JPH11258179A - 磁気ディスクの検査方法、製造方法及び検査装置 - Google Patents
磁気ディスクの検査方法、製造方法及び検査装置Info
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- JPH11258179A JPH11258179A JP5650198A JP5650198A JPH11258179A JP H11258179 A JPH11258179 A JP H11258179A JP 5650198 A JP5650198 A JP 5650198A JP 5650198 A JP5650198 A JP 5650198A JP H11258179 A JPH11258179 A JP H11258179A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ディスクの欠陥検査の所要時間を短縮す
ること 【解決手段】 最初に光学的な欠陥検査を行って欠陥の
位置を調べ、その欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥
検査を行う磁気ディスクの検査方法において、あらかじ
めディスク上の任意の位置に目印を設け、前記光学的な
検査の際にこの目印の位置を測定することにより、前記
光学的な検査における欠陥検出位置情報を補正すること
を特徴とする磁気ディスクの検査方法。
ること 【解決手段】 最初に光学的な欠陥検査を行って欠陥の
位置を調べ、その欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥
検査を行う磁気ディスクの検査方法において、あらかじ
めディスク上の任意の位置に目印を設け、前記光学的な
検査の際にこの目印の位置を測定することにより、前記
光学的な検査における欠陥検出位置情報を補正すること
を特徴とする磁気ディスクの検査方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスクの検査方法
及び検査装置に関するものであり、詳しくは、最初に光
学的な欠陥検査を行って欠陥の位置を調べ、その欠陥位
置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥検査を行う磁気ディスク
の検査方法において、あらかじめディスク上の所定の位
置に目印が設けてあり、前記光学的な検査の際にこの目
印の位置を測定することにより、前記光学的な検査にお
ける欠陥検出位置情報を補正することを特徴とする、磁
気ディスクの検査方法及び装置に関するものである。
及び検査装置に関するものであり、詳しくは、最初に光
学的な欠陥検査を行って欠陥の位置を調べ、その欠陥位
置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥検査を行う磁気ディスク
の検査方法において、あらかじめディスク上の所定の位
置に目印が設けてあり、前記光学的な検査の際にこの目
印の位置を測定することにより、前記光学的な検査にお
ける欠陥検出位置情報を補正することを特徴とする、磁
気ディスクの検査方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の磁気ディスクの検査は、磁気ヘッ
ドで信号を書き込み、平均出力に対して変化の大きい箇
所を欠陥として検出してきた。しかし、近年記憶容量が
増大し、磁気ディスクのトラック密度が上がるにつれ、
この検査方法では検査に時間がかかり、生産上問題とな
ってきていた。そこで磁気的な検査において、トラック
をとばして検査し、検査時間の短縮をはかるという方法
がとられていた。しかし、磁気的な検査をトラックをと
ばして検査すると、欠陥がその飛ばされた領域にある場
合には検出できない、という問題があった。欠陥がある
所定の大きさよりも小さくかつ、所定の個数より少ない
場合は、ディスクドライブのエラー訂正処理によりディ
スクは使用可能であるが、同一トラック上に所定の長さ
以上の欠陥がある場合は、エラー訂正処理ができなくな
るため、問題である。小さい欠陥については、ディスク
面にある程度ランダムに分布しているため、トラックを
飛ばして検査をしても、検査した領域と飛ばした領域の
面積比から、その個数を予想することが可能であるのに
対し、同一トラック上の長い欠陥の場合はそのような予
想ができない。そこで、この問題を避けるため、光学的
な検査方法を併用する方法が用いられる。従来の光学的
な検査方法では、正反射光近傍に一定レベル以上の光強
度が一定時間以上検出され、かつ低角度散乱光の強度レ
ベルが一定レベル以下である場合を欠陥として検出し、
