JPH11233665A - 電子部品収納用容器 - Google Patents

電子部品収納用容器

Info

Publication number
JPH11233665A
JPH11233665A JP10036403A JP3640398A JPH11233665A JP H11233665 A JPH11233665 A JP H11233665A JP 10036403 A JP10036403 A JP 10036403A JP 3640398 A JP3640398 A JP 3640398A JP H11233665 A JPH11233665 A JP H11233665A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
electronic component
container
lid
insulating base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10036403A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiaki Ito
吉明 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP10036403A priority Critical patent/JPH11233665A/ja
Publication of JPH11233665A publication Critical patent/JPH11233665A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/16Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/24Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】封止材を軟化溶融させる熱によって絶縁容器内
部に収容する電子部品に特性劣化が招来する。 【解決手段】絶縁基体1と蓋体2とを封止材8を介して
接合させ、絶縁基体1と蓋体2とから成る容器4内部に
電子部品3を気密に収容する電子部品収納用容器であっ
て、前記封止材8は第1部材8aの上下に第2部材8b
を配した3層構造を有しており、該第1部材8a及び第
2部材8bは酸化銀40乃至60重量%、五酸化燐20
乃至30重量%、酸化亜鉛1乃至6重量%のガラス成分
と、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体のフィラーと
から成り、第1部材のフィラー含有量は10乃至30重
量%、第2部材のフィラー含有量は31乃至50重量%
である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子や圧電振
動子等の電子部品を気密に封止して収容するための電子
部品収納用容器に関し、特に封止材にガラスを用いて封
止を行う電子部品収納用容器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体集積回路素子を初めとする
半導体素子あるいは水晶振動子、弾性表面波素子といっ
た圧電振動子等の電子部品を収容するための電子部品収
納用容器は、例えば、酸化アルミニウム(A12 3
質焼結体等の電気絶縁材料から成り、その上面あるいは
下面の略中央部に電子部品を収容するための凹部および
その凹部周辺から下面にかけて導出された、例えば、タ
ングステンやモリブデン等の高融点金属粉末から成る複
数個のメタライズ配線層を有する絶縁基体と、電子部品
を外部電気回路に電気的に接続するためにメタライズ配
線層に銀ロウ等のロウ材を介して取着された外部リード
端子と、蓋体とから構成されている。
【0003】そして、電子部品が例えば、半導体素子の
場合には、絶縁基体の凹部の底面に半導体素子をガラ
ス、樹脂、ロウ材等から成る接着材を介して接着固定す
るとともに半導体素子の各電極とメタライズ配線層とを
ボンディングワイヤ等の電気的接続手段を介して電気的
に接続し、しかる後、絶縁基体の上面に蓋体を低融点ガ
ラスから成る封止材を介して接合させ、絶縁基体と蓋体
とから成る容器内部に半導体素子を気密に収容すること
によって最終製品としての半導体装置となる。
【0004】また電子部品が例えば、圧電振動子の場合
には、絶縁基体の凹部の底面に形成された段差部に圧電
振動子の一端を導電性ポリイミド樹脂等から成る接着材
