JPH11251422A - ウェーハ収納容器 - Google Patents
ウェーハ収納容器Info
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- JPH11251422A JPH11251422A JP10051130A JP5113098A JPH11251422A JP H11251422 A JPH11251422 A JP H11251422A JP 10051130 A JP10051130 A JP 10051130A JP 5113098 A JP5113098 A JP 5113098A JP H11251422 A JPH11251422 A JP H11251422A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 容器内に導入するガスの流量を増しても、該
容器内に収納されるウェーハにパーティクルが生じる虞
がなく、したがって、容器内のガスの置換時間を短縮す
ることのできるウェーハ収納容器を提供する。 【解決手段】 箱状の容器本体２に、ウェーハ３を保持
するための溝部６ａが複数本形成されるとともに、容器
本体２にガスを導入するためのガス導入用流路１２及び
内部のガスを外部に排出するためのガス排出用流路が形
成されたウェーハ収納容器において、溝部６ａ、６ａ、
…各々に、ガス導入用流路１２および／またはガス排出
用流路に連通する穴１３を形成したことを特徴とする。
容器内に収納されるウェーハにパーティクルが生じる虞
がなく、したがって、容器内のガスの置換時間を短縮す
ることのできるウェーハ収納容器を提供する。 【解決手段】 箱状の容器本体２に、ウェーハ３を保持
するための溝部６ａが複数本形成されるとともに、容器
本体２にガスを導入するためのガス導入用流路１２及び
内部のガスを外部に排出するためのガス排出用流路が形
成されたウェーハ収納容器において、溝部６ａ、６ａ、
…各々に、ガス導入用流路１２および／またはガス排出
用流路に連通する穴１３を形成したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ収納容器
に関し、特に、容器内に収納されるウェーハにパーティ
クルが生じる虞がなく、しかも、該容器内の不活性ガス
等のガスの置換時間を短縮することのできるウェーハ収
納容器に関するものである。
に関し、特に、容器内に収納されるウェーハにパーティ
クルが生じる虞がなく、しかも、該容器内の不活性ガス
等のガスの置換時間を短縮することのできるウェーハ収
納容器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造工程等においては、３
００ｍｍ径等の大径のウェーハを保管・運搬するための
容器として、図５及び図６に示すようなウェーハ保管容
器がある。この容器は、通常、ＦＯＵＰとも称されてい
る。このウェーハ保管容器１は、ウェーハをパーティク
ルから保護するためのもので、箱状の容器本体２の側面
２ａにウェーハ３を出し入れするための開口４が形成さ
れ、該開口４には容器本体２内を気密状態に保持する蓋
５が着脱自在に設けられている。
００ｍｍ径等の大径のウェーハを保管・運搬するための
容器として、図５及び図６に示すようなウェーハ保管容
器がある。この容器は、通常、ＦＯＵＰとも称されてい
る。このウェーハ保管容器１は、ウェーハをパーティク
ルから保護するためのもので、箱状の容器本体２の側面
２ａにウェーハ３を出し入れするための開口４が形成さ
れ、該開口４には容器本体２内を気密状態に保持する蓋
５が着脱自在に設けられている。
【０００３】この容器本体２内には、複数枚のウェーハ
３、３、…を横置き状態で保持するための溝部６ａ、６
ａ、…が上下方向に等間隔に形成された溝ティース（保
持部）６が設けられている。そして、この容器本体２の
底部には、該容器本体２の内部に窒素（Ｎ2）ガス等の
不活性ガスを導入するためのガス導入用流路７及び内部
