JPH11256133A - 紫外線遮断剤及びその製造方法 - Google Patents
紫外線遮断剤及びその製造方法Info
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Abstract
線遮断性を有し、しかも、可視領域における透明性を併
せ持った紫外線遮断剤及びその製造方法の提供する。 【解決手段】 SiO2 の含有量が15〜50重量%と
なるように、不定形シリカと酸化亜鉛とを複合化する。
Description
定で、可視領域において透明性が高く、優れた紫外線遮
断性を有する紫外線遮断剤及びその製造方法に関する。
体に対しても悪影響を及ぼす。そのため、種々の有機系
・無機系紫外線遮断剤が開発されており、これらはプラ
スチックや化粧品等に配合されている。有機系紫外線遮
断剤には、サリチル酸系、ベンゾトリアゾール系、シア
ノアクリレート系、ケイ皮酸系、ジベンゾイルメタン系
等の種類があるが、いずれも耐熱性・耐候性、大量配合
あるいは分解した際にできる生成物の安全性等の改善が
課題となっている。一方、無機系紫外線遮断剤には、微
粒子酸化チタンや微粒子酸化亜鉛等があるが、いずれも
分散性や触媒活性の改善が課題となっている。そこで、
これらの課題を解決するため、シリカ・酸化セリウム複
合粒子(特開平9−118610号公報)が開発されて
いる。
mのUV−A領域、280〜320nmのUV−B領域
及び280nm以下のUV−C領域に区分されるが、通
常問題となるのはUV−A領域とUV−B領域の紫外線
である。前記したシリカ・酸化セリウム複合粒子は、U
V−B領域の遮断性には優れているが、UV−A領域の
遮断性は不十分であった。プラスチックの中には、ポリ
ウレタンのようにUV−A領域に大きな吸収を示すもの
があり、また、人体の皮膚はUV−A領域の紫外線によ
りメラニンが生成して褐色化することから、このUV−
A領域の紫外線を吸収・遮断したいとの要望が強かっ
た。
ている無機化合物として微粒子酸化亜鉛が知られてい
る。しかし、微粒子酸化亜鉛は触媒活性が高いため、使
用範囲が制限されていた。そこで、この問題を解決する
ために種々の紫外線遮断剤が検討され、例えば、特開平
8−104512号公報や特開平9−100112号公
報に記載のものが開発されているが、触媒活性がなく、
かつ、優れたUV−A領域の紫外線遮断性を有するまで
には至っていない。そのため、これらの特性をすべて備
えた技術の開発が望まれていた。
媒活性がなく、優れたUV−A領域の紫外線遮断性を有
する紫外線遮断剤及びその製造方法の提供を課題とす
る。
に不定形シリカを所定量複合化させることにより、上記
課題を解決できることを知り、その知見に基づき鋭意検
討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本
発明は、SiO2 の含有量が15〜50重量%であるシ
リカ・酸化亜鉛複合粒子からなる紫外線遮断剤と、平均
粒子径が0.01〜0.08μmの微粒子酸化亜鉛を5
0℃以上の温水に分散し、水和させて水酸化亜鉛スラリ
ーとし、70〜100℃、pH7〜11の状態を保つよ
うにして、該水酸化亜鉛スラリーに、ケイ酸塩溶液と鉱
酸を加えて不定形シリカ・水酸化亜鉛複合化物スラリー
を生成し、これを水洗、ろ過した後、乾燥又は焼成し粉
砕することを特徴とする上記紫外線遮断剤の製造方法で
ある。
子中におけるSiO2 の含有量が15〜50重量%とな
る量の不定形シリカと酸化亜鉛とを複合化したものであ
る。SiO2の含有量が上記範囲外の場合は、紫外線遮
断効果が不足又は可視領域の透明性が低下し触媒活性が
高くなる。この紫外線遮断剤を製造するには、まず、水
酸化亜鉛スラリーの調製を行う。水酸化亜鉛スラリーを
調製するには、平均粒子径が0.01〜0.08μm、
好ましくは0.01〜0.04μmである微粒子酸化亜
鉛を、50℃以上、好ましくは60℃以上の温水に添加
し、30分以上好ましくは1時間以上、強撹拌して分散
