JPH11277011A - エアナイフ及びエアナイフを用いた処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】エアの噴出口の間隔調整が容易であると共に、
噴出経路の調整が容易なエアナイフを提供すること。 【解決手段】 基板２２表面にエアを噴射してこの基板
２２に付着した処理液を除去するエアナイフ３０ａ，３
０ｂにおいて、外部からエアが導入される窪みを有する
チャンバ体３１ａ，３１ｂと、上記チャンバ体３１ａ，
３１ｂに対応する形状に形成された蓋体３３ａ，３３ｂ
と、上記チャンバ体３１ａ，３１ｂと蓋体３３ａ，３３
ｂに接合してこれらの間に挾持されると共に、上記チャ
ンバ体３１ａ，３１ｂの一側部に対応する部分に上記窪
みに差し掛かる切欠き部４２が所定間隔で形成され、こ
の切欠き部４２がエアの噴出口４６として機能するスリ
ット体３２ａ，３２ｂと、を具備することを特徴として
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、搬送手段により搬
送される基板に対してエアを吹き付けて処理液を除去す
るエアナイフ、エアナイフの支持装置及びエアナイフを
用いた処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にＬＣＤなどの基板製造工程では、
搬送手段によって基板を洗浄処理槽内で洗浄した後、濡
れた基板を乾燥させる工程が必要とされている。特に近
年は、生産性向上のためスピーディかつ強力な乾燥力が
求められている。そこで、従来より基板に付着した水滴
等を取り除くエアナイフ機構が提案されている。以下こ
のエアナイフ機構の構造の従来例を図５に基づいて説明
する。

【０００３】基板１は、複数の回動自在な搬送ローラを
有する搬送機構により下方から支持されて図中矢印で示
す方向に搬送され、この搬送される基板１に対して上側
エアナイフ２及び下側エアナイフ２によりエアＡが噴射
される。エアナイフ２，３は、その両端部が不図示の支
持体に支持され、角度調整及び上下方向へのスライドを
自在な構成としている。

【０００４】エアナイフ２，３は、チャンバ体４と、ス
リット５及び蓋部材６より構成されている。チャンバ体
４は、その上方側及び長手方向両端側に立設部７を有し
ており、また下方側には傾斜立設部８を有している。こ
れら立設部７及び傾斜立設部８に囲まれて、エアを拡散
させる内部空間９が形成されている。

【０００５】またスリット５は、立設部７に当接する部
分以外は開放した矩形状を為しており、その厚さが例え
ば略０．１〜０．２ｍｍと薄肉に形成されている。そし
て、蓋部材６は板状部材に形成されており、立設部７に
対応した部分をネジを螺合させ、スリット５を介してチ
ャンバ体４に一体的に固定されることで、エアナイフ
２，３の形状を為している。

【０００６】この場合、チャンバ体４と蓋部材６の間に
スリット５が介在することで、このスリット５に対応し
た隙間がエアナイフ２，３の下方に形成されることにな
る。この隙間がエアを基板１に向かって噴出させるノズ
ル孔１０であり、このノズル孔１０からのエアの噴出量
及び噴出圧力の調整を行うためには、ノズル孔１０の間
隔を調整する必要がある。そのため、蓋部材６に適宜の
間隔でネジ孔１１を形成し、そこに押し引きネジ１２を
螺合させその締結力を調整することで、ノズル孔１０の
間隔調整を図っている。

【０００７】このような構成のエアナイフ２，３では、
図５に示すように基板１が搬送ローラによって前方（図
中矢印方向）に搬送されつつ、上下のエアナイフ２，３
のノズル孔４からエアＡを噴射することで、基板１の表
面に付着した処理液を後方に吹き飛ばし、それによって
基板１を乾燥させている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の如き
ノズル孔１０の間隔調整は、上述の如く押し引きネジ１
１の締結具合の調整によりその調整を行っている。その
ため、ノズル孔１０の間隔調整を行う場合には、エアナ
イフ２，３の長手方向の全ての押し引きネジ１２を調整
する必要がある。

【０００９】しかしながら、長手方向の全部に亘ってそ
のノズル孔１０の間隔を、例えば２００μｍ等のように
微小間隔に均一に押し引きにより調整することは熟練を
要する作業であり、そのためこの調整は手間取るものと
なっている。

