JPH11274110A - Cutting method and apparatus for semiconductor wafer - Google Patents

Cutting method and apparatus for semiconductor wafer

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JPH11274110A
JPH11274110A JP9282198A JP9282198A JPH11274110A JP H11274110 A JPH11274110 A JP H11274110A JP 9282198 A JP9282198 A JP 9282198A JP 9282198 A JP9282198 A JP 9282198A JP H11274110 A JPH11274110 A JP H11274110A
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JP
Japan
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wafer
cutting
street
suction
chuck table
Prior art date
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JP9282198A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Bando
和彦 坂東
Michio Osada
道男 長田
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Towa Corp
Original Assignee
Towa Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To set a wafer on a wafer mounting face of a vacuum chuck table without using a wafer sheet, and surely chuck each wafer chip to the mounting face after the wafer has been cut efficiently with a cutting blade. SOLUTION: A wafer 1 is chucked and fixed on a wafer mounting face 3 with a rectangular chucking opening 7 corresponding to a chip part 4 of the wafer 1. A clearance groove 11 for a blade 6 according to a street 5 is put in matching with a street 5, and the wafer 1 is cut along the street 5 with the cutting blade 6 to cut the wafer 1 into a desired plurality of chips 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハを所要
複数個のチップ(IC等)に切断する半導体ウェーハの
切断方法(ダイシング方法)及びその切断装置(ダイシ
ング装置)の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of dicing a semiconductor wafer (dicing method) for cutting a semiconductor wafer into a plurality of required chips (ICs and the like) and to an improvement of the cutting apparatus (dicing apparatus).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体ウェーハをウェーハ切
断装置で所要複数個のチップに切断することが行われて
いる。例えば、前記した装置には、前記ウェーハを吸着
固定するウェーハ吸着固定用の真空チャックテーブルが
設けられて構成されると共に、前記真空チャックテーブ
ル面には前記ウェーハを載置するウェーハ載置面が形成
され、前記ウェーハ載置面には前記ウェーハを吸着する
吸着口が適宜に設けられて構成されている。また、前記
した装置には、前記したウェーハに形成されたストリー
ト(研削ライン)に沿って切溝を入れることにより前記
ウェーハを所要複数個のチップに切断するダイヤモンド
ホイル等のウェーハ切断用ブレードとが設けられて構成
されている。また、前記ウェーハから切断された各チッ
プが散らばることを防止する等のために、前記ウェーハ
に前記ウェーハシートを接着層(接着剤)を介して貼り
つける構成が用いられると共に、前記ウェーハのウェー
ハ載置面への吸着固定時に、前記ウェーハは前記ウェー
ハシートを介して前記ウェーハ載置面に吸着固定するこ
とができるように構成されている。従って、前記ブレー
ドを用いて前記ウェーハを完全に切断(切削)してフル
ダイシングすることにより、前記ウェーハを前記所要複
数個のチップに切断分離することができるように構成さ
れている。このとき、前記ウェーハシートは、例えば、
その厚さの一部にまで前記ブレードで切り込まれるよう
に構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor wafer has been cut into a required number of chips by a wafer cutting apparatus. For example, the above-mentioned apparatus is provided with a vacuum chuck table for wafer suction fixing for holding the wafer by suction, and a wafer mounting surface for mounting the wafer is formed on the vacuum chuck table surface. A suction port for sucking the wafer is appropriately provided on the wafer mounting surface. Further, the above-mentioned apparatus includes a wafer cutting blade such as a diamond foil for cutting the wafer into a required number of chips by making a kerf along a street (grinding line) formed on the wafer. It is provided and configured. Further, in order to prevent the chips cut from the wafer from being scattered, a configuration is used in which the wafer sheet is attached to the wafer via an adhesive layer (adhesive), and the wafer is mounted on the wafer. The wafer is configured to be suction-fixed to the wafer mounting surface via the wafer sheet when being suction-fixed to the mounting surface. Therefore, by completely cutting (cutting) the wafer using the blade and performing full dicing, the wafer can be cut and separated into the required plurality of chips. At this time, the wafer sheet, for example,
The blade is configured to be cut by a part of its thickness.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、後述す
るように、前記したウェーハシートを用いることによる
弊害がある。例えば、前記ウェーハの切断時に、前記ウ
ェーハシートをその接着層の一部にまで切り込むことに
なるので、前記したダイヤモンドホイルが目詰まりを起
こして切断性が下がり、前記ホイルの寿命が低下して前
記したウェーハの切断面における精度が不安定になる。
また、前記したウェーハシートを用いることは、前記チ
ップの共晶ボンディング時に、前記ウェーハシートの接
着剤に含まれる塩素イオンが共晶皮膜の形成を妨げると
共に、前記塩素イオンが残存して半導体(チップ)の酸
化を促進し、前記チップの電気的特性の低下を招くこと
になる。
However, as will be described later, there is an adverse effect due to the use of the above-mentioned wafer sheet. For example, when cutting the wafer, the wafer sheet is cut into a part of the adhesive layer, so that the diamond foil causes clogging and cutability is reduced, and the life of the foil is shortened and The accuracy of the cut surface of the damaged wafer becomes unstable.
Further, the use of the above-mentioned wafer sheet means that at the time of the eutectic bonding of the chips, the chlorine ions contained in the adhesive of the wafer sheet prevent the formation of the eutectic film, and the chlorine ions remain and the semiconductor (chip) ) Is promoted, and the electrical characteristics of the chip are degraded.