低角度散乱光の強度が一定レベル以上の場合は、ゴミと
して検出し、磁気ディスクの欠陥とは区別する方法がと
られていた。しかし、光学的に検出される欠陥の中に
は、磁気的に出力低下はあるものの、その出力はある一
定のしきい値以上であり、磁気的な欠陥とはならない、
いわゆる過検出の問題があった。そこで、本発明者ら
は、最初に測定時間が磁気的な欠陥検査に比べかなり短
くて済む光学的な欠陥検査を全面に対して行って欠陥の
位置を調べ、その欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥
検査を行う方法を提案している（特願平９−２０２９７
号）。
ドで信号を書き込み、平均出力に対して変化の大きい箇
所を欠陥として検出してきた。しかし、近年記憶容量が
増大し、磁気ディスクのトラック密度が上がるにつれ、
この検査方法では検査に時間がかかり、生産上問題とな
ってきていた。そこで磁気的な検査において、トラック
をとばして検査し、検査時間の短縮をはかるという方法
がとられていた。しかし、磁気的な検査をトラックをと
ばして検査すると、欠陥がその飛ばされた領域にある場
合には検出できない、という問題があった。欠陥がある
所定の大きさよりも小さくかつ、所定の個数より少ない
場合は、ディスクドライブのエラー訂正処理によりディ
スクは使用可能であるが、同一トラック上に所定の長さ
以上の欠陥がある場合は、エラー訂正処理ができなくな
るため、問題である。小さい欠陥については、ディスク
面にある程度ランダムに分布しているため、トラックを
飛ばして検査をしても、検査した領域と飛ばした領域の
面積比から、その個数を予想することが可能であるのに
対し、同一トラック上の長い欠陥の場合はそのような予
想ができない。そこで、この問題を避けるため、光学的
な検査方法を併用する方法が用いられる。従来の光学的
な検査方法では、正反射光近傍に一定レベル以上の光強
度が一定時間以上検出され、かつ低角度散乱光の強度レ
ベルが一定レベル以下である場合を欠陥として検出し、
低角度散乱光の強度が一定レベル以上の場合は、ゴミと
して検出し、磁気ディスクの欠陥とは区別する方法がと
られていた。しかし、光学的に検出される欠陥の中に
は、磁気的に出力低下はあるものの、その出力はある一
定のしきい値以上であり、磁気的な欠陥とはならない、
いわゆる過検出の問題があった。そこで、本発明者ら
は、最初に測定時間が磁気的な欠陥検査に比べかなり短
くて済む光学的な欠陥検査を全面に対して行って欠陥の
位置を調べ、その欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥
検査を行う方法を提案している（特願平９−２０２９７
号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、光学的な欠陥
検査における欠陥位置の誤差が大きいと、その欠陥検出
位置付近の広い範囲に渡って磁気的な検査をしなければ
ならなくなり、検査時間の短縮上問題となっていた。本
発明は斯かる実情に鑑みなされたものであり、欠陥の見
落としがなく、また、過検出もない精度の高い欠陥検査
を高速で行う方法及びその装置を提供することにある。
検査における欠陥位置の誤差が大きいと、その欠陥検出
位置付近の広い範囲に渡って磁気的な検査をしなければ
ならなくなり、検査時間の短縮上問題となっていた。本
発明は斯かる実情に鑑みなされたものであり、欠陥の見
落としがなく、また、過検出もない精度の高い欠陥検査
を高速で行う方法及びその装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、光学的な欠陥
検査によって磁気ディスク表面の欠陥を検出する際、デ
ィスク上に設けられた目印位置を、その光学的検査に用
いられる光学系によって検出することにより、欠陥の位
置情報を補正し、その補正された欠陥部近傍の磁気ディ
スク面を磁気的な欠陥検査によって精密に検査すること
を特徴とする磁気ディスクの検査方法、及び、磁気ディ
スクに対し光学的な欠陥検査をするための光学ヘッド系
と、ディスク上の任意の位置に予め設けられた目印の位
置を前記光学ヘッド系で測定して得られた位置情報と、
目印の位置情報を比較することにより欠陥位置情報を補
正する補正手段と、磁気的な欠陥検査をするための磁気
ヘッド系、が設けられ、光学ヘッド系によって光学的な
検査を行なって欠陥の半径位置を検出し、その半径位置
を前記補正手段で補正し、その補正された半径位置近傍
を磁気ヘッド系によって磁気的な欠陥検査を行なうよう
に構成されてなる磁気ディスクの検査装置、そして基板
上に少なくとも磁気による記録が可能な記録層を設けた
後に光学的な欠陥検査を行って欠陥の位置を調べ、その
欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥検査を行う磁気デ
ィスクの製造方法において、あらかじめディスク上の任
意の位置に目印を設け、前記光学的な検査の際にこの目
印の位置を測定することにより、前記光学的な検査にお
ける欠陥検出位置情報を補正することを特徴とする磁気
ディスクの製造方法を提供するものである。
検査によって磁気ディスク表面の欠陥を検出する際、デ
ィスク上に設けられた目印位置を、その光学的検査に用
いられる光学系によって検出することにより、欠陥の位
置情報を補正し、その補正された欠陥部近傍の磁気ディ
スク面を磁気的な欠陥検査によって精密に検査すること
を特徴とする磁気ディスクの検査方法、及び、磁気ディ
スクに対し光学的な欠陥検査をするための光学ヘッド系
と、ディスク上の任意の位置に予め設けられた目印の位
置を前記光学ヘッド系で測定して得られた位置情報と、
目印の位置情報を比較することにより欠陥位置情報を補
正する補正手段と、磁気的な欠陥検査をするための磁気
ヘッド系、が設けられ、光学ヘッド系によって光学的な
検査を行なって欠陥の半径位置を検出し、その半径位置
を前記補正手段で補正し、その補正された半径位置近傍
を磁気ヘッド系によって磁気的な欠陥検査を行なうよう
に構成されてなる磁気ディスクの検査装置、そして基板
上に少なくとも磁気による記録が可能な記録層を設けた
後に光学的な欠陥検査を行って欠陥の位置を調べ、その
欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥検査を行う磁気デ
ィスクの製造方法において、あらかじめディスク上の任
意の位置に目印を設け、前記光学的な検査の際にこの目
印の位置を測定することにより、前記光学的な検査にお
ける欠陥検出位置情報を補正することを特徴とする磁気
ディスクの製造方法を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下に、図を用いて本発明を詳細
に説明する。図１には従来の磁気ディスクの磁気的検査
装置（一般にサーティファイヤーと呼ばれている）の概
略図を示す。磁気ヘッド２によって、ある決められた信
号を記録し、出力信号があるしきい値範囲を越えると欠
陥として検出している。光学的検査方法には、光散乱を
用いる方法、レーザードップラー法を用いる方法、レー
ザー干渉を用いる方法等がある。
に説明する。図１には従来の磁気ディスクの磁気的検査
装置（一般にサーティファイヤーと呼ばれている）の概
略図を示す。磁気ヘッド２によって、ある決められた信
号を記録し、出力信号があるしきい値範囲を越えると欠
陥として検出している。光学的検査方法には、光散乱を
用いる方法、レーザードップラー法を用いる方法、レー
ザー干渉を用いる方法等がある。
【０００６】図２には光散乱法を用いた磁気ディスクの
光学的検査装置の概略図を示す。光散乱を用いる検査
は、図２に示すように磁気ディスク１表面を照射する光
源３と低角散乱光の受光系４と遮光板５を介して正反射
方向散乱光を受光する受光系６とを有する検査装置を用
いて、正反射光近傍に一定レベル以上の光強度が一定時
間以上検出され、かつ低角散乱光の強度レベルが一定レ
ベル以下である場合を欠陥として検出し、低角散乱光の
強度が一定レベル以上の場合は、ゴミとして検出し、磁
気ディスクの欠陥とは区別する方法がとられている。よ
り詳細に説明すれば、光源３としてはレーザ光、白熱灯
などが用いられ、照射スポットの法線Ｖに対する傾斜角
θが１５〜３５度の角度で磁気ディスク１の半径方向に
対して０から１０度の範囲の方向から照射することが好
ましい。光源は特に赤外線レーザーダイオードを用いる
ことが好ましい。
光学的検査装置の概略図を示す。光散乱を用いる検査
は、図２に示すように磁気ディスク１表面を照射する光
源３と低角散乱光の受光系４と遮光板５を介して正反射
方向散乱光を受光する受光系６とを有する検査装置を用
いて、正反射光近傍に一定レベル以上の光強度が一定時
間以上検出され、かつ低角散乱光の強度レベルが一定レ
ベル以下である場合を欠陥として検出し、低角散乱光の
強度が一定レベル以上の場合は、ゴミとして検出し、磁
気ディスクの欠陥とは区別する方法がとられている。よ
り詳細に説明すれば、光源３としてはレーザ光、白熱灯
などが用いられ、照射スポットの法線Ｖに対する傾斜角
θが１５〜３５度の角度で磁気ディスク１の半径方向に
対して０から１０度の範囲の方向から照射することが好
ましい。光源は特に赤外線レーザーダイオードを用いる
ことが好ましい。
【０００７】光源３からの光は磁気ディスク１面上で数
ミクロンから数１００ミクロンのスポット径に集光さ
れ、磁気ディスク１が回転しながら移動するかまたは、
