JPH11244765A - 回転式塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 余剰塗布液の乾燥固化により塵埃が発生し、
基板の歩留まりが低下する。 【解決手段】 回転台６上の基板に向けて塗布液を吐出
した後に、基板を回転台６上の空間Ｓ内に収容した状態
で回転台６とともに回転して塗布処理を行う回転式塗布
装置において、基板から飛散する余剰の塗布液を回転台
６の周囲の開口２０ｃから排出する。このとき、トラッ
プ洗浄ノズル５２から洗浄液を開口２０ｃに向けて吐出
し、開口２０ｃ近傍に残留する余剰塗布液を溶解除去す
る。これにより、余剰塗布液の乾燥固化による塵埃の発
生を低減することができ、基板への塵埃の付着による歩
留まりの低下を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば液晶表示パネ
ル用のガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造用のマス
ク基板などの基板（以下、単に「基板」という）の表面
に、例えばフォトレジスト液などの塗布液を塗布するた
めの回転式塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、この種の回転式塗布装置とし
ては、例えば特開平４−６１９５５号公報に記載された
ものがある。図４は、その公報に記載された回転式塗布
装置を示す断面図である。図５は、図４の回転式塗布装
置の部分拡大図である。この回転式塗布装置では、基板
６０を水平に支持しつつ回転させる回転台６２が設けら
れている。この回転台６２には、基板支持ピン６４が立
設されるとともに、基板６０の四隅に係合する係合ピン
６６が設けられており、基板支持ピン６４で基板６０を
水平支持した状態で基板６０を回転台６２と一体に回転
することができるようになっている。

【０００３】また、回転台６２に支持された基板６０の
上方位置に上部回転板６８が配置され、さらに上部支持
板７０，リングプレート７２及びスペーサ７４を介して
回転台６２と連結されている。そして、図５に示すよう
に、リングプレート７２とスペーサ７４との間及びスペ
ーサ７４と回転台６２との間に、座金７６が介挿され
て、隙間７８が形成されている。そして、回転台６２上
に基板６０を載置し、さらにその基板６０の上面中央部
に塗布液を滴下した後、上部回転板６８を降下させて基
板６０上面と近接した状態とし、その基板６０を搭載し
た状態のままで回転台６２を回転させることによって塗
布液を拡張離散させて、均一な薄膜を基板６０の上面に
形成することができる。

【０００４】このとき、基板６０を水平支持した状態で
回転台６２を回転させると、同図の点線に示すごとく、
この隙間７８を介して余剰の塗布液が外部に流出されて
飛散する。

【０００５】なお、図４の回転式塗布装置では、回転台
６２の周囲を囲う廃液回収ケース８０を設け、上記のよ
うにして隙間７８から飛散した塗布液が廃液回収ケース
８０にて回収されるように構成されている。この廃液回
収ケース８０の底部には、回収された塗布液を外部へ排
出するための廃液排出口が開口している。また、廃液回
収ケース８０が囲む空間には排気口が連通しており、装
置内部の空気がこの排気口を通じて外部へ排気される。
その結果、塗布液から蒸発した溶剤ガスや塗布液ミスト
が装置の内部に長期間漂うことなく外部へ排気されるの
で、これらのミスト等が装置の各部に付着して乾燥固化
した後、塵埃となって基板６０を汚染することを抑制す
ることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置では以下のような問題点があった。まず、従来の装
置では、上記のように、基板を回転させつつ塗布液を塗
布する過程で、余剰の塗布液が隙間７８を介して回転台
６２から流出し、廃液回収ケース８０にて回収される。
このとき、隙間７８からの余剰塗布液は飛沫となって飛
散し、廃液回収ケース８０の内面に付着するなどして周
囲を汚染してしまう。この余剰塗布液は、乾燥固化した
後、装置の振動等によって細かな塵埃となって回転台６
２の周囲に漂い、基板６０に付着し汚染する結果、基板
６０の歩留まりを低下させるという問題点があった。

【０００７】また、廃液回収ケースに連通する排気口か
ら内部の空気とともに溶剤ガスや塗布液ミストが装置の
外部へ排気される過程で、空気の流れによってはこれら
のミストなどが回転台６２の下面に付着するという問題
点があった。付着したミストなどは乾燥固化した後に塵
埃となって、基板６０に付着し基板６０を汚染するもう
１つの要因となっていた。

