JPH11228152A - ガラス基板の成形方法および成形装置 - Google Patents
ガラス基板の成形方法および成形装置Info
- Publication number
- JPH11228152A JPH11228152A JP2954898A JP2954898A JPH11228152A JP H11228152 A JPH11228152 A JP H11228152A JP 2954898 A JP2954898 A JP 2954898A JP 2954898 A JP2954898 A JP 2954898A JP H11228152 A JPH11228152 A JP H11228152A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- gob
- mold
- outer peripheral
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/12—Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould
- C03B11/122—Heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/12—Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould
- C03B11/125—Cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/40—Product characteristics
- C03B2215/44—Flat, parallel-faced disc or plate products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/40—Product characteristics
- C03B2215/45—Ring or doughnut disc products or their preforms
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス基板の温度分布を均一にして、ヒケの
発生を防止し、平行度の良好なガラス基板を連続して作
製するガラス基板の成形方法および成形装置を提供す
る。 【解決手段】 溶融ガラスから形成されたゴブ３４をプ
レス加工により所定形状に成形するガラス基板の成形方
法および成形装置である。プレス用の上型３３および下
型３２として、少なくとも複数の下型３２と、下型３２
よりも少ない数の上型３２を用い、上型３２は、冷却水
溝３６・３８に冷却水を循環させることにより中央部よ
りも外周部を高温の状態とし、かつ、下型３２は、その
外周部を側面ヒータ４０により加熱することで中央部よ
りも外周部を高温の状態として、ゴブ３４をプレス成形
する。
発生を防止し、平行度の良好なガラス基板を連続して作
製するガラス基板の成形方法および成形装置を提供す
る。 【解決手段】 溶融ガラスから形成されたゴブ３４をプ
レス加工により所定形状に成形するガラス基板の成形方
法および成形装置である。プレス用の上型３３および下
型３２として、少なくとも複数の下型３２と、下型３２
よりも少ない数の上型３２を用い、上型３２は、冷却水
溝３６・３８に冷却水を循環させることにより中央部よ
りも外周部を高温の状態とし、かつ、下型３２は、その
外周部を側面ヒータ４０により加熱することで中央部よ
りも外周部を高温の状態として、ゴブ３４をプレス成形
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、主にコンピュー
タの情報記録媒体として使用されるハードディスク用の
基板として用いられるガラス基板の成形方法および成形
装置に関する。
タの情報記録媒体として使用されるハードディスク用の
基板として用いられるガラス基板の成形方法および成形
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】 近年、コンピュータの普及と種々のソ
フトウェアの高容量化が進行する傾向にあり、これに伴
って、大量の情報を高速に記録／読出することのできる
情報記録媒体としてのハードディスクの開発において
は、従来のアルミニウム金属を用いた基板に変えて、硬
度や平滑性に優れるガラス基板、特に結晶化ガラスを用
いたガラス基板を用いる動きが活発になってきている。
フトウェアの高容量化が進行する傾向にあり、これに伴
って、大量の情報を高速に記録／読出することのできる
情報記録媒体としてのハードディスクの開発において
は、従来のアルミニウム金属を用いた基板に変えて、硬
度や平滑性に優れるガラス基板、特に結晶化ガラスを用
いたガラス基板を用いる動きが活発になってきている。
【０００３】 一般的に、このようなガラス基板は、図
６に示すように、特定の組成に調合されたガラス材料を
溶融したものをプレス型に流し込んでプレス成形して作
製される。すなわち、ノズル５１から押し出された溶融
ガラス５２を一定量ほどシャー５３で切断して、周囲を
胴型５４の円筒壁で囲まれた下型５５上へ落とし、上型
５６で胴型５４の上面を蓋した後に下型５５を押し上げ
ることで、上型５６と下型５５および胴型５４によって
囲まれた空間に溶融ガラス５２を密に充填し、ディスク
状のガラス基板５７を成形する方法が採られている。
６に示すように、特定の組成に調合されたガラス材料を
溶融したものをプレス型に流し込んでプレス成形して作
製される。すなわち、ノズル５１から押し出された溶融
ガラス５２を一定量ほどシャー５３で切断して、周囲を
胴型５４の円筒壁で囲まれた下型５５上へ落とし、上型
５６で胴型５４の上面を蓋した後に下型５５を押し上げ
ることで、上型５６と下型５５および胴型５４によって
囲まれた空間に溶融ガラス５２を密に充填し、ディスク
状のガラス基板５７を成形する方法が採られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】 ここで、ノズル５１
から押し出しまたは滴下等された溶融ガラス５２は、一
般的に「ゴブ」と呼ばれるが、ゴブは１０００℃以上の
高温である場合がほとんどである。これに対し、下型５
５等のプレス型は、溶融ガラス５２の急冷による熱応力
の発生等を回避するため、溶融ガラス５２のガラス転移
点等を考慮して、３００℃〜７００℃の高温に予熱され
るが、ゴブの温度にまで予熱されることはない。
から押し出しまたは滴下等された溶融ガラス５２は、一
般的に「ゴブ」と呼ばれるが、ゴブは１０００℃以上の
高温である場合がほとんどである。これに対し、下型５
５等のプレス型は、溶融ガラス５２の急冷による熱応力
の発生等を回避するため、溶融ガラス５２のガラス転移
点等を考慮して、３００℃〜７００℃の高温に予熱され
