JPH11263785A - ビス(トリアルキルトリメリト酸無水物)誘導体およびこれより形成された光通信用ポリエステルイミド - Google Patents

ビス(トリアルキルトリメリト酸無水物)誘導体およびこれより形成された光通信用ポリエステルイミド

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JPH11263785A
JPH11263785A JP11000231A JP23199A JPH11263785A JP H11263785 A JPH11263785 A JP H11263785A JP 11000231 A JP11000231 A JP 11000231A JP 23199 A JP23199 A JP 23199A JP H11263785 A JPH11263785 A JP H11263785A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フィルム形成特性に優れ、熱安定性が良く、
なおかつ近赤外線領域の光損失を最小化でき、近赤外線
領域の光を用いる光通信分野の光学材料として有効に使
用できる材料を提供すること。 【解決手段】 化学式1: 【化1】 [式中、X1、X2およびX3は互いに無関係にハロゲン原
子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香族環基、-N
O2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化アルキルま
たはハロゲン化芳香族環基である)であり;Z1は2価の
ハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロゲン化脂肪族環
式炭化水素または2価のハロゲン化芳香族炭化水素であ
る。]で表されるビス(トリアルキルトリメリト酸無水
物)誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信用新素材に
関するものであり、特に、熱安定性およびフィルム加工
性に優れ、さらに近赤外線領域の光伝達損失を最小に抑
えられるポリエステルイミドに関する。
【0002】
【従来の技術】光通信において用いる光の波長範囲は、
初期には800nm波長帯であったものが近赤外線波長領域
である1550nm波長帯へと移行している。したがって、光
通信素子を製造するのに用いられる光学材料は、基本的
に近赤外線波長領域の光をほとんど吸収しない材質で作
製することが理想的である。
【0003】光学レンズ、コンパクトディスクなどの光
学基板には、一般に高分子が用いられている。近年、こ
の高分子を近赤外線領域における光導波路用材質として
利用しようとする研究がなされている。
【0004】ところが、普通の高分子は、通常1000〜17
00nmの近赤外線波長領域の光を吸収する。高分子が近赤
外線領域の光を吸収することは、アルキル基、フェニル
基、その他の類似した官能基の炭素-水素(C-H)結合の
伸縮振動と変角振動とに伴う高調波の倍音に起因するも
のである。したがって、このため、通常の高分子を近赤
外線波長領域の光を用いる光導波用材料として用いるこ
とは、光損失が極めて大であるので好ましくない。この
光損失を減らすべく、高分子の光吸収波長領域を、近赤
外線波長領域からこれより長波長または短波長の領域へ
と移す必要がある。このためには、C-H結合の水素をフ
ッ素(F)や重水素(D)に置換する方法が提案されてい
る。
【0005】特に、水素を重水素に置換する方法を用い
る場合、C-D結合は1500nm波長帯の光を非常に大きく吸
収するので、1500nm波長帯を用いる光通信素子用材料と
して用いることは好適でない。これに対して、水素をフ
ッ素に置換する方法は、1000〜1700nm波長帯の光損失を
最小化しうる方法であることが確認された。
【0006】一方、光電子集積回路(Opto Electronic
Integrated Circuits:OEIC)、光-電子混合配線板(Op
to-Electrical Mixed Wiring Board:OEMWB)、ハイブ
リッド集積デバイス(Hybride Integration device)、
プラスチック光ファイバー(Plastic Optical Fibe
r)、マルチチップ・モジュール(Multi Chip Module:
MCM)などの光学デバイスを製造するための光学材料
は、製造工程中に熱に対する安定性、特に250℃におけ
る持続的な熱安定性が求められる。このように、光学材
料の熱安定性は極めて重要であるので、光学材料のガラ
ス転移温度、熱分解温度、熱膨張係数、複屈折等も非常
に慎重に考慮しなければならない。
【0007】熱安定性に優れた高分子としてポリイミド
が最も広範に知られている。ポリイミドは400℃程度の
高温でも熱安定性に優れているため、これを光通信用材
料として応用しようとする努力が引き続きなされてい
る。しかしながら、従来のポリイミドは、分子内に多数
のC-H結合を有しており、このため、近赤外線領域にお
ける光損失が大きい。このような問題点を解決するため
に、最近、ポリイミド内のC-H結合における水素を部分
的もしくは完全にフッ素に置換させる方法が提案されて
いる。
【0008】ところが、前述の如く、水素をフッ素に置
換すると、高分子の屈折率が小さくなってしまう。この
場合、高分子内のフッ素含量は屈折率の減少量と比例関
係にある。このため、C-H結合における水素をフッ素に
置換させたポリイミド、すなわち、フッ素化したポリイ
ミドは屈折率が低く、これを光ファイバーのコアとして
用いる場合、クラッドとして使用できる材料についての
選択の幅が狭くなる。
【0009】さらに、ポリイミド内のフッ素含量が増加
するにつれ、前記高分子の表面張力は次第に低下する。
したがって、この種の高分子は基体(substrate)へのコ
ーティングが難しく、この高分子からなるフィルムは接
着性が不良である。その結果、フィルム特性が低下する
のみならず、フィルムが破れ易くなり、このようなポリ
イミドを光通信用材料として用いることは実質的に極め
て困難であるといった問題がある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、近赤外線領域
(1000〜1700nm)における光吸収損失が最小となり、20
0℃以上の温度でも極めて優れた熱安定性を示し、さら
にフィルム加工性に優れている光通信用ポリエステルイ
ミドを提供することにある。本発明の他の目的は、上記
した光通信用ポリエステルイミドを製造するための中間
体を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、化学式1:
【0012】
【化7】
【0013】[式中、X1、X2およびX3は互いに無関係に
ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香
族環基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化
アルキル基またはハロゲン化芳香族環基である)であ
り;Z1は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロ
ゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン化芳
香族炭化水素である。]で表されるビス(トリアルキル
トリメリト酸無水物)誘導体を提供する。本発明の他の
目的は、化学式2:
【0014】
【化8】
【0015】[式中、X1、X2およびX3は互いに無関係
に、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化
芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲ
ン化アルキル基またはハロゲン化芳香族環基で)であ
り;Z1およびZ2は互いに無関係に、2価のハロゲン化脂
肪族炭化水素、2価のハロゲン化脂肪族環式炭化水素、
または2価のハロゲン化芳香族炭化水素である。]で表
される繰返し単位を含む光通信用ポリエステルイミドに
よって達成される。
【0016】好ましくは、前記X1、X2およびX3は互いに
無関係に、塩素原子、部分的もしくは完全に塩素化した
アルキル基、部分的もしくは完全に塩素化した芳香族環
基、部分的もしくは完全に塩素化したアルコキシ基、ま
たは部分的もしくは完全に塩素化したフェノキシ基であ
る。
【0017】さらに、前記Z1およびZ2は互いに無関係
に、2価のハロゲン化C1〜C25脂肪族炭化水素、2価のハ
ロゲン化C1〜C25脂肪族環式炭化水素、または2価のハ
ロゲン化C6〜C25芳香族炭化水素である。特に、下記構
造式で表される基であることが好ましい。
【0018】
【化9】
【0019】[式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7およ
びY8は互いに無関係に、ハロゲン原子、ハロゲン化アル
キル基、ハロゲン化芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1
(式中、R1はハロゲン化アルキル基またはハロゲン化芳
香族環基である)であり;Qは単に化学結合であるか、
あるいは-O-、-CO-、-SO2-、-S-、-(OT)m-、-(TO)m-ま
たは(OTO)m-(式中、Tはハロゲン化アルキレン基または