【0004】また、前記したウェーハシートを用いない
で前記したウェーハ載置面で前記ウェーハを吸着固定し
た場合、前記したウェーハ載置面に吸着口が適宜に設け
られているため、前記ウェーハを所要数のチップに切断
分離した後、前記吸着口に合致しないチップが存在して
前記全チップを前記ウェーハ載置面に確実に吸着固定す
ることができないと云う弊害がある。
When the wafer is suction-fixed on the wafer mounting surface without using the wafer sheet, since the suction port is appropriately provided on the wafer mounting surface, the wafer is not required. After cutting and separating into a number of chips, there is a problem that there is a chip that does not match the suction port, and it is not possible to reliably suction-fix all the chips to the wafer mounting surface.

【0005】なお、前記ウェーハの厚さの半分程度の深
さで切溝を入れるハーフダイシングを行うことにより、
前記ウェーハシートを前記ブレードで切断しない構成が
検討されている。この場合、前記ハーフダイシング後、
前記ウェーハの表面に紙を被覆し、ローラで前記ウェー
ハのストリートに加工された切溝に沿って割れ目を入れ
るブレーキングを行うか、若しくは、円弧状の治具で前
記ウェーハ面を突き上げ、前記ウェーハシートを引き伸
ばしてブレーキングを行い、前記ウェーハを個々のチッ
プに分割するようにしている。このハーフダイシングに
よる切断方法は、前記ウェーハの破片が(例えば、ガラ
スを割る場合と同様に)発生して前記(半導体)チップ
の電子回路上に載って前記チップの電子回路を切断する
ことがある。なお、このことが、半導体を微細加工化す
る場合には半導体自体の欠陥としてクローズアップされ
ることになる。
[0005] By performing half dicing to form a kerf at a depth of about half the thickness of the wafer,
A configuration in which the wafer sheet is not cut by the blade is being studied. In this case, after the half dicing,
The surface of the wafer is covered with paper, and a breaking is performed along a cut groove formed on the street of the wafer with a roller, or the wafer surface is pushed up with an arc-shaped jig, and the wafer is pushed up. The sheet is stretched and braking is performed to divide the wafer into individual chips. In the cutting method by the half dicing, there is a case where fragments of the wafer are generated (for example, similar to the case of breaking glass) and mounted on the electronic circuit of the (semiconductor) chip to cut the electronic circuit of the chip. . In the case where the semiconductor is microfabricated, this is brought up as a defect of the semiconductor itself.

【0006】従って、本発明は、ウェーハシートを用い
ずに、半導体ウェーハを真空チャックテーブルのウェー
ハ載置面にセットすると共に、前記ウェーハを効率良く
切断することができる半導体ウェーハの切断方法及びそ
の切断装置を提供することを目的とする。また、本発明
は、半導体ウェーハから切断されたチップを真空チャッ
クテーブルのウェーハ載置面に各別に且つ確実に吸着す
ることのできる半導体ウェーハの切断方法及びその切断
装置を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention provides a method for cutting a semiconductor wafer and a method for cutting the wafer efficiently, while setting a semiconductor wafer on a wafer mounting surface of a vacuum chuck table without using a wafer sheet. It is intended to provide a device. It is another object of the present invention to provide a semiconductor wafer cutting method and a cutting device capable of individually and surely adsorbing chips cut from a semiconductor wafer to a wafer mounting surface of a vacuum chuck table. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記技術的課題を解決す
るための本発明に係る半導体ウェーハの切断方法は、半
導体ウェーハを所要複数個のチップに切断するウェーハ
の切断装置を用いて該装置における真空チャックテーブ
ルに前記ウェーハを載置して吸着固定すると共に、切断
用のブレードで前記ウェーハに設定したストリートに沿
って切断する半導体ウェーハの切断方法であって、前記
真空チャックテーブル面に前記ストリートに対応してブ
レードの逃げ溝を設ける工程と、前記ウェーハの載置時
に、前記ストリートと前記ブレードの逃げ溝とを合致さ
せる工程と、前記チップ部の切断形状に沿って形成した
開口周縁形状を有する吸着口にて前記チップ部を各別に
吸着する工程とを備えたことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method for cutting a semiconductor wafer, comprising the steps of: cutting a semiconductor wafer into a plurality of chips; A method of cutting a semiconductor wafer, wherein the wafer is placed on a vacuum chuck table and fixed by suction, and cut along a street set on the wafer with a cutting blade. Correspondingly, a step of providing a relief groove of the blade, a step of matching the street and the relief groove of the blade when mounting the wafer, and an opening peripheral shape formed along the cut shape of the chip portion. And a step of separately adsorbing the chip portions at the suction port.