回転している磁気ディスク１の上を光学系が半径方向に
移動することにより、磁気ディスク１全面が検査され
る。受光系には、フォトダイオード、アバランシュフォ
トダイオード、光電子増倍管などが用いられる。
ミクロンから数１００ミクロンのスポット径に集光さ
れ、磁気ディスク１が回転しながら移動するかまたは、
回転している磁気ディスク１の上を光学系が半径方向に
移動することにより、磁気ディスク１全面が検査され
る。受光系には、フォトダイオード、アバランシュフォ
トダイオード、光電子増倍管などが用いられる。
【０００８】図３には本発明の機器構成の一例を示す。
光学的検査の結果をファイルサーバに書き出すようにし
ておき、磁気的検査をする際には、そのディスクの光学
的検査結果をそのファイルサーバから読み出してきて、
その欠陥位置近傍のみトラックスキップ無しで検査し、
その他の部分はトラックスキップ有りで検査するように
する。その際、ディスク上の所定の位置に目印が設けて
あり、その目印を光学的検査で使用される光学系で検出
することにより、光学的検査における欠陥位置情報を補
正する。尚、本発明で言う目印を設けるとは、この目的
のためだけの目印を設けることのみならず、既に存在す
る光学的に読みとり可能なものを目印として定めること
も含んでいる。具体的な補正の手段の一例としては、以
下のようなことが考えられる。
光学的検査の結果をファイルサーバに書き出すようにし
ておき、磁気的検査をする際には、そのディスクの光学
的検査結果をそのファイルサーバから読み出してきて、
その欠陥位置近傍のみトラックスキップ無しで検査し、
その他の部分はトラックスキップ有りで検査するように
する。その際、ディスク上の所定の位置に目印が設けて
あり、その目印を光学的検査で使用される光学系で検出
することにより、光学的検査における欠陥位置情報を補
正する。尚、本発明で言う目印を設けるとは、この目的
のためだけの目印を設けることのみならず、既に存在す
る光学的に読みとり可能なものを目印として定めること
も含んでいる。具体的な補正の手段の一例としては、以
下のようなことが考えられる。
【０００９】図４にレーザテキスチャー部周辺を光学的
検査装置の光学系で測定した場合の一例を示す。レーザ
テキスチャー部は散乱光が増加するので、他のディスク
面と比較して信号レベルが高い。従ってその信号の立ち
上がり、または立ち下がりの位置情報を検出して、本来
目印を設けた時の位置情報と比較し、その差分を欠陥位
置情報に加えることにより、検出した欠陥の位置情報を
補正してやればよい。また、その立ち上がりまたは立ち
下がり信号をトリガーとして、測定開始の原点信号とし
て用いることも可能である。レーザテキスチャーの半径
位置は光学的検査装置のメカ精度に比較して、位置精度
良く設けられているので、この目的に使用することがで
きる。レーザーテキスチャの詳細は、例えば特開平８ー
１０６６３０号公報等に詳しい。
検査装置の光学系で測定した場合の一例を示す。レーザ
テキスチャー部は散乱光が増加するので、他のディスク
面と比較して信号レベルが高い。従ってその信号の立ち
上がり、または立ち下がりの位置情報を検出して、本来
目印を設けた時の位置情報と比較し、その差分を欠陥位
置情報に加えることにより、検出した欠陥の位置情報を
補正してやればよい。また、その立ち上がりまたは立ち
下がり信号をトリガーとして、測定開始の原点信号とし
て用いることも可能である。レーザテキスチャーの半径
位置は光学的検査装置のメカ精度に比較して、位置精度
良く設けられているので、この目的に使用することがで
きる。レーザーテキスチャの詳細は、例えば特開平８ー
１０６６３０号公報等に詳しい。
【００１０】欠陥位置補正の目印としては、このように
レーザテキスチャーを利用する他、ディスク内外周のエ
ッジや、その他の目印を使っても同様の手段で補正が可
能である。その他の目印を使う場合、ディスク上の欠陥
と区別するため、目印のサイズとしては、トラックの幅
方向に１０ミクロン以上、角度方向に９０度以上あるこ
とが好ましい。本発明の方法により、光学的検査におけ
る欠陥位置のばらつきを低減することが可能であり、そ
の分引き続いて行われる磁気的検査の検査範囲を狭める
ことができ、結果として磁気ディスクの検査時間ひいて
は製造時間を低減することが可能となる。本発明を実際
の磁気ディスクの製造工程に組み込む場合には、基板上
に少なくとも磁気による記録が可能な記録層を設けた後
に行えばよいが、後の工程で欠陥を生じることも考えら
れるので、基本的には必要とされる全ての層を形成した
後に行う。特に好ましくはレーザテキスチャが行われた
後である。
レーザテキスチャーを利用する他、ディスク内外周のエ
ッジや、その他の目印を使っても同様の手段で補正が可