ハロゲン化アリレン基であり、mは1〜10の整数である)
である。]
【0020】本発明によるポリエステルイミドは、分子
量が1×104〜5×105ダルトンであり、かつ熱分解温度が
300〜500℃であることが好ましく、このために優れた熱
安定性を有する。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明によるビス(トリアルキル
トリメリト酸無水物)誘導体は、光通信用ポリエステル
イミドの合成時に中間体として使用可能である。
【0022】本発明の光通信用ポリエステルイミドは、
C-H結合における水素が前述したようにハロゲン原子、
ニトロ基等に置換可能である。この場合、水素を置換す
るのに用いられるハロゲン原子は1種のみに制限され
ず、各種のハロゲン原子同士の組み合わせも可能であ
る。中でも、本発明のポリエステルイミドは、C-H結合
における水素が塩素原子に置換されることが一層好まし
いが、その理由は、C-Cl結合による光損失がC-F結合の
場合よりも相対的に低いからである。
【0023】以下、本発明によるビス(トリアルキルト
リメリト酸無水物)誘導体の製造方法について説明す
る。まず、反応式1を参照して、1,2,4-トリメチルベン
ゼン(D)とハロゲン化合物またはニトロ化剤とを反応
させ、3,5,6-トリアルキル-1,2,4-トリメチルベンゼン
(E)を合成する。この3,5,6-トリアルキル-1,2,4-ト
リメチルベンゼン(E)を各種の酸化方法、例えば、遷
移金属触媒、過マンガン酸カリウム、硝酸などを用いた
方法により酸化させ、3,5,6-トリアルキル-1,2,4-ベン
ゼントリカルボン酸(F)を得る。
【0024】反応式2を参照して、前記3,5,6-トリアル
キル-1,2,4-ベンゼントリカルボン酸(F)に酢酸と無水
酢酸とを加え、この反応混合物を反応させて単量体であ
る3,5,6-トリアルキル-4-カルボン酸-1,2-フタル酸無水
物(G)を得る。この3,5,6-トリアルキル-4-カルボン酸
-1,2-フタル酸無水物(G)を塩化チオニルなどのハロゲ
ン化化合物と反応させ、3,5,6-トリアルキル-4-ハロゲ
ンホルミルフタル酸無水物(A)を合成する。
【0025】
【化10】
【0026】
【化11】
【0027】上記反応式1および2において、X1、X2およ
びX3は互いに無関係に、ハロゲン原子、ハロゲン化アル
キル基、ハロゲン化芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1
(式中、R1はハロゲン化アルキル基またはハロゲン化芳
香族環基である)である。
【0028】上記3,5,6-トリアルキル-4-ハロゲンホル
ミルフタル酸無水物(A)とジオール化合物(HO-Z1-O
H;式中、Z1は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価の
ハロゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン
化芳香族炭化水素である)とを反応させると、化学式
1:
【0029】
【化12】
【0030】[式中、X1、X2およびX3は互いに無関係
に、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化
芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲ
ン化アルキル基またはハロゲン化芳香族環基である)で
あり、Z1は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハ
ロゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン化
芳香族炭化水素である。]のビス(トリアルキルトリメ
リト酸無水物)誘導体が合成される。
【0031】上記式1のビス(トリアルキルトリメリト
酸無水物)誘導体の製造方法を、具体的な反応条件を挙
げて以下に詳細に説明する。クロロホルムに1,2,4-テト
ラメチルベンゼンとヨウ素とを加え、その混合物に臭化
水素、塩化水素、フッ化水素または硝酸を加え、0〜40
℃で15分〜24時間激しく攪拌する。反応が完了した後、
生成した沈殿物をろ過する。
【0032】こうして得られた生成物にピリジンおよび
水を加え、100℃で加熱する。次いで、この反応混合物
に過マンガン酸カリウムを加え、50〜115℃で2〜24時間
反応させる。次に、得られた生成物を熱い状態でろ過す
る。こうして得られたものを減圧蒸留してピリジンを除
去する。残留物に水と水酸化ナトリウムとを加え、50〜
100℃で加熱する。
【0033】得られた混合物に過マンガン酸カリウムを
加え2〜24時間反応させた後に、5NHCl水溶液を用いて反
応混合物を酸性にする。次いで、この反応混合物から溶
媒を除去し、3,5,6-トリアルキル-1,2,4-ベンゼントリ
カルボン酸を得る。
【0034】この3,5,6-トリアルキル-1,2,4-ベンゼン
トリカルボン酸に酢酸および無水酢酸を加え、50〜130
℃で30分〜24時間反応させて、3,5,6-トリアルキル-4-
カルボン酸-1,2-フタル酸無水物を得る。これを塩化チ
オニルと約30℃で30分〜48時間反応させて、3,5,6-トリ
アルキル-4-ハロゲンホルミルフタル酸無水物を得る。
【0035】この3,5,6-トリアルキル-4-ハロゲンホル
ミルフタル酸無水物をジオール化合物、ピリジンおよび
アセトニトリルと混合した後、これを-40〜10℃で1〜24
時間反応させる。反応が完了した後、生成した沈殿物を
反応混合物から取り出し、クロロホルムで洗浄した後乾
燥して、化学式1のビス(トリアルキルトリメリト酸無
水物)誘導体を得る。
【0036】上記ジオール化合物は特に限定されるもの
ではなく、例えば、ビス(パーフルオロフェニル)アル
カン類、ビス(パーフルオロフェニル)スルホン類、ビ
ス(パーフルオロフェニル)エーテル類、α,α'-ビス
(パーフルオロフェニル)ジイソプロピルベンゼン類な
どが挙げられる。具体例としては、ヘキサフルオロ-1,5
-ペンタンジオール、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロ
ヘキサン-1,6-ジオール、2,2,3,3-テトラフルオロブタ
ン-1,4-ジオール、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-ドデカフ
ルオロ-1,1-ヘプタンジオール、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7-ドデカフルオロ-1,8-オクタンジオール、3,3,4,4,
5,5,6,6-オクタフルオロオクタン-1,8-ジオール、2,2,
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-テトラデカフルオロノナン-
1,9-ジオール、1H,1H,2H,3H,3H-パーフルオロノナン-1,
2-ジオール、7H-ドデカフルオロ-1.1-ヘプタンジオー
ル、1H,1H,10H,10H-ヘキサデカフルオロデカン-1,10-ジ
オール、1H,1H,10H,10H-パーフルオロデカン-1,10-ジオ
ール、1H,1H,2H,3H,3H-フルオロウンデカン-1,2-ジオー
ル、テトラデカフルオロノナン-1,9-ジオール、テトラ
フルオロヒドロキノン、テトラクロロヒドロキノン、2,
2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサクロロプロパン、2,2-ビス[4-(2-ヒドロキシ
エトキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス
[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]ヘキサクロロプロ
パン、1,3-ビス(2-ヒドロキシヘキサフルオロイソプロ
ピル)ベンゼン、1,4-ビス(2-ヒドロキシヘキサフルオロ
イソプロピル)ベンゼン、4,4'-ビス(2-ヒドロキシヘキ
サフルオロイソプロピル)ジフェニル、4,4'-ビス(2-ヒ
ドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ジフェニルエー
テル、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、1,3-ビス(2-ヒドロキシヘキサクロロイソプ
ロピル)ベンゼン、1,4-ビス(2-ヒドロキシヘキサクロロ
イソプロピル)ベンゼン、4,4'-ビス(2-ヒドロキシヘキ
サクロロイソプロピル)ジフェニル、4,4'-ビス(2-ヒド
ロキシヘキサクロロイソプロピル)ジフェニルエーテ
ル、2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサクロロプ
ロパン、1,1-(4,4'-ジヒドロキシジフェニル)エタン、
1,2-(4,4'-ジヒドロキシジフェニル)エタン、1,10-(4,
4'-ジヒドロキシジフェニル)デカン、1,4-(4,4'-ジヒド
ロキシジイソプロピリデンジフェニル)ベンゼン、1,4-
(4,4'-ジヒドロキシジメチレンジフェニル)ベンゼン、
1,10-(4,4'-ジヒドロキシジフェニル)-1,1-ジオキソデ
カン、4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキシ-
3,3'-ジメチルジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキ
