JPH11259858A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学特性において卓越した透明磁性層を有す
る磁気記録媒体の提供。特に保護層として高強度かつ安
定な潤滑層を形成して、なお光学特性の均一かつ生産性
の良好なる磁気記録媒体の製造方法の提供。 【解決手段】 １．非磁性支持体上の一方の側に透明磁
性層が形成され、該透明磁性層の上に潤滑層を形成し、
該潤滑層が球状樹脂粒子と潤滑剤を含有し、かつ該潤滑
層を形成する際に、潤滑剤の融点以下で塗布、乾燥する
ことを特徴とする磁気記録媒体。２．非磁性支持体上の
一方の側に透明磁性層が形成され、該透明磁性層の上に
潤滑層を形成し、該潤滑層が球状樹脂粒子と潤滑剤を含
有し、かつ該潤滑層を形成する際に、潤滑剤の融点以下
で塗布、乾燥することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は透明磁性層を有する
磁気記録媒体及びその製造方法に関し、詳しくは光学的
な透明性を有し、画像形成手段を反対面に付加すること
のできる磁気記録媒体及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体の塗布技術は、磁気記録の
高密度化と、これにともなう多層化、薄膜化の進行とと
もに進歩してきているが、磁気記録媒体に光学的な記録
層を形成する技術もまた、進展している。

【０００３】磁気記録層付の写真フィルムの上梓もその
例である。

【０００４】例えば、ハロゲン化銀写真感光材料（以
下、単に「感光材料」とも称す）に、例えば感光材料の
種類、製造番号、メーカー名、乳剤Ｎｏ．等に関する各
種情報、又、撮影日時、絞り、露出時間、照明条件、使
用フィルター、天候、撮影サイズ、撮影機種、アナモル
フィックレンズの使用等のカメラ撮影時の各種情報、更
に、プリント枚数、フィルターの選択、顧客の色の好
み、トリミング枠の大きさ等のプリント作成時に必要な
各種情報、並びに、プリント枚数、フィルターの選択、
顧客の色の好み、トリミング枠の大きさ等のプリント時
に得られた各種の情報、その他顧客情報等を入力してお
くことは、管理の上からも、又、プリント品質の向上、
プリント作業の効率化の上からも必要である。

【０００５】従来の感光材料においては、これら全ての
情報を入力することは不可能であって、撮影時に撮影日
時、絞り、露出時間等の情報を光学的に入力していたに
過ぎなかった。しかも、プリント時に上記情報を感光材
料へ入力することは、その手段がなく不可能であった。

【０００６】磁気記録方式は記録／再生が容易であると
ころから、感光材料へ上記の各種情報を入力するために
該方式を使用することが研究され、各種技術が提案され
ている。

【０００７】例えば、画像部の横の乳剤面又はバック面
に、強磁性体の微粒子を分散したストライプ状の磁気記
録層を設け、音声や撮影時の条件等の情報を記録するこ
とが、特開昭５０−６２６２７号、同４９−４５０３
号、米国特許３，２４３，３７６号、同３，２２０，８
４３号等に記載され、又、写真感光材料のバック面に、
磁性粒子の量、サイズ等を選択して必要な透明性を得た
透明磁気記録層を設けることが、米国特許３，７８２，
９４７号、同４，２７９，９４５号、同４，３０２，５
２３号等に記載されている。又、米国特許４，９４７，
１９６号、ＷＯ９０／０４，２５４号には、写真フィル
ムの裏面に磁気記録を可能とする磁性体を含有した磁気
記録層を有するロール状フィルムと共に磁気ヘッドを有
する撮影用カメラが記載されている。

【０００８】これらの磁気記録層を設けることによっ
て、従来困難であった上記の各種情報を感光材料中に記
録することが可能となり、更に、音声や画像信号をも記
録できるという将来性を有している。

【０００９】しかしながら、感光材料の磁気記録層に要
求される塗布技術及びバインダーの物性は、耐水性、耐
摩耗性、磁性粉の分散性、透明性、薄膜塗布適性、断裁
や穿孔時の発塵性など、非常に高度かつ達成困難な水準
が求められる。その中でも、特に感光材料を塗工する前
の原反段階での磁気記録層と保護層の形成は磁気記録媒
体と類似の技術であるが、従来のオーディオ、ビデオな
どのテープ類と異なり、支持体自身の剛性や塗料組成が
全く異なる点、また、湿式の化学処理を前提としている
点、更に、これらの処理後に磁気ヘッドや、走行システ
ムのなかで表面を擦る点など、要求される品質項目が多
岐にわたり、既存の技術では到底到達することが困難で
ある。

【００１０】特開平７−２１９０９１号には特定構造の
脂肪酸エステルと界面活性剤を透明磁性層と組合わせる
ことが開示されている。また特開平９−１７９２４０号
にはフッ素系化合物とヒドロキシルアルキルセルロース
の組合せが開示されている。しかし、これらの技術をも
ってしても、塗膜の強度と現像後の磁気入出力の安定性
は完全には得られていない。

【００１１】また特開平４−２４３２５１号には高級脂
肪酸又はその誘導体を最外層に含有させ、塗布後、融点
以上のロールに接触させることが開示されている。

【００１２】保護層として最表層を硬くすると下の層と
の接着性が劣化し、良溶剤をもちいると下層との接着は
改善するが、塗布後の塗膜の透明性が劣化する。保護層
を薄膜にするために低い固形分濃度の塗料を塗布すると
塗布の不均一やハジキ故障などの工程上の問題が発生す
る。更に、潤滑性を付与するために高級脂肪酸エステル
などを添加すると、低い融点のものは、加温された現像
液を通過する際に溶出し、高い融点のものは原反の塗布
後に表面に粉を吹いたような白濁現象が生じるので、い
ったん、融点以上の熱処理ゾーンを通して、乾燥させる
必要がある。

【００１３】また、融点の高いワックスは通常、水や有
機溶剤に溶けにくいのでワックス粒子として低粘度の塗
料に分散させてもちいるが塗布後の乾燥工程において塗
膜中の対流現象でワックス粒子が偏在し、乾燥後の表面
の滑り性、撥水性、汚れ付着性が局所的に変動する。と
くに塗布時の最外層を磁気入出力の安定性確保のため、
表面を粗くかつ均一な潤滑剤分布にしたい場合には、不
均一な塗布後のワックス粒子を後処理で平滑で均一にす
るには融点以上の加熱のみでは達成できない。いずれに
せよ良好な潤滑層かつ保護層の機能を有する最表層の組
成と製法は達成されていない。

【００１４】特に多層塗布の場合、下層の素材の性質、
すなわち粘着性、耐溶剤性などにより逐次重層が困難な
場合がある。また上層を極めて、薄く均一に塗布したい
場合に従来の素材を用いた上層塗布液では低粘性と固形
分濃度が低いため、わずかな工程変動で塗布後の品質が
大きく変化し、生産スケールでの長尺安定塗布が事実
上、不可能である。

【００１５】加えて、使用できるバインダー、潤滑剤、
溶剤は限定され、又、実用化するためには非常に高度な
製造技術、処方技術等が必要であった。

【００１６】また特開平７−３３３７６４号において透
明磁気記録層にセラミック粒子を含有させて耐傷性を向
上させる方法が開示されているが、現像後のフィルムの
汚れが磁気ヘッドに転写し、現像後のフィルムから磁気
信号が読み取れない場合には、単に磁気記録層の耐傷性
を向上させるのみでは、問題を解決できない。

【００１７】近年の画像情報の処理技術の向上により、
ハロゲン化銀写真感光材料のネガフィルム、ポジフィル
ムから、光学的情報を直接、読み取る場合も増えてい
る。このための耐摩耗性、耐傷性を向上させるために研
磨粒子の添加やエンボス加工、ラミネート化などの方法
があるが、いずれも光学的透明性を損ない、画像情報の
品質を劣化させてしまう。比較的、有力な手段は保護層
に研磨粒子を添加する方法であるが表面層の研磨粒子の
保持力が低く、繰返しの擦過により、粒子が脱落し、画
像部に傷をつけたり、現像過程で脱落したりして、いま
だ、滑り層と耐傷性のともに優れた保護層は得られてい
ない。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第１の目的
は、光学特性において卓越した透明磁性層を有する磁気
記録媒体を提供することにある。特に保護層として高強
度かつ安定な潤滑層を形成してなお光学特性の均一かつ
生産性の良好なる磁気記録媒体の製造方法を提供するこ
とにある。

【００１９】第２の目的は、透明磁性層と潤滑層のバイ
ンダー組成を適切に選択することにより、耐摩耗性性、
耐ブロッキング性の優れた透明磁性層と潤滑層を有する
磁気記録媒体及びその製造方法を提供することにある。

【００２０】第３の目的は、塗膜強度の良好かつ磁気ヘ
ッドのクリーニング力のある素材により、磁気信号の入
出力時の磁気ヘッドの汚れと出力低下が極めて少ない透
明磁性層を有する磁気記録媒体を提供することにある。

