JPH11271737A - 液晶表示装置用基板 - Google Patents
液晶表示装置用基板Info
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- JPH11271737A JPH11271737A JP10071770A JP7177098A JPH11271737A JP H11271737 A JPH11271737 A JP H11271737A JP 10071770 A JP10071770 A JP 10071770A JP 7177098 A JP7177098 A JP 7177098A JP H11271737 A JPH11271737 A JP H11271737A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光の広い波長域で反射率を低減させた液晶表示
装置用基板２１を提供すること。 【解決手段】透明基板１２の空気側表面上に、３層から
なる反射防止膜を形成し、透明基板１２の液晶側裏面上
に、２層からなる反射防止膜を形成する。
装置用基板２１を提供すること。 【解決手段】透明基板１２の空気側表面上に、３層から
なる反射防止膜を形成し、透明基板１２の液晶側裏面上
に、２層からなる反射防止膜を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶プロジェクシ
ョン装置や液晶空間変調素子などに用いられる液晶表示
装置用基板に関するものであり、特に、入射光の反射を
防止した液晶表示装置用基板に関する。
ョン装置や液晶空間変調素子などに用いられる液晶表示
装置用基板に関するものであり、特に、入射光の反射を
防止した液晶表示装置用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶プロジェクション装置や液晶
空間変調素子などに用いられる液晶表示装置用透明基板
は、空気側にはフッ化マグネシュウム（ＭｇＦ2 ）など
の単層反射防止膜、液晶側には透明導電膜、例えば、Ｉ
ＴＯなどの単層反射防止膜が形成されていた。しかし、
このような従来の単層反射防止膜では、光の狭い波長域
で、最小反射率が約３％程度のものであり、反射率とし
ては大きなものであった。近年、液晶プロジェクション
装置や液晶空間変調素子などは、高輝度のものが要求さ
れており、例えば、液晶画素の開口率を向上させたり、
高出力の光源を用いるなどの手段が講じられているなか
で、液晶表示装置用透明基板の反射率の大きなことが問
題となっているものである。また、反射型の場合、液晶
表示装置用透明基板の表面反射がコントラストを低下さ
せ、表示品質の悪化を招くものである。
空間変調素子などに用いられる液晶表示装置用透明基板
は、空気側にはフッ化マグネシュウム（ＭｇＦ2 ）など
の単層反射防止膜、液晶側には透明導電膜、例えば、Ｉ
ＴＯなどの単層反射防止膜が形成されていた。しかし、
このような従来の単層反射防止膜では、光の狭い波長域
で、最小反射率が約３％程度のものであり、反射率とし
ては大きなものであった。近年、液晶プロジェクション
装置や液晶空間変調素子などは、高輝度のものが要求さ
れており、例えば、液晶画素の開口率を向上させたり、
高出力の光源を用いるなどの手段が講じられているなか
で、液晶表示装置用透明基板の反射率の大きなことが問
題となっているものである。また、反射型の場合、液晶
表示装置用透明基板の表面反射がコントラストを低下さ
せ、表示品質の悪化を招くものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶プロジ
ェクション装置や液晶空間変調素子などに用いられる液
晶表示装置用基板において、光の広い波長域で反射率を
低減させ、高輝度の液晶プロジェクション装置や液晶空
間変調素子などを実現させるための、光の広い波長域で
反射率を低減させた液晶表示装置用基板を提供するもの
である。
ェクション装置や液晶空間変調素子などに用いられる液
晶表示装置用基板において、光の広い波長域で反射率を
低減させ、高輝度の液晶プロジェクション装置や液晶空
間変調素子などを実現させるための、光の広い波長域で