シジフェニルスルホキシド、4,4'-ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフ
ェニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-ブ
タン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-イソブタン、
4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-シクロペンタン、4,
4-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-シクロヘキサン、4,4'
-ジヒドロキシジフェニル-2,2-ブタン、4,4'-ジヒドロ
キシジフェニル-2,2-ペンタン、4,4'-ジヒドロキシジフ
ェニル-2,2-(4-メチルペンタン)、4,4'-ジヒドロキシジ
フェニル-4,4-ヘプタン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル
-2,2,2-エタン、4,4-ジヒドロキシトリフェニルメタ
ン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラクロロジフェ
ニル-1,1-シクロヘキサン、4,4'-ジヒドロキシジフェニ
ル-2,2-ヘキサン、4,4-ジヒドロキシジフェニル-β,β-
デカヒドロナフタレン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル
メタン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2-プロパン、
4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラクロロジフェニル
-2,2-プロパン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフ
ェニル-2,2-プロパン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチ
ルジフェニル-2,2-プロパン、1,3-プロパンジオール、
1,4-ブタンジオール、1,1'-ジヒドロキシジエチルエー
テル、1,1'-ジヒドロキシジメチル-2,2-プロパン、1,1'
-ジヒドロキシジメチル-2,2-ペンタン、1,1'-ジヒドロ
キシジメチル-1,4-ベンゼン、1,1'-ジヒドロキシジエチ
ルベンゼン、1,1'-ジヒドロキシジメチルベンジジン、
1,1'-ジヒドロキシジエチルベンジジン、(1,1'-ビフェ
ニル)-2,5-ジオール、(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジオー
ル、(1,1'-ビフェニル)-3,4-ジオール、(1,1'-ビフェニ
ル)-3,4'-ジオール、(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオー
ル、(1,1'-ビフェニル)-3,3'-ジオール、(1,1'-ビフェ
ニル)-2,4'-ジオール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニ
ル)-4,4'-ジオール、5,5'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)
-2,2'-ジオール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,
2'-ジオール、6,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-
ジオール、5,5'-ジエチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジ
オール、3,3'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジ
オール、5,5'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジ
オール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオ
ール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジオー
ル、6,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオー
ル、6,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-3,3'-ジオー
ル、5,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,3'-ジオー
ル、3,3',5,5'-テトラフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-2,
2'-ジオール、3,3',5,5'-テトラメトキシ-(1,1'-ビフェ
ニル)-4,4'-ジオール、2,2',6,6'-テトラメトキシ-(1,
1'-ビフェニル)-4,4'-ジオール、3,3',5,5'-テトラメチ
ル-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジオール、3,3',5,5'-テト
ラメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオール、2,2-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)-1,3-パーフルオロプロパン、
4,4'-ジヒドロキシベンゾフェノン、1,4-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)ベンゼン、4,4'-ビス(4"-ヒドロキシベン
ゼンスルホニル)ジフェニル、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',
5,5'-テトラメチルジフェニル-1,1'-メタン、2,2-ビス
(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリクロロフェニル)プロパン、
4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラメチルジフェニル
-1,1-メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリクロ
ロフェニル)プロパン、4,4'-ヒドロキシ-3,3',5,5'-テ
トラメチルジフェニル-1,1-シクロヘキサン、1,1-ビス
(4-ヒドロキシ-3-メチル)シクロヘキサン、2,4-ビス(4-
ヒドロキシフェニル)2-メチルブタン、4,4'-ジヒドロキ
シ-3,3',5,5'-テトラメチルジフェニル-1,1-スルホン、
2,2-ビス(3-ヒドロキシフェニル)-1,3-パーフルオロプ
ロパン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-ジフェニ
ルメタン、2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1,1',3,3'-
クロロジフルオロプロパン、4,4'-ジヒドロキシジフェ
ニル-1,1'-シクロペンタン、2-メチルヒドロキシキノ
ン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2'-ジクロロ-1,1'
-エテン、1,4-ビス(4-ヒドロキシフェニル-2-プロピル)
ベンゼンなどである。
【0037】以下、化学式1のビス(トリアルキルトリ
メリト酸無水物)誘導体から本発明の光通信用ポリエス
テルイミドを製造する方法を説明する。
【0038】化学式1のビス(トリアルキルトリメリト
酸無水物)誘導体とジアミン化合物(H2N-Z2-NH2;式
中、Z2は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロ
ゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン化芳
香族炭化水素である)をN,N-ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジ
メチルホルムアミドなどの溶媒に溶解し-20〜50℃で2〜
300時間反応させる。反応混合物を蒸溜水やメチルアル
コールを用いて沈殿させ、ポリエステルアミド酸(polye
steramic acid)を得る。前記ポリエステルアミド酸をイ
ミド化して、化学式2:
【0039】
【化13】
【0040】[式中、X1、X2、X3、Z1およびZ2は上記と
同じ意味を表す。]のポリエステルイミドを得る。
【0041】ここで、ポリエステルアミド酸をポリエス
テルイミドにイミド化する方法としては、化学的方法お
よび熱的方法がある。化学的方法としては、ポリエステ
ルアミド酸に無水酢酸およびピリジンを加え、130℃で
加熱する方法が挙げられ、熱的方法としては、ポリエス
テルアミド酸を70℃で2時間、160℃で1時間または250℃
で30分間加熱する方法がある。
【0042】上記方法により得られたポリエステルイミ
ドの分子量は1×104〜5×105ダルトン、好ましくは、1.