【００２１】第４の目的は、耐水性に優れ、現像処理後
の汚れの少ない潤滑層を有しかつその現像後の磁気入出
力変動の少ないハロゲン化銀写真感光材料用の磁気記録
媒体を提供することにある。

【００２２】第５の目的は透明磁性層の保護層として潤
滑層を非常に薄くすることにより、磁気入出力の安定化
された磁気記録媒体及びその製造方法を提供することに
ある。

【００２３】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成により達成される。

【００２４】１．非磁性支持体上の一方の側に透明磁性
層が形成され、該透明磁性層の上に潤滑層を形成し、該
潤滑層が球状樹脂粒子と潤滑剤を含有し、かつ該潤滑層
を形成する際に、潤滑剤の融点以下で塗布、乾燥するこ
とを特徴とする磁気記録媒体。

【００２５】２．非磁性支持体上の一方の側に透明磁性
層が形成され、該透明磁性層の上に潤滑層を形成し、該
潤滑層が球状樹脂粒子と潤滑剤を含有し、かつ該潤滑層
を形成する際に、潤滑剤の融点以下で塗布、乾燥するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

【００２６】３．前記潤滑層がバインダーを含有し、該
バインダーが親水性バインダー及び疎水性バインダーで
あることを特徴とする前記１に記載の磁気記録媒体。

【００２７】４．前記疎水性バインダーが放射線の照射
により架橋硬化するバインダーであることを特徴とする
前記１又は３に記載の磁気記録媒体。

【００２８】５．前記潤滑層がバインダーを含有し、該
バインダーが親水性バインダー及び疎水性バインダーで
あることを特徴とする前記２に記載の磁気記録媒体の製
造方法。

【００２９】６．前記疎水性バインダーが放射線の照射
により架橋硬化するバインダーであることを特徴とする
前記２又は５に記載の磁気記録媒体の製造方法。

【００３０】７．前記潤滑層の乾燥膜厚が、１５ｎｍ〜
８００ｎｍであることを特徴とする前記１、３又は４に
記載の磁気記録媒体。

【００３１】８．前記透明磁性層中にポリイソシアネー
ト系の架橋剤が透明磁性層を構成する全バインダーに対
して、２重量％〜３５重量％含有されており、かつ、前
記潤滑層が下記一般式（１）及び／又は、（２）で表さ
れる化合物を含有することを特徴とする前記１、３、４
又は７に記載の磁気記録媒体。

【００３２】一般式（１）Ｒ₁Ｘ₁Ｒ₂ 一般式（２）Ｒ₃Ｘ₂ＹＲ₄ ただし、一般式（１）において、Ｒ₁、Ｒ₂は脂肪族炭化
水素基であり、Ｒ₁又はＲ₂の少なくとも一方に少なくと
も１つの極性置換基を持つ。またＲ₁、Ｒ₂の合計の総炭
素数は２５〜１２０である。また、Ｘ₁は二価の連結基
である。また、一般式（２）において、Ｒ₃は炭素数２
５〜７０の脂肪族炭化水素基であり、Ｘ₂は二価の連結
基である。また、Ｙは−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_a−、（ＣＨ₂
ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ）_b−又は−（（ＣＨ₂）_cＣＨ
（Ｒ）ＣＨ₂Ｏ）_d−の各ユニットを少なくとも１つ含む
基であり、ａ、ｂ、ｄは３〜４０、ｃは１〜３、Ｒは水
素原子、ヒドロキシ基、炭素数８以下の炭化水素基を示
す。また、Ｒ₄は水素原子又は炭素数８以下の炭化水素
基を示す。

【００３３】９．前記非磁性支持体の塗布面に予め、バ
インダーと金属酸化物を含む層が形成されており、前記
透明磁性層が粒径０．１μｍ〜１μｍのα−アルミナ粒
子を３ｍｇ／ｍ²〜２００ｍｇ／ｍ²含有することを特徴
とする前記１、３、４、７又は８に記載の磁気記録媒
体。

【００３４】１０．前記非磁性支持体の塗布面に予め、
バインダーと金属酸化物を含む層が形成されており、前
記透明磁性層が粒径０．１μｍ〜１μｍのα−アルミナ
粒子を３ｍｇ／ｍ²〜２００ｍｇ／ｍ²含有することを特
徴とする前記２、５又は６に記載の磁気記録媒体の製造
方法。

【００３５】１１．前記球状樹脂粒子の粒径が０．２μ
ｍ〜１．０μｍであることを特徴とする前記１、３、
４、７、８又は９に記載の磁気記録媒体。

【００３６】以下、本発明を詳細に説明する。

【００３７】本発明は非磁性支持体の一方の側に透明磁
性層が形成され、該透明磁性層の上に潤滑層を形成し、
該潤滑層が球状樹脂粒子と潤滑剤を含有し、かつ該潤滑
層を形成する際に、潤滑剤の融点以下で塗布、乾燥する
ことを特徴とする磁気記録媒体及びその製造方法であ
る。

【００３８】上記透明磁性層（以下、磁気記録層とも称
す）の“透明”とは、光学濃度が１．５以下であること
を言う。光学濃度の測定法はコニカ（株）社製サクラ濃
度計ＰＤＡ−６５を用い、ブルー光を透過するフィルタ
ーを介して４３６ｎｍの波長の光を塗膜に垂直に入射さ
せ、該塗膜による光の吸収を算出する方法による光学濃
度が０．２以下が好ましく、特に好ましくは０．１以下
のことを言う。

【００３９】本発明における単位面積当たりの磁化量と
は、磁気記録媒体１ｍ²当たりの磁化の強さ、即ち、透
明磁性層１ｍ²当たりの磁化の強さのことである。磁化
の強さは磁化とも呼ばれ詳細な説明及び計測法は、「磁
気工学の基礎Ｉ」（太田恵造著，共立全書）に記載され
ている。本発明においては、東英工業製試料振動型磁束
計（ＶＳＭ−３）を用いて、一定体積の塗膜の塗布方向
に外部磁界１０００エルステッド（Ｏｅ）で一度飽和さ
せた後、外部磁界を減少させて０にした時の磁束密度
（残留磁束密度）を計測して、これを磁気記録媒体１ｍ
²当たりに含まれる透明磁性層の体積に換算して求める
方法によった。

【００４０】透明磁性層の単位面積当たりの磁化量が３
×１０^-2ｅｍｕより小さいと磁気記録の入出力に支障を
来す。

【００４１】透明磁性層の厚みは０．５〜３．０μｍが
好ましく、より好ましくは０．６〜２．５μｍ、更に好
ましくは０．６〜２．０μｍである。

【００４２】磁気記録層を形成する塗布液には、該記録
層に潤滑性の付与、帯電防止、接着防止、摩擦・磨粍耐
性向上等の機能を持たせるために、潤滑剤、帯電防止剤
等種々の添加剤を添加することができる。又、その他、
磁気記録層に柔軟性を与えるために可塑剤を、塗布液中
での磁性体の分散を助けるために分散剤を、磁気ヘッド
の目詰りを防止するために研磨剤を添加することができ
る。

【００４３】本発明の製造方法は下層への溶剤浸透、膨
潤を抑え及び乾燥後の塗膜強度に優れるために、磁性粉
のみならず上記の各種添加剤をも併用して分散でき、感
光材料の構成層を減らすことも可能で、製造上有利であ
る。

【００４４】磁気記録層を設けた後に、この層の上をカ
レンダリング処理して平滑性を向上させ、磁気出力のＳ
／Ｎ比を向上することも可能である。この場合、カレン
ダリング処理を施した後に、ハロゲン化銀感光性層を塗
布することが好ましい。

【００４５】透明磁性層に用いられる強磁性微粉末とし
ては、強磁性酸化鉄微粉末、Ｃｏドープの強磁性酸化鉄
微粉末、強磁性二酸化クロム微粉末、強磁性金属粉末、
強磁性合金粉末、バリウムフェライト等が挙げられる。

【００４６】強磁性粉末は公知の方法に従って製造する
ことができる。その形状としては、針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等の何れでもよいが、針状、板状が
電磁変換特性上好ましい。結晶子サイズ、非表面積も特
に制限はないが、結晶子サイズで４００Å以下が好まし
く、ＢＥＴ値で２０ｍ²／ｇ以上が好ましく、３０ｍ²／
ｇ以上が特に好ましい。

【００４７】強磁性粉末のｐＨ、表面処理は特に制限な
く用いることができ、好ましいｐＨの範囲は５〜１０で
ある。強磁性酸化鉄微粉末の場合、２価の鉄／３価の鉄
の比は特に制限されることなく用いることができる。こ
れらの磁気記録層については、特開昭４７−３２８１２
号、同５３−１０９６０４号に記載されている。

【００４８】磁性粉の好ましい使用量は、感光材料１ｍ
²当たり４×１０^-4ｇ以上が良い。これ未満であると磁
気記録の入出力に支障をきたす。又、上限は４３６ｎｍ
波長光の光学濃度が１．５以下であれば幾らでもよい
が、１ｍ²当たり４ｇ以下が好ましく、これを越える
と、感光材料として実用上の問題が発生する。