反射率を低減させた液晶表示装置用基板を提供するもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、屈折率ｎS を
有する透明基板の、屈折率ｎ0 を有する空気側表面上
に、屈折率ｎ1 、層厚ｄ1 の表面側第１層、屈折率
ｎ2 、層厚ｄ2 の表面側第２層、屈折率ｎ3 、層厚ｄ3
の表面側第３層を順次積層した３層からなる反射防止膜
を形成し、該透明基板の、屈折率ｎL を有する液晶側裏
面上に、屈折率ｎ4 、層厚ｄ4 の裏面側第１層、屈折率
ｎ5 、層厚ｄ5 の裏面側第２層を順次積層した２層から
なる反射防止膜を形成し、該裏面側第１層又は第２層が
透明導電膜であることを特徴とする液晶表示装置用基板
である。
有する透明基板の、屈折率ｎ0 を有する空気側表面上
に、屈折率ｎ1 、層厚ｄ1 の表面側第１層、屈折率
ｎ2 、層厚ｄ2 の表面側第２層、屈折率ｎ3 、層厚ｄ3
の表面側第３層を順次積層した３層からなる反射防止膜
を形成し、該透明基板の、屈折率ｎL を有する液晶側裏
面上に、屈折率ｎ4 、層厚ｄ4 の裏面側第１層、屈折率
ｎ5 、層厚ｄ5 の裏面側第２層を順次積層した２層から
なる反射防止膜を形成し、該裏面側第１層又は第２層が
透明導電膜であることを特徴とする液晶表示装置用基板
である。
【０００５】また、本発明は、上記発明の液晶表示装置
用基板において、前記３層からなる反射防止膜の各層の
屈折率、層厚と、前記透明基板及び前記空気の屈折率と
の関係が、中心波長のλにおいて、ｎ0 ＜ｎ3 ＜ｎ1 ＜
ｎ2 であって、ｎ0 ・ｎ1 2≒ｎ3 2・ｎS 、及びｎ1 ・ｄ
1 ＝ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／２であるこ
とを特徴とする液晶表示装置用基板である。
用基板において、前記３層からなる反射防止膜の各層の
屈折率、層厚と、前記透明基板及び前記空気の屈折率と
の関係が、中心波長のλにおいて、ｎ0 ＜ｎ3 ＜ｎ1 ＜
ｎ2 であって、ｎ0 ・ｎ1 2≒ｎ3 2・ｎS 、及びｎ1 ・ｄ
1 ＝ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／２であるこ
とを特徴とする液晶表示装置用基板である。
【０００６】また、本発明は、上記発明の液晶表示装置
用基板において、前記３層からなる反射防止膜の各層の
屈折率、層厚と、前記透明基板及び前記空気の屈折率と
の関係が、中心波長のλにおいて、ｎ0 ＜ｎ3 ＜ｎ1 ＜
ｎ2 であって、ｎS ・ｎ0 ・ｎ2 2 ≒ｎ1 2・ｎ3 2、及び
ｎ1 ・ｄ1 ＝ｎ2 ・ｄ2 ＝ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４であるこ
とを特徴とする液晶表示装置用基板である。
用基板において、前記３層からなる反射防止膜の各層の
屈折率、層厚と、前記透明基板及び前記空気の屈折率と
の関係が、中心波長のλにおいて、ｎ0 ＜ｎ3 ＜ｎ1 ＜
ｎ2 であって、ｎS ・ｎ0 ・ｎ2 2 ≒ｎ1 2・ｎ3 2、及び
ｎ1 ・ｄ1 ＝ｎ2 ・ｄ2 ＝ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４であるこ
とを特徴とする液晶表示装置用基板である。
【０００７】また、本発明は、上記発明の液晶表示装置
用基板において、前記２層からなる反射防止膜の各層の
屈折率、層厚と、前記透明基板及び前記液晶の屈折率と
の関係が、中心波長のλにおいて、ｎ5 ＞ｎL であっ
て、ｎ4 2≒ｎL ・ｎS 、及びｎ4 ・ｄ4 ＝λ／４、ｎ5
・ｄ5 ＝λ／２であることを特徴とする液晶表示装置用
基板である。
用基板において、前記２層からなる反射防止膜の各層の
屈折率、層厚と、前記透明基板及び前記液晶の屈折率と
の関係が、中心波長のλにおいて、ｎ5 ＞ｎL であっ
て、ｎ4 2≒ｎL ・ｎS 、及びｎ4 ・ｄ4 ＝λ／４、ｎ5
・ｄ5 ＝λ／２であることを特徴とする液晶表示装置用
基板である。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下に本発明による液晶表示装置
用基板を、その実施形態に基づいて詳細に説明する。図
１は、本発明による液晶表示装置用基板の一実施例を示
