JP3490010B2 - ビス(トリクロロトリメリト酸無水物)誘導体およびこれより形成された光通信用ポリエステルイミド - Google Patents

ビス(トリクロロトリメリト酸無水物)誘導体およびこれより形成された光通信用ポリエステルイミド

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JP3490010B2
JP3490010B2 JP00023199A JP23199A JP3490010B2 JP 3490010 B2 JP3490010 B2 JP 3490010B2 JP 00023199 A JP00023199 A JP 00023199A JP 23199 A JP23199 A JP 23199A JP 3490010 B2 JP3490010 B2 JP 3490010B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信用新素材に
関するものであり、特に、熱安定性およびフィルム加工
性に優れ、さらに近赤外線領域の光伝達損失を最小に抑
えられるポリエステルイミドに関する。
【0002】
【従来の技術】光通信において用いる光の波長範囲は、
初期には800nm波長帯であったものが近赤外線波長領域
である1550nm波長帯へと移行している。したがって、光
通信素子を製造するのに用いられる光学材料は、基本的
に近赤外線波長領域の光をほとんど吸収しない材質で作
製することが理想的である。
【0003】光学レンズ、コンパクトディスクなどの光
学基板には、一般に高分子が用いられている。近年、こ
の高分子を近赤外線領域における光導波路用材質として
利用しようとする研究がなされている。
【0004】ところが、普通の高分子は、通常1000〜17
00nmの近赤外線波長領域の光を吸収する。高分子が近赤
外線領域の光を吸収することは、アルキル基、フェニル
基、その他の類似した官能基の炭素-水素(C-H)結合の
伸縮振動と変角振動とに伴う高調波の倍音に起因するも
のである。したがって、このため、通常の高分子を近赤
外線波長領域の光を用いる光導波用材料として用いるこ
とは、光損失が極めて大であるので好ましくない。この
光損失を減らすべく、高分子の光吸収波長領域を、近赤
外線波長領域からこれより長波長または短波長の領域へ
と移す必要がある。このためには、C-H結合の水素をフ
ッ素(F)や重水素(D)に置換する方法が提案されてい
る。
【0005】特に、水素を重水素に置換する方法を用い
る場合、C-D結合は1500nm波長帯の光を非常に大きく吸
収するので、1500nm波長帯を用いる光通信素子用材料と
して用いることは好適でない。これに対して、水素をフ
ッ素に置換する方法は、1000〜1700nm波長帯の光損失を
最小化しうる方法であることが確認された。
【0006】一方、光電子集積回路(Opto Electronic
Integrated Circuits:OEIC)、光-電子混合配線板(Op
to-Electrical Mixed Wiring Board:OEMWB)、ハイブ
リッド集積デバイス(Hybride Integration device)、
プラスチック光ファイバー(Plastic Optical Fibe
r)、マルチチップ・モジュール(Multi Chip Module:
MCM)などの光学デバイスを製造するための光学材料
は、製造工程中に熱に対する安定性、特に250℃におけ
る持続的な熱安定性が求められる。このように、光学材
料の熱安定性は極めて重要であるので、光学材料のガラ
ス転移温度、熱分解温度、熱膨張係数、複屈折等も非常
に慎重に考慮しなければならない。
【0007】熱安定性に優れた高分子としてポリイミド
が最も広範に知られている。ポリイミドは400℃程度の
高温でも熱安定性に優れているため、これを光通信用材
料として応用しようとする努力が引き続きなされてい
る。しかしながら、従来のポリイミドは、分子内に多数
のC-H結合を有しており、このため、近赤外線領域にお
ける光損失が大きい。このような問題点を解決するため
に、最近、ポリイミド内のC-H結合における水素を部分
的もしくは完全にフッ素に置換させる方法が提案されて
いる。
【0008】ところが、前述の如く、水素をフッ素に置
換すると、高分子の屈折率が小さくなってしまう。この
場合、高分子内のフッ素含量は屈折率の減少量と比例関
係にある。このため、C-H結合における水素をフッ素に
置換させたポリイミド、すなわち、フッ素化したポリイ
ミドは屈折率が低く、これを光ファイバーのコアとして
用いる場合、クラッドとして使用できる材料についての
選択の幅が狭くなる。
【0009】さらに、ポリイミド内のフッ素含量が増加
するにつれ、前記高分子の表面張力は次第に低下する。
したがって、この種の高分子は基体(substrate)へのコ
ーティングが難しく、この高分子からなるフィルムは接
着性が不良である。その結果、フィルム特性が低下する
のみならず、フィルムが破れ易くなり、このようなポリ
イミドを光通信用材料として用いることは実質的に極め
て困難であるといった問題がある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、近赤外線領域
(1000〜1700nm)における光吸収損失が最小となり、20
0℃以上の温度でも極めて優れた熱安定性を示し、さら
にフィルム加工性に優れている光通信用ポリエステルイ
ミドを提供することにある。本発明の他の目的は、上記
した光通信用ポリエステルイミドを製造するための中間
体を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、化学式1:
【0012】
【化7】
【0013】[式中、X1、X2およびX3各々塩素であ
り;Z1は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロ
ゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン化芳
香族炭化水素である。]で表されるビス(トリクロロ
リメリト酸無水物)誘導体を提供する。本発明の他の目
的は、化学式2:
【0014】
【化8】
【0015】 [式中、X1、X2およびX3各々塩素であ
り;Z1およびZ2は互いに無関係に、2価のハロゲン化脂
肪族炭化水素、2価のハロゲン化脂肪族環式炭化水素、
または2価のハロゲン化芳香族炭化水素である。]で表
