JPH11251411A - 基板検出装置および基板検出方法 - Google Patents

基板検出装置および基板検出方法

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JPH11251411A
JPH11251411A JP4762898A JP4762898A JPH11251411A JP H11251411 A JPH11251411 A JP H11251411A JP 4762898 A JP4762898 A JP 4762898A JP 4762898 A JP4762898 A JP 4762898A JP H11251411 A JPH11251411 A JP H11251411A
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JP
Japan
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cassette
substrate
wafer
mounting table
waveform
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Application number
JP4762898A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Koyama
芳弘 小山
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 ウエハWが収容されたカセットCがカセ
ット載置台1上に載置されると、ウエハ検出器2が、カ
セットCの上方まで一旦移動された後に下方へ移動され
る。この過程でウエハ検出器2から出力される基板検出
信号の波形は、検出波形としてメモリに記憶される。次
に、メモリに予め記憶されている基準波形と新たに記憶
された検出波形とが比較される。そして、基準波形と検
出波形との違いに基づいて、カセットC内の各収容棚S
LにおけるウエハWの有無が判別される。 【効果】リニアエンコーダを用いずに、カセットC内の
各収容棚SLにおけるウエハWの有無を判別することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレ
イパネル)用ガラス基板のような基板を収容したカセッ
ト内の各収容棚における基板の有無を検出するための基
板検出装置および基板検出方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程には、半導体ウエ
ハ(以下、単に「ウエハ」という。)の表面に薄膜を形
成する工程や、ウエハの表面から不要物を除去するため
の洗浄工程などが含まれる。これらの工程は、それぞれ
個別の処理装置によって行われるのが一般的であり、1
つの処理装置から他の処理装置への基板の搬送には、複
数枚のウエハを整列して収容することのできるカセット
が用いられている。これに応じて、各処理装置には、カ
セットを載置するためのカセット載置台と、ウエハに処
理を施すための処理部と、カセット載置台に載置された
カセットからウエハを1枚ずつ取り出して処理部に搬送
したり、処理部から処理済のウエハを受け取ってカセッ
トに収納したりするためのインデクサロボットとが備え
られている。
【0003】カセットは、複数枚のウエハをそれぞれ水
平に保持する複数段の収容棚を有している。インデクサ
ロボットは、カセット内の各収容棚にアクセスできるよ
うに構成されている。具体的に説明すれば、インデクサ
ロボットは、ウエハを保持するためのハンドと、このハ
ンドを昇降させるための昇降機構と、ハンドをカセット
に対して進退させるための進退機構とを有しており、昇
降機構によるハンドの昇降と進退機構によるハンドの進
退との組み合わせによって、カセット内の任意の高さの
収容棚に対してウエハを取出し/収納することができ
る。
【0004】ところで、カセット載置台に載置されるカ
セットは、すべての収容棚にウエハが収容されていると
は限らず、ウエハが収容されていない収容棚を有してい
る場合がある。したがって、カセットからウエハを取り
出す際に、すべての収容棚にインデクサロボットをアク
セスさせるのは効率的ではなく、ウエハが収容されてい
る収容棚のみにインデクサロボットをアクセスさせるの
が好ましい。そこで、従来から、カセット載置台には、