るが、ゴブの温度にまで予熱されることはない。
【０００５】 したがって、図７に示したように、ゴブ
５８と接触した下型５５は、ゴブ５８からの熱伝導によ
り、中央部で高温となり、外周部へ向かうにつれて低温
となるような温度勾配が生ずる。そして、上型５６をゴ
ブ５８に密着させたときにも、上型５６には下型５５と
同様の温度勾配が生ずる。
５８と接触した下型５５は、ゴブ５８からの熱伝導によ
り、中央部で高温となり、外周部へ向かうにつれて低温
となるような温度勾配が生ずる。そして、上型５６をゴ
ブ５８に密着させたときにも、上型５６には下型５５と
同様の温度勾配が生ずる。
【０００６】 こうして、温度勾配の生じた上型５６お
よび下型５５によってプレスされたガラス基板５７にお
いても、中央部から外周部へ向けて温度が低くなるよう
な温度勾配が生じ、外周部ほど硬化が速く進行し、一
方、中央部はゆっくり硬化することとなる。これによ
り、図７に示されるように、ガラス基板５７の中央部
は、外周部に比べて硬化による厚み方向の収縮が大きく
なり、外周部よりも中央部の厚みが薄くなる「ヒケ」と
呼ばれる窪みを生ずる。このヒケ５９が生ずると、ガラ
ス基板５７の平行度は、著しく低下する。
よび下型５５によってプレスされたガラス基板５７にお
いても、中央部から外周部へ向けて温度が低くなるよう
な温度勾配が生じ、外周部ほど硬化が速く進行し、一
方、中央部はゆっくり硬化することとなる。これによ
り、図７に示されるように、ガラス基板５７の中央部
は、外周部に比べて硬化による厚み方向の収縮が大きく
なり、外周部よりも中央部の厚みが薄くなる「ヒケ」と
呼ばれる窪みを生ずる。このヒケ５９が生ずると、ガラ
ス基板５７の平行度は、著しく低下する。
【０００７】 このヒケ５９が発生する場合には、ガラ
スの成形時にこのヒケ５９を考慮した肉厚のガラス基板
５７を作製しなければならず、かつ、成形されたガラス
基板５７の厚み方向のラッピング深さ（研磨深さ）が深
くなるといった欠点がある。一方、上型および下型のプ
レス面を、硬化後のガラス基板全体の平行度が良好にな
るように、このヒケを考慮して厚み分布を有するような
形状とすることも考えられるが、プレス条件や形状を設
定するための実験の手間や金型の加工コストが高くなる
といった面で問題がある。
スの成形時にこのヒケ５９を考慮した肉厚のガラス基板
５７を作製しなければならず、かつ、成形されたガラス
基板５７の厚み方向のラッピング深さ（研磨深さ）が深
くなるといった欠点がある。一方、上型および下型のプ
レス面を、硬化後のガラス基板全体の平行度が良好にな
るように、このヒケを考慮して厚み分布を有するような
形状とすることも考えられるが、プレス条件や形状を設
定するための実験の手間や金型の加工コストが高くなる
といった面で問題がある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】 本発明は上述した従来
技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的と
するところは、簡便な方法により、ガラス基板の温度分
布を均一にして、ヒケの発生を防止し、平行度の良好な
ガラス基板を作製するガラス基板の成形方法及び成形装
置を提供することにある。
技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的と
するところは、簡便な方法により、ガラス基板の温度分
布を均一にして、ヒケの発生を防止し、平行度の良好な
ガラス基板を作製するガラス基板の成形方法及び成形装
置を提供することにある。
【０００９】 すなわち、本発明によれば、溶融ガラス
から形成されたゴブをプレス加工により所定形状に成形
するガラス基板の成形方法であって、プレス用の上型お
よび下型として、少なくとも複数の下型と、当該下型よ
りも少ない数の上型を用い、当該上型は、その中央部を
冷却することにより中央部よりも外周部を高温の状態と
し、かつ、当該下型は、その外周部を加熱することによ
り中央部よりも外周部を高温の状態として、当該下型上
に形成されたゴブをプレス成形することを特徴とするガ
ラス基板の成形方法、が提供される。
から形成されたゴブをプレス加工により所定形状に成形
するガラス基板の成形方法であって、プレス用の上型お
よび下型として、少なくとも複数の下型と、当該下型よ
りも少ない数の上型を用い、当該上型は、その中央部を
冷却することにより中央部よりも外周部を高温の状態と
し、かつ、当該下型は、その外周部を加熱することによ
り中央部よりも外周部を高温の状態として、当該下型上
に形成されたゴブをプレス成形することを特徴とするガ
ラス基板の成形方法、が提供される。
【００１０】 本発明のガラス基板の成形方法において
は、上型および下型は、好適には、その外周部がその中
央部よりも１０〜３００℃ほど温度の高い状態に設定さ
れる。
は、上型および下型は、好適には、その外周部がその中
央部よりも１０〜３００℃ほど温度の高い状態に設定さ
れる。
【００１１】 また、上述したガラス基板の成形方法を
実施するために好適に用いられるガラス基板の成形装置
として、本発明によれば、回転可能なターンテーブル上
面の同一円周上に、少なくとも複数のプレス成形用の下
型が配設され、当該下型よりも少ない数のプレス成形用
の上型が、当該下型と押し合わされる位置に配設されて
なるガラス基板の成形装置であって、所定の位置におい
て、少なくとも１つの当該下型に、溶融ガラスを滴下し
てゴブを形成した後、当該ターンテーブルを所定角度回
転させて、当該下型を当該上型の配設位置へ移動させ
て、当該ゴブを所定形状にプレス成形することを特徴と
するガラス基板の成形装置、が提供される。
実施するために好適に用いられるガラス基板の成形装置
として、本発明によれば、回転可能なターンテーブル上
面の同一円周上に、少なくとも複数のプレス成形用の下
型が配設され、当該下型よりも少ない数のプレス成形用
の上型が、当該下型と押し合わされる位置に配設されて
なるガラス基板の成形装置であって、所定の位置におい
て、少なくとも１つの当該下型に、溶融ガラスを滴下し
てゴブを形成した後、当該ターンテーブルを所定角度回
転させて、当該下型を当該上型の配設位置へ移動させ
て、当該ゴブを所定形状にプレス成形することを特徴と
するガラス基板の成形装置、が提供される。
【００１２】 このガラス基板の成形装置においては、
上型の中央部には、冷却水を循環させるための冷却水溝
を設け、下型の外周部には、電気ヒータを配設すること
が好ましい。また、上型および下型としては、互いにゴ
ブを介せず、直接に合わせられる接触部を有するもの、
また、ゴブの余剰体積部を、当該ゴブの外周部に押し出
すための空間部を有するものが好適に用いられる。
上型の中央部には、冷却水を循環させるための冷却水溝
を設け、下型の外周部には、電気ヒータを配設すること
が好ましい。また、上型および下型としては、互いにゴ