の空気を外部に排出するための空気排出用流路８がそれ
ぞれ形成されている。これら流路７、８は、容器本体２
の側壁に形成されることもある。
３、３、…を横置き状態で保持するための溝部６ａ、６
ａ、…が上下方向に等間隔に形成された溝ティース（保
持部）６が設けられている。そして、この容器本体２の
底部には、該容器本体２の内部に窒素（Ｎ2）ガス等の
不活性ガスを導入するためのガス導入用流路７及び内部
の空気を外部に排出するための空気排出用流路８がそれ
ぞれ形成されている。これら流路７、８は、容器本体２
の側壁に形成されることもある。
【０００４】このウェーハ保管容器１により複数枚のウ
ェーハ３、３、…を保管・運搬するには、まず、容器本
体２の開口４より蓋５を外し、溝ティース６の溝部６
ａ、６ａ、…各々にウェーハ３を横置き状態で収納し、
その後、開口４に蓋５を装着する。次いで、ガス導入用
流路７にガス置換器のガス導入用配管９を挿着し、容器
本体２内に不活性ガスｇを導入するとともに内部の空気
ａを外部に排出する。なお、前記不活性ガスｇの替わり
にドライエア等のガスを導入する場合もある。
ェーハ３、３、…を保管・運搬するには、まず、容器本
体２の開口４より蓋５を外し、溝ティース６の溝部６
ａ、６ａ、…各々にウェーハ３を横置き状態で収納し、
その後、開口４に蓋５を装着する。次いで、ガス導入用
流路７にガス置換器のガス導入用配管９を挿着し、容器
本体２内に不活性ガスｇを導入するとともに内部の空気
ａを外部に排出する。なお、前記不活性ガスｇの替わり
にドライエア等のガスを導入する場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のウェーハ保管容器１では、容器本体２内を不活性ガ
スｇで置換するのに長時間を必要とするために、作業時
間が長くなり作業効率が低下するという問題点があっ
た。そこで、この不活性ガスｇの置換時間を短縮するた
めに大量の不活性ガスｇを一度に送り込むと、送り込ま
れた不活性ガスｇにより乱流が生じ、この乱流によりガ
ス導入用流路７付近のウェーハ３が振動し、ウェーハ３
にパーティクルが発生する原因となる。このパーティク
ルは、半導体製造工程の製品歩留まりを低下させる要因
となるために、出来るだけ発生しないようにする必要が
ある。
来のウェーハ保管容器１では、容器本体２内を不活性ガ
スｇで置換するのに長時間を必要とするために、作業時
間が長くなり作業効率が低下するという問題点があっ
た。そこで、この不活性ガスｇの置換時間を短縮するた
めに大量の不活性ガスｇを一度に送り込むと、送り込ま
れた不活性ガスｇにより乱流が生じ、この乱流によりガ
ス導入用流路７付近のウェーハ３が振動し、ウェーハ３
にパーティクルが発生する原因となる。このパーティク
ルは、半導体製造工程の製品歩留まりを低下させる要因
となるために、出来るだけ発生しないようにする必要が
ある。
【０００６】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであって、容器内に導入するガスの流量を増しても、
該容器内に収納されるウェーハにパーティクルが生じる
虞がなく、したがって、容器内のガスの置換時間を短縮
することのできるウェーハ収納容器を提供することを目
的とする。
のであって、容器内に導入するガスの流量を増しても、
該容器内に収納されるウェーハにパーティクルが生じる
虞がなく、したがって、容器内のガスの置換時間を短縮
することのできるウェーハ収納容器を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は次の様なウェーハ収納容器を提供する。す
なわち、請求項１記載のウェーハ収納容器は、箱状の容
器本体に、ウェーハを保持するための溝部が複数本形成
されるとともに、前記容器本体にガスを導入するための
ガス導入用流路及び内部のガスを外部に排出するための
ガス排出用流路が形成されたウェーハ収納容器におい
