JPH11235728A - セルローストリアセテートフィルムの製造方法 - Google Patents
セルローストリアセテートフィルムの製造方法Info
- Publication number
- JPH11235728A JPH11235728A JP4044198A JP4044198A JPH11235728A JP H11235728 A JPH11235728 A JP H11235728A JP 4044198 A JP4044198 A JP 4044198A JP 4044198 A JP4044198 A JP 4044198A JP H11235728 A JPH11235728 A JP H11235728A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- web
- drying
- cellulose triacetate
- roll
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 平面矯正装置のような設備を工程中に新たに
設置すると、コストアップになり、高温で処理すること
によりウエブの幅手方向の収縮が大きくなり、更には生
産のロット間のばらつきがあったりして、安定的な生産
がむずかしかった。また低温処理により平面性を矯正す
る方法では高速度で生産する場合平面性の改善が出来
ず、生産性を上げられないという問題があった。 【解決手段】 溶液流延製膜法によりセルローストリア
セテートフィルムを作製するにあたり、支持体からウエ
ブを剥離後、乾燥搬送工程での任意の位置でのウエブの
幅長をＡとし、その位置から残留溶媒率を１０％低減さ
せた位置での幅長をＢとし、それらの位置の間での収縮
率ＳａをＳａ＝｛（Ａ−Ｂ）／Ａ｝×１００とした時、
Ｓａ≦５．０として乾燥搬送させることを特徴とするセ
ルローストリアセテートフィルムの製造方法。
設置すると、コストアップになり、高温で処理すること
によりウエブの幅手方向の収縮が大きくなり、更には生
産のロット間のばらつきがあったりして、安定的な生産
がむずかしかった。また低温処理により平面性を矯正す
る方法では高速度で生産する場合平面性の改善が出来
ず、生産性を上げられないという問題があった。 【解決手段】 溶液流延製膜法によりセルローストリア
セテートフィルムを作製するにあたり、支持体からウエ
ブを剥離後、乾燥搬送工程での任意の位置でのウエブの
幅長をＡとし、その位置から残留溶媒率を１０％低減さ
せた位置での幅長をＢとし、それらの位置の間での収縮
率ＳａをＳａ＝｛（Ａ−Ｂ）／Ａ｝×１００とした時、
Ｓａ≦５．０として乾燥搬送させることを特徴とするセ
ルローストリアセテートフィルムの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀写真感
光材料や液晶画像表示装置に有用なセルローストリアセ
テートフィルムの製造方法に関する。更には平面性の優
れたセルローストリアセテートフィルムの製造方法に関
する。
光材料や液晶画像表示装置に有用なセルローストリアセ
テートフィルムの製造方法に関する。更には平面性の優
れたセルローストリアセテートフィルムの製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料や液晶画像表
示装置などにセルローストリアセテートフィルムが頻繁
に使用されている。これらの用途には平面性の優れたフ
ィルムが必要とされており、種々の提案がなされてい
る。例えば、特開平４−１５２１２５号または同６−２
７８１９号公報にはセルローストリアセテートフィルム
の製膜工程の終わりに近い工程で、悪くなっていた平面
性を矯正するための工程を設け、改善することが記載さ
れている。
示装置などにセルローストリアセテートフィルムが頻繁
に使用されている。これらの用途には平面性の優れたフ
ィルムが必要とされており、種々の提案がなされてい
る。例えば、特開平４−１５２１２５号または同６−２
７８１９号公報にはセルローストリアセテートフィルム
の製膜工程の終わりに近い工程で、悪くなっていた平面
性を矯正するための工程を設け、改善することが記載さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな設備を工程中に設置すると新たな設備が必要であっ
たり、高温で処理することによってウエブの幅手方向の
収縮が大きく、生産のロット間のばらつきが有り、安定
的な生産がむずかしかった。また低温処理により平面性
を矯正する方法では高速度で生産する場合平面性の改善
が出来ず、生産性を上げられないという問題があった。
うな設備を工程中に設置すると新たな設備が必要であっ
たり、高温で処理することによってウエブの幅手方向の
収縮が大きく、生産のロット間のばらつきが有り、安定
的な生産がむずかしかった。また低温処理により平面性
を矯正する方法では高速度で生産する場合平面性の改善
が出来ず、生産性を上げられないという問題があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】このような課題に対処す
べく本発明は行われたものである。
べく本発明は行われたものである。
【０００５】本発明の目的は、大規模な設備を導入する
ことなく、高生産性下でも平面性や塗布ムラの優れたセ
ルローストリアセテートフィルムを製造する方法を提供
するものである。
ことなく、高生産性下でも平面性や塗布ムラの優れたセ
ルローストリアセテートフィルムを製造する方法を提供
するものである。
【０００６】本発明で使用する溶液流延製膜法は、図１
に示したような、流延部において、エンドレスに走行す
る支持体１にダイ２からセルローストリアセテート溶液
（ドープという）を流延し、ドープを支持体１上で乾燥
し、ドープ膜３を形成し、次に剥離部において、支持体
１がほぼ一回りしたところの剥離点４でドープ膜３を剥
離し、剥離ロール４′を経て、乾燥部の乾燥装置５でウ
エブ３をロール群６を通って乾燥し、下引層や帯電防止
層等の塗布液を下引塗布部の下引塗布装置８の下引塗布
機９で塗布し、更に次の乾燥部のロール群６を通って乾
燥し、冷却部で冷却して、巻き取り部の巻き取り機１０
にてフィルムロール１１として巻き取るものである。ま
た図２で示すようなテンター装置（幅規制装置）１２で
ウエブ３の両端をクリッピングして幅を保持しながら乾
燥する方法もある。溶液流延製膜法における乾燥搬送工
程は剥離部から冷却部の前の乾燥部までのウエブの搬送
工程をいう。
に示したような、流延部において、エンドレスに走行す
る支持体１にダイ２からセルローストリアセテート溶液
（ドープという）を流延し、ドープを支持体１上で乾燥
し、ドープ膜３を形成し、次に剥離部において、支持体
１がほぼ一回りしたところの剥離点４でドープ膜３を剥
離し、剥離ロール４′を経て、乾燥部の乾燥装置５でウ
エブ３をロール群６を通って乾燥し、下引層や帯電防止
層等の塗布液を下引塗布部の下引塗布装置８の下引塗布
機９で塗布し、更に次の乾燥部のロール群６を通って乾
燥し、冷却部で冷却して、巻き取り部の巻き取り機１０
にてフィルムロール１１として巻き取るものである。ま
た図２で示すようなテンター装置（幅規制装置）１２で
ウエブ３の両端をクリッピングして幅を保持しながら乾
燥する方法もある。溶液流延製膜法における乾燥搬送工
程は剥離部から冷却部の前の乾燥部までのウエブの搬送
工程をいう。