5×104〜2.5×104ダルトンである。この場合、分子量は
ゲル浸透クロマトグラフィ方法を用いて決定したもので
ある。本発明のポリエステルイミドの熱分解温度[熱重
量分析法(TGA)により測定]は、300〜500℃、特に375〜
425℃である。そしてポリエステルイミドのガラス転移
温度は190〜290℃である。
【0043】上記ジアミン化合物(B)は特に限定され
るものではなく、例えば、ビス(パーフルオロフェニ
ル)アルカン類、ビス(パーフルオロフェニル)スルホ
ン類、ビス(パーフルオロフェニル)エーテル類、α,
α'-ビス(パーフルオロフェニル)ジイソプロピルベン
ゼン類などが挙げられる。具体例としては、テトラフル
オロ-1,2-フェニレンジアミン、テトラフルオロ-1,3-フ
ェニレンジアミン、テトラフルオロ-1,4-フェニレンジ
アミン、テトラクロロ-1,2-フェニレンジアミン、テト
ラクロロ-1,3-フェニレンジアミン、テトラクロロ-1,4-
フェニレンジアミン、ヘキサフルオロ-1,5-ジアミノナ
フタレン、ヘキサフルオロ-2,6-ジアミノナフタレン、3
-トリフルオロメチルトリフルオロ-1,2-フェニレンジア
ミン、4-トリフルオロメチルトリフルオロ-1,2-フェニ
レンジアミン、2-トリフルオロメチルフルオロ-1,3-フ
ェニレンジアミン、4-トリフルオロメチルトリフルオロ
-1,3-フェニレンジアミン、5-トリフルオロメチルトリ
フルオロ-1,3-フェニレンジアミン、2-トリフルオロメ
チルトリフルオロ-1,4-フェニレンジアミン、3-ペンタ
フルオロエチルトリフルオロ-1,2-フェニレンジアミ
ン、4-ペンタフルオロエチルトリフルオロ-1,2-フェニ
レンジアミン、2-ペンタフルオロエチルトリフルオロ-
1,3-フェニレンジアミン、4-ペンタフルオロエチルトリ
フルオロ-1,3-フェニレンジアミン、5-ペンタフルオロ
エチルトリフルオロ-1,3-フェニレンジアミン、2-ペン
タフルオロエチルトリフルオロ-1,4-フェニレンジアミ
ン、3,4-ビス(トリフルオロメチル)ジフルオロ-1,2-
フェニレンジアミン、3,5-ビス(トリフルオロメチル)
ジフルオロ-1,2-フェニレンジアミン、2,4-ビス(トリ
フルオロメチル)ジフルオロ-1,3-フェニレンジアミ
ン、4,5-ビス(トリフルオロメチル)ジフルオロ-1,3-
フェニレンジアミン、2,3-ビス(トリフルオロメチル)
ジフルオロ-1,4-フェニレンジアミン、2,5-ビス(トリ
フルオロメチル)ジフルオロ-1,4-フェニレンジアミ
ン、3,4-ビス(トリフルオロメチル)ジフルオロ-1,2-
フェニレンジアミン、3-トリフルオロメトキシフルオロ
-1,2-フェニレンジアミン、4-トリフルオロメトキシト
リフルオロ-1,2-フェニレンジアミン、2-トリフルオロ
メトキシトリフルオロ-1,3-フェニレンジアミン、4-ト
リフルオロメトキシトリフルオロ-1,3-フェニレンジア
ミン、5-トリフルオロメトキシトリフルオロ-1,3-フェ
ニレンジアミン、2-トリフルオロメトキシトリフルオロ
-1,4-フェニレンジアミン、3,4,5-トリス(トリフルオ
ロメチル)フルオロ-1,2-フェニレンジアミン、3,4,6-
トリス(トリフルオロメチル)フルオロ-1,2-フェニレ
ンジアミン、2,4,5-トリス(トリフルオロメチル)フル
オロ-1,3-フェニレンジアミン、2,4,6-トリス(トリフ
ルオロメチル)フルオロ-1,3-フェニレンジアミン、4,
5,6-トリス(トリフルオロメチル)フルオロ-1,3-フェ
ニレンジアミン、テトラキス(トリフルオロメチル)-
1,2-フェニレンジアミン、テトラキス(トリフルオロメ
チル)-1,3-フェニレンジアミン、テトラキス(トリフ
ルオロメチル)-1,4-フェニレンジアミン、3,3'-ジアミ
ノオクタフルオロビフェニル、3,4'-ジアミノオクタフ
ルオロビフェニル、4,4'-ジアミノオクタフルオロビフ
ェニル、3,3'-ジアミノオクタクロロビフェニル、3,4'-
ジアミノオクタクロロビフェニル、4,4'-ジアミノオク
タクロロビフェニル、2,2'-ビス(トリクロロメチル)-
4,4'-ジアミノヘキサクロロビフェニル、3,3'-ビス(ト
リクロロメチル)-4,4'-ジアミノヘキサフルオロビフェ
ニル、ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ジクロ
ロメタン、1,2-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニ
ル)テトラクロロエタン、2,2-ビス(4-アミノテトラフ
ルオロフェニル)ヘキサクロロプロパン、2,2'-ビス
(トリフルオロフェニル)-4,4'-ジアミノヘキサクロロ
ビフェニル、3,3'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4'-
ジアミノヘキサフルオロビフェニル、ビス(4-アミノテ
トラフルオロフェニル)ジフルオロメタン、1,2-ビス
(4-アミノテトラフルオロフェニル)テトラクロロエタ
ン、2,2-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、ビス(3-アミノテトラフルオロフ
ェニル)エーテル、3,4'-ジアミノオクタフルオロビフ
ェニルエーテル、ビス(4-アミノテトラフルオロフェニ
ル)エーテル、ビス(3-アミノテトラクロロフェニル)