【0008】また、前記した技術的課題を解決するため
の本発明に係る半導体ウェーハの切断装置は、半導体ウ
ェーハを載置して吸着固定する真空チャックテーブル
と、前記ウェーハ面にストリートを設定するアライメン
ト手段と、前記ウェーハを前記ストリートに沿って切断
して所要複数個のチップを形成する切断用ブレードと、
前記真空チャックテーブルに一端側が連通接続した真空
経路と、前記真空経路の他端側に連通接続した真空引き
手段とを備えた半導体ウェーハの切断装置であって、前
記した真空チャックテーブル面に前記ストリートに対応
してブレードの逃げ溝を設けると共に、前記した真空チ
ャックテーブル面に前記チップ部に各別に対応して設け
られた吸着口の開口周縁形状を前記チップ部の切断形状
に沿って形成したことを特徴とする。
A semiconductor wafer cutting apparatus according to the present invention for solving the above-mentioned technical problems includes a vacuum chuck table for mounting and adsorbing and fixing a semiconductor wafer, and an alignment for setting a street on the wafer surface. Means, a cutting blade for cutting the wafer along the street to form a required number of chips,
An apparatus for cutting a semiconductor wafer, comprising: a vacuum path having one end connected to the vacuum chuck table; and vacuum means communicating with the other end of the vacuum path. In addition to providing a relief groove of the blade corresponding to the above, the opening peripheral shape of the suction port provided in the vacuum chuck table surface corresponding to each of the chip portions is formed along the cut shape of the chip portion. It is characterized by.

【0009】また、前記した技術的課題を解決するため
の本発明に係る半導体ウェーハの切断装置は、前記した
吸着口における開口周縁形状を矩形にて形成すると共
に、前記矩形吸着口における開口周縁形状の線をストリ
ートの内側近傍に設けたことを特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor wafer cutting apparatus for forming a rectangular opening at the suction port, and forming the opening at the rectangular suction port. Is provided near the inside of the street.

【0010】[0010]

【作用】本発明によれば、半導体ウェーハの切断装置に
設けた真空チャックテーブルのウェーハ載置面に前記ウ
ェーハにストリートで区画された所要複数個のチップ部
に対応して各別に吸着口を設けると共に、前記吸着口に
おける開口周縁形状を前記チップ部の切断形状(前記ス
トリートの方向)に沿って形成したので、前記ウェーハ
を前記ウェーハ載置面に載置した時に、前記吸着口で前
記チップ部を各別に吸着することにより、前記ウェーハ
を前記ウェーハ載置面に確実に吸着固定することができ
る。また、前記チップ部に対応して各別に吸着口を設け
る構成であるので、切断用ブレードで前記ウェーハから
前記チップを切断した後、前記したウェーハから切断さ
れたチップを前記ウェーハ載置面に各別に且つ確実に吸
着固定することができる。また、本発明によれば、前記
した吸着口の開口周縁形状の線は前記チップ部の切断形
状の線の内側近傍に設けられて構成されているので、前
記ウェーハのチップ部(或いは前記ウェーハから切断さ
れたチップ)に対する吸着面積を拡大することができる
と共に、前記ウェーハ(前記チップ)に対する吸着力を
強化することができる。また、本発明によれば、前記ウ
ェーハを前記ブレードで切断するとき、前記ウェーハか
ら切断されるチップを確実に且つ各別に吸着固定するこ
とができると共に、前記ブレードを前記ウェーハ載置面
に前記ストリートに対応して設けたブレードの逃げ溝に
進入させて切断することができるので、前記ウェーハを
所要複数個のチップに効率良く切断することができる。
According to the present invention, suction holes are separately provided on a wafer mounting surface of a vacuum chuck table provided in a semiconductor wafer cutting device in correspondence with a plurality of required chip sections divided into streets on the wafer. In addition, since the peripheral shape of the opening in the suction port is formed along the cut shape of the chip portion (the direction of the street), when the wafer is placed on the wafer mounting surface, the chip portion is held by the suction port. By suctioning the wafers separately, the wafer can be surely suction-fixed to the wafer mounting surface. Further, since the suction port is provided separately for each of the chip portions, after cutting the chips from the wafer with a cutting blade, the chips cut from the wafer are each placed on the wafer mounting surface. Separately and surely can be fixed by suction. Further, according to the present invention, since the line of the peripheral shape of the opening of the suction port is provided near the inside of the line of the cutting shape of the chip portion, the chip portion of the wafer (or the The suction area for the cut chips can be increased, and the suction force for the wafer (the chips) can be enhanced. Further, according to the present invention, when the wafer is cut by the blade, the chips cut from the wafer can be securely and separately suction-fixed, and the blade can be stuck on the wafer mounting surface by the street. In this case, the wafer can be cut by entering the escape groove of the blade provided correspondingly, so that the wafer can be efficiently cut into a required number of chips.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明を実施例図に基づいて詳細に説
明する。図1・図2・図3は、本発明に係る半導体ウェ
ーハ(被研削物)を切断(ダイシング)して所要複数個
のチップ(IC等)を形成する切断装置(ダイシング装
置)である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIGS. 1, 2 and 3 show a cutting apparatus (dicing apparatus) for cutting (dicing) a semiconductor wafer (object to be ground) according to the present invention to form a required plurality of chips (ICs and the like).