カセット内の各収容棚におけるウエハの有無を検出する
ための機構が備えられている。
【0005】図6は、従来のウエハ検出機構の構成を示
す簡略化された断面図である。カセットCを載置するた
めのカセット載置台91には、カセットCの載置位置に
関連して、ウエハWの有無を検出するためのウエハ検出
センサ92が設けられている。ウエハ検出センサ92
は、たとえば、カセットCを挟んで対向した発光素子と
受光素子との対からなるフォトセンサで構成されてい
る。
【0006】カセット載置台91の下方には、ロッドレ
スシリンダ93が備えられている。ロッドレスシリンダ
93は、ヘッド94が鉛直方向に沿って往復移動するよ
うに配置されている。ヘッド94は、カセット載置台9
1に形成された孔95に挿通された連結棒96によって
ウエハ検出センサ92に連結されている。したがって、
ロッドレスシリンダ93のヘッド94を上下動させるこ
とにより、ウエハ検出センサ92を上下動させることが
できる。
【0007】ロッドレスシリンダ93の側方には、ウエ
ハ検出センサ92によるウエハWの検出タイミングを規
定するためのリニアエンコーダ97が設けられている。
リニアエンコーダ97は、カセットC内のウエハWの間
隔と同じ間隔で切欠きが形成されたスケール98と、こ
のスケール98を挟んで対向した発光素子−受光素子対
からなるフォトセンサ99とを含む。スケール98は、
ロッドレスシリンダ93と平行に設けられており、ウエ
ハ検出センサ92がカセットC内の最上段の収容棚SL
1に収容されたウエハWに対向したときに、フォトセン
サ99がスケール98に形成された最上の切欠き98a
に対向するように位置調整されている。フォトセンサ9
9は、取付部材100によってロッドレスシリンダ93
のヘッド94に取り付けられている。これにより、ヘッ
ド94を上下動させると、ウエハ検出センサ92および
フォトセンサ99が連動して上下動する。
【0008】カセットC内の各収容棚におけるウエハW
の有無を検出する際には、ロッドレスシリンダ93のヘ
ッド94が、最上部に変位された状態から下方へ向けて
移動される。このヘッド94の下方移動の過程で、フォ
トセンサ99がスケール98の切欠きに対向すると、フ
ォトセンサ99からパルスが出力される。スケール98
の切欠きはカセットC内のウエハWの間隔(収容棚の間
隔)と同じ間隔で形成されており、また、スケール98
の取付位置は上記のように調整されているから、フォト
センサ99がスケール98の切欠きに対向した状態で
は、ウエハ検出センサ92がカセットC内のいずれかの
収容棚に対向している。したがって、フォトセンサ99
からパルスが出力される度にウエハ検出センサ92の出
力を調べることにより、カセットC内の各収容棚におけ
るウエハWの有無を検知することができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところが、リニアエン
コーダ97が比較的高価であるために、上記した従来の
構成においては、装置のコストが高くなるといった問題
があった。そのうえ、リニアエンコーダ97を設けるた
めのスペースを確保しなければならず、装置を小型化す
るうえでの妨げとなっていた。
【0010】さらに、スケール98は、ウエハ検出セン
サ92がカセットC内の最上段の収容棚SL1に収容さ
れたウエハWに対向したときに、フォトセンサ99がス
ケール98に形成された最上の切欠き97aに対向する
ように位置調整して取り付けなければならないので、そ
の調整作業に手間がかかっていた。そこで、この発明の
目的は、上述の技術的課題を解決し、リニアエンコーダ
などを用いずにカセット内の各収容棚における基板の有
無を検出することができる基板検出装置および基板検出
方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項1記載の発明は、基板を収
容可能な複数の収容棚を有するカセットを載置するため
のカセット載置台と、このカセット載置台に載置されて
いるカセット内の基板の有無に応じた基板検出信号を出
力する基板検出手段と、この基板検出手段と上記カセッ
ト載置台とを相対的に移動させる移動手段と、基準波形
を記憶する基準波形記憶手段と、上記移動手段によって
上記カセット載置台および上記基板検出手段を相対的に
移動させ、この移動の過程において上記基板検出手段か
ら出力される基板検出信号の波形と上記基準波形記憶手