【０００８】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたもので、余剰塗布液が飛沫となって外部に飛散
し、周囲を汚染するのを防止、低減することができると
ともに、回転台の下面の汚染を有効に防止し得る回転式
塗布装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を回転させつつ当該基板の表面に塗布液を塗布する回転
式塗布装置であって、上方を覆う部材と一体となって前
記基板を収容する空間を形成するとともに当該空間内で
前記基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、前
記回転台の少なくとも外周側方および外周下方を取り囲
むように配置され、前記塗布液の外部への飛散を防止す
るカップと、前記カップ内に連通する排気口を有し、当
該排気口を通じて前記カップ内の空気を排気する排気手
段と、前記基板を収容する空間と連通し、前記回転台が
回転することにより前記基板から飛散する余剰塗布液を
当該空間から排出する開口と、前記開口に向けて洗浄液
を吐出する開口洗浄ノズルとを備える。

【００１０】請求項２の発明は、請求項１に記載の回転
式塗布装置であって、前記回転台の下面に向けて洗浄液
を吐出する回転台下面洗浄ノズルをさらに備える。

【００１１】

【作用】＜請求項１記載の発明の作用＞この発明の回転
式塗布装置では、回転台が回転することにより基板上か
ら飛散させられる余剰塗布液を、基板を収容する空間か
ら開口を介して排出し、この開口に向けて開口洗浄ノズ
ルから洗浄液が吐出される。これにより、開口近傍に残
留する塗布液が溶解除去される。

【００１２】＜請求項２記載の発明の作用＞この発明の
回転式塗布装置では、請求項１記載の発明の作用に加
え、カップ内に連通する排気口を通じて排気される空気
の流れによって回転台の下面に付着した塗布液のミスト
などの汚染物質が、回転台下面洗浄ノズルから吐出され
る洗浄液により溶解除去される。

【００１３】

【実施例】＜１．装置の全体構成＞図１は、この発明に
かかる回転式塗布装置の一実施例を示す断面図である。
この回転式塗布装置では、例えば角形の基板２を搭載で
き、しかも回転軸４回りに回転自在な回転台６が設けら
れている。すなわち、回転軸４に沿って回転シャフト８
が垂設されており、その上端に連結ボス１０を介して回
転台６が水平に取り付けられる一方、その下端に図示を
省略するモータが連結されている。また、この回転台６
の上面側に基板支持用のピン１４が複数本突設されて基
板２裏面を支持するとともに、回転台６に立設された４
組の係合ピン１６が基板２の四隅と係合されて基板２を
水平固定する。このように、回転台６では、基板２を水
平に支持しながら回転軸４回りに水平回転させることが
できるようになっている。

【００１４】また、回転台６の上方側では、上部回転板
１８が回転台６に支持された基板２と所定間隔を隔てた
上方位置に平行配置されている。なお、この上部回転板
１８は、図１に示すように、図示しない昇降手段により
上下方向に移動自在であり、下降時には後述するスペー
サ２０と嵌合して、回転台６，スペーサ２０と一体化し
た状態で回転軸４回りに回転するようになっている。

【００１５】図２は、図１の回転式塗布装置の部分拡大
図である。同図に示すように、回転台６の上面の外周部
に環状のスペーサ２０が配置されている。そして、スペ
ーサ２０は回転台６と図示を省略する連結部材によって
連結して取り付けられ、回転台６とスペーサ２０との間
に余剰の塗布液を外部に流出するための流出経路４８が
形成されている。一方、上部回転板１８はピンＰのはめ
合いによってスペーサ２０に対して着脱自在となってお
り、上部回転板１８が下降してスペーサ２０に装着され
ると、これら回転台６，上部回転板１８及びスペーサ２
０とで基板２への塗布処理を行うほぼ密閉された空間Ｓ
が形成される。

【００１６】このスペーサ２０には、その上面外周側か
ら外側面にかけて円錐台形状になしたテーパ部２０ａが
形成されるとともに、外周側下部であって、流出経路４
８の外周側開口部と対向する位置に断面形状が台形のト
ラップ部２０ｂがリング状に設けられている。このトラ
ップ部２０ｂは流出経路４８を介して閉空間Ｓと連通さ
れており、図２に示すように、回転台６が高速回転し、
遠心力Ｆが付加されると、基板２からの余剰塗布液が流
出経路４８を介してトラップ部２０ｂに流入するととも
に、そのトラップ部２０ｂで貯留されるようになってい
る。また、トラップ部２０ｂの下側には、回転台６の半
径方向内側に向かって低くなる傾斜面２０ｄが形成さ
れ、傾斜面２０ｄの下端と回転台６の外周端との間に
は、開口２０ｃが設けられている。そのため、回転台６
の回転数が落ちて、遠心力Ｆが一定未満になる、あるい
はゼロになったとき、トラップ部２０ｂに貯留されてい
た塗布液が、その開口２０ｃから下方に流出する。