を介して接着固定するとともに圧電振動子の各電極をメ
タライズ配線層に電気的に接続し、しかる後、絶縁基体
の上面に蓋体を低融点ガラスから成る封止材を介して接
合させ、絶縁基体と蓋体とから成る容器内部に半導体素
子を気密に収容することによって最終製品としての電子
部品装置となる。
【0005】なお、絶縁基体に蓋体を接合させる封止材
としては、一般に酸化鉛56乃至66重量%、酸化ホウ
素4乃至14重量%、酸化珪素1乃至6重量%、酸化ビ
スマス0.5乃至5重量%、酸化亜鉛0.5乃至3重量
%を含むガラス成分に、フィラーとしてのコージェライ
ト系化合物を9乃至19重量%、チタン酸錫系化合物を
10乃至20重量%添加したガラスが使用されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の電子部品収納用容器においては、絶縁基体に蓋体を
接合させる封止材である低融点ガラスの軟化溶融温度が
約400℃程度であること、近時の電子部品は高密度
化、高集積化に伴って耐熱性が低下してきたこと等か
ら、絶縁基体と蓋体とを封止材を介して接合し、絶縁基
体と蓋体とからなる絶縁容器の内部に電子部品を気密に
収容した場合、封止材を溶融させる熱が内部に収容する
電子部品に作用して電子部品の特性に劣化を招来させ、
電子部品を正常に作動させることができないという問題
点を有していた。
【0007】また、電子部品を絶縁基体の凹部の底面あ
るいは段差部ヘポリイミド導電性樹脂等から成る樹脂製
の接着材を介して接着固定した場合、電子部品を接着固
定する接着材の耐熱性が低いため、接着材に封止材を溶
融させる熱が作用すると電子部品の接着固定が破れ、そ
の結果、電子部品を常に、安定に作動させることができ
なくなるという問題点も有していた。
【0008】本発明は、上記問題点に鑑み案出されたも
ので、その目的は絶縁基体と蓋体とから成る絶縁容器の
内部に電子部品をその特性に劣化を招来することなく気
密に封止し、電子部品を長期間にわたり正常、かつ安定
に作動させることができる電子部品収納用容器を提供す
ることにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、絶縁基体と蓋
体とを封止材を介して接合させ、絶縁基体と蓋体とから
成る容器内部に電子部品を気密に収容する電子部品収納
用容器であって、前記封止材は第1部材の上下に第2部
材を配した3層構造を有しており、該第1部材及び第2
部材は酸化銀40乃至60重量%、五酸化燐20乃至3
0重量%、酸化亜鉛1乃至6重量%のガラス成分と、酸
化ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体のフィラーとから成
り、第1部材のフィラー含有量は10乃至30重量%、
第2部材のフィラー含有量は31乃至50重量%である
ことを特徴とするものである。
【0010】また、本発明は、絶縁基体と蓋体とを封止
材を介して接合させ、絶縁基体と蓋体とから成る容器内
部に電子部品を気密に収容する電子部品収納用容器であ
って、前記封止材は酸化銀40乃至60重量%、五酸化
燐20乃至30重量%、酸化亜鉛1乃至6重量%のガラ
ス成分と、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体のフィ
ラーとから成り、絶縁基体及び蓋体と接する領域のフィ
ラー含有量が31乃至50重量%、中央域のフィラー含
有量が10乃至30重量%であることを特徴とするもの
である。
【0011】本発明の電子部品収納用容器によれば、封
止材の絶縁基体と蓋体とに接する領域の熱膨張係数が絶
縁基体と蓋体の熱膨張係数に近似し、これによって封止
材と絶縁基体及び蓋体とは強固に接合して絶縁容器の気
密封止が完全となり、絶縁容器の内部に収容する電子部
品を長期間にわたり正常、かつ安定に作動させることが
可能となる。
【0012】また本発明の電子部品収納用容器によれ
ば、絶縁基体と蓋体とから成る絶縁容器を最終的に気密
封止する封止材の中央域の軟化溶融温度が300℃以下
であり、低温であることから絶縁基体と蓋体とを封止材
を介して技合させ、絶縁基体と蓋体とから成る絶縁容器
の内部に電子部品を気密に収容する際、封止材を溶融さ
せる熱が内部に収容する電子部品に作用しても電子部品
の特性に劣化を招来することはなく、その結果、電子部
品を長期間にわたり正常、かつ安定に作動させることが
可能となる。
【0013】また同時に封止材の中央域の軟化溶融温度
が300℃以下であり、低温であることから絶縁基体と
蓋体とを封止材を介して接合させ、絶縁基体と蓋体とか