される繰返し単位を含む光通信用ポリエステルイミドに
よって達成される。
【0016】
【0017】さらに、前記Z1およびZ2は互いに無関係
に、2価のハロゲン化C1〜C25脂肪族炭化水素、2価のハ
ロゲン化C1〜C25脂肪族環式炭化水素、または2価のハ
ロゲン化C6〜C25芳香族炭化水素である。特に、下記構
造式で表される基であることが好ましい。
【0018】
【化9】
【0019】[式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7およ
びY8は互いに無関係に、ハロゲン原子、ハロゲン化アル
キル基、ハロゲン化芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1
(式中、R1はハロゲン化アルキル基またはハロゲン化芳
香族環基である)であり;Qは単に化学結合であるか、
あるいは-O-、-CO-、-SO2-、-S-、-(OT)m-、-(TO)m-ま
たは(OTO)m-(式中、Tはハロゲン化アルキレン基または
ハロゲン化アリレン基であり、mは1〜10の整数である)
である。]
【0020】本発明によるポリエステルイミドは、分子
量が1×104〜5×105ダルトンであり、かつ熱分解温度が
300〜500℃であることが好ましく、このために優れた熱
安定性を有する。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明によるビス(トリクロロ
リメリト酸無水物)誘導体は、光通信用ポリエステルイ
ミドの合成時に中間体として使用可能である。
【0022】本発明の光通信用ポリエステルイミドは、
C-H結合における水素が前述したようにハロゲン原子、
ニトロ基等に置換可能である。この場合、水素を置換す
るのに用いられるハロゲン原子は1種のみに制限され
ず、各種のハロゲン原子同士の組み合わせも可能であ
る。中でも、本発明のポリエステルイミドは、C-H結合
における水素が塩素原子に置換されることが一層好まし
いが、その理由は、C-Cl結合による光損失がC-F結合の
場合よりも相対的に低いからである。
【0023】 以下、本発明によるビス(トリクロロ
リメリト酸無水物)誘導体の製造方法について説明す
る。まず、反応式1を参照して、1,2,4-トリメチルベン
ゼン(D)と塩素化合物とを反応させ、3,5,6-トリクロ
-1,2,4-トリメチルベンゼン(E)を合成する。この
3,5,6-トリクロロ-1,2,4-トリメチルベンゼン(E)を
各種の酸化方法、例えば、遷移金属触媒、過マンガン酸
カリウム、硝酸などを用いた方法により酸化させ、3,5,
6-トリクロロ-1,2,4-ベンゼントリカルボン酸(F)を
得る。
【0024】 反応式2を参照して、前記3,5,6-トリ
ロロ-1,2,4-ベンゼントリカルボン酸(F)に酢酸と無
水酢酸とを加え、この反応混合物を反応させて単量体で
ある3,5,6-トリクロロ-4-カルボン酸-1,2-フタル酸無水
物(G)を得る。この3,5,6-トリクロロ-4-カルボン酸-
1,2-フタル酸無水物(G)を塩化チオニルなどのハロゲ
ン化化合物と反応させ、3,5,6-トリクロロ-4-ハロゲン
ホルミルフタル酸無水物(A)を合成する。
【0025】
【化10】
【0026】
【化11】
【0027】 上記反応式1および2において、X1、X2
およびX3各々塩素である。
【0028】 上記3,5,6-トリクロロ-4-ハロゲンホル
ミルフタル酸無水物(A)とジオール化合物(HO-Z1-O
H;式中、Z1は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価
のハロゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲ
ン化芳香族炭化水素である)とを反応させると、化学式
1:
【0029】
【化12】
【0030】 [式中、X1、X2およびX3各々塩素であ
り、Z1は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロ
ゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン化芳
香族炭化水素である。]のビス(トリクロロトリメリト
酸無水物)誘導体が合成される。
【0031】 上記式1のビス(トリクロロトリメリト
酸無水物)誘導体の製造方法を、具体的な反応条件を挙
げて以下に詳細に説明する。クロロホルムに1,2,4-トリ
メチルベンゼンとヨウ素とを加え、その混合物に塩化水
を加え、0〜40℃で15分〜24時間激しく攪拌する。反
応が完了した後、生成した沈殿物をろ過する。
【0032】こうして得られた生成物にピリジンおよび
水を加え、100℃で加熱する。次いで、この反応混合物
に過マンガン酸カリウムを加え、50〜115℃で2〜24時間
反応させる。次に、得られた生成物を熱い状態でろ過す
る。こうして得られたものを減圧蒸留してピリジンを除
去する。残留物に水と水酸化ナトリウムとを加え、50〜
100℃で加熱する。
【0033】 得られた混合物に過マンガン酸カリウム
を加え2〜24時間反応させた後に、5N HCl水溶液を用
いて反応混合物を酸性にする。次いで、この反応混合物
から溶媒を除去し、3,5,6-トリクロロ-1,2,4-ベンゼン
トリカルボン酸を得る。
【0034】 この3,5,6-トリクロロ-1,2,4-ベンゼン
トリカルボン酸に酢酸および無水酢酸を加え、50〜130
℃で30分〜24時間反応させて、3,5,6-トリクロロ-4-カ
ルボン酸-1,2-フタル酸無水物を得る。これを塩化チオ
ニルと約30℃で30分〜48時間反応させて、3,5,6-トリ
ロロ-4-クロロホルミルフタル酸無水物を得る。
【0035】 この3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミ
ルフタル酸無水物をジオール化合物、ピリジンおよびア
セトニトリルと混合した後、これを-40〜10℃で1〜24時
間反応させる。反応が完了した後、生成した沈殿物を反
応混合物から取り出し、クロロホルムで洗浄した後乾燥
して、化学式1のビス(トリクロロトリメリト酸無水
物)誘導体を得る。
【0036】上記ジオール化合物は特に限定されるもの
ではなく、例えば、ビス(パーフルオロフェニル)アル
カン類、ビス(パーフルオロフェニル)スルホン類、ビ
ス(パーフルオロフェニル)エーテル類、α,α'-ビス