エーテル、3,4'-ジアミノオクタクロロビフェニルエー
テル、ビス(4-アミノテトラクロロフェニル)エーテ
ル、3,3'-ジアミノオクタフルオロベンゾフェノン、3,
4'-ジアミノオクタフルオロベンゾフェノン、4,4'-ジア
ミノオクタフルオロベンゾフェノン、ビス(3-アミノテ
トラフルオロフェニル)スルホン、3,4'-ジアミノオク
タフルオロビフェニルスルホン、ビス(4-アミノテトラ
フルオロフェニルスルホン)、ビス(3-アミノテトラフ
ルオロフェニル)スルフィド、3,4'-ジアミノオクタフ
ルオロビフェニルスルフィド、ビス(4-アミノテトラフ
ルオロフェニル)スルフィド、4-アミノテトラフルオロ
フェノキシ-4'-アミノテトラフルオロフェニルジフルオ
ロメタン、ビス(4-アミノテトラフルオロフェノキシ)
ジフルオロメタン、1,2-ビス(4-アミノテトラフルオロ
フェノキシ)テトラフルオロエタン、2,2-ビス(4-アミ
ノテトラフルオロフェノキシ)ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス(4-アミノテトラフルオロフェノキシ)ジクロ
ロメタン、1,2-ビス(4-アミノテトラフルオロフェノキ
シ)テトラクロロエタン、2,2-ビス(4-アミノテトラフ
ルオロフェノキシ)ヘキサクロロプロパン、4,4"-ジア
ミノドデカフルオロ-p-ターフェニル、2',3'-ビス(ト
リフルオロメチル)-4,4"-ジアミノ-p-ターフェニル、
2,2"-ビス(トリフルオロメチル)-4,4"-ジアミノ-p-タ
ーフェニル、2',5'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4"-
ジアミノターフェニル、2,7-ジアミノヘキサフルオロジ
ベンゾフラン、1,4-ビス(4-アミノテトラフルオロフェ
ノキシ)テトラフルオロベンゼン、2,6-ジアミノヘキサ
フルオロナフタレン、2,7-ジアミノオクタフルオロフェ
ナントレン、2,6-ジアミノオクタフルオロアントラセ
ン、2,7-ジアミノヘキサチアントレン、2,6-ジアミノヘ
キサフルオロアントラキノン、2,6-ジアミノヘキサフル
オロビフェニレン、2,6-ジアミノオクタフルオロアント
ロン、2,7-ジアミノテトラフルオロジベンズ[b,e]1,4-
ジオキサン、2,2'-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、2,2'-ビス(4-アミノフェニル)ヘキ
サクロロプロパン、2,4-ジアミノベンゾトリフルオライ
ド、2,2-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、2,2-
ビス[4-(4-アミノ-2-トリフルオロフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノ-2
-トリフルオロフェノキシ)フェニル]ヘキサクロロプロ
パン、3,4-ジアミノベンゾトリフルオライド、3,5-ジア
ミノベンゾトリフルオライド、2,5-ジアミノベンゾトリ
フルオライド、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミ
ノフェノキシ)フェニル]ヘキサクロロプロパン、3,4-
ジアミノ-1-フルオロベンゼンなどがある。
【0044】以下、本発明を実施例を挙げて詳細に説明
するが、本発明は下記実施例に限定されるものではな
い。
【0045】<合成例1>3,5,6-トリクロロ-4-クロロホ
ルミルフタル酸無水物(3,5,6-trichloro-4-chloroform
ylphthalic anhydride:TCPA)(0.015モル)をアセト
ニトリル10mlに加えた後、この混合物を-18℃まで冷却
した。窒素雰囲気下で、この反応混合物にヒドロキノン
(0.0075モル)、ピリジン(0.015モル)およびアセト
ニトリル(7ml)を加えた。このとき、反応混合物の温
度は-18℃に保った。この反応混合物を-18℃で1時間攪
拌した後、室温でさらに1時間攪拌した。反応が完了し
た後、生成した沈殿物をろ過し、クロロホルムで数回に
亘って洗浄した。得られた生成物を60℃のオーブンで24
時間乾燥し、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミルフタ
ル酸無水物ヒドロキノンを得た(収率:92%)。
【0046】<合成例2>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて、テトラフルオロヒドロキノン(0.0075モル)
を使用した以外は、合成例1と同様の方法により、3,5,6
-トリクロロ-4-クロロホルミルフタル酸無水物テトラフ
ルオロヒドロキノンを得た(収率:85%)。
【0047】<合成例3>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えてテトラクロロヒドロキノン(0.0075モル)を使
用した以外は、合成1と同様の方法により、3,5,6-トリ
クロロ-4-クロロホルミルフタル酸無水物テトラクロロ
ヒドロキノンを得た(収率:88%)。
【0048】<合成例4>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ヒドロキシジフェニル-2,2-プロパン(0.