【００４９】光学的に透明な磁気記録層を形成するに
は、バインダーは、磁性体粉末１重量部に対して１〜２
００重量部用いるのが好ましい。更に好ましくは、磁性
体粉末１重量部に対して２〜５０重量部である。又、溶
剤は塗布が容易に行える量で用いられる。

【００５０】支持体上に磁気記録層を設ける方法として
は、エクストルージョンコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、エアーナイフコート、スクイズコ
ート、含浸コート、リバースロールコート、トランスフ
ァーロールコート、グラビアコート、キスコート、キャ
ストコート、スプレイコート等が利用できる。多条のス
トライプ塗布を行うには、これら塗布ヘッドを多連にす
ればよく、ストライプ塗布の具体的方法としては、例え
ば特開昭４８−２５５０３号、同４８−２５５０４号、
同４８−９８８０３号、同５０−１３８０３７号、同５
２−１５５３３号、同５１−３２０８号、同５１−６２
３９号、同５１−６５６０６号、同５１−１４０７０３
号、特公昭２９−４２２１号、米国特許３，０６２，１
８１号、同３，２２７，１６５号等の記載を参考にする
ことができる。

【００５１】磁気記録層を支持体上に強固に接着させる
ために、支持体に下塗層を設けてもよく、又、支持体を
薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫
外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ
処理、レーザー処理、濃酸処理、オゾン酸化処理等の表
面活性化処理をしてもよい。更に、これら表面活性化処
理をした後に下塗層を設けてもよい。下塗層は水系ラテ
ックス系のものが好ましい。

【００５２】磁気記録層・保護層・下引層に用いるバイ
ンダーとしては、熱可塑性樹脂、放射線硬化性樹脂、熱
硬化性樹脂、その他の反応型樹脂があり、有機溶媒や水
に溶解又は分散したものを単独又は混合して使用するこ
とができる。

【００５３】熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル・酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢
酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、部分加水分解し
た塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・塩化
ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アクリロニトリル共
重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、塩素化
ポリ塩化ビニル、エチレン・塩化ビニル共重合体、エチ
レン・酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体又は共重
合体、ニトロセルロース、セルロースジアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテ
ートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸
及び／又はアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル
共重合体、アクリロニトリル・スチレン共重合体、塩素
化ポリエチレン、アクリロニトリル・塩素化ポリエチレ
ン・スチレン共重合体、メチルメタクリレート・ブタジ
エン・スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルア
セタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステ
ルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、
ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、
スチレン・ブタジエン樹脂、ブタジエン・アクリロニト
リル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、弗素系樹
脂等を挙げることができる。特にセルロース誘導体、中
でもセルロースジアセテートが好ましい。

【００５４】上記熱可塑性樹脂は、Ｔｇが通常−４０〜
１８０℃、好ましくは−３０〜１５０℃であり、重量平
均分子量は５，０００〜３００，０００であるものが好
ましく、更に好ましくは重量平均分子量が１０，０００
〜２００，０００のものである。

【００５５】本発明における透明磁性層は、Ｔｇが５０
℃以上のものと、３０℃以下のものを併用するのが好ま
しい。Ｔｇについては、新実験化学講座１９（高分子化
学II），丸善に詳しく記載されている。

【００５６】これらは水系エマルジョン又は水系コロイ
ド溶液として使用することもできる。これら合成樹脂系
エマルジョンの粒径は５ｎｍ〜２μｍのものを使うこと
が出来る。

【００５７】放射線硬化性樹脂とは、電子線、紫外線等
の放射線によって硬化させる樹脂であり、無水マレイン
酸型、ウレタンアクリル型、エーテルアクリル型、エポ
キシアクリル型のものが挙げられる。いずれも、不飽和
結合を光、放射線、電子線などにより重合、開環、架橋
させて高分子量化させるものである。

【００５８】具体的には、ビニルエステル樹脂「リポキ
シ」シリーズ（昭和高分子（株））、セイカビームＰＨ
Ｃ・ＭＰＬシリーズ、セイカビームＤＰシリーズ、セイ
カビームＰ−１０００シリーズ、セイカビームＷ５００
０シリーズ、セイカビームＫシリーズ（以上、大日精化
工業（株））、コーエイハードＡシリーズ、Ｃシリー
ズ、Ｍシリーズ、Ｔシリーズ、Ｄシリーズ、ＮＳシリー
ズ、Ｆシリーズ、ＨＳシリーズ、Ｊシリーズ（以上、広
栄化学工業（株））、紫外線硬化型ハードコート剤ＤＨ
シリーズ（（株）大八化学工業所）、オーレクスシリー
ズ（中国塗料（株））などが挙げられる。

【００５９】又、熱硬化性樹脂、その他の反応型樹脂と
しては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
系硬化型樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、シリコン系
硬化型樹脂等が挙げられる。

【００６０】上記列挙の結合剤は、その分子中に極性基
を有していてもよい。極性基としてはエポキシ基、−Ｃ
ＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｘ、−ＳＯ₃Ｍ、−
ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃Ｍ（Ｍは各々、水素
原子、アルカリ金属又はアンモニウムを、Ｘはアミン塩
を形成する酸を、Ｒは各々、水素原子、アルキル基を表
す）等が挙げられる。

【００６１】上記のバインダーはエポキシ系、アジリジ
ン系、イソシアネート系の公知の架橋剤、或いは放射線
硬化型の樹脂モノマーを併用して硬化処理することがで
きる。イソシアネート系架橋剤としてはイソシアネート
基を２個以上有するポリイソシアネート化合物で、たと
えば、トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、などのイソシアネー
ト類、及び、これらのイソシアネート類とポリアルコー
ルとの反応生成物（例えば、トリレンジイソシアネート
３ｍｏｌとトリメチロールプロパン１ｍｏｌの反応生成
物）、及び、これらのイソシアネートの縮合により生成
したポリイソシアネートなどがあげられる。具体的に
は、コロネート３０４１、ミリオネート４００（日本ポ
リウレタン）などがあげられる。

【００６２】この他に本発明に使用できる親水性バイン
ダーとしては、例えばリサーチ・ディスクロージャ（Ｒ
ＤＮｏ．１７６４３，２６頁、及び同Ｎｏ．１８７１
６，６５１頁に記載されている水溶性ポリマー、セルロ
ースエーテル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエステ
ルを挙げることができる。

【００６３】水溶性ポリマーとしては、前述の他にゼラ
チン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ナ
トリウム、澱粉、ポリビニールアルコール、アクリル酸
系共重合体、無水マレイン酸共重合体等が挙げられ、セ
ルロースエーテルとしては、メチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ヒドロキシプロピルセルロース等が挙げられる。

【００６４】水溶性ポリマーを使用する場合は硬膜剤を
使用するのが好ましい。使用できる硬膜剤としては、ア
ルデヒド系化合物類、ケトン化合物類、反応性ハロゲン
を有する化合物類、反応性オレフィンを持つ化合物類、
Ｎ−メチロール化合物、イソシアナート類、アジリジン
化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類、ムコハロ酸
類、クロム明礬、硫酸ジルコニウム、カルボキシル基活
性型硬膜剤等を挙げることができる。硬膜剤は、通常、
樹脂固形分に対して０．０１〜６０重量％用いられ、好
ましくは０．０５〜５０重量％である。

【００６５】透明磁性層及び潤滑層に使用できる潤滑剤
としては、ポリシロキサン等のシリコンオイル、ポリエ
チレン、ポリテトラフルオロエチレン等のプラスチック
微粉末、高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン
ワックス、フルオロカーボン類が挙げられる。これら
は、単独又は混合して用いることができる。これらの添
加量は、乾燥塗膜１００重量部に対し０．５〜２０重量
部の範囲で用いることができる。水に溶けるか拡散させ
ることができるものが好ましい。

【００６６】本発明に好ましく用いられる一般式
（１）、（２）で表される滑り剤化合物について説明す
る。一般式（１）において、Ｒ₁、Ｒ₂は、脂肪族炭化水
素基であり、Ｒ₁又はＲ₂の少なくとも一方に、少なくと
も１つ極性置換基を持つ。この化合物のＲ₁、Ｒ₂の合計
の総炭素数は２５〜１２０である。

