品のばらつきをなくして高精度化を得るととも
に、インデックスタイムを最小限とし、信頼性と生産性
の向上を得る効果を奏する。
As described above, according to the laser diode manufacturing apparatus and the manufacturing method of the first and sixth aspects of the present invention, it is possible to form a cleavage groove for an LD bar,
Cleavage processing, and flat ring transport and LD
All processes such as chip storage are automated to eliminate variations in products due to manual work, thereby achieving high accuracy, minimizing index time, and improving reliability and productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る、レーザダイオー
ド製造装置の外観の正面図。
FIG. 1 is a front view of the appearance of a laser diode manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態の、レーザダイオード製造装置の
平面図。
FIG. 2 is a plan view of the laser diode manufacturing apparatus of the embodiment.

【図3】同実施の形態の、へき開溝形成部の斜視図。FIG. 3 is a perspective view of a cleavage groove forming portion of the embodiment.

【図4】同実施の形態の、へき開溝形成部の正面図。FIG. 4 is a front view of a cleavage groove forming portion of the embodiment.

【図5】同実施の形態の、へき開機構部の斜視図。FIG. 5 is a perspective view of a cleavage mechanism according to the embodiment.

【図6】同実施の形態の、LDチップ搬送部の斜視図。FIG. 6 is a perspective view of an LD chip transport unit of the embodiment.

【図7】同実施の形態の、フラットリング搬送部の斜視
図。
FIG. 7 is a perspective view of the flat ring transport unit of the embodiment.

【図8】同実施の形態の、へき開機構部における作用説
明図。
FIG. 8 is an operation explanatory view of the cleavage mechanism in the embodiment.

【図9】同実施の形態の、LDチップ搬送部における作
用説明図。
FIG. 9 is an explanatory diagram of an operation in the LD chip transport unit of the embodiment.

【図10】同実施の形態の、レーザダイオード製造過程
を順に説明する図。
FIG. 10 is a diagram for sequentially explaining a laser diode manufacturing process of the embodiment.

【図11】同実施の形態の、LDチップ搬送部のフロー
チャート図。
FIG. 11 is a flowchart of an LD chip transport unit according to the embodiment.

【図12】同実施の形態の、フラットリング搬送部のフ
ローチャート図。
FIG. 12 is a flowchart of the flat ring transport unit in the embodiment.

【図13】丸型ウエハからレーザダイオードバーを介し
てレーザダイオードチップを得る過程を順に示す図。
FIG. 13 is a view sequentially showing a process of obtaining a laser diode chip from a round wafer via a laser diode bar.

【図14】従来のレーザダイオード製造装置の一部正面
図。
FIG. 14 is a partial front view of a conventional laser diode manufacturing apparatus.

【図15】レーザダイオードバーの図。FIG. 15 is a diagram of a laser diode bar.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

R…レーザダイオードバー(LDバー)、 M…へき開溝、 1…へき開溝形成ユニット、 P…レーザダイオードチップ(LDチップ)、 2…へき開ユニット、 3…チップ収納ユニット、 6…フラットリング(支持手段)、 7…へき開溝形成部(へき開溝形成手段)、 8…へき開機構部(へき開手段)、 11…チップ搬送部(チップ搬送手段)、 10…トレイ(チップ収納手段)、 11…フラットリング搬送部(フラットリング搬送手
段)、 12…レーザダイオードバー認識部(第1の認識手
段)、 13…へき開溝認識部(第2の認識手段)、 14…レーザダイオードチップ認識部(第3の認識
部)、 18…フラットリング移載軸部(第1の位置調整手
段)、 26…フラットリング移載軸部(第2の位置調整手
段)、 35…LDチップ移載軸部(第3の位置調整手段)。
R: laser diode bar (LD bar), M: cleavage groove, 1: cleavage groove forming unit, P: laser diode chip (LD chip), 2: cleavage unit, 3: chip storage unit, 6: flat ring (supporting means) 7) Cleavage groove forming part (cleavage groove forming means), 8 ... cleavage mechanism part (cleaving means), 11 ... chip conveying part (chip conveying means), 10 ... tray (chip storing means), 11 ... flat ring conveyance Unit (flat ring conveying unit), 12: laser diode bar recognition unit (first recognition unit), 13: cleavage groove recognition unit (second recognition unit), 14: laser diode chip recognition unit (third recognition unit) ), 18: Flat ring transfer shaft (first position adjusting means), 26: Flat ring transfer shaft (second position adjusting means), 35: LD chip Transfer Nojiku portion (third position adjusting means).