ブを介せず、直接に合わせられる接触部を有するもの、
また、ゴブの余剰体積部を、当該ゴブの外周部に押し出
すための空間部を有するものが好適に用いられる。
【００１３】
【発明の実施の形態】 上述の通り、本発明のガラス基
板の成形方法および成形装置によれば、簡便な方法によ
り、ゴブをプレス成形して得られるガラス基板に生ずる
ヒケの発生を防止することができ、平行度に優れるガラ
ス基板を得ることができるようになる。
板の成形方法および成形装置によれば、簡便な方法によ
り、ゴブをプレス成形して得られるガラス基板に生ずる
ヒケの発生を防止することができ、平行度に優れるガラ
ス基板を得ることができるようになる。
【００１４】 以下、本発明の実施の形態について、円
板状のガラス基板の成形方法および成形装置を主な例と
して説明するが、本発明のガラス基板の成形方法は、そ
の他種々の形状のガラス基板の作製に用いることができ
る。したがって、本発明が以下の実施の形態に限定され
るものでないことは言うまでもない。
板状のガラス基板の成形方法および成形装置を主な例と
して説明するが、本発明のガラス基板の成形方法は、そ
の他種々の形状のガラス基板の作製に用いることができ
る。したがって、本発明が以下の実施の形態に限定され
るものでないことは言うまでもない。
【００１５】 本発明は、溶融ガラスから形成されたゴ
ブを、プレス加工により所定形状に成形するガラス基板
の成形方法であって、プレス用の上型および下型とし
て、少なくとも複数の下型と、この下型よりも少ない数
の上型を用い、上型は、その中央部を冷却することによ
り中央部よりも外周部を高温の状態とし、かつ、下型
は、その外周部を加熱することにより中央部よりも外周
部を高温の状態として、この下型上に形成されたゴブを
プレス成形するガラス基板の成形方法である。
ブを、プレス加工により所定形状に成形するガラス基板
の成形方法であって、プレス用の上型および下型とし
て、少なくとも複数の下型と、この下型よりも少ない数
の上型を用い、上型は、その中央部を冷却することによ
り中央部よりも外周部を高温の状態とし、かつ、下型
は、その外周部を加熱することにより中央部よりも外周
部を高温の状態として、この下型上に形成されたゴブを
プレス成形するガラス基板の成形方法である。
【００１６】 このようなガラス基板の成形方法を実施
するために、好適に使用されるガラス基板の成形装置の
一実施形態の主要部を示す説明図を図１に示す。成形装
置３０においては、回転可能なターンテーブル３１上面
の同一円周上に、少なくとも複数のプレス成形用の下型
３２が配設されている。また、下型３２よりも少ない数
のプレス成形用の上型３３が、下型３２と押し合わされ
る位置に配設されている。
するために、好適に使用されるガラス基板の成形装置の
一実施形態の主要部を示す説明図を図１に示す。成形装
置３０においては、回転可能なターンテーブル３１上面
の同一円周上に、少なくとも複数のプレス成形用の下型
３２が配設されている。また、下型３２よりも少ない数
のプレス成形用の上型３３が、下型３２と押し合わされ
る位置に配設されている。
【００１７】 そして、所定の位置において、少なくと
も１つの下型３２に、溶融ガラスを滴下してゴブ３４を
形成した後、ターンテーブル３１を所定角度回転させ
て、下型３２を上型３３の配設位置へ移動させて、ゴブ
３４を所定形状にプレスし、ガラス基板３５が成形され
る。たとえば、図１においては、所定の位置７Ａにある
下型３２上にゴブ３４を形成した後、ターンテーブル３
１を４５゜回転させて、ゴブ３４が形成された下型３２
を上型３３の配設位置である７Ｂへ移動させて、ゴブ３
４を所定形状にプレス成形する。
も１つの下型３２に、溶融ガラスを滴下してゴブ３４を
形成した後、ターンテーブル３１を所定角度回転させ
て、下型３２を上型３３の配設位置へ移動させて、ゴブ
３４を所定形状にプレスし、ガラス基板３５が成形され
る。たとえば、図１においては、所定の位置７Ａにある
下型３２上にゴブ３４を形成した後、ターンテーブル３
１を４５゜回転させて、ゴブ３４が形成された下型３２
を上型３３の配設位置である７Ｂへ移動させて、ゴブ３
４を所定形状にプレス成形する。
【００１８】 一方、位置７Ｂにおいて、成形されたガ
ラス基板３５は、位置７Ｂから位置７Ｃ〜７Ｇを経由し
てターンテーブル３１上の位置７Ｈに移動し、位置７Ｈ
において、搬送アーム等を用いて取り出され、次工程へ
と送られる。この移動の間に、ガラス基板３５は硬化し
て形状が安定化し、次工程への搬送によってガラス基板
３５に変形等が生ずることが防止される。こうして、位
置７Ａにおいてゴブ３４が形成される間に、位置７Ｈに
あるガラス基板３５は、製造装置３０の外部へ搬送さ
れ、かつ、位置７Ｂにおいては、プレス成形が行われる
こととなる。
ラス基板３５は、位置７Ｂから位置７Ｃ〜７Ｇを経由し
てターンテーブル３１上の位置７Ｈに移動し、位置７Ｈ
において、搬送アーム等を用いて取り出され、次工程へ
と送られる。この移動の間に、ガラス基板３５は硬化し
て形状が安定化し、次工程への搬送によってガラス基板
３５に変形等が生ずることが防止される。こうして、位
置７Ａにおいてゴブ３４が形成される間に、位置７Ｈに
あるガラス基板３５は、製造装置３０の外部へ搬送さ
れ、かつ、位置７Ｂにおいては、プレス成形が行われる
こととなる。
【００１９】 こうして、位置７Ａ、７Ｂ、７Ｈにおけ
る各処理が終了した時点で、ターンテーブル３１を４５
゜回転させると、位置７Ａにくる下型３２には、何も載
置されていないので、ゴブ３４を形成することができ、
位置７Ｂにくる下型３２には、ゴブが形成されているの
で、プレス成形を行ってガラス基板３５を形成し、ま
た、位置７Ｈにくる下型３２には、ガラス基板３５が載
置されているので、ガラス基板３５を次工程へと搬送す
ることができる。こうして、各位置において、同じ処理
を繰り返して行うことが可能となる。
る各処理が終了した時点で、ターンテーブル３１を４５
゜回転させると、位置７Ａにくる下型３２には、何も載
置されていないので、ゴブ３４を形成することができ、
位置７Ｂにくる下型３２には、ゴブが形成されているの
で、プレス成形を行ってガラス基板３５を形成し、ま
た、位置７Ｈにくる下型３２には、ガラス基板３５が載
置されているので、ガラス基板３５を次工程へと搬送す
ることができる。こうして、各位置において、同じ処理
を繰り返して行うことが可能となる。
【００２０】 上述の実施形態においては、結果的に、
３ヶ所においてゴブの成形から得られたガラス基板の搬
送までを行っているが、ここで、たとえば、位置７Ｄに
おいて位置７Ｂで成形されたガラス基板３５を次工程へ
と搬送し、位置７Ｅにおいてゴブ３４を形成し、さら
に、位置７Ｆにおいてゴブ３４のプレス成形を行うよう
に、１枚のターンテーブル３１において、２ヶ所でゴブ
３４の形成等を行うようにすることも可能である。さら
に、ゴブ３４を形成するための溶融ガラスを押し出すノ