【０００７】図１から図５は、図１が溶液流延製膜装置
の概略断面図、図２及び図３がテンター装置を有する溶
液流延製膜装置の概略断面図、図４がクラウンロールの
平面図、そして図５が−９０°に傾斜したテンター装置
を有する溶液流延製膜装置の概略断面図である。
の概略断面図、図２及び図３がテンター装置を有する溶
液流延製膜装置の概略断面図、図４がクラウンロールの
平面図、そして図５が−９０°に傾斜したテンター装置
を有する溶液流延製膜装置の概略断面図である。
【０００８】ここで、上記ドープ膜とウエブについて、
ドープ膜は流延された支持体上での膜をいい、支持体上
で剥離可能な状態から巻き取られるまでのフィルム状の
ものをウエブと呼ぶこととするが、ドープ膜とウエブ、
またウエブとフィルムの境は不明瞭であるので曖昧のま
ま適宜本発明ではこのような用語を使いわけて使用す
る。
ドープ膜は流延された支持体上での膜をいい、支持体上
で剥離可能な状態から巻き取られるまでのフィルム状の
ものをウエブと呼ぶこととするが、ドープ膜とウエブ、
またウエブとフィルムの境は不明瞭であるので曖昧のま
ま適宜本発明ではこのような用語を使いわけて使用す
る。
【０００９】一般に、ウエブのロールによる搬送過程
で、ウエブの幅手方向に収縮が起こりやすくその結果ス
ジが発生したりして平面性が劣化する。本発明者らは、
ウエブの幅手方向の収縮率を抑制する方法により、搬送
方向のスジを極力低減出来ることを見出した。また、こ
の収縮率が、ウエブが搬送中に接触するロール面長とウ
エブのパス長との関係と重要な関わりがあることを見出
し本発明に至った。特にハロゲン化銀写真感光材料のフ
ィルムベースとして用いられるセルローストリアセテー
トフィルムは、下引工程を有し、セルローストリアセテ
ートに対して膨潤性のある溶媒を塗布するため、大幅に
平面性が劣化するのを、上記の関係、及び搬送張力、乾
燥温度テンター装置の有効な使用などを併用することな
どによって下記の構成により達成した。
で、ウエブの幅手方向に収縮が起こりやすくその結果ス
ジが発生したりして平面性が劣化する。本発明者らは、
ウエブの幅手方向の収縮率を抑制する方法により、搬送
方向のスジを極力低減出来ることを見出した。また、こ
の収縮率が、ウエブが搬送中に接触するロール面長とウ
エブのパス長との関係と重要な関わりがあることを見出
し本発明に至った。特にハロゲン化銀写真感光材料のフ
ィルムベースとして用いられるセルローストリアセテー
トフィルムは、下引工程を有し、セルローストリアセテ
ートに対して膨潤性のある溶媒を塗布するため、大幅に
平面性が劣化するのを、上記の関係、及び搬送張力、乾
燥温度テンター装置の有効な使用などを併用することな
どによって下記の構成により達成した。
【００１０】（１）溶液流延製膜法によりセルロースト
リアセテートフィルムを作製するにあたり、支持体から
ウエブを剥離後、乾燥搬送工程での任意の位置でのウエ
ブの幅長をＡとし、その位置から残留溶媒率を１０％低
減させた位置での幅長をＢとし、それらの位置の間での
収縮率ＳａをＳａ＝｛（Ａ−Ｂ）／Ａ｝×１００とした
時Ｓａ≦５．０にして乾燥搬送させることを特徴とする
セルローストリアセテートフィルムの製造方法。
リアセテートフィルムを作製するにあたり、支持体から
ウエブを剥離後、乾燥搬送工程での任意の位置でのウエ
ブの幅長をＡとし、その位置から残留溶媒率を１０％低
減させた位置での幅長をＢとし、それらの位置の間での
収縮率ＳａをＳａ＝｛（Ａ−Ｂ）／Ａ｝×１００とした
時Ｓａ≦５．０にして乾燥搬送させることを特徴とする
セルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【００１１】（２）溶液流延製膜法によりセルロースト
リアセテートフィルムを作製するにあたり、支持体から
ウエブを剥離後、乾燥搬送工程中でのウエブに対して、
膨潤性を有する溶媒を含有している塗布液を塗布する直
前での残留溶媒率をＹ0とし、その位置の幅長をＣと
し、最終乾燥搬送工程後での幅長をＤとし、またその間
での収縮率ＳｃをＳｃ＝｛（Ｃ−Ｄ）／Ｃ｝×１００と
した時、Ｓｅ≦０．１５Ｙ0＋０．５７として乾燥する
ことを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの
製造方法。
リアセテートフィルムを作製するにあたり、支持体から
ウエブを剥離後、乾燥搬送工程中でのウエブに対して、
膨潤性を有する溶媒を含有している塗布液を塗布する直
前での残留溶媒率をＹ0とし、その位置の幅長をＣと
し、最終乾燥搬送工程後での幅長をＤとし、またその間
での収縮率ＳｃをＳｃ＝｛（Ｃ−Ｄ）／Ｃ｝×１００と
した時、Ｓｅ≦０．１５Ｙ0＋０．５７として乾燥する
ことを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの
製造方法。
【００１２】（３）溶液流延製膜法によりセルロースト
リアセテートフィルムを作製するにあたり、乾燥搬送工
程の剥離部において、支持体からウエブを剥離後、ウエ
ブが最初に接触するロールがドライブロールであること
を特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造
方法。
リアセテートフィルムを作製するにあたり、乾燥搬送工
程の剥離部において、支持体からウエブを剥離後、ウエ
ブが最初に接触するロールがドライブロールであること
を特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造
方法。
【００１３】（４）前記乾燥搬送工程の任意の位置と、
該位置でのウエブの残留溶媒率から１０％低減された位
置との間において搬送ロールがウエブと接触している面
長をＬａとし、またその間のウエブのパス長をＲａとし
た時、その比Ｈａ（Ｈａ＝Ｌａ／Ｒａ）が０．０７≦Ｈ
ａ≦１．０の範囲で搬送することを特徴とする（１）に
記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
該位置でのウエブの残留溶媒率から１０％低減された位
置との間において搬送ロールがウエブと接触している面
長をＬａとし、またその間のウエブのパス長をＲａとし
た時、その比Ｈａ（Ｈａ＝Ｌａ／Ｒａ）が０．０７≦Ｈ
ａ≦１．０の範囲で搬送することを特徴とする（１）に
記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【００１４】（５）前記乾燥搬送工程で、塗布液を塗布
する直前での位置から最終乾燥工程終了までの間におい
て、搬送ロールがウエブと接触している面長をＬｃと
し、またその間のウエブのパス長をＲｃとし、またその
間のウエブのパス長をＲｃとした時、その比Ｈｃ（Ｈｃ
＝Ｌｃ／Ｒｃ）が０．０９≦Ｈｃ≦０．９の範囲で搬送
することを特徴とする（２）に記載のセルローストリア
セテートフィルムの製造方法。
する直前での位置から最終乾燥工程終了までの間におい
て、搬送ロールがウエブと接触している面長をＬｃと
し、またその間のウエブのパス長をＲｃとし、またその
間のウエブのパス長をＲｃとした時、その比Ｈｃ（Ｈｃ
＝Ｌｃ／Ｒｃ）が０．０９≦Ｈｃ≦０．９の範囲で搬送
することを特徴とする（２）に記載のセルローストリア
セテートフィルムの製造方法。
【００１５】（６）前記乾燥搬送工程の最終乾燥工程導
入直前でのウエブの残留溶媒率をＸ0とし、最終乾燥工
程導入直後の位置から最終乾燥工程中の任意の位置のウ