す断面図である。図１に示すように、液晶表示装置用基
板（２１）は、透明基板（１２）の空気（１１）側表面
上に、表面側第１層（１）、表面側第２層（２）、表面
側第３層（３）を順次積層した３層からなる反射防止膜
を形成し、また、透明基板（１２）の液晶（１３）側裏
面上に、裏面側第１層（４）、裏面側透明導電膜第２層
（５）を順次積層した２層からなる反射防止膜を形成し
たものである。
用基板を、その実施形態に基づいて詳細に説明する。図
１は、本発明による液晶表示装置用基板の一実施例を示
す断面図である。図１に示すように、液晶表示装置用基
板（２１）は、透明基板（１２）の空気（１１）側表面
上に、表面側第１層（１）、表面側第２層（２）、表面
側第３層（３）を順次積層した３層からなる反射防止膜
を形成し、また、透明基板（１２）の液晶（１３）側裏
面上に、裏面側第１層（４）、裏面側透明導電膜第２層
（５）を順次積層した２層からなる反射防止膜を形成し
たものである。
【０００９】透明基板（１２）、空気（１１）、液晶
（１３）の屈折率は、各々ｎS 、ｎ0、ｎL であり、ま
た、表面側第１層（１）、表面側第２層（２）、表面側
第３層（３）の屈折率及び層厚は、各々ｎ1 及びｄ1 、
ｎ2 及びｄ2 、ｎ3 及びｄ3 であり、また、裏面側第１
層（４）、裏面側透明導電膜第２層（５）の屈折率及び
層厚は、各々ｎ4 及びｄ4 、ｎ5 及びｄ5 である。
（１３）の屈折率は、各々ｎS 、ｎ0、ｎL であり、ま
た、表面側第１層（１）、表面側第２層（２）、表面側
第３層（３）の屈折率及び層厚は、各々ｎ1 及びｄ1 、
ｎ2 及びｄ2 、ｎ3 及びｄ3 であり、また、裏面側第１
層（４）、裏面側透明導電膜第２層（５）の屈折率及び
層厚は、各々ｎ4 及びｄ4 、ｎ5 及びｄ5 である。
【００１０】図１において、Ａ面（Ａ）は、空気（１
１）と表面側第３層（３）との界面を示し、同様にＢ面
（Ｂ）〜Ｇ面（Ｇ）は、各々の層間、或いは層と透明基
板（１２）間、或いは層と液晶（１３）間の界面を示し
ている。
１）と表面側第３層（３）との界面を示し、同様にＢ面
（Ｂ）〜Ｇ面（Ｇ）は、各々の層間、或いは層と透明基
板（１２）間、或いは層と液晶（１３）間の界面を示し
ている。
【００１１】また、図１において、入射光（Ｉ）の、Ａ
面（Ａ）で反射した反射光と、Ｂ面（Ｂ）、Ｃ面
（Ｃ），Ｄ面（Ｄ）で反射した反射光とが相互に干渉の
後に、透明基板（１２）の表面側反射光となって反射す
る反射光をＲ1 で示している。また、入射光（Ｉ）が、
透明基板（１２）を通過し、Ｅ面（Ｅ）で反射した反射
光と、Ｆ面（Ｆ）、Ｇ面（Ｇ）で反射した反射光とが相
互に干渉の後に、透明基板（１２）の裏面側反射光とな
って反射する反射光をＲ2 で示している。また、Ｔは透
過光を示しているものである。
面（Ａ）で反射した反射光と、Ｂ面（Ｂ）、Ｃ面
（Ｃ），Ｄ面（Ｄ）で反射した反射光とが相互に干渉の
後に、透明基板（１２）の表面側反射光となって反射す
る反射光をＲ1 で示している。また、入射光（Ｉ）が、
透明基板（１２）を通過し、Ｅ面（Ｅ）で反射した反射
光と、Ｆ面（Ｆ）、Ｇ面（Ｇ）で反射した反射光とが相
互に干渉の後に、透明基板（１２）の裏面側反射光とな
って反射する反射光をＲ2 で示している。また、Ｔは透
過光を示しているものである。
【００１２】上記のように、本発明による液晶表示装置
用基板（２１）は、空気側表面上に３層からなる反射防
止膜を形成し、液晶側裏面上に２層からなる反射防止膜
を形成しているので、（Ｒ1 ／Ｉ）×１００で表す透明
基板（１２）の表面側反射率、及び（Ｒ2 ／Ｉ）×１０
０で表す透明基板（１２）の裏面側反射率は、共に、光
の広い波長域で小さなものであり、略（（Ｒ1 ＋Ｒ2 ）
／Ｉ）×１００で表す液晶表示装置用基板（２１）とし
ての総合した反射率も光の広い波長域で小さなものであ
る。
用基板（２１）は、空気側表面上に３層からなる反射防
止膜を形成し、液晶側裏面上に２層からなる反射防止膜
を形成しているので、（Ｒ1 ／Ｉ）×１００で表す透明
基板（１２）の表面側反射率、及び（Ｒ2 ／Ｉ）×１０
０で表す透明基板（１２）の裏面側反射率は、共に、光
の広い波長域で小さなものであり、略（（Ｒ1 ＋Ｒ2 ）
／Ｉ）×１００で表す液晶表示装置用基板（２１）とし