段に記憶されている基準波形とを比較して、上記カセッ
ト載置台に載置されているカセット内の各収容棚におけ
る基板の有無を判別する判別手段とを含むことを特徴と
する基板検出装置である。
【0012】この構成によれば、予め基準波形記憶手段
に格納されている基準波形と、カセット載置台にカセッ
トを載置した状態でカセット載置台および基板検出手段
を相対的に移動させる際に基板検出手段から出力される
基板検出信号の波形とを比較することにより、カセット
内の各収容棚における基板の有無を検知することができ
る。
【0013】これにより、各収容棚における基板の有無
を検知するために、従来の装置に備えられているリニア
エンコーダなどを必要としないので、その分だけ装置コ
ストを低減することができる。そのうえ、カセット載置
台の下方にリニアエンコーダなどを設けるためのスペー
スを確保する必要がないので、そのスペースに装置の他
の構成部品などを収容することができる。ゆえに、カセ
ット載置台の下方のスペースを有効に利用することがで
きる。
【0014】また、リニアエンコーダを必要としないの
で、リニアエンコーダのスケールの取付位置の調整など
の作業を省略することができ、装置の製造に要する手間
を簡素化することができる。なお、リニアエンコーダを
用いずにカセット内の各収容棚におけるウエハWの有無
を検知する構成としては、たとえば、カセット内の各収
容棚に対応する位置にウエハ検出センサを固定配置して
おくことが考えられる。しかしながら、この構成では、
カセット内の収容棚の数と同数のウエハ検出センサが新
たに必要となるから、装置のコストが却って高くなって
しまう。請求項1記載の構成では、新たなセンサを追加
する必要がないので、このような問題が生じることはな
い。
【0015】上記移動手段は、カセット内の収容棚の積
層方向に沿って上記カセット載置台および上記基板検出
手段を相対的に移動させるものであるのが好ましい。上
記基準波形記憶手段は、具体的には請求項2に記載され
ているように、上記カセット載置台に載置されたカセッ
トの収容棚のすべてに基板が収容されている状態で、上
記移動手段によって上記カセット載置台と上記基板検出
手段とを相対的に移動させ、この移動の過程において上
記基板検出手段から出力される上記基板検出信号の波形
を基準波形として記憶しているものであるのが好まし
い。
【0016】なお、基準波形は予め取得されて基準波形
記憶手段に記憶されていてもよいし、判別手段によって
カセット内の各収容棚における基板の有無を判別する度
に、その判別に先立って基準波形が取得されて基準波形
記憶手段に記憶されてもよい。ただし、後者の場合に
は、上記カセット載置台に載置されたカセットの収容棚
のすべてに基板が収容されている状態で、上記移動手段
によって上記カセット載置台と上記基板検出手段とを相
対的に移動させ、この移動の過程において上記基板検出
手段から出力される上記基板検出信号の波形を基準波形
として上記基準波形記憶手段に記憶させる制御手段をさ
らに含むことが好ましい。
【0017】請求項3記載の発明は、上記移動手段は、
シリンダの駆動力によって上記基板検出手段と上記カセ
ット載置台とを相対的に移動させるものであることを特
徴とする請求項1または2記載の基板検出装置である。
この構成によれば、駆動源としてシリンダが採用されて
いる。たとえば、駆動源としてステッピングモータが採
用された構成では、ステップ数に基づいてカセット載置
台と基板検出手段との相対的な位置関係を検知できるか
ら、基板検出手段がカセット内の各収容棚に対向したタ
イミングで基板検出手段の出力を参照することにより、
各収容棚における基板の有無を検知することができる。
したがって、ステッピングモータが採用された構成で
は、リニアエンコーダなどを元々必要としない。
【0018】しかしながら、駆動源としてシリンダが採
用された構成では、カセット載置台と基板検出手段との
相対的な位置関係を検知できないので、従来からリニア
スケールが必要不可欠であった。したがって、この発明
を駆動源としてシリンダが採用された構成に適用する
と、リニアスケールを省略でき、極めて効果的である。
請求項4記載の発明は、基板を収容可能な複数の収容棚
を有するカセットを載置するためのカセット載置台とこ
のカセット載置台に載置されているカセット内の基板の
有無に応じた基板検出信号を出力する基板検出手段とを
相対的に移動させる移動工程と、この移動工程において