エブの残留溶媒率Ｘ1がＸ1≦０．８×Ｘ0となったとこ
ろまでの間で塗布液の溶媒の沸点をｂｐ（℃）とした
時、ウエブの表面温度を（ｂｐ＋４０℃）以下として乾
燥することを特徴とする（２）または（５）に記載のセ
ルローストリアセテートフィルムの製造方法。
入直前でのウエブの残留溶媒率をＸ0とし、最終乾燥工
程導入直後の位置から最終乾燥工程中の任意の位置のウ
エブの残留溶媒率Ｘ1がＸ1≦０．８×Ｘ0となったとこ
ろまでの間で塗布液の溶媒の沸点をｂｐ（℃）とした
時、ウエブの表面温度を（ｂｐ＋４０℃）以下として乾
燥することを特徴とする（２）または（５）に記載のセ
ルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【００１６】（７）前記塗布液を塗布した直後から乾燥
終了までの間で、テンター装置を用いて乾燥し、搬送す
ることを特徴とする（２）、（５）または（６）のいず
れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの
製造方法。
終了までの間で、テンター装置を用いて乾燥し、搬送す
ることを特徴とする（２）、（５）または（６）のいず
れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの
製造方法。
【００１７】（８）該テンター装置にウエブを導入する
に際し、ウエブ幅手方向の弾性率が１．５ｋｇ／ｍｍ2
〜４００ｋｇ／ｍｍ2のときに導入し、乾燥、搬送する
ことを特徴とする（７）に記載のセルローストリアセテ
ートフィルムの製造方法。
に際し、ウエブ幅手方向の弾性率が１．５ｋｇ／ｍｍ2
〜４００ｋｇ／ｍｍ2のときに導入し、乾燥、搬送する
ことを特徴とする（７）に記載のセルローストリアセテ
ートフィルムの製造方法。
【００１８】（９）該テンター装置が水平に対して＋３
０°〜１５０°、または−３０°〜−１５０°の角度を
持っていることを特徴とする（７）または（８）に記載
のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
０°〜１５０°、または−３０°〜−１５０°の角度を
持っていることを特徴とする（７）または（８）に記載
のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【００１９】（１０）前記乾燥搬送工程でのウエブの搬
送方向への張力を１０〜５０ｋｇｆ／ｍとして搬送する
ことを特徴とする（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）または（６）のいずれか１項に記載のセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法。
送方向への張力を１０〜５０ｋｇｆ／ｍとして搬送する
ことを特徴とする（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）または（６）のいずれか１項に記載のセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法。
【００２０】（１１）前記乾燥搬送工程のロールが、ロ
ールの幅手方向の外側に向かって張力がかかる構造のロ
ールを使用して搬送することを特徴とする（１）、
（２）、（３）、（４）、（５）、（６）または（１
０）のいずれか１項に記載のセルローストリアセテート
フィルムの製造方法。
ールの幅手方向の外側に向かって張力がかかる構造のロ
ールを使用して搬送することを特徴とする（１）、
（２）、（３）、（４）、（５）、（６）または（１
０）のいずれか１項に記載のセルローストリアセテート
フィルムの製造方法。
【００２１】（１２）前記乾燥搬送工程のロールが、ロ
ールの幅手方向に対して表面の摩擦係数を最大値
μmax、最小値μminとした時、最大値と最小値との比μ
がμ＝μmax／μmin≧１．２μminであるロールを使用
して搬送することを特徴とする（１）、（２）、
（３）、（４）、（５）、（６）、（１０）または（１
１）のいずれか１項に記載のセルローストリアセテート
フィルムの製造方法。
ールの幅手方向に対して表面の摩擦係数を最大値
μmax、最小値μminとした時、最大値と最小値との比μ
がμ＝μmax／μmin≧１．２μminであるロールを使用
して搬送することを特徴とする（１）、（２）、
（３）、（４）、（５）、（６）、（１０）または（１
１）のいずれか１項に記載のセルローストリアセテート
フィルムの製造方法。
【００２２】以下に、本発明を詳述する。
【００２３】図１は上述したように、通常の溶液流延製
膜装置を示したものであり、図２はテンター装置１２を
有する溶液流延製膜装置である。
膜装置を示したものであり、図２はテンター装置１２を
有する溶液流延製膜装置である。
【００２４】本発明で用いる残留溶媒率（％）は、測定
すべきドープ膜、ウエブあるいはフィルムの重量をＰ
（ｇ）とし、それらを１１０°で１．５時間乾燥した重
量をＱ（ｇ）とした（Ｐ−Ｑ）の溶媒量（ｇ）を乾燥重
量Ｑ（ｇ）で除したもので、下記の式で示される。
すべきドープ膜、ウエブあるいはフィルムの重量をＰ
（ｇ）とし、それらを１１０°で１．５時間乾燥した重
量をＱ（ｇ）とした（Ｐ−Ｑ）の溶媒量（ｇ）を乾燥重
量Ｑ（ｇ）で除したもので、下記の式で示される。
【００２５】 残留溶媒率（％）＝｛（Ｐ−Ｑ）／Ｑ｝×１００ ドープ膜（ウエブ）を支持体から剥離する時の残留溶媒
率は、製膜方法やドープの組成によって異なるが、大き
いものではほとんどドープ組成としてそのままの溶媒を
含有している状態で剥離される場合から、十分に支持体
上で乾燥した数十％のものまである。前者の場合には、
１０℃以下に冷却された小さい径のドラム支持体上に流
延し、ドープをゲル化させて直ぐ剥離する方法（例えば
特開昭６２−３７１１３３号公報）もある。この方法で
は残留溶媒が非常に多い状態でドープ膜を剥離するた
め、剥離後の収縮が大き過ぎ平面性が非常に劣化し易
い。それを防ぐために剥離後テンター装置によって幅を
保持しなければならず、かなり乾燥が進むまでの非常に
長いパスのテンター装置が必要になり、設備コストが莫
大となる。
率は、製膜方法やドープの組成によって異なるが、大き
いものではほとんどドープ組成としてそのままの溶媒を
含有している状態で剥離される場合から、十分に支持体
上で乾燥した数十％のものまである。前者の場合には、
１０℃以下に冷却された小さい径のドラム支持体上に流
延し、ドープをゲル化させて直ぐ剥離する方法（例えば
特開昭６２−３７１１３３号公報）もある。この方法で
は残留溶媒が非常に多い状態でドープ膜を剥離するた
め、剥離後の収縮が大き過ぎ平面性が非常に劣化し易
い。それを防ぐために剥離後テンター装置によって幅を
保持しなければならず、かなり乾燥が進むまでの非常に
長いパスのテンター装置が必要になり、設備コストが莫
大となる。
【００２６】また、収縮の原因として、ウエブを長手方
向に張力をかける搬送におけるロール間のメカニックロ
スから張力上昇によるものがあり、これは一般的に搬送
張力を制御、またはロールをテンデンシー化（同調化）
する方法によって対応されているが、平面性劣化抑制手
段としては不十分であった。
向に張力をかける搬送におけるロール間のメカニックロ
スから張力上昇によるものがあり、これは一般的に搬送
張力を制御、またはロールをテンデンシー化（同調化）
する方法によって対応されているが、平面性劣化抑制手