ズルを移動できるようにすることで、ゴブ３４の形成と
プレス成形を同じ位置で行うこともできる。
３ヶ所においてゴブの成形から得られたガラス基板の搬
送までを行っているが、ここで、たとえば、位置７Ｄに
おいて位置７Ｂで成形されたガラス基板３５を次工程へ
と搬送し、位置７Ｅにおいてゴブ３４を形成し、さら
に、位置７Ｆにおいてゴブ３４のプレス成形を行うよう
に、１枚のターンテーブル３１において、２ヶ所でゴブ
３４の形成等を行うようにすることも可能である。さら
に、ゴブ３４を形成するための溶融ガラスを押し出すノ
ズルを移動できるようにすることで、ゴブ３４の形成と
プレス成形を同じ位置で行うこともできる。
【００２１】 なお、ゴブ３４の形成とプレス成形およ
び得られたガラス基板３５の搬送を同じ位置にて行うこ
ともできる。しかし、このような場合には、ターンテー
ブル３１の必要性はなくなり、また、ガラス基板１枚当
たりの成形速度を速めようとすると、プレス成形直後の
形状が安定しないガラス基板３５を搬送することとなる
ので、搬送によるガラス基板の変形が危惧され、一方、
得られたガラス基板の形状が安定するまで冷却を待つ
と、ガラス基板１枚当たりの成形速度が遅くなるといっ
た問題が生ずるため、好ましくない。
び得られたガラス基板３５の搬送を同じ位置にて行うこ
ともできる。しかし、このような場合には、ターンテー
ブル３１の必要性はなくなり、また、ガラス基板１枚当
たりの成形速度を速めようとすると、プレス成形直後の
形状が安定しないガラス基板３５を搬送することとなる
ので、搬送によるガラス基板の変形が危惧され、一方、
得られたガラス基板の形状が安定するまで冷却を待つ
と、ガラス基板１枚当たりの成形速度が遅くなるといっ
た問題が生ずるため、好ましくない。
【００２２】 上述した本発明のガラス基板の成形装置
３０においては、そのままでは、上型３３の数が下型３
２の数よりも少なく設定されているため、連続してガラ
ス基板３５を作製する場合には、上型３３は断続的に高
温のゴブ３４をプレスしていくにつれてその中央部が徐
々に高温となっていき、自然冷却されやすい外周部との
温度差が大きくなっていくといった問題が生ずる。
３０においては、そのままでは、上型３３の数が下型３
２の数よりも少なく設定されているため、連続してガラ
ス基板３５を作製する場合には、上型３３は断続的に高
温のゴブ３４をプレスしていくにつれてその中央部が徐
々に高温となっていき、自然冷却されやすい外周部との
温度差が大きくなっていくといった問題が生ずる。
【００２３】 これに対し、下型３２は、ゴブ３４が形
成され、プレス成形されることでその中央部が暖めら
れ、自然に冷却されやすい外周部との温度差が生ずるこ
とは上型３３の場合と同様であるが、下型３２は、ゴブ
３４がプレス成形された後は、ガラス基板３５が次工程
へ搬送されるまでの間は、自然と下型３２の当初の予熱
温度に向けて冷却されることとなる。
成され、プレス成形されることでその中央部が暖めら
れ、自然に冷却されやすい外周部との温度差が生ずるこ
とは上型３３の場合と同様であるが、下型３２は、ゴブ
３４がプレス成形された後は、ガラス基板３５が次工程
へ搬送されるまでの間は、自然と下型３２の当初の予熱
温度に向けて冷却されることとなる。
【００２４】 こうして、上型３３と下型３２には、そ
れぞれにおいて中央部と外周部との間に温度勾配が生
じ、かつ、上型３３と下型３２との予熱温度に差が生ず
ることとなる。このような上型３３および下型３２の温
度差により、ガラス基板３５は、全体的に見れば、温度
が高く保持される中央部において最も高温となり、最も
ゆっくり冷却されながら硬化する一方で、温度の低い外
周部は速く硬化することとなる。これにより、先に図７
に示したようなヒケ５９がガラス基板３５に生じ、平行
度を低下させる。
れぞれにおいて中央部と外周部との間に温度勾配が生
じ、かつ、上型３３と下型３２との予熱温度に差が生ず
ることとなる。このような上型３３および下型３２の温
度差により、ガラス基板３５は、全体的に見れば、温度
が高く保持される中央部において最も高温となり、最も
ゆっくり冷却されながら硬化する一方で、温度の低い外
周部は速く硬化することとなる。これにより、先に図７
に示したようなヒケ５９がガラス基板３５に生じ、平行
度を低下させる。
【００２５】 このようなヒケ５９の発生を防止するた
めには、ガラス基板の温度分布が一定となり、全体的に
同じ速度で硬化するように、上型３３および下型３２の
外周部を中央部よりも高温に維持する、すなわち、中央
部から外周部へ向かって温度が高くなるような温度勾配
を設けることが必要と考えられる。
めには、ガラス基板の温度分布が一定となり、全体的に
同じ速度で硬化するように、上型３３および下型３２の
外周部を中央部よりも高温に維持する、すなわち、中央
部から外周部へ向かって温度が高くなるような温度勾配
を設けることが必要と考えられる。
【００２６】 ここで上型３３および下型３２におい
て、その外周部を中央部よりも高温に維持する方法とし
ては、ゴブ３４が形成された中央部が高温となることは
共通であるので、この中央部を冷却する方法、あるい
は、外周部を加熱する方法のいずれかを用いることがで
きるが、これらを併用することで温度調節の効果を上げ
ることができる。
て、その外周部を中央部よりも高温に維持する方法とし
ては、ゴブ３４が形成された中央部が高温となることは
共通であるので、この中央部を冷却する方法、あるい
は、外周部を加熱する方法のいずれかを用いることがで
きるが、これらを併用することで温度調節の効果を上げ
ることができる。
【００２７】 ところで、上述した上型３３および下型
３２の温度分布の発生要因を考慮すると、上型３３は、
ガラス基板３５を数多く成形するにしたがって温度が上
昇することから、冷却により温度調節を行うことが好ま
しく、一方、下型３２は、プレス成形後から次工程への
移行までの冷却時間が長いことから、加熱により温度調
節を行うことが好ましいと考えられる。
３２の温度分布の発生要因を考慮すると、上型３３は、
ガラス基板３５を数多く成形するにしたがって温度が上
昇することから、冷却により温度調節を行うことが好ま
しく、一方、下型３２は、プレス成形後から次工程への
移行までの冷却時間が長いことから、加熱により温度調
節を行うことが好ましいと考えられる。
【００２８】 そこで、本発明においては、上型３３に
ついては、その中央部に、冷却水を循環させるための冷
却水溝を設け、この冷却水溝に冷却水を循環させること
で、上型３３の中央部を冷却する手段が好適に採用さ
れ、一方、下型については、その外周部に、電気ヒータ
を配設して加熱する手段が好適に採用される。
ついては、その中央部に、冷却水を循環させるための冷
却水溝を設け、この冷却水溝に冷却水を循環させること
で、上型３３の中央部を冷却する手段が好適に採用さ
れ、一方、下型については、その外周部に、電気ヒータ