ての総合した反射率も光の広い波長域で小さなものであ
る。
【００１３】透明基板（１２）として、ショット社製、
光学ガラス、品番ＳＫ１６、屈折率、ｎS ＝１．６２を
用いた。透明基板（１２）の空気側表面上の各層の材料
として、表面側第１層（１）には、ＭｇＯ、屈折率、ｎ
1 ＝１．７０、表面側第２層（２）には、ＺｒＯ2 、屈
折率、ｎ2 ＝２．０５、表面側第３層（３）には、Ｍｇ
Ｆ2 、屈折率、ｎ3 ＝１．３８を用いた。
光学ガラス、品番ＳＫ１６、屈折率、ｎS ＝１．６２を
用いた。透明基板（１２）の空気側表面上の各層の材料
として、表面側第１層（１）には、ＭｇＯ、屈折率、ｎ
1 ＝１．７０、表面側第２層（２）には、ＺｒＯ2 、屈
折率、ｎ2 ＝２．０５、表面側第３層（３）には、Ｍｇ
Ｆ2 、屈折率、ｎ3 ＝１．３８を用いた。
【００１４】これらの層形成は、ＥＢ蒸着法を用いイオ
ンアシストを行った。層形成の条件は、真空度：１０-3
Ｐａ台、レート：２〜５Ａ／Ｓ、基板温度：１５０°
Ｃ、イオンアシスト用ガス：ＡｒにＯ2 を１０％混合、
出力：５００ｅＶである。層厚は、中心波長、λ＝５５
０ｎｍにて、表面側第１層（１）、表面側第２層
（２）、表面側第３層（３）各々の層厚が、ｎ1 ・ｄ1
＝λ／４、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／２、ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４に
なるように各層を形成した。
ンアシストを行った。層形成の条件は、真空度：１０-3
Ｐａ台、レート：２〜５Ａ／Ｓ、基板温度：１５０°
Ｃ、イオンアシスト用ガス：ＡｒにＯ2 を１０％混合、
出力：５００ｅＶである。層厚は、中心波長、λ＝５５
０ｎｍにて、表面側第１層（１）、表面側第２層
（２）、表面側第３層（３）各々の層厚が、ｎ1 ・ｄ1
＝λ／４、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／２、ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４に
なるように各層を形成した。
【００１５】同様に、透明基板（１２）の液晶側裏面上
の各層の材料として、裏面側第１層（４）には、Ａｌ2
Ｏ3 、屈折率、ｎ4 ＝１．６０、裏面側透明導電膜第２
層（５）には、ＩＴＯ、屈折率、ｎ5 ＝１．８３を用い
た。これらの層形成は、表面側各層の層形成と同条件に
て行った。また、層厚は、中心波長、λ＝５００ｎｍに
て、裏面側第１層（４）、裏面側透明導電膜第２層
（５）各々の層厚が、ｎ4 ・ｄ4 ＝λ／４、ｎ5 ・ｄ5
＝λ／２になるように各層を形成した。
の各層の材料として、裏面側第１層（４）には、Ａｌ2
Ｏ3 、屈折率、ｎ4 ＝１．６０、裏面側透明導電膜第２
層（５）には、ＩＴＯ、屈折率、ｎ5 ＝１．８３を用い
た。これらの層形成は、表面側各層の層形成と同条件に
て行った。また、層厚は、中心波長、λ＝５００ｎｍに
て、裏面側第１層（４）、裏面側透明導電膜第２層
（５）各々の層厚が、ｎ4 ・ｄ4 ＝λ／４、ｎ5 ・ｄ5
＝λ／２になるように各層を形成した。
【００１６】このようにして、透明基板（１２）の空気
側表面上に３層からなる反射防止膜、液晶側裏面上に２
層からなる反射防止膜を形成した後、オーブンにて２０
０°Ｃ、１時間の加熱処理を施し、液晶表示装置用基板
（２１）を得た。
側表面上に３層からなる反射防止膜、液晶側裏面上に２
層からなる反射防止膜を形成した後、オーブンにて２０
０°Ｃ、１時間の加熱処理を施し、液晶表示装置用基板
（２１）を得た。
【００１７】図２は、上記のようにして得られた液晶表
示装置用基板（２１）の表面側反射率（（Ｒ1 ／Ｉ）×
１００）を示すものである。図２に示すように、赤色光
（Ｒ）の反射率は、約５２０〜７００ｎｍの光の広い波
長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）の反射
率は、約４６０〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５
％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、約４０