(パーフルオロフェニル)ジイソプロピルベンゼン類な
どが挙げられる。具体例としては、ヘキサフルオロ-1,5
-ペンタンジオール、2,2,3,3,4,4,5,5-オクタフルオロ
ヘキサン-1,6-ジオール、2,2,3,3-テトラフルオロブタ
ン-1,4-ジオール、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-ドデカフ
ルオロ-1,1-ヘプタンジオール、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7-ドデカフルオロ-1,8-オクタンジオール、3,3,4,4,
5,5,6,6-オクタフルオロオクタン-1,8-ジオール、2,2,
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-テトラデカフルオロノナン-
1,9-ジオール、1H,1H,2H,3H,3H-パーフルオロノナン-1,
2-ジオール、7H-ドデカフルオロ-1.1-ヘプタンジオー
ル、1H,1H,10H,10H-ヘキサデカフルオロデカン-1,10-ジ
オール、1H,1H,10H,10H-パーフルオロデカン-1,10-ジオ
ール、1H,1H,2H,3H,3H-フルオロウンデカン-1,2-ジオー
ル、テトラデカフルオロノナン-1,9-ジオール、テトラ
フルオロヒドロキノン、テトラクロロヒドロキノン、2,
2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサクロロプロパン、2,2-ビス[4-(2-ヒドロキシ
エトキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス
[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]ヘキサクロロプロ
パン、1,3-ビス(2-ヒドロキシヘキサフルオロイソプロ
ピル)ベンゼン、1,4-ビス(2-ヒドロキシヘキサフルオロ
イソプロピル)ベンゼン、4,4'-ビス(2-ヒドロキシヘキ
サフルオロイソプロピル)ジフェニル、4,4'-ビス(2-ヒ
ドロキシヘキサフルオロイソプロピル)ジフェニルエー
テル、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、1,3-ビス(2-ヒドロキシヘキサクロロイソプ
ロピル)ベンゼン、1,4-ビス(2-ヒドロキシヘキサクロロ
イソプロピル)ベンゼン、4,4'-ビス(2-ヒドロキシヘキ
サクロロイソプロピル)ジフェニル、4,4'-ビス(2-ヒド
ロキシヘキサクロロイソプロピル)ジフェニルエーテ
ル、2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサクロロプ
ロパン、1,1-(4,4'-ジヒドロキシジフェニル)エタン、
1,2-(4,4'-ジヒドロキシジフェニル)エタン、1,10-(4,
4'-ジヒドロキシジフェニル)デカン、1,4-(4,4'-ジヒド
ロキシジイソプロピリデンジフェニル)ベンゼン、1,4-
(4,4'-ジヒドロキシジメチレンジフェニル)ベンゼン、
1,10-(4,4'-ジヒドロキシジフェニル)-1,1-ジオキソデ
カン、4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキシ-
3,3'-ジメチルジフェニルスルフィド、4,4'-ジヒドロキ
シジフェニルスルホキシド、4,4'-ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフ
ェニルスルホン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-ブ
タン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-イソブタン、
4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1-シクロペンタン、4,
4-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-シクロヘキサン、4,4'
-ジヒドロキシジフェニル-2,2-ブタン、4,4'-ジヒドロ
キシジフェニル-2,2-ペンタン、4,4'-ジヒドロキシジフ
ェニル-2,2-(4-メチルペンタン)、4,4'-ジヒドロキシジ
フェニル-4,4-ヘプタン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル
-2,2,2-エタン、4,4-ジヒドロキシトリフェニルメタ
ン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラクロロジフェ
ニル-1,1-シクロヘキサン、4,4'-ジヒドロキシジフェニ
ル-2,2-ヘキサン、4,4-ジヒドロキシジフェニル-β,β-
デカヒドロナフタレン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル
メタン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2-プロパン、
4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラクロロジフェニル
-2,2-プロパン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフ
ェニル-2,2-プロパン、4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジメチ
ルジフェニル-2,2-プロパン、1,3-プロパンジオール、
1,4-ブタンジオール、1,1'-ジヒドロキシジエチルエー
テル、1,1'-ジヒドロキシジメチル-2,2-プロパン、1,1'
-ジヒドロキシジメチル-2,2-ペンタン、1,1'-ジヒドロ
キシジメチル-1,4-ベンゼン、1,1'-ジヒドロキシジエチ
ルベンゼン、1,1'-ジヒドロキシジメチルベンジジン、
1,1'-ジヒドロキシジエチルベンジジン、(1,1'-ビフェ
ニル)-2,5-ジオール、(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジオー
ル、(1,1'-ビフェニル)-3,4-ジオール、(1,1'-ビフェニ
ル)-3,4'-ジオール、(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオー
ル、(1,1'-ビフェニル)-3,3'-ジオール、(1,1'-ビフェ
ニル)-2,4'-ジオール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニ
ル)-4,4'-ジオール、5,5'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)
-2,2'-ジオール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,
2'-ジオール、6,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-
ジオール、5,5'-ジエチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジ
オール、3,3'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジ
オール、5,5'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジ
オール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオ
ール、3,3'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジオー
ル、6,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオー
ル、6,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-3,3'-ジオー
ル、5,6'-ジメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,3'-ジオー
ル、3,3',5,5'-テトラフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-2,
2'-ジオール、3,3',5,5'-テトラメトキシ-(1,1'-ビフェ
ニル)-4,4'-ジオール、2,2',6,6'-テトラメトキシ-(1,
1'-ビフェニル)-4,4'-ジオール、3,3',5,5'-テトラメチ
ル-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-ジオール、3,3',5,5'-テト
ラメチル-(1,1'-ビフェニル)-2,2'-ジオール、2,2-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)-1,3-パーフルオロプロパン、
4,4'-ジヒドロキシベンゾフェノン、1,4-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)ベンゼン、4,4'-ビス(4"-ヒドロキシベン
ゼンスルホニル)ジフェニル、4,4'-ジヒドロキシ-3,3',
5,5'-テトラメチルジフェニル-1,1'-メタン、2,2-ビス
(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリクロロフェニル)プロパン、
4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラメチルジフェニル
-1,1-メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリクロ
ロフェニル)プロパン、4,4'-ヒドロキシ-3,3',5,5'-テ
トラメチルジフェニル-1,1-シクロヘキサン、1,1-ビス
(4-ヒドロキシ-3-メチル)シクロヘキサン、2,4-ビス(4-
ヒドロキシフェニル)2-メチルブタン、4,4'-ジヒドロキ
シ-3,3',5,5'-テトラメチルジフェニル-1,1-スルホン、
2,2-ビス(3-ヒドロキシフェニル)-1,3-パーフルオロプ
ロパン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-1,1'-ジフェニ
ルメタン、2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1,1',3,3'-
クロロジフルオロプロパン、4,4'-ジヒドロキシジフェ
ニル-1,1'-シクロペンタン、2-メチルヒドロキシキノ
ン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル-2,2'-ジクロロ-1,1'
-エテン、1,4-ビス(4-ヒドロキシフェニル-2-プロピル)
ベンゼンなどである。
【0037】 以下、化学式1のビス(トリクロロトリ
メリト酸無水物)誘導体から本発明の光通信用ポリエス
テルイミドを製造する方法を説明する。
【0038】 化学式1のビス(トリクロロトリメリト
酸無水物)誘導体とジアミン化合物(H2N-Z2-NH2;式
中、Z2は2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロ
ゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン化芳
香族炭化水素である)をN,N-ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシド、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジ
メチルホルムアミドなどの溶媒に溶解し-20〜50℃で2
〜300時間反応させる。反応混合物を蒸溜水やメチルア
ルコールを用いて沈殿させ、ポリエステルアミド酸(pol
yesteramic acid)を得る。前記ポリエステルアミド酸を
イミド化して、化学式2:
【0039】
【化13】
【0040】[式中、X1、X2、X3、Z1およびZ2は上記と
同じ意味を表す。]のポリエステルイミドを得る。
【0041】ここで、ポリエステルアミド酸をポリエス
テルイミドにイミド化する方法としては、化学的方法お
よび熱的方法がある。化学的方法としては、ポリエステ
ルアミド酸に無水酢酸およびピリジンを加え、130℃で
加熱する方法が挙げられ、熱的方法としては、ポリエス
テルアミド酸を70℃で2時間、160℃で1時間または250℃
で30分間加熱する方法がある。
【0042】上記方法により得られたポリエステルイミ
ドの分子量は1×104〜5×105ダルトン、好ましくは、1.