ら成る絶縁容器の内部に電子部品を気密に収容する際、
封止材を溶融させる熱によって電子部品を絶縁基体の凹
部の底面あるいは段差部へ接着固定するポリイミド導電
性樹脂等から成る樹脂製の接着材が劣化することもな
く、これによって電子部品を絶縁基体の凹部の底面ある
いは段差部へ接着材を介して極めて強固に接着固定する
ことが可能となり、電子部品を常に、安定に作動させる
ことができる。
【0014】
【発明の実施の形態】次に、本発明を添付図面に基づき
詳細に説明する。図1は本発明の電子部品収納用容器の
実施の形態の一例を示す断面図、図2はその要部拡大断
面図であり、同図においては電子部品が半導体素子であ
り、電子部品収納用容器が半導体素子収納用パッケージ
である場合の例を示している。
【0015】図1において、1は絶縁基体、2は蓋体で
ある。この絶縁基体1と蓋体2とで半導体素子3を収容
するための絶縁容器4が構成される。
【0016】前記絶縁基体1はその上面あるいは下面の
略中央部に半導体素子3を収容する空所を形成するため
の凹部1aが設けてあり、該凹部1aの底面には半導体
素子3がガラス、樹脂、ロウ材等から成る接着材を介し
て接着固定される。
【0017】前記絶縁基体1は、酸化アルミニウム質焼
結体やムライト質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、
炭化珪素質焼結体等の電気絶縁材料から成り、例えば、
酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸化
アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化カル
シウム等の原料粉末に適当な有機バインダー、溶剤、可
塑剤、分散剤等を添加混合して泥漿物を作り、該泥漿物
を従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法
等のシート成形法を採用しシート状に成形してセラミッ
クグリーンシート(セラミック生シート)を得、しかる
後、それらセラミックグリーンシートに適当な打ち抜き
加工を施すとともにこれを複数枚積層し、約1600℃
の高温で焼成することによって製作される。
【0018】また前記絶縁基体1は凹部1a周辺から上
面にかけて複数個のメタライズ配線層5が被着形成され
ており、このメタライズ配線層5の凹部1a周辺部には
半導体素子3の各電極がボンディングワイヤを介して電
気的に接続され、また絶縁基体1の上面に導出された部
位には外部電気回路と接続される外部リード端子7が銀
ロウ等のロウ材を介して取着されている。
【0019】前記メタライズ配線層5は半導体素子3の
各電極を外部電気回路に電気的に接続する際の導電路と
して作用し、タングステン、モリブデン、マンガン等の
高融点金属粉末により形成されている。
【0020】前記メタライズ配線層5はタングステン、
モリブデン、マンガン等の高融点金属粉末に適当な有機
溶剤、溶媒、可塑剤等を添加混合して得た金属ペースト
を従来周知のスクリーン印刷法等の厚膜手法を採用して
絶縁基体1となるセラミックグリーンシートに予め印刷
塗布しておき、これをセラミックグリーンシートと同時
に焼成することによって絶縁基体1の凹部1a周辺から
上面にかけて所定パターンに被着形成される。
【0021】なお、前記メタライズ配線層5はその表面
にニッケル、金等の良導電性で耐蝕性及びロウ材との濡
れ性が良好な金属をめっき法により1〜20μmの厚み
に被着させておくと、メタライズ配線層5の酸化腐食を
有効に防止することができるとともにメタライズ配線層
5とボンディングワイヤ6との接続及びメタライズ配線
層5と外部リード端子7とのロウ付けを極めて強固とな
すことができる。従って、メタライズ配線層5の酸化腐
食を防止し、メタライズ配線層5とボンディングワイヤ
6との接続及びメタライズ配線層5と外部リード端子7
とのロウ付けを強固となすには、メタライズ配線層5の
表面にニッケル、金等をめっき法により1〜20μmの
厚みに被着させておくことが好ましい。
【0022】また一方、前記メタライズ配線層5にロウ
付けされる外部リード端子7は絶縁容器4の内部に収容
する半導体素子3を外部電気回路に接続する作用をな
し、外部リード端子7を外部電気回路に接続することに
よって内部に収容される半導体素子3はボンディングワ
イヤ6、メタライズ配線層5及び外部リード端子7を介
して外部電気回路に電気的に接続されることとなる。