０〜６１０ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下であ
る。
示装置用基板（２１）の表面側反射率（（Ｒ1 ／Ｉ）×
１００）を示すものである。図２に示すように、赤色光
（Ｒ）の反射率は、約５２０〜７００ｎｍの光の広い波
長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）の反射
率は、約４６０〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５
％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、約４０
０〜６１０ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下であ
る。
【００１８】また、図４は、上記のようにして得られた
液晶表示装置用基板（２１）の裏面側反射率（（Ｒ2 ／
Ｉ）×１００）を示すものである。図４に示すように、
赤色光（Ｒ）の反射率は、約５５０〜７００ｎｍの光の
広い波長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）
の反射率は、約４８０〜７００ｎｍの光の広い波長域で
０．５％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、
約４００〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下
である。
液晶表示装置用基板（２１）の裏面側反射率（（Ｒ2 ／
Ｉ）×１００）を示すものである。図４に示すように、
赤色光（Ｒ）の反射率は、約５５０〜７００ｎｍの光の
広い波長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）
の反射率は、約４８０〜７００ｎｍの光の広い波長域で
０．５％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、
約４００〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下
である。
【００１９】そして、液晶表示装置用基板（２１）とし
ての総合した反射率、略（（Ｒ1 ＋Ｒ2 ）／Ｉ）×１０
０は、各色光にて約１５０ｎｍ以上の光の広い波長域で
１．０％以下の低い反射率のものである。
ての総合した反射率、略（（Ｒ1 ＋Ｒ2 ）／Ｉ）×１０
０は、各色光にて約１５０ｎｍ以上の光の広い波長域で
１．０％以下の低い反射率のものである。
【００２０】
【実施例】＜実施例１＞透明基板（１２）として、ショ
ット社製、光学ガラス、品番ＳＫ１６、屈折率、ｎS ＝
１．６２を用いた。透明基板（１２）の空気側表面上の
各層の材料として、表面側第１層（１）には、Ｚｒ
Ｏ2 、屈折率、ｎ1 ＝２．０５、表面側第２層（２）に
は、ＴｉＯ2 、屈折率、ｎ2 ＝２．３８、表面側第３層
（３）には、ＳｉＯ2 、屈折率、ｎ3 ＝１．４７を用い
た。
ット社製、光学ガラス、品番ＳＫ１６、屈折率、ｎS ＝
１．６２を用いた。透明基板（１２）の空気側表面上の
各層の材料として、表面側第１層（１）には、Ｚｒ
Ｏ2 、屈折率、ｎ1 ＝２．０５、表面側第２層（２）に
は、ＴｉＯ2 、屈折率、ｎ2 ＝２．３８、表面側第３層
（３）には、ＳｉＯ2 、屈折率、ｎ3 ＝１．４７を用い
た。
【００２１】これらの層形成は、ＥＢ蒸着法を用いイオ
ンアシストを行った。層形成の条件は、ＺｒＯ2 及びＳ
ｉＯ2 については、真空度：１０-3Ｐａ台、レート：２
〜５Ａ／Ｓ、基板温度：１５０°Ｃ、イオンアシスト用
ガス：ＡｒにＯ2 を１０％混合、出力：５００ｅＶであ
る。また、ＴｉＯ2 については、基板温度：１５０°
Ｃ、Ｏ2 ガス：２×１０-2Ｐａ分圧、他の条件はＺｒＯ
2 及びＳｉＯ2 と同一である。層厚は、中心波長、λ＝
５５０ｎｍにて、表面側第１層（１）、表面側第２層
（２）、表面側第３層（３）各々の層厚が、ｎ1 ・ｄ1
＝λ／４、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／４、ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４に