て、前記溝部各々に、前記ガス導入用流路および／また
はガス排出用流路に連通する穴が形成されていることを
特徴としている。
に、本発明は次の様なウェーハ収納容器を提供する。す
なわち、請求項１記載のウェーハ収納容器は、箱状の容
器本体に、ウェーハを保持するための溝部が複数本形成
されるとともに、前記容器本体にガスを導入するための
ガス導入用流路及び内部のガスを外部に排出するための
ガス排出用流路が形成されたウェーハ収納容器におい
て、前記溝部各々に、前記ガス導入用流路および／また
はガス排出用流路に連通する穴が形成されていることを
特徴としている。
【０００８】請求項２記載のウェーハ収納容器は、請求
項１記載のウェーハ収納容器において、前記容器本体内
に、前記ウェーハを保持するための溝部が複数本形成さ
れた保持部が設けられ、該保持部内に前記ガス導入用流
路および／またはガス排出用流路が形成されていること
を特徴としている。
項１記載のウェーハ収納容器において、前記容器本体内
に、前記ウェーハを保持するための溝部が複数本形成さ
れた保持部が設けられ、該保持部内に前記ガス導入用流
路および／またはガス排出用流路が形成されていること
を特徴としている。
【０００９】請求項３記載のウェーハ収納容器は、請求
項１または２記載のウェーハ収納容器において、前記ガ
ス導入用流路の開口部にフィルタを設けたことを特徴と
している。
項１または２記載のウェーハ収納容器において、前記ガ
ス導入用流路の開口部にフィルタを設けたことを特徴と
している。
【００１０】請求項４記載のウェーハ収納容器は、請求
項１、２または３記載のウェーハ収納容器において、前
記ガス導入用流路及びガス排出用流路各々の開口部に、
該開口部に着脱される配管に連動して可動する逆止弁が
設けられていることを特徴としている。
項１、２または３記載のウェーハ収納容器において、前
記ガス導入用流路及びガス排出用流路各々の開口部に、
該開口部に着脱される配管に連動して可動する逆止弁が
設けられていることを特徴としている。
【００１１】本発明のウェーハ収納容器では、前記溝部
各々に、前記ガス導入用流路および／またはガス排出用
流路に連通する穴を形成したことにより、容器本体内を
不活性ガスやドライエア等のガスで置換する際に、前記
ガス導入用流路を通過したガスは前記溝部各々に形成さ
れた穴に分配され、これらの穴より容器本体内に噴出
し、ウェーハの表面に沿って流れる。この際、個々の穴
から噴出するガスの流量が減少するので、ガスの総流量
を増加させた場合においても、個々の穴から噴出するガ
スの流量を少なくすることが可能になる。これにより、
ガスによる乱流の発生が無くなり、この乱流によりガス
導入用流路付近のウェーハが振動し、ウェーハにパーテ
ィクルが発生するという不具合も無くなり、容器内のガ
スの置換時間を短縮することが可能になる。
各々に、前記ガス導入用流路および／またはガス排出用
流路に連通する穴を形成したことにより、容器本体内を
不活性ガスやドライエア等のガスで置換する際に、前記
ガス導入用流路を通過したガスは前記溝部各々に形成さ
れた穴に分配され、これらの穴より容器本体内に噴出
し、ウェーハの表面に沿って流れる。この際、個々の穴
から噴出するガスの流量が減少するので、ガスの総流量
を増加させた場合においても、個々の穴から噴出するガ
スの流量を少なくすることが可能になる。これにより、
ガスによる乱流の発生が無くなり、この乱流によりガス
導入用流路付近のウェーハが振動し、ウェーハにパーテ
ィクルが発生するという不具合も無くなり、容器内のガ
スの置換時間を短縮することが可能になる。
【００１２】さらに、前記溝部各々に、前記ガス導入用
流路に連通する穴、および前記ガス排出用流路に連通す
る穴を互いに対向するように形成すれば、前記ガス導入
用流路を通過したガスは、前記溝部各々に形成された穴
より容器本体内に噴出した後、ウェーハの表面に沿って
層状に流れ、前記溝部各々に形成された穴及び前記ガス
排出用流路を経由して外部へ排出される。これにより、