させる。このとき、分散機や乳化機を使って分散しても
かまわない。また、微粒子酸化亜鉛の温水中における分
散濃度は適当でよいが、好ましくは0.1g/ml以下
である。
記したように、顔料級酸化亜鉛ではなく微粒子酸化亜鉛
を使用する。その理由は、図1に示すように、顔料級酸
化亜鉛では紫外線遮断効果が悪く、シリカを複合化して
も可視領域で十分な透明性が得られないからである。な
お、図1は、各種試料の波長と光透過率との関係を示し
た図で、試料はSiO2 32重量%含有シリカ・微粒
子酸化亜鉛複合粒子、試料は微粒子酸化亜鉛、試料
はSiO2 32重量%含有シリカ・顔料級酸化亜鉛複合
粒子、試料は顔料級酸化亜鉛である。
スラリーを以下の方法で生成させる。まず、ケイ酸塩溶
液として、例えば、3号ケイ酸ナトリウム(JISによ
る)溶液を水で希釈したケイ酸ナトリウム溶液を調製す
る。一方、塩酸、硝酸、硫酸等の鉱酸を水で希釈して鉱
酸溶液を調製する。そして、このケイ酸ナトリウム溶液
と鉱酸溶液を、70〜100℃に加熱してある上記水酸
化亜鉛スラリーに適当なスピードで滴下して不定形シリ
カ・水酸化亜鉛複合化物スラリーを生成させる。このと
き、水酸化亜鉛スラリーのpHは7〜11、好ましくは
8〜10の状態に維持する。また、滴下するケイ酸ナト
リウムの量は、紫外線遮断剤中におけるSiO2 の含有
量が15〜50重量%となるように換算して求める。こ
の不定形シリカ・水酸化亜鉛複合化物スラリーの生成反
応は、前記した温度とpHの条件下で行うことが重要で
あり、これらの条件を逸脱すると均一な不定形シリカ・
水酸化亜鉛複合化物スラリーが得られない。最後に、こ
のスラリーを水洗、ろ過、乾燥又は130〜1,000
℃程度で焼成して粉砕することで、シリカ・酸化亜鉛複
合粒子からなる本発明の紫外線遮断剤が得られる。
び可視領域における透明性は、微粒子酸化亜鉛の粒径と
シリカの量に応じて異なる。したがって、微粒子酸化亜
鉛の粒径とシリカの量は、用途に応じて適宜、上記範囲
内で決定すればよい。図2は、粒径の異なる微粒子酸化
亜鉛にシリカ(SiO2 32重量%)を複合化したシリ
カ・酸化亜鉛複合粒子の波長と光透過率の関係を示す図
であり、試料、、はそれぞれ平均粒子径0.01
μm、0.02μm、0.04μmの微粒子酸化亜鉛で
ある。なお、上記の光透過率は、樹脂固形分の添加率が
3.0%となる量の試料に、ヒマシ油0.4mlを加え
てフーバーマーラー(50回転×2)で分散し、さらに
クリアラッカー6mlを加えて混練した後、この液を透
明石英板に30μmの厚さに塗布し、分光光度計「UV
−2200」(島津製作所製、商品名)で測定した。
カ・酸化亜鉛複合粒子について、X線回折を測定したと
ころ、図3に示すようなX線回折パターンが得られた
が、ZnOのパターンしか示さず、このことからシリカ
は不定形シリカになっていることが確認された。
については、ポリエチレンに各種試料を配合して200
℃でプレートに射出成型し、そのプレートをサンシャイ
ンウェザーメーターに1000時間かけた後、その表面
を観察して触媒活性の程度を判定した。その結果、試料
が微粒子酸化亜鉛の場合は、表面が白化しザラザラした
状態であった。SiO2 10重量%含有シリカ・酸化亜
鉛複合粒子の場合は、わずかに表面が白化していた。S
iO2 18、32、50重量%含有シリカ・酸化亜鉛複
合粒子の場合は、表面に白化は見られなかった。触媒活
性を示さない場合を◎、わずかに示す場合を○、やや示
す場合を×、かなり示す場合を××とすると、微粒子酸
化亜鉛とシリカ・酸化亜鉛複合粒子の触媒活性度は表1
のような結果であった。
性、触媒活性に関する上記実施例及び下記の実施例の結
果から、紫外線遮断剤中の最適なSiO2 含有率は15
〜50重量%であると判断した。
販の微粒子酸化亜鉛1kgを、60℃の温水10,00
0mlに少量ずつ添加し、60℃に保ったまま1時間強
撹拌しながら水和させて水酸化亜鉛スラリーを調製し
た。一方、3号ケイ酸ナトリウム溶液(SiO2 28.