を配設して加熱する手段が好適に採用される。
【００２９】 図２は、このような温度調整手段を備
え、円板形状のガラス基板の作製に好適に用いられる一
対の上型３３および下型３２の一実施形態を示す断面図
である。上型３３においては、プレス面を有する超硬合
金の直上に冷却水溝３６が設けられている。この冷却水
溝３６はスパイラル状に形成されていることが好まし
く、冷却水は、上型３３の内部を効率的に冷却するため
に、冷却水溝３６の中央からスパイラルを描きながら、
徐々に外周部へ向かって流れるようにすることが好まし
い。なお、図２の上型３３には、プレス軸３７にも冷却
水溝３８が設けられており、上型３３の中心部の冷却を
さらに効果的に行うことができるようになっている。
え、円板形状のガラス基板の作製に好適に用いられる一
対の上型３３および下型３２の一実施形態を示す断面図
である。上型３３においては、プレス面を有する超硬合
金の直上に冷却水溝３６が設けられている。この冷却水
溝３６はスパイラル状に形成されていることが好まし
く、冷却水は、上型３３の内部を効率的に冷却するため
に、冷却水溝３６の中央からスパイラルを描きながら、
徐々に外周部へ向かって流れるようにすることが好まし
い。なお、図２の上型３３には、プレス軸３７にも冷却
水溝３８が設けられており、上型３３の中心部の冷却を
さらに効果的に行うことができるようになっている。
【００３０】 これに対し、下型３２には、主に下型３
２全体の温度の保持と予熱に用いられる下面ヒータ３９
と、外周部をより高温に保持するための側面ヒータ４０
とを有する。
２全体の温度の保持と予熱に用いられる下面ヒータ３９
と、外周部をより高温に保持するための側面ヒータ４０
とを有する。
【００３１】 このような温度調節が可能な上型３３お
よび下型３２により、ゴブ３４がプレス成形されたと
き、上型３３および下型３２においては、その外周部を
中央部よりも１０〜３００℃の範囲で高い温度とするこ
とが好ましく、より望ましくは、５０℃〜１５０℃の範
囲とすることが好ましい。こうして成形されたガラス基
板３５は、中央部と外周部における硬化速度の差が小さ
くなり、ヒケの発生が抑制され、平面度の良好なガラス
基板３５を得ることができるようになる。
よび下型３２により、ゴブ３４がプレス成形されたと
き、上型３３および下型３２においては、その外周部を
中央部よりも１０〜３００℃の範囲で高い温度とするこ
とが好ましく、より望ましくは、５０℃〜１５０℃の範
囲とすることが好ましい。こうして成形されたガラス基
板３５は、中央部と外周部における硬化速度の差が小さ
くなり、ヒケの発生が抑制され、平面度の良好なガラス
基板３５を得ることができるようになる。
【００３２】 さて、図２に示した上型３３および下型
３２のプレス面の形状の設計に関して、上型３３および
下型３２は、ゴブ３４あるいはガラス基板３５を介せ
ず、直接に合わせられる接触部４１を有することが好ま
しい。このような接触部４１を設けることにより、常に
上型３３と下型３２とのプレス面の間隔が一定し、一定
厚みのガラス基板３５を作製することができる利点があ
る。
３２のプレス面の形状の設計に関して、上型３３および
下型３２は、ゴブ３４あるいはガラス基板３５を介せ
ず、直接に合わせられる接触部４１を有することが好ま
しい。このような接触部４１を設けることにより、常に
上型３３と下型３２とのプレス面の間隔が一定し、一定
厚みのガラス基板３５を作製することができる利点があ
る。
【００３３】 また、上型３３および下型３２は、ゴブ
３４の余剰体積部、すなわち、製品としてのガラス基板
３５に必要な体積を越えて余剰に供給されたガラスを、
ゴブ３４の外周部に押し出すための空間部４２を有する
ことが好ましい。すなわち、図２の上型３３および下型
３２のプレス面に設けられたＶ字凸部４３は、成形され
るべきガラス基板３５の外周部を形成し、余剰体積部が
Ｖ字凸部４３の間を空間部４２へ向けて流れ出すこと
で、ガラス基板３５の本体が一定厚みに成形されること
となる。なお、この空間部４２は、ゴブ３４の余剰体積
部により充満され、接触部４１へと浸入することがない
程度の大きさに形成することが好ましい。
３４の余剰体積部、すなわち、製品としてのガラス基板
３５に必要な体積を越えて余剰に供給されたガラスを、
ゴブ３４の外周部に押し出すための空間部４２を有する
ことが好ましい。すなわち、図２の上型３３および下型
３２のプレス面に設けられたＶ字凸部４３は、成形され
るべきガラス基板３５の外周部を形成し、余剰体積部が
Ｖ字凸部４３の間を空間部４２へ向けて流れ出すこと
で、ガラス基板３５の本体が一定厚みに成形されること
となる。なお、この空間部４２は、ゴブ３４の余剰体積
部により充満され、接触部４１へと浸入することがない
程度の大きさに形成することが好ましい。
【００３４】 上述した本発明のガラス基板の成形装置
は、生産性を考慮して、下型３２の数と上型３３の数を
異ならしめた場合に、各型の温度変化に差が生じ、これ
に起因するヒケのガラス基板３５における発生を抑制す
るものである。したがって、上記の成形装置３０におい
ては、下型３２の数を上型３３の数よりも多く設定して
いるが、その逆、すなわち、上型３３の数を下型３２の
数以上に設定することも可能である。
は、生産性を考慮して、下型３２の数と上型３３の数を
異ならしめた場合に、各型の温度変化に差が生じ、これ
に起因するヒケのガラス基板３５における発生を抑制す
るものである。したがって、上記の成形装置３０におい
ては、下型３２の数を上型３３の数よりも多く設定して
いるが、その逆、すなわち、上型３３の数を下型３２の
数以上に設定することも可能である。
【００３５】 この場合、ゴブに接触する回数は、上型
３３と下型３２で同数または下型３２で多くなるため、
下型３２の方が上型３３よりも高温となりやすい。した
がって、温度の上昇しやすい下型３２については中央部
の冷却を行い、自然冷却の速い上型３３については外周
部の加熱を行うようにすると、上述した成形装置３０を
用いた場合と同等の形状品質を有するガラス基板３５を
得ることができるようになる。
３３と下型３２で同数または下型３２で多くなるため、
下型３２の方が上型３３よりも高温となりやすい。した
がって、温度の上昇しやすい下型３２については中央部
の冷却を行い、自然冷却の速い上型３３については外周
部の加熱を行うようにすると、上述した成形装置３０を
用いた場合と同等の形状品質を有するガラス基板３５を
得ることができるようになる。
【００３６】 なお、上型３３の数を下型３２の数以上
に設定した場合のガラス基板の成形装置としては、たと
えば、上型３３を配設したターンテーブルと下型３２を
配設したターンテーブルを対向させて、一部の上型３３
と一部の下型３２とがプレスを行うことができる位置で
停止できるように、各ターンテーブルを回転させ、プレ
スを行う構造を有するものが挙げられる。また、必要に