容器内のガスの置換時間をさらに短縮することが可能に
なる。
流路に連通する穴、および前記ガス排出用流路に連通す
る穴を互いに対向するように形成すれば、前記ガス導入
用流路を通過したガスは、前記溝部各々に形成された穴
より容器本体内に噴出した後、ウェーハの表面に沿って
層状に流れ、前記溝部各々に形成された穴及び前記ガス
排出用流路を経由して外部へ排出される。これにより、
容器内のガスの置換時間をさらに短縮することが可能に
なる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明のウェーハ収納容器の一実
施形態について図面に基づき説明する。図１は本発明の
一実施形態のウェーハ収納容器を示す断面図、図２は図
１のＢ部分の拡大断面図であり、このウェーハ保管容器
１１が図５及び図６に示す従来のウェーハ保管容器１と
異なる点は、溝ティース６内に上下方向に延在するガス
導入用流路１２が形成され、溝部６ａ、６ａ、…各々
に、ガス導入用流路１２に連通する穴１３が形成され、
また、溝ティース６のガス導入用流路１２と対向する位
置に空気排出用流路１４が形成され、該空気排出用流路
１４側の溝部６ａ、６ａ、…各々にも空気排出用流路１
４に連通する穴１３が形成されている点である。
施形態について図面に基づき説明する。図１は本発明の
一実施形態のウェーハ収納容器を示す断面図、図２は図
１のＢ部分の拡大断面図であり、このウェーハ保管容器
１１が図５及び図６に示す従来のウェーハ保管容器１と
異なる点は、溝ティース６内に上下方向に延在するガス
導入用流路１２が形成され、溝部６ａ、６ａ、…各々
に、ガス導入用流路１２に連通する穴１３が形成され、
また、溝ティース６のガス導入用流路１２と対向する位
置に空気排出用流路１４が形成され、該空気排出用流路
１４側の溝部６ａ、６ａ、…各々にも空気排出用流路１
４に連通する穴１３が形成されている点である。
【００１４】このガス導入用流路１２の開口部は、その
中央部が拡径された筒状の中空部１５とされ、その下端
部が後述するガス置換器２１の不活性ガス導入用配管２
２の外径より僅かに大径の開口１６となるように徐々に
縮径されている。この中空部１５の上端部にはフィルタ
３１が設けられ、この中空部１５内に前記開口１６に着
脱される不活性ガス導入用配管２２に連動して可動する
逆止弁３２が設けられている。
中央部が拡径された筒状の中空部１５とされ、その下端
部が後述するガス置換器２１の不活性ガス導入用配管２
２の外径より僅かに大径の開口１６となるように徐々に
縮径されている。この中空部１５の上端部にはフィルタ
３１が設けられ、この中空部１５内に前記開口１６に着
脱される不活性ガス導入用配管２２に連動して可動する
逆止弁３２が設けられている。
【００１５】この逆止弁３２は、中空部１５内に挿入さ
れる前記開口１６より大径のボール３３と、前記フィル
タ３１と該ボール３３との間に設けられこれらを離間す
る方向に付勢するバネ３４により構成されている。な
お、空気排出用流路１４にも該逆止弁３２と同様の構成
の逆止弁が設けられている。
れる前記開口１６より大径のボール３３と、前記フィル
タ３１と該ボール３３との間に設けられこれらを離間す
る方向に付勢するバネ３４により構成されている。な
お、空気排出用流路１４にも該逆止弁３２と同様の構成
の逆止弁が設けられている。
【００１６】一方、ガス置換器２１は、このウェーハ収
納容器１１のガス導入用流路１２及び空気排出用流路１
４各々の開口部に対応して、不活性ガス導入用配管２２
及び空気排出用配管２３が配設されている。
納容器１１のガス導入用流路１２及び空気排出用流路１
４各々の開口部に対応して、不活性ガス導入用配管２２
及び空気排出用配管２３が配設されている。
【００１７】このウェーハ保管容器１１を用いてウェー
ハ３、３、…を保管・運搬するには、まず、図１に示す
ように、溝ティース６の溝部６ａ、６ａ、…各々にウェ
ーハ３を横置き状態で収納する。