5×104〜2.5×104ダルトンである。この場合、分子量は
ゲル浸透クロマトグラフィ方法を用いて決定したもので
ある。本発明のポリエステルイミドの熱分解温度[熱重
量分析法(TGA)により測定]は、300〜500℃、特に375〜
425℃である。そしてポリエステルイミドのガラス転移
温度は190〜290℃である。
【0043】上記ジアミン化合物(B)は特に限定され
るものではなく、例えば、ビス(パーフルオロフェニ
ル)アルカン類、ビス(パーフルオロフェニル)スルホ
ン類、ビス(パーフルオロフェニル)エーテル類、α,
α'-ビス(パーフルオロフェニル)ジイソプロピルベン
ゼン類などが挙げられる。具体例としては、テトラフル
オロ-1,2-フェニレンジアミン、テトラフルオロ-1,3-フ
ェニレンジアミン、テトラフルオロ-1,4-フェニレンジ
アミン、テトラクロロ-1,2-フェニレンジアミン、テト
ラクロロ-1,3-フェニレンジアミン、テトラクロロ-1,4-
フェニレンジアミン、ヘキサフルオロ-1,5-ジアミノナ
フタレン、ヘキサフルオロ-2,6-ジアミノナフタレン、3
-トリフルオロメチルトリフルオロ-1,2-フェニレンジア
ミン、4-トリフルオロメチルトリフルオロ-1,2-フェニ
レンジアミン、2-トリフルオロメチルフルオロ-1,3-フ
ェニレンジアミン、4-トリフルオロメチルトリフルオロ
-1,3-フェニレンジアミン、5-トリフルオロメチルトリ
フルオロ-1,3-フェニレンジアミン、2-トリフルオロメ
チルトリフルオロ-1,4-フェニレンジアミン、3-ペンタ
フルオロエチルトリフルオロ-1,2-フェニレンジアミ
ン、4-ペンタフルオロエチルトリフルオロ-1,2-フェニ
レンジアミン、2-ペンタフルオロエチルトリフルオロ-
1,3-フェニレンジアミン、4-ペンタフルオロエチルトリ
フルオロ-1,3-フェニレンジアミン、5-ペンタフルオロ
エチルトリフルオロ-1,3-フェニレンジアミン、2-ペン
タフルオロエチルトリフルオロ-1,4-フェニレンジアミ
ン、3,4-ビス(トリフルオロメチル)ジフルオロ-1,2-
フェニレンジアミン、3,5-ビス(トリフルオロメチル)
ジフルオロ-1,2-フェニレンジアミン、2,4-ビス(トリ
フルオロメチル)ジフルオロ-1,3-フェニレンジアミ
ン、4,5-ビス(トリフルオロメチル)ジフルオロ-1,3-
フェニレンジアミン、2,3-ビス(トリフルオロメチル)
ジフルオロ-1,4-フェニレンジアミン、2,5-ビス(トリ
フルオロメチル)ジフルオロ-1,4-フェニレンジアミ
ン、3,4-ビス(トリフルオロメチル)ジフルオロ-1,2-
フェニレンジアミン、3-トリフルオロメトキシフルオロ
-1,2-フェニレンジアミン、4-トリフルオロメトキシト
リフルオロ-1,2-フェニレンジアミン、2-トリフルオロ
メトキシトリフルオロ-1,3-フェニレンジアミン、4-ト
リフルオロメトキシトリフルオロ-1,3-フェニレンジア
ミン、5-トリフルオロメトキシトリフルオロ-1,3-フェ
ニレンジアミン、2-トリフルオロメトキシトリフルオロ
-1,4-フェニレンジアミン、3,4,5-トリス(トリフルオ
ロメチル)フルオロ-1,2-フェニレンジアミン、3,4,6-
トリス(トリフルオロメチル)フルオロ-1,2-フェニレ
ンジアミン、2,4,5-トリス(トリフルオロメチル)フル
オロ-1,3-フェニレンジアミン、2,4,6-トリス(トリフ
ルオロメチル)フルオロ-1,3-フェニレンジアミン、4,
5,6-トリス(トリフルオロメチル)フルオロ-1,3-フェ
ニレンジアミン、テトラキス(トリフルオロメチル)-
1,2-フェニレンジアミン、テトラキス(トリフルオロメ
チル)-1,3-フェニレンジアミン、テトラキス(トリフ
ルオロメチル)-1,4-フェニレンジアミン、3,3'-ジアミ
ノオクタフルオロビフェニル、3,4'-ジアミノオクタフ
ルオロビフェニル、4,4'-ジアミノオクタフルオロビフ
ェニル、3,3'-ジアミノオクタクロロビフェニル、3,4'-
ジアミノオクタクロロビフェニル、4,4'-ジアミノオク
タクロロビフェニル、2,2'-ビス(トリクロロメチル)-
4,4'-ジアミノヘキサクロロビフェニル、3,3'-ビス(ト
リクロロメチル)-4,4'-ジアミノヘキサフルオロビフェ
ニル、ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ジクロ
ロメタン、1,2-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニ
ル)テトラクロロエタン、2,2-ビス(4-アミノテトラフ
ルオロフェニル)ヘキサクロロプロパン、2,2'-ビス
(トリフルオロフェニル)-4,4'-ジアミノヘキサクロロ
ビフェニル、3,3'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4'-
ジアミノヘキサフルオロビフェニル、ビス(4-アミノテ
トラフルオロフェニル)ジフルオロメタン、1,2-ビス
(4-アミノテトラフルオロフェニル)テトラクロロエタ
ン、2,2-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、ビス(3-アミノテトラフルオロフ
ェニル)エーテル、3,4'-ジアミノオクタフルオロビフ
ェニルエーテル、ビス(4-アミノテトラフルオロフェニ
ル)エーテル、ビス(3-アミノテトラクロロフェニル)
エーテル、3,4'-ジアミノオクタクロロビフェニルエー
テル、ビス(4-アミノテトラクロロフェニル)エーテ
ル、3,3'-ジアミノオクタフルオロベンゾフェノン、3,
4'-ジアミノオクタフルオロベンゾフェノン、4,4'-ジア
ミノオクタフルオロベンゾフェノン、ビス(3-アミノテ
トラフルオロフェニル)スルホン、3,4'-ジアミノオク
タフルオロビフェニルスルホン、ビス(4-アミノテトラ
フルオロフェニルスルホン)、ビス(3-アミノテトラフ
ルオロフェニル)スルフィド、3,4'-ジアミノオクタフ
ルオロビフェニルスルフィド、ビス(4-アミノテトラフ
ルオロフェニル)スルフィド、4-アミノテトラフルオロ
フェノキシ-4'-アミノテトラフルオロフェニルジフルオ
ロメタン、ビス(4-アミノテトラフルオロフェノキシ)
ジフルオロメタン、1,2-ビス(4-アミノテトラフルオロ
フェノキシ)テトラフルオロエタン、2,2-ビス(4-アミ
ノテトラフルオロフェノキシ)ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス(4-アミノテトラフルオロフェノキシ)ジクロ
ロメタン、1,2-ビス(4-アミノテトラフルオロフェノキ
シ)テトラクロロエタン、2,2-ビス(4-アミノテトラフ
ルオロフェノキシ)ヘキサクロロプロパン、4,4"-ジア
ミノドデカフルオロ-p-ターフェニル、2',3'-ビス(ト
リフルオロメチル)-4,4"-ジアミノ-p-ターフェニル、
2,2"-ビス(トリフルオロメチル)-4,4"-ジアミノ-p-タ
ーフェニル、2',5'-ビス(トリフルオロメチル)-4,4"-
ジアミノターフェニル、2,7-ジアミノヘキサフルオロジ
ベンゾフラン、1,4-ビス(4-アミノテトラフルオロフェ
ノキシ)テトラフルオロベンゼン、2,6-ジアミノヘキサ
フルオロナフタレン、2,7-ジアミノオクタフルオロフェ