【0023】前記外部リード端子7は鉄ーニッケルーコ
バルト合金や鉄ーニッケル合金等の金属材料から成り、
鉄−ニッケルーコバルト合金等のインゴット(塊)に圧
延加工法や打ち抜き加工法等、従来周知の金属加工法を
施すことによって所定の形状に形成される。
【0024】前記外部リード端子7はまたその表面にニ
ッケル、金等の良導電性で、かつ耐蝕性に優れた金属を
めっき法により1〜20μmの厚みに被着させておく
と、外部リード端子7の酸化腐蝕を有効に防止すること
ができるとともに外部リード端子7と外部電気回路との
電気的接続を良好となすことができる。そのため、前記
外部リード端子7はその表面にニッケル、金等をめっき
法により1〜20μmの厚みに被着させておくことが好
ましい。
【0025】更に前記外部リード端子7が取着された絶
縁基体1はその上面あるいは下面に蓋体2が封止材8を
介して接合され、これによって絶縁基体1と蓋体2とか
ら成る絶縁容器4の内部に半導体素子3が気密に収容さ
れる。
【0026】前記封止材8は図2に示すように第1部材
8aの上下に第2部材8bを配した3層構造を有してお
り、該第2部材8bは絶縁基体1及び蓋体2と第1部材
8aとの熱膨張係数の相違を緩和する作用をなし、また
第1部材8aは絶縁基体1と蓋体2とから成る絶縁容器
4の気密封止の温度を低下させる作用をなす。
【0027】前記第1部材8aと第2部材8bとから成
る封止材8は第2部材8bを絶縁基体1及び蓋体2の各
々の対向面に予め被着させておき、しかる後、絶縁基体
1及び蓋体2の各々に被着されている第2部材8bを第
1部材8aで接合することによって絶縁基体1と蓋体2
とを接合し、絶縁容器4の内部を気密に封止する。
【0028】前記封止材8を構成する第1部材8a及び
第2部材8bはそれぞれ酸化銀40乃至60重量%、五
酸化燐20乃至30重量%、酸化亜鉛1乃至6重量%の
ガラス成分と、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体の
フィラーとで形成されており、第1部材8aのフィラー
含有量は10乃至30重量%、第2部材8bのフィラー
含有量は31乃至50重量%となっている。
【0029】前記封止材8の第1部材8aと第2部材8
bはその各々が同じガラス成分を有しており、ガラス成
分が同じであるため絶縁容器4を気密に封止する際、策
1部材8aと第2部材8bとは極めて強固に接合するこ
ととなる。
【0030】前記第1部材8aと第2部材8bとから成
る封止材8はそれを構成するガラス成分が40乃至60
重量%の酸化銀と、20乃至30重量%の五酸化燐と、
1乃至6重量%の酸化亜鉛とで形成されており、該ガラ
ス成分の軟化溶融温度は300℃以下と低いことから絶
縁基体1と蓋体2とを接合させ、絶縁容器4を気密に封
止する際の温度を低温となすことができ、その結果、封
止材8の第1部材8aを溶融させる熱が内部に収容する
半導体素子3に作用しても半導体素子3の特性に劣化を
招来することはなく、半導体素子3を長期間にわたり正
常、かつ安定に作動させることが可能となる。
【0031】また同時に半導体素子3が絶縁基体1の凹
部1a底面に樹脂製の接着材を介して接着固定されてい
る場合、該樹脂製接着材は封止材8の第1部材8aの軟
化溶融温度が300℃以下と低いことから第1部材8a
を軟化溶融させる熱によって特性が大きく劣化すること
はなく、これによって半導体素子3を絶縁基体1の凹部
1a底面に極めて強固に接着固定しておくことが可能と
なり、半導体素子3を常に、安定に作動させることがで
きる。
【0032】なお、前記封止材8のガラス成分は、酸化
銀の量が40重量%未満であるとガラスの軟化溶融温度
が高くなって、絶縁容器4を気密封止する際の熱によっ
て半導体素子3の特性に劣化を招来してしまい、また6
0重量%を超えるとガラスの耐薬品性が低下し、絶縁容
器4の気密封止の信頼性が大きく低下してしまう。従っ
て、前記酸化銀の量は40乃至60重量%の範囲に特定
される。
【0033】また五酸化燐の量は20重量%未満である
とガラスの軟化溶融温度が高くなって、絶縁容器4を気
密封止する際の熱によって半導体素子3の特性に劣化を
招来してしまい、また30重量%を超えるとガラスの耐
薬品性が低下し、絶縁容器4の気密封止の信頼性が大き
く低下してしまう。従って、前記五酸化燐の量は20乃
至30重量%の範囲に特定される。
【0034】また酸化亜鉛の量は1重量%未満であると
ガラスの耐薬品性が低下し、絶縁容器4の気密封止の信
頼性が大きく低下してしまい、また6重量%を超えると