ハ３、３、…を保管・運搬するには、まず、図１に示す
ように、溝ティース６の溝部６ａ、６ａ、…各々にウェ
ーハ３を横置き状態で収納する。
【００１８】次いで、図３（ａ）に示すように、このウ
ェーハ保管容器１１をガス置換器２１の上方に置き、こ
のウェーハ収納容器１１のガス導入用流路１２をガス置
換器２１の不活性ガス導入用配管２２に、また、空気排
出用流路１４をガス置換器２１の空気排出用配管２３
に、それぞれ合わせ、図３（ｂ）に示すように、不活性
ガス導入用配管２２をガス導入用流路１２の開口部に、
空気排出用配管２３を空気排出用流路１４の開口部にそ
れぞれ挿着する。
ェーハ保管容器１１をガス置換器２１の上方に置き、こ
のウェーハ収納容器１１のガス導入用流路１２をガス置
換器２１の不活性ガス導入用配管２２に、また、空気排
出用流路１４をガス置換器２１の空気排出用配管２３
に、それぞれ合わせ、図３（ｂ）に示すように、不活性
ガス導入用配管２２をガス導入用流路１２の開口部に、
空気排出用配管２３を空気排出用流路１４の開口部にそ
れぞれ挿着する。
【００１９】この際、図４に示すように、逆止弁３２の
ボール３３が不活性ガス導入用配管２２により持ち上げ
られるために、ボール３３と開口１６との間に隙間が生
じ、該逆止弁３２が開放され、同時に不活性ガス導入用
配管２２がガス導入用流路１２の開口部に係合する。同
様に、空気排出用配管２３も空気排出用流路１４の開口
部に係合する。その後、不活性ガス導入用配管２２より
窒素（Ｎ2）ガス等の不活性ガスｇが容器本体２内に導
入される。
ボール３３が不活性ガス導入用配管２２により持ち上げ
られるために、ボール３３と開口１６との間に隙間が生
じ、該逆止弁３２が開放され、同時に不活性ガス導入用
配管２２がガス導入用流路１２の開口部に係合する。同
様に、空気排出用配管２３も空気排出用流路１４の開口
部に係合する。その後、不活性ガス導入用配管２２より
窒素（Ｎ2）ガス等の不活性ガスｇが容器本体２内に導
入される。
【００２０】不活性ガスｇは、逆止弁３２を通過した
後、ガス導入用流路１２内を通過し、穴１３、１３、…
より容器本体２内部に向かって噴出し、ウェーハ３の表
面に沿って流れる。この場合、個々の穴１３から噴出す
る不活性ガスｇの流量が減少するために、不活性ガスｇ
の総流量を増加させても、個々の穴１３から噴出する不
活性ガスｇの流量は少なく、不活性ガスｇにより乱流が
発生する虞が無くなり、この乱流によりウェーハ３が振
動する虞も無くなる。
後、ガス導入用流路１２内を通過し、穴１３、１３、…
より容器本体２内部に向かって噴出し、ウェーハ３の表
面に沿って流れる。この場合、個々の穴１３から噴出す
る不活性ガスｇの流量が減少するために、不活性ガスｇ
の総流量を増加させても、個々の穴１３から噴出する不
活性ガスｇの流量は少なく、不活性ガスｇにより乱流が
発生する虞が無くなり、この乱流によりウェーハ３が振
動する虞も無くなる。
【００２１】一方、フィルタ３１はボール３３が動くこ
とにより発生するパーティクルが容器本体２内に吹き込
まないようにしている。なお、容器本体２内の空気ａは
不活性ガスｇにより押し出され、空気排出用流路１４及
び空気排出用配管２３を経由して外部へ排出される。
とにより発生するパーティクルが容器本体２内に吹き込
まないようにしている。なお、容器本体２内の空気ａは
不活性ガスｇにより押し出され、空気排出用流路１４及
び空気排出用配管２３を経由して外部へ排出される。
【００２２】容器本体２内の空気が不活性ガスｇにより
置換された後、このウェーハ保管容器１１をガス置換器
２１より外す。この際、逆止弁３２のボール３３が不活
性ガス導入用配管２２を抜くことによりバネ３４により
下方に押し下げられるために該ボール３３が開口１６に
密着した状態となり、該逆止弁３２が閉鎖され、容器本
体２内の気密性を保持することができる。空気排出用流
路１４の逆止弁も同様の動作を行なう。
置換された後、このウェーハ保管容器１１をガス置換器