段としては不十分であった。
【００２７】セルローストリアセテートフィルムを溶液
流延製膜法において、従来からウエブの幅収縮が、また
それに伴う平面性の劣化が問題となっていたが、本発明
では製膜装置内での色々な検討の結果、微細な条件まで
もコントロールすることによって幅収縮や平面性の劣化
を極度に押さえたものである。
流延製膜法において、従来からウエブの幅収縮が、また
それに伴う平面性の劣化が問題となっていたが、本発明
では製膜装置内での色々な検討の結果、微細な条件まで
もコントロールすることによって幅収縮や平面性の劣化
を極度に押さえたものである。
【００２８】第１の発明は、ウエブを支持体から剥離後
の乾燥搬送工程中において任意の位置から残留溶媒を１
０％下げたところの位置までの間の収縮率Ｓａを５．０
以下にすることによって、平面性が改善されるものであ
る。これを達成する手段としては、上記区間におい
て、ロールがウエブと接触している面長をＬａとし、ま
たその間のウエブパス長をＲａとした時、その比Ｈａ
（Ｈａ＝Ｌａ／Ｒａ）を次の関係０．０７≦Ｈａ≦１．
０として乾燥搬送する方法である。ウエブのロールに接
触していないパス長が大きくなればなるほど平面性が劣
化する。Ｈａは大きいほどよく最大値であるＨａ＝１．
０の場合はロールが密着して並ぶいわゆる密間ロールを
ウエブを通すことも一つの方法であるが、適度にロール
間隔を配置することによって、またロールの径を選ぶこ
とによってＨｃを決めることが出来る。ロール直径とし
ては、５〜３０ｃｍがよく、好ましくは８〜２５ｃｍ、
特に１０から２０ｃｍが好ましい。その他、剥離後、
最初の接触するロールをドライブロールとする方法も、
また搬送をスムースにするためにウエブの搬送方向へ
の搬送張力を１０〜５０ｋｇｆ／ｍ（幅手方向）、好ま
しくは１５から４０ｋｇｆ／ｍ、特に好ましくは２０〜
３５ｋｇｆ／ｍかけることによって、更に乾燥搬送工
程のロールをロールの幅手方向に張力がかかる、例えば
クラウンロール、エッジニップロール、スパイラルロー
ルなどのような構造のロールを、または（と同様
に）ロールの幅手方向に摩擦係数の最大値をμmax、最
小値をμminとした時、最大値と最小値との比ＨμがＨ
μ＝μmax／μmin≧１．２のロール、例えば中央部をμ
max、端の方をμminとしたロールを用いることによっ
て、第１の発明の効果つまり平面性劣化を抑制すること
が出来るのである。
の乾燥搬送工程中において任意の位置から残留溶媒を１
０％下げたところの位置までの間の収縮率Ｓａを５．０
以下にすることによって、平面性が改善されるものであ
る。これを達成する手段としては、上記区間におい
て、ロールがウエブと接触している面長をＬａとし、ま
たその間のウエブパス長をＲａとした時、その比Ｈａ
（Ｈａ＝Ｌａ／Ｒａ）を次の関係０．０７≦Ｈａ≦１．
０として乾燥搬送する方法である。ウエブのロールに接
触していないパス長が大きくなればなるほど平面性が劣
化する。Ｈａは大きいほどよく最大値であるＨａ＝１．
０の場合はロールが密着して並ぶいわゆる密間ロールを
ウエブを通すことも一つの方法であるが、適度にロール
間隔を配置することによって、またロールの径を選ぶこ
とによってＨｃを決めることが出来る。ロール直径とし
ては、５〜３０ｃｍがよく、好ましくは８〜２５ｃｍ、
特に１０から２０ｃｍが好ましい。その他、剥離後、
最初の接触するロールをドライブロールとする方法も、
また搬送をスムースにするためにウエブの搬送方向へ
の搬送張力を１０〜５０ｋｇｆ／ｍ（幅手方向）、好ま
しくは１５から４０ｋｇｆ／ｍ、特に好ましくは２０〜
３５ｋｇｆ／ｍかけることによって、更に乾燥搬送工
程のロールをロールの幅手方向に張力がかかる、例えば
クラウンロール、エッジニップロール、スパイラルロー
ルなどのような構造のロールを、または（と同様
に）ロールの幅手方向に摩擦係数の最大値をμmax、最
小値をμminとした時、最大値と最小値との比ＨμがＨ
μ＝μmax／μmin≧１．２のロール、例えば中央部をμ
max、端の方をμminとしたロールを用いることによっ
て、第１の発明の効果つまり平面性劣化を抑制すること
が出来るのである。
【００２９】ロールの形状について、普通のロールは円
筒形で表面が平滑なもの（平ロールと言われている）が
用いられており、ウエブがロール面に接触している間に
起こる収縮力を制御する力が不十分であり、平面性を劣
化させてしまう。これに対して本発明におけるクラウン
ロールのようなウエブの幅手方向外側に向かって張力が
かかる構造のロールを用いることによって、中心部へ収
縮する力と幅手外側に向けて伸ばそうとする力と動きが
打ち消しあって平面性劣化を抑制する。その後の搬送工
程でのロール群をロールの長さ方向の表面の摩擦係数分
布の最大値をμmax、最小値をμminとした時に、μmax
／μmin≧１．２としたロールを用いても同様の効果が
得られる。このロールは中央付近が最大値の摩擦係数を
持っていて、端の方を最小値のそれになっているもの
で、収縮力と伸ばそうとする力を打ち消しあうことがで
きるようになっている。最大値の摩擦係数としては、
０．１２〜０．８、最小値のそれは０．１〜０．５が好
ましい。
筒形で表面が平滑なもの（平ロールと言われている）が
用いられており、ウエブがロール面に接触している間に
起こる収縮力を制御する力が不十分であり、平面性を劣
化させてしまう。これに対して本発明におけるクラウン
ロールのようなウエブの幅手方向外側に向かって張力が
かかる構造のロールを用いることによって、中心部へ収
縮する力と幅手外側に向けて伸ばそうとする力と動きが
打ち消しあって平面性劣化を抑制する。その後の搬送工
程でのロール群をロールの長さ方向の表面の摩擦係数分
布の最大値をμmax、最小値をμminとした時に、μmax
／μmin≧１．２としたロールを用いても同様の効果が
得られる。このロールは中央付近が最大値の摩擦係数を
持っていて、端の方を最小値のそれになっているもの
で、収縮力と伸ばそうとする力を打ち消しあうことがで
きるようになっている。最大値の摩擦係数としては、
０．１２〜０．８、最小値のそれは０．１〜０．５が好
ましい。
【００３０】第２の発明は、ウエブを支持体から剥離後
の乾燥搬送工程中で、該ウエブに対して、膨潤性を有す
る溶媒を含有する下引や帯電防止等の塗布液を塗布する
直前から最終乾燥搬送工程後までの間の収縮率ＳｃをＳ
ｃ≦０．１５Ｙ0＋０．５７（ここで、Ｙ0は塗布直前の
ウエブ残留溶媒率）という関係内にすることによって平
面性が改善されるものである。これを達成する手段とし
て、上記区間において、ロールがウエブと接触してい
る面長をＬｃとし、またその間のウエブパス長をＲｃと
した時、その比Ｈｃ（Ｈｃ＝Ｌｃ／Ｒｃ）を次に表され
る関係０．０９≦Ｈｃ≦０．９として搬送する方法であ
る。
の乾燥搬送工程中で、該ウエブに対して、膨潤性を有す
る溶媒を含有する下引や帯電防止等の塗布液を塗布する
直前から最終乾燥搬送工程後までの間の収縮率ＳｃをＳ
ｃ≦０．１５Ｙ0＋０．５７（ここで、Ｙ0は塗布直前の
ウエブ残留溶媒率）という関係内にすることによって平
面性が改善されるものである。これを達成する手段とし
て、上記区間において、ロールがウエブと接触してい
る面長をＬｃとし、またその間のウエブパス長をＲｃと
した時、その比Ｈｃ（Ｈｃ＝Ｌｃ／Ｒｃ）を次に表され
る関係０．０９≦Ｈｃ≦０．９として搬送する方法であ
る。
【００３１】一般的に、ハロゲン化銀写真感光材料のフ