【００６７】これは十分な滑り性を有するために総炭素
数２５以上必要でありまた総炭素数が多くなると有機溶
剤への溶解性が悪くなり有機溶剤中での分散がしにくく
なるためである。総炭素数としてより好ましくは３０〜
１００であり、更に好ましくは４０〜８０である。ま
た、Ｒ₁、Ｒ₂それぞれは、十分な耐傷性、及び種々の使
用条件での滑り性の悪化を抑えるため、それぞれ炭素数
１０〜７０の脂肪族炭素化水素基である事が好ましい。
炭素数が１０未満の場合は、耐傷性が悪化し、種々の使
用条件で滑り剤の転写により滑り性の悪化が起こる。ま
た、炭素数７０越える、片末端官能基化された脂肪族化
合物は、一般に知られていない。この脂肪族炭化水素基
は、直鎖構造でも良いし、不飽和結合を含んでいても良
いし、一部置換基を持っていても良いし、分岐構造を持
っていても良い。このうち、耐傷性の観点で特に好まし
いのは直鎖構造である。Ｒ₁、Ｒ₂の炭素数として、更に
好ましいのは、１５〜５０である。Ｘ₁は二価の連結基
である一般式（２）において、Ｒ₃は、炭素数２５〜７
０の脂肪族炭化水素基である。この炭化水素基は不飽和
結合或いは分岐構造を含んでいてもよく、各種置換基で
置換されていても良い。滑り性や磁気入出力特性に特に
好ましいのは直鎖脂肪族炭化水素基である。炭素数が２
５未満であると現像処理後の滑り性が劣化する。炭素数
が７０を越えると、素材の合成や精製が困難で、工業的
に入手しにくい。Ｘ₂は二価の連結基であり、Ｘ₁と同様
の基である。また、Ｙは−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_a−、（Ｃ
Ｈ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ）_b−又は−（（ＣＨ₂）_cＣＨ
（Ｒ）ＣＨ₂Ｏ）_d−の各ユニットを少なくとも１つ含む
基であり、ａ、ｂ、ｄは３〜４０、ｃは１〜３、Ｒは水
素原子、ヒドロキシ基、炭素数８以下の炭化水素基（例
えばメチル基）を示す。また、Ｒ₄は水素原子又は炭素
数８以下の炭化水素基を示す。一般式（１）と（２）の
使用割合は１：９〜９：１であり、好ましくは８：２〜
３：７である。

【００６８】また、一般式（１）、（２）において、Ｒ
₁、Ｒ₂の少なくとも一方に、又は、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒの少な
くとも一方に、極性の置換基を持つ化合物である。極性
基は化合物の疎水性を低減し現像処理時の処理液の付着
ムラを防止する事が可能でありまた有機溶剤中への分散
安定性も良化させることが可能である。ここで言う極性
置換基とは、水素結合をしうる基、もしくはイオン性解
離基の事を示す。極性置換基としては、−ＯＨ、−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＯＭ、−ＮＨ₃、−ＮＲ₄ ⁺Ａ^-、−ＣＯＮＨ
₂が好ましい。ここで、Ｍはアルカリ金属原子、アルカ
リ土類金属原子、４級アンモニウム塩等のカチオン、Ｒ
は水素原子又は炭素数８以下の炭化水素基、Ａ^-はハロ
ゲン原子等のアニオンである。また、これらの基のうち
−ＯＨは特に好ましい。この極性の置換基は、１分子中
にいくつあっても良い。本発明の一般式（１）、（２）
表される滑り剤の使用量は特に限定されないが、その含
有量は十分な滑り、耐傷性を発現するためには０．００
１〜０．１ｇ／ｍ²が好ましく、より好ましくは０．０
０５〜０．０５ｇ／ｍ²である。以下に具体例を挙げる
がこれに限定されない。

【００６９】 （１−１）ＨＯＣＯ（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＣ₂₁Ｈ₄₃ （１−２）Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）Ｃ₁₂Ｈ₂₅ （１−３）Ｃ₉Ｈ₁₉Ｃ（ＯＨ）（Ｃ₉Ｈ₁₉）ＣＨ₂ＣＯＯ
Ｃ₂₅Ｈ₅₁ （１−４）Ｃ₆Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＣ₄₀
Ｈ₈₁ （１−５）Ｃ₁₄Ｈ₂₉ＣＨ（ＮＨ₂）ＣＯＯ（ＣＨ₂）ｎＣ
Ｈ（ＣＨ₃）（ＣＨ₂）ｍ−ＣＨ（ｎ＋ｍ＝１５） （１−６）ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂ＣＨ（ＣＯＯＮａ）（Ｃ
Ｈ₂）₆ＣＯＯＣ₄₀Ｈ₈₁ （１−７）ＨＯＣＨ₂（ＣＨ₂）₆ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（Ｏ
Ｈ）（ＣＨ₂）₄ＣＯＯ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁ （１−８）Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₆ＯＨ （１−９）ＣＨ₃（ＣＨ₂）₂ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）₆Ｃ
ＯＮＨＣ₂₁Ｈ₄₃ （１−１０）Ｃ₂₇Ｈ₅₅ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ
Ｈ （１−１１）ＨＯＣＯ（ＣＨ₂）₅ＣＯＯＣ₄₀Ｈ₈₁ （１−１２）ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₅ＣＨ（ＳＯ₃Ｎａ）ＣＯ
ＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₁₃Ｈ₂₇）−Ｃ₁₀Ｈ₂₁ （２−１）ｎ−Ｃ₃₀Ｈ₆₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ （２−２）ｎ−Ｃ₄₀Ｈ₈₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₅Ｈ （２−３）ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆Ｈ （２−４）ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₃₀Ｈ （２−５）ｎ−Ｃ₄₀Ｈ₈₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ （２−６）ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆Ｈ （２−７）ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁Ｏ−（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ
₂Ｏ）₃（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆Ｈ （２−８）ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
₂Ｏ）₃（ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ）₃（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₅
Ｈ （２−９）ｎ−Ｃ₄₀Ｈ₈₁ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ（ＣＨ
₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆Ｈ （２−１０）ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯ
（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₆Ｈ （２−１１）ｎ−Ｃ₅₀Ｈ₁₀₁ＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯ
（ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ）₃（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₅Ｈ 前述の滑り剤は、これを適当な水又は有機溶剤に溶解、
又は分散した塗布液を、支持体、又はバック面にその他
の層を付与した支持体上又は、乳剤塗布時に塗布し、乾
燥することにより形成できる。有機溶剤中に溶解する場
合一般式（１）で示される化合物が非常に疎水的なため
極性の低い炭化水素系有機溶剤にしか溶けないものが多
く、製造工程中での溶剤取り扱いが難しくなってしまう
ため水又は一般の有機溶剤中に分散する事が好ましいが
平均分散粒子サイズが大きいと塗布した後の面状が悪化
するため平均分散粒子サイズは０．１μｍ以下である事
が好ましい。滑り剤を分散する方法としては、一般的に
知られている乳化、分散法を利用する事が出来る。具体
的には、有機溶剤に溶解しておいて水中で乳化する方
法、滑り剤を高温で溶融して水中で乳化する方法、ボー
ルミル、サンドグラインダーによる固体分散法等であ
る。このような乳化分散法については、刈米、小石、日
高編集、「乳化・分散技術応用ハンドブック」（サイエ
ンスフォーラム版）等の成書に記載されている。

【００７０】有機溶剤中に分散する方法としては、一般
的に知られている方法を用いる事ができる。好ましい方
法としては、具体的には、滑り剤を有機溶剤中で、ボー
ルミル、サンドグラインダー等により、固体分散する方
法、滑り剤を有機溶剤中で加温溶解しておき、攪拌しな
がら冷却析出させて分散する方法、また、滑り剤を有機
溶剤中で加温溶解しておき、これを、常温又は冷却した
有機溶剤中に添加して冷却析出させて分散する方法、ま
た、相互に相溶しない有機溶剤同志により乳化する方法
等である。このうち好ましい方法は滑り剤を有機溶剤中
で加温溶解しておき、これを、常温又は冷却した有機溶
剤中に添加して冷却析出させて分散する方法と滑り剤を
有機溶剤中で、ボールミル、サンドグラインダー等によ
り、固体分散する方法である。

【００７１】この分散に用いられる有機溶剤としては分
散性が悪化しなければ特に制限はない。冷却析出させる
方法において滑り剤溶解液を添加する冷却媒としては、
極性の高い溶剤が好ましい。特に好ましい方法は滑り剤
を６０℃〜１５０℃に加熱溶解し冷却媒として滑り剤の
常温での溶解度が１％以下の溶媒中に分散する方法であ
る。滑り剤の常温での溶解度が１％以下の溶媒の中でも
特にケトン類、アルコール類が分散性が良く好ましい。
また、この分散で用いられる分散機としては、通常の攪
拌機が使用できるが、特に好ましいのは、超音波分散
機、ホモジナイザーである。

【００７２】塗布に使用される希釈溶剤としては、滑り
剤の分散安定性、又は溶解性を悪化させないものであれ
ば良く例えば、水、各種界面活性剤を含有した水、アル
コール類（メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノールなど）、ケトン類（アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（酢
酸、蟻酸、シュウ酸、マレイン酸、コハク酸などのメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルエステルなど）、炭化水
素系（ヘキサン、シクロヘキサンなど）ハロゲン化炭化
水素系（メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭
素など）、芳香族炭化水素系（ベンゼン、トルエン、キ
シレン、ベンジルアルコール、安息香酸、アニソールな
ど）、アミド系（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ｎ−メチルピロリドンなど）、エーテル系
（ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラ
ンなど）、プロピレングリコールモノメチルエーテルな
どのエーテルアルコール類、グリセリン、ジエチレング
リコール、ジメチルスルホキシド等がある。この中でも
取り扱い上水、各種界面活性剤を含有した水、アルコー
ル類、ケトン類、エステル類が好ましい。