なるように各層を形成した。
ンアシストを行った。層形成の条件は、ＺｒＯ2 及びＳ
ｉＯ2 については、真空度：１０-3Ｐａ台、レート：２
〜５Ａ／Ｓ、基板温度：１５０°Ｃ、イオンアシスト用
ガス：ＡｒにＯ2 を１０％混合、出力：５００ｅＶであ
る。また、ＴｉＯ2 については、基板温度：１５０°
Ｃ、Ｏ2 ガス：２×１０-2Ｐａ分圧、他の条件はＺｒＯ
2 及びＳｉＯ2 と同一である。層厚は、中心波長、λ＝
５５０ｎｍにて、表面側第１層（１）、表面側第２層
（２）、表面側第３層（３）各々の層厚が、ｎ1 ・ｄ1
＝λ／４、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／４、ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４に
なるように各層を形成した。
【００２２】同様に、透明基板（１２）の液晶側裏面上
の各層の材料として、裏面側第１層（４）には、Ａｌ2
Ｏ3 、屈折率、ｎ4 ＝１．６０、裏面側透明導電膜第２
層（５）には、ＩＴＯ、屈折率、ｎ5 ＝１．８３を用い
た。これらの層形成は、表面側ＺｒＯ2 及びＳｉＯ2 層
の層形成と同条件にて行った。また、層厚は、中心波
長、λ＝５００ｎｍにて、裏面側第１層（４）、裏面側
透明導電膜第２層（５）各々の層厚が、ｎ4 ・ｄ4 ＝λ
／４、ｎ5 ・ｄ5 ＝λ／２になるように各層を形成し
た。
の各層の材料として、裏面側第１層（４）には、Ａｌ2
Ｏ3 、屈折率、ｎ4 ＝１．６０、裏面側透明導電膜第２
層（５）には、ＩＴＯ、屈折率、ｎ5 ＝１．８３を用い
た。これらの層形成は、表面側ＺｒＯ2 及びＳｉＯ2 層
の層形成と同条件にて行った。また、層厚は、中心波
長、λ＝５００ｎｍにて、裏面側第１層（４）、裏面側
透明導電膜第２層（５）各々の層厚が、ｎ4 ・ｄ4 ＝λ
／４、ｎ5 ・ｄ5 ＝λ／２になるように各層を形成し
た。
【００２３】このようにして、透明基板（１２）の空気
側表面上に３層からなる反射防止膜、液晶側裏面上に２
層からなる反射防止膜を形成した後、オーブンにて２０
０°Ｃ、１時間の加熱処理を施し、液晶表示装置用基板
（２１）を得た。
側表面上に３層からなる反射防止膜、液晶側裏面上に２
層からなる反射防止膜を形成した後、オーブンにて２０
０°Ｃ、１時間の加熱処理を施し、液晶表示装置用基板
（２１）を得た。
【００２４】図３は、上記のようにして得られた液晶表
示装置用基板（２１）の表面側反射率（（Ｒ1 ／Ｉ）×
１００）を示すものである。図３に示すように、赤色光
（Ｒ）の反射率は、約５３０〜７００ｎｍの光の広い波
長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）の反射
率は、約４８０〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５
％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、約４０
０〜５４０ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下であ
る。
示装置用基板（２１）の表面側反射率（（Ｒ1 ／Ｉ）×
１００）を示すものである。図３に示すように、赤色光
（Ｒ）の反射率は、約５３０〜７００ｎｍの光の広い波
長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）の反射
率は、約４８０〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５
％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、約４０
０〜５４０ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下であ
る。
【００２５】また、図４は、上記のようにして得られた
液晶表示装置用基板（２１）の裏面側反射率（（Ｒ2 ／
Ｉ）×１００）を示すものである。図４に示すように、
赤色光（Ｒ）の反射率は、約５５０〜７００ｎｍの光の