【0012】即ち、前記切断装置には、例えば、半導体
ウェーハ1を収容するウェーハ収容部(図示なし)と、
前記ウェーハ1を載置して吸着固定する真空チャックテ
ーブル2と、前記真空チャックテーブル2の上面(真空
チャックテーブル面)に設けられた前記ウェーハを載置
するウェーハ載置面3と、前記収容部から前記ウェーハ
載置面3に前記ウェーハ1を搬送する搬送手段(図示な
し)と、前記ウェーハ載置面3上の前記ウェーハ1をア
ライメントとして前記ウェーハ1の表面に所要複数個の
チップ部4を区画する研削ライン(ストリート5)を設
定するアライメント手段(図示なし)と、前記ウェーハ
載置面3に載置されたウェーハ1を前記ストリート5に
沿って所要複数個のチップ4に切断する切断用のブレー
ド6とが設けられて構成されている。また、前記ウェー
ハ載置面3には、前記した載置面3に載置されたウェー
ハ1のストリート5に対応してブリードの逃げ溝11が設
けられている。従って、図3に示すように、前記ウェー
ハ1の前記ウェーハ載置面3への載置時に、前記ブリー
ドの逃げ溝11に前記ストリート5を合致させると共に、
前記ウェーハの切断時に、前記ストリート5の下方にあ
る逃げ溝11内に前記ブレード6を進入させて前記ウェー
ハ1を前記所要複数個のチップ4に切断することができ
るように構成されている。なお、図例では、前記ストリ
ート5の(伸長)方向が縦横に互いに直角になるように
構成されると共に、前記ストリート5で区画されて形成
されるチップ部4は平面的に矩形である。
That is, the cutting apparatus includes, for example, a wafer accommodating section (not shown) for accommodating the semiconductor wafer 1;
A vacuum chuck table 2 on which the wafer 1 is mounted and fixed by suction; a wafer mounting surface 3 provided on an upper surface (vacuum chuck table surface) of the vacuum chuck table 2 for mounting the wafer; Transfer means (not shown) for transferring the wafer 1 from the wafer mounting surface 3 to the wafer mounting surface 3, and a required number of chip portions 4 on the surface of the wafer 1 with the wafer 1 on the wafer mounting surface 3 being aligned. An alignment means (not shown) for setting a grinding line (street 5) to be sectioned, and a cutting means for cutting the wafer 1 mounted on the wafer mounting surface 3 into a required number of chips 4 along the street 5 Are provided. A bleed relief groove 11 is provided on the wafer mounting surface 3 corresponding to the street 5 of the wafer 1 mounted on the mounting surface 3. Therefore, as shown in FIG. 3, when the wafer 1 is mounted on the wafer mounting surface 3, the streets 5 are matched with the clearance grooves 11 of the bleed,
At the time of cutting the wafer, the blade 6 is made to enter the clearance groove 11 below the street 5 so that the wafer 1 can be cut into the required plurality of chips 4. In the illustrated example, the (extending) directions of the streets 5 are configured to be perpendicular to each other vertically and horizontally, and the chip portions 4 formed by being divided by the streets 5 are rectangular in plan.