上記基板検出手段から出力される基板検出信号の波形と
基準波形記憶手段に予め記憶されている基準波形とを比
較して、上記カセット載置台に載置されているカセット
内の各収容棚における基板の有無を判別する判別工程と
を含むことを特徴とする基板検出方法である。
【0019】この方法によれば、請求項1の発明と同様
な効果を得ることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、この
発明の一実施形態に係る基板検出装置が備えられた基板
処理装置のレイアウトを簡略化して示す平面図である。
この基板処理装置は、基板としてのウエハWをカセット
Cから1枚ずつ取り出し、このウエハWに対して第1の
薬液処理、第2の薬液処理および水洗・乾燥処理を順に
施すことにより、ウエハWの洗浄を行う枚葉式洗浄装置
である。第1および第2の薬液処理は、たとえば、フッ
酸やアンモニア水などの薬液を用いてウエハWの表面を
洗浄するための処理であり、たとえば、第1の薬液処理
と第2の薬液処理とでは異なる薬液が用いられる。ま
た、水洗・乾燥処理は、薬液処理後のウエハWを純水に
よってリンスし、さらに、高速に回転させて水切り乾燥
を行うための処理である。
【0021】上記の処理を実行するために、この基板処
理装置は、インデクサ部INDと、このインデクサ部I
NDに隣接して設けられた処理部Pとを有している。イ
ンデクサ部INDは、複数枚のウエハWを収容可能なカ
セットCを載置するためのカセット載置台1を有してい
る。カセット載置台1は、複数個(たとえば4個)のカ
セットCを一直線上に並べて載置できるようになってい
る。カセット載置台1には、カセットCの各載置位置に
関連して、カセットC内のウエハWの有無を検知するた
めのウエハ検出器2が設けられている。ウエハ検出器2
は、カセット載置台1の下方に備えられた昇降機構によ
って、必要に応じて昇降されるようになっている。
【0022】インデクサ部INDにはさらに、カセット
載置台1に載置されているカセットCから未処理のウエ
ハWを1枚ずつ取り出したり、処理済みのウエハWを1
枚ずつ収容したりするためのインデクサロボット3とを
有している。インデクサロボット3は、カセット載置台
1におけるカセットCの配列方向に沿う直線搬送路4に
沿って走行することができるように構成されており、カ
セット載置台1上の任意のカセットCにアクセスするこ
とができるようになっている。
【0023】処理部Pは、インデクサ部INDの直線搬
送路4の中間付近において、この直線搬送路4と直交す
る方向に沿って配置された直線搬送路5と、この直線搬
送路5に沿って走行する主搬送ロボットMTRとを備え
ている。直線搬送路5の両側には、第1処理トラック6
と第2処理トラック7とが振り分けられている。第1処
理トラック6および第2処理トラック7は、それぞれ、
上記第1の薬液処理を行う第1薬液処理部MTC1と、
上記第2の薬液処理を行う第2薬液処理部MTC2と、
上記水洗・乾燥処理を行う水洗・乾燥処理部DTCとを
有しており、これらの複数の処理部は、インデクサ部I
NDから遠い側から上記の順序で直線搬送路5に沿って
配列されている。
【0024】第1処理トラック6および第2処理トラッ
ク7の第1薬液処理部MTC1、第2薬液処理部MTC
2および水洗・乾燥処理部DTCに対するウエハWの搬
入および搬出は、主搬送ロボットMTRによって行われ
る。主搬送ロボットMTRは、未処理のウエハWをイン
デクサロボット3から受け取って第1薬液処理部MTC
1に搬入し、第1薬液処理部MTC1での処理が終了し
た後のウエハWを搬出して第2薬液処理部MTC2に搬
入し、この第2薬液処理部MTC2での処理が終了した
後のウエハWを搬出して水洗・乾燥処理部DTCに搬入
し、この水洗・乾燥処理部DTCでの処理が完了したウ
エハWを搬出して、インデクサロボット3に受け渡す。
【0025】図2は、カセット載置台1の平面図であ
り、図3は、図2における切断面線III-III における簡
略化された断面図である。カセット載置部1に載置され
るカセットCは、複数枚のウエハWを上下方向に積層し
た状態で水平に保持することができるように構成されて
いる。具体的には、カセットCの内面には、等間隔で複
数段(たとえば25段)の収容棚SLが上下に積層され
て形成されており、各収容棚に1枚ずつのウエハWを収
容することができるようになっている。カセットCに