【００１７】また、回転台６のまわりには、環状のカッ
プ２２が配置されている。このカップ２２は、図１に示
すように、回転台６の外周下方位置に配置された内カッ
プ２４と、回転台６の外周に配置された外カップ２６と
で構成されている。なお、カップ２２の底部には、廃液
を排出するための廃液排出口２８が設けられている。

【００１８】また、内カップ２４と外カップ２６で囲ま
れる空間は、環状の排気経路４５を介して排気口３０と
連通している。この排気口３０を通じて装置の内部の空
気が外部へ排気される。それにともなって、塗布液から
蒸発した溶剤ガスや塗布液ミストが排気除去される。

【００１９】＜２．４種の洗浄機構の構成と動作＞ま
た、この回転式塗布装置では、基板２の裏面を洗浄する
ための裏面洗浄機構、カップ２２の内面を洗浄するため
のカップ洗浄機構、トラップ部２０ｂを洗浄するトラッ
プ洗浄機構、および回転台６の下面を洗浄する回転台下
面洗浄機構が設けられている。

【００２０】裏面洗浄機構（図１）では、その吐出口が
基板２の裏面と対向するようにして、裏面洗浄用ノズル
３２が回転台６の上面に取り付けられるとともに、連結
管３４を介して回転シャフト８の中心部に挿通して非回
転状態に設置された洗浄液供給管３６と接続されてい
る。洗浄液供給管３６は、図外で回転シャフト８の外へ
導かれ、開閉バルブ４９を介して洗浄液供給源４８に接
続される。そして、その開閉バルブ４９を開放すれば、
洗浄液供給管３６及び連結管３４を介して供給された洗
浄液が裏面洗浄用ノズル３２から基板２の裏面に噴出さ
れて、基板２の裏面が洗浄される。

【００２１】一方、カップ洗浄機構（図１）は、内カッ
プ２４を洗浄するための内カップ洗浄機構と、主として
外カップ２６を洗浄するための外カップ洗浄機構とで構
成されている。

【００２２】内カップ洗浄機構では、回転台６の外周下
方部に内カップ洗浄用ノズル３８が取り付けられてい
る。この内カップ洗浄用ノズル３８は内カップ２４の内
面に対向配置されており、回転台６の下面に配設された
連結管４０を介して洗浄液供給管３６に接続されてい
る。そして、上述の開閉バルブ４９の開放により、裏面
洗浄用ノズル３２からの洗浄液の吐出と同期して、内カ
ップ洗浄用ノズル３８からも洗浄液が内カップ２４の内
面に向けて吐出されるようになっている。このように内
カップ洗浄用ノズル３８からの洗浄液を内カップ２４に
吹き付けることによって、内カップ２４が洗浄される。

【００２３】また、外カップ洗浄機構では、同図に示す
ように、その吐出口がスペーサ２０のテーパ部２０ａに
対向するようにして、外カップ洗浄用ノズル４２が外カ
ップ２６に取り付けられている。また、この外カップ洗
浄用ノズル４２は、連結管４４を介して、裏面洗浄用ノ
ズル３２・内カップ洗浄用ノズル３８と同様に上述の開
閉バルブ４９、洗浄液供給源４８に接続されている。そ
して、上述の開閉バルブ４９の開放により、裏面洗浄用
ノズル３２・内カップ洗浄用ノズル３８からの洗浄液の
吐出と同期して、外カップ洗浄用ノズル４２にも洗浄液
が供給され、テーパ部２０ａに吐出される。こうしてテ
ーパ部２０ａに吐出された洗浄液はそのテーパ部２０ａ
ではね返されたり、回転台６の遠心力を受けて、適宜テ
ーパ部２０ａから外周部に向けて飛散され、外カップ２
６が洗浄される。