ガラスの結晶化が進んで流動性が大きく低下し、絶縁容
器4の気密封止が困難となってしまう。従って、前記酸
化亜鉛の量は1乃至6重量%の範囲に特定される。
【0035】更に前記封止材8には第1部材8a及び第
2部材8bに酸化ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体から
成るフィラーが含有されており、第1部材8aにおける
フィラーの含有量は10乃至30重量%、第2部材8b
におけるフィラー含有量は31乃至50重量%となって
いる。
【0036】前記酸化ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体
から成るフィラーは第1部材8a及び第2部材8bの熱
膨張係数を調整し、絶縁基体1及び蓋体2に封止材8を
強固に接合させ、絶縁容器4の気密封止の信頼性を大き
く向上させるとともに第1部材8a及び第2部材8bの
機械的強度を向上させる作用をなし、第1部材8aにお
けるフィラーの含有量が10重量%未満であると第1部
材8aの機械的強度が低下するとともに第1部材8aの
熱膨張係数が第2部材8bの熱膨張係数に対し大きく相
違して両部材間の接合の信頼性が低下してしまい、また
30重量%を超えると第1部材8aのガラスの流動性が
大きく低下し、絶縁容器4の気密封止が困難となってし
まう。従って、前記第1部材8aに含有されるフイラー
の量は10乃至30重量%の範囲に特定される。
【0037】また第2部材8bに含有されるフィラーの
量は31重量%未満であると第2部材8bの熱膨張係数
が絶縁基体1及び蓋体2の熱膨張係数に対し大きく相違
して第2部材8bを絶縁基体1及び蓋体2に強固に接合
させることができなくなり、また50重量%を超えると
第2部材8bの熱膨張係数が第1部材8aの熱膨張係数
に対し大きく相違して両部材間の接合の信頼性が低下し
てしまう。従って、前記第2部材8bに含有されるフィ
ラーの量は31乃至50重量%の範囲に特定される。
【0038】更に前記封止材8は第1部材8aの厚みが
10μm未満であると第1部材8aの流動性が低下し、
絶縁容器4の気密封止の信頼性が低下する傾向にあり、
また100μmを超えると第1部材8aの機械的強度が
低下し、絶縁容器4の気密封止の信頼性が低下する傾向
にある。従って、絶縁容器4の気密封止の信頼性を極め
て高いものとするには封止材8の第1部材8aはその厚
さを10乃至100μmの範囲としておくことが好まし
い。
【0039】また更に上述の封止材8は第1部材8aの
上下に第2部材8bを配した3層構造のものとしたが、
必ずしも3層構造に限定されるものではなく、封止材8
全体を酸化銀40乃至60重量%、五酸化燐20乃至3
0重量%、酸化亜鉛1乃至6重量%から成るガラス成分
で形成しておき、これに酸化ジルコニウム、酸化ニオブ
固溶体から成るフィラーを絶縁基体1及び蓋体2と接す
る領域は31乃至50重量%の範囲に、中央域は10乃
至30重量%の範囲になるように表面部から中央部に向
かって徐々に少なくなるよう段階的に添加含有させてお
いてもよい。この場合、上述した3層構造の場合と同
様、封止材8を絶縁基体1及び蓋体2に強固に接合さ
せ、かつ封止温度を低温として絶縁容器4の内部に収容
される半導体素子3に特性の劣化を招来することなく絶
縁容器4の気密封止を完全となすことができ、これによ
って絶縁容器4の内部に収容する半導体素子3に長期間
にわたり正常、かつ安定に作動させることが可能とな
る。
【0040】かくして上述の半導体素子収納用パッケー
ジによれば絶縁基体1の凹部1a底面に半導体素子3を
ガラス、樹脂、ロウ材等から成る接着材を介して接着固
定するとともに半導体素子3の各電極をメタライズ配線
層5にボンディングワイヤ6を介して電気的に接続し、
しかる後、絶縁基体1の上面に凹部1aを覆うように蓋
体2を封止材8を介して接合させ、絶縁基体1と蓋体2
とから成る絶縁容器4の内部に半導体素子3を気密に収
容することによって最終製品としての半導体装置が完成
する。
【0041】次に図3は本発明の電子部品収納用容器の
実施の形態の他の例を示す断面図であり、同図において
は電子部品が水晶振動子等の圧電振動子であり、電子部
品収納用容器が圧電振動子収納用容器である場合の例を
示している。
【0042】図3において11は絶縁基体、12は蓋体
である。この絶縁基体11と蓋体12とで圧電振動子1
3を収容するための絶縁容器14が構成される。
【0043】前記絶縁基体11はその上面に圧電振動子
13を収容する空所を形成するための段差部を有する凹