0075モル)を使用した以外は、合成例1と同様の方法に
より、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミルフタル酸無
水物4,4'-ヒドロキシジフェニル-2,2-プロパンを得た
(収率:84%)。
【0049】<合成例5>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合成
例1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホ
ルミルフタル酸無水物2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンを得た(収率:78%)。
【0050】<合成例6>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサク
ロロプロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合成例
1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホル
ミルフタル酸無水物2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサクロロプロパンを得た(収率:75%)。
【0051】<合成例7>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフェニル-
2,2-プロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合成例
1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホル
ミルフタル酸無水物4,4-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジ
フェニル-2,2-プロパンを得た(収率:83%)。
【0052】<合成例8>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて2,2'-ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリクロロフ
ェニル)プロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合
成例1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロ
ホルミルフタル酸無水物2,2-ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5
-トリクロロフェニル)プロパンを得た(収率:84%)。
【0053】<合成例9>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラクロロジ
フェニル-2,2-プロパン(0.0075モル)を使用した以外
は、合成例1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-
クロロホルミルフタル酸無水物4,4'-ジヒドロキシ-3,
3',5,5'-テトラクロロジフェニル-2,2-プロパンを得た
(収率:86%)。
【0054】<合成例10>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル(0.007
5モル)を使用した以外は、合成例1と同様の方法によ
り、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミルフタル酸無水
物4,4'-ジヒドロキシフェニルエーテルを得た(収率:8
1%)。
【0055】<合成例11>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフェニル
スルホン(0.0075モル)を使用した以外は、合成例1と
同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミ
ルフタル酸無水物4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジ
フェニルスルホンを得た(収率:75%)。
【0056】<合成例12>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて3,3'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-
ジオール(0.0075モル)を使用した以外は、合成例1と
同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミ
ルフタル酸無水物3,3'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニ
ル)-4,4'-ジオールを得た(収率:77%)。
【0057】<実施例1>窒素雰囲気下で、パラフェニ
レンビス(3,5,6-トリクロロトリメリト酸無水物)(0.
001モル)と、1,3-フェニレンアミン(0.001モル)と、
N,N-ジメチルアセトアミド3mlとの混合物を室温で9日間
反応させた。この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後
で、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。
得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24
時間乾燥した後、これを250℃で加熱して、ポリエステ
ルイミド(以下、PEIと称す)(1)を得た(収率:90
%)。
【0058】<実施例2>窒素雰囲気下で、パラフェニ
レンビス(3,5,6-トリクロロトリメリト酸無水物)(0.
001モル)と、4,4'-ジアミノビフェニル(0.001モル)
とN,N-ジメチルアセトアミド4mlとの混合物を室温で9日
間反応させた。この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後
で、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。
得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24
時間乾燥した後、これを250℃で加熱して、PEI(2)を
得た(収率:87%)。
【0059】<実施例3>窒素雰囲気下で、2,3,5,6-テ
トラフルオロフェニレン-1,4-ビス(3,5,6-トリクロロ
メリト酸無水物)(0.001モル)と、テトラフルオロ-1,
3-フェニレンジアミン(0.001モル)と、N,N-ジメチル
アセトアミド5mlとの混合物を室温で9日間反応させた。
【0060】この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後
で、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。
得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24
時間乾燥した後、この乾燥混合物に無水酢酸およびピリ
ジンを加えて加熱した。この反応生成物を再度蒸溜水で
沈殿させた後、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回
洗浄した。得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオ
ーブンで24時間乾燥し、PEI(3)を得た(収率:81
%)。
【0061】<実施例4>窒素雰囲気下で、2,3,5,6-テ
トラフルオロフェニレン-1,4-ビス(3,5,6-トリクロロ
メリト酸無水物)(0.001モル)と、4,4'-ジアミノオク
タフルオロフェニル(0.001モル)と、N,N-ジメチルア
セトアミド3mlとの混合物を室温で9日間反応させた。
【0062】この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、
得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得ら
れた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24時間
乾燥した後、この乾燥混合物に無水酢酸およびピリジン
を加えて加熱した。この反応生成物を再度蒸溜水で沈殿
させた後、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄
した。得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブ
ンで24時間乾燥し、PEI(4)を得た(収率:85%)。
【0063】<実施例5>窒素雰囲気下で、2,2-イソプ
ロピリデンジフェニルビス(3,5,6-トリクロロトリメリ
ト酸無水物)(0.001モル)と、2,2'-ビス(4-アミノフ
ェニル)ヘキサクロロプロパン(0.001モル)と、N,N-
ジメチルアセトアミド4mlとの混合物を室温で9日間反応
させた。この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得ら
れた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた
生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥
した後、これを250℃で加熱し、PEI(5)を得た(収
率:86%)。
【0064】<実施例6>窒素雰囲気下で、2,2-イソプ
ロピリデンジフェニルビス(3,5,6-トリクロロトリメリ
ト酸無水物)(0.001モル)と、2,2'-ビス(4-アミノフ
ェニル)プロパン(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセ
トアミド3mlとの混合物を室温で9日間反応させた。この
反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた沈殿物を
ろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成物を減圧
下で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した後、これ
を250℃で加熱し、PEI(6)を得た(収率:82%)。
【0065】<実施例7>窒素雰囲気下で、1,3-ヘキサ
クロロイソプロピリデン-2,2-ジフェニルビス(3,5,6-
トリクロロトリメリト酸無水物)(0.001モル)と、2,
2'-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセト
アミド3mlとの混合物を室温で9日間反応させた。この反
応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた沈殿物をろ
過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成物を減圧下
で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した後、これを
250℃で加熱し、PEI(7)を得た(収率:78%)。
【0066】<実施例8>窒素雰囲気下で、1,3-ヘキサ