は、カセット載置台1に載置された状態でインデクサロ
ボット3に対向する側(図2における右側)の面に、ウ
エハWを出し入れするための開口CFが形成されてい
る。また、カセットCには、開口CFと反対側(図2に
おける左側)の面にも開口CRが形成されている。
【0026】カセットCの載置位置に関連して設けられ
たウエハ検出器2は、一対の発光素子21および受光素
子22を有している。発光素子21および受光素子22
は、平面略コ字形状の保持部材23の先端にそれぞれ取
り付けられており、発光素子21と受光素子22とがカ
セットCを挟んで対向した状態で、発光素子21からの
光がカセットCの開口CF,CRを通って受光素子22
に入力されるように設けられている。ウエハ検出器2
は、たとえば、発光素子21からの光が受光素子22に
入力されている間はハイレベルの基板検出信号を出力
し、ウエハWによって発光素子21から受光素子22に
向かう光路が遮られている間はローレベルの基板検出信
号を出力する。
【0027】なお、発光素子21と受光素子22との高
さは若干異ならせてあり、後述する昇降機構30によっ
てウエハ検出器2を移動させる過程において、発光素子
21から受光素子22に向かう光路がカセットCの各収
容棚SLに保持されたウエハWによって所定の時間より
も長く遮られるようになっている。カセット載置台1の
下方には、図3に示すように、ウエハ検出器2をカセッ
トC内の収容棚SLの積層方向に沿って昇降させるため
の昇降機構30が備えられている。昇降機構30は、ロ
ッドレスシリンダ31と、ロッドレスシリンダ31のヘ
ッド32とウエハ検出器2とを連結する連結部材33と
を含む。
【0028】ロッドレスシリンダ31は、上下方向に延
びたシリンダチューブ34内に、電磁弁(図示せず)を
介して、エア供給源(図示せず)からエアを送り込み、
そのエア圧でシリンダチューブ34内のピストンを移動
させると、このピストンの移動に追従して、ヘッド32
がシリンダチューブ34と平行に設けられたヘッドガイ
ド35,36に沿って摺動するものである。したがっ
て、ヘッド32はシリンダチューブ34の全長の範囲内
で移動するから、ロッドレスシリンダ31を採用するこ
とにより、カセット載置台1の下方のスペースを有効に
利用することができる。しかしながら、このロッドレス
シリンダ31に代えて、上下方向に進退するロッドを有
するシリンダが適用されても構わない。
【0029】連結部材33は、上下方向に延びて設けら
れており、カセット載置台1に形成された孔1aに挿通
されている。連結部材33は、その下端がロッドレスシ
リンダ31のヘッド32にブラケット37を介して接続
されており、上端が保持部材23に取り付けられてい
る。この構成により、シリンダチューブ34内のエア圧
を変化させてヘッド32を上下に摺動させると、ヘッド
32の移動に伴って、連結部材33が上下方向に延びた
ガイドレール38に沿って上下に移動する。その結果、
連結部材33に取り付けられたウエハ検出器2が、カセ
ット載置台1の上方で上下に移動する。
【0030】図4は、カセットC内の各収容棚SLにお
けるウエハWの有無を検出するための電気的な構成を示
すブロック図である。ウエハ検出器2から出力される基
板検出信号は、判別手段および制御手段としてのCPU
40に与えられるようになっている。CPU40には、
たとえばRAM41およびROM42などを含むメモリ
43が接続されており、CPU40に与えられるウエハ
検出器2からの基板検出信号の波形を、メモリ43に格
納することができるようになっている。また、必要に応
じて、メモリ43に格納されている基板検出信号の波形
を読み出すことができるようになっている。CPU40
はさらに、ロッドレスシリンダ31に対してエアを送り
込んだり排出したりするための電磁弁44の開閉動作を
制御して、ロッドレスシリンダ31のヘッド32の移動
を制御する。
【0031】カセットC内の各収容棚SLにおけるウエ
ハWの有無は、CPU40によって、メモリ43に予め
格納されている基準波形と、処理すべきウエハWが収容
されているカセットCがカセット載置台1に載置された
状態でウエハ検出器2を移動させて得られる基板検出信
号の波形とが比較されることによって判別される。ま
ず、基準波形を取得するための処理について説明する。
【0032】基準波形を取得する際には、この基板処理
装置のオペレータが、カセットC内の収容棚SLのすべ