【００１０】また、上述の如くノズル孔１０は基板１に
対して所定の傾斜角度を為して取り付けられるため、そ
のような傾斜角度を出すべくエアナイフ２，３を傾斜し
て取りつけたり、或いはノズル孔１０をエアナイフ２，
３に対して傾斜形成している。そのため、わざわざこの
ようなノズル孔１０の傾斜角度を適宜の角度とする構成
を設けている。

【００１１】しかしながら、このようにノズル孔１０を
傾斜形成したり、エアナイフ２，３を傾斜して取付けて
も、いまだ基板１にエアが衝突した場合に僅かな気流が
基板１の進行方向と同じ向きに進行する。このような気
流にも基板１から吹き飛ばされた処理液が含まれるの
で、乾燥処理が済んだ基板１の部位に再び処理液が付着
してしまうという不具合が発生することがある。

【００１２】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、エアの噴出口の間隔調
整が容易であると共に、噴出経路の調整が容易なエアナ
イフを提供しようとするものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明は、基板表面にエアを噴射して
この基板に付着した処理液を除去するエアナイフにおい
て、外部からエアが導入される窪みを有するチャンバ体
と、上記チャンバ体に対応する形状に形成された蓋体
と、上記チャンバ体と蓋体に接合してこれらの間に挾持
されると共に、上記チャンバ体の一側部に対応する部分
に上記窪みに差し掛かる切欠き部が所定間隔で形成さ
れ、この切欠き部がエアの噴出口として機能するスリッ
ト体と、を具備することを特徴とするエアナイフであ
る。

【００１４】請求項２記載の発明は、上記蓋体の一端部
は、上記噴出口から噴出されるエアの流出方向に沿って
上記チャンバ体及びスリット体よりも突出形成されてい
ることを特徴とする請求項１記載のエアナイフである。

【００１５】請求項３記載の発明は、請求項１または請
求項２記載のエアナイフ及び上記基板を搬送する搬送機
構を具備することを特徴とするエアナイフを用いた処理
装置である。

【００１６】請求項４記載の発明は、上記蓋体の基板側
の端部には、上記噴出口から噴出されるエアを上記チャ
ンバ体側に向かい誘導する誘導部材が設けられているこ
とを特徴とする請求項２記載のエアナイフである。

【００１７】請求項１、請求項３の発明によると、外部
から導入されるチャンバ体、このチャンバ体に対応する
形状に形成された蓋体、及びこれらチャンバ体及び蓋体
に接合してこれらの間で挾持されると共に、チャンバ体
の一側部に対応する部分に窪みに差し掛かる切欠き部が
所定間隔で形成され、該切欠き部がエアの噴出口として
機能するスリット体が設けられたので、切欠き部以外の
スリット体の上記窪みの周辺部分はチャンバ体及び蓋体
に所定間隔で接合し、これにより切欠き部にはスリット
体の周辺部分の厚みに対応して一定の隙間が確保され
る。

【００１８】よって、噴出口の間隔が一定に保たれ、わ
ざわざ噴出口の間隔を調整する手間を省くことが可能と
なる。請求項２、請求項３の発明によると、上記蓋体の
一端部は、噴出口から噴出されるエアの流出方向に沿っ
てチャンバ体及びスリット体よりも突出形成されている
ため、この蓋体の突出形成されている部分を基板に近づ
けて設ければ、エアの流出方向がガイドされ、基板の乾
燥処理の終了した側にはこの蓋体の突出形成した部分で
遮ってエアを流出させることがない。そのため、基板表
面の処理液がエアに含まれて飛散していても、そのエア
による影響が基板の乾燥処理の終了した側に及ぶことが
なく、基板の処理状態を良好にすることが可能となる。

【００１９】また、蓋体の突出形成させた部分が設けら
れることで、エアの流出方向がガイドされ、それによっ
てエアナイフを傾斜させる等のエアの流出路を傾斜させ
る構成を設けないで済む。

【００２０】請求項４の発明によると、蓋体の基板側の
端部に噴出口から噴出されるエアをチャンバ体側に向か
い誘導する誘導部材が設けられたため、この誘導部材で
エアのチャンバ体側、すなわち基板の乾燥処理していな
い部位へ一層導き易くなる。そのため、基板表面に付着
した処理液を一層飛散させ易くなると共に、基板の乾燥
処理の終了した側にそのエアによる影響が生じるのを一
層防止することが可能となる。それによって、基板の処
理状態を一層良好な状態にすることが可能となる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図１ないし図４に基づいて説明する。図４に示す
エアナイフを用いた処理装置２０は筐体２１を有してお
り、この筐体２１の内部には矩形状の基板２２を所定の
方向に搬送する搬送機構２３が設けられている。この搬
送機構２３には、基板２２の搬送経路を形成すべく複数
の搬送ローラ２４が配設されていて、またこの搬送ロー
ラ２４の両端部にはこの搬送ローラ２４を回動自在に支
持する支持部２５が設けられている。