部11aが設けてあり、この凹部11aの段差部には圧
電振動子13が樹脂から成る接着材15を介して接着固
定される。
【0044】前記樹脂製接着材15は、例えば、導電性
エポキシ樹脂や導電性ポリイミド樹脂等から成り、絶縁
基体11の凹部11aの段差部に接着材15を介して圧
電振動子13を載置させ、しかる後、接着材15に熱硬
化処理を施し、熱硬化させることによって圧電振動子1
3を絶縁基体11に接着固定させる。
【0045】なお、前記絶縁基体11は前述の絶縁基体
11と同様の方法によって製作される。
【0046】また前記絶縁基体11には凹部11aの段
差部より底面にかけて複数個のメタライズ配線層16が
被着形成されており、該メタライズ配線層16の凹部1
1aの段差部に位置する部位には圧電振動子13の各電
極が導電性エポキシ樹脂等から成る接着材15を介して
電気的に接続され、また絶縁基体11の底面に導出され
た部位には外部電気回路の配線導体が半田等のロウ材を
介して取着される。
【0047】なお、前記メタライズ配線層16は前述の
メタライズ配線層5と同様の材料により同様の方法によ
って形成される。またメタライズ配線層16の露出表面
にニッケル、金等の良導電性で耐蝕性及びロウ材との濡
れ性が良好な金属をめっき法により1〜20μmの厚み
に被着させておくと、メタライズ配線層16の酸化腐食
を有効に防止することができるとともにメタライズ配線
層16を外部電気回路の配線導体に半田等を介して極め
て強固に接続させることができる。従って、メタライズ
配線層16の酸化腐蝕を防止し、メタライズ配線層16
と外部電気回路との接続を強固となすには、メタライズ
配線層16の表面にニッケル、金等をめっき法により1
〜20μmの厚みに被着させておくことが好ましい。
【0048】また前記圧電振動子13が接着固定されて
いる絶縁基体11の上面には電気絶縁材料から成る蓋体
12が封止材17を介して接合され、これによって絶縁
基体11と蓋体12とから絶縁容器14の内部に圧電振
動子13が気密に収容される。
【0049】前記封止材17は、前述の封止材8と同
様、第1部材の上下に第2部材を配した3層構造を有し
ており、該第1部材及び第2部材は酸化銀40乃至60
重量%、五酸化燐20乃至30重量%、酸化亜鉛1乃至
6重量%のガラス成分と、酸化ジルコニウム、酸化ニオ
ブ固溶体のフィラーとから成り、第1部材のフィラー含
有量を10乃至30重量%、第2部材のフィラー含有量
を31乃至50重量%として形成されている。
【0050】前記封止材17の第2部材は絶縁基体11
及び蓋体12と第1部材との熱膨張係数の相違を緩和す
る作用をなし、また第1部材は絶縁基体11と蓋体12
とから成る絶縁容器14の気密封止の温度を低下させる
作用をなす。
【0051】前記封止材17は、それを構成するガラス
成分が40乃至60重量%の酸化銀と、20乃至30重
量%の五酸化燐と、1乃至6重量%の酸化亜鉛とで形成
されており、該ガラス成分の軟化溶融温度は300℃以
下と低いことから絶縁基体11と蓋体12とを接合さ
せ、絶縁容器14を気密に封止する際の温度を低温とな
すことができ、その結果、封止材17の第1部材を溶融
させる熱が内部に収容する圧電振動子13に作用しても
圧電振動子13の特性に劣化を招来することはなく、圧
電振動子13を長期間にわたり正常、かつ安定に作動さ
せることが可能となる。
【0052】また同時に圧電振動子13が絶縁基体11
の凹部11aに設けた段差部に樹脂製接着材を介して接
着固定されていても、該樹脂製接着材は封止材17の第
1部材の軟化溶融温度が300℃以下と低いことから第
1部材を軟化溶融させる熱によって特性が大きく劣化す
ることはなく、これによって圧電振動子13を絶縁基体
1の凹部1aに設けた段差部に極めて強固に接着固定し
ておくことが可能となり、圧電振動子13を常に、安定
に作動させることができる。
【0053】更に前記封止材17の第1部材及び第2部
材には酸化ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体から成るフ
ィラーが含有されており、第1部材におけるフィラーの
含有量は10乃至30重量%、第2部材におけるフィラ
ー含有量は31乃至50重量%となっている。この酸化
ジルコニウム、酸化ニオブ固溶体から成るフィラーは第
1部材及び第2部材の熱膨張係数を調整し、絶縁基体1
1及び蓋体12に封止材17を強固に接合させ、絶縁容
器14の気密封止の信頼性を大きく向上させるとともに
第1部材及び第2部材の機械的強度を向上させる作用を