てにウエハWを収容し、そのカセットCをカセット載置
台1上のカセット載置位置に載置する。そして、たとえ
ば図示しない操作パネルを操作して、基準波形の取得を
開始する旨の信号を入力する。この信号の入力に応答し
て、CPU40は、電磁弁44を動作させてロッドレス
シリンダ31のヘッド32を最上方まで移動させて、ウ
エハ検出器2をカセット載置台1に載置されたカセット
Cの上方まで移動させる。ウエハ検出器2がカセットC
の上方まで移動すると、次に、ロッドレスシリンダ31
のヘッド32を下方へと移動させて、ウエハ検出器2を
下方へ移動させる。この過程で、ウエハ検出器2によっ
てカセットCの上面の下端縁が検出されて、ウエハ検出
器2から入力される基板検出信号がローレベルからハイ
レベルに切り換わると、CPU40は、それ以降にウエ
ハ検出器2から入力される基板検出信号の波形を基準波
形としてメモリ43に書き込む。そして、ロッドレスシ
リンダ31のヘッド32が最下方まで移動すると、基板
検出信号波形のメモリ43への書込みを終了する。
【0033】これにより、たとえば図5(a) に示すよう
な基準波形が取得される。図5(a)に示す基準波形は、
カセットC内の収容棚SLが25段に構成されている場
合のもので、この基準波形中には、25個のローレベル
の基板検出信号が存在している。次に、この基板処理装
置による基板処理を開始する際に、カセット載置台1に
載置されたカセットC内の各収容棚SLにおけるウエハ
Wの有無を検出する際の処理について説明する。
【0034】人手またはAGV(Automated Guided Vehi
cle)によって、基板処理装置によって処理すべきウエハ
Wが収容されたカセットCが搬送されてきて、カセット
載置台1上の載置位置に載置されると、CPU40は、
電磁弁44を動作させてロッドレスシリンダ31のヘッ
ド32を最上方まで移動させる。これにより、ウエハ検
出器2が、カセット載置台1に載置されたカセットCの
上方まで移動する。次に、CPU40は、電磁弁44を
動作させてロッドレスシリンダ31のヘッド32を下方
へと移動させて、ウエハ検出器2を下方へ移動させる。
この過程で、ウエハ検出器2は、発光素子21からの光
が受光素子22へ入力されている間はハイレベルの基板
検出信号を出力し、収容棚SL内のウエハWによって発
光素子21から受光素子22への光が遮られると、その
間はローレベルの基板検出信号を出力する。つまり、ウ
エハ検出器2から出力される基板検出信号の波形は、カ
セットC内の各収容棚SLにおけるウエハWの有無に対
応した波形となる。
【0035】CPU40は、ウエハ検出器2によってカ
セットCの上面の下端縁が検出されて、ウエハ検出器2
から入力される基板検出信号がローレベルからハイレベ
ルに切り換わると、その後にウエハ検出器2から入力さ
れる基板検出信号の波形をメモリ43に書き込む。そし
て、ロッドレスシリンダ31のヘッド32が最下方まで
移動すると、基板検出信号波形のメモリ43への書込み
を終了する。これにより、たとえば、カセットCの2段
目の収容棚SL2にウエハWが収容されていない場合に
は、図5(b) に示すような検出波形がメモリ43に格納
されることになる。
【0036】こうして検出波形の取得が完了すると、C
PU40は、メモリ43に格納されている基準波形およ
び検出波形を読み出して、読み出した基準波形と検出波
形とを比較する。そして、基準波形と検出波形との違い
に基づいて、カセットC内の各収容棚SLにおけるウエ
ハWの有無を判別する。具体的には、基準波形と検出波
形の読出しを同時に開始して、その後、基準波形のロー
レベル信号が読み出されるタイミングで検出波形の状態
を調べることにより、各収容棚SLにおけるウエハWの
有無を判別する。
【0037】たとえば、図5(a) に示す基準波形と図5
(b) に示す検出波形とを読み出した場合、基準波形の1
つ目のローレベル信号が読み出されるタイミングで検出
波形はローレベルであるから、カセットCの1段目の収
容棚SL1には、ウエハWが収容されていると判別する
ことができる。また、基準波形の2つ目のローレベル信
号が読み出されるタイミングで検出波形はハイレベルで
あるから、カセットCの2段目の収容棚SL2には、ウ
エハWが収容されていないと判別することができる。こ
うして、基準波形に含まれるすべてのローレベル信号に
ついて検出波形の状態を調べることにより、カセットC