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ウエハから分割されたレーザダイオードバ
ーに所定間隔を存してへき開溝を設ける機能を備えたへ
き開溝形成ユニットと、 このへき開溝形成ユニットによって形成されたへき開溝
に沿ってレーザダイオードバーを切断してレーザダイオ
ードチップを得る機能を備えたへき開ユニットと、 このへき開ユニットによって得られるレーザダイオード
チップを取出して収納する機能を備えたチップ収納ユニ
ットと、を具備したことを特徴とするレーザダイオード
の製造装置。
1. A cleavage groove forming unit having a function of providing cleavage grooves at predetermined intervals in a laser diode bar divided from a wafer, and a laser diode along a cleavage groove formed by the cleavage groove forming unit. A laser, comprising: a cleavage unit having a function of obtaining a laser diode chip by cutting a bar; and a chip storage unit having a function of taking out and storing a laser diode chip obtained by the cleavage unit. Diode manufacturing equipment.
【請求項2】上記へき開溝形成ユニットは、複数のレー
ザダイオードバーを整列して支持する支持手段およびこ
の支持手段に収容されるレーザダイオードバーに対して
所定間隔を存してへき開溝を設けるへき開溝形成手段を
備え、 上記へき開ユニットは、へき開溝が形成されたレーザダ
イオードバーを整列して支持する支持手段およびへき開
溝に沿ってレーザダイオードバーをへき開してレーザダ
イオードチップにするへき開手段を備え、 上記チップ収納ユニットは、支持手段上のレーザダイオ
ードチップを取出して搬送するチップ搬送手段および取
出されたチップを収容する収納手段を備えたことを特徴
とする請求項1記載のレーザダイオードの製造装置。
2. A cleaving groove forming unit, comprising: a supporting means for aligning and supporting a plurality of laser diode bars; and a cleaving groove for forming a cleavage groove at a predetermined interval with respect to a laser diode bar accommodated in the supporting means. The cleavage unit comprises a cleavage means, wherein the cleavage unit is provided with support means for aligning and supporting the laser diode bar having the cleavage groove formed therein, and cleavage means for cleaving the laser diode bar along the cleavage groove to form a laser diode chip. 2. The laser diode manufacturing apparatus according to claim 1, wherein said chip storage unit includes a chip transfer means for picking up and transferring the laser diode chip on the support means, and a storage means for holding the picked-up chip. .
【請求項3】上記支持手段は、粘着シートが敷設されレ
ーザダイオードバーを粘着支持するフラットリングであ
ることを特徴とする請求項2記載のレーザダイオードの
製造装置。
3. The laser diode manufacturing apparatus according to claim 2, wherein said support means is a flat ring on which an adhesive sheet is laid and which adhesively supports a laser diode bar.
【請求項4】上記レーザダイオードバーは、その一面が
Au膜形成面であり、他面がAu−Sn膜形成面であっ
て、上記Au−Sn膜形成面を接地面として上記支持手
段に支持され、 上記へき開溝形成ユニットは、レーザダイオードバーの
上記Au−Sn膜形成面を認識して、上記へき開溝形成
手段に対するへき開溝形成位置を設定する第1の認識手
段を備えたことを特徴とする請求項2記載のレーザダイ
オードの製造装置。
4. The laser diode bar has one surface formed with an Au film forming surface and the other surface formed with an Au-Sn film forming surface, and the Au-Sn film forming surface is supported by the supporting means as a ground plane. The cleavage groove forming unit includes first recognition means for recognizing the Au-Sn film formation surface of the laser diode bar and setting a cleavage groove formation position with respect to the cleavage groove formation means. An apparatus for manufacturing a laser diode according to claim 2.
【請求項5】上記へき開ユニットは、レーザダイオード
バーに形成された上記へき開溝を認識して、上記へき開
手段に対するへき開加工位置を設定する第2の認識手段
を備えたことを特徴とする請求項2記載のレーザダイオ
ードの製造装置。