【００７３】また、塗布された一般式（１）、（２）で
示される化合物を均一に表面に存在させるための塗布後
の乾燥ゾーン又は熱処理ゾーン又は両ゾーンとも実質的
な温度を該一般式（１）、（２）で示される化合物の融
点以上とする事が必要である。融点以上の熱処理により
塗布された一般式（１）、（２）の化合物がフィルム上
で溶解し均一に塗れ広がり易くなりまた熱処理ゾーンの
ローラーと塗布面がタッチしたときに該化合物が押し広
がるためフィルム表面に均一に存在するようになる。乾
燥、熱処理温度は該化合物の融点以上であれば良いが高
すぎるとフィルム自体の変形等がおこり易くなるため、
フィルム種類にもよるがその上限は２００℃が好まし
い。後述するガラス転移温度以下で熱処理したポリエチ
レンナフタレートを５０重量％以上含む支持体を用いた
場合は支持体の巻き癖改良特性を悪化させないために一
般式（１）、（２）の化合物を塗布した後の乾燥、熱処
理温度は一般式（１）、（２）の化合物の融点以下かつ
該熱処理した支持体のガラス転移温度以下で行うことが
好ましい。

【００７４】透明磁性層に使用できる研磨剤としては、
モース硬度が通常５以上、好ましくは６以上の非磁性無
機粉末が挙げられ、具体的には、酸化物アルミニウム
（α−アルミナ、γ−アルミナ、コランダム等）、酸化
クロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）、酸化鉄（α−Ｆｅ₂Ｏ₃）、二酸化
珪素、二酸化チタン等の酸化物、炭化珪素、炭化チタン
等の炭化物、ダイアモンド等の微粉末を挙げることがで
きる。これらの平均粒径は０．０１〜２．０μｍが好ま
しく、バインダー１００重量部に対して０．５〜３００
重量部の範囲で添加して、磁気記録媒体の単位面積あた
りの付量を３ｍｇ／ｍ²〜２００ｍｇ／ｍ²の範囲で使用
することが好ましい。

【００７５】上記研磨剤の中で、本発明においてはα−
アルミナが好ましい。

【００７６】透明磁性層に含有される帯電防止剤として
は金属酸化物の微粒子が好ましい。具体例としてはＮｂ
₂Ｏ₅₊ｘのような酸素過剰な酸化物、ＲｈＯ₂−ｘ，Ｉｒ
₂Ｏ_3-ｘ等の酸素欠損酸化物、或いはＮｉ（ＯＨ）ｘの
ような不定比水素化物、ＨｆＯ₂，ＴｈＯ₂，ＺｒＯ₂，
ＣｅＯ₂，ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，ＳｎＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｉｎ₂
Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＭｇＯ，ＢａＯ，ＭｏＯ₂，Ｖ₂Ｏ₅等、
或いはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ，Ｔ
ｉＯ₂及びＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例として
は、例えばＺｎＯに対してＡｌ，Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ
₂に対してはＮｂ，Ｔａ等の添加、又、ＳｎＯ₂に対して
はＳｂ，Ｎｂ，ハロゲン元素等の添加が効果的である。
これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％の範
囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特に好
ましい。

【００７７】又、これらの導電性を有する金属酸化物粉
体の体積抵抗率は１０⁷Ωｃｍ、特に１０⁵Ωｃｍ以下で
あることが好ましい。又、前記金属酸化物の微粒子が水
溶液中に混合されたゾルを用いてもよい。

【００７８】この他に、カーボンブラック、カーボンブ
ラックグラフトポリマー等の導電性微粉末、アルキレン
オキサイド系、グリセリン系及びグリシドール系等のノ
ニオン系界面活性剤；高級アルキルアミン類、第４級ア
ンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環化合物の塩
類、ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン系界
面活性剤；カルボキシル基、燐酸基、硫酸エステル基、
燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン系界面活性
剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコー
ルの硫酸又は燐酸エステル類等の両性界面活性剤等を挙
げることができる。

【００７９】本発明のバインダー系はこれらの帯電防止
剤の分散性にも優れるので、透明磁性層に良好な導電性
を付与することができる。尚、界面活性剤は、ポリマー
の置換基として含まれていてもよい。

【００８０】本発明の潤滑層とは透明磁性層の上にあっ
て球状樹脂粒子と潤滑剤を含有し、該潤滑層を形成する
際に、潤滑剤の融点以下で、形成したもののことであ
る。

【００８１】本発明の潤滑層にはバインダーを含有する
ことが好ましい。使用できるバインダーは前述の熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化樹脂、など幅広く用
いることができるが、好ましくは疎水性の樹脂と親水性
の樹脂を併用することが望ましく、これにより、現像後
の汚れの付着性や潤滑剤の分散性、球状樹脂粒子の塗膜
への保持力を改善することができる。

【００８２】疎水性の樹脂として好ましいのは放射線硬
化型、光（紫外光など）・電子線硬化型の樹脂である。
すなわち、透明磁性層形成後に、潤滑層を形成する際
に、これらの樹脂であれば、バインダーを溶解して、塗
布に適する粘度に収めるための溶剤を、極力減らすこと
ができ、磁性層の光学的透明性や耐傷性を良好に維持で
きる。親水性樹脂の例としては前述のセルロースエーテ
ル、水溶性ポリエステルなどがある。

【００８３】潤滑層の塗布膜厚は乾燥後で、１５ｎｍ〜
８００ｎｍが好ましく、薄すぎると、潤滑機能が不充分
であり、また、現像後の汚れの付着を防止できない。ま
た厚すぎると磁気ヘッドと磁気記録層の距離が離れて、
磁気入出力が不充分となり、また、塗布時の下層にあた
る透明磁性層の濁りや膜強度の劣化をまねく。

【００８４】本発明の潤滑層が含有する球状樹脂粒子と
は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン類、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブ
チルなどのエステル類、トルエン、キシレンなどの芳香
族の各溶媒に不溶の樹脂からなり、粒径が０．２μｍ〜
１．５μｍの粒子のことであることが好ましく、より好
ましい粒径は０．２μｍ〜１．０μｍである。

【００８５】０．２μｍ未満ではバインダーと混合して
塗膜を形成したときに粒子としての機能が見られず、ま
た、溶剤不溶の粒子を得にくい。粒径が１．０μｍを越
えると、保護層を薄くした場合に、保護層から脱落しや
すく、不適である。

【００８６】添加量は０．５ｍｇ／ｍ²〜５０ｍｇ／ｍ²
が好ましい。

【００８７】上記球状樹脂粒子としては、架橋ポリメチ
ルメタクリレート、スチレン・ジビニルベンゼン共重合
体、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、高分子量ポリエチレン、トリアセチルセルロー
ス、架橋ジアセチルセルロース、或いはこれらの混合物
で、溶剤に不要なものならば、広範に使用可能である。
粒子の形状は塗料調製時には不定形であっても、塗膜形
成後に球形であればよい。従って、樹脂を粉砕して望ま
しい粒径を得た後の不定形の樹脂粒子であっても、その
後の処理によって塗膜中で球形となるものは、使用する
ことができる。

【００８８】これらの中で、好ましいのは、架橋ポリメ
チルメタクリレートで、ＭＸ１００が挙げられる。

【００８９】本発明において、潤滑層を形成する際に潤
滑剤の融点以下で塗布、乾燥を行うとは以下のことであ
る。即ち、潤滑層に常温で固体の潤滑剤が含有されてい
て、この潤滑剤が融点をもつこと、塗布後の潤滑層を乾
燥させる場合に塗布面が融点を越えないことである。

【００９０】実際には乾燥直後は溶剤の蒸発潜熱のため
に、塗布面に吹き付ける乾燥風が、潤滑剤の融点を越え
ていても、潤滑層の温度は潤滑剤の融点以下である。本
発明では、塗布・乾燥工程の最初から最後までを潤滑層
の塗布膜を潤滑剤の融点以下で処理する。

【００９１】本発明の磁気記録媒体の製造方法におけ
る、分散、混練、塗布の際に使用する溶媒としては、任
意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｉ
−ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テト
ラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ｉ−ブチルアルコー
ル、ｉ−プロピルアルコール、メチルシクロヘキサノー
ル等のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｉ−ブチル、酢酸−ｉ−プロピル、乳酸エ
チル、酢酸グリコール、モノエチルエーテル等のエステ
ル系；エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコール
エーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香族
炭化水素）；メチレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリ
ン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素；Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアルデヒド、ヘキサン、水などが使用でき
る。

【００９２】本発明において、支持体としては各種のも
のが使用できる。具体的にはポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等
のポリエステルフィルム、セルローストリアセテート
（ＴＡＣ）フィルム、セルロースジアセテート（ＤＡ
Ｃ）フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレ
ンフィルム、ポリオレフィンフィルム等を挙げることが
できる。