２１より外す。この際、逆止弁３２のボール３３が不活
性ガス導入用配管２２を抜くことによりバネ３４により
下方に押し下げられるために該ボール３３が開口１６に
密着した状態となり、該逆止弁３２が閉鎖され、容器本
体２内の気密性を保持することができる。空気排出用流
路１４の逆止弁も同様の動作を行なう。
【００２３】以上説明した様に、本実施形態のウェーハ
保管容器１１によれば、溝ティース６内にガス導入用流
路１２を形成し、該溝ティース６の溝部６ａ、６ａ、…
各々にガス導入用流路１２に連通する穴１３を形成し、
また、溝ティース６のガス導入用流路１２と対向する位
置に空気排出用流路１４を形成し、さガス導入用流路１
２と対向する溝ティース６内に空気排出用流路１４を形
成し、該溝ティース６の溝部６ａ、６ａ、…各々にも空
気排出用流路１４に連通する穴１３を形成したので、こ
れらの穴１３、１３、…から不活性ガスｇを容器本体２
内に噴出させることにより、これらの穴１３、１３、…
各々からの不活性ガスｇの噴出流量を減少させることが
できる。
保管容器１１によれば、溝ティース６内にガス導入用流
路１２を形成し、該溝ティース６の溝部６ａ、６ａ、…
各々にガス導入用流路１２に連通する穴１３を形成し、
また、溝ティース６のガス導入用流路１２と対向する位
置に空気排出用流路１４を形成し、さガス導入用流路１
２と対向する溝ティース６内に空気排出用流路１４を形
成し、該溝ティース６の溝部６ａ、６ａ、…各々にも空
気排出用流路１４に連通する穴１３を形成したので、こ
れらの穴１３、１３、…から不活性ガスｇを容器本体２
内に噴出させることにより、これらの穴１３、１３、…
各々からの不活性ガスｇの噴出流量を減少させることが
できる。
【００２４】したがって、導入する不活性ガスｇの総流
量を増加させても、不活性ガスｇによる乱流の発生を防
止することができ、この乱流によりウェーハが振動し、
ウェーハにパーティクルが発生するという不具合を防止
することができ、不活性ガスｇの置換時間を短縮するこ
とができる。
量を増加させても、不活性ガスｇによる乱流の発生を防
止することができ、この乱流によりウェーハが振動し、
ウェーハにパーティクルが発生するという不具合を防止
することができ、不活性ガスｇの置換時間を短縮するこ
とができる。
【００２５】しかも、溝部６ａ、６ａ、…各々に互いに
対向するように、ガス導入用流路１２に連通する穴１３
及び空気排出用流路１４に連通する穴１３を形成したの
で、導入される不活性ガスｇの流れが略水平方向の層流
となり、不活性ガスｇによる乱流の発生をさらに防止す
ることができ、この乱流によるウェーハの振動を防止す
ることができる。
対向するように、ガス導入用流路１２に連通する穴１３
及び空気排出用流路１４に連通する穴１３を形成したの
で、導入される不活性ガスｇの流れが略水平方向の層流
となり、不活性ガスｇによる乱流の発生をさらに防止す
ることができ、この乱流によるウェーハの振動を防止す
ることができる。
【００２６】なお、本実施形態では、容器本体２内に設
けられた溝ティース６内にガス導入用流路１２を形成
し、溝部６ａ、６ａ、…各々にガス導入用流路１２に連
通する穴１３を形成したが、容器本体２の側壁にガス導
入用流路１２及び穴１３、１３、…を形成してもよい。
また、空気排出用流路１４に連通する穴１３も同様の構
成としてもよい。また、前記不活性ガスｇの替わりにド
ライエア等のガスを導入してもよい。
けられた溝ティース６内にガス導入用流路１２を形成
し、溝部６ａ、６ａ、…各々にガス導入用流路１２に連
通する穴１３を形成したが、容器本体２の側壁にガス導
入用流路１２及び穴１３、１３、…を形成してもよい。
また、空気排出用流路１４に連通する穴１３も同様の構
成としてもよい。また、前記不活性ガスｇの替わりにド
ライエア等のガスを導入してもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明のウェーハ収
納容器によれば、前記溝部各々に、前記ガス導入用流路