クロロイソプロピリデン-2,2-ジフェニルビス(3,5,6-
トリクロロトリメリト酸無水物)(0.001モル)と、2,
2'-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ヘキサク
ロロプロパン(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセトア
ミド5mlとの混合物を室温で9日間反応させた。この反応
混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた沈殿物をろ過
し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成物を減圧下で
60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した後、これを25
0℃で加熱し、PEI(8)を得た(収率:80%)。
【0067】<実施例9>窒素雰囲気下で、2,2'-イソピ
リデン-3,3'-ジクロロジフェニルビス(3,5,6-トリクロ
ロトリメリト酸無水物)(0.001モル)と、ビス(4-ア
ミノフェニル)エーテル(0.001モル)と、N,N-ジメチ
ルアセトアミド5mlとの混合物を室温で9日間反応させ
た。この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた
沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成
物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した
後、これを250℃で加熱し、PEI(9)を得た(収率:79
%)。
【0068】<実施例10>窒素雰囲気下で、2,2'-イソ
ピリデン-3,3'-ジクロロジフェニルビス(3,5,6-トリク
ロロトリメリト酸無水物)(0.001モル)と、2,2-ビス
(トリフルオロメチル)ベンジジン(0.001モル)と、
N,N-ジメチルアセトアミド5mlとの混合物を室温で9日間
反応させた。この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、
得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得ら
れた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24時間
乾燥した後、これを250℃で加熱し、PEI(10)を得た
(収率:75%)。
【0069】<実施例11>窒素雰囲気下で、2,2'-イソ
ピリデン-3,3',5,5'-テトラクロロジフェニルビス(3,
5,6-トリクロロトリメリト酸無水物)(0.001モル)
と、ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)スルホン
(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセトアミド5mlとの混
合物を室温で9日間反応させた。この反応混合物を蒸溜
水で沈殿させた後、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で
数回洗浄した。得られた生成物を減圧下で60℃に設定し
たオーブンで24時間乾燥した後、これを250℃で加熱
し、PEI(11)を得た(収率:73%)。
【0070】<実施例12>窒素雰囲気下で、ジフェニレ
ンエーテルビス(3,5,6-トリクロロトリメリト酸無水
物)(0.001モル)と、ビス(4-アミノテトラクロロフ
ェニル)エーテル(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセ
トアミド5mlとの混合物を室温で9日間反応させた。この
反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた沈殿物を
ろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成物を減圧
下で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した後、これ
を250℃で加熱し、PEI(12)を得た(収率:68%)。
【0071】前記実施例1〜12に従い製造されたPEI
(1)〜PEI(12)の熱安定性、近赤外線領域(1000〜17
00nm)での光損失およびフィルム加工性を調べてみた。
この際、前記ポリエステルイミドの熱安定性は熱重量分
析(Thermogravimetry analysis:TGA)法を用いて測定
した。その結果、PEI(1)〜PEI(12)がいずれも350〜
450℃で熱分解がおこることから、これらは全て熱安定
性に優れていることが判明した。またポリエステルイミ
ドの光損失は、従来の完全フッ素化(perfluorinated)
ポリイミドとほぼ同等であるか、または低減されたこと
が判った。
【0072】さらに、従来の部分的または完全にフッ素
化されたポリエステルイミドはフィルム加工性が不良な
ので、実質的な適用が困難であったが、上記実施例1〜1
2に従い製造されたポリエステルイミドは従来のポリイ
ミドと比較してフィルム加工性が改善されたことが判っ
た。
【0073】
【発明の効果】本発明のポリエステルイミドは、従来の
フッ素化ポリイミドに比べ屈折率が大きい。そのため、
このポリエステルイミドを光ファイバーのコアとして用
いる場合、クラッドとして選ばれ得る材料の幅が広くな
る。しかも、従来のポリイミドに比較し基体へのコーテ
ィング性および接着性が改善されるので、良好なフィル
ム形成特性および熱安定性が得られる。
【0074】さらに、本発明のポリエステルイミドを用
いると、近赤外線領域の光損失が最小に抑えられるの
で、このポリエステルイミドは近赤外線領域の光を用い
る光通信分野の光学材料として極めて有効に使用でき
る。すなわち、本発明のポリエステルイミドは、光電子
集積回路(OEIC)、光-電子混合配線(OEMWB)、ハイブリ
ッド集積デバイス、マルチチップモジュール(MCM)、
プラスチック光ファイバーなどの光導波路用の光学デバ
イスを製造するに際して必須とされる低い光損失特性を
有する機能性高分子材料として用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 李 泰衡 大韓民國 京畿道 城南市 盆唐區 亭子 洞121番地 常▲ロク▼ マウル 宇成ア パート 315棟 1202號

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化学式1: 【化1】 [式中、X1、X2およびX3は互いに無関係にハロゲン原
    子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香族環基、-N
    O2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化アルキル基
    またはハロゲン化芳香族環基である)であり;Z1は2価
    のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロゲン化脂肪族
    環式炭化水素、または2価のハロゲン化芳香族炭化水素
    である。]で表されるビス(トリアルキルトリメリト酸
    無水物)誘導体。
  2. 【請求項2】 前記X1、X2およびX3が互いに無関係に、
    塩素原子、部分的もしくは完全に塩素化したアルキル
    基、部分的もしくは完全に塩素化した芳香族環基、部分
    的もしくは完全に塩素化したアルコキシ基、または部分
    的もしくは完全に塩素化したフェノキシ基であることを
    特徴とする請求項1に記載のビス(トリアルキルトリメ
    リト酸無水物)誘導体。
  3. 【請求項3】 前記Z1が、2価のハロゲン化C1〜C25脂肪
    族炭化水素、2価のハロゲン化C1〜C25脂肪族環式炭化
    水素、または2価のハロゲン化C6〜C25芳香族炭化水素
    であることを特徴とする請求項1に記載のビス(トリア
    ルキルトリメリト酸無水物)誘導体。
  4. 【請求項4】 前記Z1が下記構造式: 【化2】 [式中、Y1、Y2、Y3およびY4は互いに無関係に、ハロゲ
    ン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香族環
    基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化アル
    キル基またはハロゲン化芳香族環基である)である。]
    で表される基であることを特徴とする請求項1に記載の
    ビス(トリアルキルトリメリト酸無水物)誘導体。
  5. 【請求項5】 前記Z1が下記構造式: 【化3】 [式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7およびY8は互いに
    無関係に、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロ
    ゲン化芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1
    ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化芳香族環基であ
    る)であり;Qは単に化学結合であるか、あるいは-O-、
    -CO-、-SO2-、-S-、-(OT)m-、-(TO)m-または-(OTO)m-
    (式中、Tはハロゲン化アルキレン基またはハロゲン化
    アリレン基であり、mは1〜10の整数である)である。]
    で表される基であることを特徴とする請求項1に記載の
    ビス(トリアルキルトリメリト酸無水物)誘導体。
  6. 【請求項6】 化学式2: 【化4】 [式中、X1、X2およびX3は互いに無関係に、ハロゲン原
    子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香族環基、-N
    O2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化アルキル基
    またはハロゲン化芳香族環基である)であり;Z1および
    Z2は互いに無関係に、2価のハロゲン化脂肪族炭化水
    素、2価のハロゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価
    のハロゲン化芳香族炭化水素である。]で表される繰返
    し単位を含む光通信用ポリエステルイミド:
  7. 【請求項7】 前記X1、X2およびX3が互いに無関係に、
    塩素原子、部分的もしくは完全に塩素化したアルキル
    基、部分的もしくは完全に塩素化した芳香族環基、部分
    的もしくは完全に塩素化したアルコキシ基、または部分
    的もしくは完全に塩素化したフェノキシ基であることを
    特徴とする請求項6に記載の光通信用ポリエステルイミ
    ド。
  8. 【請求項8】 前記Z1およびZ2が互いに無関係に、2価の
    ハロゲン化C1〜C25脂肪族炭化水素、2価のハロゲン化C
    1〜C25脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン化C6
    〜C25芳香族炭化水素であることを特徴とする請求項6
    に記載の光通信用ポリエステルイミド。