ナントレン、2,6-ジアミノオクタフルオロアントラセ
ン、2,7-ジアミノヘキサチアントレン、2,6-ジアミノヘ
キサフルオロアントラキノン、2,6-ジアミノヘキサフル
オロビフェニレン、2,6-ジアミノオクタフルオロアント
ロン、2,7-ジアミノテトラフルオロジベンズ[b,e]1,4-
ジオキサン、2,2'-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、2,2'-ビス(4-アミノフェニル)ヘキ
サクロロプロパン、2,4-ジアミノベンゾトリフルオライ
ド、2,2-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、2,2-
ビス[4-(4-アミノ-2-トリフルオロフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノ-2
-トリフルオロフェノキシ)フェニル]ヘキサクロロプロ
パン、3,4-ジアミノベンゾトリフルオライド、3,5-ジア
ミノベンゾトリフルオライド、2,5-ジアミノベンゾトリ
フルオライド、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミ
ノフェノキシ)フェニル]ヘキサクロロプロパン、3,4-
ジアミノ-1-フルオロベンゼンなどがある。
【0044】以下、本発明を実施例を挙げて詳細に説明
するが、本発明は下記実施例に限定されるものではな
い。
【0045】<合成例1>3,5,6-トリクロロ-4-クロロホ
ルミルフタル酸無水物(3,5,6-trichloro-4-chloroform
ylphthalic anhydride:TCPA)(0.015モル)をアセト
ニトリル10mlに加えた後、この混合物を-18℃まで冷却
した。窒素雰囲気下で、この反応混合物にヒドロキノン
(0.0075モル)、ピリジン(0.015モル)およびアセト
ニトリル(7ml)を加えた。このとき、反応混合物の温
度は-18℃に保った。この反応混合物を-18℃で1時間攪
拌した後、室温でさらに1時間攪拌した。反応が完了し
た後、生成した沈殿物をろ過し、クロロホルムで数回に
亘って洗浄した。得られた生成物を60℃のオーブンで24
時間乾燥し、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミルフタ
ル酸無水物ヒドロキノンを得た(収率:92%)。
【0046】<合成例2>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて、テトラフルオロヒドロキノン(0.0075モル)
を使用した以外は、合成例1と同様の方法により、3,5,6
-トリクロロ-4-クロロホルミルフタル酸無水物テトラフ
ルオロヒドロキノンを得た(収率:85%)。
【0047】<合成例3>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えてテトラクロロヒドロキノン(0.0075モル)を使
用した以外は、合成1と同様の方法により、3,5,6-トリ
クロロ-4-クロロホルミルフタル酸無水物テトラクロロ
ヒドロキノンを得た(収率:88%)。
【0048】<合成例4>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ヒドロキシジフェニル-2,2-プロパン(0.
0075モル)を使用した以外は、合成例1と同様の方法に
より、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミルフタル酸無
水物4,4'-ヒドロキシジフェニル-2,2-プロパンを得た
(収率:84%)。
【0049】<合成例5>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合成
例1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホ
ルミルフタル酸無水物2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンを得た(収率:78%)。
【0050】<合成例6>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサク
ロロプロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合成例
1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホル
ミルフタル酸無水物2,2'-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサクロロプロパンを得た(収率:75%)。
【0051】<合成例7>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフェニル-
2,2-プロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合成例
1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホル
ミルフタル酸無水物4,4-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジ
フェニル-2,2-プロパンを得た(収率:83%)。
【0052】<合成例8>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて2,2'-ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリクロロフ
ェニル)プロパン(0.0075モル)を使用した以外は、合
成例1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロ
ホルミルフタル酸無水物2,2-ビス(4-ヒドロキシ-2,3,5
-トリクロロフェニル)プロパンを得た(収率:84%)。
【0053】<合成例9>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシ-3,3',5,5'-テトラクロロジ
フェニル-2,2-プロパン(0.0075モル)を使用した以外
は、合成例1と同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-
クロロホルミルフタル酸無水物4,4'-ジヒドロキシ-3,
3',5,5'-テトラクロロジフェニル-2,2-プロパンを得た
(収率:86%)。
【0054】<合成例10>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル(0.007
5モル)を使用した以外は、合成例1と同様の方法によ
り、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミルフタル酸無水
物4,4'-ジヒドロキシフェニルエーテルを得た(収率:8
1%)。
【0055】<合成例11>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジフェニル
スルホン(0.0075モル)を使用した以外は、合成例1と