【００２２】これら搬送ローラ２４には、夫々第１のプ
ーリ２４ａが取り付けられており、これに所定の張力で
第１のベルト２６が掛け渡されている。また、搬送ロー
ラ２４の一つには、外方側に第２のプーリ２４ｂが取り
付けられている。

【００２３】一方、搬送機構２３の外縁側には駆動源と
してのモータ２７が設けられており、このモータ２７は
駆動プーリ２７ａを具備している。そして、この駆動プ
ーリ２７ａと第２のプーリ２４ｂの間には、第２のベル
ト２８が掛け渡され、これら第１のベルト２６、第２の
ベルト２８を介して夫々の搬送ローラ２４に駆動力が伝
達される仕組みとなっている。

【００２４】上記搬送機構２３は、搬送される基板２２
の両面にエアを噴射する第１のエアナイフ３０ａ及び第
２のエアナイフ３０ｂを夫々搬送ローラ２４の上下両方
向に有している。この搬送機構２３では、搬送される基
板２２に対してエアを噴射して、前工程での処理の際等
に付着した処理液を基板２２の表面から飛散させる乾燥
処理を行うべく、上述の第１、第２のエアナイフ３０
ａ，３０ｂを設けている。

【００２５】図１に示すように、上記第１、第２のエア
ナイフ３０，３０ｂは、基板２２の搬送方向に対して斜
め（例えばその角度が略４５度）に取付けられると共
に、第１のエアナイフ３０ａと第２のエアナイフ３０ｂ
とは略対称形状を為して設けられている。また、基板２
２の幅方向の全体に亘って均一な乾燥処理を行う必要か
ら、長尺状に設けられたチャンバ体３１ａ，３１ｂ、ス
リット体３２ａ，３２ｂ、蓋体３３ａ，３３ｂから構成
されている。

【００２６】上記チャンバ体３１ａ，３１ｂは、エアナ
イフ３０ａ，３０ｂの背面を構成する板状部材から適宜
の高さの立設部３４が外周側の全周に亘り設けられてお
り、それによってスリット体３２ａ，３２ｂ及び蓋体３
３ａ，３３ｂでこのチャンバ体３１ａ，３１ｂを覆え
ば、図２に示すようにその内部にエアを拡散させるだけ
の内部空間３５が設けられる構成となっている。

【００２７】このエアナイフ３０ａ，３０ｂのチャンバ
体３１ａ，３１ｂの上面には、角筒状に設けられたパイ
プ部材３６ａ，３６ｂが取り付けられる。パイプ部材３
６ａ，３６ｂは、内部が空洞に形成されており、その背
面にはこの内部にエアを導入するためのエア導入口３７
が形成されている。このエア導入口３７には、外部に設
けられた図示しない清浄空気の供給手段に連結された導
入管３８が取付けられ、この内部にエアの導入を行う構
成としている。

【００２８】そして、パイプ部材３６ａ，３６ｂの下面
には内部に導入されたエアを流出させる流出口３９が形
成されている。この流出口３９に対応して、上記チャン
バ体３１ａ，３１ｂの上面にはエアを導入する導入口４
０が形成されており、その導入口４０の形成される位置
は、上記パイプ部材３６ａ，３６ｂをチャンバ体３１
ａ，３１ｂの上面に取り付けた場合に、流出口３９と対
応する位置となっている。

【００２９】これらの構成により、内部空間３５までエ
アが導入され、拡散される構成となっている。上記チャ
ンバ体３１ａ，３１ｂの開放側には、スリット体３２
ａ，３２ｂが接合し、さらにこのスリット体３２ａ，３
２ｂに蓋体３３ａ，３３ｂが接合する構成となってい
る。スリット体３２ａ，３２ｂは、その長手方向両端部
分が上記チャンバ体３１ａ，３１ｂの長手方向の両端側
に形成された立設部３４に対応した長さだけ形成されて
いる。すなわち、この部分が最もエアナイフ３０ａ，３
０ｂの上下方向に突出した長さとなっている。