内の収容棚SLの全段におけるウエハWの有無を判別す
ることができる。
【0038】なお、上記したように、発光素子21と受
光素子22との高さを若干異ならせることにより、発光
素子21から受光素子22に向かう光路がカセットCの
各収容棚SLに保持されたウエハWによって所定の時間
よりも長く遮られるようになっているから、所定時間よ
りも短いパルス幅のローレベル信号はノイズであると判
別することにより、ウエハWの有無を検出する精度を高
めることができる。
【0039】以上のようにこの実施形態によれば、予め
メモリ43に格納されている基準波形と、基板処理装置
によって処理すべきウエハWが収容されたカセットCを
カセット載置台に載置して、ウエハ検出センサ2を移動
させて得られる検出波形とを比較することにより、カセ
ットC内の各収容棚SLにおけるウエハWの有無を検知
することができる。これにより、カセットCからウエハ
Wを取り出す際に、インデクサロボット2をウエハWが
収容されている収容棚SLのみにアクセスさせることが
できる。ゆえに、インデクサロボット2が無駄な動作を
行うのを回避することができる。
【0040】また、各収容棚SLにおけるウエハWの有
無を検知するために、従来の装置に備えられているリニ
アエンコーダを必要としないので、このリニアエンコー
ダの分だけ装置コストを低減することができる。そのう
え、カセット載置台1の下方にリニアエンコーダのため
のスペースを設ける必要がないので、その分のスペース
に装置の他の構成部品を収容するなど、カセット載置台
1の下方のスペースを有効に利用することができる。
【0041】さらに、リニアエンコーダを備えた従来の
装置においては、スケールの取付位置の調整に手間を要
していたが、この実施形態によれば、リニアエンコーダ
を必要としないので、装置の製造に要する手間を簡素化
することができる。なお、上述の実施形態においては、
基準波形および検出波形の両方がメモリ43に格納され
るとしているが、検出波形のメモリ43への格納は必須
ではない。たとえば、基準波形を取得したときのロッド
レスシリンダ31のヘッド32の移動速度の変化と、検
出波形を取得したときのロッドレスシリンダ31のヘッ
ド32の移動速度の変化とが同じであれば、検出波形の
取得に同期してメモリ43に格納されている基準波形を
読み出し、検出波形と基準波形とを比較することによ
り、カセットC内の各収容棚SLにおけるウエハWの有
無を判別してもよい。この場合、検出波形のメモリ43
への格納/読出しに要する時間が短縮されるので、カセ
ットC内の各収容棚SLにおけるウエハWの有無を判別
するのに要する時間を短縮することができる。
【0042】また、基準波形の取得時と検出波形の取得
時とで、たとえばロッドレスシリンダ31に供給される
エア圧の変化などが原因で、ロッドレスシリンダ31の
ヘッド32の移動速度が異なる場合がある。この場合、
基準波形と検出波形とを単に比較しても、カセットC内
の各収容棚SLにおけるウエハWの有無を正確に検知す
ることができない。そこで、このような場合には、基準
波形の長さ(図5(a)に示すLa)と検出波形の長さ
(図5(b) に示すLb)とが一致するように、基準波形
または検出波形を拡大/縮小したうえで両者を比較すれ
ばよい。
【0043】この発明の一実施形態の説明は以上である
が、この発明は、上記した一実施形態に限定されるもの
ではない。たとえば、上述の実施形態においては、ウエ
ハ検出センサ2を移動させるための駆動源としてシリン
ダ(ロッドレスシリンダ31)が用いられている構成に
ついて説明したが、たとえばモータなどが駆動源として
用いられて、適当な変換機構によってモータの回転が直
動に変換されてウエハ検出センサ2に伝達される構成で
あってもよい。
【0044】また、上記の実施形態においては、カセッ
ト載置台1が固定されており、ウエハ検出センサ2を昇
降させることによって、カセット載置台1とウエハ検出
センサ2とをカセットC内の収容棚SLの積層方向に沿
って相対的に移動させる構成について説明したが、ウエ
ハ検出センサ2が固定されて、カセット載置台1を昇降
させることによって、カセット載置台1とウエハ検出セ
ンサ2とがカセットC内の収容棚SLの積層方向に沿っ
て相対的に移動される構成であってもよい。
【0045】さらに、上記の実施形態では、カセット内
に収容される基板の例としてウエハを例にとったが、カ
セット内に収容される基板はウエハに限らず、液晶表示