【００９３】ポリエステル支持体としては特に限定され
ないが、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフ
タレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸とエチレン
グリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタ
ンジオール等のアルキレングリコール類との縮合ポリマ
ー、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
−２，６−ジナフタレート、ポリプロピレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート等、或いはこれらの
共重合体が挙げられる。特に、現像処理後の巻癖回復性
の点で特開平１−２４４４４６号、同１−２９１２４８
号、同１−２９８３５０号、同２−８９０４５号、同２
−９３６４１号、同２−１８１７４９号、同２−２１４
８５２号及び特開平２−２９１１３５号等に示されるよ
うな、含水率の高いポリエステルを用いることが好まし
い。これらのポリエステルは、極性基、その他の置換基
を有していてもよい。

【００９４】本発明の非磁性支持体としてはＰＥＴ又は
ＰＥＮが好ましい。これらポリエステルは、フィルム支
持体の機械的強度、寸法安定性などを満足させるために
面積比で４〜１６倍の範囲で延伸を行うことが好まし
い。

【００９５】支持体には、マット剤、帯電防止剤、滑
剤、界面活性剤、安定剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、導電性物質、粘着性付与剤、軟化剤、流動性付与
剤、増粘剤、酸化防止剤等を添加することができる。

【００９６】支持体は、最小濃度部の色味のニュートラ
ル化、写真乳剤層を塗設したフィルムに光がエッジから
入射した時に起こるライトパイピング現象（縁カブリ）
の防止、ハレーション防止等の目的で染料を含有させる
ことができる。

【００９７】この染料の種類は特に限定されないが、支
持体としてポリエステルフィルムを用いる場合、製膜工
程上、耐熱性に優れたものが好ましく、例えばアンスラ
キノン系化学染料等が挙げられる。又、色調としては、
ライトパイピング防止を目的とする場合、一般の感光材
料に見られるようにグレー染色が好ましい。染料は１種
類又は２種類以上の染料を混合して用いてもよい。市販
品として、三菱化成社製：Ｄｉａｒｅｓｉｎ、Ｂａｙｅ
ｒ社製：ＭＡＣＲＯＬＥＸ等の染料を、単独又は適宜混
合して用いることで目標を達成することが可能である。

【００９８】本発明の磁気記録層を有する感光材料は、
黒白用感光材料、カラーネガ用感光材料、カラーペーパ
ー用感光材料、カラーリバーサル用感光材料、映画用感
光材料、Ｘ線用感光材料、印刷用感光材料、マイクロ写
真用感光材料等、何れの感光材料であってもよい。

【００９９】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるも
のではない。

【０１００】実施例１ （下引処理ベースの作製）ポリエチレン−２，６−ナフ
タレートベース（厚さ８５μｍ）の両面に２０Ｗ／ｍ²
・ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、片面に下記組成の下
引層塗布液Ｕ−１、Ｕ−２を調製し、ベース側より順次
０．８μｍ、０．１μｍの乾燥膜厚となるように塗布
し、他方の面に下記組成の下引層塗布液Ｕ−３、Ｓ−１
を調製し、ベース側より順次０．１μｍ、０．２μｍの
乾燥膜厚となるように塗布して帯電防止機能を持つ下引
層形成済み支持体を作製した。尚、以下の実施例におい
て、特に断りない限り、各素材の「部」は「重量部」を
示す。

【０１０１】 下引層塗布液（Ｕ−１） ブチルアクリレート／ｔ−ブチルアクリレート／スチレン／ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体ラテックス液 （重量構成比＝３０：２０：２５：２５，固形分３０％） ２７０部 界面活性剤（Ａ−１） ０．５部 硬膜剤（Ｈ−１） １部 純水 ７３０部 下引層塗布液（Ｕ−２） スチレン／マレイン酸共重合体ラテックス液（固形分５％） １００部 界面活性剤（Ａ−１） ０．５部 硬膜剤（Ｈ−２） ０．１部 マット剤（平均粒径３μｍのシリカ粒子） ０．５部 純水 ９００部 下引層塗布液（Ｕ−３） ブチルアクリレート／ｔ−ブチルアクリレート／スチレン／ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体ラテックス液 （重量構成比，固形分共Ｕ−１と同じ） ２７０部 界面活性剤（Ａ−１） ０．５部 硬膜剤（Ｈ−１） １部 純水 ７３０部 下引層塗布液（Ｓ−１） 酸化錫微粉末（平均粒径０．１μｍ）（石原産業（株）製：ＳＮ１００Ｐ） ６０部 スルホ基含有ポリエステルラテックス（固形分３０％） １２０部 ヒドロキシル基含有アクリル酸エステルラテックス（固形分３０％） １２部 界面活性剤（Ａ−１） １部 純水 １２００部 使用した化合物の構造を下記に示す。

【０１０２】

【化１】

【０１０３】（磁気記録層と潤滑層の塗設）前記下引処
理ベースの下引層Ｓ−１（導電層に当たる）が塗布され
た面に、下記組成と手順で磁性層塗布液（Ｍ−１）と潤
滑層塗布液（Ｗ−１）を調製し、塗膜が未乾燥のうちに
配向磁場中で塗布方向へ配向させ磁気記録の高出力化を
はかった。引き続き、Ｗ−１を常温下の雰囲気で塗布
し、塗布後の原反を乾燥ゾーンへ導入して、カルナバワ
ックスの融点以下である７５℃を上限として、制御した
乾燥風と搬送ロールを通過させて充分乾燥させた。

【０１０４】引続き、乾燥ゾーンで完全に乾燥させ、冷
却してから、巻取った。塗布後の元巻を５０℃のオーブ
ンに３日間放置して、架橋剤の反応を十分におこなって
磁気記録媒体とした。

【０１０５】〈磁性層塗布液（Ｍ−１）〉下記組成Ｐ−
１を攪拌混合したのち、サンドミルで分散する。

【０１０６】 〈Ｐ−１〉 コバルト含有γ−酸化鉄（平均長軸長０．１２μｍ，短軸長０．０１５μｍ， Ｆｅ²⁺／Ｆｅ³⁺＝０．２，比表面積４０ｍ²／ｇ，Ｈｃ＝７５０ Ｏｅ） ７部 α−アルミナ（平均粒径０．３μｍ） ２部 ポリウレタン（分子量４万，１分子中スルホン酸基１．５個含有） １部 メチルエチルケトン １０部 シクロヘキサノン ４部 上記Ｐ−１を下記の希釈用樹脂溶液ＬＤ−１で希釈し攪
拌・混合する。

【０１０７】 〈ＬＤ−１〉 セルロースジアセテート １３６部 シクロヘキサノン ９００部 アセトン ９００部 この塗布液をサンドミルで更に分散した後、コロネート
Ｌ（固形分５０％）を３０部添加して攪拌後、フィルタ
ーで濾過して磁性層塗布液Ｍ−１とした。

【０１０８】 〈潤滑層塗布液（Ｗ−１）〉 ジアセチルセルロース ５０部 ヒドロキシプロピルセルロース ３０部 カルナバワックス ８０部 架橋ポリメチルメタクリレート粒子（粒径１．０μｍ） ２部 シクロヘキサノン ４００部 イソプロピルアルコール ４００部 上記を撹拌、混合後、サンドミルで分散して原液１と
し、これをシクロヘキサノン／エタノールの重量比１／
１の溶媒で、塗布液の固形分の付量が表１，２の値にな
るように適宜稀釈し、濾過後、ワックス液Ｗ−１として
用いた。

【０１０９】（磁気記録媒体の評価）このようにして得
られた試料１について塗布性と失透度、支持体との接着
性を評価した。また、磁気入出力と変動を計測し、塗布
の均一性と磁性体の凝集状態を評価した。

【０１１０】《塗布性》潤滑層塗布直後のベースが乾燥
ゾーンに入る前の状態を目視で観察し、以下のように分
類した。

【０１１１】 ○：良好な塗布状態 △：上下層のまだらムラ、スジムラなどの塗布故障が発
生して塗布可能範囲が極めてせまいもの ×：実用不可能のレベル。

【０１１２】《乾燥性》オーブンから取り出したサンプ
ルを観察して塗布面の表面を目視でチェックして均一
性、濁りの変動を以下のように分類した。

【０１１３】 ○：透明性が良好で、見た目に均一塗布状態 △：均一だが、光にかざして全面にうすく白い粉を吹い
たように見える状態 ×：白く曇った部分と透明な部分がまだらに見えて、実
用上問題となる。

【０１１４】《濁度（ヘーズ値）》三菱化成工業社製の
濁度計ＳＥＰ−ＰＴ−５０１Ｄ型を用いて測定した。

【０１１５】《接着性》試料にセロハンテープを一定面
積、貼付け、ゴムローラーで一定荷重を掛けた後、剥が
して裏面（磁気記録層）の剥離面積を調べた。最初にテ
ープを貼った部分に対する面積比で算出した。

【０１１６】全く剥がれないものを０％、磁気記録層が
セロハンテープ側にすべて転写したものを１００％とし
た。

【０１１７】（感光材料の作製）試料１の磁気記録層を
有する面と逆の面、即ち、前記下引層Ｕ−２の上に２５
Ｗ／ｍ²・ｍｉｎのコロナ放電を施した後、特開平８−
３３４８５８号記載の実施例１の試料１０１相当の乳剤
層構成より成る多層カラー感光材料を作製した。