ィルムベースには下引や帯電防止等の機能を与える層を
設ける必要がある。セルローストリアセテートフィルム
の場合には、これらの層を接着せしめるために、セルロ
ーストリアセテートフィルムに対して膨潤性のある溶媒
を含有する塗布液を塗布するため、ウエブが膨潤し平面
性が悪くなる。またウエブの残留溶媒率が大きいうちに
該塗布液を塗布することによって乾燥負荷を小さくする
ことが行われているが、この方法だと平面性が更に悪く
なる可能性がある。塗布時残留溶媒率は、２０％以下が
よく、好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下
である。また、塗布は複数回おこなわれることもあり、
１回に塗布される塗布液量はウエブの１０〜２０重量％
であることが一般的である。そして乾燥終了時点での残
留溶媒率を３％以下にする。塗布後の平面性劣化を防止
するための上記発明に加える他の手段としては前記、
、、及びもこの第２の発明を更なる平面性劣化
防止に役立つが、更に塗布後の膨潤したウエブの急加
熱による熱収縮を緩和させるために、最終乾燥搬送工程
直前のウエブの残留溶媒率Ｘ0とし、最終乾燥搬送工程
導入直後の位置から最終乾燥搬送工程中の任意の位置の
ウエブの残留溶媒率Ｘ1がＸ1≦０．８×Ｘ0となったと
ころまでの間で塗布溶媒の沸点をｂｐ（℃）とした時、
ウエブの表面温度を（ｂｐ＋４０℃）以下として乾燥す
ることによっても第２の発明効果を向上させることが出
来る。また、塗布液を塗布直後から最終乾燥搬送工程
終了までの間にテンター装置でウエブを幅保持するのも
好ましい。ウエブ幅手方向の弾性率が１．５ｋｇ／ｍｍ
2〜４００ｋｇ／ｍｍ2のとき、テンターに導入するのが
よく、好ましくは５８ｋｇ／ｍｍ2〜３００ｋｇ／ｍｍ2
である。弾性率が低すぎると安定なクリッピングが出来
なかったり、クリップとの接触部がウエブ処理開始時の
ウエブ幅長の２．０％未満、特には１．５％が好まし
い。テンター装置のクリップとしては、通常のポリエス
テルに使用されているクリップ、あるいは特開昭６２−
４６６２６号や特開平２−１８２６５４号等の公報に記
載されているようなピンクリップを用いてもよい。更に
テンター装置の角度を持たせ、テンター装置を使用する
効果をさらに高めることが出来る。これはウエブがテン
ター装置内部で弛むのを防ぐ役割がある。つまり角度を
持たせることによる、重力による弛みをなくすことが出
来る。テンター装置の角度は好ましくは＋６０°〜＋１
２０°、または−６０°〜−１２０°である。
ィルムベースには下引や帯電防止等の機能を与える層を
設ける必要がある。セルローストリアセテートフィルム
の場合には、これらの層を接着せしめるために、セルロ
ーストリアセテートフィルムに対して膨潤性のある溶媒
を含有する塗布液を塗布するため、ウエブが膨潤し平面
性が悪くなる。またウエブの残留溶媒率が大きいうちに
該塗布液を塗布することによって乾燥負荷を小さくする
ことが行われているが、この方法だと平面性が更に悪く
なる可能性がある。塗布時残留溶媒率は、２０％以下が
よく、好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下
である。また、塗布は複数回おこなわれることもあり、
１回に塗布される塗布液量はウエブの１０〜２０重量％
であることが一般的である。そして乾燥終了時点での残
留溶媒率を３％以下にする。塗布後の平面性劣化を防止
するための上記発明に加える他の手段としては前記、
、、及びもこの第２の発明を更なる平面性劣化
防止に役立つが、更に塗布後の膨潤したウエブの急加
熱による熱収縮を緩和させるために、最終乾燥搬送工程
直前のウエブの残留溶媒率Ｘ0とし、最終乾燥搬送工程
導入直後の位置から最終乾燥搬送工程中の任意の位置の
ウエブの残留溶媒率Ｘ1がＸ1≦０．８×Ｘ0となったと
ころまでの間で塗布溶媒の沸点をｂｐ（℃）とした時、
ウエブの表面温度を（ｂｐ＋４０℃）以下として乾燥す
ることによっても第２の発明効果を向上させることが出
来る。また、塗布液を塗布直後から最終乾燥搬送工程
終了までの間にテンター装置でウエブを幅保持するのも
好ましい。ウエブ幅手方向の弾性率が１．５ｋｇ／ｍｍ
2〜４００ｋｇ／ｍｍ2のとき、テンターに導入するのが
よく、好ましくは５８ｋｇ／ｍｍ2〜３００ｋｇ／ｍｍ2
である。弾性率が低すぎると安定なクリッピングが出来
なかったり、クリップとの接触部がウエブ処理開始時の
ウエブ幅長の２．０％未満、特には１．５％が好まし
い。テンター装置のクリップとしては、通常のポリエス
テルに使用されているクリップ、あるいは特開昭６２−
４６６２６号や特開平２−１８２６５４号等の公報に記
載されているようなピンクリップを用いてもよい。更に
テンター装置の角度を持たせ、テンター装置を使用する
効果をさらに高めることが出来る。これはウエブがテン
ター装置内部で弛むのを防ぐ役割がある。つまり角度を
持たせることによる、重力による弛みをなくすことが出
来る。テンター装置の角度は好ましくは＋６０°〜＋１
２０°、または−６０°〜−１２０°である。
【００３２】第３の発明は支持体からウエブを剥離後、
ウエブの最初に接触する媒体をドライブロールとするこ
とにより平面性劣化を防止するものである。ウエブの最
初に接触する媒体は、一般に剥離ロールと呼ばれてお
り、通常ではこの剥離ロールはフリーロールであって、
製膜速度で走行するウエブとの摩擦により回転している
ため、ロール上でのウエブの収縮、摩擦などの悪影響が
ウエブ平面にムラが生じてしまっていた。剥離ロールを
ウエブの走行速度に追従させるようにしたドライブロー
ル（駆動ロール）を用いることにより、前記の悪影響、
および、ウエブ平面性ムラを低減することが出来る。
ウエブの最初に接触する媒体をドライブロールとするこ
とにより平面性劣化を防止するものである。ウエブの最
初に接触する媒体は、一般に剥離ロールと呼ばれてお
り、通常ではこの剥離ロールはフリーロールであって、
製膜速度で走行するウエブとの摩擦により回転している
ため、ロール上でのウエブの収縮、摩擦などの悪影響が
ウエブ平面にムラが生じてしまっていた。剥離ロールを
ウエブの走行速度に追従させるようにしたドライブロー
ル（駆動ロール）を用いることにより、前記の悪影響、
および、ウエブ平面性ムラを低減することが出来る。
【００３３】ここで乾燥搬送工程とは、ロールあるいは
ロール群を通って搬送し、乾燥するゾーン全てをいう。
ロール群を通って搬送し、乾燥するゾーン全てをいう。
【００３４】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００３５】 〈ドープ処方〉 セルローストリアセテート １００重量部 メチレンクロライド ３４０重量部 エタノール ８０重量部 トリフェニルホスフェート １２重量部 〈塗布液処方〉 （下引塗布液） 酢酸ビニル：無水マレイン酸交互共重合体 ３重量部 アセトン ８１０重量部 イソプロパノール １５０重量部 （帯電防止塗布液） 酸化スズ：酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．０５μｍ） １４重量部 セルロースジアセテート ６重量部 アセトン ８００重量部 シクロヘキサノン ２００重量部 〈評価方法〉 （平面性評価法）幅９０ｃｍ、長さ１００ｃｍの大きさ
に各試料を切り出し、５０Ｗ蛍光灯を５本並べて試料台
に４５°の角度から照らせるように高さ１．５ｍの高さ