能である。その他の目印を使う場合、ディスク上の欠陥
と区別するため、目印のサイズとしては、トラックの幅
方向に１０ミクロン以上、角度方向に９０度以上あるこ
とが好ましい。本発明の方法により、光学的検査におけ
る欠陥位置のばらつきを低減することが可能であり、そ
の分引き続いて行われる磁気的検査の検査範囲を狭める
ことができ、結果として磁気ディスクの検査時間ひいて
は製造時間を低減することが可能となる。本発明を実際
の磁気ディスクの製造工程に組み込む場合には、基板上
に少なくとも磁気による記録が可能な記録層を設けた後
に行えばよいが、後の工程で欠陥を生じることも考えら
れるので、基本的には必要とされる全ての層を形成した
後に行う。特に好ましくはレーザテキスチャが行われた
後である。
【００１１】（実施例）以下に、実施例により本発明を
更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り以下の実施例によって限定されるものではない。 （実施例１）光学的欠陥測定部の光源としては、波長７
８０ｎｍ、出力５ｍＷの半導体レーザを使用し、ディス
ク面でのスポットのサイズ及び形は短径２５ミクロン、
長径１２０ミクロンの楕円形とした。受光素子は浜松フ
ォトニクス社製のアバランシュフォトダイオードを使用
した。入射光は、入射角はディスク面の法線に対して３
０度でかつ照射箇所において半径方向入射するようにし
た。受光は、正反射方向で、正反射光のみを遮光板でカ
ットした。同一の欠陥をディスクをスピンドルへのロー
ド／アンロードを繰り返して１０回測定し、光学系がレ
ーザテキスチャー部を測定した際の立ち下がり信号で欠
陥位置を補正して、その半径位置のバラツキを求めた。
更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り以下の実施例によって限定されるものではない。 （実施例１）光学的欠陥測定部の光源としては、波長７
８０ｎｍ、出力５ｍＷの半導体レーザを使用し、ディス
ク面でのスポットのサイズ及び形は短径２５ミクロン、
長径１２０ミクロンの楕円形とした。受光素子は浜松フ
ォトニクス社製のアバランシュフォトダイオードを使用
した。入射光は、入射角はディスク面の法線に対して３
０度でかつ照射箇所において半径方向入射するようにし
た。受光は、正反射方向で、正反射光のみを遮光板でカ
ットした。同一の欠陥をディスクをスピンドルへのロー
ド／アンロードを繰り返して１０回測定し、光学系がレ
ーザテキスチャー部を測定した際の立ち下がり信号で欠
陥位置を補正して、その半径位置のバラツキを求めた。
【００１２】（実施例２）光学系がディスク内周部のエ
ッジを測定した際の立ち下がり信号で欠陥位置を補正し
て、その半径位置のバラツキを求めた以外は実施例１と
同様にした。 （比較例１）欠陥半径位置の補正を行わない以外は実施
例１と同様にした。 結果 測定半径位置のばらつき（ディスク半径方
向最大のずれ） 実施例１ ±50um 実施例２ ±60um 比較例１ ±100um この結果より、本発明のように補正手段を用いること
で、検査時間の大部分を占める磁気的な検査、を行う必
要のある面積をほぼ半分に減らすことが出来るため、生
産性が、大きく向上する。
ッジを測定した際の立ち下がり信号で欠陥位置を補正し
て、その半径位置のバラツキを求めた以外は実施例１と
同様にした。 （比較例１）欠陥半径位置の補正を行わない以外は実施
例１と同様にした。 結果 測定半径位置のばらつき（ディスク半径方
向最大のずれ） 実施例１ ±50um 実施例２ ±60um 比較例１ ±100um この結果より、本発明のように補正手段を用いること
で、検査時間の大部分を占める磁気的な検査、を行う必
要のある面積をほぼ半分に減らすことが出来るため、生
産性が、大きく向上する。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、光学的検査と磁気的検
査を組み合わせて行う、磁気ディスクの検査において、
光学的検査の欠陥半径位置精度を上げることができるた
め、引き続き行う磁気的検査の測定範囲を狭めることが
でき、磁気ディスクの生産性の向上をはかることができ
る。
査を組み合わせて行う、磁気ディスクの検査において、
光学的検査の欠陥半径位置精度を上げることができるた
め、引き続き行う磁気的検査の測定範囲を狭めることが
でき、磁気ディスクの生産性の向上をはかることができ
る。
【図１】図１は、磁気ディスクの磁気的検査装置の一例
の説明図である。
の説明図である。
【図２】図２は、磁気ディスクの光学的検査装置の一例
の説明図である。
の説明図である。
【図３】図３は、光学的検査と磁気的検査を組み合わせ