【００２４】つぎに、トラップ洗浄機構（図１、図２）
では、吐出口がスペーサ２０に形成された開口２０ｃへ
向かって洗浄液を吐出するトラップ洗浄ノズル５２が、
内カップ２４に取り付けられている。このトラップ洗浄
ノズル５２には連結管５１が接続されている。さらに、
この連結管５１は、裏面洗浄用ノズル３２等が接続され
る上述の開閉バルブ４９とは別系統の開閉バルブ５０を
介して、洗浄液供給源４８に接続されている。そして、
この開閉バルブ５０の開放により、洗浄液がトラップ洗
浄ノズル５２に供給され、さらに開口２０ｃへ向かって
吐出される。トラップ洗浄ノズル５２からの洗浄液の吐
出は、回転台６を回転しつつ行われる。こうして吐出さ
れた洗浄液はトラップ部２０ｂへ侵入し、このトラップ
部２０ｂの内部を回転台６の全周にわたって洗浄する。
すなわち、トラップ部２０ｂへ残留する塗布液を洗浄液
の作用によって溶解し、開口２０ｃから下方へ流出させ
る。これにより、トラップの機能が常に正常に維持され
る。

【００２５】回転台下面洗浄機構（図１、図２）では、
吐出口が回転台６の下面へ向かって洗浄液を吐出する２
種類の回転台下面洗浄ノズル５４ａおよび５４ｂが、内
カップ２４と連結ボス１０とに連結し回転台６の下面に
対向して設置される底板３１および内カップ２４にそれ
ぞれ取り付けられている。これらの中で、回転台下面洗
浄ノズル５４ａは回転台６の下面の中央部付近に洗浄液
を吐出する。一方、回転台下面洗浄ノズル５４ｂは、回
転台６の下面の外周近傍、すなわち内カップ洗浄用ノズ
ル３８の付近に向かって洗浄液を吐出する。

【００２６】これらの回転台下面洗浄ノズル５４ａ、５
４ｂは、連結管５３ａ、５３ｂにそれぞれ接続されてい
る。さらに、これらの連結管５３ａ、５３ｂは、いずれ
も開閉バルブ５０を介して、洗浄液供給源４８に接続さ
れている。そして、この開閉バルブ５０の開放により、
洗浄液が回転台下面洗浄ノズル５４ａ、５４ｂに供給さ
れ、さらに回転台６の下面へ向かって吐出される。な
お、本実施例においては２つの回転台下面洗浄ノズル５
４ａ、５４ｂが設けられているが、これは回転台６の外
径が大きいためであり、回転台の外径が比較的小さい場
合には１つの回転台下面洗浄ノズルを設けるだけでもよ
い。

【００２７】これらの回転台下面洗浄ノズル５４ａ、５
４ｂによる回転台６の下面への洗浄液の供給は、回転台
６を回転させつつ行われる。このため、回転台下面洗浄
ノズル５４ａによって回転台６の下面の中央部付近に供
給された洗浄液は、回転台６の回転にともなって、回転
台６の下面に沿ってその周辺部へと広がる。このため、
回転台６の下面全体が、中央部分から周辺へと流れる洗
浄液によって洗われる。このため、回転台６の下面への
付着した塗布液ミストなどの汚染物が洗浄除去される。
回転台６の下面に付着した汚染物は、排気口３０へと排
気される空気の流れによって２次的に形成され回転台６
の下面へ流れ込む空気の流れに沿って、溶剤ガスや塗布
液ミストが回転台６の下面へ舞い込むことによって形成
される。

【００２８】排気される空気の流れによって塗布液ミス
トなどが特に多く付着するのは、回転台６の下面の中の
外周近傍、すなわち内カップ洗浄用ノズル３８の近傍に
おいてである。このため、回転台下面洗浄ノズル５４ｂ
によって供給される洗浄液は、もっとも汚染され易いカ
ップ洗浄用ノズル３８の近傍を、特に洗浄する役割を担
っている。

【００２９】図３は装置の部分平面図であり、トラップ
洗浄ノズル５２、回転台下面洗浄ノズル５４ａ、５４ｂ
の配置を示している。これらのトラップ洗浄ノズル５
２、回転台下面洗浄ノズル５４ａ、および回転台下面洗
浄ノズル５４ｂは、いずれも１対ずつ設けられており、
しかもそれぞれの対を構成する２本のノズルは回転台６
の回転中心を挟んで互いに反対側に設置されている。こ
のため、各ノズルから供給される洗浄液が、回転台６の
下面に全周にわたって広がるので、回転台６の下面を効
率よく洗浄することが可能である。なお、同一種類のノ
ズルは本数が多いほど回転台６の下面の洗浄をより効率
よく行い得る。このときにも、同一種類のノズルは回転
台６の円周に沿って等間隔で配置されるのが好ましい。