【００３０】スリット体３２ａ，３２ｂの両端部の間は
櫛歯状に形成されていて、その櫛歯に対応する突出部４
１は、チャンバ体３１ａ，３１ｂの下端の立設部３４に
差し掛かる長さとなっている。また、突出部４１が設け
られていない部位は、切欠き部４２となっており、この
部分はスリット体３２ａ，３２ｂの縁部より上記チャン
バ体３１ａ，３１ｂの内部空間３５に差し掛かるように
切り欠かれた形状となっている。

【００３１】そして、この立設部３４及び突出部４１、
更には蓋体３３ａ，３３ｂの該当位置にネジ孔４３を形
成し、さらにはそれ以外の長手方向の両端側及び上端部
分にもネジ孔４３を形成し、これらを一体的に立設部３
４に対して係止固定することで、エアナイフ３０ａ，３
０ｂが構成されている。

【００３２】上記切欠き部４２は、図３に示すように、
内部空間３５に連通するように開放して形成されてい
る。そのため、この部分がエアを吹出す吹出し口４４と
しての機能を奏している。なお、この吹出し口４４は、
スリット体３２ａ，３２ｂに当接して取り付けられる蓋
体３３ａ，３３ｂと対向しており、この吹出し口４４よ
り吹出したエアは、すぐに蓋体３３ａ，３３ｂにぶつか
り基板２２側以外に行き場がなくそこに導く構成となっ
ている。

【００３３】そして、スリット体３２ａ，３２ｂに当接
して取り付けられる蓋体３３ａ，３３ｂは、その長手方
向の大きさ及び基板２２と離間している側が、上記スリ
ット体３２ａ，３２ｂに対応した大きさとなっている。
しかしながら、チャンバ体３１ａ，３１ｂ及びスリット
体３２ａ，３２ｂの基板２２と対向する部位は、これら
よりも基板２２に向かい突出した延出部４５を有するよ
うに、長く形成されている。

【００３４】そのため、これらチャンバ体３１ａ，３１
ｂ、スリット体３２ａ，３２ｂ及び蓋体３３ａ，３３ｂ
がネジにより一体的に固定されると、スリット体３２
ａ，３２ｂの切欠き部４２においてはスリット体３２
ａ，３２ｂが存しないため、その厚み分だけの隙間が上
記チャンバ体３１ａ，３１ｂの立設部３５と蓋体３３
ａ，３３ｂの間の部分に形成され、その部分が上記吹出
し口４４から吹出したエアを基板２２に向かい噴出させ
る噴出口４６として設けられる。

【００３５】また、蓋体３３ａ，３３ｂはチャンバ体３
１ａ，３１ｂ及びスリット体３２ａ，３２ｂよりも基板
２２側に突出した延出部４５が設けられる構成であるた
め、上記噴出口４６から噴出されたエアが蓋体３３ａ，
３３ｂの前方側に向かわないように規制する規制部材と
しての機能を果たす。

【００３６】なお、延出部４５が規制部材として有効に
機能するために、搬送される基板２２に対し延出部４５
の端部が近接した配置となっている。上記第１のエアナ
イフ３０ａ及び第２のエアナイフ３０ｂを支持すべく、
その両端には支持機構５０が設けられている。この支持
機構５０は、筐体２１に取付固定されており、上述の如
く第１のエアナイフ３０ａ及び第２のエアナイフ３０ｂ
が基板２２の搬送方向に対して例えば略４５度の角度を
為すような位置関係に取付けられている。

【００３７】なお、第２のエアナイフ３０ｂにより基板
２２の下面へのエアの噴射が遮断されないよう、夫々の
搬送ローラ２４は、第２のエアナイフ３０ｂより噴射さ
れるエアの流路に対応する部分、すなわち第１、第２の
エアナイフ３０ａ，３０ｂの略４５度の傾斜角度に対応
した位置で、エアの流れを妨げないよう、夫々のローラ
部分の長さが設定されている。それ故、搬送ローラ２４
は二つに分割されたり、或いはローラ部分の長さが制限
される形状となっている。

【００３８】上記支持機構５０は、夫々第１のエアナイ
フ３０ａ及び第２のエアナイフ３０ｂを支持すると共
に、これら第１、第２のエアナイフ３０ａ，３０ｂの基
板２２に対する高さ位置を調整するために、調整つまみ
５１がその上端部分に設けられている。そのため、調整
つまみ５１をねじ込むだけで様々な厚さの基板２２の乾
燥処理を良好に行える構成としている。