なし、第1部材におけるフィラーの含有量を10乃至3
0重量%の範囲としておくことによって第1部材の機械
的強度及び絶縁容器を気密封止する際の流動性を良好と
し、絶縁基体11及び蓋体12の各々の対向面に予め被
着されている第2部材と強固に接合して絶縁容器14の
気密封止の信頼性を大きく向上させることができ、また
第2部材におけるフィラーの含有量を31乃至50重量
%の範囲としておくことによって絶縁基体11及び蓋体
12の熱膨張係数と第1部材の熱膨張係数の相違を緩和
し、これによって封止材17に不要な応力が発生するの
を有効に防止し、絶縁基体11と蓋体12とを封止材1
7によって極めて強固に、かつ信頼性高く接合させるこ
とができる。
【0054】なお、前記封止材17はガラス成分とフィ
ラーとから成り、耐湿性に優れていることから大気中に
含まれる水分が封止材17を介して絶縁容器14の内部
に侵入しようとしてもその水分の侵入は有効に阻止さ
れ、その結果、絶縁容器14の内部に収容する圧電振動
子13の表面電極が酸化腐蝕されることは殆どなく、圧
電振動子13を常に正常に作動させることも可能とな
る。
【0055】かくして本発明の電子部品収納用容器によ
れば絶縁基体11の凹部11aに設けた段差部に圧電振
動子13の一端を導電性エポキシ樹脂等から成る接着材
15を介して接着固定するとともに圧電振動子13の各
電極をメタライズ配線層16に電気的に接続させ、しか
る後、絶縁基体11の上面に凹部11aを覆うように蓋
体12を封止材17を介して接合させ、絶縁基体11と
蓋体12とから成る絶縁容器14の内部に圧電振動子1
3を気密に収容することによって最終製品としての圧電
振動装置が完成する。
【0056】なお、本発明は上述の実施の形態に限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であ
れば種々の変更は可能であり、例えば、前述の例では半
導体素子や圧電振動子を収容するための電子部品収納用
容器を例示したが、圧電磁気振動子や弾性表面波素子等
を収容するための電子部品収納用容器にも適用し得る。
【0057】
【発明の効果】本発明の電子部品収納用容器によれば、
封止材の絶縁基体と蓋体とに接する領域の熱膨張係数が
絶縁基体と蓋体の熱膨張係数に近似し、これによって封
止材と絶縁基体及び蓋体とは強固に接合して絶縁容器の
気密封止が完全となり、絶縁容器の内部に収容する電子
部品を長期間にわたり正常、かつ安定に作動させること
が可能となる。
【0058】また本発明の電子部品収納用容器によれ
ば、絶縁基体と蓋体とから成る絶縁容器を最終的に気密
封止する封止材の中央域の軟化溶融温度が300℃以下
であり、低温であることから絶縁基体と蓋体とを封止材
を介して接合させ、絶縁基体と蓋体とから成る絶縁容器
の内部に電子部品を気密に収容する際、封止材を溶融さ
せる熱が内部に収容する電子部品に作用しても電子部品
の特性に劣化を招来することはなく、その結果、電子部
品を長期間にわたり正常、かつ安定に作動させることが
可能となる。
【0059】また同時に封止材の中央域の軟化溶融温度
が300℃以下であり、低温であることから絶縁基体と
蓋体とを封止材を介して接合させ、絶縁基体と蓋体とか
ら成る絶縁容器の内部に電子部品を気密に収容する際、
封止材を溶融させる熱によって電子部品を絶縁基体の凹
部の底面あるいは段差部へ接着固定する導電性ポリイミ
ド樹脂等から成る樹脂製の接着材が劣化することもな
く、これによって電子部品を絶縁基体の凹部の底面ある
いは段差部へ接着材を介して極めて強固に接着固定する
ことが可能となり、電子部品を常に、安定に作動させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子部品収納用容器の実施の形態の一
例を示す断面図である。
【図2】図1に示す電子部品収納用容器の要部拡大断面
図である。
【図3】本発明の電子部品収納用容器の実施の形態の他
の例を示す断面図である。
【符号の説明】
1、11・・・・絶縁基体 2、12・・・・蓋体 3、13・・・・電子部品(半導体素子、圧電振動子) 4、14・・・・絶縁容器 8、17・・・・封止材 8a・・・・・・第1部材 8b・・・・・・第2部材

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁基体と蓋体とを封止材を介して接合さ
    せ、絶縁基体と蓋体とから成る容器内部に電子部品を気
    密に収容する電子部品収納用容器であって、前記封止材