5. The cleaving unit according to claim 1, further comprising a second recognizing means for recognizing the cleaved groove formed in the laser diode bar and setting a cleaving position with respect to the cleaving means. 3. The apparatus for manufacturing a laser diode according to 2.
【請求項6】上記チップ収納ユニットは、支持手段上の
レーザダイオードチップを認識して、上記チップ搬送手
段に対するチップ位置を設定する第3の認識手段を備え
たことを特徴とする請求項2記載のレーザダイオードの
製造装置。
6. The apparatus according to claim 2, wherein said chip storage unit includes third recognition means for recognizing a laser diode chip on a support means and setting a chip position with respect to said chip transport means. Laser diode manufacturing equipment.
【請求項7】その一面がAu膜形成面であり、他面がA
u−Sn膜形成面に形成されるレーザダイオードバーを
Au−Sn膜形成面を接地面として支持する支持手段
と、 この支持手段に支持されるレーザダイオードバーのAu
−Sn膜形成面を認識する第1の認識手段と、 この第1の認識手段の信号にもとづいてレーザダイオー
ドバーのAu膜形成面に所定間隔を存してへき開溝を設
けるへき開溝形成手段と、 このへき開溝形成手段により形成された上記へき開溝を
認識する第2の認識手段と、 この第2の認識手段の信号にもとづいてレーザダイオー
ドバーのへき開溝に沿ってへき開しレーザダイオードチ
ップを得るへき開手段と、 このレーザダイオードチップを認識する第3の認識手段
と、 この第3の認識手段の信号にもとづいてレーザダイオー
ドチップを支持手段から取出してトレイに収容するチッ
プ搬送手段と、を具備したことを特徴とするレーザダイ
オードの製造装置。
7. One surface is an Au film forming surface, and the other surface is an A film forming surface.
support means for supporting the laser diode bar formed on the u-Sn film formation surface as the Au-Sn film formation surface as a ground plane; and Au for the laser diode bar supported by the support means.
First recognition means for recognizing the Sn film formation surface; cleavage groove formation means for providing cleavage grooves at predetermined intervals on the Au film formation surface of the laser diode bar based on a signal from the first recognition means; Second recognition means for recognizing the cleavage formed by the cleavage formation means, and cleaving along the cleavage groove of the laser diode bar based on a signal from the second recognition means to obtain a laser diode chip. Cleaving means; third recognition means for recognizing the laser diode chip; and chip transport means for taking out the laser diode chip from the support means and storing it in a tray based on a signal from the third recognition means. An apparatus for manufacturing a laser diode, comprising:
【請求項8】その一面がAu膜形成面であり、他面がA
u−Sn膜形成面に形成されるウエハ状のレーザダイオ
ードバーを、Au−Sn膜形成面を接地面として支持す
る支持手段と、 この支持手段に支持されるレーザダイオードバーのAu
−Sn膜形成面のへき開線を認識する第1の認識手段
と、 この第1の認識手段の信号にもとづいて上記支持手段を
移動し、位置を設定する第1の位置調整手段と、 この第1の位置調整手段によって位置調整された上記支
持手段上のレーザダイオードバーに対し、このAu膜形
成面に所定間隔を存してへき開溝を設けるへき開溝形成
手段と、 へき開溝が形成されたレーザダイオードバーを支持する
上記支持手段を所定位置へ搬送する搬送手段と、 所定位置における上記支持手段上のレーザダイオードバ
ーへき開溝を認識する第2の認識手段と、 この第2の認識手段の信号にもとづいて上記支持手段を
移動し、位置を調整する第2の位置調整手段と、 この第2の位置調整手段によって位置調整された上記支
持手段上のレーザダイオードバーへき開溝に沿ってへき
開しレーザダイオードチップを得るへき開手段と、 このレーザダイオードチップを支持する上記支持手段を
所定位置へ搬送する搬送手段と、 所定位置における上記支持手段上のレーザダイオードチ
ップを認識する第3の認識手段と、 この第3の認識手段の信号にもとづいてレーザダイオー
ドチップを上記支持手段から取出してトレイに収容する
チップ搬送手段と、を具備したことを特徴とするレーザ
ダイオードの製造装置。
8. One surface is an Au film forming surface, and the other surface is an A film forming surface.
support means for supporting a wafer-shaped laser diode bar formed on the u-Sn film formation surface as a ground surface with the Au-Sn film formation surface; and Au for the laser diode bar supported by the support means.