同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミ
ルフタル酸無水物4,4'-ジヒドロキシ-3,3'-ジクロロジ
フェニルスルホンを得た(収率:75%)。
【0056】<合成例12>ヒドロキノン(0.0075モル)
に代えて3,3'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニル)-4,4'-
ジオール(0.0075モル)を使用した以外は、合成例1と
同様の方法により、3,5,6-トリクロロ-4-クロロホルミ
ルフタル酸無水物3,3'-ジフルオロ-(1,1'-ビフェニ
ル)-4,4'-ジオールを得た(収率:77%)。
【0057】
【0058】
【0059】 <実施例3>窒素雰囲気下で、2,3,5,6-
テトラフルオロフェニレン-1,4-ビス(3,5,6-トリクロ
トリメリト酸無水物)(0.001モル)と、テトラフル
オロ-1,3-フェニレンジアミン(0.001モル)と、N,N-ジ
メチルアセトアミド5mlとの混合物を室温で9日間反応さ
せた。
【0060】この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後
で、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。
得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24
時間乾燥した後、この乾燥混合物に無水酢酸およびピリ
ジンを加えて加熱した。この反応生成物を再度蒸溜水で
沈殿させた後、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回
洗浄した。得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオ
ーブンで24時間乾燥し、ポリエステルイミド(以下、PE
Iと称す)(3)を得た(収率:81%)。
【0061】 <実施例4>窒素雰囲気下で、2,3,5,6-
テトラフルオロフェニレン-1,4-ビス(3,5,6-トリクロ
トリメリト酸無水物)(0.001モル)と、4,4'-ジアミ
ノオクタフルオロフェニル(0.001モル)と、N,N-ジメ
チルアセトアミド3mlとの混合物を室温で9日間反応させ
た。
【0062】この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、
得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得ら
れた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24時間
乾燥した後、この乾燥混合物に無水酢酸およびピリジン
を加えて加熱した。この反応生成物を再度蒸溜水で沈殿
させた後、得られた沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄
した。得られた生成物を減圧下で60℃に設定したオーブ
ンで24時間乾燥し、PEI(4)を得た(収率:85%)。
【0063】
【0064】
【0065】<実施例7>窒素雰囲気下で、1,3-ヘキサ
クロロイソプロピリデン-2,2-ジフェニルビス(3,5,6-
トリクロロトリメリト酸無水物)(0.001モル)と、2,
2'-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセト
アミド3mlとの混合物を室温で9日間反応させた。この反
応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた沈殿物をろ
過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成物を減圧下
で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した後、これを
250℃で加熱し、PEI(7)を得た(収率:78%)。
【0066】<実施例8>窒素雰囲気下で、1,3-ヘキサ
クロロイソプロピリデン-2,2-ジフェニルビス(3,5,6-
トリクロロトリメリト酸無水物)(0.001モル)と、2,
2'-ビス(4-アミノテトラフルオロフェニル)ヘキサク
ロロプロパン(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセトア
ミド5mlとの混合物を室温で9日間反応させた。この反応
混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた沈殿物をろ過
し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成物を減圧下で
60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した後、これを25
0℃で加熱し、PEI(8)を得た(収率:80%)。
【0067】
【0068】<実施例10> 窒素雰囲気下で、2,2'-イソプロピリデン-3,3'-ジクロ
ロジフェニルビス(3,5,6-トリクロロトリメリト酸無水
物)(0.001モル)と、2,2-ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンジジン(0.001モル)と、N,N-ジメチルアセト
アミド5mlとの混合物を室温で9日間反応させた。この反
応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られた沈殿物をろ
過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生成物を減圧下
で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥した後、これを
250℃で加熱し、PEI(10)を得た(収率:75%)。
【0069】<実施例11> 窒素雰囲気下で、2,2'-イソプロピリデン-3,3',5,5'-テ
トラクロロジフェニルビス(3,5,6-トリクロロトリメリ
ト酸無水物)(0.001モル)と、ビス(4-アミノテトラ
フルオロフェニル)スルホン(0.001モル)と、N,N-ジ
メチルアセトアミド5mlとの混合物を室温で9日間反応さ
せた。この反応混合物を蒸溜水で沈殿させた後、得られ
た沈殿物をろ過し、蒸溜水で数回洗浄した。得られた生
成物を減圧下で60℃に設定したオーブンで24時間乾燥し
た後、これを250℃で加熱し、PEI(11)を得た(収率:
73%)。
【0070】
【0071】前記実施例3、4、7、8、10、11に従い製造
された各PEIの熱安定性、近赤外線領域(1000〜1700n
m)での光損失およびフィルム加工性を調べてみた。こ
の際、前記ポリエステルイミドの熱安定性は熱重量分析
(Thermogravimetry analysis:TGA)法を用いて測定し
た。その結果、これらPEIがいずれも350〜450℃で熱分
解がおこることから、これらは全て熱安定性に優れてい
ることが判明した。またポリエステルイミドの光損失
は、従来の完全フッ素化(perfluorinated)ポリイミド
とほぼ同等であるか、または低減されたことが判った。