に固定し、試料台の上に各フィルム試料を置き、フィル
ム表面に反射してみえる凹凸を目で見て、次のように判
定した。
に各試料を切り出し、５０Ｗ蛍光灯を５本並べて試料台
に４５°の角度から照らせるように高さ１．５ｍの高さ
に固定し、試料台の上に各フィルム試料を置き、フィル
ム表面に反射してみえる凹凸を目で見て、次のように判
定した。
【００３６】 Ａ：蛍光灯が５本とも真っすぐに見えた Ｂ：蛍光灯が少し曲がって見えるところがある Ｃ：蛍光灯が全体的に少し曲がって見える Ｄ：蛍光灯が大きくうねって見える Ｅ：蛍光灯が大きい曲がりの中にも細かいうねりが見え
る。
る。
【００３７】（塗布ムラ評価法）上記下引塗布液塗布面
に下記ゼラチン液を塗布、セットそして乾燥して、平面
性と同じ大きさに切り出し、下記レベルに従って評価し
た。
に下記ゼラチン液を塗布、セットそして乾燥して、平面
性と同じ大きさに切り出し、下記レベルに従って評価し
た。
【００３８】 ゼラチン液： ゼラチン ４ｇ 水 １００ｇ メチルバイオレット（染料） ０．２ｇ サポニン ０．１ｇ 各試料をシャーカステンの上に乗せ、塗布ムラを下記の
ように評価した。
ように評価した。
【００３９】 Ａ：ムラがなく非常にスムースである Ｂ：細かいムラが若干ある Ｃ：ややムラがあるような感じ Ｄ：はっきりとムラが見える Ｅ：非常に大きなムラが見える。
【００４０】実施例１ 上記ドープをダイから支持体１上に流延し、ウエブ３を
剥離点４で残留溶媒率が１００重量％で剥離し、ウエブ
をフリーロールの剥離ロール４′を通過させ、その後、
通常の平ロールを使用し、搬送張力を５５ｋｇｆ／ｍ、
乾燥搬送ロールのスパンの比Ｈｃを０．０７として、乾
燥装置５のロール群６を通し、乾燥温度を５０℃から徐
々に上昇させ、７０℃、９０℃そして１１０℃とし、残
留溶媒率を３．３として、次の下引塗布装置８へとウエ
ブを搬送した。この乾燥搬送工程での収縮率Ｓａの最大
値はＳａ＝５．５％であった。上記塗布液を２基の下引
塗布機９で塗布し、下引後の乾燥装置５′乾燥温度を１
００℃で乾燥し、下引塗布後のロールスパンの比をＨｃ
＝０．０７とし、下引直後から最終乾燥搬送工程終了後
までの収縮率Ｓｃ＝１．３として、製膜して巻き取り機
１０でフィルムロール１１として巻き取った。これを比
較試料１とした。なお、下引塗布機以降のロール形状と
張力は塗布前と同じであった。試料を上記の平面性と塗
布ムラについて評価した。
剥離点４で残留溶媒率が１００重量％で剥離し、ウエブ
をフリーロールの剥離ロール４′を通過させ、その後、
通常の平ロールを使用し、搬送張力を５５ｋｇｆ／ｍ、
乾燥搬送ロールのスパンの比Ｈｃを０．０７として、乾
燥装置５のロール群６を通し、乾燥温度を５０℃から徐
々に上昇させ、７０℃、９０℃そして１１０℃とし、残
留溶媒率を３．３として、次の下引塗布装置８へとウエ
ブを搬送した。この乾燥搬送工程での収縮率Ｓａの最大
値はＳａ＝５．５％であった。上記塗布液を２基の下引
塗布機９で塗布し、下引後の乾燥装置５′乾燥温度を１
００℃で乾燥し、下引塗布後のロールスパンの比をＨｃ
＝０．０７とし、下引直後から最終乾燥搬送工程終了後
までの収縮率Ｓｃ＝１．３として、製膜して巻き取り機
１０でフィルムロール１１として巻き取った。これを比
較試料１とした。なお、下引塗布機以降のロール形状と
張力は塗布前と同じであった。試料を上記の平面性と塗
布ムラについて評価した。
【００４１】実施例２ 実施例１の条件を下記に変えた外は実施例１と同様に製
膜し、巻き取り、本発明試料１、２及び３とした。
膜し、巻き取り、本発明試料１、２及び３とした。
【００４２】 平ロールの３０％をクラウンロール（図４）に置き換え
た。
た。
【００４３】実施例３ 実施例１の条件を下記に変えた以外は実施例１と同様に
製膜し、巻き取り、本発明試料４、５及び６とした。
製膜し、巻き取り、本発明試料４、５及び６とした。
【００４４】 下引後の乾燥温度を塗布後残留溶媒率２．６４％までは
８０℃、その後は１１０℃、 ウエブ幅手弾性率が２００ｋｇ／ｍｍ2の時に−９０°
のテンター装置を使用。
８０℃、その後は１１０℃、 ウエブ幅手弾性率が２００ｋｇ／ｍｍ2の時に−９０°
のテンター装置を使用。
【００４５】実施例４ 実施例の条件を下記に変えた以外は実施例１と同様に製
膜し、巻き取り、本発明試料７とした。
膜し、巻き取り、本発明試料７とした。
【００４６】本発明試料７：剥離ロールをドライブロー
ルに変更、平ロールの２０％をμmax＝２．５、μmin＝
２．０ロールに置き換えた。
ルに変更、平ロールの２０％をμmax＝２．５、μmin＝
２．０ロールに置き換えた。
【００４７】実施例５ 実施例１の条件を下記に変えた以外は実施例１と同様に
製膜し、巻き取り、本発明試料８及び９とした。
製膜し、巻き取り、本発明試料８及び９とした。
【００４８】 剥離ロールをドライブロールに変更、 平ロールの３０％をクラウンロールに置き換えた、 ウエブ幅手弾性率が２００ｋｇ／ｍｍ2の時に−９０°
のテンター装置使用、下引乾燥温度（塗布後の残留溶媒
率２．６４％まで８０℃、その後の温度１００℃、剥離
ロールをドライブロールに変更、平ロールの２０％をμ
max＝２．５、μmin＝２．０ロールに置き換えた。
のテンター装置使用、下引乾燥温度（塗布後の残留溶媒
率２．６４％まで８０℃、その後の温度１００℃、剥離
ロールをドライブロールに変更、平ロールの２０％をμ
max＝２．５、μmin＝２．０ロールに置き換えた。
【００４９】以上の実施例につき平面性と塗布ムラの評
価を行い、その結果を表１に示した。
価を行い、その結果を表１に示した。
【００５０】
【表１】
【００５１】（結果）収縮率Ｓａ及びＳｃ、あるいはＨ
ａ及びＨｃ、搬送張力、クラウンロールの使用、乾燥温
度、−９０°のテンター装置の使用、剥離ロールのドラ
イブロール化を本発明の範囲内に設定し、また実施した
本発明試料は、比較試料に比べ、格段に平面性、塗布ム
ラ共に向上し、更に本発明を組み合わせたところ更に向
上した。本発明をほとんどあるいは全て組み合わせた実
施例においては平面性及び塗布ムラ共、優れた評価結果
を得た。
ａ及びＨｃ、搬送張力、クラウンロールの使用、乾燥温
度、−９０°のテンター装置の使用、剥離ロールのドラ
イブロール化を本発明の範囲内に設定し、また実施した
本発明試料は、比較試料に比べ、格段に平面性、塗布ム
ラ共に向上し、更に本発明を組み合わせたところ更に向
上した。本発明をほとんどあるいは全て組み合わせた実
施例においては平面性及び塗布ムラ共、優れた評価結果
を得た。
【００５２】
【発明の効果】セルローストリアセテートフィルムの製
造法において、乾燥搬工程内の各種の条件、例えば、収
縮率の制御ロールの形状、フリーパス長とロールの関
係、テンターの使用等を決めることにより、平面性に優
れたセルローストリアセテートが得られ、ハロゲン化銀
写真感光材料や、液晶画像表示装置の偏光板保護フィル
ムに好ましく用いられる。
造法において、乾燥搬工程内の各種の条件、例えば、収
縮率の制御ロールの形状、フリーパス長とロールの関
係、テンターの使用等を決めることにより、平面性に優
れたセルローストリアセテートが得られ、ハロゲン化銀
写真感光材料や、液晶画像表示装置の偏光板保護フィル
ムに好ましく用いられる。
【図１】溶液流延製膜装置の概略断面図。
【図２】テンター装置を有する溶液流延製膜装置の概略
断面図。
断面図。
【図３】テンター装置を有する溶液流延製膜装置の概略