  9. 【請求項9】 前記Z1およびZ2が互いに無関係に、下記
    構造式: 【化5】 [式中、Y1、Y2、Y3およびY4は互いに無関係に、ハロゲ
    ン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香族環
    基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化アル
    キル基またはハロゲン化芳香族環基である)である。]
    で表される基であることを特徴とする請求項6に記載の
    光通信用ポリエステルイミド。
  10. 【請求項10】 前記Z1およびZ2が互いに無関係に下記構
    造式: 【化6】 [式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7およびY8は互いに
    無関係に、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロ
    ゲン化芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1
    ハロゲン化アルキルもしくはハロゲン化芳香族環基であ
    る)であり;Qは単に化学結合であるか、あるいは-O-、
    -CO-、-SO2-、-S-、-(OT)m-、-(TO)m-または-(OTO)m-
    (式中、Tはハロゲン化アルキレン基またはハロゲン化
    アリレン基であり、mは1〜10の整数である)である。]
    で表される基であることを特徴とする請求項6に記載の
    光通信用ポリエステルイミド。
  11. 【請求項11】 分子量が1×104〜5×105ダルトンである
    ことを特徴とする請求項6に記載の光通信用ポリエステ
    ルイミド。
  12. 【請求項12】 熱分解温度が300〜500℃であることを特
    徴とする請求項6に記載の光通信用ポリエステルイミ
    ド。
  13. 【請求項13】 ガラス転移温度が190〜290℃であること
    を特徴とする請求項6に記載の光通信用ポリエステルイ
    ミド。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002332281A (ja) * 2001-05-11 2002-11-22 Nippon Shokubai Co Ltd 含ハロゲン芳香族酸二無水物
JP2004530714A (ja) * 2001-06-19 2004-10-07 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング Cf2o構造要素を含むポリイミド
JP2007145729A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 New Japan Chem Co Ltd エステル基含有テトラカルボン酸二無水物
JP2010001250A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Air Water Inc p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)の製造方法
WO2010093021A1 (ja) * 2009-02-12 2010-08-19 本州化学工業株式会社 エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法
US9023974B2 (en) 2007-01-26 2015-05-05 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. Ester group-containing tetracarboxylic acid dianhydride, novel polyesterimide precursor derived therefrom, and polyesterimide

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014526463A (ja) 2011-09-08 2014-10-06 コルゲート・パーモリブ・カンパニー 3,3’−ジアルキル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジオールまたは3,3’−ジアルケニル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジオール・ベースのオーラルケアおよびスキンケア組成物
US11220480B2 (en) 2016-12-31 2022-01-11 Shpp Global Technologies B.V. Synthesis of reactive intermediates for polyetherimides, and uses thereof

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1422945A (fr) * 1964-11-05 1966-01-03 Machine pour le chargement et le déchargement de cases dans le séchage du matériel de construction en terre cuite
US3876668A (en) * 1972-12-29 1975-04-08 Standard Oil Co Trichlorotrimellitic anhydride and its preparation
US4001179A (en) * 1975-03-21 1977-01-04 Velsicol Chemical Corporation Bis-(tetrahalophthalimidocarbonyl)-benzene
JPS6038378A (ja) * 1983-08-12 1985-02-27 Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd 新規トリブロムトリメリット酸無水物およびその製造法
US4785121A (en) * 1986-04-14 1988-11-15 Stauffer Chemical Company Preparation of halophthalic anhydrides
IL88582A (en) * 1987-12-08 1993-03-15 Tosoh Corp 4,4)-bis (phthalimido) diphenyl sulfone compounds, processes for their production and flame retardant polymer compositions containing them
US5101006A (en) * 1989-05-15 1992-03-31 Occidental Chemical Corporation Polyimides and copolyimides based on halo-oxydiphthalic anhydrides
JP2503671B2 (ja) * 1989-07-27 1996-06-05 日立化成工業株式会社 新規な含フツ素テトラカルボン酸二無水物及びその製造法
JPH03131629A (ja) * 1989-10-18 1991-06-05 Mitsui Petrochem Ind Ltd イミド系プレポリマーおよびその硬化物
US5322920A (en) * 1990-07-25 1994-06-21 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Thermosetting esterimide oligomer and its production method
US5086188A (en) * 1991-01-16 1992-02-04 Occidental Chemical Corporation Preparation of 3,5-dichlorophthalic acid and 3,5-dichlorophthalic anhydride
US5233049A (en) * 1991-10-29 1993-08-03 Occidental Chemical Corporation Highly fluorinated bis-imides
GB9127587D0 (en) * 1991-12-24 1992-02-19 Ciba Geigy Ag Flame retardant compounds
US5693797A (en) * 1997-02-14 1997-12-02 Unitex Chemical Corporation Process for preparing brominated phthalimides

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002332281A (ja) * 2001-05-11 2002-11-22 Nippon Shokubai Co Ltd 含ハロゲン芳香族酸二無水物
JP2004530714A (ja) * 2001-06-19 2004-10-07 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング Cf2o構造要素を含むポリイミド
JP2007145729A (ja) * 2005-11-24 2007-06-14 New Japan Chem Co Ltd エステル基含有テトラカルボン酸二無水物
US9023974B2 (en) 2007-01-26 2015-05-05 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. Ester group-containing tetracarboxylic acid dianhydride, novel polyesterimide precursor derived therefrom, and polyesterimide
JP2010001250A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Air Water Inc p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)の製造方法
WO2010093021A1 (ja) * 2009-02-12 2010-08-19 本州化学工業株式会社 エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法
JP5727795B2 (ja) * 2009-02-12 2015-06-03 本州化学工業株式会社 エステル基含有テトラカルボン酸二無水物、ポリエステルポリイミド前駆体、ポリエステルイミドおよびこれらの製造方法
US9096566B2 (en) 2009-02-12 2015-08-04 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. Ester group-containing tetracarboxylic acid dianhydride, polyester polyimide precursor, polyesterimide, and methods for producing same

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