た磁気ディスクの検査装置システム図である。
た磁気ディスクの検査装置システム図である。
【図４】図４は、レーザテキスチャー部を検査した際の
光学系からの信号の一例の説明図である。
光学系からの信号の一例の説明図である。
１ 磁気ディスク ２ 磁気ヘッド ３ 光源 ４ 低角散乱光受光系 ５ 遮光板 ６ 正反射方向散乱光受光系
Claims (6)
- 【請求項１】 最初に光学的な欠陥検査を行って欠陥の
位置を調べ、その欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠陥
検査を行う磁気ディスクの検査方法において、あらかじ
めディスク上の任意の位置に目印を設け、前記光学的な
検査の際にこの目印の位置を測定することにより、前記
光学的な検査における欠陥検出位置情報を補正すること
を特徴とする磁気ディスクの検査方法。 - 【請求項２】 ディスク上の目印として、レーザテキス
チャーを用いる請求項１に記載の磁気ディスクの検査方
法。 - 【請求項３】 前記補正が目印を原点とすることによ
る、請求項１又は２に記載の磁気ディスクの検査方法。 - 【請求項４】 前記補正が目印を設けた時の位置情報
と、目印を実際に測定した際の位置情報の差分を、欠陥
位置情報に加えることにより行われる請求項１又は２に
記載の磁気ディスクの検査方法。 - 【請求項５】 磁気ディスクに対し光学的な欠陥検査を
するための光学ヘッド系と、ディスク上の所定の位置に
予め設けられた目印の位置を前記光学ヘッド系で測定し
て得られた位置情報と、目印の位置情報を比較すること
により欠陥位置情報を補正する補正手段と、磁気的な欠
陥検査をするための磁気ヘッド系、が設けられ、光学ヘ
ッド系によって光学的な検査を行なって欠陥の半径位置
を検出し、その半径位置を前記補正手段で補正し、その
補正された半径位置近傍を磁気ヘッド系によって磁気的
な欠陥検査を行なうように構成されてなる磁気ディスク
の検査装置。 - 【請求項６】 基板上に少なくとも磁気による記録が可
能な記録層を設けた後に光学的な欠陥検査を行って欠陥
の位置を調べ、その欠陥位置近傍のみ詳細に磁気的な欠
陥検査を行う磁気ディスクの製造方法において、あらか
じめディスク上の任意の位置に目印を設け、前記光学的
な検査の際にこの目印の位置を測定することにより、前
記光学的な検査における欠陥検出位置情報を補正するこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5650198A JPH11258179A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | 磁気ディスクの検査方法、製造方法及び検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5650198A JPH11258179A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | 磁気ディスクの検査方法、製造方法及び検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258179A true JPH11258179A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13028868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5650198A Pending JPH11258179A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | 磁気ディスクの検査方法、製造方法及び検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11258179A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007298505A (ja) * | 2006-04-05 | 2007-11-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法およびその装置 |
| WO2010038741A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク |
-
1998
- 1998-03-09 JP JP5650198A patent/JPH11258179A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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