断面図。
断面図。
【図４】クラウンロールの平面図。
【図５】−９０°に傾斜したテンター装置を有する溶液
流延製膜装置の概略断面図。
流延製膜装置の概略断面図。
１ 支持体 ２ ダイ ３ ウエブ（ドープ膜） ４ 剥離点 ４′ 剥離ロール ５ 乾燥装置 ５′ 乾燥装置（下引乾燥装置） ６ ロール（ロール群） ７ 乾燥風 ８ 下引塗布装置 ９ 下引塗布機 １０ 巻き取り機 １１ フィルムロール １２ テンター装置 １２′ 傾斜したテンター装置 １３ クラウンロール １４ 軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ２９Ｌ 7:00 9:00 (72)発明者 清水 和之 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 萩原 俊幸 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内
Claims (12)
- 【請求項１】 溶液流延製膜法によりセルローストリア
セテートフィルムを作製するにあたり、支持体からウエ
ブを剥離後、乾燥搬送工程での任意の位置でのウエブの
幅長をＡとし、その位置から残留溶媒率を１０％低減さ
せた位置での幅長をＢとし、それらの位置の間での収縮
率ＳａをＳａ＝｛（Ａ−Ｂ）／Ａ｝×１００とした時、
Ｓａ≦５．０として乾燥搬送させることを特徴とするセ
ルローストリアセテートフィルムの製造方法。 - 【請求項２】 溶液流延製膜法によりセルローストリア
セテートフィルムを作製するにあたり、支持体からウエ
ブを剥離後、乾燥搬送工程中のウエブに対して、膨潤性
を有する溶媒を含有している塗布液を塗布する直前での
残留溶媒率をＹ0とし、その位置の幅長をＣとし、最終
乾燥搬送工程後での幅長をＤとし、またその間での収縮
率ＳｃをＳｃ＝｛（Ｃ−Ｄ）／Ｃ｝×１００とした時、
Ｓｅ≦０．１５Ｙ0＋０．５７として乾燥することを特
徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方
法。 - 【請求項３】 溶液流延製膜法によりセルローストリア
セテートフィルムを作製するにあたり、乾燥搬送工程の
剥離部において、支持体からウエブを剥離後、ウエブが
最初に接触するロールがドライブロールであることを特
徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方
法。 - 【請求項４】 前記乾燥搬送工程の任意の位置と、該位
置でのウエブの残留溶媒率から１０％低減された位置と
の間において搬送ロールがウエブと接触している面長を
Ｌａとし、またその間のウエブのパス長をＲａとした
時、その比Ｈａ（Ｈａ＝Ｌａ／Ｒａ）が０．０７≦Ｈａ
≦１．０の範囲で搬送することを特徴とする請求項１に
記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。 - 【請求項５】 前記乾燥搬送工程で、塗布液を塗布する
直前での位置から最終乾燥工程終了までの間において、
搬送ロールがウエブと接触している面長をＬｃとし、ま
たその間のウエブのパス長をＲｃとし、またその間のウ
エブのパス長をＲｃとした時、その比Ｈｃ（Ｈｃ＝Ｌｃ
／Ｒｃ）が０．０９≦Ｈｃ≦０．９の範囲で搬送するこ
とを特徴とする請求項２に記載のセルローストリアセテ
ートフィルムの製造方法。 - 【請求項６】 前記乾燥搬送工程の最終乾燥工程導入直
前でのウエブの残留溶媒率をＸ0とし、最終乾燥工程導
入直後の位置から最終乾燥工程中の任意の位置のウエブ
の残留溶媒率Ｘ1がＸ1≦０．８×Ｘ0となったところま
での間で塗布液の溶媒の沸点をｂｐ（℃）とした時、ウ
エブの表面温度を（ｂｐ＋４０℃）以下として乾燥する
ことを特徴とする請求項２または５に記載のセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法。 - 【請求項７】 前記塗布液を塗布した直後から乾燥終了
までの間で、テンター装置を用いて乾燥し、搬送するこ
とを特徴とする請求項２、５または６のいずれか１項に
記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。 - 【請求項８】 該テンター装置にウエブを導入するに際
し、ウエブ幅手方向の弾性率が１．５ｋｇ／ｍｍ2〜４
００ｋｇ／ｍｍ2のときに導入し、乾燥、搬送すること
を特徴とする請求項７に記載のセルローストリアセテー
トフィルムの製造方法。 - 【請求項９】 該テンター装置が水平に対して＋３０°
〜１５０°、または−３０°〜−１５０°の角度を持っ
ていることを特徴とする請求項７または８に記載のセル
ローストリアセテートフィルムの製造方法。 - 【請求項１０】 前記乾燥搬送工程でのウエブの搬送方
向への張力を１０〜５０ｋｇｆ／ｍとして搬送すること
を特徴とする請求項１、２、３、４、５または６のいず
れか１項に記載のセルローストリアセテートフィルムの
製造方法。 - 【請求項１１】 前記乾燥搬送工程のロールが、ロール
の幅手方向の外側に向かって張力がかかる構造であるこ
とを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６または１
０のいずれか１項に記載のセルローストリアセテートフ
ィルムの製造方法。 - 【請求項１２】 前記乾燥搬送工程のロールが、ロール
の幅手方向に対して表面の摩擦係数を最大値μmax、最
小値μminとした時、最大値と最小値との比ＨμがＨμ
＝μmax／μmin≧１．２μminであるロールを使用して
搬送することを特徴とする請求項１、２、３、４、５、
６、１０または１１のいずれか１項に記載のセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4044198A JPH11235728A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | セルローストリアセテートフィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4044198A JPH11235728A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | セルローストリアセテートフィルムの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004354855A Division JP4325547B2 (ja) | 2004-12-08 | 2004-12-08 | 光学フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11235728A true JPH11235728A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12580742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4044198A Pending JPH11235728A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | セルローストリアセテートフィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11235728A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002248639A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-09-03 | Konica Corp | セルロースエステルフィルムとその製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| JP2003093963A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-02 | Konica Corp | 光学フィルムの製造方法 |