【００３０】＜３．装置全体の動作＞次に、上記のよう
に構成された回転式塗布装置の動作について説明する。
まず、図１の１点鎖線に示すように、上部回転板１８を
持ち上げて、中央開口を大きく開放し、基板２を基板支
持用ピン１４上に水平に搭載して、回転台６への基板セ
ットを完了する。

【００３１】それに続いて、塗布液供給用ノズル４６
を、図１の１点鎖線に示すように、中央開口の中央に移
動させるとともに、基板２上の適当な高さまで下降させ
る。そして、所定量の塗布液を基板２の上面中央部に滴
下する。こうして、基板２への塗布液の供給が行われ
る。

【００３２】その後、塗布液供給用ノズル４６を適当な
場所に退避させた上で、上部回転板１８をスペーサ２０
に装着固定して、回転塗布の準備を完了する。そして、
図示を省略するモータを駆動して、基板２を水平支持し
た状態のままで、回転台６，スペーサ２０及び上部回転
板１８を一体的に高速回転させる（回転数Ｎ＝Ｎ3 ）。
この回転によって、基板２上の塗布液が外方に拡散して
基板２上面に薄く塗布される。このとき、図２の点線に
示すように、遠心力Ｆにより塗布液の一部が余剰塗布液
として回転台６とスペーサ２０の隙間、つまり流出経路
４８を通過してトラップ部２０ｂに貯留される。このよ
うに、回転塗布処理中において、余剰塗布液がカップ２
２内など回転台６周囲に飛散することがなく、カップ２
２が飛散した余剰塗布液によって著しく汚染されてしま
うことがない。

【００３３】また、基板２への回転塗布が完了すると、
回転台６の回転を一旦停止させる。これにより、塗布液
にかかる遠心力Ｆはゼロとなり、トラップ部２０ｂに貯
留されている塗布液は開口２０ｃからほぼ垂直に流出す
る。このように、回転台６が停止した状態で余剰塗布液
が外部に流出されるので、塗布液の排出時においても、
余剰塗布液がカップ２２内など回転台６の周囲に飛散す
ることがなくなり、カップ２２が飛散した余剰塗布液に
よって著しく汚染されてしまうことがない。なお、ここ
では、回転台６の回転数をゼロにしているが、このこと
が必須要件となるものではなく、一定回転数まで許容す
ることができる。つまり、回転台６の回転数を一定回転
数まで落とすと、遠心力Ｆが弱くなり、トラップ部２０
ｂ中の塗布液が開口２０ｃからほぼ垂直方向に流出する
ようになり、上記と同様の効果が得られる。

【００３４】次に、回転台６の回転数Ｎが回転数Ｎ1
（＜Ｎ3 ）に調整され、一定時間の間、各洗浄用ノズル
３２，３８，４２に塗布液を溶解する洗浄液が供給され
て、洗浄工程が行われる。すなわち、裏面洗浄用ノズル
３２から吹き出された洗浄液によって基板２の裏面が洗
浄され、内カップ洗浄用ノズル３８からの洗浄液によっ
て内カップ２４の内周面が洗浄され、また同時に、外カ
ップ洗浄用ノズル４２から吐出される洗浄液によって外
カップ２６の内周面が洗浄される。このとき、基板２の
裏面を洗浄した洗浄液も、前述の余剰塗布液と同様に、
一旦トラップ部２０ｂに貯留される。

【００３５】次に、回転台６の回転数Ｎを回転数Ｎ2
（＜Ｎ3 ，＞Ｎ1 ）まで上昇させて、回転台６に付着し
た洗浄液を遠心力でカップ２２側に飛散させ、取り除
く。その後、回転台６の回転を停止させてトラップ部２
０ｂに貯留された洗浄液が排出されるとともに、上部回
転板１８を上方向に移動させた後（図１の１点鎖線）、
塗布処理を完了した基板２を回転台６から取りだす。