【００３９】以上のような構成を有するエアナイフを用
いた処理装置２０の作用について、以下に説明する。ま
ずエアによる基板２２の乾燥処理を行う前に、第１のエ
アナイフ３０ａ及び第２のエアナイフ３０ｂの基板２２
に対する高さ位置の調整を行う。この調整は、調整つま
み５１を回転させることで夫々第１、第２のエアナイフ
３０ａ，３０ｂの基板２２に対する高さ位置の調整を行
う。

【００４０】適宜の高さに第１、第２のエアナイフ３０
ａ，３０ｂの調整を終了した後に、基板２２の搬送を開
始すると共に、エア導入口３７よりパイプ部材３６ａ，
３６ｂ内部へのエアの導入を開始する。この場合、基板
２２を搬送する方向は、図２に矢印で示すように、チャ
ンバ体３１ａ，３１ｂ及びパイプ部材３６ａ，３６ｂの
背面側から延出部４５に向かう方向となっている。

【００４１】パイプ部材３６ａ，３６ｂ内部に導入され
たエアは、流出口３９及び導入口４０を介してチャンバ
体３１ａ，３１ｂの内部空間３５に導入され、そのまま
内部空間３５の下方に移動してチャンバ体３１ａ，３１
ｂの立設部とスリット体３２ａ，３２ｂの突出部３４の
間の吹出し口４４より噴出される。

【００４２】吹出し口４４より噴出されたエアは、蓋体
３３ａ，３３ｂにぶつかることによりその進行する向き
が規制され、下方に向かいガイドされて噴出口４６より
噴出される。

【００４３】噴出口４６よりエアが噴出されても、エア
は延出部４５の存在によりこの延出部４５よりも前方に
は進行せず、基板２２にエアが衝突した後には、エアは
この基板２２に沿って基板２２の進行方向とは逆方向、
すなわち延出部４５からチャンバ体３１ａ，３１ｂ及び
パイプ部材の背面側に向かい進行する。そのため、基板
２２に付着している処理液は、このエアの進行と共に基
板２２の進行方向の逆方向に向かい吹き飛ばされる構成
となっている。

【００４４】そして、基板２２の末端部が延出部の間を
通過すれば、一枚の基板２２の乾燥処理が終了する構成
となっている。このような構成のエアナイフ３０ａ，３
０ｂ及びエアナイフを用いた処理装置２０によると、ス
リット体３２ａ，３２ｂには突出部４１及び切欠き部４
２が設けられているので、突出部４１が立設部３４及び
蓋体３３ａ，３３ｂに接合してエアナイフ３０ａ，３０
ｂが構成されることで、切欠き部４２を一定間隔の隙間
に維持して取付けることが可能となる。

【００４５】すなわち、これらを一体的に固定した場合
には、図１に示すように、エアナイフ３０ａ，３０ｂの
長手方向に亘り、突出部４１及び切欠き部４２が一定の
間隔で設けられているので、突出部４１をチャンバ体３
１ａ，３１ｂ及び蓋体３３ａ，３３ｂに接合するように
ネジなどで締め付ければ、切欠き部４２はスリット体３
２ａ，３２ｂの厚みに対応した一定間隔の隙間に維持で
きる。

【００４６】そして、この切欠き部４２が噴出口４６と
して機能しているので、この噴出口４６の間隔がエアナ
イフ３０ａ，３０ｂの長手方向に亘って一定となってい
る。このため、従来のように押し引きネジなどにより、
噴出口４６の間隔調整を行うことがなくなる。

【００４７】また、蓋体３３ａ，３３ｂの基板２２側が
チャンバ体３１ａ，３１ｂ及びスリット体３２ａ，３２
ｂよりも突出した延出部４５となっているため、基板２
２の乾燥処理の終了した側に、この基板２２の表面に衝
突して処理液を含んでいるエアが流れて基板２２のこの
部位に処理液を付着させることがなくなる。このため、
基板２２の乾燥処理状態を良好にすることが可能とな
る。

【００４８】また、延出部４５を設けたことにより、エ
アの流路を傾けるべくエアナイフを傾斜させる構成や噴
出口４６を傾斜させた構成を取る必要がなく、構成を簡
素化させることが可能となる。