装置用ガラス基板やPDP用ガラス基板などの他の種類
のものであってもよい。その他、特許請求の範囲に記載
された技術的事項の範囲内で、種々の設計変更を施すこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態に係る基板検出装置が備
えられた基板処理装置のレイアウトを簡略化して示す平
面図である。
【図2】カセット載置台の平面図である。
【図3】図2における切断面線III-III における簡略化
された断面図である。
【図4】カセット内の各収容棚におけるウエハの有無を
検出するための電気的な構成を示すブロック図である。
【図5】(a) 基準波形および(b) 検出波形の一例を示す
図である。
【図6】従来のウエハ検出機構の構成を示す簡略化され
た断面図である。
【符号の説明】
1 カセット載置台 2 ウエハ検出器(基板検出手段) 31 ロッドレスシリンダ 40 CPU(判別手段,制御手段) 43 メモリ(基準波形記憶手段) C カセット W ウエハ SL 収容棚

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板を収容可能な複数の収容棚を有するカ
    セットを載置するためのカセット載置台と、 このカセット載置台に載置されているカセット内の基板
    の有無に応じた基板検出信号を出力する基板検出手段
    と、 この基板検出手段と上記カセット載置台とを相対的に移
    動させる移動手段と、基準波形を記憶する基準波形記憶
    手段と、 上記移動手段によって上記カセット載置台および上記基
    板検出手段を相対的に移動させ、この移動の過程におい
    て上記基板検出手段から出力される基板検出信号の波形
    と上記基準波形記憶手段に記憶されている基準波形とを
    比較して、上記カセット載置台に載置されているカセッ
    ト内の各収容棚における基板の有無を判別する判別手段
    とを含むことを特徴とする基板検出装置。
  2. 【請求項2】上記基準波形記憶手段は、上記カセット載
    置台に載置されたカセットの収容棚のすべてに基板が収
    容されている状態で、上記移動手段によって上記カセッ
    ト載置台と上記基板検出手段とを相対的に移動させ、こ
    の移動の過程において上記基板検出手段から出力される
    上記基板検出信号の波形を基準波形として記憶している
    ものであることを特徴とする請求項1記載の基板検出装
    置。
  3. 【請求項3】上記移動手段は、シリンダの駆動力によっ
    て上記基板検出手段と上記カセット載置台とを相対的に
    移動させるものであることを特徴とする請求項1または
    2記載の基板検出装置。
  4. 【請求項4】基板を収容可能な複数の収容棚を有するカ
    セットを載置するためのカセット載置台とこのカセット
    載置台に載置されているカセット内の基板の有無に応じ
    た基板検出信号を出力する基板検出手段とを相対的に移
    動させる移動工程と、 この移動工程において上記基板検出手段から出力される
    基板検出信号の波形と基準波形記憶手段に予め記憶され
    ている基準波形とを比較して、上記カセット載置台に載
    置されているカセット内の各収容棚における基板の有無
    を判別する判別工程とを含むことを特徴とする基板検出
    方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6984839B2 (en) 2002-11-22 2006-01-10 Tdk Corporation Wafer processing apparatus capable of mapping wafers
KR101076429B1 (ko) * 2004-06-30 2011-10-25 엘지디스플레이 주식회사 접철식 맵핑 유니트

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US6984839B2 (en) 2002-11-22 2006-01-10 Tdk Corporation Wafer processing apparatus capable of mapping wafers
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