【0013】また、前記ウェーハ載置面3には前記ウェ
ーハ1を吸着する吸着口7が所要数設けられると共に、
前記各吸着口7は前記したウェーハ載置面3に載置され
たウェーハ1の各チップ部4に対応して各別に設けられ
ている。また、前記吸着口7には真空ホース等の真空経
路8の一端側が連通接続されると共に、前記真空経路8
の他端側には真空引きする真空ポンプ等の真空引き手段
9が連通接続されて構成されている。従って、前記真空
引き手段8を作動させて前記各吸着口7で前記ウェーハ
1の吸着することにより、前記ウェーハ1を前記ウェー
ハ載置面3に吸着固定することができるように構成され
ている。なお、図例では、前記真空チャックテーブル2
のウェーハ載置面3の下部側に多孔質材料等で形成され
た連通部10が設けられると共に、前記真空引き手段9で
前記吸着口7及び前記連通部10を通して真空引きするこ
とにより、前記ウェーハ1を前記ウェーハ載置面3に吸
着させることができるように構成されている(図2参
照)。また、前記した真空引き手段9に連通接続した真
空経路8を分岐して前記各吸着口7に前記各分岐真空経
路を直接的に且つ各別に連通接続する構成を採用するこ
とができる。
A required number of suction ports 7 for sucking the wafer 1 are provided on the wafer mounting surface 3.
Each of the suction ports 7 is separately provided corresponding to each of the chip portions 4 of the wafer 1 mounted on the wafer mounting surface 3. Further, one end of a vacuum path 8 such as a vacuum hose is connected to the suction port 7 and connected to the vacuum path 8.
The other end is connected to a vacuum evacuation means 9 such as a vacuum pump for evacuation. Therefore, the wafer 1 can be suction-fixed to the wafer mounting surface 3 by operating the vacuuming means 8 to suck the wafer 1 at each suction port 7. In the illustrated example, the vacuum chuck table 2 is used.
A communication portion 10 made of a porous material or the like is provided below the wafer mounting surface 3 and the wafer is evacuated by the evacuation means 9 through the suction port 7 and the communication portion 10. 1 is attached to the wafer mounting surface 3 (see FIG. 2). Further, it is possible to adopt a configuration in which the vacuum path 8 connected to the evacuation means 9 is branched and the branch vacuum paths are connected to the suction ports 7 directly and individually.

【0014】また、前記吸着口7はその開口周縁形状を
前記チップ部4の切断形状(前記ストリート5の方向)
に沿って構成されている。従って、前記ウェーハ1を前
記ウェーハ載置面3に載置した時に、前記吸着口7で前
記チップ部4を各別に吸着することにより、前記ウェー
ハ1を前記ウェーハ載置面3に確実に吸着固定すること
ができるように構成されると共に、前記ウェーハ1から
前記チップ4を切断した後、前記したウェーハ1から切
断されたチップ4を前記ウェーハ載置面3に各別に且つ
確実に吸着固定することができるように構成されてい
る。
The suction port 7 is formed such that the peripheral shape of the opening is the cut shape of the chip portion 4 (the direction of the street 5).
It is configured along. Therefore, when the wafer 1 is mounted on the wafer mounting surface 3, the chip portions 4 are separately suctioned by the suction ports 7, thereby securely suction-fixing the wafer 1 to the wafer mounting surface 3. And, after cutting the chips 4 from the wafer 1, individually and reliably suction-fixing the chips 4 cut from the wafer 1 to the wafer mounting surface 3. It is configured to be able to.

【0015】例えば、図2に示す図例では、前記チップ
部4の切断形状を矩形にて形成されているので、前記矩
形チップ部4の切断形状に沿って前記吸着口7の開口周
縁形状が矩形にて形成されると共に、前記矩形吸着口7
は前記チップ部4に各別に対応して設けられている。従
って、前記ウェーハの載置時に、前記ウェーハ1を前記
矩形吸着口7で前記ウェーハ載置面3に確実に吸着固定
することができると共に、前記ウェーハ1の切断後に、
前記矩形吸着口7で前記矩形チップ4を各別に且つ確実
に吸着固定することができる。また、図例においては、
前記した矩形吸着口7の開口周縁形状の線は前記矩形チ
ップ部4の切断形状の線(前記ストリート)の内側近傍
に設けられて構成されている。従って、前記ウェーハ1
のチップ部4(或いは前記ウェーハ1から切断されたチ
ップ4)に対する吸着面積を拡大することができると共
に、前記ウェーハ1(前記チップ4)に対する吸着力を
強化することができる。
For example, in the example shown in FIG. 2, since the cutting shape of the tip portion 4 is formed in a rectangular shape, the opening peripheral shape of the suction port 7 is changed along the cutting shape of the rectangular tip portion 4. The rectangular suction port 7 is formed in a rectangular shape.
Are provided corresponding to the respective chip portions 4. Therefore, at the time of mounting the wafer, the wafer 1 can be securely suction-fixed to the wafer mounting surface 3 by the rectangular suction port 7, and after the wafer 1 is cut,
The rectangular chips 4 can be individually and reliably suction-fixed by the rectangular suction ports 7. In the example of the figure,
The line of the opening peripheral shape of the rectangular suction port 7 is provided near the inside of the cut line (the street) of the rectangular chip portion 4. Therefore, the wafer 1
It is possible to increase the suction area for the chip portion 4 (or the chips 4 cut from the wafer 1) and to increase the suction force for the wafer 1 (the chips 4).