【００３６】こうして、一連の作業を終了するが、連続
して処理を行う場合には、上記作業サイクルを繰返して
行う。

【００３７】１枚ないし一定数量の基板２の処理が終了
する毎に、あるいは一連の基板２の処理が終了する毎
に、トラップ部２０ｂおよび回転台６の下面の洗浄が行
われる。すなわち、基板２が装置から除去された状態
で、回転台６を回転数Ｎ1 をもって回転させつつ、開閉
バルブ５０を開放することにより、洗浄液をトラップ洗
浄ノズル５２と回転台下面洗浄ノズル５４ａ、５４ｂへ
と供給する。その結果、トラップ洗浄ノズル５２へ供給
された洗浄液は、トラップ部２０ｂの全周にわたって侵
入し、トラップ部２０ｂに残留する塗布液を溶解する。
また、回転台下面洗浄ノズル５４ａ、５４ｂへ供給され
た洗浄液は、回転台６の下面の全体にわたって広がるこ
とにより、回転台６の下面に付着した汚染物を溶解除去
する。

【００３８】次に、回転台６の回転数Ｎを回転数Ｎ2 ま
で上昇させて、回転台６の下面に付着した洗浄液を遠心
力でカップ２２側に飛散させ、取り除く。その後、回転
台６の回転を停止させてトラップ部２０ｂに貯留された
洗浄液を、溶解した汚染物とともに開口２０ｃから下方
へ排出させる。

【００３９】なお、この実施例の装置は半密閉型の装置
であり、上部回転板１８を備え、基板２の上方をこの上
部回転板１８で覆うことにより、ほぼ密閉された空間Ｓ
の中で基板２への塗布液の塗布を実行する。しかしなが
ら、回転台下面洗浄ノズル５４ａ、５４ｂなどの回転台
下面洗浄機構は、上部回転板１８およびスペーサ２０を
備えない上部開放型の装置もしくは上部回転板１８およ
びスペーサ２０によって完全に密閉された回転空間を形
成する密閉型の装置に対しても設置することが可能であ
る。このときにも上述の実施例の装置と同様に、回転台
の下面に付着するミスト等の汚染物を溶解除去するとい
う効果を奏する。

【００４０】なお、上記実施例では、回転台６に該回転
台６とは別部材からなるスペーサ２０を取り付けるよう
に構成していたが、本発明において回転台とスペーサと
を別部材によって構成する必要はなく、スペーサを回転
台と一体的に形成し、そのようなスペーサにトラップ部
を設けたものであってもよい。

【００４１】

【発明の効果】＜請求項１記載の発明の効果＞この発明
の回転式塗布装置では、開口洗浄ノズルからの洗浄液に
より開口近傍に残留した塗布液を溶解除去することがで
き、塵埃の発生を防止して基板の歩留まりを向上するこ
とができる。

【００４２】＜請求項２記載の発明の効果＞この発明の
回転式塗布装置では、回転台の下面に付着した塗布液の
ミストなどの汚染物質が、回転台下面洗浄ノズルから吐
出される洗浄液の働きによって洗浄除去される。このた
め、この汚染物質が乾燥固化した後に塵埃となって基板
に付着することを未然に防止することができるので、基
板の歩留まりを向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明にかかる回転式塗布装置の一実施例を
示す断面図である。

【図２】図１の回転式塗布装置の部分拡大図である。

【図３】図１の回転式塗布装置の部分平面図である。

【図４】従来の回転式塗布装置を示す断面図である。

【図５】図４の回転式塗布装置の部分拡大図である。

【符号の説明】

２ 基板 ６ 回転台 １８ 上部回転板 ２０ スペーサ ２０ｃ 開口 ２２ カップ ３０ 排気口 ５２ トラップ洗浄ノズル ５４ａ、５４ｂ 回転台下面洗浄ノズル Ｓ 空間

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を回転させつつ当該基板の表面に塗
   布液を塗布する回転式塗布装置であって、 上方を覆う部材と一体となって前記基板を収容する空間
   を形成するとともに当該空間内で前記基板を水平支持し
   た状態で回転させる回転台と、 前記回転台の少なくとも外周側方および外周下方を取り
   囲むように配置され、前記塗布液の外部への飛散を防止
   するカップと、 前記カップ内に連通する排気口を有し、当該排気口を通
   じて前記カップ内の空気を排気する排気手段と、 前記基板を収容する空間と連通し、前記回転台が回転す
   ることにより前記基板から飛散する余剰塗布液を当該空
   間から排出する開口と、 前記開口に向けて洗浄液を吐出する開口洗浄ノズルと、
   を備える回転式塗布装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の回転式塗布装置であっ
   て、 前記回転台の下面に向けて洗浄液を吐出する回転台下面
   洗浄ノズル、をさらに備える回転式塗布装置。