【０１１８】該試料の乳剤層において、銀塗布量は６．
２５ｍｇ／ｍ²、乾燥膜厚は１８μｍであった。

【０１１９】〈現像処理〉作製した感光材料を、以下に
示す処理工程に従って現像処理した。

【０１２０】 処理工程 処理時間 カラー現像 ３分１５秒 漂 白 ６分３０秒 水 洗 ２分１０秒 定 着 ４分２０秒 水 洗 ３分１５秒 安 定 １分０５秒 各工程に用いた処理液組成は下記の通りであった。

【０１２１】 カラー現像液 ジエチレントリアミン五酢酸 １．０ｇ １−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸 ２．０ｇ 亜硫酸ナトリウム ４．０ｇ 炭酸カリウム ３０．０ｇ 臭化カリウム １．４ｇ 沃化カリウム １．３ｍｇ ヒドロキシルアミン硫酸塩 ２．４ｇ ４−（Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチル)アミノ−２ −メチルアニリン硫酸塩 ４．５ｇ 水を加えて１リットルとし、ｐＨ１０．０に調整する。

【０１２２】 漂白液 エチレンジアミン四酢酸第二鉄アンモニウム塩 １００．０ｇ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 １０．０ｇ 臭化アンモニウム １５０．０ｇ 硝酸アンモニウム １０．０ｇ 水を加えて１リットルとし、ｐＨ６．０に調整する。

【０１２３】 定着液 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム １．０ｇ 亜硫酸ナトリウム ４．０ｇ チオ硫酸アンモニウム（７０％） １７５．０ｇ 重亜硫酸ナトリウム ４．６ｇ 水を加えて１リットルとし、ｐＨ６．６に調整する。

【０１２４】 安定液 ホルマリン（４０％） ２．０ｍｇ ポリオキシエチレン−ｐ−モノノニルフェニルエーテル（平均重合度１０） ０．３ｇ 水を加えて１リットルとした。

【０１２５】比較例１ 実施例１において潤滑層の塗設の際の乾燥温度９５℃に
上げて乾燥ゾーンとこの中に設置された金属搬送ロール
に接触させて搬送した他はまったく同じように試料２を
作製し、磁気記録媒体とハロゲン化銀写真感光材料の評
価をおこなった。

【０１２６】比較例２ 実施例１において潤滑層塗布液（Ｗ−１）の架橋ポリメ
チルメタクリレート粒子２部を添加しない他はまったく
同じように試料３を作製し、磁気記録媒体とハロゲン化
銀写真感光材料の評価をおこなった。

【０１２７】比較例３ 実施例１において潤滑層塗布液（Ｗ−１）のカルナバワ
ックス８０部を添加しない他はまったく同じように試料
４を作製し、磁気記録媒体とハロゲン化銀写真感光材料
の評価をおこなった。

【０１２８】実施例２ 実施例１において潤滑層塗布液（Ｗ−１）のヒドロキシ
プロピルセルロース３０部を添加しない他はまったく同
じように試料５を作製し、磁気記録媒体とハロゲン化銀
写真感光材料の評価をおこなった。

【０１２９】実施例３ 実施例１の潤滑層塗布液を下記Ｗ−２とし、磁性層塗布
液はＭ−１を用いて、塗布サンプルを作製した。磁性層
塗布液Ｍ−１の塗布・乾燥までは実施例１と同様とし、
Ｗ−２を常温下の雰囲気で塗布し、塗布後の原反を乾燥
ゾーンに導入してカルナバワックスの融点以下である６
５℃を上限として乾燥させた後、高圧水銀灯８０Ｗ／ｃ
ｍ、１０灯の照射下を連続的に通過させて、潤滑層の架
橋をはかった。

【０１３０】 〈潤滑層塗布液（Ｗ−２）〉 多官能ポリウレタンアクリル樹脂（ＤＨ５００） ５０部 ヒドロキシプロピルセルロース ３０部 カルナバワックス ８０部 メラミン・ホルムアルデヒド架橋樹脂粒子（粒径０．６μｍ） ２部 シクロヘキサノン ４００部 イソプロピルアルコール ４００部 上記を撹拌、混合後、サンドミルで分散して原液２と
し、これをシクロヘキサノン／エタノールの重量比１／
１の溶媒で、塗布液の固形分の付量が表１，２の値にな
るように適宜稀釈し、濾過後、ワックス液Ｗ−２として
用いた。

【０１３１】このようにして得られた試料６を試料１と
同様に評価した。

【０１３２】比較例４ 実施例３のＷ−２の組成をメラミン・ホルムアルデヒド
樹脂２部を除き、カルナバワックスを別のワックス組成
（化合物Ａと化合物Ｂの３：１混合物）８０部に変更し
たほかは実施例３とまったく同様にして試料７を作製
し、磁気記録媒体及び写真感光材料として評価した。

【０１３３】実施例４ 実施例３のＷ−２の組成をメラミン・ホルムアルデヒド
樹脂２部を架橋ポリメチルメタクリレート（粒径１．０
μｍ）２部に置き換え、Ｗ−２の乾燥ゾーンの温度を１
００℃に上げた他は実施例３とまったく同様にして試料
８を作製し、磁気記録媒体及び写真感光材料として評価
した。

【０１３４】実施例５ 実施例３において磁性層塗布液Ｍ−１の調製の際にＰ−
１組成からアルミナを除いたＰ−２を用い、潤滑層塗布
液を下記Ｗ−３とした他は、実施例３とまったく同様に
して試料９を作製し、磁気記録媒体及び写真感光材料と
して評価した。

【０１３５】 〈潤滑層塗布液（Ｗ−３）〉 多官能ビニルエステル樹脂（ＳＰ９０００） ５０部 ヒドロキシプロピルセルロース ３０部 化合物Ａ Ｃ₆Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＣ₄₀Ｈ₈₁ ６０部 化合物Ｂ ｎ−Ｃ₃₀Ｈ₆₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ ２０部 架橋ポリメチルメタクリレート粒子（粒径１．０μｍ） ２部 シクロヘキサノン ４００部 イソプロピルアルコール ４００部 上記を撹拌、混合後、サンドミルで分散して原液３と
し、これをシクロヘキサノン／エタノールの重量比１／
１の溶媒で、塗布液の固形分の付量が表１，２の値にな
るように適宜稀釈し、濾過後、ワックス液Ｗ−３として
用いた。

【０１３６】実施例６ 実施例３においてＳ−１を塗布せずにＭ−１を直接、Ｕ
−３上に塗布し、Ｗ−２をＷ−３に置き換えた他は、実
施例３とまったく同様にして試料１０を作製し、磁気記
録媒体及び写真感光材料として評価した。

【０１３７】実施例７〜１０ 実施例３において、Ｗ−２をＷ−４に置き換えて、潤滑
層の固形分の付量が表１，２の値になるように塗布条件
を調整した他は、実施例３とまったく同様にして試料１
０〜１４を作製し、磁気記録媒体及び写真感光材料とし
て評価した。

【０１３８】 〈潤滑層塗布液（Ｗ−４）〉 多官能ビニルエステル樹脂（ＳＰ９０００） ５０部 ヒドロキシプロピルメチルセルロース ３０部 化合物ＡＣ₆Ｈ₁₃ＣＨ（ＯＨ）（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＣ₄₀Ｈ₈₁（ｍｐ９５℃） ６０部 化合物ＢＣ₃₀Ｈ₆₁Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ（ｍｐ９４℃） ２０部 架橋ポリメチルメタクリレート粒子（粒径１．０μｍ） ２部 シクロヘキサノン ４００部 エチルアルコール ４００部 上記を撹拌、混合後、サンドミルで分散して原液４と
し、これをシクロヘキサノン／エタノールの重量比１／
１の溶媒で、塗布液の固形分の付量が表１，２の値にな
るように適宜稀釈し、濾過後、ワックス液Ｗ−４として
用いた。

【０１３９】実施例１１ 実施例３において、Ｗ−２をＷ−５に置き換えて、Ｍ−
１にコロネートＬを添加しなかった他は、実施例３とま
ったく同様にして試料１５を作製し、磁気記録媒体及び
写真感光材料として評価した。

【０１４０】実施例１２ 実施例３において、Ｗ−２をＷ−５に置き換えた他は、
実施例３とまったく同様にして試料１６を作製し、磁気
記録媒体及び写真感光材料として評価した。

【０１４１】 〈潤滑層塗布液（Ｗ−５）〉 多官能ビニルエステル樹脂（ＳＰ１５０７） ５０部 ジアセチルセルロース ３０部 化合物Ａ ６０部 化合物Ｂ ２０部 架橋ポリメチルメタクリレート粒子（粒径１．０μｍ） ２部 シクロヘキサノン ４００部 イソプロピルアルコール ４００部 上記を撹拌、混合後、サンドミルで分散して原液５と
し、これをシクロヘキサノン／エタノールの重量比１／
１の溶媒で、塗布液の固形分の付量が表１，２の値にな
るように適宜稀釈し、濾過後、ワックス液Ｗ−５として
用いた。