広い波長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）
の反射率は、約４８０〜７００ｎｍの光の広い波長域で
０．５％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、
約４００〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下
である。
液晶表示装置用基板（２１）の裏面側反射率（（Ｒ2 ／
Ｉ）×１００）を示すものである。図４に示すように、
赤色光（Ｒ）の反射率は、約５５０〜７００ｎｍの光の
広い波長域で０．５％以下であり、また、緑色光（Ｇ）
の反射率は、約４８０〜７００ｎｍの光の広い波長域で
０．５％以下であり、また、青色光（Ｂ）の反射率は、
約４００〜７００ｎｍの光の広い波長域で０．５％以下
である。
【００２６】そして、液晶表示装置用基板（２１）とし
ての総合した反射率、略（（Ｒ1 ＋Ｒ2 ）／Ｉ）×１０
０は、各色光にて約１５０ｎｍ以上の光の広い波長域で
１．０％以下の低い反射率のものである。
ての総合した反射率、略（（Ｒ1 ＋Ｒ2 ）／Ｉ）×１０
０は、各色光にて約１５０ｎｍ以上の光の広い波長域で
１．０％以下の低い反射率のものである。
【００２７】
【発明の効果】本発明は、透明基板（屈折率ｎS ）の空
気（屈折率ｎ0 ）側表面上に、表面側第１層（屈折率ｎ
1 、層厚ｄ1 ）、表面側第２層（屈折率ｎ2 、層厚
ｄ2 ）、表面側第３層（屈折率ｎ3 、層厚ｄ3 ）を順次
積層した３層からなる反射防止膜を形成し、透明基板の
液晶（屈折率ｎL ）側裏面上に、裏面側第１層（屈折率
ｎ4、層厚ｄ4 ）、裏面側第２層（屈折率ｎ5 、層厚ｄ
5 ）を順次積層した２層からなる反射防止膜を形成した
ので、各色光にて約１５０ｎｍ以上の光の広い波長域で
１．０％以下の低い反射率の液晶表示装置用基板が得ら
れる。そして、高輝度の液晶プロジェクション装置や液
晶空間変調素子などを実現させることができるものとな
る。
気（屈折率ｎ0 ）側表面上に、表面側第１層（屈折率ｎ
1 、層厚ｄ1 ）、表面側第２層（屈折率ｎ2 、層厚
ｄ2 ）、表面側第３層（屈折率ｎ3 、層厚ｄ3 ）を順次
積層した３層からなる反射防止膜を形成し、透明基板の
液晶（屈折率ｎL ）側裏面上に、裏面側第１層（屈折率
ｎ4、層厚ｄ4 ）、裏面側第２層（屈折率ｎ5 、層厚ｄ
5 ）を順次積層した２層からなる反射防止膜を形成した
ので、各色光にて約１５０ｎｍ以上の光の広い波長域で
１．０％以下の低い反射率の液晶表示装置用基板が得ら
れる。そして、高輝度の液晶プロジェクション装置や液
晶空間変調素子などを実現させることができるものとな
る。
【図１】本発明による液晶表示装置用基板の一実施例を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】本発明による液晶表示装置用基板の表面側反射
率を示す図である。
率を示す図である。
【図３】本発明による液晶表示装置用基板の表面側反射
率を示す図である。
率を示す図である。
【図４】本発明による液晶表示装置用基板の裏面側反射
率を示す図である。
率を示す図である。
１…表面側第１層 ２…表面側第２層 ３…表面側第３層 ４…裏面側第１層 ５…裏面側第２層 １１…空気 １２…透明基板 １３…液晶 ２１…液晶表示装置用基板 Ｉ…入射光 Ｒ1 …透明基板の表面側反射光 Ｒ2 …透明基板の裏面側反射光 Ｔ…透過光 Ｒ…赤色光 Ｇ…緑色光 Ｂ…青色光 ｎS 、ｎ0 、ｎL …透明基板、空気、液晶の屈折率 ｎx …各層の屈折率 ｄx …各層の層厚
Claims (4)
- 【請求項１】屈折率ｎS を有する透明基板の、屈折率ｎ
0 を有する空気側表面上に、屈折率ｎ1 、層厚ｄ1 の表
面側第１層、屈折率ｎ2 、層厚ｄ2 の表面側第２層、屈
折率ｎ3 、層厚ｄ3 の表面側第３層を順次積層した３層
からなる反射防止膜を形成し、該透明基板の、屈折率ｎ
L を有する液晶側裏面上に、屈折率ｎ4 、層厚ｄ4 の裏
面側第１層、屈折率ｎ5 、層厚ｄ5 の裏面側第２層を順
次積層した２層からなる反射防止膜を形成し、該裏面側
第１層又は第２層が透明導電膜であることを特徴とする