応じて、溶融ガラスを押し出すノズルおよび成形された
ガラス基板を他の型等へ移動させる手段を、別途、設け
てもよい。以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
に設定した場合のガラス基板の成形装置としては、たと
えば、上型３３を配設したターンテーブルと下型３２を
配設したターンテーブルを対向させて、一部の上型３３
と一部の下型３２とがプレスを行うことができる位置で
停止できるように、各ターンテーブルを回転させ、プレ
スを行う構造を有するものが挙げられる。また、必要に
応じて、溶融ガラスを押し出すノズルおよび成形された
ガラス基板を他の型等へ移動させる手段を、別途、設け
てもよい。以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３７】
【実施例】 ガラス基板の作製にあたって、本実施例に
おいては、図１に示した１個の上型３３に対し、８個の
下型３２を有する成形装置３０を用い、また、上型３３
および下型３２として、図２に示したものを用いた。ま
ず、溶融ガラスとして、ＳｉＯ2が７７ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ
3が５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏが５ｗｔ％で、残部が微量成分か
らなるＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｌｉ2Ｏ系ガラスを用いた。
このガラスをガラス溶融炉にて１４００℃にて溶融し、
１３００℃に保持されたノズルより、図３（ａ）に示さ
れるように、外周部が約６５０℃、中央部が約５８０℃
となる温度分布を有するように予熱された下型３２に滴
下した。このとき、下型３２に供給される溶融ガラスの
重量が約１５ｇとなるように、ノズル端部近くに配設さ
れたシャーにより押し出された溶融ガラスを切断し、ゴ
ブとした。
おいては、図１に示した１個の上型３３に対し、８個の
下型３２を有する成形装置３０を用い、また、上型３３
および下型３２として、図２に示したものを用いた。ま
ず、溶融ガラスとして、ＳｉＯ2が７７ｗｔ％、Ａｌ2Ｏ
3が５ｗｔ％、Ｌｉ2Ｏが５ｗｔ％で、残部が微量成分か
らなるＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｌｉ2Ｏ系ガラスを用いた。
このガラスをガラス溶融炉にて１４００℃にて溶融し、
１３００℃に保持されたノズルより、図３（ａ）に示さ
れるように、外周部が約６５０℃、中央部が約５８０℃
となる温度分布を有するように予熱された下型３２に滴
下した。このとき、下型３２に供給される溶融ガラスの
重量が約１５ｇとなるように、ノズル端部近くに配設さ
れたシャーにより押し出された溶融ガラスを切断し、ゴ
ブとした。
【００３８】 次いで、下型３２と同様の温度分布を有
するように予熱された上型３３により、ゴブを１２０ｋ
ｇ／ｃｍ2で１秒間ほど加圧し、プレス成形を行い、そ
の後に徐冷した。このような方法により、上型３３およ
び下型３２の温度分布が、図３（ａ）に示したように、
外周部の温度が中心部の温度より６０℃高くなるよう
に、温度調節を行いながら、連続して５００枚のガラス
基板３５を作製した。
するように予熱された上型３３により、ゴブを１２０ｋ
ｇ／ｃｍ2で１秒間ほど加圧し、プレス成形を行い、そ
の後に徐冷した。このような方法により、上型３３およ
び下型３２の温度分布が、図３（ａ）に示したように、
外周部の温度が中心部の温度より６０℃高くなるよう
に、温度調節を行いながら、連続して５００枚のガラス
基板３５を作製した。
【００３９】 得られたガラス基板３５については、図
５に示すように、径方向の一軸上を等間隔に分割した複
数の測定点４４において厚みを測定した。測定結果の平
均値は図３（ｂ）に示されるように、厚みの平均値が
０．９ｍｍで、平行度が０．０２ｍｍ以下であった。な
お、作製したガラス基板中、１枚の厚みの平均値で、最
も薄かったものは０．８９５ｍｍ、最も厚かったものは
０．９０５ｍｍであったが、それぞれのガラス基板にお
いて、平行度のばらつきが０．０２ｍｍを越えるものは
なかった。
５に示すように、径方向の一軸上を等間隔に分割した複
数の測定点４４において厚みを測定した。測定結果の平
均値は図３（ｂ）に示されるように、厚みの平均値が
０．９ｍｍで、平行度が０．０２ｍｍ以下であった。な
お、作製したガラス基板中、１枚の厚みの平均値で、最
も薄かったものは０．８９５ｍｍ、最も厚かったものは
０．９０５ｍｍであったが、それぞれのガラス基板にお
いて、平行度のばらつきが０．０２ｍｍを越えるものは
なかった。
【００４０】 上記実施例に対し、比較例として、図２
に示した上型３３から冷却水溝を取り除いた冷却機構を
有しない上型と、下型３２から側面ヒータ４０を取り除
いた外周部加熱を行うことのできない下型とを用い、こ
れら上型と下型の温度設定外は上記実施例と同じ条件に
より、ガラス基板の作製を行った。
に示した上型３３から冷却水溝を取り除いた冷却機構を
有しない上型と、下型３２から側面ヒータ４０を取り除
いた外周部加熱を行うことのできない下型とを用い、こ
れら上型と下型の温度設定外は上記実施例と同じ条件に
より、ガラス基板の作製を行った。
【００４１】 ここで、上型には冷却機構がなく、ま
た、下型には側面ヒータが設けられていないために、上
型および下型の温度分布は、ガラス基板の作製中、図４
（ａ）に示されるように、外周部が、中央部より１６０
℃温度の高い状態に維持された。
た、下型には側面ヒータが設けられていないために、上
型および下型の温度分布は、ガラス基板の作製中、図４
（ａ）に示されるように、外周部が、中央部より１６０
℃温度の高い状態に維持された。
【００４２】 得られたガラス基板の厚みの平均値は図
４（ｂ）に示されるように、厚みの平均値は約１ｍｍ程
度であるが、平行度が０．３ｍｍ以上と大きく、しかも
ガラス基板の中央部で厚みが薄くなっていることから、
ヒケが発生していることを確認した。
４（ｂ）に示されるように、厚みの平均値は約１ｍｍ程
度であるが、平行度が０．３ｍｍ以上と大きく、しかも
ガラス基板の中央部で厚みが薄くなっていることから、
ヒケが発生していることを確認した。
【００４３】
【発明の効果】 上述の通り、本発明のガラス基板の成
形方法および成形装置によれば、成形されたガラス基板
の硬化が全体的に均一に起こるために、ヒケの発生が抑
制され、平行度の良好なガラス基板を、連続して作製す
ることができる。したがって、生産効率の向上が図られ
る。また、平行度が良好であるために、ラッピング等の
厚み研磨にかかる加工負荷が軽減される。これにより、
加工コストの低減が図られ、全体として、ガラス基板を
安価に量産できる優れた効果を奏する。
形方法および成形装置によれば、成形されたガラス基板