【0072】さらに、従来の部分的または完全にフッ素
化されたポリエステルイミドはフィルム加工性が不良な
ので、実質的な適用が困難であったが、上記実施例1〜1
2に従い製造されたポリエステルイミドは従来のポリイ
ミドと比較してフィルム加工性が改善されたことが判っ
た。
【0073】
【発明の効果】本発明のポリエステルイミドは、従来の
フッ素化ポリイミドに比べ屈折率が大きい。そのため、
このポリエステルイミドを光ファイバーのコアとして用
いる場合、クラッドとして選ばれ得る材料の幅が広くな
る。しかも、従来のポリイミドに比較し基体へのコーテ
ィング性および接着性が改善されるので、良好なフィル
ム形成特性および熱安定性が得られる。
【0074】さらに、本発明のポリエステルイミドを用
いると、近赤外線領域の光損失が最小に抑えられるの
で、このポリエステルイミドは近赤外線領域の光を用い
る光通信分野の光学材料として極めて有効に使用でき
る。すなわち、本発明のポリエステルイミドは、光電子
集積回路(OEIC)、光-電子混合配線(OEMWB)、ハイブリ
ッド集積デバイス、マルチチップモジュール(MCM)、
プラスチック光ファイバーなどの光導波路用の光学デバ
イスを製造するに際して必須とされる低い光損失特性を
有する機能性高分子材料として用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鄭 銀影 大韓民國 忠清南道 燕岐郡 鳥致院邑 橋里21番地 (72)発明者 李 泰衡 大韓民國 京畿道 城南市 盆唐區 亭 子洞121番地 常▲ロク▼ マウル 宇 成アパート 315棟 1202號 (56)参考文献 特開 昭60−38378(JP,A) 特開 平6−179668(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 307/89 C08G 73/16 C08L 79/08

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化学式1: 【化1】 [式中、X1、X2およびX3各々塩素であり;Z1は2価の
    ハロゲン化脂肪族炭化水素、2価のハロゲン化脂肪族環
    式炭化水素、または2価のハロゲン化芳香族炭化水素で
    ある。]で表されるビス(トリクロロトリメリト酸無水
    物)誘導体。
  2. 【請求項2】 前記Z1が、2価のハロゲン化C1〜C25
    肪族炭化水素、2価のハロゲン化C1〜C25脂肪族環式炭
    化水素、または2価のハロゲン化C6〜C25芳香族炭化水
    素であることを特徴とする請求項1に記載のビス(トリ
    クロロトリメリト酸無水物)誘導体。
  3. 【請求項3】 前記Z1が下記構造式: 【化2】 [式中、Y1、Y2、Y3およびY4は互いに無関係に、ハロゲ
    ン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香族環
    基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化アル
    キル基またはハロゲン化芳香族環基である)である。]
    で表される基であることを特徴とする請求項1に記載の
    ビス(トリクロロトリメリト酸無水物)誘導体。
  4. 【請求項4】 前記Z1が下記構造式: 【化3】 [式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7およびY8は互いに
    無関係に、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロ
    ゲン化芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1
    ハロゲン化アルキル基またはハロゲン化芳香族環基であ
    る)であり;Qは単に化学結合であるか、あるいは-O-、
    -CO-、-SO2-、-S-、-(OT)m-、-(TO)m-または-(OTO)m-
    (式中、Tはハロゲン化アルキレン基またはハロゲン化
    アリレン基であり、mは1〜10の整数である)であ
    る。]で表される基であることを特徴とする請求項1に
    記載のビス(トリクロロトリメリト酸無水物)誘導体。
  5. 【請求項5】 化学式2: 【化4】 [式中、X1、X2およびX3各々塩素であり;Z1およびZ2
    は互いに無関係に、2価のハロゲン化脂肪族炭化水素、
    2価のハロゲン化脂肪族環式炭化水素、または2価のハ
    ロゲン化芳香族炭化水素である。]で表される繰返し単
    位を含む光通信用ポリエステルイミド。
  6. 【請求項6】 前記Z1およびZ2が互いに無関係に、2価
    のハロゲン化C1〜C25脂肪族炭化水素、2価のハロゲン
    化C1〜C25脂肪族環式炭化水素、または2価のハロゲン
    化C6〜C25芳香族炭化水素であることを特徴とする請求
    に記載の光通信用ポリエステルイミド。
  7. 【請求項7】 前記Z1およびZ2が互いに無関係に、下記
    構造式: 【化5】 [式中、Y1、Y2、Y3およびY4は互いに無関係に、ハロゲ
    ン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化芳香族環
    基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1はハロゲン化アル
    キル基またはハロゲン化芳香族環基である)である。]
    で表される基であることを特徴とする請求項5に記載の
    光通信用ポリエステルイミド。
  8. 【請求項8】 前記Z1およびZ2が互いに無関係に下記構
    造式: 【化6】 [式中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7およびY8は互いに
    無関係に、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ハロ
    ゲン化芳香族環基、-NO2、-OR1または-SR1(式中、R1
    ハロゲン化アルキルもしくはハロゲン化芳香族環基であ
    る)であり;Qは単に化学結合であるか、あるいは-O-、
    -CO-、-SO2-、-S-、-(OT)m-、-(TO)m-または-(OTO)m-
    (式中、Tはハロゲン化アルキレン基またはハロゲン化
    アリレン基であり、mは1〜10の整数である)である。]
    で表される基であることを特徴とする請求項5に記載の
    光通信用ポリエステルイミド。
  9. 【請求項9】 分子量が1×104〜5×105ダルトンである
    ことを特徴とする請求項に記載の光通信用ポリエステ
    ルイミド。
  10. 【請求項10】 熱分解温度が300〜500℃であることを
    特徴とする請求項に記載の光通信用ポリエステルイミ
    ド。
  11. 【請求項11】 ガラス転移温度が190〜290℃であるこ
    とを特徴とする請求項に記載の光通信用ポリエステル
    イミド。
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