【００４９】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記実施の形態では、蓋
体３３ａ，３３ｂから基板２２に向かい突出させた延出
部４５を設けた構成により、上記噴出口４６から噴出さ
れるエアを基板２２の搬送方向とは逆方向にガイドする
構成としているが、図５に示すように、この延出部４５
の基板２２側の端部にエアの誘導部材としてガイド板５
０を取り付ける構成としても構わない。

【００５０】この場合、延出部４５は上述の実施の形態
で述べた形状よりも突出長さが短く、例えばその突出長
さを略１，２ｍｍ程度だけ噴出口４６から突出させた状
態としている。

【００５１】そして、この延出部４５の端部に取り付け
られるガイド板５０は、基板２２の搬送方向の逆方向に
向かう角度を為し傾斜して取り付けられ、このガイド板
５０により、噴出口４６から噴出されたエアが基板２２
の搬送方向の逆方向にガイドされる。

【００５２】そのため、一層基板２２の乾燥処理が終了
した部位に処理液を含んだエアを飛散させることがなく
なる。また、基板２２の表面に沿ってエアが流れ易くな
るので、このエアによる処理液の飛散具合を良好にする
ことが可能となる。

【００５３】また、上記実施の形態では、エアナイフ３
０ａ，３０ｂは基板２２の上下方向で傾斜せずに、基板
２２に対して垂直に配置した構成であるが、別段エアナ
イフ３０ａ，３０ｂを傾斜させた構成でも構わない。

【００５４】また、スリット体３２ａ，３２ｂは櫛歯形
状に限られず、所定間隔で突出部４１及び切欠き部４２
が形成されている構成であれば、その形状はこれに限定
されない。その他、本発明の要旨を変更しない範囲にお
いて、種々変形可能となっている。

【００５５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
スリット体の厚みに対応して噴出口の間隔を一定に保つ
ことが可能となる。それにより、わざわざ噴出口の間隔
を調整する手間が省ける。

【００５６】また、蓋体の突出形成されている部分を基
板に近づけて設けることで、エアの流出方向がガイドさ
れ、さらに基板の乾燥処理の終了した側にはエアを流出
させることがない。そのため、基板の乾燥処理した側に
エアの影響が及ぶことがない。さらに、エアの流出方向
がガイドされることで、エアナイフを傾斜させる等のエ
アの流出路を傾斜させる構成を設けないで済む。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係わるエアナイフの形
状を示す分解斜視図。

【図２】同実施の形態に係わるエアナイフの形状を示す
側断面図。

【図３】同実施の形態に係わるエアナイフのチャンバ体
とスリット体の接合状態を示す正面図。

【図４】同実施の形態に係わるエアナイフを用いた処理
装置の構成を示す平面図。

【図５】本発明の変形例に係わるエアナイフの形状を示
す側断面図。

【図６】従来のエアナイフの形状を示す分解斜視図。

【符号の説明】

２０…エアナイフを用いた処理装置 ２２…基板 ３０ａ，３０ｂ…エアナイフ ３１ａ，３１ｂ…チャンバ体 ３２ａ，３２ｂ…スリット体 ３３ａ，３３ｂ…蓋体 ３４…立設部 ３６ａ，３６ｂ…パイプ部材 ４１…突出部 ４２…切欠き部 ４４…吹出し口 ４５…延出部 ４６…噴出口

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板表面にエアを噴射してこの基板に付
   着した処理液を除去するエアナイフにおいて、 外部からエアが導入される窪みを有するチャンバ体と、 上記チャンバ体に対応する形状に形成された蓋体と、 上記チャンバ体と蓋体に接合してこれらの間に挾持され
   ると共に、上記チャンバ体の一側部に対応する部分に上
   記窪みに差し掛かる切欠き部が所定間隔で形成され、こ
   の切欠き部がエアの噴出口として機能するスリット体
   と、 を具備することを特徴とするエアナイフ。
2. 【請求項２】 上記蓋体の一端部は、上記噴出口から噴
   出されるエアの流出方向に沿って上記チャンバ体及びス
   リット体よりも突出形成されていることを特徴とする請
   求項１記載のエアナイフ。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２記載のエアナイ
   フ及び上記基板を搬送する搬送機構を具備することを特
   徴とするエアナイフを用いた処理装置。
4. 【請求項４】 上記蓋体の基板側の端部には、上記噴出
   口から噴出されるエアを上記チャンバ体側に向かい誘導
   する誘導部材が設けられていることを特徴とする請求項
   ２記載のエアナイフ。