【0016】即ち、まず、前記ウェーハ1を前記搬送手
段で前記した切断装置の収容部から前記真空チャックテ
ーブル2のウェーハ載置面3に載置すると共に、前記ア
ライメント手段で前記ウェーハ1の表面に前記ストリー
ト5を設定する。次に、前記ウェーハ載置面3の逃げ溝
11に対応して前記ストリート5を合致させると共に、前
記ウェーハ1を前記矩形吸着口7で吸着固定する。この
とき、前記ウェーハ1の各チップ部4は前記矩形吸着口
7で各別に吸着されることになるので、前記ウェーハ1
を前記ウェーハ載置面3に確実に吸着固定することがで
きる。また、次に、前記ウェーハ1を前記ブレード6で
前記ストリート5に沿って切断して所要複数個のチップ
4を形成する。このとき、前記ブレード6を前記逃げ溝
11内に進入させると共に、切断されたチップ4を前記し
た矩形吸着口7で各別に且つ確実に吸着固定することが
できるので、前記ウェーハ1を前記ブレード6で効率良
く切断することができる。
That is, first, the wafer 1 is mounted on the wafer mounting surface 3 of the vacuum chuck table 2 from the accommodating portion of the cutting device by the transfer means, and is placed on the surface of the wafer 1 by the alignment means. The street 5 is set. Next, a relief groove in the wafer mounting surface 3
The street 5 is made to correspond to 11 and the wafer 1 is fixed by suction at the rectangular suction port 7. At this time, the respective chip portions 4 of the wafer 1 are individually suctioned by the rectangular suction ports 7, so that the wafer 1
Can be reliably fixed to the wafer mounting surface 3 by suction. Next, the wafer 1 is cut along the streets 5 by the blades 6 to form a required number of chips 4. At this time, the blade 6 is
The wafer 1 can be efficiently cut by the blade 6 because the chip 4 can be inserted into the wafer 11 and the cut chips 4 can be individually and reliably suction-fixed by the rectangular suction ports 7.

【0017】また、前述したように、前記ウェーハ1を
切断した後、前記チップ4毎に前記吸着口7で各別に吸
着固定された状態にあるが、次に、前記したチップ4の
表面(上面)に取出治具を接触させない状態で、前記チ
ップ4を支持して取り出すと共に、前記チップ4を洗浄
して収容マガジンに収容することになる。例えば、ま
ず、前記吸着口7の開口部内から吸着ノズルを上昇させ
て前記吸着口7の開口部の上方に前記チップ4を該チッ
プ4の裏面(下面)側から前記吸着ノズルで支持すると
共に、記チップ4の裏面から取出治具で支持して前記チ
ップ4を取り出す構成を採用することができる。従っ
て、前記ウェーハ1を前記切断装置で切断するとき、前
記チップ4の上面に治具等が接触することはないので、
前記チップ4の上面に施された細線状の電子回路に悪影
響を及ぼすことはない。
As described above, after the wafer 1 is cut, the chips 4 are suction-fixed individually at the suction ports 7 for each chip 4. Next, the surface (top surface) of the chip 4 The chip 4 is supported and taken out in a state where the take-out jig is not brought into contact with the jig, and the chip 4 is washed and housed in the housing magazine. For example, first, the suction nozzle is raised from within the opening of the suction port 7 to support the chip 4 above the opening of the suction port 7 from the back (lower surface) side of the chip 4 with the suction nozzle. It is possible to adopt a configuration in which the chip 4 is taken out from the back surface of the chip 4 while being supported by a take-out jig. Therefore, when the wafer 1 is cut by the cutting device, a jig or the like does not come into contact with the upper surface of the chip 4.
There is no adverse effect on the fine line-shaped electronic circuit provided on the upper surface of the chip 4.

【0018】また、前記したウェーハのチップ部の形状
は種類によって異なるので、異なる種類のチップを切断
する場合、前記した吸着口及び逃げ溝を有するウェーハ
載置面を着脱自在に交換することができるように構成さ
れている。
Further, since the shape of the chip portion of the wafer differs depending on the type, when cutting chips of different types, the wafer mounting surface having the suction port and the relief groove can be detachably exchanged. It is configured as follows.