および／またはガス排出用流路に連通する穴を形成した
ので、容器本体内を不活性ガスやドライエア等のガスで
置換する際に、前記ガス導入用流路を通過したガスが前
記溝部各々に形成された穴に分配され、これらの穴より
容器本体内に噴出しウェーハの表面に沿って流れる。こ
れにより、個々の穴から噴出するガスの流量を減少させ
ることができ、ガスの総流量を増加させた場合において
も、個々の穴から噴出するガスの流量を少なくすること
ができる。
納容器によれば、前記溝部各々に、前記ガス導入用流路
および／またはガス排出用流路に連通する穴を形成した
ので、容器本体内を不活性ガスやドライエア等のガスで
置換する際に、前記ガス導入用流路を通過したガスが前
記溝部各々に形成された穴に分配され、これらの穴より
容器本体内に噴出しウェーハの表面に沿って流れる。こ
れにより、個々の穴から噴出するガスの流量を減少させ
ることができ、ガスの総流量を増加させた場合において
も、個々の穴から噴出するガスの流量を少なくすること
ができる。
【００２８】したがって、容器本体内に導入するガスの
総流量を増加させても、該ガスによる乱流の発生を防止
することができ、この乱流によりウェーハが振動し、ウ
ェーハにパーティクルが発生するという不具合を防止す
ることができ、導入するガスの置換時間を短縮すること
ができる。
総流量を増加させても、該ガスによる乱流の発生を防止
することができ、この乱流によりウェーハが振動し、ウ
ェーハにパーティクルが発生するという不具合を防止す
ることができ、導入するガスの置換時間を短縮すること
ができる。
【図１】 本発明の一実施形態のウェーハ収納容器を示
す断面図である。
す断面図である。
【図２】 図１のＢ部分の拡大断面図である。
【図３】 本発明の一実施形態のウェーハ収納容器をガ
ス置換器に挿着する方法を示す過程図である。
ス置換器に挿着する方法を示す過程図である。
【図４】 本発明の一実施形態のウェーハ収納容器をガ
ス置換器に挿着した状態を示す拡大断面図である。
ス置換器に挿着した状態を示す拡大断面図である。
【図５】 従来のウェーハ収納容器を示す斜視図であ
る。
る。
【図６】 図５のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
１ ウェーハ保管容器 ２ 容器本体 ２ａ 側面 ３ ウェーハ ４ 開口 ５ 蓋 ６ 溝ティース（保持部） ６ａ 溝部 ７ ガス導入用流路 ８ 空気排出用流路 １１ ウェーハ保管容器 １２ ガス導入用流路 １３ 穴 １４ 空気排出用流路 １５ 中空部 １６ 開口 ２１ ガス置換器 ２２ 不活性ガス導入用配管 ２３ 空気排出用配管 ３１ フィルタ ３２ 逆止弁 ３３ ボール ３４ バネ ａ 空気 ｇ 不活性ガス
Claims (4)
- 【請求項１】 箱状の容器本体に、ウェーハを保持する
ための溝部が複数本形成されるとともに、前記容器本体
に外部よりガスを導入するためのガス導入用流路及び内
部のガスを外部に排出するためのガス排出用流路が形成
されたウェーハ収納容器において、 前記溝部各々に、前記ガス導入用流路および／またはガ
ス排出用流路に連通する穴が形成されていることを特徴
とするウェーハ収納容器。 - 【請求項２】 前記容器本体内に、前記ウェーハを保持
するための溝部が複数本形成された保持部が設けられ、
該保持部内に前記ガス導入用流路および／またはガス排
出用流路が形成されていることを特徴とする請求項１記
載のウェーハ収納容器。 - 【請求項３】 前記ガス導入用流路の開口部にフィルタ
を設けたことを特徴とする請求項１または２記載のウェ
ーハ収納容器。 - 【請求項４】 前記ガス導入用流路及びガス排出用流路
各々の開口部に、該開口部に着脱される配管に連動して
可動する逆止弁が設けられていることを特徴とする請求
項１、２または３記載のウェーハ収納容器。
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