【０１４２】実施例１３ 実施例１において潤滑層塗布液（Ｗ−１）の架橋ポリメ
チルメタクリレート粒子２部をγアルミナ粒子（０．０
２μｍ）２部に置き換えた他はまったく同じように試料
１７を作製し、磁気記録媒体とハロゲン化銀写真感光材
料の評価をおこなった。

【０１４３】実施例１４ 実施例１において潤滑層塗布液（Ｗ−１）の架橋ポリメ
チルメタクリレート粒子２部を平均粒径２．０μｍの架
橋ポリメチルメタクリレートに置き換えた他はまったく
同じように試料１８を作製し、磁気記録媒体とハロゲン
化銀写真感光材料の評価をおこなった。

【０１４４】（感光材料の評価）上記のように作製した
感光材料の各試料について以下のように評価した。

【０１４５】《耐久性テスト》１５ｃｍの距離を水平に
往復走行する荷台の上に、試料の測定面を上にして固定
し、上方よりステンレス綱球（５ｍｍφ）で１５０ｇの
荷重を掛けた。荷台を１０ｃｍ／ｓｅｃの速度で摺動さ
せ、１０００往復繰り返した。試験終了後の傷付きの程
度を以下に示すランクにより測定した。測定面は現像後
の乳剤層を有さない面であり、測定環境は常温（２５℃
・５５％ＲＨ）で行った。

【０１４６】 Ａ・・・傷付きなし Ｂ・・・摺動跡はあるものの、磁気記録再生装置での出
力低下なし Ｃ・・・傷付きあり、磁気記録再生装置での出力が５０
％低下 Ｄ・・・膜剥がれを生じる。

【０１４７】《耐水性試験》５ｃｍの距離を水平に往復
走行する平板の上に、各試料の測定面を上にして固定
し、上方より水／エタノール＝４／１を染み込ませたフ
ェルト（５ｍｍ角）を１０ｇの荷重で押し当てた。試料
を載せた平板を１０ｃｍ／ｓｅｃの速度で走行させ、３
０回の往復を繰り返した。耐溶剤性の程度を以下に示す
ランクで測定した。

【０１４８】 Ａ・・・全く変化のないもの Ｂ・・・僅かに保護層の光沢が変化するもの Ｃ・・・磁気層まで削られて色調が周辺部に比べ変化す
るもの Ｄ・・・１０回以上で磁気層が完全に溶出するもの。

【０１４９】《汚れ付着性試験》前記定着液と安定液と
をそれぞれ３０倍に濃縮（水の稀釈量を１／３０に減じ
る）した液を混合し、通常の現像処理をおこなった後の
サンプルを１０分間、浸潤したのち、引上げ、２３℃、
５０％環境下に塗布面を垂直方向にして自然乾燥させ
た。

【０１５０】このサンプルの汚れを下記基準によって評
価した。

【０１５１】 ○・・・見た目に変化なく、写真用のフィルムとして使
用可能なもの △・・・周辺部に水垢状の汚れが見えるが、実用状許容
できるもの ×・・・付着固形分が固まりになって、明らかに透明性
が劣化するもの。

【０１５２】《ヘッド汚れ試験》全長２０ｍの現像済み
長尺ネガフィルムの幅方向中央部の磁気層側を市販のオ
ーディオヘッドを押し当て、乳剤面側からヘッドのギャ
ップを押さえるように回転するゴムロールで支持して１
０ｃｍ／ｓｅｃで走行させた。この走行系をもちいて、
サンプルを２往復させたのち、ヘッドの汚れと出力の低
下をモニターした。

【０１５３】ヘッドの汚れを顕微鏡下で観察し、５段階
に評価した。

【０１５４】 ５・・・最初の状態のままで、ヘッドギャップ、周辺部
が清浄である ４・・・ギャップは清浄だが、ゴムロールの当たりの弱
いヘッド端部が少し汚れている ３・・・ギャップはまだ見えるが、汚れ全体の３０％の
面積をしめる ２・・・ギャップにかかる汚れが多く、出力が低下する １・・・ヘッド全面が褐色に汚れ、出力信号が出ない。

【０１５５】出力の低下は最初の出力信号からの低下を
デシベルで表示した。数値が大きいほどヘッドが汚れや
すく、異物のヘッドへの付着が多いことを示す。

【０１５６】評価した結果をまとめて表１〜３に示す。
尚、本発明の感光材料は、写真的に透明で鮮鋭性、粒状
性共優れ、写真として全く問題のないことを確認した。

【０１５７】

【表１】

【０１５８】

【表２】

【０１５９】

【表３】

【０１６０】

【発明の効果】実施例にて実証した如く、本発明によれ
ば、光学的透明性が高く、塗布故障の発生しにくい、即
ち、生産性の良好で透明性の良好な磁気記録媒体を製造
できる。更に、本発明の磁気記録媒体を透明磁性層を有
するハロゲン化銀写真感光材料へも使用することができ
ることがわかった。これにより本発明の目的を達成され
た。

【０１６１】また、透明磁性層と潤滑のバインダーの適
切な選択により、耐摩耗性、接着の良好な透明磁性層と
潤滑層を有する写真感光材料用の磁気記録媒体が得られ
ることがわかった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 5/702 Ｇ１１Ｂ 5/702 5/708 5/708

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上の一方の側に透明磁性層
   が形成され、該透明磁性層の上に潤滑層を形成し、該潤
   滑層が球状樹脂粒子と潤滑剤を含有し、かつ該潤滑層を
   形成する際に、潤滑剤の融点以下で塗布、乾燥すること
   を特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 非磁性支持体上の一方の側に透明磁性層
   が形成され、該透明磁性層の上に潤滑層を形成し、該潤
   滑層が球状樹脂粒子と潤滑剤を含有し、かつ該潤滑層を
   形成する際に、潤滑剤の融点以下で塗布、乾燥すること
   を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 前記潤滑層がバインダーを含有し、該バ
   インダーが親水性バインダー及び疎水性バインダーであ
   ることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記疎水性バインダーが放射線の照射に
   より架橋硬化するバインダーであることを特徴とする請
   求項１又は３に記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記潤滑層がバインダーを含有し、該バ
   インダーが親水性バインダー及び疎水性バインダーであ
   ることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体の製
   造方法。
6. 【請求項６】 前記疎水性バインダーが放射線の照射に
   より架橋硬化するバインダーであることを特徴とする請
   求項２又は５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 前記潤滑層の乾燥膜厚が、１５ｎｍ〜８
   ００ｎｍであることを特徴とする請求項１、３又は４に
   記載の磁気記録媒体。
8. 【請求項８】 前記透明磁性層中にポリイソシアネート
   系の架橋剤が透明磁性層を構成する全バインダーに対し
   て、２重量％〜３５重量％含有されており、かつ、前記
   潤滑層が下記一般式（１）及び／又は（２）で表される
   化合物を含有することを特徴とする請求項１、３、４又
   は７に記載の磁気記録媒体。 一般式（１）Ｒ₁Ｘ₁Ｒ_２ 一般式（２）Ｒ_３Ｘ₂ＹＲ₄ ただし、一般式（１）において、Ｒ₁、Ｒ₂は脂肪族炭化
   水素基であり、Ｒ₁又はＲ₂の少なくとも一方に少なくと
   も１つの極性置換基を持つ。またＲ₁、Ｒ₂の合計の総炭
   素数は２５〜１２０である。また、Ｘ₁は二価の連結基
   である。また、一般式（２）において、Ｒ₃は炭素数２
   ５〜７０の脂肪族炭化水素基であり、Ｘ₂は二価の連結
   基である。また、Ｙは−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_a−、（ＣＨ₂
   ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂Ｏ）_b−又は−（（ＣＨ₂）_cＣＨ
   （Ｒ）ＣＨ₂Ｏ）_d−の各ユニットを少なくとも１つ含む
   基であり、ａ、ｂ、ｄは３〜４０、ｃは１〜３、Ｒは水
   素原子、ヒドロキシ基、炭素数８以下の炭化水素基を示
   す。また、Ｒ₄は水素原子又は炭素数８以下の炭化水素
   基を示す。
9. 【請求項９】 前記非磁性支持体の塗布面に予め、バイ
   ンダーと金属酸化物を含む層が形成されており、前記透
   明磁性層が粒径０．１μｍ〜１μｍのα−アルミナ粒子
   を３ｍｇ／ｍ²〜２００ｍｇ／ｍ²含有することを特徴と
   する請求項１、３、４、７又は８に記載の磁気記録媒
   体。
10. 【請求項１０】 前記非磁性支持体の塗布面に予め、バ
    インダーと金属酸化物を含む層が形成されており、前記
    透明磁性層が粒径０．１μｍ〜１μｍのα−アルミナ粒
    子を３ｍｇ／ｍ²〜２００ｍｇ／ｍ²含有することを特徴
    とする請求項２、５又は６に記載の磁気記録媒体の製造
    方法。
11. 【請求項１１】 前記球状樹脂粒子の粒径が０．２μｍ
    〜１．０μｍであることを特徴とする請求項１、３、
    ４、７、８又は９に記載の磁気記録媒体。