の硬化が全体的に均一に起こるために、ヒケの発生が抑
制され、平行度の良好なガラス基板を、連続して作製す
ることができる。したがって、生産効率の向上が図られ
る。また、平行度が良好であるために、ラッピング等の
厚み研磨にかかる加工負荷が軽減される。これにより、
加工コストの低減が図られ、全体として、ガラス基板を
安価に量産できる優れた効果を奏する。
【図１】 本発明のガラス基板の成形装置の一実施形態
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図２】 本発明のガラス基板の成形装置に用いられる
上型および下型の一実施形態を示す断面図である。
上型および下型の一実施形態を示す断面図である。
【図３】 本発明のガラス基板の成形方法における、
（ａ）は上型および下型の温度分布の一例を示し、
（ｂ）は作製されるガラス基板に厚み分布を示す。
（ａ）は上型および下型の温度分布の一例を示し、
（ｂ）は作製されるガラス基板に厚み分布を示す。
【図４】 従来のガラス基板の成形方法における、
（ａ）は上型および下型の温度分布の一例を示し、
（ｂ）は作製されるガラス基板に厚み分布を示す。
（ａ）は上型および下型の温度分布の一例を示し、
（ｂ）は作製されるガラス基板に厚み分布を示す。
【図５】 実施例および比較例におけるガラス基板の厚
み測定位置を示す平面図である。
み測定位置を示す平面図である。
【図６】 従来のガラス基板の成形方法を示す説明図で
ある。
ある。
【図７】 ガラス基板におけるヒケの発生を示す説明図
である。
である。
７Ａ〜７Ｈ…位置、３０…成形装置、３１…ターンテー
ブル、３２…下型、３３…上型、３４…ゴブ、３５…ガ
ラス基板、３６…冷却水溝、３７…プレス軸、３８…冷
却水溝、３９…下面ヒータ、４０…側面ヒータ、４１…
接触部、４２…空間部、４３…Ｖ字凸部、４４…測定
点、５１…ノズル、５２…溶融ガラス、５３…シャー、
５４…胴型、５５…下型、５６…上型、５７…ガラス基
板、５８…ゴブ、５９…ヒケ。
ブル、３２…下型、３３…上型、３４…ゴブ、３５…ガ
ラス基板、３６…冷却水溝、３７…プレス軸、３８…冷
却水溝、３９…下面ヒータ、４０…側面ヒータ、４１…
接触部、４２…空間部、４３…Ｖ字凸部、４４…測定
点、５１…ノズル、５２…溶融ガラス、５３…シャー、
５４…胴型、５５…下型、５６…上型、５７…ガラス基
板、５８…ゴブ、５９…ヒケ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５２１ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５２１ (72)発明者 後藤 利樹 愛知県名古屋市瑞穂区須田町２番56号 日 本碍子株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】 溶融ガラスから形成されたゴブをプレス
加工により所定形状に成形するガラス基板の成形方法で
あって、 プレス用の上型および下型として、少なくとも複数の下
型と、当該下型よりも少ない数の上型を用い、 当該上型は、その中央部を冷却することにより中央部よ
りも外周部を高温の状態とし、かつ、当該下型は、その
外周部を加熱することにより中央部よりも外周部を高温
の状態として、 当該下型上に形成されたゴブをプレス成形することを特
徴とするガラス基板の成形方法。 - 【請求項２】 当該上型および当該下型において、その
外周部を中央部よりも１０〜３００℃高い温度に設定す
ることを特徴とする請求項１記載のガラス基板の成形方
法。 - 【請求項３】 回転可能なターンテーブル上面の同一円
周上に、少なくとも複数のプレス成形用の下型が配設さ
れ、 当該下型よりも少ない数のプレス成形用の上型が、当該
下型と押し合わされる位置に配設されてなるガラス基板
の成形装置であって、 所定の位置において、少なくとも１つの当該下型に、溶
融ガラスを滴下してゴブを形成した後、当該ターンテー
ブルを所定角度回転させて、当該ゴブが載置された当該
下型を当該上型の配設位置へ移動させて、当該ゴブを所
定形状にプレス成形することを特徴とするガラス基板の
成形装置。 - 【請求項４】 当該上型の中央部に、冷却水を循環させ
るための冷却水溝を設けることを特徴とする請求項３記
載のガラス基板の成形装置。 - 【請求項５】 当該下型の外周部に、電気ヒータを配設
することを特徴とする請求項３または４記載のガラス基
板の成形装置。 - 【請求項６】 当該上型および当該下型が、互いに当該
ゴブを介せず、直接に合わせられる接触部を有すること
を特徴とする請求項３〜５のいずれか一項に記載のガラ
ス基板の成形装置。 - 【請求項７】 当該上型および当該下型が、当該ゴブの
余剰体積部を、当該ゴブの外周部に押し出すための空間
部を有することを特徴とする請求項３〜６のいずれか一
項に記載のガラス基板の成形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2954898A JPH11228152A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | ガラス基板の成形方法および成形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2954898A JPH11228152A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | ガラス基板の成形方法および成形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11228152A true JPH11228152A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=12279199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2954898A Withdrawn JPH11228152A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | ガラス基板の成形方法および成形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11228152A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10022932A1 (de) * | 2000-05-11 | 2001-11-22 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung von Festplattenrohlingen |