| JP2007276447A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-10-25 | Fujifilm Corp | ポリマーフィルムの製造方法 |
| JP2009262515A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-12 | Fujifilm Corp | 溶液製膜方法 |
| JP2009276799A (ja) * | 2009-08-27 | 2009-11-26 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板用保護フィルムの製造方法 |
| US7678300B2 (en) | 2005-11-30 | 2010-03-16 | Konica Minolta Opto, Inc. | Optical film manufacturing method and apparatus |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP4044198A patent/JPH11235728A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002248639A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-09-03 | Konica Corp | セルロースエステルフィルムとその製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| JP2003093963A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-02 | Konica Corp | 光学フィルムの製造方法 |
| US7678300B2 (en) | 2005-11-30 | 2010-03-16 | Konica Minolta Opto, Inc. | Optical film manufacturing method and apparatus |
| JP2007276447A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-10-25 | Fujifilm Corp | ポリマーフィルムの製造方法 |
| JP2009262515A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-12 | Fujifilm Corp | 溶液製膜方法 |
| JP2009276799A (ja) * | 2009-08-27 | 2009-11-26 | Konica Minolta Holdings Inc | 偏光板用保護フィルムの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5773126A (en) | Composite film having a surface slip property | |
| JP2001198933A (ja) | セルロースアシレートフィルムの製造方法 | |
| US3939000A (en) | Flat photographic film produced by heating above the second order transition temperature of the base | |
| JPH11235728A (ja) | セルローストリアセテートフィルムの製造方法 | |
| JP4076059B2 (ja) | フィルムロール | |
| US6780470B2 (en) | Method of coating a web with a solution | |
| US6060226A (en) | Polyester support | |
| JP2554553B2 (ja) | 写真感光材料用支持体の製造方法 | |
| JP4325547B2 (ja) | 光学フィルムの製造方法 | |
| JP3287417B2 (ja) | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム | |
| JP2000273214A (ja) | ポリベンザゾールフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JP3287418B2 (ja) | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム | |
| JP5621594B2 (ja) | 光学フィルムの製造方法、及び光学フィルム | |
| JPH11123732A (ja) | セルローストリアセテートフィルムの製造方法 | |
| JPH03207651A (ja) | 二軸配向ポリエステルフイルム | |
| JP2000176950A (ja) | セルローストリアセテートフィルムの製造方法及び取り扱い方法 | |
| JP2003251251A (ja) | 乾燥装置、乾燥方法及びこれらを用いた画像形成材料の製造方法 | |
| JP2000153676A (ja) | 感熱転写用二軸配向ポリエステルフィルム | |
| JP3242832B2 (ja) | 写真フィルム用ベースフィルム | |
| JPH0740498A (ja) | 透明導電性フィルムの製造方法 | |
| JP3123872B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH04286611A (ja) | セルローストリアセテートフイルムの製造方法 | |
| JPH1190945A (ja) | セルローストリアセテートフィルムの製造方法及び製造装置 | |
| JPH0519403A (ja) | 感光材料の生産方法 | |
| JP3242837B2 (ja) | 写真フィルム用ベースフィルムの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041001 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041019 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041124 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050405 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050906 |