【0019】また、前記実施例では、単数個の真空引き
手段9を用いる構成を例示したが、複数個の真空引き手
段を用いる構成を採用しても差し支えない。この場合、
前記複数個の真空引き手段に各別に対応して前記ウェー
ハ載置部を平面的に適宜に区画(分割)することによ
り、前記各区画に前記各真空引き手段を各別に対応させ
ることができる。例えば、前記ウェーハ載置部を平面的
に四区画に分割すると共に、四個の真空引き手段を各区
間に各別に連通接続するように構成することができる。
なお、前記した各区画部分には各別に所要数の吸着口が
設けられて構成されることになる。
Further, in the above-described embodiment, a configuration using a single vacuuming means 9 is exemplified, but a configuration using a plurality of vacuuming means may be adopted. in this case,
By appropriately dividing (dividing) the wafer mounting portion in a plane corresponding to each of the plurality of evacuation means, the evacuation means can correspond to each of the sections. For example, the wafer mounting portion may be divided into four sections in a plane, and four vacuum means may be connected to each section so as to communicate with each other.
It is to be noted that a required number of suction ports are provided separately in each of the above-mentioned sections.

【0020】また、前記した実施例におけるウェーハ1
の位置決めについて、前記した真空チャックテーブル2
のウェーハ載置面3に前記ウェーハ1を載置する場合
に、前記したウェーハ載置面3の逃げ溝11の位置に前記
したウェーハ1に設定されるストリート5の位置を合致
させる適宜な微調整手段を設ける構成を採用しても差し
支えない。例えば、前記ウェーハ1をその側方から適宜
に支持固定した状態で、前記真空チャックテーブル2
(微調整テーブル)を適宜な方向に微移動(或いは微回
転)させることにより、前記逃げ溝11の位置と前記スト
リート5の位置を合致させて微調整する構成を採用する
ことができる。
Further, the wafer 1 in the above-described embodiment is used.
The positioning of the vacuum chuck table 2
When the wafer 1 is mounted on the wafer mounting surface 3, appropriate fine adjustment is performed so that the position of the street 5 set on the wafer 1 matches the position of the clearance groove 11 of the wafer mounting surface 3. A configuration in which the means is provided may be adopted. For example, with the wafer 1 properly supported and fixed from the side, the vacuum chuck table 2
By finely moving (or finely rotating) the (fine adjustment table) in an appropriate direction, it is possible to adopt a configuration in which the position of the clearance groove 11 and the position of the street 5 are matched to perform fine adjustment.

【0021】本発明は、前述した実施例のものに限定さ
れるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内
で、必要に応じて、任意に且つ適宜に変更・選択して採
用できるものである。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be arbitrarily and appropriately changed and selected as necessary within a range not departing from the gist of the present invention. It is.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明によれば、ウェーハシートを用い
ずに、半導体ウェーハを真空チャックテーブルのウェー
ハ載置面にセットすると共に、前記ウェーハを効率良く
切断することができる半導体ウェーハの切断方法及びそ
の切断装置を提供することができると云う優れた効果を
奏するものである。
According to the present invention, there is provided a method for cutting a semiconductor wafer, wherein a semiconductor wafer is set on a wafer mounting surface of a vacuum chuck table without using a wafer sheet, and the wafer is cut efficiently. This provides an excellent effect that the cutting device can be provided.

【0023】また、本発明によれば、半導体ウェーハか
ら切断されたチップを真空チャックテーブルのウェーハ
載置面に各別に且つ確実に吸着することのできる半導体
ウェーハの切断方法及びその切断装置を提供することが
できると云う優れた効果を奏するものである。
Further, according to the present invention, there is provided a semiconductor wafer cutting method and a cutting apparatus capable of individually and surely adsorbing chips cut from a semiconductor wafer to a wafer mounting surface of a vacuum chuck table. It has an excellent effect that it can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る半導体ウェーハの切断装置を概略
的に示す概略平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view schematically showing a semiconductor wafer cutting apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示す装置の要部を拡大して概略的に示す
一部切欠概略平面図である。
FIG. 2 is a partially cut-away schematic plan view schematically showing an enlarged main part of the device shown in FIG. 1;

【図3】図1に示す装置の要部を拡大して概略的に示す
概略縦断面図である。
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view schematically showing an enlarged main part of the apparatus shown in FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体ウェーハ 2 真空チャックテーブル 3 ウェーハ載置面 4 チップ(部) 5 ストリート 6 ブレード 7 吸着口 8 真空経路 9 真空引き手段 10 連通部 11 逃げ溝 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor wafer 2 Vacuum chuck table 3 Wafer mounting surface 4 Chip (part) 5 Street 6 Blade 7 Suction port 8 Vacuum path 9 Vacuum evacuation means 10 Communication part 11 Escape groove