5重量%)770.2gを水で希釈してケイ酸ナトリウ
ム溶液2,500mlを調製した。また、95重量%硫
酸103.8gを水で希釈して希硫酸溶液2,500m
lを調製した。そして、水酸化亜鉛スラリーを80℃以
上に加熱撹拌しながら、ケイ酸ナトリウム溶液と希硫酸
溶液を、反応液のpHが8〜10の状態となるようにし
て同時に滴下した。両液の滴下終了後、30分撹拌し反
応液のpHが6〜7になるように希硫酸で調整した。こ
れをろ過、水洗、乾燥、焼成(500℃)し粉砕して、
SiO2 18重量%含有のシリカ・酸化亜鉛複合粒子を
得た。
651.2gを水で希釈して5,600mlとし、95
重量%硫酸222.5gを水で希釈して5,600ml
に調製した以外は実施例1と同様にしてSiO2 32重
量%含有のシリカ・酸化亜鉛複合粒子を得た。
508.8gを水で希釈して12,300mlとし、9
5重量%硫酸472.9gを水で希釈して12,300
mlに調製した以外は、実施例1と同様にしてSiO2
50重量%含有のシリカ・酸化亜鉛複合粒子を得た。
9.9gを水で希釈して1,100mlとし、95重量
%硫酸52.5gを水で希釈して1,100mlに調製
した以外は、実施例1と同様にしてSiO2 10重量%
含有のシリカ・酸化亜鉛複合粒子を得た。
・酸化亜鉛複合粒子の光透過率を測定した結果を図4に
示す。試料AはSiO2 50重量%含有シリカ・酸化亜
鉛複合粒子、試料BはSiO2 32重量%含有シリカ・
酸化亜鉛複合粒子、試料CはSiO2 18重量%含有シ
リカ・酸化亜鉛複合粒子、試料DはSiO2 10重量%
含有シリカ・酸化亜鉛複合粒子の光透過率曲線である。
さず、可視領域での透明性が高く、しかも、UV−A領
域の紫外線遮断効果に優れており、プラスチックや化粧
品等の分野において広い利用が期待されるものである。
である。
である。
粒子のX線回折パターン図である。
である。
Claims (2)
- 【請求項1】 SiO2 の含有量が15〜50重量%で
あるシリカ・酸化亜鉛複合粒子からなる紫外線遮断剤。 - 【請求項2】 平均粒子径が0.01〜0.08μmの
微粒子酸化亜鉛を50℃以上の温水に分散し、水和させ
て水酸化亜鉛スラリーとし、70〜100℃、pH7〜
11の状態を保つようにして、該水酸化亜鉛スラリー
に、ケイ酸塩溶液と鉱酸を加えて不定形シリカ・水酸化
亜鉛複合化物スラリーを生成し、これを水洗、ろ過した
後、乾燥又は焼成し粉砕することを特徴とする請求項1
記載の紫外線遮断剤の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06105498A JP3848458B2 (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 紫外線遮断剤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06105498A JP3848458B2 (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 紫外線遮断剤の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11256133A true JPH11256133A (ja) | 1999-09-21 |
JP3848458B2 JP3848458B2 (ja) | 2006-11-22 |
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ID=13160119
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06105498A Expired - Lifetime JP3848458B2 (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 紫外線遮断剤の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3848458B2 (ja) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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