    は第1部材の上下に第2部材を配した3層構造を有して
    おり、該第1部材及び第2部材は酸化銀40乃至60重
    量%、五酸化燐20乃至30重量%、酸化亜鉛1乃至6
    重量%のガラス成分と、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ
    固溶体のフィラーとから成り、第1部材のフィラー含有
    量は10乃至30重量%、第2部材のフィラー含有量は
    31乃至50重量%であることを特徴とする電子部品収
    納用容器。
  2. 【請求項2】絶縁基体と蓋体とを封止材を介して接合さ
    せ、絶縁基体と蓋体とから成る容器内部に電子部品を気
    密に収容する電子部品収納用容器であって、前記封止材
    は酸化銀40乃至60重量%、五酸化燐20乃至30重
    量%、酸化亜鉛1乃至6重量%のガラス成分と、酸化ジ
    ルコニウム、酸化ニオブ固溶体のフィラーとから成り、
    絶縁基体及び蓋体と接する領域のフィラー含有量が31
    乃至50重量%、中央域のフィラー含有量が10乃至3
    0重量%であることを特徴とする電子部品収納用容器。
JP10036403A 1998-02-18 1998-02-18 電子部品収納用容器 Pending JPH11233665A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10036403A JPH11233665A (ja) 1998-02-18 1998-02-18 電子部品収納用容器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10036403A JPH11233665A (ja) 1998-02-18 1998-02-18 電子部品収納用容器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11233665A true JPH11233665A (ja) 1999-08-27

Family

ID=12468887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10036403A Pending JPH11233665A (ja) 1998-02-18 1998-02-18 電子部品収納用容器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11233665A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001358241A (ja) 電子部品収納用容器
JP3464138B2 (ja) 電子部品収納用パッケージ
JP4279970B2 (ja) 電子部品収納用容器
JP3464136B2 (ja) 電子部品収納用パッケージ
JPH11233665A (ja) 電子部品収納用容器
JP2750232B2 (ja) 電子部品収納用パッケージ
JP3359536B2 (ja) 電子部品収納用容器
JP2514094Y2 (ja) 半導体素子収納用パッケ―ジ
JP3464137B2 (ja) 電子部品収納用パッケージ
JP2801449B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP2000183560A (ja) 電子部品収納用容器
JP3462072B2 (ja) 電子部品収納用容器
JP4051162B2 (ja) 電子部品収納用容器の製造方法
JPH11126844A (ja) 電子部品収納用容器
JP3464143B2 (ja) 電子部品収納用パッケージ
JP3715836B2 (ja) 電子部品収納用容器およびその製造方法
JP3495247B2 (ja) 電子部品収納用容器
JPH11126845A (ja) 電子部品収納用容器
JP3716112B2 (ja) 電子部品収納用容器
JPH10303325A (ja) 電子部品収納用容器
JP3117387B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPH11233663A (ja) 電子部品収納用容器
JP2750255B2 (ja) 電子部品収納用パッケージ
JPH11274346A (ja) 電子部品収納用容器
JPH0936145A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040330