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウェーハを所要複数個のチップに
切断するウェーハの切断装置を用いて該装置における真
空チャックテーブルに前記ウェーハを載置して吸着固定
すると共に、切断用のブレードで前記ウェーハに設定し
たストリートに沿って切断する半導体ウェーハの切断方
法であって、 前記真空チャックテーブル面に前記ストリートに対応し
てブレードの逃げ溝を設ける工程と、 前記ウェーハの載置時に、前記ストリートと前記ブレー
ドの逃げ溝とを合致させる工程と、 前記チップ部の切断形状に沿って形成した開口周縁形状
を有する吸着口にて前記チップ部を各別に吸着する工程
とを備えたことを特徴とする半導体ウェーハの切断方
法。
1. A wafer cutting device for cutting a semiconductor wafer into a required plurality of chips, the wafer is placed on a vacuum chuck table of the device and fixed by suction, and the wafer is attached to the wafer by a cutting blade. A method for cutting a semiconductor wafer along a set street, the method comprising: providing a relief groove of a blade corresponding to the street on the vacuum chuck table surface; and And a step of separately adsorbing the chip portions with suction holes having an opening peripheral shape formed along the cut shape of the chip portion. Cutting method.
【請求項2】 半導体ウェーハを載置して吸着固定する
真空チャックテーブルと、前記ウェーハ面にストリート
を設定するアライメント手段と、前記ウェーハを前記ス
トリートに沿って切断して所要複数個のチップを形成す
る切断用ブレードと、前記真空チャックテーブルに一端
側が連通接続した真空経路と、前記真空経路の他端側に
連通接続した真空引き手段とを備えた半導体ウェーハの
切断装置であって、前記した真空チャックテーブル面に
前記ストリートに対応してブレードの逃げ溝を設けると
共に、前記した真空チャックテーブル面に前記チップ部
に各別に対応して設けられた吸着口の開口周縁形状を前
記チップ部の切断形状に沿って形成したことを特徴とす
る半導体ウェーハの切断装置。
2. A vacuum chuck table for mounting and fixing a semiconductor wafer by suction, alignment means for setting a street on the wafer surface, and cutting the wafer along the street to form a required number of chips. A cutting blade to be cut, a vacuum path having one end connected to the vacuum chuck table, and vacuum evacuation means connected to the other end of the vacuum path. A clearance groove of a blade is provided on the chuck table surface corresponding to the street, and the peripheral shape of the opening of the suction port provided on the vacuum chuck table surface corresponding to each of the chip portions is a cutting shape of the chip portion. An apparatus for cutting a semiconductor wafer, comprising:
【請求項3】 吸着口における開口周縁形状を矩形にて
形成すると共に、前記矩形吸着口における開口周縁形状
の線をストリートの内側近傍に設けたことを特徴とする
請求項2に記載の半導体ウェーハの切断装置。
3. The semiconductor wafer according to claim 2, wherein the opening peripheral shape of the suction port is formed in a rectangular shape, and the line of the opening peripheral shape of the rectangular suction port is provided near the inside of the street. Cutting equipment.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014082301A (en) * 2012-10-16 2014-05-08 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Jig for breaking brittle material substrate and breaking method
CN103811396A (en) * 2014-01-24 2014-05-21 南通富士通微电子股份有限公司 Jig for wafer packaging technology
JP2014205205A (en) * 2013-04-11 2014-10-30 株式会社クリエイティブ テクノロジー Workpiece holding device
JP2017183484A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 株式会社ディスコ Chuck table
WO2020084877A1 (en) * 2018-10-24 2020-04-30 Towa株式会社 Suction mechanism, cutting device, and manufacturing method for cut product

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014082301A (en) * 2012-10-16 2014-05-08 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd Jig for breaking brittle material substrate and breaking method
JP2014205205A (en) * 2013-04-11 2014-10-30 株式会社クリエイティブ テクノロジー Workpiece holding device
CN103811396A (en) * 2014-01-24 2014-05-21 南通富士通微电子股份有限公司 Jig for wafer packaging technology
JP2017183484A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 株式会社ディスコ Chuck table
CN107263755A (en) * 2016-03-30 2017-10-20 株式会社迪思科 Chuck table
TWI717467B (en) * 2016-03-30 2021-02-01 日商迪思科股份有限公司 Suction table
WO2020084877A1 (en) * 2018-10-24 2020-04-30 Towa株式会社 Suction mechanism, cutting device, and manufacturing method for cut product

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