| JP2010205354A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Hoya Corp | ガラスブランクの製造方法、プレス成型装置、情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法 |
| JP2010280514A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Hoya Corp | ガラスブランクの製造方法、ガラスプレス用の下型、プレス成型装置、情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法 |
| JP2011111368A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Hoya Corp | ガラスブランクの製造方法、ガラスプレス用上型、プレス成型装置、情報記録媒体用基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法 |
| US8087264B2 (en) | 2005-10-14 | 2012-01-03 | Ohara Inc. | Glass forming apparatus and method |
| CN109574470A (zh) * | 2018-12-11 | 2019-04-05 | 重庆兴宝兴玻璃制品有限公司 | 模具快速冷却干燥设备 |
-
1998
- 1998-02-12 JP JP2954898A patent/JPH11228152A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10022932A1 (de) * | 2000-05-11 | 2001-11-22 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung von Festplattenrohlingen |
| US8087264B2 (en) | 2005-10-14 | 2012-01-03 | Ohara Inc. | Glass forming apparatus and method |
| JP2010205354A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Hoya Corp | ガラスブランクの製造方法、プレス成型装置、情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法 |
| JP2010280514A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Hoya Corp | ガラスブランクの製造方法、ガラスプレス用の下型、プレス成型装置、情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法 |
| JP2011111368A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Hoya Corp | ガラスブランクの製造方法、ガラスプレス用上型、プレス成型装置、情報記録媒体用基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法 |
| CN109574470A (zh) * | 2018-12-11 | 2019-04-05 | 重庆兴宝兴玻璃制品有限公司 | 模具快速冷却干燥设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6539750B1 (en) | Glass substrate forming mold and production method for glass substrate | |
| US6701750B2 (en) | Method and apparatus for molding a glass product | |
| US20140283555A1 (en) | Molding apparatus and molding method of glass casings | |
| JPH11228152A (ja) | ガラス基板の成形方法および成形装置 | |
| JP4127974B2 (ja) | 基板ブランク、基板および情報記録媒体それぞれの製造方法 | |
| JP3550461B2 (ja) | プラスチック成形方法並びに光ディスクの製造方法 | |
| JP2968156B2 (ja) | ディスク状ガラス製品のプレス成形方法 | |
| JPS62100429A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
| JPH11228150A (ja) | ガラス基板の作製方法 | |
| JP4482246B2 (ja) | ガラス成形体の製造方法、基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 | |
| WO2010122844A1 (ja) | ガラス成形体の製造装置 | |
| JP5085383B2 (ja) | 情報記録媒体用基板ガラスブランク、情報記録媒体用基板、情報記録媒体それぞれの製造方法 | |
| JP2000233934A (ja) | ガラス製品のプレス成形方法及び装置 | |
| JP2000247653A (ja) | 光学素子成形用金型及び光学素子 | |
| JPH10149587A (ja) | 光ディスク基板成形方法 | |
| JP3681103B2 (ja) | ガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置 | |
| JP4926898B2 (ja) | ディスク状ガラス、情報記録媒体用基板および情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH11189423A (ja) | ガラス基板の作製方法 | |
| JP4186443B2 (ja) | 中央孔を備えたハードディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JP2805715B2 (ja) | 光学素子成形方法およびその方法によって得られるガラスレンズ | |
| JP2501588B2 (ja) | 光学ガラス素子のプレス成形用型及びその成形方法 | |
| JPH11291292A (ja) | 成形金型 | |
| JP3187903B2 (ja) | ガラス光学素子の成形装置 | |
| JP2005272279A (ja) | 光学素子成形装置及び光学素子成形方法 | |
| JPH11268919A (ja) | ガラス基板の作製方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050510 |