液晶表示装置用基板。 - 【請求項２】前記３層からなる反射防止膜の各層の屈折
率、層厚と、前記透明基板及び前記空気の屈折率との関
係が、中心波長のλにおいて、ｎ0 ＜ｎ3 ＜ｎ1 ＜ｎ2
であって、ｎ0 ・ｎ1 2≒ｎ3 2・ｎS 、及びｎ1 ・ｄ1 ＝
ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４、ｎ2 ・ｄ2 ＝λ／２であることを
特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用基板。 - 【請求項３】前記３層からなる反射防止膜の各層の屈折
率、層厚と、前記透明基板及び前記空気の屈折率との関
係が、中心波長のλにおいて、ｎ0 ＜ｎ3 ＜ｎ1 ＜ｎ2
であって、ｎS ・ｎ0 ・ｎ2 2 ≒ｎ1 2・ｎ3 2、及びｎ1
・ｄ1 ＝ｎ2 ・ｄ2 ＝ｎ3 ・ｄ3 ＝λ／４であることを
特徴とする請求項１記載の液晶表示装置用基板。 - 【請求項４】前記２層からなる反射防止膜の各層の屈折
率、層厚と、前記透明基板及び前記液晶の屈折率との関
係が、中心波長のλにおいて、ｎ5 ＞ｎL であって、ｎ
4 2≒ｎL ・ｎS 、及びｎ4 ・ｄ4 ＝λ／４、ｎ5 ・ｄ5
＝λ／２であることを特徴とする請求項１、請求項２、
又は請求項３記載の液晶表示装置用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10071770A JPH11271737A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 液晶表示装置用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10071770A JPH11271737A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 液晶表示装置用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11271737A true JPH11271737A (ja) | 1999-10-08 |
Family
ID=13470131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10071770A Pending JPH11271737A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 液晶表示装置用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11271737A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6657271B2 (en) | 2001-05-01 | 2003-12-02 | Nidek Company, Limited | Transparent substrate with multilayer antireflection film having electrical conductivity |
| JP2010107543A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止フィルム |
-
1998
- 1998-03-20 JP JP10071770A patent/JPH11271737A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6657271B2 (en) | 2001-05-01 | 2003-12-02 | Nidek Company, Limited | Transparent substrate with multilayer antireflection film having electrical conductivity |
| JP2010107543A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Hitachi Maxell Ltd | 反射防止フィルム |
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