First recognition means for recognizing the cleavage line of the Sn film formation surface; first position adjustment means for moving the support means based on a signal from the first recognition means to set a position; A cleavage groove forming means for providing a cleavage groove at a predetermined interval on the Au film forming surface with respect to the laser diode bar on the supporting means, the position of which is adjusted by the position adjusting means; Conveying means for conveying the supporting means for supporting the diode bar to a predetermined position; second recognizing means for recognizing a cleavage groove of the laser diode bar on the supporting means at the predetermined position; and a signal from the second recognizing means. A second position adjusting means for moving the supporting means and adjusting the position thereof; and a laser diode bar on the supporting means, the position of which is adjusted by the second position adjusting means. Cleaving means for cleaving along the groove to obtain a laser diode chip; conveying means for conveying the supporting means for supporting the laser diode chip to a predetermined position; and recognizing the laser diode chip on the supporting means at a predetermined position. An apparatus for manufacturing a laser diode, comprising: third recognition means; and chip transport means for taking out a laser diode chip from the support means based on a signal from the third recognition means and accommodating the chip in a tray. .
【請求項9】ウエハから分割されたレーザダイオードバ
ーに対し所定間隔を存してへき開溝を設ける工程と、 形成されたレーザダイオードバーのへき開溝に沿ってへ
き開する工程と、 へき開されたレーザダイオードチップを取出して収納す
る工程と、を具備したことを特徴とするレーザダイオー
ドの製造方法。
9. A step of providing a cleavage groove at predetermined intervals in a laser diode bar divided from a wafer; a step of cleaving along a cleavage groove of the formed laser diode bar; Removing the chip and storing it therein. A method for manufacturing a laser diode, comprising:
【請求項10】Au膜形成面を接地面として収納される
レーザダイオードバーのAu- Sn膜形成面を認識する
工程と、 この認識結果にもとづいて上記レーザダイオードバーの
Au- Sn膜形成面にてへき開溝を設ける工程と、 レーザダイオードバーに形成された上記へき開溝を認識
する工程と、 この認識結果にもとづいてレーザダイオードバーのへき
開溝に沿ってへき開しレーザダイオードチップを得る工
程と、 このレーザダイオードチップを認識する工程と、 この認識結果にもとづいてレーザダイオードチップを取
出してトレイに収納する工程と、を具備したことを特徴
とするレーザダイオードの製造方法。
10. A step of recognizing an Au-Sn film forming surface of a laser diode bar housed with an Au film forming surface as a grounding surface, and based on the recognition result, the Au-Sn film forming surface of the laser diode bar. A step of providing a cleavage groove; a step of recognizing the cleavage groove formed in the laser diode bar; a step of cleaving along the cleavage groove of the laser diode bar based on the recognition result to obtain a laser diode chip; A method for manufacturing a laser diode, comprising: a step of recognizing a laser diode chip; and a step of taking out the laser diode chip based on the recognition result and storing the chip in a tray.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6556457B1 (en) 2002-01-03 2003-04-29 Kokusan Denki Co., Ltd. Method of controlling inverter power generation apparatus
JP2010032456A (en) * 2008-07-31 2010-02-12 Alpha- Design Kk Glass substrate inspecting device
JP2017073442A (en) * 2015-10-06 2017-04-13 株式会社ディスコ Processing device

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